WO2008018340A1 - Composant optique - Google Patents

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optical
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Tatsuo Ohta
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Konica Minolta Opto Inc
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Definitions

  • the present invention relates to an optical component having antifouling properties.
  • a water repellent coating that imparts water repellency to the surface of the optical component to facilitate removal of dirt, and an optical component.
  • Antifouling coats are provided to prevent electrostatic charge and prevent dust from adhering to the surface.
  • such an antifouling coat is designed to function as an antireflection film, and has a conductive material layer made of a conductive material in the first layer, the third layer, etc. from the surface side (for example, And Patent Documents 1 and 2).
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-90801
  • Patent Document 2 Japanese Patent Publication No. 53-28214
  • those having a conductive material layer as the first layer from the surface side can prevent the adhesion of dirt, but when wiping the surface of optical components, etc.
  • the surface of the layer that is, the surface of the optical component is likely to be damaged.
  • the conductive material layer is deposited at a low substrate temperature of 120 ° C or lower, so the strength of the antifouling coating is reduced and wiping occurs. It becomes easy.
  • those having a conductive material layer as the third layer from the surface side have two non-conductive layers formed on the surface side of the conductive material layer.
  • the conductivity on the surface of the optical component becomes low, and sufficient antistatic performance to prevent the adhesion of dirt cannot be obtained.
  • An object of the present invention is to prevent the adhesion of dirt and the occurrence of wiping. It is to provide an optical component that can be used.
  • the invention described in claim 1 is an optical component comprising a base material and an antireflection film provided on the surface of the base material, wherein the antireflection film is a material having conductivity. And a distance between the surface of the conductive material layer and the surface of the optical component is 4 to 20 nm.
  • the antireflection film has a conductive material layer, and the distance between the surface of the conductive material layer and the surface of the optical component is 4 to 20 nm, Unlike the case where the surface of the conductive material layer is located on the surface of the optical component, it is possible to prevent the surface from being wiped even when the surface of the optical component is wiped. In addition, the conductivity on the surface of the optical component is reliably maintained to prevent electrification, so that the adhesion of dirt can be prevented.
  • the optical component may be any product (component) that is normally used as an optical element such as a lens, a prism, or a filter.
  • the invention according to claim 2 is the optical component according to claim 1, wherein the surface resistance value of the optical component is less than 10 5 ⁇ / mouth. .
  • mouth in the unit of the surface resistance value means square.
  • the invention of claim 3 is an optical component comprising a base material and an antireflection film provided on the surface of the base material, wherein the antireflection film is a material having conductivity.
  • the conductive material layer is formed on the inner side of the surface of the optical component, and the surface resistance value of the optical component is less than 10 5 ⁇ / mouth.
  • the antireflection film since the antireflection film has the conductive material layer on the inner side of the surface of the optical component, the surface of the conductive material layer is located on the surface of the optical component. In contrast, when the surface of an optical component is wiped, it is possible to prevent wiping from occurring on the surface. In addition, since the surface resistance of optical components is less than 10 5 ⁇ / mouth, As a result, the electrical conductivity on the surface of the optical component is reliably maintained to prevent electrification.
  • the invention described in claim 4 is the optical component according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the conductive material layer is 325 nm. Characterized by
  • the thickness of the conductive material layer is 325 nm, it is possible to more reliably prevent charging on the surface of the optical component and prevent adhesion of dirt.
  • the invention according to claim 5 is the optical component according to claim 4, characterized in that the thickness of the conductive material layer is 318 nm.
  • the thickness of the conductive material layer is 318 nm, it is possible to more reliably prevent charging on the surface of the optical component and prevent adhesion of dirt.
  • the invention according to claim 6 is the optical component according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive material is used for light having a wavelength of 600 nm. It is a high refractive index material having a refractive index of 1.55 or more.
  • the refractive index is 1.8 or more with respect to light having a wavelength of 600 nm.
  • the invention according to claim 7 is the optical component according to claim 6, wherein the high refractive index material contains an indium oxide-based or zinc oxide-based mixed material. It is characterized by.
  • the indium oxide-based mixed material is a mixed material containing at least indium oxide, for example, a material mainly composed of a mixed material of indium oxide and tin.
  • the zinc oxide-based mixed material is a mixed material containing at least zinc oxide, for example, a material mainly composed of a mixed material of zinc oxide and gallium.
  • "containing" may be included as one component or may be included as all components. That is, other components may or may not be included.
  • the invention according to claim 8 is the optical component according to any one of claims 1 to 7, wherein the antireflection film is more optical than the conductive material layer.
  • a low-refractive index layer made of a low-refractive index material having a refractive index of less than 1.55 with respect to light having a wavelength of 600 nm is provided on the surface side of the component.
  • the antireflection film since the antireflection film has the low refractive index layer on the surface side of the optical component with respect to the conductive material layer, the reflection of the optical component is performed by the low refractive index layer.
  • the prevention function can be improved.
  • the invention according to claim 9 is the optical component according to claim 8, characterized in that the thickness of the low refractive index layer is 4 to 20 nm.
  • the invention according to claim 10 is the optical component according to claim 8 or 9, wherein the low refractive index layer is located on the surface of the optical component.
  • the invention according to claim 11 is the optical component according to claim 8 or 9, wherein the optical component has a water repellent coating on the surface side of the optical component with respect to the low refractive index layer. It is characterized by this.
  • the invention according to claim 12 is the optical component according to any one of claims 8 to 11, wherein the low refractive index material is silicon oxide or silicon oxide and Any one of the mixed materials of aluminum oxide is contained.
  • the invention according to claim 13 is the optical component according to any one of claims 1 to 12, wherein the base material is formed of a polymer resin. It is characterized by.
  • the force S can be prevented to prevent wiping from occurring on the surface of the optical component. Further, it is possible to prevent the adhesion of dirt.
  • FIG. 1 is a diagram showing an example of an optical component 1 according to the present invention, in which FIG. (A) is a schematic configuration diagram, and FIG. (B) is a partially enlarged view of a circle X in FIG. .
  • FIG. 2 is a graph showing the reflectance characteristics of optical components of Example (3) and Comparative Example (1).
  • FIG. 3 is a graph showing the reflectance characteristics of optical components of Example (12) and Comparative Example (7).
  • FIG. 4 is a graph showing the reflectance characteristics of optical components of Example (15) and Comparative Example (8).
  • FIG. 5 is a graph showing the reflectance characteristics of the optical parts of Example (16) and Comparative Example (9).
  • FIG. 6 is a diagram for explaining a method for measuring a surface resistance value.
  • FIG. 1 is a diagram showing an example of an optical component 1 according to the present invention
  • FIG. 1 (a) is a schematic configuration diagram
  • Fig. 1 (b) is a partially enlarged view of circle X in Fig. 1 (a).
  • the optical component 1 is used, for example, as an objective lens of an optical pick-up device in an in-vehicle DVD device, and includes a base material 2.
  • the substrate 2 has a curved optical surface in the present embodiment.
