WO2008040502A1 - Verfahren zur abscheidung einer oxidschicht auf absorbern von solarzellen, solarzelle und verwendung des verfahrens - Google Patents

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Florian Ruske
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Definitions

  • the invention relates to a method for depositing at least one stable, transparent and conductive layer system on chalcopyrite solar cell absorber by means of high-ionization PVD (Physical Vapor Deposition) technology by High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) or High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS).
  • high-ionization PVD Physical Vapor Deposition
  • HPPMS High Power Pulsed Magnetron Sputtering
  • HIPIMS High Power Impulse Magnetron Sputtering
  • Damp Heat stability can be measured by measurements of the sheet resistance of a front cone. Takt Mrs or the efficiency of the solar cell after storage of the cells or layers at elevated temperature and humidity are measured.
  • X as a transparent front contact
  • X stands for an element, such as Al, Ga, In for doping the oxide
  • These modules loading stand the test of accelerated aging at elevated temperature and humidity (damp heat test, 85% humidity, 85 0 C) and can be fied cer- 61646 in accordance with EN / IEC.
  • a significant degradation is observed [Klenk, TCO for thin-film solar cells and other applications I-II, Workshop, Freyburg / Unstrut (2005) p. 71 u. 79].
  • the increase in degradation can be attributed essentially to the increase in sheet resistance of the ZnO: X layer [Klaer, Proc. 19th Europe- Photovoltaic Solar Energy Conf. , Paris (2004) 1847].
  • CdS has a good band and lattice matching.
  • a disadvantage is the small band gap, which leads to a loss in the photocurrent.
  • the CdS layer is therefore deposited relatively thin ( ⁇ 40 nm) in combination with a thick ( ⁇ 800 nm) ZnO front contact layer [Potter, Proc. 18th IEEE Phyotovoltaic Specialists Conf., Las Vegas (1985), 1659]. This is done by means of chemical bath precipitation (CBD), which ensures optimum coverage even with very thin layers.
  • CBD chemical bath precipitation
  • an intrinsic ZnO layer (i-ZnO) is also applied between CdS and the doped ZnO: X layer. Apart from the improved steam-heat stability, the i-ZnO layer has no influence on the electrical solar cell parameters (Ruckh et al., 25 th IEEE Photovoltaic Specialists Conf. (1996) 825; Kessler et al., 16 th European Photovoltaic Solar Energy Conf. (2000) 775). The same efficiencies are obtained without i-ZnO (Ramanathan et al., 31 th IEEE Photovoltaic Specialists Conf. (2005)).
  • a method for depositing at least one transparent, conductive oxide layer on a solar cell which has at least one absorber layer for absorbing light, the deposition of the oxide layer taking place by means of a pulsed magnetron sputtering method.
  • the pulse frequency is in the range of at least 100 Hz, preferably in the range 1000 to 100 Hz, most preferably in the range 100 to 500 Hz.
  • the duty cycle is less than 5%.
  • the pulse lengths are less than 200 ⁇ s, particularly preferably 10 to 200 ⁇ s, very particularly preferably 30 to 150 ⁇ s.
  • the sputtering process is a High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) and / or High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS).
  • the power density of the particle beam is at least 0.5 kW / cm 2 , preferably at least 0.75 kW / cm 2 , very particularly preferably at least 1 kW / cm 2 .
  • An improved Damp Heat stability is a decisive advantage for the industrial production of solar modules, since the requirements for the encapsulation of the modules can be reduced, thus costs for the encapsulation can be saved.
  • this is advantageous in the production of solar modules on flexible substrates, such as polymer films and metal foils, since encapsulation with glass is not possible here, but in turn is based on foams. or a thin-layer encapsulation must be used in order to maintain flexibility.
  • the oxide layer is applied as the front contact layer of the solar cell, i. the layer forms the final upper layer of the solar cell.
  • the front contact layer can be applied in a thickness of 1 nm and 200 nm, preferably between 100 nm and 1.5 ⁇ m, preferably between 300 nm and 1000 nm, more preferably between 400 nm and 800 nm, depending on how long the Sputtering process is done.
  • the material from which the front contact layer is formed by the sputtering process preferably contains oxides which are formed from the group consisting of zinc oxide, indium oxide, tin oxide, zinc-tin mixtures (stannate), titanium oxide and / or mixtures thereof ,
  • the oxidic materials used are doped.
