WO2008010319A1 - Dispositif de nettoyage - Google Patents

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WO2008010319A1
WO2008010319A1 PCT/JP2007/000770 JP2007000770W WO2008010319A1 WO 2008010319 A1 WO2008010319 A1 WO 2008010319A1 JP 2007000770 W JP2007000770 W JP 2007000770W WO 2008010319 A1 WO2008010319 A1 WO 2008010319A1
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WO
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cleaning
liquid
tank
area
cleaning agent
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Application number
PCT/JP2007/000770
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English (en)
French (fr)
Inventor
Tokuhisa Tsutsui
Shiro Sato
Kazuo Kobayashi
Wataru Maruyama
Fumiatsu Sato
Original Assignee
Nidec Sankyo Corporation
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Filing date
Publication date
Application filed by Nidec Sankyo Corporation filed Critical Nidec Sankyo Corporation
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/04—Apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28D—HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D15/00—Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies
    • F28D15/02—Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern

Definitions

  • the present invention relates to a cleaning apparatus, and more particularly, to a cleaning apparatus capable of cleaning electronic parts, precision parts, metal parts, printed wiring boards, glass substrates and other various objects to be cleaned (workpieces). .
  • FIG. 12 is a schematic view showing a conventional cleaning apparatus proposed in Patent Document 1.
  • FIG. The cleaning apparatus shown in FIG. 12 has a work inlet / outlet 205 formed in the upper portion, a cleaning tank 2 06 storing the solvent 20 0 A formed in the lower portion, and a cooling means 2 0 7 in the middle portion.
  • the tank body 20 1 is provided with a treatment area 2 8 8 formed between the cooling means 2 0 7 and the solvent 2 0 OA liquid surface of the washing tank 2 0 6.
  • the steam generation tank 20 3 and the steam supply means 2 15 are configured to supply solvent vapor to the treatment area 2 08.
  • the pipe 2 1 2 is arranged so as to incline so that the solvent 20 O A overflowed from the cleaning tank 2 06 flows.
  • the cleaning tank 2 06 is supplied with the solvent 2 0 0 A liquefied in the cooling tank 2 0 2 via the pipe 2 1 3.
  • the workpiece 2 10 which has been cleaned upward in the solvent 20 OA and then pulled upward is cleaned with the cleaning agent vapor in the processing area 20 8 and then further upward. It is cooled and dried with the provided drying area. In this drying area, the vapor of the cleaning agent is cooled and condensed by the cooling means 20 07 to lower the vapor pressure of the cleaning agent vapor and vaporize the cleaning agent droplets condensed on the surface of the work 2 10. The drying is performed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2 0 0 5-7 4 3 1 9 Disclosure of the invention
  • the present invention has been made in order to solve the above-described problems, and its purpose is to eliminate light dust particles floating on the surface of the liquid, and to lift the workpiece after solvent cleaning in the cleaning tank. It is intended to provide a cleaning device that can prevent reattachment of dust and the like.
  • a cleaning apparatus of the present invention for solving the above problems has an inflow portion, stores the cleaning agent flowing in from the inflow portion, and cleans the cake with the stored cleaning agent liquid. And a liquid outflow area having an outflow part through which the cleaning agent flows in and the outflow of the inflowing cleaning agent, and in the liquid cleaning area And a liquid flow guide that guides the liquid flow of the cleaning agent flowing in from the flow-in portion to the liquid level so that the liquid flow is parallel to the liquid level of the cleaning agent in the liquid cleaning area.
  • a liquid level flow means having the above is provided.
  • the liquid cleaning area in the cleaning tank includes the liquid cleaning area.
  • a liquid flow guide that guides the inflow portion into which the cleaning agent flows and the liquid flow of the cleaning agent flowing in from the inflow portion to the liquid surface so as to be parallel to the liquid surface of the cleaning agent in the liquid cleaning area. Since the liquid level flow means having a liquid level is provided, when the liquid flow of the cleaning agent guided to the liquid level flows into the liquid outflow area, light dust or particles such as particles floating on the liquid level. Can be removed by the flow of the cleaning agent. As a result, dust can be prevented from re-adhering to the workpiece when the workpiece after solvent cleaning in the cleaning tank is lifted.
  • the liquid outflow area may be configured to be an overflow tank into which a surface layer cleaning agent flows out of the cleaning agent stored in the liquid cleaning area.
  • the liquid outflow area is configured to be an overflow tank into which the surface cleaning agent out of the cleaning agent stored in the liquid cleaning area is configured. Dust such as particles can be removed by the flow of cleaning agent that overflows as excess liquid.
