WO2008035482A1

WO2008035482A1 - Appareil d'affichage à cristaux liquides

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Publication number: WO2008035482A1
Application number: PCT/JP2007/058535
Authority: WO
Inventors: Takayuki Hayano; Dai Chiba
Original assignee: Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date: 2006-09-19
Filing date: 2007-04-19
Publication date: 2008-03-27
Also published as: CN101517472A; US7999888B2; CN101517472B; US20100208178A1

Description

明細書

液晶表示装置

技術分野

[0001] 本発明は、液晶表示装置に関する。より詳しくは、アクティブマトリクス基板にインクジエツト装置等の吐出装置によりカラーフィルタが形成された液晶表示装置に関するものである。

背景技術

[0002] 液晶表示装置は、低消費電力の表示装置であり、軽量化及び薄型化が可能なことから、テレビ、パーソナルコンピュータ用モニタ、携帯端末用モニタ等に広く利用されている。現在、一般的に用いられている液晶表示装置は、電極を有する 2枚のガラス基板の間に液晶を挟持し、両基板の周囲をシール剤で封止した構成を有する。この 2 枚の基板間の距離は、粒径の均一なプラスチックビーズ等をスぺーサとして基板間に散在させることで一定に保たれてレ、る。

[0003] また、カラー表示用の液晶表示装置 (カラー液晶表示装置）は、上述の 2枚のガラス基板のうちの一方に、 R (赤）、 G (緑)及び B (青）の着色部、 R、 G及び B各着色部間を区画する遮光層（BM；ブラックマトリクス）等からなるカラーフィルタ層が形成される。更に、アクティブマトリクス駆動方式のカラー液晶表示装置は、通常、アクティブマトリクス基板である TFTアレイ基板と、 TFTアレイ基板に対向設置された対向基板とを有する。 TFTアレイ基板には、通常、アモルファスシリコン（a_ Si)、ポリシリコン（p _ Si)等を半導体層とした薄膜トランジスタ (TFT)等のスイッチング素子と、それに接続された画素電極、ソースバスライン及びゲートバスラインとが形成される。一方、対向基板には、通常、対向電極及びカラーフィルタ層が形成される。そして、この表示装置の両主面上に偏光板を配置することによりカラー画像表示が可能となる。

[0004] 液晶表示装置の液晶モードとしては、例えば、 TN (Twisted Nematic)モード、 ST N (Super Twisted Nematic)モード、 GH (Guest Host)モード、 ECB (Electri cally Controlled Birefringence)モ¹ ~~ド、強誘電性 (FLC ; Ferroelectric Liq uid Crystal)モード等が挙げられる力いずれのモードにおいても、電極構成が比較的単純である対向基板側にカラーフィルタ層を設けることが製造上有利である。し力しながら、対向基板とアクティブマトリクス基板との貼り合わせ時の位置ズレを考慮すると、 BMの開口部は、アクティブマトリクス基板の開口部よりも小さくする必要があり、そのために開口率の低下を引き起こしていた。

[0005] 一方、液晶表示装置の高輝度化を実現するためには、画素の高開口率化が求められる。そして、画素の高開口率化を実現すベぐ製造設備における更なる高精度ァラィメント技術の開発が行われている。し力、しながら、工法上、ァライメント技術の向上によるこれまで以上の高開口率化は困難な状況になっている。

[0006] そこで、近年、アクティブマトリクス基板上にカラーフィルタ層が形成されるカラーフィルタオンアレイ（C〇A; Color— filter On Alley)構造の開発が行われている。これにより、カラーフィルタ層が形成されたアクティブマトリクス基板（C〇A基板）と全面に電極が形成された対向基板との貼り合わせ時のァライメントが不要となる。したがつて、貝占り合わせ工程における位置ズレ不良がなくなるとともに、ァライメント作業が不要のため製造工程を簡略化できる。また、両基板を貼り合わせる際の位置合わせ精度の問題が生じないため、位置合わせ誤差を見込まなくてもよいパターン設計ができ、 BMのパターン幅を更に狭くした究極の高開口率が実現できる。

[0007] このような COA構造におけるカラーフィルタの形成方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、フィルム転写法等の各種の工法が開発されている。し力しながら、従来の COA構造では、 R、 G及び B各着色部は、下層側に形成されるスイッチング素子と上層側に形成される画素電極との層間に形成されるため、各着色部にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールを介して画素電極とスイッチング素子とを導通させる必要があった。従って、カラーフィルタの製造方法をカラーフィルタオンアレイに展開する場合は、各着色部にいかにコンタクトホールを形成するかが重要となる。

[0008] また近年、インクジェット装置を利用したカラーフィルタ層の着色部の製造方法（以下、「インクジェット方式」ともいう。）が盛んに検討されている。この方式は、製造プロセスが簡略で、かつ低コストであるという利点がある。し力ながら、インクジェット方式で COA構造を形成する場合には、上述のコンタクトホールの形成が問題となる。すなわち、インクジェット方式ではフォトマスクが不要なため、通常、 R、 G及び Bの着色部材料は感光性がなぐそのため、カラーフィルタ層にコンタクトホールをフォトリソ工程で形成することができなかった。

[0009] それに対して、遮光層のスイッチング素子領域にスルーホールを形成する方法 (例えば、特許文献 1参照。）、隔壁 (BMとしても機能）の開口部に凸部を形成し、インクの表面張力を利用して凸部へのインクの侵入を阻止することによってこの凸部をコンタタトホールとする方法 (例えば、特許文献 2参照。）が提案されている。しかしながら、これらの方法によれば、開口部、コンタクトホール、開口部へ至る直線上に BMの残し部と抜き部とが介在することになる。その結果、 BMパターンにはある程度の幅が必要となり、 C〇A構造のメリットである高開口率を充分に実現することができなかった。また、インクの表面張力を利用する方法においては、インクの材質によってインクの侵入を充分に阻止できないことがあり、スイッチング素子と画素電極との間で接続不良が発生することがあった。したがって、これらの従来の技術においては、高開口率を実現するという点と、接続不良の発生を抑制するという点とで改善の余地があった特許文献 1 :特開 2000— 122072号公報

特許文献 2 :特開 2002— 131735号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0010] 本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、高開口率化や接続不良の低減が可能であるカラーフィルタオンアレイ構造を有する液晶表示装置を提供することを目的とするものである。