  • the doping is not limited to specific doping materials, but can be selected depending on the desired result from the materials known in the art, but preferably aluminum, gallium, indium, boron, fluorine, antimony, niobium and / or mixtures thereof are used.
  • the doping is carried out in a manner known to the person skilled in the art and is selected depending on the oxide matrix used.
  • a zinc oxide matrix preferably Al, Ga, In and / or B is used as a dopant.
  • ITO indium oxide matrix tin
  • IZO zinc
  • a tin oxide is again preferred.
  • zugt with the elements F and / or Sb is doped.
  • titanium oxide is usually provided with Nb as a dopant.
  • the doping level is between 0.2 and 5 atom%.
  • the oxide layer is formed as a buffer layer between the absorber and another, overlying layer.
  • this alternative embodiment is associated with the same advantages mentioned for the application of the layer as a front layer.
  • any thicknesses of the buffer layer can be adjusted with the method according to the invention, but advantageously the buffer layer is applied in a thickness between 1 nm and 200 nm, preferably between 10 and 100 nm, very particularly preferably between 10 and 50 nm.
  • the buffer layer contains materials selected from the group consisting of sulfides and / or selenides of the elements indium, tungsten, molybdenum, zinc, magnesium, indium oxide, zinc magnesium oxide and / or mixtures thereof. For example, a mixture of zinc-magnesium sulfide and / or -selenid understood.
  • the method according to the invention can be used particularly advantageously if the solar cell has an absorber of chalcopyrite.
  • the absorber according to the invention also comprises PV absorbers, in particular rough absorbers, here also thin-layer absorbers, such as CIGS, CdTe, amorphous Si, microcrystalline Si or of poly or monocrystalline silicon, are included.
  • a solar cell is likewise provided, which is characterized in that at least the front contact and / or the buffer layer is produced by a method as described above described.
  • An inventive use of the method relates to the production of solar cells.
  • Table 1 shows that the ZnO: Al layer produced under non-optimized conditions by means of HPPMS technology shows improved Damp Heat stability. The test is carried out in accordance with DIN EN 61646, in particular page 20.

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung mindestens eines stabilen, transparenten und leitfähigen Schichtsystems auf Chalkopyrit- Solarzellenabsorber mittels hochionisierender PVD (physical vapour deposition) -Technologie durch High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) oder High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS), eine Solarzelle sowie Verwendungszwecke des Verfahrens.

Description

Verfahren zur Abscheidung einer Oxidschicht auf Absorbern von Solarzellen, Solarzelle und Verwendung des Verfahrens
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung mindestens eines stabilen, transparenten und leitfähigen Schichtsystems auf Chalkopyrit-Solarzellenab- sorber mittels hochionisierender PVD (physical vapour deposition) -Technologie durch High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) oder High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) .
Gängige Verfahren zur Herstellung von Frontkontakt- und Pufferschichten auf Chalkopyrit-Solarabsorbern (kurz Absorber) leiden unter einer ungenügenden Stabilität des Frontschichtsystems, welches zur Degradation unter Feuchtigkeitseinwirkung, in der Entwicklung getestet durch Damp Heat Tests an unverkapselten Modulen, führt. Die Damp Heat-Stabilität kann anhand von Messungen des Schichtwiderstandes einer Frontkon- taktschicht bzw. des Wirkungsgrades der Solarzellen nach Lagerung der Zellen bzw. Schichten bei erhöhter Temperatur und Luftfeuchtigkeit gemessen werden.
Grund für die unzureichende Stabilität ist unter anderem die raue Absorberoberfläche. Darauf abgeschiedene Schichten bedecken die Oberfläche nicht vollständig was zu Instabilitäten führt.