  • the inflow portion is an inflow port provided on a tank wall surface in the liquid cleaning area, and the liquid flow guide flows into the cleaning agent liquid from the inflow port. It can be configured to be a guide plate having an inclined portion that changes the flow direction to the liquid surface direction and an opening that guides the liquid flow of the cleaning agent changed to the liquid surface direction to the liquid surface.
  • the liquid level flow means is constituted by the inlet provided on the tank wall surface in the liquid cleaning area and the guide plate having the inclined portion and the opening.
  • the liquid flow of the cleaning agent can be effectively guided to the liquid surface, and as a result, the dust floating on the liquid surface can be effectively removed by the liquid flow of the cleaning agent.
  • the inflow portion is an inflow port provided on a tank wall surface in the liquid cleaning area, and the liquid flow guide flows into the cleaning agent liquid flowing in from the inflow port.
  • It can be configured to be a liquid flow forming plate having a curved surface that gently guides the flow in the liquid surface direction and a horizontal plane that is substantially parallel to the liquid surface in the vicinity of the liquid surface.
  • the liquid flow guide is used in advance of the liquid flow of the cleaning agent flowing in from the inlet. Since it is configured to be a liquid flow forming plate that has a curved surface that gently leads in the liquid surface direction and a horizontal surface that is substantially parallel to the liquid surface in the vicinity of the liquid surface, the liquid flow that has flowed in from the inlet flows on the curved surface. The flow becomes gentle and the liquid level parallel to the liquid level can be uniformly formed by the horizontal plane. As a result, the dust floating on the liquid surface can be effectively removed by the flow of the cleaning agent flowing on the surface layer.
  • the cleaning device of the present invention can be configured to further include a restraining plate that opposes the liquid flow forming plate and suppresses the jump of the liquid flow of the cleaning agent in the vicinity of the liquid surface.
  • the restraining plate in the vicinity of the liquid level is provided so as to face the liquid flow forming plate, the effect of the splash of the cleaning agent gently guided to the liquid surface by the liquid flow forming plate is effective. Can be suppressed.
  • the inflow portion is configured by a shower member having one or a plurality of inlets provided in the vicinity of the liquid surface in the liquid cleaning area, and the liquid flow guide Can be configured to be an adjusting member that adjusts the liquid flow of the cleaning agent flowing in from the inflow port so as to be a liquid flow parallel to the liquid surface.
  • the liquid flow of the cleaning agent can be effectively guided to the liquid surface by the liquid surface flow means having the shower member and the adjusting member.
  • dust floating on the liquid surface can be effectively removed by the liquid flow of the cleaning agent flowing into the liquid outflow area.
  • the liquid outflow area can be configured so as to be partitioned from the liquid cleaning area by a partition plate that is detachable and capable of changing the mounting position. .
  • the liquid outflow area constituting the cleaning tank is formed so as to be separated from the liquid cleaning area by the partition plate that can be attached and detached and whose mounting position can be changed.
  • the size of the liquid washing area can be changed freely by moving the partition plate according to the size of the workpiece and the amount of liquid circulation.
  • the partition plate has a slit or a through hole at an intermediate depth position of the cleaning agent stored in the cleaning tank, and the liquid outflow area includes the It can comprise so that it may have the said outflow part in a position deeper than a through-hole.
  • the partition plate is configured to have the slit or the through hole at the intermediate depth position of the cleaning agent stored in the cleaning tank, the cleaning agent passes through the slit or the through hole. It will be led to the liquid outflow area. As a result, for example, when there are particles floating in the intermediate depth region, the particles can flow out from the slits or through holes to the liquid outflow area.
  • the liquid outflow area is configured to have the outflow portion at a position deeper than the through hole, the cleaning agent that has flowed into the liquid outflow area is allowed to flow naturally from the outflow portion. Can be discharged.
  • the cleaning tank is connected to one or more circulation paths for circulating the cleaning agent, and the first circulation path is configured to remove the cleaning agent from the bottom surface of the liquid discharge area.
  • a piping path that discharges from the outflow portion provided on the side surface and leads to the inflow portion, and a pump for circulating the cleaning agent and dust in the cleaning agent are removed in the piping path.
  • a filter can be provided.
  • the cleaning agent has the first circulation path that is discharged from the outflow portion provided on the bottom surface or the side surface of the liquid outflow area and leads to the inflow portion, the circulation pump, and the dust removal filter.
  • the circulating flow rate can be kept constant, and floating dust can be removed from the liquid washing area in a stable state.