  • the optical surface of the optical component 1 may be a flat surface or may have a fine structure such as a diffraction structure.
  • the substrate 2 is made of a polymer resin.
  • the polymer resin is not particularly limited as long as it is a transparent resin material generally used as an optical material.
  • acrylic resin, polyolefin resin, and polycarbonate resin are used.
  • the polyolefin resin ZEONEX (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) that is a cyclic polyolefin resin, and apell (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) are suitable.
  • ZEONEX330R product name
  • APL5014DP product name
  • lapels lapels.
  • the polymer resin is not limited to these.
  • An antireflection film 3 is provided on the surface of the substrate 2.
  • the antireflection film 3 may be provided on the light source side of the optical pickup device with respect to the substrate 2 or may be provided on the information recording medium side such as a DVD! /. It can be provided on both sides!
  • This antireflection film 3 is a film having an antireflection function, and is composed of n layers (n is a natural number of, for example, 4 to 7) M,.
  • the thickness of the outermost n-th layer M is 4 to 20 nm, more than the n-th layer M.
  • the inner (n-1) layer M- has a thickness of 3 to 25 nm, preferably 3 to 18 nm.
  • the surface of the (n-1) layer M- is located at a depth of 4 to 20 nm from the surface of the optical component 1.
  • the nth layer M may be located on the outermost surface of the optical component 1 or may be located on the inner side of the water repellent coat (not shown).
  • a water repellent coating is provided on the outside of the antireflection film 3, it is possible to facilitate removal of dirt attached to the surface of the optical component 1.
  • a water-repellent coat is a perfluoroalkyl silane such as SubstanceWRlPatinal (trade name, Merck It is possible to form S as a material.
  • the (n-2) layer M and the nth layer M of the antireflection film 3 are made of a low refractive index material, and the (n-1) layer M has a high conductivity.
  • a conductive material layer is formed from a refractive index material.
  • the low refractive index material a material containing any one of silicon oxide or a mixed material of silicon oxide and aluminum oxide can be used.
  • a mixed material for example, SubstanceL5 (trade name, manufactured by Merck Japan Ltd.) is suitable.
  • the material mixed with silicon oxide is not limited to aluminum oxide.
  • the high refractive index material having conductivity a material containing an indium oxide-based zinc oxide-based mixed material, specifically, a mixed material of indium oxide and tin (ITO), zinc oxide, A material containing a mixed material of gallium and gallium can be used. It is preferable that the mixing ratio of tin in the mixed material of indium oxide and tin is 3 to 10 wt%.
  • the material mixed with indium oxide and zinc oxide is not limited to tin and gallium.
  • the materials and thicknesses of the first layer M to the (n-3) layer M in the antireflection film 3 are as follows.
  • the antireflection film 3 has an antireflection function as a whole, it can be arbitrarily designed.
  • the optical component 1 described above can be manufactured by a conventionally known manufacturing method.
  • the antireflection film 3 of the optical component 1 and the water-repellent coating can be formed by a vacuum deposition method, a snowflake method, a CVD method, or the like.
  • the antireflection film 3 has the (n-1) layer M, that is, the surface of the conductive material layer on the inside, and the conductive material layer and the surface of the optical component 1 Unlike the case where the surface of the conductive material layer is located on the surface of the optical component 1, the surface force of the optical component 1 is prevented from being wiped off even when the surface of the optical component 1 is wiped. can do.
  • the antireflection film 3 has the nth layer M, that is, a low refractive index layer on the surface side of the optical component 1 relative to the conductive material layer, the antireflective function of the optical component 1 is provided by the low refractive index layer. Improve the power with S.
  • the optical component 1 has been described as a single ball optical element, but may be a multiple ball optical element.
  • antireflection films and water repellents having the layer structures shown in Tables 1 to 7 below are used. A coating provided on the optical surface of the substrate 2 was formed.
  • Examples (1) to (; 11) and Comparative Examples (1) to (6) correspond to two-wavelength light beams used for DVD and CD recording / reproduction.
  • Examples (12) to (; 14) and Comparative Example (7) correspond to a single wavelength light beam used for recording / reproducing BD (Blu-ray Disc).
  • Examples (15) to (; 16) and Comparative Examples (8) to (9) correspond to three-wavelength light beams used for recording / reproducing BD, DVD and CD.
  • the “L5” material indicates the above-mentioned “Substance L5”! /.
  • Example (1) Example (2)
  • Example (3) Example (4) Substrate Abel Resin Apel Resin Abel Resin Abel Resin
  • Example (11) Example (12) Example (13) Base material ZEONEX resin Abel resin Apel resin
  • Example (15) Base Material ZEONEX Resin Abel Resin ZEONEX Resin
  • the shortest wavelength indicating the minimum reflectance in the spectral reflectance characteristic of LOOOnm the wavelength is 350-; the wavelength is ⁇ (nm), and the reflectance corresponding to this wavelength ⁇ is Rminl (%). Short, When the wavelength is ⁇ (nm) and the reflectance corresponding to this wavelength ⁇ is Rmin2 (%), each light
  • the minimum reflectances Rminl and Rmin2 for the school parts are as shown in the bottom column of Table 1 to Table 7 above.
  • the spectral reflectance characteristics of each optical component are, for example, “Graph 1” in FIG. 2 in Example (3), “Graph 2” in FIG. 2 in Comparative Example (1), and FIG. 3 in Example (12).
  • the wavelength ⁇ 1 of the minimum reflectance is 750 ⁇ 20 nm, and the reflectance Rminl of the wavelength ⁇ 1 is less than 0.7%.
  • Wavelength ⁇ is 750 ⁇ 20 nm
  • reflectivity Rminl is 0.7% or more and less than 1%. No practical problems in recording and playback.
  • the wavelength ⁇ 1 of the minimum reflectance is 405 ⁇ 20 nm, and the reflectance Rminl of the wavelength ⁇ 1 is less than 0.7%. There is no practical problem in recording and playback.
  • the wavelength ⁇ 1 of the minimum reflectance is 405 ⁇ 20 nm, and the reflectance Rminl of the wavelength ⁇ 1 is less than 0.7%. Furthermore, the wavelength 2 of the minimum reflectance is 700 ⁇ 50 nm, and the reflectance Rmin2 of the wavelength 2 is less than 0.7%. There is no practical problem in recording and playback.
  • Measurement sample (1) Disc-shaped plastic test piece with a diameter of 30 mm and a thickness of 3 mm
  • Measurement sample (2) Optical component of the target shape
  • the antireflection film and the water repellent coating of these measurement samples (1) and (2) were formed under the same conditions by an antireflection film forming apparatus using a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like.
  • the measurement sample (1) was prepared only for Example (1), and the measurement sample (2) was prepared for each of Examples (1) to (; 16) and Comparative Examples (1) to (9). I made it! (Measurement and calculation method)
  • Step 1 Calculation of surface resistance value conversion coefficient Rso / R
  • the surface resistance value R so (unit: M ⁇ / port) of the optical surface having the antireflection film was measured with the ultra-insulation meter.