Verkapselte Solarmodule auf Basis von Chalkopyrit-
Halbleitern mit ZnO: X als transparenter Frontkontakt (X steht für ein Element, wie z.B. Al, Ga, In zum Dotieren des Oxides) zeichnen sich durch hohen Wirkungsgrad und gute Stabilität aus. Diese Module be- stehen den Test der künstlichen Alterung bei erhöhter Temperatur und Luftfeuchtigkeit (Damp Heat Test, 85 % Feuchte, 85 0C) und können gemäß EN/IEC 61646 zerti- fiziert werden. Bei unverkapselten Modulen beobachtet man dagegen eine signifikante Degradation [Klenk, TCO für Dünnschichtsolarzellen und andere Anwendungen I- II, Workshop, Freyburg/Unstrut (2005) S. 71 u. 79] . Die Zunahme der Degradation lässt sich im Wesentlichen auf die Zunahme des Flächenwiderstandes der ZnO: X-Schicht zurückführen [Klaer, Proc . 19th Europe- an Photovoltaic Solar Energy Conf . , Paris (2004) 1847] .
Standardmäßig wird eine CdS-Schicht innerhalb der Chalkopyritsolarzelle zur Herstellung des Heterokon- taktes verwendet. CdS besitzt hierfür eine gute Band- und Gitteranpassung. Nachteilig ist die geringe Bandlücke, die zu einem Verlust im Photostrom führt. Die CdS-Schicht wird deshalb relativ dünn (~ 40 nm) in Kombination mit einer dicken (~ 800 nm) ZnO-Front- kontaktschicht aufgebracht [Potter, Proc. 18th IEEE Phjotovoltaic Specialists Conf., Las Vegas (1985), 1659] . Dies geschieht mittels der chemischen Badab- scheidung (CBD) , die eine optimale Bedeckung auch bei sehr dünnen Schichten gewährleistet.
Zur Verbesserung der Stabilität der Solarzelle wird außerdem eine intrinsische ZnO-Schicht (i-ZnO) zwischen CdS und der dotierten ZnO:X-Schicht aufgebracht. Abgesehen von der verbesserten Damp-Heat Stabilität hat die i-ZnO-Schicht keinen Einfluss auf die elektrischen Solarzellenparameter (Ruckh et al . 25th IEEE Photovoltaic Specialists Conf . (1996) 825; Kessler et al. 16th European Photovoltaic Solar Energy Conf. (2000) 775) . Man erhält ohne i-ZnO die gleichen Wirkungsgrade (Ramanathan et al . 31th IEEE Photovol- taic Specialists Conf. (2005)).
Lokalisierte Defekte, wie z.B. Pin-holes innerhalb des Absorbers, führen zu Kurzschlüssen, wenn sie in direkten Kontakt mit dem Fronkontakt geraten (Rau 01 et al. Thin Solid Films 387, (2001) 141).
Bisher zeigen unverkapselte Solarmodule nach dem Damp Heat Test eine deutliche Degradation, die hauptsächlich auf Makrokorngrenzen (Hohlräume) zurückzuführen ist, die bei der Abscheidung der TCO-Schichten auf dem rauen Absorber entstehen. So zeigen TCO-Schichten, die auf flachen Substraten, wie Glas oder SiIi- cium, abgeschieden werden, keinerlei Degradation, während Schichten auf texturierten Siliciumwafern bei gleichen Testbedingungen deutliche Degradation zeigen. Dies ist auf die gestörte Mikrostruktur (Hohlräume) des ZnO: X zurückzuführen, die durch die raue Absorberoberfäche verursacht wird (Klenk et al . und Menner et al . , TCO für Dünnschichtsolarzellen und an- dere Anwendungen III, Workshop Freyburg/Unstrut (2005) S. 79, und S. 71) . Von Kouznetsov et al . (Surface and Coating Technologies 122 (1999) 290) wurde gezeigt, dass Strukturen mit hohen Aspektverhältnissen durch hoch ionisieren- des Sputtern frei von Hohlräumen hergestellt werden können .
Ausgehend hiervon ist es Aufgabe vorliegender Erfindung, ein Verfahren bereitzustellen, das die Herstel- lung von Solarzellen, die Frontkontakt- oder Pufferschichten mit einer verbesserten Stabilität unter Einfluss von Feuchtigkeit und/oder Wärme (Damp Heat- Stabilität) aufweisen, ermöglicht.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Eine erfindungs- gemäß herstellbare Solarzelle wird in Patentanspruch 17 angegeben. Eine Verwendungsmöglichkeit des Verfahrens ist in Patentanspruch 18 beschrieben. Die abhän- gigen Ansprüche stellen vorteilhafte Weiterbildungen dar .
Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur Abscheidung von mindestens einer transparenten, leitfähigen Oxid- schicht auf einer Solarzelle, die mindestens eine Absorberschicht zur Absorption von Licht aufweist, bereitgestellt, wobei die Abscheidung der Oxidschicht mittels einem gepulsten Magnetron-Sputter-Verfahren erfolgt .
Die Pulsfrequenz liegt dabei im Bereich von mindestens 100 Hz, bevorzugt im Bereich 1000 bis 100 Hz, ganz besonders bevorzugt im Bereich 100 bis 500 Hz. Der Dutycycle is kleiner 5 %. Die Pulslängen sind kleiner als 200 μs , besonders bevorzugt 10 bis 200 μs, ganz besonders bevorzugt 30 bis 150 μs . Vorteilhafterweise ist das Sputter-Verfahren dabei ein High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) und/oder High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) .
Eine vorteilhafte Ausführungsform des Verfahrens sieht vor, dass die Leistungsdichte des Partikelstrahls dabei mindestens 0,5 kW/cm2, bevorzugt min- destens 0,75 kW/cm2, ganz besonders bevorzugt mindestens 1 kW/cm2 beträgt.
Durch Verwendung eines derartigen Vakuumdepositions- verfahrens wird ein hoher Ionisationsgrad und/oder eine erhöhte kinetische Energie der schichtbildenden Teilchen beim Auftreffen auf das zu beschichtende Substrat erreicht, wodurch eine erhöhte Beweglichkeit der adsorbierten Spezies auf der Oberfläche des Substrates gewährleistet wird.
Infolge dessen wird die Ausbildung von Defekten, insbesondere das Wachstum von Makrokorngrenzen an den Korngrenzen des zu beschichtenden Absorbers, unterdrückt. Dadurch wird eine erhöhte Stabilität der auf rauen Substraten deponierten TCO-Schicht im Damp Heat-Test erreicht.
Eine verbesserte Damp Heat-Stabilität ist für die industrielle Fertigung von Solarmodulen ein entschei- dender Vorteil, da die Anforderungen an die Verkapse- lung der Module reduziert werden können, also Kosten für die Verkapselung eingespart werden können. Insbesondere ist dies bei der Herstellung von Solarmodulen auf flexiblen Substraten, wie z.B. Polymerfolien und Metallfolien von Vorteil, da hier die Verkapselung mit Glas nicht möglich ist, sondern wiederum auf Fo- lien bzw. eine Dünnschichtverkapselung zurückgegriffen werden muss, um die Flexibilität zu wahren.
In einer bevorzugten Ausführungsform wird dabei die Oxidschicht als Frontkontaktschicht der Solarzelle aufgetragen, d.h. die Schicht bildet die abschließende obere Schicht der Solarzelle. Die Frontkontaktschicht kann dabei in einer Dicke 1 nm und 200 nra, bevorzugt zwischen 100 nm und 1,5 μm, bevorzugt zwi- sehen 300 nm und 1000 nm, besonders bevorzugt zwischen 400 nm und 800 nm aufgetragen werden, je nachdem, wie lange der Sputter-Prozess erfolgt.
Vorzugsweise enthält dabei das Material, aus dem die Frontkontaktschicht durch den Sputter-Prozess gebildet wird, Oxide, die aus der Gruppe bestehend aus Zinkoxid, Indiumoxid, Zinnoxid, Zink-Zinn-Mischungen (Stannat) , Titanoxid und/oder Mischungen hieraus, gebildet ist.
Zur Erhöhung der Leitfähigkeit und/oder zur Einstellung gezielter elektrischer Eigenschaften ist es dabei weiterhin günstig, wenn die verwendeten oxidischen Materialien dotiert sind. Erfindungsgemäß ist die Dotierung dabei nicht auf spezifische Dotierungsmaterialien beschränkt, sondern kann je nach gewünschtem Ergebnis aus den dem Fachmann bekannten Materialien ausgewählt werden, bevorzugt werden jedoch Aluminium, Gallium, Indium, Bor, Fluor, Antimon, Niob und/oder Mischungen hieraus verwendet. Die Dotierungen werden in dem Fachmann bekannter weise vorgenommen und je nach verwendeter Oxidmatrix ausgewählt. Beispielsweise wird eine Zinkoxidmatrix bevorzugt Al, Ga, In und/oder B als Dotant verwendet. Für eine In- diumoxid-Matrix kommen bevorzugt Zinn (ITO) oder Zink (IZO) in Frage, während eine Zinnoxid wiederum bevor- zugt mit den Elementen F und/oder Sb dotiert wird. Titanoxid schließlich wird meist mit Nb als Dotant versehen.