課題を解決するための手段

[0011] 本発明者らは、高開口率化や接続不良の低減が可能であるカラーフィルタオンァレィ（COA)構造を有する液晶表示装置にっレ、て種々検討したところ、着色部材料を含有するインクの表面張力を利用してインクの侵入を阻止し、そのインクの侵入が阻止された領域にコンタクトホールを形成する方法に着目した。そして、インクを堰き止め、各色着色部を区画する隔壁 (バンク）は、着色部が形成される複数の開口部と、この複数の開口部を直線的に連結する連結開口部とが形成されるように配置され、画素電極等の上層導電部は、連結開口部内に形成されたコンタクトホールを介してスイッチング素子等の下層導電部と接続されることにより、高開口率化が可能であることを見いだし、また、隔壁は、複数の開口部と、この開口部に接続された折れ曲がり開口部とが形成されるように配置され、上層導電部は、折れ曲がり開口部内に形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続されることにより、接続不良の低減が可能であることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

[0012] すなわち、本発明は、下層導電部、カラーフィルタ層及び上層導電部が絶縁基板上にこの順に積層された構造を有する第 1基板と、第 2基板と、上記基板間に狭持された液晶層とを備える液晶表示装置であって、上記カラーフィルタ層は、着色部と、上記着色部を区画する隔壁とを有し、上記隔壁は、着色部が配置される複数の開口部と、上記複数の開口部を直線的に連結する連結開口部とが形成される形状を有し、上記上層導電部は、連結開口部に重複する領域内に形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続される液晶表示装置 (以下、「本発明の第 1の液晶表示装置」ともいう。）である。これにより、コンタクトホールが形成される開口部（連結開口部）を形成するために配置される隔壁の幅を狭くすることができるので、 COA構造を有する液晶表示装置において、高開口率化が可能となる。

以下に本発明の第 1の液晶表示装置を詳述する。

[0013] 上記下層導電部は、上層導電部よりも絶縁基板側にある導電部である。下層導電部としては特に限定されず、スイッチング素子、配線、電極等が挙げられる力なかでも、スイッチング素子が好適である。なお、下層導電部をスイッチング素子とした場合におけるスイッチング素子の上層導電部との接続部分としては特に限定されないが、より具体的には、スイッチング素子を構成する電極、スイッチング素子を構成する電極が延伸された部分、スィッチング素子を構成する電極に接続された配線又は他の電極等が好適である。

[0014] 上記上層導電部は、下層導電部よりも上層側（絶縁基板から遠ざかる側）にある導電部である。上層導電部としては特に限定されず、画素電極、配線等が挙げられるが、なかでも、画素電極が好適である。また、上記上層導電部は、液晶表示装置を正面視したときに連結開口部に重なるように形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続されてもよい。

[0015] なお、上記下層導電部がスイッチング素子であり、上記上層導電部が画素電極である場合には、画素電極は、通常、上記コンタクトホールを介して、スイッチング素子のドレイン電極又はスイッチング素子のドレイン電極が延伸された部分（ドレイン配線）と接続される。

[0016] 上記第 1基板は、高精細な画像表示を可能にする観点からは、各画素がマトリクス状に配列された、いわゆるアクティブマトリクス基板であることが好ましい。また、上記第 1基板は、スイッチング素子、カラーフィルタ層及び画素電極が積層された構造を有する基板であることが好ましぐこの場合、 COA構造を有する液晶表示装置に好適である。一方、上記第 2基板は、通常、共通電極（対向電極）を備えるが、カラーフィルタ層は形成されない。

[0017] なお、本明細書において、平面視とは、基板主面を正面から見たときを意味し、平面形状とは、平面視したときの形状を意味する。

[0018] また、上記隔壁の平面形状としては特に限定されず、スイッチング素子、配線等のレィアウトを考慮して適宜設定すればよいが、上記隔壁は、通常、連結開口部によって連結された開口部同士がその連結開口部においてくびれた形状を有するように配置される。これにより、カラーフィルタ層形成工程において、着色部材料であるインクの表面張力を利用してインクが開口部から連結開口部内に侵入するのを効果的に抑制すること力 Sできる。更に、上記隔壁は、通常、感光性材料を用いてフォトリソ工程により形成されることから、平面視したときの角の形状が丸みを帯びていてもよい。

[0019] そして、連結開口部が複数の開口部を直線的に連結するとは、平面形状が厳密に直線状である連結開口部が複数の開口部を連結する必要はなぐ連結開口部が複数の開口部を隔壁材料の解像度を考慮しなくともよレ、程度に直線的に連結すればよぐ上記隔壁は、着色部が配置される複数の開口部と、上記複数の開口部を略直線的に連結する連結開口部とが形成される形状を有してもよい。

[0020] 本発明の第 1の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよぐ特に限定されるものではない。

本発明の第 1の液晶表示装置における好ましい形態について以下に詳しく説明する

[0021] 上記連結開口部は、平面視方形であることが好ましい。このように、連結開口部の平面形状を非常に単純な形状である方形状にすることによって、連結開口部を形成するために配置される隔壁の幅をより狭くすることができるので、更なる高開口率化が可能となる。なお、上記方形は、厳密な四角形である必要はなぐ隔壁材料の解像度を考慮しなくともよい程度に方形であればよぐ上記連結開口部は、平面視略方形であつてもよい。

[0022] 上記連結開口部の配置形態としては特に限定されないが、下記の形態が好ましい。

これにより、本発明の効果を奏しつつ、 COA構造を有する本発明の第 1の液晶表示装置を容易に実現することができる。すなわち、上記連結開口部は、隣接する画素の開口部を連結する形態 (以下、「第 1形態」ともいう。）が好ましい。また、上記隔壁は、 1画素内に複数の開口部が形成される形状を有し、上記連結開口部は、 1画素内の少なくとも 2つの開口部を連結する形態（以下、「第 2形態」ともいう。）が好ましい

[0023] なお、上記第 1形態において、隣接する画素としては、液晶表示装置の表示面を正面視したときに、通常、上下方向の画素と左右方向の画素とがあるが、蓄積容量を構成する容量配線が画素中央部を左右方向に貫通するように配置された形態、レ、わゆる Cs on Commonの形態においては、上記連結開口部は、左右方向の隣接する画素の開口部を連結することがより好ましレ、。これは、 Cs on Commonの形態では、通常、コンタクトホールが形成される連結開口部からの光漏れを防止し、かつスイツチング素子を遮光性の隔壁で遮光しつつ、上下方向の隣接画素の開口部を連結することが困難なためである。一方、蓄積容量を構成する配線としてゲート配線が用いられた形態、いわゆる Cs on Gateの形態では、上記連結開口部は、上下方向の隣接する画素の開口部を連結することがより好ましい。これは、 Cs on Gateの形態の場合は、通常、コンタクトホールがゲート配線上に配置されているためである。