  • electrodes 5a and 5b are formed on the optical surface coated with the antireflection film with a conductive paint such as a silver paste agent, and the electrodes
  • the resistance value R (unit: M ⁇ ) between 5a and 5b was measured with the ultra-insulation meter 6.
  • step 1 was performed only for the example (1).
  • the luminous flux transmittance at a wavelength of 650 nm was measured in Examples (1) to (; 11) and Comparative Examples (1) to (6).
  • Comparative Examples (7) to (9) the luminous transmittance at a wavelength of 405 nm was measured using the measurement sample (2).
  • the same conditions were applied. The transmittance was measured.
  • ⁇ The transmittance decrease after standing is less than 1%.
  • ⁇ Decrease in transmittance after standing is from 1% to less than 2%.
  • the transmittance decrease after standing is 2% or more.
  • the surface of the measurement sample (2) was wiped with a cotton swab soaked with isopropyl alcohol, and the number of times of wiping until the antireflection film or water repellent coat on the surface was peeled was measured.
  • the wiping load was between 5 and 10 g.
  • the measurement was performed on a portion having no uneven shape such as a diffractive structure.
  • ⁇ Less than 10 times, the outermost antireflection film and water repellent coating are not peeled off, and less than 50 times.
  • X The outermost antireflection film and water-repellent coating peel off in less than 10 times.
  • the thickness of the conductive material layer ((n-1) layer) is 3 nm or more and 25 nm or less, and the distance between the surface of the conductive material layer and the outermost surface of the optical component is 4 nm or more and 20 nm.
  • the overall evaluation was ⁇ level or higher, and it was found that there was no practical problem.
  • the film strength may become a ⁇ level as shown in Examples (7), (11) and Comparative Example (6). I understood. This is presumably because the conductive material layer has lower film strength, such as hardness, denseness, and abrasion resistance, compared to the metal oxide or silicon oxide layer.
  • the conductive material layer has lower film strength, such as hardness, denseness, and abrasion resistance, compared to the metal oxide or silicon oxide layer.
  • the base material temperature cannot be maintained higher than when the conductive material layer is formed on the glass base material and the film strength of the conductive material layer is low. Therefore, if the thickness of the conductive material layer is increased, the film strength of the entire antireflection film is unlikely to be good even if a layer such as silicon oxide is provided on the surface side.
  • the thickness of the conductive material layer is less than 3 nm, the surface resistance value increases, and the resistance value fluctuates greatly depending on the deposition conditions, resulting in a decrease in antistatic performance and antifouling performance. (See Comparative Example (5)).

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Description

明 細 書
光学部品
技術分野
[0001] 本発明は、防汚性を有する光学部品に関する。
背景技術
[0002] 従来、光ピックアップ装置等に用いられる光学部品には、光学性能を維持する観点 から、光学部品の表面に撥水性を付与して汚れの除去を容易化する撥水コートや、 光学部品表面の帯電を防止して静電気による粉塵の付着を防止する防汚コート等が 設けられている。また、このような防汚コートは、反射防止膜としても機能するようにな つており、導電性物質からなる導電材料層を表面側から 1層目や 3層目などに有して いる（例えば、特許文献 1 , 2参照）。
特許文献 1 :特開昭 59— 90801号公報
特許文献 2 :特公昭 53— 28214号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0003] しかしながら、上記の撥水コートでは、付着した汚れは容易に除去できるものの、付 着自体を防止することはできなレ、。
[0004] 一方、上記の防汚コートのうち、表面側から 1層目に導電材料層を有するものでは 、汚れの付着を防止することはできるものの、光学部品の表面を拭く場合などに導電 材料層の表面、つまり光学部品の表面に傷が発生しやすい。特に、光学部品の本体 が高分子樹脂製である場合には、導電材料層が 120°C以下の低い基板温度で成膜 されるため、防汚コートの強度が低くなり、拭き傷が発生しやすくなる。