In einer vorteilhaften Weiterbildung beträgt dabei der Dotierungsgrad zwischen 0,2 und 5 Atom-%.
In einer alternativen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung wird die Oxidschicht als Pufferschicht zwischen dem Absorber und einer weiteren, darüber liegenden Schicht, ausgebildet. Erfindungsgemäß ist darunter zu verstehen, dass zunächst die Pufferschicht auf dem Absorber aufgebracht wird und im An- schluss daran mindestens eine weitere Schicht über der Pufferschicht abgeschieden wird, sodass die Pufferschicht zwischen dem Absorber und der weiteren Schicht eingeschlossen wird. Selbstverständlich ist diese alternative Ausführungsform mit den gleichen, für die Aufbringung der Schicht als Frontschicht ge- nannten Vorteilen verbunden.
Prinzipiell sind mit dem erfindungsgemäßen Verfahren beliebige Dicken der Pufferschicht einstellbar, vorteilhafterweise wird die Pufferschicht jedoch in einer Dicke zwischen 1 nm und 200 nm, bevorzugt zwischen 10 und 100 nm, ganz besonders bevorzugt zwischen 10 und 50 nm aufgebracht.
Durch die erhöhte Mobilität der adsorbierten Spezies wird eine vollständige Bedeckung der ausgeprägten dreidimensionalen Struktur des Absorbers auch bei dünnen Pufferschichten (d < 100 nm) , insbesondere Schichten mit einer Schichtdicke von weniger als 50 nm, erreicht. Hierdurch wird ein geeigneter Hete- roübergang hergestellt. Insbesondere werden vorteilhafte Ergebnisse dadurch erzielt, wenn die Pufferschicht Materialien, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Sulfiden und/oder Seleniden der Elemente Indium, Wolfram, Molybdän, Zink, Magnesium, Indiumoxid, Zink-Magnesium-Oxid und/oder Mischungen hieraus enthält. Beispielsweise wird unter einer Mischung Zink-Magnesium-Sulfid und/oder -Selenid verstanden.
Durch Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens hat sich in Versuchen als weiterer Vorteil herausgestellt, dass auf die Verwendung von Cadmium in der Pufferschicht verzichtet werden kann. Der Verzicht auf die durch chemische Badabscheidung hergestellte CdS-Schicht hat zum Einen den Vorteil, dass bei der Produktion von Solarmodulen eine wesentliche Vereinfachung erreicht wird, da zwischen Herstellung des Absorbers und der TCO-Deposition die Module nicht mehr an Atmosphärendruck gebracht werden müssen. Zum anderen kann durch die Verwendung anderer Materialien auf die Verwendung Cd-haltiger Schichten verzichtet werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist besonders vorteil- haft anwendbar, wenn die Solarzelle einen Absorber aus Chalkopyrit aufweist. Der Absorber nach der Erfindung umfasst auch PV-Absorber, insbesondere rauhe Absorber, wobei hier auch Dünnschichtabsorber, wie CIGS, CdTe, amorphes Si, mikrokristallines Si oder aus PoIy- oder einkristallinem Silizium, umfasst sind.
Erfindungsgemäß wird ebenso eine Solarzelle bereitgestellt, die dadurch gekennzeichnet ist, dass zumin- dest die Frontkontakt- und/oder die Pufferschicht nach einem Verfahren hergestellt ist, wie vorangehend beschrieben.
Ein erfindungsgemäßer Verwendungszweck des Verfahrens betrifft die Herstellung von Solarzellen.
Die vorliegende Erfindung wird anhand nachfolgenden Beispiels näher beschrieben, ohne die Erfindung auf die dort wiedergegebene spezielle Ausführungsform zu beschränken.