[0024] また、上記第 2形態は、画素の周辺部ではなく画素の内部に容量配線が配置された第 1基板を備える液晶表示装置に好適である。すなわち、上記第 1基板は、画素の内部領域に形成された容量配線を有し、上記連結開口部は、容量配線と重複して配置されることがより好ましい。なお、上記第 1基板は、隣接する画素の内部領域を貫通するように形成された容量配線を有し、上記連結開口部は、液晶表示装置を正面視したときに容量配線と重なるように配置されてもよい。

[0025] 上記連結開口部は、開口部との境界における幅が 20 a m以下であることが好ましぐ 10 z m以下であることがより好ましい。これにより、連結開口部への着色部材料であるインクの侵入を効果的に阻止することができ、下層導電部と上層導電部との接続をより確実にすること力 Sできる。なお、上記隔壁は、通常、感光性材料を用いてフォトリソ工程により形成され、平面視したときの角の形状が丸みを帯びていることから、上記連結開口部は、開口部との境界における幅が厳密に 20 z m以下又は 10 z mである必要はなぐ開口部との境界における幅が略 20 a m以下又は略 10 μ m以下であつてもよい。

[0026] 上記連結開口部は、第 1基板に形成された遮光部材に重複して配置されることが好ましレ、。これにより、連結開口部が形成された領域で光漏れが発生するのを効果的に抑制することができる。遮光部材としては特に限定されないが、配線及び電極が好適である。上記連結開口部は、液晶表示装置を正面視したときに第 1基板に形成された遮光部材に重なるように配置されてもょレ、。

[0027] 上記着色部は、非感光性材料により形成されたものであることが好ましい。非感光性材料により着色部を形成する場合には、フォトリソ法により着色部内にコンタクトホールを形成することができないことから、着色部が形成される開口部以外に連結開口部が必要となる。したがって、非感光性材料により着色部を形成する場合に、本発明は特に好適に用いることができる。

[0028] また、上記着色部は、吐出装置を用いて形成されたものであることが好ましい。これにより、着色部の形成とコンタクトホールの形成とを同一工程にて行うことができるので、製造プロセスの簡略化が可能である。吐出装置としては、インクジェット装置、ノズルコーター、ディスペンサー等が挙げられる力 _s、なかでも、インクジェット装置が好適に用いられる。インクジェット装置によれば、インクを塗布すべき所定の微細なパターン形状に正確に吐出することができ、低コスト、かつ、簡便に着色部を形成することができる。

[0029] 本発明はまた、下層導電部、カラーフィルタ層及び上層導電部が絶縁基板上にこの順に積層された構造を有する第 1基板と、第 2基板と、上記基板間に狭持された液晶層とを備える液晶表示装置であって、上記カラーフィルタ層は、着色部と、上記着色部を区画する隔壁とを有し、上記隔壁は、着色部が形成される開口部と、上記開口部に接続された折れ曲がり開口部とが形成される形状を有し、上記上層導電部は、折れ曲がり開口部に重複する領域内に形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続される液晶表示装置 (以下、「本発明の第 2の液晶表示装置」ともいう。 ) でもある。このようにコンタクトホールが形成される開口部として平面形状が折れ曲がり形状である開口部（折れ曲がり開口部）を着色部が形成される開口部に付することによって、開口部に凸部が形成される従来の場合に比べて、カラーフィルタ層形成工程における着色部材料 (インク）の侵入をより効果的に阻止でき、また、コンタクトホールの面積をより大きくすることができる。したがって、 COA構造を有する液晶表示装置において、接続不良の低減が可能となる。

以下に本発明の第 2の液晶表示装置を詳述する。

[0030] 本発明の第 2の液晶表示装置は、下層導電部、カラーフィルタ層及び上層導電部がこの順に積層された構造を有する第 1基板と、第 2基板と、上記基板間に狭持された液晶層とを備える。このように、本発明の第 2の液晶表示装置は、本発明の第 1の液晶表示装置と同様の COA構造を有する。また、本発明の第 1の液晶表示装置と同様に、本発明の第 2の液晶表示装置において、上記下層導電部としては、スィッチング素子が好適であり、上層導電部としては、画素電極が好適であり、上記第 1基板は、スイッチング素子、カラーフィルタ層及び画素電極が積層された構造を有する基板であることが好ましぐまた、アクティブマトリクス基板であることが好ましい。上記下層導電部としては、スイッチング素子から延伸された電極であってもよレ、。このように、下層導電部をスイッチング素子とした場合におけるスイッチング素子の上層導電部との接続部分としては特に限定されないが、より具体的には、スイッチング素子を構成する電極、スィッチング素子を構成する電極が延伸された部分、スイッチング素子を構成する電極に接続された配線又は他の電極等が好適である。また、上記上層導電部は、液晶表示装置を正面視したときに折れ曲がり開口部に重なるように形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続されてもょレ、。

[0031] 上記隔壁の平面形状としては特に限定されないが、本発明の第 1の液晶表示装置における場合と同様の観点から、上記隔壁は、通常、折れ曲がり開口部が開口部から略枝状に延びた形状を有するように配置されるか、又は、折れ曲がり開口部によって連結された開口部同士がその折れ曲がり開口部においてくびれた形状を有するように配置される。これにより、カラーフィルタ層形成工程において、着色部材料であるィンクの表面張力を利用してインクが開口部から連結開口部内に侵入するのを効果的に抑制することができる。なお、上記隔壁は、通常、感光性材料を用いてフォトリソェ程により形成されることから、平面視したときの角の形状が丸みを帯びていてもよい。

[0032] 本発明の第 2の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよぐ特に限定されるものではない。

本発明の第 2の液晶表示装置における好ましい形態について以下に詳しく説明する

[0033] 上記折れ曲がり開口部の平面形状としては特に限定されず、略ジグザグに折れ曲がつた形状、曲線形状、枝分かれ形状等が挙げられるが、より具体的には、折れ曲がり開口部が 1つの開口部に接続される場合には、隔壁材料の解像度を考慮すると、 L 字状又は T字状であることが好ましい。すなわち、上記折れ曲がり開口部は、 1つの開口部に接続され、かつその平面形状が L字状又は T字状である形態が好ましい。なお、この形態においては、 1画素内に開口部が複数設けられていてもよい。すなわち、 1つの折れ曲がり開口部が 1つの開口部とのみ接続される形態であればよぐ 1画素内における開口部及び折れ曲がり開口部の数は特に限定されなレ、。また、上記し字状及び T字状はそれぞれ、厳密な L字及び T字である必要はなぐ隔壁材料の解像度に応じて形成し得る程度に L字状及び T字状であればよぐ上記折れ曲がり開口部は、 1つの開口部に接続され、かつその平面形状が略 L字状又は略 T字状であつてもよい。 [0034] 上記折れ曲がり開口部の配置形態としては特に限定されないが、下記の形態が好ましい。これにより、本発明の効果を奏しつつ、 COA構造を有する本発明の第 2の液晶表示装置を容易に実現することができる。すなわち、上記折れ曲がり開口部は、隣接する画素の開口部を連結する形態 (以下、「第 3形態」ともいう。）が好ましい。また、上記隔壁は、 1画素内に複数の開口部が形成される形状を有し、上記折れ曲がり開口部は、 1画素内の少なくとも 2つの開口部を連結する形態（以下、「第 4形態」ともいう。）が好ましい。