[0005] また、上記の防汚コートのうち、表面側から 3層目に導電材料層を有するものでは、 導電材料層よりも表面側に 2層の非導電性層が形成されているため、光学部品表面 での導電性が低くなつてしまい、汚れの付着を防止するための十分な帯電防止性能 が得られない場合がある。
[0006] 本発明の課題は、汚れの付着を防止するとともに、拭き傷の発生を防止することが できる光学部品を提供することである。
課題を解決するための手段
[0007] 請求の範囲第 1項記載の発明は、基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止 膜とを備える光学部品であって、前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる 導電材料層を有し、この導電材料層の表面と、当該光学部品の表面との距離は 4〜 20nmであることを特徴とする。
[0008] 請求の範囲第 1項記載の発明によれば、反射防止膜は導電材料層を有し、当該導 電材料層の表面と光学部品の表面との距離は 4〜20nmであるので、導電材料層の 表面が光学部品の表面に位置する場合と異なり、光学部品の表面を拭いた場合にも 当該表面に拭き傷が発生するのを防止することができる。また、光学部品表面での導 電性が確実に維持されて帯電を防止する結果、汚れの付着を防止することができる
〇
[0009] なお、光学部品とは、通常レンズやプリズム、フィルタ一等の光学素子として使用さ れる製品（部品）の何れであっても良い。
[0010] 請求の範囲第 2項記載の発明は、請求の範囲第 1項記載の光学部品において、当 該光学部品の表面抵抗値が、 105Μ Ω /口未満であることを特徴とする。
[0011] 請求の範囲第 2項記載の発明によれば、光学部品の表面抵抗値が 105Μ Ω /口 未満であるので、より確実に光学部品表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止す ること力 Sでさる。
[0012] なお、表面抵抗値の単位中の「口」は、スクウェアの意である。
[0013] 請求の範囲第 3項記載の発明は、基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止 膜とを備える光学部品であって、前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる 導電材料層を、当該光学部品の表面よりも内側に有し、当該光学部品の表面抵抗 値力 105Μ Ω /口未満であることを特徴とする。
[0014] 請求の範囲第 3項記載の発明によれば、反射防止膜は導電材料層を光学部品の 表面よりも内側に有するので、導電材料層の表面が光学部品の表面に位置する場 合と異なり、光学部品の表面を拭いた場合にも当該表面に拭き傷が発生するのを防 止すること力できる。また、光学部品の表面抵抗値が 105Μ Ω /口未満であるので、 光学部品表面での導電性が確実に維持されて帯電を防止する結果、汚れの付着を 防止すること力でさる。
[0015] 請求の範囲第 4項記載の発明は、請求の範囲第 1項〜第 3項の何れか一項に記載 の光学部品において、前記導電材料層の厚さは、 3 25nmであることを特徴とする
[0016] 請求の範囲第 4項記載の発明によれば、導電材料層の厚さは 3 25nmであるの で、より確実に光学部品表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる
[0017] 請求の範囲第 5項記載の発明は、請求の範囲第 4項記載の光学部品において、前 記導電材料層の厚さは、 3 18nmであることを特徴とする。
[0018] 請求の範囲第 5項記載の発明によれば、導電材料層の厚さは 3 18nmであるの で、より確実に光学部品表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる
[0019] 請求の範囲第 6項記載の発明は、請求の範囲第 1項〜第 5項の何れか一項に記載 の光学部品において、前記導電性を有する材料は、波長 600nmの光に対して屈折 率が 1. 55以上の高屈折率材料であることを特徴とする。
[0020] 請求の範囲第 6項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項〜第 5項の何れか一項 に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
[0021] なお、波長 600nmの光に対して屈折率が 1. 8以上であれば、より好ましい。
[0022] 請求の範囲第 7項記載の発明は、請求の範囲第 6項記載の光学部品において、前 記高屈折率材料は、酸化インジ ム系または酸化亜鉛系の混合材料を含有するこ とを特徴とする。
[0023] 請求の範囲第 7項記載の発明によれば、請求の範囲第 6項記載の発明と同様の効 果を得ること力 Sでさる。
[0024] なお、酸化インジ ム系の混合材料とは、少なくとも酸化インジ ムを含む混合 材料であり、例えば酸化インジ ムとスズとの混合材料を主成分とする材料である。 また、酸化亜鉛系の混合材料とは、少なくとも酸化亜鉛を含む混合材料であり、例え ば酸化亜鉛とガリウムとの混合材料を主成分とする材料である。 [0025] また、含有するとは、一成分として含んでいても良いし、全成分として含んでいても 良い。つまり、他の成分を含んでいても良いし、含んでいなくても良い。
[0026] 請求の範囲第 8項記載の発明は、請求の範囲第 1項〜第 7項の何れか一項に記載 の光学部品において、前記反射防止膜は、前記導電材料層よりも当該光学部品の 表面側に、波長 600nmの光に対して屈折率が 1. 55未満の低屈折率材料からなる 低屈折率層を有することを特徴とする。
[0027] 請求の範囲第 8項記載の発明によれば、反射防止膜は導電材料層よりも光学部品 の表面側に低屈折率層を有するので、当該低屈折率層によって、光学部品の反射 防止機能を向上させることができる。
[0028] 請求の範囲第 9項記載の発明は、請求の範囲第 8項記載の光学部品において、前 記低屈折率層の厚さは、 4〜20nmであることを特徴とする。
[0029] 請求の範囲第 9項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項記載の発明と同様の効 果を得ること力 Sでさる。
[0030] 請求の範囲第 10項記載の発明は、請求の範囲第 8項または第 9項記載の光学部 品において、前記低屈折率層は、当該光学部品の表面に位置することを特徴とする
〇
[0031] 請求の範囲第 10項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項または第 9項記載の 発明と同様の効果を得ることができる。
[0032] 請求の範囲第 11項記載の発明は、請求の範囲第 8項または第 9項記載の光学部 品において、前記低屈折率層よりも当該光学部品の表面側に撥水コートを有するこ とを特徴とする。
[0033] 請求の範囲第 11項記載の発明によれば、低屈折率層よりも当該光学部品の表面 側に撥水コートを有するので、光学部品の表面に付着した汚れの除去を容易化する こと力 Sでさる。
[0034] 請求の範囲第 12項記載の発明は、請求の範囲第 8項〜第 11項の何れか一項に 記載の光学部品において、前記低屈折率材料は、酸化シリコンまたは、酸化シリコン 及び酸化アルミニウムの混合材料の何れか一方を含有することを特徴とする。
[0035] 請求の範囲第 12項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項〜第 11項の何れか一 項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
[0036] 請求の範囲第 13項記載の発明は、請求の範囲第 1項〜第 12項の何れか一項に 記載の光学部品において、前記基材は、高分子樹脂から形成されていることを特徴 とする。
[0037] 請求の範囲第 13項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項〜第 12項の何れか一 項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
発明の効果