Beispiel
Zum Test des Verfahrens wurden auf gelieferte Minimodule im Format 10 x 10 cm2, mit dem Schicht-Aufbau Glas/Mo/Cu- In-Ga-S-Absorber/CdS/i-ZnO, ZnO:Al-Schichten mittels eines HPPMS-Generators aufgebracht. Die gleichen Absorber wurden gleichfalls vom testenden Institut mit einer optimierten Standard DC gesputterten ZnO -.Al- Schicht versehen. Beide Schichten hatten die gleiche ZnO-Al Schichtdicke. Anschließend wurden die hergestellten unverkapselten Minimodule einem Damp Heat-Test (85 % relative Feuchte bei 85 0C) unterzogen.
Die Ergebnisse der Änderung des Flächenwiderstandes bzw. des Wirkungsgrades sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
Tabelle 1
Figure imgf000010_0001
Tabelle 1 zeigt, dass die unter nicht optimierten Bedingungen mittels HPPMS-Technik hergestellte ZnO:AI- Schicht eine verbesserte Damp Heat-Stabilität aufzeigt. Die Prüfung erfolgt nach DIN EN 61646, insbesondere Seite 20.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Abscheidung mindestens einer transparenten, leitfähigen Oxidschicht auf einer Solarzelle, die mindestens eine Absorberschicht aufweist, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Abscheidung mittels einem gepulsten
Magnetronsputterverfahren mit einer Pulsfrequenz von mindestens 100 Hz erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Pulsfrequenz im Bereich von 1000 Hz bis 100 Hz, bevorzugt im Bereich von 500 Hz bis 100 Hz liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Pulslänge ≤ 200 μs, bevorzugt 10 bis 200 μs, besonders bevorzugt 30 bis 150 μs beträgt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Sputterverfahren „High Power Pulsed Magentron Sputtering" (HPPMS) und/oder „High Power Impulsed Magentron Sputte- ring" (HIPIMS) ist.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Leistungsdichte mindestens 0,5 kW/cm2, bevorzugt mindestens 0,75 kW/cm2, ganz besonders bevorzugt min- destens 1 kW/cm2 beträgt.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Oxid- schicht als Frontkontaktschicht der Solarzelle aufgetragen wird.
7. Verfahren nach vorhergehendem Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Frontkontaktschicht in einer Dicke zwischen 100 nm und 1,5 μm, bevorzugt zwischen 300 nm und 1000 nm, besonders bevorzugt zwischen 400 nm und 800 nm aufgebracht wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch ge- kennzeichnet, dass die Frontkontaktschicht Oxide, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Zinkoxid, Indiumoxid, Zinnoxid, Zink-Zinn- Mischungen (Stannat) , Titanoxid und/oder Mischungen hieraus, enthält.
9. Verfahren nach vorhergehendem Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Oxide dotiert sind.
10. Verfahren nach vorhergehendem Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Dotierungsmaterialien ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Aluminium, Gallium, Indium, Bor, Fluor, Antimon,
Niob und/oder Mischungen hieraus.
11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Dotierung zwischen 0,2 und 5 Atom-% beträgt.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Oxidschicht als Pufferschicht zwischen dem Absorber und einer weiteren, darüber liegenden Schicht aufgebracht wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Pufferschicht in einer Dicke zwi- sehen 1 nm und 200 nm, bevorzugt zwischen 10 und 100 nm, ganz besonders bevorzugt zwischen 10 und 50 nm aufgebracht wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Pufferschicht
Materialien, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Sulfiden und/oder Seleniden der Elemente Indium, Wolfram, Molybdän, Zink, Magnesium, Indiumoxid, Zink-Magnesium-Oxid und/oder Mischungen hieraus enthält.
15. Verfahren nach einem Ansprüche 12 bis 14 , dadurch gekennzeichnet, dass die Pufferschicht Cadmium frei ist.
16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü- che, dadurch gekennzeichnet, dass die Solarzelle einen Absorber, bevorzugt einen Dünnschichtabsorber, aus CIGS, cdTe, amorphem Si, mikrokristallinem Si oder aus PoIy- oder einkristallinem Silizium aufweist.
17. Solarzelle, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest Frontkontakt- und/oder Pufferschicht nach einem Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche hergestellt ist.
18. Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprü- che 1 bis 17 zur Herstellung von Solarzellen.
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