[0035] 上記第 3及び第 4形態において、上記折れ曲がり開口部は、隔壁材料の解像度を考慮すると、平面視階段状、平面視十字状、又は、平面視 T字状であることが好ましい

。なお、上記平面視階段状、平面視十字状及び平面視 τ字状はそれぞれ、厳密な平面視階段状、平面視十字状及び平面視 τ字状である必要はなぐ隔壁材料の解像度に応じて形成し得る程度に平面視階段状、平面視十字状及び平面視 τ字状であればよぐ上記折れ曲がり開口部は、平面視略階段状、平面視略十字状、又は、平面視略 T字状であってもよい。

[0036] また、本発明の第 2の液晶表示装置において、上記折れ曲がり開口部は、 1つの基板内に 2種以上の平面形状を有してもよい。

[0037] 本発明の第 1の液晶表示装置の場合と同様に、上記第 3形態において、上記折れ曲力 Sり開口部は、左右方向の隣接する画素の開口部を連結すること（Cs on Commo nの場合)又は上下方向の隣接する画素の開口部を連結すること（Cs on Gateの場合)がより好ましぐ上記第 4形態において、上記第 1基板は、画素の内部領域に形成された容量配線を有し、上記連結開口部は、容量配線と重複して配置されることがより好ましい。なお、上記第 4形態において、上記第 1基板は、隣接する画素の内部領域を貫通するように形成された容量配線を有し、上記連結開口部は、液晶表示装置を正面視したときに容量配線と重なるように配置されてもよい。

[0038] 本発明の第 1の液晶表示装置の場合と同様の観点から、上記折れ曲がり開口部は、開口部との境界における幅が 20 μ m以下であることが好ましぐ 10 μ m以下であることがより好ましぐ上記連結開口部は、第 1基板に形成された遮光部材に重複して配置されることが好ましぐ上記着色部は、非感光性材料により形成されたものであることが好ましい。なお、上記隔壁は、通常、感光性材料を用いてフォトリソ工程により形成され、平面視したときの角の形状が丸みを帯びていることから、上記折れ曲がり開口部は、開口部との境界における幅が厳密に 20 /i m (又は 10 /i m)以下である必要はなぐ開口部との境界における幅が略 20 a m (又は略 10 μ m)以下であってもよレヽ。また、上記連結開口部は、液晶表示装置を正面視したときに第 1基板に形成された遮光部材に重なるように配置されてもよい。

[0039] なお、その他、本発明の第 1の液晶表示装置において述べた形態についても、本発明の第 2の液晶表示装置に適宜適用することが可能である。

発明の効果

[0040] 本発明の液晶表示装置によれば、高開口率化や接続不良の低減が可能であるカラ一フィルタオンアレイ構造を実現することができる。

発明を実施するための最良の形態

[0041] 以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。

[0042] (実施形態 1)

図 1は、実施形態 1の液晶表示装置を示す模式図であり、（a)は、平面図であり、 (b) は、（a)中の XI— Y1線における断面図である。なお、本明細書の各図においては、図面を見やすくするために 1画素又は 2画素についてのみ図示している力画素は、通常、各図の縦横方向に複数配列されている。

[0043] 本実施形態の液晶表示装置 100は、 TNモードのアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置であり、第 1基板であるアクティブマトリクス基板 10と、第 2基板である対向基板 40とを有する。アクティブマトリクス基板（アレイ基板） 10は、絶縁基板 11上に、ソース電極 21が延在するソース配線 13と、ゲート電極 23が延在するゲート配線 12 と、容量配線 14と、下層導電部であるスイッチング素子 20と、上層導電部である画素電極 15と、カラーフィルタ層 30とがマトリクス状に配置された構造を有する。一方、対向基板 40は、絶縁基板 41上に、共通電極 42が形成されている。そして、アクティブマトリクス基板 10と対向基板 40とは、プラスチックビーズ等からなるスぺーサ（図示せず）によりセル厚が一定に保たれた状態で、液晶層 50を狭持している。なお、ァクテイブマトリクス基板 10及び対向基板 40の液晶層側の表面には、必要に応じて配向膜 (図示せず）が設けられてレ、る。

[0044] スイッチング素子 20は、薄膜トランジスタ (TFT)であり、ゲート電極 23、ゲート絶縁膜 24、半導体薄膜 25、ソース電極 21及びドレイン電極 22を含んで構成される。スイツチング素子 20は、ゲート電極 23がソース電極 21及びドレイン電極 22よりも絶縁基板 11側に設けられる逆スタガ型の TFTである。ドレイン電極 22は、容量配線 14上まで延伸され、蓄積容量 Csを構成する電極としても機能する。すなわち、液晶表示装置 1 00は、いわゆる Cs on Commonタイプの蓄積容量を有する。なお、ドレイン電極 2 2は、ドレイン配線と呼ばれてもよい。

[0045] カラーフィルタ層 30は、ソース配線 13、ゲート配線 12、容量配線 14及びスィッチング素子 20を覆うように格子状に形成された隔壁 31と、隔壁 31で囲まれた領域である開口部 33a、 33bに形成された着色部 32a、 32bとを有する。また、カラーフィルタ層 30は、ソース配線 13、ゲート配線 12、容量配線 14及びスイッチング素子 20を覆うように形成された絶縁膜 16上に設けられている。着色部 32a、 32bは、同一色の着色部であり、例えば、赤、緑又は青のいずれかの色の着色剤を含有する樹脂等からなる。このように、カラーフィルタ層 30は、各画素に対応して配置された着色部 32a、 32 bと、隣接する画素の着色部 32a、 32b間を区画するように配置された隔壁 31とを有する。また、本実施形態において、隔壁 31は、 1画素内に 2つの開口部 33a、 33bが酉己置されるように形成されてレ、る。