[0038] 請求の範囲第 1項記載の発明によれば、光学部品の表面に拭き傷が発生するのを 防止すること力 Sできる。また、汚れの付着を防止することができる。
[0039] 請求の範囲第 2項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項記載の発明と同様の効 果を得ること力 Sできるのは勿論のこと、より確実に汚れの付着を防止することができる
[0040] 請求の範囲第 3項記載の発明によれば、光学部品の表面に拭き傷が発生するのを 防止すること力 Sできる。また、汚れの付着を防止することができる。
[0041] 請求の範囲第 4項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項〜第 3項の何れか一項 に記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、より確実に汚れの付 着を防止することができる。
[0042] 請求の範囲第 5項記載の発明によれば、請求の範囲第 4項記載の発明と同様の効 果を得ること力 Sできるのは勿論のこと、より確実に汚れの付着を防止することができる
[0043] 請求の範囲第 6項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項〜第 5項の何れか一項 に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
[0044] 請求の範囲第 7項記載の発明によれば、請求の範囲第 6項記載の発明と同様の効 果を得ること力 Sでさる。
[0045] 請求の範囲第 8項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項〜第 7項の何れか一項 に記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、光学部品の反射防 止機能を向上させることができる。
[0046] 請求の範囲第 9項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項記載の発明と同様の効 果を得ること力 Sでさる。
[0047] 請求の範囲第 10項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項または第 9項記載の 発明と同様の効果を得ることができる。
[0048] 請求の範囲第 11項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項または第 9項記載の 発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、光学部品の表面に付着した汚 れの除去を容易化することができる。
[0049] 請求の範囲第 12項記載の発明によれば、請求の範囲第 8項〜第 11項の何れか一 項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
[0050] 請求の範囲第 13項記載の発明によれば、請求の範囲第 1項〜第 12項の何れか一 項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
図面の簡単な説明
[0051] [図 1]本発明に係る光学部品 1の一例を示す図であり、図（a)は概略構成図、図（b) は図（a)における円形 X内の部分拡大図である。
[図 2]実施例（3) ,比較例（1)の光学部品の反射率特性を示す図である。
[図 3]実施例（12) ,比較例（7)の光学部品の反射率特性を示す図である。
[図 4]実施例（15) ,比較例（8)の光学部品の反射率特性を示す図である。
[図 5]実施例（16) ,比較例（9)の光学部品の反射率特性を示す図である。
[図 6]表面抵抗値の測定方法を説明するための図である。
符号の説明
[0052] 1 光学部品
2 基材
3 反射防止膜
M 第 (n— 1)層（導電材料層）
M 第 n層（低屈折率層）
発明を実施するための最良の形態
[0053] 以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する
。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。
[0054] 図 1は、本発明に係る光学部品 1の一例を示す図であり、図 1 (a)は概略構成図、 図 1 (b)は図 1 (a)における円形 X内の部分拡大図である。
[0055] この図に示すように、光学部品 1は、例えば車載用 DVD装置における光ピックアツ プ装置の対物レンズ等として用いられるものであり、基材 2を備えて!/、る。
[0056] この基材 2は、本実施の形態においては、曲面状の光学面を有している。但し、光 学部品 1の光学面は、平面であっても良いし、回折構造などの微細構造を有してい ても良い。
[0057] また、基材 2は、高分子樹脂によって形成されている。ここで、高分子樹脂としては 、光学材料として一般的に用いられる透明の樹脂材料であれば特に制限はないが、 光学部品としての加工性を考慮すると、アクリル樹脂、ポリオレフイン樹脂、ポリカーボ ネート樹脂であることが好ましい。また、特にポリオレフイン樹脂としては、環状ォレフ イン樹脂である ZEONEX (日本ゼオン社製)や、ァペル（三井化学社製）などが好適 である。このような樹脂製品として、 ZEONEXとしては ZEONEX330R (製品名）が あり、ァペルとしては APL5014DP (製品名）がある。但し、高分子樹脂はこれらに限 るものではない。
[0058] 基材 2の表面には、反射防止膜 3が設けられている。なお、反射防止膜 3は、基材 2 に対して前記光ピックアップ装置の光源側に設けられていても良いし、 DVDなどの 情報記録媒体側に設けられて!/、ても良レ、し、これら両方の側に設けられて!/、ても良 い。
[0059] この反射防止膜 3は、反射防止機能を有する膜であり、 n個（nは例えば 4〜7の自 然数）の層 M,…から構成されている。
[0060] 以下、これらの層 M, …を内側から外側に向かって第 1層 M〜第 n層 Mとすると、 最も外側の第 n層 Mの厚さは 4〜20nm、第 n層 Mよりも内側の第（n— 1)層 M―の 厚さは 3〜25nm、好ましくは 3〜； 18nmとなっている。また、第（n— 1)層 M―の表面 は、光学部品 1の表面から 4〜20nmの深さに位置している。但し、第 n層 Mは、光 学部品 1の最表面に位置していても良いし、撥水コート（図示せず）よりも内側に位置 していても良い。反射防止膜 3の外側に撥水コートを設ける場合には、光学部品 1の 表面に付着した汚れの除去を容易化することができる。なお、このような撥水コートは パーフルォロアルキルシラン、例えば SubstanceWRlPatinal (商品名、メルクジャ パン株式会社製)を材料として形成すること力 Sできる。
[0061] また、反射防止膜 3の第 (n— 2)層 M 及び第 n層 Mは低屈折率材料から形成さ れており、第 (n— 1)層 M は、導電性を有する高屈折率材料から形成されて導電 材料層となっている。これにより、光学部品 1の表面抵抗値は、 105Μ Ω /口未満とな つている。
[0062] ここで、低屈折率材料としては、酸化シリコンまたは、酸化シリコン及び酸化アルミ二 ゥムの混合材料の何れか一方を含有するものを用いることができる。なお、このような 混合材料としては、例えば、 SubstanceL5 (商品名、メルクジャパン株式会社製）が 好適である。また、酸化シリコンに混合される材料は、酸化アルミニウムに限定される ものではない。
[0063] また、導電性を有する高屈折率材料としては、酸化インジユーム系ゃ酸化亜鉛系の 混合材料を含有するもの、具体的には酸化インジユームとスズとの混合材料 (ITO) や、酸化亜鉛とガリウムとの混合材料を含有するものを用いることができる。酸化イン ジユームとスズとの混合材料におけるスズの混合割合は 3〜； 10wt%であることが好ま しい。また、酸化インジユームゃ酸化亜鉛に混合ざれる材料は、スズゃガリウムに限 定されるものではない。
[0064] なお、以上の反射防止膜 3における第 1層 M〜第 (n— 3)層 M の材料や厚さは
1 3
、反射防止膜 3が全体として反射防止機能を有する限りにおいて、任意に設計可能 である。