[0046] 隔壁 31は、カラーフィルタ層形成工程において、着色部材料であるインクを各画素の所望の領域内に配置するために設けられる突起物であり、バンクとも呼ばれる。また、隔壁 31は、遮光成分を含んで構成され、遮光層としても機能する。これにより、スイッチング素子 20の異常動作防止と、カラー表示特性の向上とが可能になる。なお、この場合、隔壁 31は、ブラックマトリクス（BM)とも呼ばれる。

[0047] 更に、隔壁 31は、開口部 33aと開口部 33bとを連結する平面視略直線状の開口部（連結開口部 34)が形成されるように配置される。すなわち、連結開口部 34は、着色部 32a、 32bが配置された 2つの開口部 33a、 33b間を直線的に連絡する開口部である。連結開口部 34にはコンタクトホール 17が形成されている。より詳細には、コンタタトホール 17は、絶縁層 16の連結開口部 34内に位置する部分に形成されている。そして、着色部 32a、 32b上に形成された画素電極 15がコンタクトホール 17を介してスイッチング素子 20のドレイン電極 22に接続されている。このように、連結開口部 34 を設けることによって、着色部材料であるインクの表面張力が働き、コンタクトホーノレ 1 7にまでインクが侵入するのを効果的に抑制することができる。

[0048] ここで、図 2を用いて、液晶表示装置 100の開口率について説明する。図 2は、実施形態 1の隔壁の配置形態を示す正面 (平面)模式図である。また、図 3は、比較形態の隔壁の配置形態を示す正面（平面)模式図であり、（a)は、比較形態 1の隔壁であり、（b)は、比較形態 2の隔壁である。

[0049] 本実施形態の隔壁 31のパターンにおいては、図 2に示すように、開口部 33aからコンタクトホール 17、開口部 33bへと至る直線上に隔壁 31の抜き部 31a、すなわち連結開口部 34しか存在しなレ、。したがって、隔壁材料の解像度を考慮する必要がなぐ隔壁 31の幅 W1を狭くすることができるので、高開口率化が可能となる。

[0050] 一方、図 3 (a)に示すように、隔壁 31内に直接穴を開け、その穴をコンタクトホール 1 7とする比較形態 1においては、開口部 33aからコンタクトホール 17、開口部 33bへと至る直線上に隔壁 31の残し部 31b、抜き部 31a及び残し部 31bが存在する。したがつて、隔壁材料の解像度を考慮すると、隔壁 31の幅 W2を太くする必要があり、本実施形態に比べて開口率が小さくなつてしまう。また、図 3 (b)に示すように、隔壁 31の開口部 33bに凸部 61を形成し、凸部 61をコンタクトホール 17とする比較形態 2においては、開口部 33aからコンタクトホール 17、開口部 33bへと至る直線上に隔壁 31 の抜き部 31a及び残し部 31bが存在する。したがって、比較形態 1に比べると開口率は多少改善するが、やはり隔壁材料の解像度を考慮すると、隔壁 31の幅 W3を狭くするまでには至らず、高開口率化には限界がある。

[0051] 以下に、図 4を用いて、液晶表示装置 10の製造方法について説明する。図 4 (a)〜（ c)は、製造工程中における実施形態 1の液晶表示装置を示す正面（平面)模式図である。

[0052] まず、図 4 (a)に示すように、一般的な方法、すなわち成膜及びエッチングを繰り返すフォトリソ法を用いて、ガラス、プラスチック等からなる絶縁基板 1 1上に、ゲート電極 2 3、ゲート絶縁膜 24、半導体薄膜 25、ソース電極 21及びドレイン電極 22を含んで構成される TFT20と、ソース配線 13と、ゲート配線 12と、容量配線 14とを形成する。このとき、ゲート電極 23及びゲート配線 12は、一体的に形成されるとともに、ゲート電極 23及びゲート配線 12と、容量配線 14とは、同一工程及び同一材料により形成される。また、ソース電極 21及びソース配線 13は、一体的に形成されるとともに、ソース電極 21及びソース配線 13と、ドレイン電極 22とは、同一工程及び同一材料により形成される。

[0053] 次に、 TFT20等が形成された絶縁基板 11の全面に絶縁膜 16を形成し、続いて、ドレイン電極 22の一部（容量配線 14と重なる部分）が露出されるようにフォトリソ法等により絶縁膜 16のパターユングを行レ、、コンタクトホール 17を形成する。絶縁膜 16としては、不動態膜 (Pas膜)、 Si〇、 SiNx、 SiNO等の無機酸化膜、透明の有機膜等が

2

挙げられ、これらの膜の積層体であってもよレ、。

[0054] 次に、図 4 (b)に示すように、黒色顔料を含有する感光性樹脂等からなる隔壁材料を塗布し、その後、これに対し露光及び現像を行うことで絶縁膜 16上に隔壁 31をパターン形成する。これにより、開口部 33a、 33bと連結開口部 34とが形成される。また、連結開口部 34は、コンタクトホール 17と重複する領域に設けられることから、ドレイン電極 22の一部は、露出されたままである。なお、隔壁材料としては特に限定されず、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。

[0055] 次に、フッ素原子を含有するガス雰囲気下でプラズマ照射を行レ、、隔壁 31を撥インク化処理する。

[0056] 次に、図 4 (c)に示すように、インクジェット装置を用いて、 R、 G又は Bの顔料が分散されたインクを開口部 33a、 33b内に吐出する。このとき、インクは、通常、表面張力を有するため、連結開口部 34内にはほとんど侵入できなレ、。続いて、加熱処理、光照射等を行い、開口部 33a、 33b内に留まっているインク中の溶剤を除去し、インクを硬化させることによって、着色部 32a、 32bを形成する。

[0057] なお、 R、 G及び Bのインクの組成としては特に限定されなレ、が、例えば、以下の組成を有するインクが挙げられる。

(Rインクの組成） '顔料 (C. I.ビグメントレッド 254) : 5重量部

'高分子分散剤 (AVECIA社製、ソルスパース 24000) : 2重量部

'バインダー（ベンジルメタクリレートーメタクリル酸共重合体）： 3重量部

.モノマー 1 (ジペンタエリスリトールペンタアタリレート）； 2重量部

'モノマー 2 (トリプロピレングリコールジアタリレート）： 5重量部

'開始剤（2—メチル _ 1 _〔4_ (メチルチオ）フエニル〕 _ 2_モンフォリノプロパン）一 1一オン）： 2重量部

'溶剤（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、 29. 9dyn/cm) : 81 重量部

(Gインクの組成）

C. I.ビグメントレッド 254の代わりに、 C. I.ピグメントグリーン 36を顔料として等量含むこと以外は、 Rインクと同一組成である。

(Bインクの組成）

C. I.ビグメントレッド 254の代わりに、 C. I.ビグメントブルー 15 : 6を顔料として等量含むこと以外は、 Rインクと同一組成である。

[0058] 次に、 ITO等の透明導電膜を用いて画素電極 15のパターン形成を行う。このとき、コンタクトホール 17に重複したドレイン電極 22の一部は、依然露出されたままであること力ら、画素電極 15は、コンタクトホール 17を介してドレイン電極 22と接続されることになる。その後、必要に応じてポリイミド等からなる配向膜（図示せず）の形成を行うことによってアクティブマトリクス基板 10を作製することができる。

[0059] 上記工程で得られたアクティブマトリクス基板 10と、ガラス、プラスチック等の絶縁基板 41上に IT〇等の透明導電膜からなる共通電極 42と、必要に応じてポリイミド等からなる配向膜（図示せず）とが形成された対向基板 40とを、図 1で示したように、スぺーサ（図示せず）を介して対向配置させ、両基板の周辺部をシール材（図示せず）で接着した後、その間隙に液晶材料を充填することによって液晶層 50を形成する。

[0060] 最後に、一般的な方法により、偏光板の貼り付け工程、モジュール組立工程等を行レ、、液晶表示装置 100を完成する。このように、本実施形態の製造方法によれば、製造工程を特に複雑化させることなぐ画素電極 15とスイッチング素子 20との接続を容易に行うことができる。

[0061] なお、本実施形態において、スイッチング素子 20としては TFTに特に限定されず、 MIM (Metal— Insulator— Metal)、バリスタ等を用いてもよレヽ。また、液晶モードとしても TNモードに特に限定されず、 STNモード、 GHモード、 ECBモード、強誘電性モード等であってもよレ、。また、着色部の色の組み合わせとしては R、 G及び Bに特に限定されず、シアン、イェロー及びマゼンタ等であってもよいし、 4色以上からなる組み合わせであってもよい。更に、着色部の各色の配列形態も特に限定されず、適宜設定することができる。

[0062] (インクの侵入試験）

ここで、インクの表面張力を利用した連結開口部内でのコンタクトホールの形成が可能であるかを調べるため、試験用 BMパターンを用いてインクの侵入試験を行った結果を示す。図 5は、インクの侵入試験に用いた試験用 BMパターンの正面（平面)模式図である。

[0063] 試験用 BMパターン 60は、図 5に示すように、着色部が配置される開口部 33と、コンタクトホールとなる凸部 61とが形成されるように隔壁（BM) 31が配置されてレ、る。また、開口咅 33の幅 Waは、略 45 μ ΐηとし、凸咅 61の幅 Wbは、略 ΙΟ μ ΐη又は略 20 μ ΐη とし、凸部 61の幅 Wbが略 10 μ ΐηであるのときの凸部 61の長さ Laは、 30 /i mとし、凸部 61の幅 Wbが略 20 μ mであるのときの凸部 61の長さ Laも、同様に 30 μ mとした

[0064] 試験用 BMパターン 60の形成方法としては、まず、ガラス基板に、隔壁材料として、紫外線硬化性及び熱硬化性の両特性を有する遮光性の樹脂フィルム（膜厚 1500η m程度）を 100°C前後に昇温しながらラミネートした。次に、樹脂フィルムにフォトマスクを介して 365nmの波長を含む紫外線を略 50mj/cm² (検出波長 365nm)程度照射し、現像を行うことによってパターユングした。次に、 220°Cで 1時間程度のベータを行い、試験用 BMパターン 60を形成した。なお、隔壁材料としては、上述のような感光性及び遮光性を有するフィルムタイプの樹脂材料の他、感光性及び遮光性を有する液状の樹脂材料を用いてもよい。その後、フッ素原子を含有するガス雰囲気下で真空圧ドライエッチング装置を使用してプラズマ照射を行レ、、隔壁パターンの撥ィンク化処理を行った。プラズマ照射条件は以下に示すとおりである。

•導入ガス： CF /He = 150〜300/0〜500sccm

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•ガス圧力： 50〜： 150mTorr

'使用電力： 200〜300W

•処理時間：10〜40sec

-処理温度： 40°C

なお、プラズマ照射条件は、この条件に特に限定されず、適宜設定することができる。また、本評価試験では、真空圧ドライエッチング装置を使用したが、これ以外に大気圧プラズマ装置等を用いてもょレ、。

また、インクの侵入試験は、以下のとおり行った。すなわち、インクジェット装置を用い、開口部 33内にインクを吐出し、溶剤の除去とインクの乾燥とを行った後、各パターンにおけるインク侵入長さ Lbを測定した。

[0065] 表 1に、インクの侵入試験の結果を示す。なお、インク侵入長さ Lbは、吐出条件（吐出量、着弾位置、着弾数等）によってバラツキを示したが、吐出条件を最適化することよってそのバラツキを小さくすることは可能であるので、表 1にはインク侵入長さの最小値を示す。また、インク侵入率は、 Lb/La X 100により算出した。

[0066] [表 1]

この結果、凸部 61の幅 Wbが略 20 /i mであったとしても、インク侵入の防止効果はあるが、インク侵入率は、凸部 61の幅 Wbが大きくなるにしたがい増加することが分かつた。一方、凸部 61を有するパターンにおいて、図 5に示す凸部 61の先端から隣接する画素までの距離 Lcは、隔壁材料の解像度を考慮すると、 10 μ ΐη程度は必要である。したがって、コンタクトホールの長さ Ldを例えば 5 x mと設定すると、凸部 61が形成される隔壁 31の幅 Wcは、凸部 61の幅 Wbが略 10 x mのときは Lb + Lc + Ld= 2 + 5 + 10より略 17 μ m必要となり、凸咅の幅 Wb力 S略 20 μ mのときは Lb + Lc + L d= 5 + 5 + 10より略 20 μ m必要となることが分かった。