[0065] 以上の光学部品 1は、従来より公知の製造方法によって製造することができる。具 体的には、例えば光学部品 1の反射防止膜 3や前記撥水コートは、真空蒸着法ゃス ノ ッタ法、 CVD法などで成膜することができる。
[0066] このような光学部品 1によれば、反射防止膜 3は第 (n— 1)層 M 、つまり導電材料 層の表面を内側に有し、この導電材料層と、光学部品 1の表面との距離力 〜20nm であるので、導電材料層の表面が光学部品 1の表面に位置する場合と異なり、光学 部品 1の表面を拭いた場合にも当該表面に拭き傷が発生するのを防止することがで きる。
[0067] また、光学部品 1表面での導電性が確実に維持されて帯電を防止する結果、汚れ の付着を防止することができる。また、光学部品 1の表面抵抗値が 105Μ Ω /口未満 であるので、より確実に光学部品 1表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止するこ と力できる。また、導電材料層の厚さは 3〜25nm、好ましくは 3〜； 18nmであるので、 いっそう確実に光学部品 1表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができ
[0068] また、反射防止膜 3は導電材料層よりも光学部品 1の表面側に第 n層 M、つまり低 屈折率層を有するので、当該低屈折率層によって、光学部品 1の反射防止機能を向 上させること力 Sでさる。
[0069] なお、上記の実施の形態においては、光学部品 1を単玉の光学素子として説明し たが、複数玉の光学素子としても良い。
実施例 1
[0070] 以下に、実施例および比較例を挙げることにより、本発明をさらに具体的に説明す る。 <光学部品の構成〉
上記実施の形態における光学部品 1の実施例（1)〜（16)及び比較例（1)〜（9)と して、以下の表 1〜表 7に示す層構成の反射防止膜や撥水コートを基材 2の光学面 上に設けたものを形成した。
[0071] より詳細には、実施例（1)〜（； 11)及び比較例（1)〜（6)は、 DVD及び CDの記録 再生に使用する 2波長の光束に対応している。また、実施例（12)〜（； 14)及び比較 例（7)は、 BD (Blu-ray Disc)の記録再生に使用する 1波長の光束に対応してい る。また、実施例（15)〜（； 16)及び比較例（8)〜（9)は、 BD、 DVD及び CDの記録 再生に使用する 3波長の光束に対応して!/、る。
[0072] なお、これら実施例（1)〜（； 16)及び比較例（1)〜（9)では、表に示した以外の膜が 光学部品の表面側に設けられていることはないものとする。
[0073] また、表中、各欄中段の「d」は層の厚さを示しており、「n」は屈折率を示している。
また、「L5」材料は上述の「SubstanceL5」を示して!/、る。
[0074] [表 1] 実施例（1) 実施例 (2) 実施例 (3) 実施例 (4) 基材 アベル樹脂 ァペル樹脂 アベル樹脂 アベル樹脂
APL5014DP APL5014DP APL5014DP APL5014DP
1層目 酸化セリウム 酸化セリウム 酸化セリウム 酸化セリウム dl = 71nm dl = 71nm dl = 71nm dl==71nm nl = 1.82 nl = 1.82 nl = 1.82 nl = 1.82
2層目 酸化シリコン 酸化シリコン L 5材料 酸化シリコン d2 = 118nm d2 = 118ni d2 = 118ni d2 = 118ni n2 = 1.44 n2 = 1.44 n2 = 1.48 n2 = 1.44
3層目 I T 0 I T 0 I T o I T 0
d3=8.1nm d3 = 8.1ni d3 = 8.1nm d3 = 8.1nra η3 = 1.89 η3 = 1.89 n3 = 1.89 η3 = 1.89
4層目 酸化シリコン 酸化シリコン L 5材料 酸化シリコン d4 = 4nm d4 = 8nm d4 = 10nm d4 = 19nm n4 = 1.44 n4 = 1.44 n4 = 1.48 n4 = 1.44 分光反射率特性
λ i(nm)(Rminl(%)) 750 (0.2以下) 740(0.2以下) 755 (0.2以下） 760(0.2以下)
[0075] [表 2]
Figure imgf000012_0001
[0076] [表 3] 実施例 (5) 実施例 (6) 実施例 (7) 比較例 (5) 基材 アベル樹脂 アベル樹脂 アベル樹脂 アベル樹脂
APL5014DP APL5014DP APL5014DP APL5014DP
1層目 酸化セリウム 酸化セリウム 酸化セリウム 酸化セリゥム dl=71nm dl = 71nm dl=83nm dl=71nm nl = 1.82 nl = 1.82 nl = 1.82 nl = 1.82
2層目 酸化シリコン 酸化シリコン L 5材料 L 5材料 d2 = 122nm d2 = 106nm d2 = 80nm d2 = 125n n2=1.44 n2 = 1.44 n2 = 1.48 n2 = 1.48
3層目 I T 0 I T 0 I T 0 I T 0
d3 = 3nm d3 = 24nm d3 = 2nm η3 = 1.89 η3 = 1.89 n3 = 1.89 n3 = 1.89
4層目 酸化シリコン 酸ィヒシリコン L 5材料 L 5材料 d4 = L0nm d4 = 10nm d4 = 10nm d4 = 10nm n4 = 1.44 n4 = 1.44 n4 = 1.48 n4 = 1.48 分光反射率特性 II
yi i(nra)(Riinl(%)) 750 (0.2以下) 755 (0.2以下） 750(0.61以下） 750 (0.2以下）
[0077] [表 4]
Figure imgf000013_0001
[0078] [表 5] 実施例 (11) 実施例（12) 実施例（13) 基材 ゼォネックス樹脂 アベル樹脂 ァペル樹脂
ZE0NEX33OR APL5014DP APL5014DP
1層目 酸化タンタル 酸化シリコン L 5材料
dl=71nm dl=26.4nm dl=27.4nm nl=2.0 nl =1.44 nl = 1.48
2層 0 酸化シリコン 酸化ジルコニューム 酸ィ匕ジルコニューム d2 = 91.5nm d2 = 29.5ni d2 = 33.9nm n2 = 1.44 n2 = 1.86
3層目 酸化亜鉛系材料 酸化シリコン L 5材料
d3=20nm d3 = 67na d3 = 59.9nm n3 = 1.95 n3 = 1.44 n3 = 1.48
4層目 酸化シリコン I ο I Τ 0
d4 = 10nm d4 = 5nra d4 = 8nm n4 = l.44 η4 = 1.89 η4 = 1.89
5層目 酸化シリコン 酸化シリコン d5 = 10ni d5 = 10.6nm n5 II = 1.44 n5 = 1.44 分光反射率特性
λ i(nm)(Rininl(%)) 750 (0.2以下） 410(0.2以下） 4〇5(0.2以下） ]
実施例 (I4) 比較例 (？） 実施例（15) 基材 ゼォネックス樹脂 アベル樹脂 ゼォネックス樹脂
ZE0NEX33OR APL5014DP ZE0NEX330R
1層目 酸化シリコン 酸化シリコン 酸化シリコン dl=27.4nm dl = 18.4nra dl = 130nm nl = 1.44 nl = 1.44 nl = 1.44
2層目 酸化ジルコニューム 酸ィ匕ジルコニューム 酸ィ匕ジルコニューム d2 = 48.3nm d2 = 30.8nm d2 = 39.6nm n2 = 1.86 n2 = 1.86 n2 = 1.86
3層目 酸化シリコン 酸化シリコン 酸化シリコン d3 = 41nm d3 = 82.5nm d3 = 44.5nra n3 = 1.44 n3 = 1.44 n3 = 1.44
4層目 ΐ Τ Ο 酸ィヒジルコニュ一ム d4 = 13ni d4 = 28.3nra η4=1.89 n4 = 1.86
5層目 酸化シリコン 酸化シリコン d5 = 10.6nm d5 = 83.7nm n5 = 1.44 n5 = 1.44
6層目 I T 0
d6 = 8nm η6 = 1.89
7層目 酸化シリコン d7 = 10.5nm n7 = 1.44 分光反射率特性