[0068] それに対して、このインクの侵入試験の結果を、図 6に示すような連結開口部 34が形成された本発明の隔壁パターンに当てはめると、連結開口部 34が形成された隔壁 3 1の幅 Weは、以下のように算出することができる。すなわち、コンタクトホールの長さ L dを同様に 5 z mと設定すると、連結開口部 34が形成される隔壁 31の幅 Weは、連結開口部 34の幅 Wdが略 10 μ mのときは Lb 2 + 1^1= 2 2 + 5ょり略9 m必要となり、連結開口部 34の幅 Wdが略 20 μ mのときは Lb 2 + 1^1= 5 2 + 5ょり略15〃 m必要となる。したがって、凸部を有する隔壁パターンよりも連結開口部を有する隔壁パターンの方が隔壁の幅を狭くすることができ、高開口率化が可能であることが分力、つた。また、連結開口部の幅としては、略 20 x m以下であることが好ましぐ略 10 μ m以下であることがより好ましいことが分かった。

[0069] (実施形態 2)

実施形態 2の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態 1とで重複する内容については説明を省略するとともに、同様の機能を発揮する構成部材については同一の符号を付した。図 7は、実施形態 2の液晶表示装置を示す模式図であり、（a)は、正面（平面）図であり、（b)は、（a)中の X2— Y2線における断面図である。

[0070] 本実施形態の液晶表示装置 200は、図 7に示すように、スイッチング素子 20の近傍に連結開口部 34を有し、液晶表示装置 200を正面視したときに左右に隣接する画素間で開口部 33が連結された構造を有する。これにより、実施形態 1と同様に、インクの表面張力を利用したコンタクトホールの形成と、高開口率化とが可能である。また、ゲート配線 12は、凸部 12aを有し、凸部 12aは、ソース配線 13とドレイン電極 22との間の隔壁 31がない領域を覆うように配置されている。これにより、連結開口部 34内における光漏れの発生を抑制することができる。

[0071] (実施形態 3)

実施形態 3の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態 1とで重複する内容については説明を省略するとともに、同様の機能を発揮する構成部材については同一の符号を付した。図 8は、実施形態 3の液晶表示装置を示す模式図であり、（a)は、正面（平面）図であり、（b)は、（a)中の X3— Y3線における断面図であり、（c)は、（a)中の X4— Y4線における断面図である。

[0072] 本実施形態の液晶表示装置 300は、図 8に示すように、スイッチング素子 20の近傍に連結開口部 34を有し、液晶表示装置 300を正面視したときに上下に隣接する画素間で開口部 33が連結された構造を有する。これにより、実施形態 1と同様に、インクの表面張力を利用したコンタクトホールの形成と、高開口率化とが可能である。また、ゲート配線 12とドレイン電極 22との間の隔壁 31がない領域 (連結開口部 34内の領域）において光漏れが発生しないように、ドレイン電極 22は、連結開口部 34内の領域においてゲート配線 12と重複するように形成されている。なお、本実施形態は、ゲート配線 12上に、容量電極 18が形成されており、ゲート配線 12が蓄積容量 Csを構成する電極としても機能している。すなわち、液晶表示装置 300は、いわゆる Cs on Gateタイプの蓄積容量を有する。

[0073] (実施形態 4)

実施形態 4の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態 1とで重複する内容については説明を省略するとともに、同様の機能を発揮する構成部材については同一の符号を付した。図 9は、実施形態 4の液晶表示装置を示す正面（平面)模式図である。

[0074] 本実施形態の液晶表示装置 400は、図 9に示すように、開口部 33bに接続された平面視略 L字状の折れ曲がり開口部 35が配置されるように、隔壁 31が形成されている。これにより、着色部形成工程においてインクの侵入をより効果的に阻止することができるとともに、コンタクトホール 17の面積を大きくすることができる。したがって、画素電極 15とスイッチング素子 20との間において接続不良が発生するのを抑制することができる。

[0075] なお、折れ曲がり開口部 35の形状としては特に限定されないが、隔壁材料の解像度を考慮すると、平面視略 L字状と、図 10 (a)に示すような平面視略 T字状とが好適である。また、折れ曲がり開口部 35は、図 10 (b)及び（c)に示すように、開口部 33aに接続された形態であってもよい。

[0076] 更に、折れ曲がり開口部 35は、図 11 (a)示すように、平面視略階段状を有し、開口部 33aと開口部 33bを連結するように配置されてもょレ、。開口部 33a及び開口部 33b が折れ曲がり開口部 35により連結される形態における折れ曲がり開口部 35の形状としては特に限定されないが、隔壁材料の解像度を考慮すると、平面視略階段状と、図 11 (b)に示すような平面視略十字状と、図 11 (c)に示すような平面視略 T字状とが好適である。

[0077] (実施形態 5)

実施形態 5の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態 1及び 4とで重複する内容については説明を省略するとともに、同様の機能を発揮する構成部材については同一の符号を付した。図 12は、実施形態 5の液晶表示装置を示す正面（平面)模式図である。

[0078] 本実施形態の液晶表示装置 500は、図 12に示すように、開口部 33に接続された平面視略 L字状の折れ曲がり開口部 35がスイッチング素子 20の近傍に配置されるように、隔壁 31が形成されている。これにより、実施形態 4と同様に、画素電極 15とスイツチング素子 20との間において接続不良が発生するのを抑制することができる。

[0079] なお、折れ曲がり開口部 35の形状としては特に限定されなレ、が、隔壁材料の解像度を考慮すると、平面視略 L字状と、図 13 (a)及び (b)に示すような平面視略 T字状とが好適である。また、平面視略 L字状の折れ曲がり開口部 35は、図 13 (c)に示すように配置されてもよい。

[0080] (実施形態 6)

実施形態 6の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態 1及び 4とで重複する内容については説明を省略するとともに、同様の機能を発揮する構成部材については同一の符号を付した。図 14は、実施形態 6の液晶表示装置を示す正面（平面)模式図である。

[0081] 本実施形態の液晶表示装置 600は、図 14に示すように、スイッチング素子 20の近傍に平面視略階段状の折れ曲がり開口部 35を有し、液晶表示装置 600を正面視したときに上下に隣接する画素間で開口部 33が連結された構造を有する。これにより、実施形態 4と同様に、画素電極 15とスイッチング素子 20との間において接続不良が発生するのを抑制することができる。 [0082] なお、折れ曲がり開口部 35の形状としては特に限定されなレ、が、隔壁材料の解像度を考慮すると、平面視略階段状と、図 15 (a)に示すような平面視略十字状と、（b)に示すような平面視略 T字状とが好適である。

[0083] また、液晶表示装置 600は、図 16 (a)及び (b)に示すように、液晶表示装置 600を正面視したときに左右に隣接する画素の開口部 33の間が折れ曲がり開口部 35で連結された構造を有してもよい。

[0084] 本願は、 2006年 9月 19日に出願された日本国特許出願 2006— 253534号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。

[0085] また、本願明細書における「以上」及び「以下」は、当該数値 (境界値）を含むものである。

図面の簡単な説明

[0086] [図 1]実施形態 1の液晶表示装置を示す模式図であり、（a)は、平面図であり、（b)は、（a)中の XI— Y1線における断面図である。

[図 2]実施形態 1の隔壁の配置形態を示す正面（平面)模式図である。

[図 3]比較形態の隔壁の配置形態を示す正面（平面)模式図であり、（a)は、比較形態 1の隔壁であり、（b)は、比較形態 2の隔壁である。

[図 4] (a)〜（c)は、製造工程中における実施形態 1の液晶表示装置を示す正面（平面)模式図である。

[図 5]インクの侵入試験に用いた試験用 BMパターンの正面（平面)模式図である。

[図 6]連結開口部が形成された本発明の隔壁パターンを示す正面 (平面)模式図である。

[図 7]実施形態 2の液晶表示装置を示す模式図であり、（a)は、正面（平面）図であり、（b)は、（a)中の X2— Y2線における断面図である。

[図 8]実施形態 3の液晶表示装置を示す模式図であり、（a)は、正面（平面）図であり、（b)は、（a)中の X3— Y3線における断面図であり、 (c)は、 (a)中の X4—Y4線における断面図である。

[図 9]実施形態 4の液晶表示装置を示す正面（平面)模式図である。 [図 10] (a)〜（c)は、それぞれ実施形態 4の液晶表示装置の変形形態を示す正面（平面)模式図である。

[図 11] (a)〜（c)は、それぞれ実施形態 4の液晶表示装置の変形形態を示す正面（平面)模式図である。

[図 12]実施形態 5の液晶表示装置を示す正面 (平面)模式図である。

[図 13] (a)〜（c)は、それぞれ実施形態 5の液晶表示装置の変形形態を示す正面（平面)模式図である。

[図 14]実施形態 6の液晶表示装置を示す正面 (平面)模式図である。

[図 15] (a)及び (b)は、それぞれ実施形態 5の液晶表示装置の変形形態を示す正面

(平面)模式図である。

[図 16] (a)及び (b)は、それぞれ実施形態 6の液晶表示装置の変形形態を示す正面 (平面)模式図である。符号の説明

10:アクティブマトリクス基板（第 1基板）

11、 41:絶縁基板

12:ゲート配線

12a:凸部

13:ソース配線

14:容量配線

15:画素電極

16:絶縁膜

17:コンタクトホール

18:容量電極

20：スイッチング素子 (TFT)

21:ソース電極

22:ドレイン電極

23:ゲート電極

24:ゲート絶縁膜 25:半導体薄膜

30:カラーフィルタ層

31：隔壁（図中、右斜め斜線で塗られた領域）

31a:隔壁の抜き部

31b:隔壁の残し部

32、 32a、 32b:着色部（図中、左斜め斜線で塗られた領域)

33、 33a, 33b:開口部

34:連結開口部

35:折れ曲がり開口部

40:対向基板 (第 2基板）

42:共通電極

50:液晶層

60:試験用 BMパターン

61:凸部

100、 200、 300、 400、 500、 600:液晶表示装置

Wl、 W2、 W3:隔壁の幅

Wa:開口部の幅

Wb:凸部の幅

Wc：凸部が形成される隔壁の幅

Wd:連結開口部の幅

We：連結開口部が形成される隔壁の幅

La:凸部の長さ

Lb:インク侵入長さ

Lc：凸部の先端から隣接する画素までの距離

Ld：コンタクトホールの長さ

Claims

請求の範囲

[1] 下層導電部、カラーフィルタ層及び上層導電部が絶縁基板上にこの順に積層された構造を有する第 1基板と、第 2基板と、該基板間に狭持された液晶層とを備える液晶表示装置であって、

該カラーフィルタ層は、着色部と、該着色部を区画する隔壁とを有し、

該隔壁は、着色部が配置される複数の開口部と、該複数の開口部を直線的に連結する連結開口部とが形成される形状を有し、

該上層導電部は、連結開口部に重複する領域内に形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続されることを特徴とする液晶表示装置。

[2] 前記連結開口部は、平面視方形であることを特徴とする請求項 1記載の液晶表示装置。

[3] 前記連結開口部は、隣接する画素の開口部を連結することを特徴とする請求項 1記載の液晶表示装置。

[4] 前記隔壁は、 1画素内に複数の開口部が形成される形状を有し、

前記連結開口部は、 1画素内の少なくとも 2つの開口部を連結することを特徴とする請求項 1記載の液晶表示装置。

[5] 前記連結開口部は、開口部との境界における幅が 20 x m以下であることを特徴とする請求項 1記載の液晶表示装置。

[6] 前記連結開口部は、第 1基板に形成された遮光部材に重複して配置されること特徴とする請求項 1記載の液晶表示装置。

[7] 前記着色部は、非感光性材料により形成されたものであることを特徴とする請求項 1 記載の液晶表示装置。

[8] 下層導電部、カラーフィルタ層及び上層導電部が絶縁基板上にこの順に積層された構造を有する第 1基板と、第 2基板と、該基板間に狭持された液晶層とを備える液晶表示装置であって、

該隔壁は、着色部が形成される開口部と、該開口部に接続された折れ曲がり開口部とが形成される形状を有し、該上層導電部は、折れ曲がり開口部に重複する領域内に形成されたコンタクトホールを介して下層導電部と接続されることを特徴とする液晶表示装置。

[9] 前記折れ曲がり開口部は、 1つの開口部に接続され、かつその平面形状が L字状又は T字状であることを特徴とする請求項 8記載の液晶表示装置。

[10] 前記隔壁は、 1画素内に複数の開口部が形成される形状を有し、

前記折れ曲がり開口部は、 1画素内の少なくとも 2つの開口部を連結することを特徴とする請求項 8記載の液晶表示装置。

[11] 前記折れ曲がり開口部は、隣接する画素の開口部を連結することを特徴とする請求項 8記載の液晶表示装置。

[12] 前記折れ曲がり開口部は、平面視階段状、平面視十字状、又は、平面視 T字状であることを特徴とする請求項 10又は 11記載の液晶表示装置。

[13] 前記折れ曲がり開口部は、開口部との境界における幅が 20 z m以下であることを特徴とする請求項 8記載の液晶表示装置。

[14] 前記折れ曲がり開口部は、第 1基板に形成された遮光部材に重複して配置されることを特徴とする請求項 8記載の液晶表示装置。

[15] 前記着色部は、非感光性材料により形成されたものであることを特徴とする請求項 8 記載の液晶表示装置。