/ii(nm)(Rminl(%)) 4〇4(0.2以下） 410(0.2以下） 405(0.2以下）
/i 2(nm)(Rmin2(%)) 720(0.5以下） ]
比較例 (8) 実施例（16) 比較例 (9) 基材 ゼォネックス樹脂 アベル樹脂 アベル樹脂
ZE0NEX330R APL5014DP APL5014DP
1層目 酸化シリコン 酸化シリコン 酸化シリコン
dl = 115.8nm dl = 120nm dl=94.9nm
111 = 1.44 nl = 1.44 nl = 1.44
2層目 酸化ジルコニューム 酸ィヒジルコニューム 酸化ジルコニューム
d2 = 28.9nm d2 = 9.1nm d2 = 12.6nm n2 = 1.86 n2 = 1.86 n2 = 1.86
3層目 酸化シリコン L 5材料 L 5材料
d3 = 47.3nm d3 = 28.8nm d3 = 33.8nm n3 = 1.44 n3 = 1.45 n3 = 1.45
4層目 酸ィ匕ジルコニューム 酸化ジルコニューム 酸化ジルコニューム
d4 = 26nm d4 = 55.9nni d4 = 60.9nm n4 = 1.86 n4 = 1.86 n4 = 1.86
5層目 酸化シリコン 酸化シリコン 酸化シリコン
d5 = 10.6ni d5 = 12.3nm d5 = 22.4nm n5 = 1.44 n5 = 1.44 n5 = 1.44
6層目 酸化ジルコニューム 酸化ジルコニューム
d6 = 60.5nm d6 = 38.4nm n6 = 1.86 n6 = 1.86
7層目 L 5材料 L 5材料
d7 = 59.45nm d7 = 97.1nm n7 = 1.45 n7 = 1.45
8層目 I T 0
d8 = 8nm
n8 = 1.89
9層目 酸ィ匕シリコン
d9 = llnm
n9 = 1.44
分光反射率特性
λ i(nm)(Rminl(%)) 405(0.1以下） 420(0.6以下） 420(0.65以下）
/i 2(nm)(Rmin2(%)) 730(0.5以下) 720 (0.4以下） 730 (0.2以下）
[0081] <反射防止性能の評価〉
上記のように形成された実施例（1)〜（16)，比較例（1)〜（9)の光学部品の分光 反射率特性をレンズ反射率測定器「USPM— RU」（商品名、ォリンパス株式会社製 )で測定し、下記の基準に従って反射防止性能を評価したところ、下記表 8のような結 果が得られた。
[0082] なお、波長 350〜； LOOOnmの分光反射率特性において極小反射率を示す最も短 レ、波長を λ (nm)、この波長 λ に対応する反射率を Rminl (%)とし、 2番目に短レ、 波長を λ (nm)、この波長 λ に対応する反射率を Rmin2 (%)とした場合に、各光
2 2
学部品についての極小反射率 Rminl, Rmin2は上記表 1〜表 7の最下欄に示す通 りである。また、各光学部品の分光反射率特性は、例えば実施例（3)では図 2の「グ ラフ 1」、比較例（1)では図 2の「グラフ 2」、実施例（12)では図 3の「グラフ 3」、比較例 (7)では図 3の「グラフ 4」、実施例（15)では図 4の「グラフ 5」、比較例（8)では図 4の 「グラフ 6」、実施例（16)では図 5の「グラフ 7」、比較例（9)では図 5の「グラフ 8」に示 す通りである。
(反射防止性能の評価レベル）
•実施例（ 1 )〜（； 11 )及び比較例（ 1 )〜（6)の場合
〇：極小反射率の波長 λ 1が 750±20nmにあり、その波長 λ 1の反射率 Rminlが 0 . 7%未満。光ピックアップ装置の対物レンズとして用いた場合に、情報の記録、再生 において全く実用上の問題なし。
△:波長 λΐが 750±20nmにあり、反射率 Rminlが 0. 7%以上で 1%未満。記録、 再生において実用上の問題なし。
X：上記〇，△の基準をともに満たさない。記録、再生において実用上の問題あり。 •実施例（12)〜（； 14)及び比較例（7)の場合
〇：極小反射率の波長 λ 1が 405±20nmにあり、その波長 λ 1の反射率 Rminlが 0 . 7%未満。記録、再生において全く実用上の問題なし。
△:波長 λΐ力 05±20nmにあり、反射率 Rminl力 SO. 7%以上で 1. 0%未満。記 録、再生において実用上の問題なし。
X：上記〇，△の基準をともに満たさない。記録、再生において実用上の問題あり。 •実施例（15)〜（； 16)及び比較例（8)〜（9)の場合
〇：極小反射率の波長 λ 1が 405±20nmにあり、その波長 λ 1の反射率 Rminlが 0 . 7%未満。更に、極小反射率の波長え 2が 700±50nmにあり、その波長え 2の反 射率 Rmin2が 0. 7%未満。記録、再生において全く実用上の問題なし。
△:波長 λΐ力 05±20nmにあり、反射率 Rminl力 SO. 7%以上で 1%未満。更に、 極小反射率の波長え 2が 700 ±50nmにあり、その波長え 2の反射率 Rmin2が 0. 7 %以上で 1%未満。記録、再生において実用上の問題なし。 X：上記〇， △の基準をともに満たさない。記録、再生において実用上の問題あり c
[0083] [表 8]
Figure imgf000018_0001
[0084] <帯電防止性能の評価〉
また、実施例（1)〜（； 16) ,比較例（1)〜（9)の光学部品として、下記の測定試料（1 ) , (2)を作成した後、その表面抵抗値を極超絶縁計（SM— 10E型、東亜電波工業 株式会社製）で実測または計算し、下記の基準に従って帯電防止性能を評価したと ころ、下記表 9や上記表 8のような結果が得られた。
(測定試料）
測定試料（1)：直径 φ 30mm,厚さ 3mmの円盤状プラスチックテストピース 測定試料 (2)：対象とする形状の光学部品
なお、これら測定試料（1) , (2)の反射防止膜や撥水コートは、真空蒸着法ゃスパ ッタ法、 CVD法などを用い、反射防止膜形成装置によって同一条件で形成した。
[0085] また、測定試料（1)は実施例（1)についてのみ作成し、測定試料（2)は実施例（1) 〜（； 16) ,比較例（1)〜（9)のそれぞれにつ!/、て作成した。 (測定 ·計算方法）
ステップ 1：表面抵抗値換算係数 Rso/Rの算出
まず、上記の測定試料（1)について、反射防止膜を有する光学面の表面抵抗値 R so (単位： M Ω /口）を前記極超絶縁計で測定した。
[0086] 一方、測定試料（2)について、図 6に示すように、まず、反射防止膜でコートされた 光学面に銀ペースト剤などの導電性塗料で電極 5a, 5bを形成し、当該電極 5a, 5b 間の抵抗値 R (単位： M Ω )を前記極超絶縁計 6で測定した。
[0087] そして、測定された表面抵抗値 Rso及び抵抗値 Rから Rso/Rを算出し、この値を 表面抵抗値換算係数とした。
[0088] なお、以上のステップ 1は実施例（1)についてのみ行った。これにより、測定試料（1 )力、ら表面抵抗値 Rsoを実測して Rso = 4 X 104M Q /口の結果を得た。また、測定 試料（2)から抵抗値 Rを実測して R= 2 X 103M Qの結果を得た。そして、表面抵抗 値換算係数 Rso/R= 20の結果を得た。
ステップ 2：表面抵抗ィ直 Rsの測定
実施例（1)〜（； 16) ,比較例（1)〜（9)の測定試料（2)について、上記ステップ 1で 使用したものと同形状 ·同配置の電極 5a, 5bを試料表面に形成した後（図 6参照）、 当該電極 5a, 5b間の抵抗値 R (単位： Μ Ω )を前記極超絶縁計 6で実測し、下記の 計算式により表面抵抗値 Rsを求めた。即ち、実施例（2)〜（； 16) ,比較例（1)〜（9) については、測定試料（2)のみを作成して抵抗値 Rを測定し、実施例（1)について 求めた表面抵抗値換算係数 Rso/R ( = 20)を掛けることで表面抵抗値 Rsを求めた
〇
[0089] Rs = RX (Rso/R)
なお、表面抵抗値 Rsや抵抗値 Rの値は測定環境の湿度の影響を受けやす!/、ため 、上記の測定は相対湿度 20%、温度 15〜25°Cの低湿条件下で行った。
(帯電防止性能の評価レベル）
〇：表面抵抗値 Rsが 105Μ Ω /口未満。動的状態でも帯電防止効果あり。
八：表面抵抗直1¾が105〜7^[ 0 /ロ。静的状態で帯電防止効果あり。
X：表面抵抗値 Rsが 107Μ Ω /口以上。表面に静電荷が蓄積し、帯電防止効果なし [0090] なお、上記の評価基準は、「帯電防止材料の最新技術と応用展開」（出版社：（株) ジーェムシ一出版）に基づいて設定した。
[0091] [表 9]
Figure imgf000020_0001
[0092] 但し、上記の表 9において、例えば「10E + n」（nは自然数）とは、「10n」を意味する
<防汚性能の評価 >
また、実施例（1)〜（； 16) ,比較例（1)〜（9)の光学部品としての上記測定試料ひ） , (2)の防汚による透過率変動量を測定し、下記の基準に従って防汚性能を評価し たところ、上記表 8のような結果が得られた。
(測定方法）
まず、従来より公知の透過率測定装置により、実施例（1)〜（； 11)及び比較例（1) 〜（6)では波長 650nmの光束透過率を、実施例（12)〜（； 16)及び比較例（7)〜（9 )では波長 405nmの光束透過率を、それぞれ測定試料（2)を用いて測定した。次に 、湿度を 20%以下に維持してタバコの煙を充満させたガラス容器の中に各実施例， 比較例の測定試料（2)を配置して 1週間放置した後、同様の条件で透過率を測定し た。
(防汚性能の評価レベル）
〇：放置後の透過率低下が 1 %未満。
Δ：放置後の透過率低下が 1 %以上〜 2 %未満。
X：放置後の透過率低下が 2%以上。
<膜強度の評価〉
また、実施例（1)〜（； 16) ,比較例（1)〜（9)の光学部品としての上記測定試料（1) , (2)の膜強度を測定し、下記の基準に従って評価したところ、上記表 8のような結果 が得られた。
(測定方法）
測定試料（2)の表面を、イソプロピルアルコールを染み込ませた綿棒で拭き、表面 の反射防止膜または撥水コートが剥がれるまでの拭き回数を測定した。なお、拭き荷 重は 5〜10gの間とした。また、測定は回折構造などの凸凹形状のない部分に対して 行った。
(膜強度の評価レベル）
〇： 50回未満で最表層の反射防止膜，撥水コートが剥がれなレ、。
△ : 10回未満で最表層の反射防止膜，撥水コートが剥がれず、 50回未満で剥がれ る。 X： 10回未満で最表層の反射防止膜，撥水コートが剥がれる。
<総合評価〉
以上の結果に基づき、下記の評価レベルに従って実施例（1)〜（； 16) ,比較例（1) 〜（9)の光学部品の総合評価を行ったところ、上記表 8のような結果が得られた。 (総合評価の評価レベル）
〇： 4項目全ての評価項目が〇。実用上極めて優れて!/、る。
△ : 4項目中、 1個のみが△で、他は全て〇。実用上問題なし。
X：上記〇，△の基準をともに満たさない。実用上問題あり。
[0093] これにより、導電材料層（第 (n— 1)層）の厚さが 3nm以上、 25nm以下で、かつ導 電材料層表面と光学部品の最外表面との距離が 4nm以上、 20nm以下の場合には 、総合評価は△レベル以上となり、実用上問題のないことが分かった。
[0094] 但し、特に導電材料層の厚さが 18nmより大きい場合には、実施例（7) , (11) ,比 較例（6)に示すように、膜強度が△レベルになることが分かった。この理由は、導電 材料層が金属酸化物や酸化シリコンの層と比較して膜強度、例えば硬度や緻密性、 耐擦性などが低いためと考えられる。また、樹脂製の基材に導電材料層を成膜する 時には、ガラス製の基材に成膜する場合と比較して基材温度を高く維持できずに導 電材料層の膜強度が低くなつてしまうため、導電材料層の厚さを大きくすると、その 表面側に酸化シリコンなどの層を設けても反射防止膜全体の膜強度が良好に成りに くいためと考えられる。
[0095] これに対し、導電材料層の厚さが 3nm以上、 18nm以下の場合には、上記のような 問題が改善され、総合評価は〇レベルとなることが分かった。
[0096] 一方、導電材料層の厚さが 25nmより大きい場合には、表面抵抗値は小さくなるも のの、反射防止性能を良好に維持することが困難になり、また、導電材料層の表面 側に酸化シリコンなどの層を設けても膜強度が向上しないことが分かった（比較例（6
)参照)。
[0097] また、導電材料層の厚さが 3nm未満の場合には、表面抵抗値が大きくなり、また、 蒸着条件による抵抗値の変動が大きくなる結果、帯電防止性能や防汚性能が低下 することが分かった（比較例（5)参照）。
[0098] また、導電材料層の表面側に酸化シリコン等を積層する場合に、この層の厚さが 4 nm未満であると、導電材料層の低い膜強度に起因して反射防止膜の膜強度を向上 させること力 Sできな!/、のに対し（比較例（2)参照）、 4nm以上であると膜強度を向上さ せることができることが分かった（実施例（1)〜（； 16)参照）。なお、実施例（7) , (11) で膜強度が△レベルに若干低下しているのは、上述のように導電材料層の層厚が 1 8nmより大きいためであると考えられる。また、酸化シリコン等の層厚が 20nm以上で あると、膜強度の向上は可能であるものの、反射防止層の表面抵抗値が大きくなり、 帯電防止性能、防汚性能が低下することが分かった (比較例（3) , (4)参照)。

Claims

請求の範囲
[1] 基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止膜とを備える光学部品であって、 前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる導電材料層を有し、 この導電材料層の表面と、当該光学部品の表面との距離は 4〜20nmであることを 特徴とする光学部品。
[2] 請求の範囲第 1項記載の光学部品において、
当該光学部品の表面抵抗値が、 105Μ Ω /口未満であることを特徴とする光学部
Ρ
Ρ ο
[3] 基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止膜とを備える光学部品であって、 前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる導電材料層を、当該光学部品の 表面よりも内側に有し、
当該光学部品の表面抵抗値が、 105Μ Ω /口未満であることを特徴とする光学部
Ρ
Ρ ο
[4] 請求の範囲第 1項〜第 3項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記導電材料層の厚さは、 3〜25nmであることを特徴とする光学部品。
[5] 請求の範囲第 4項記載の光学部品において、
前記導電材料層の厚さは、 3〜18nmであることを特徴とする光学部品。
[6] 請求の範囲第 1項〜第 5項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記導電性を有する材料は、波長 600nmの光に対して屈折率が 1. 55以上の高 屈折率材料であることを特徴とする光学部品。
[7] 請求の範囲第 6項記載の光学部品において、
前記高屈折率材料は、酸化インジユーム系または酸化亜鉛系の混合材料を含有 することを特徴とする光学部品。
[8] 請求の範囲第 1項〜第 7項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記反射防止膜は、
前記導電材料層よりも当該光学部品の表面側に、波長 600nmの光に対して屈折 率が 1. 55未満の低屈折率材料からなる低屈折率層を有することを特徴とする光学
[9] 請求の範囲第 8項記載の光学部品において、
前記低屈折率層の厚さは、 4〜20nmであることを特徴とする光学部品。
[10] 請求の範囲第 8項または第 9項記載の光学部品において、
前記低屈折率層は、当該光学部品の表面に位置することを特徴とする光学部品。
[11] 請求の範囲第 8項または第 9項記載の光学部品において、
前記低屈折率層よりも当該光学部品の表面側に撥水コートを有することを特徴とす る光学部品。
[12] 請求の範囲第 8項〜第 11項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記低屈折率材料は、酸化シリコンまたは、酸化シリコン及び酸化アルミニウムの 混合材料の何れか一方を含有することを特徴とする光学部品。
[13] 請求の範囲第 1項〜第 12項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記基材は、高分子樹脂から形成されていることを特徴とする光学部品。
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