  • the cleaning tank is provided in an upper part of the liquid cleaning area and cleans the workpiece with steam of the cleaning agent, the steam cleaning area, and the upper part of the cleaning tank
  • a steam cooling area that is provided between the workpiece inlet and outlet and that cools the steam of the cleaning agent to liquefy the cleaning agent, and a recovery unit that recovers the cleaning agent liquefied in the steam cooling area
  • the cleaning device is disposed separately from the cleaning tank and generates a vapor of the cleaning agent, and is disposed separately from the cleaning tank, and the recovery means.
  • a water separation tank for separating water from the cleaning agent recovered in the step, and a steam generated in the steam generation tank by connecting the cleaning tank and the steam generation tank
  • the first piping for supplying to the steam cleaning area, the second piping for sending the cleaning agent recovered by the recovery means from the steam cooling carrier to the water separation tank, and the moisture removed by the moisture separation tank
  • a third pipe for sending the cleaning agent from the water separation tank to the cleaning tank, and connecting between the cleaning tank and the steam generation tank to send an excess liquid of the cleaning agent in the cleaning tank to the steam generation tank
  • a fourth pipe for the purpose.
  • the cleaning tank further includes a steam cleaning area, a steam cooling area, and a recovery means
  • the cleaning device includes the steam generation tank, the water separation tank, and the first to fourth pipes. Since the second circulation path is further provided, the cleaning liquid in the liquid cleaning area can be kept clean. In addition, since dirt such as dust and oil is concentrated in the steam generation tank, if the solvent concentrated in the steam generation tank is replaced with a new solvent, dust and oil can be easily removed from the cleaning device. it can.
  • the size of the steam generation tank can be set to a capacity of, for example, a 200 Om L beaker, so that replacement with a new solvent is easy.
  • the fourth pipe can be configured to have a water-sealed structure.
  • the fourth pipe connecting the cleaning tank and the steam generation tank is provided with a water-sealed structure, the vapor of the cleaning liquid generated in the steam generation tank is on the side of the cleaning tank. It is possible to block temperature interference between the washing tank and the steam generation tank without entering. As a result, it is possible to perform the cleaning process under stable conditions without causing fluctuations in the processing conditions of both tanks.
  • the cleaning device of the present invention can be configured such that a heating means is provided on the steam cleaning area near the boundary between the steam cleaning area and the steam cooling area.
  • the present invention it is possible to prevent the temperature of the steam of the cleaning agent in the steam cleaning area from decreasing. Moreover, since the vapor of the cleaning agent can be prevented from condensing and liquefying on the wall surface of the cleaning tank, the steam cleaning can be performed in a stable state.
  • the steam cleaning area, the steam cooling area, A cooling heat sink is arranged on the steam cooling area side in the vicinity of the boundary, and a heat pipe can be connected to the heat sink.
  • the steam at the boundary between the steam cleaning area and the steam cooling area can be efficiently cooled. Therefore, the liquefaction in the steam cooling area is promoted to efficiently collect or regenerate the cleaning agent. Can be done.
  • a heat insulating member may be provided on the wall surface of the cleaning tank near the boundary between the liquid cleaning area and the vapor cleaning area.
  • the present invention since the temperature interference between the high temperature of the steam cleaning area wall surface and the low temperature of the liquid cleaning area wall surface can be prevented, the efficiency in each area set to a predetermined temperature Cleaning can be realized.
  • a free pod ratio between the steam cooling area and the work entrance / exit is 1.5 or more, and a cover is provided at the work entrance / exit.
  • the liquid flow of the cleaning agent can be guided to the liquid level by the liquid level flow means so as to be a liquid flow parallel to the liquid level of the cleaning agent in the liquid cleaning area.
  • the dust such as the light dust particles that float on the liquid surface flows into the liquid outflow area. Can be removed.
  • the workpiece after the solvent cleaning in the cleaning tank is lifted, dust is not reattached to the workpiece, and a clean cleaning can be performed.
  • the liquid flow guide plate is used as the liquid flow guide, the liquid flow of the cleaning agent can be effectively guided to the liquid surface. As a result, the dust floating on the liquid surface can be effectively removed by the liquid flow of the cleaning agent.
  • the cleaning apparatus of the present invention when the liquid outflow area is configured to be an overflow tank, dust such as light dust particles floating on the liquid surface is removed from the excess liquid. In the case where a slit through hole is provided at an intermediate depth position of the partition plate between the liquid cleaning area and the liquid outflow area, the intermediate depth area can be removed. Floating particles can be removed to the liquid outflow area by the liquid flow of the cleaning agent.
  • the cleaning tank further includes a steam cleaning area, a steam cooling area, and a recovery means
  • the cleaning apparatus includes a steam generation tank, a water separation tank, and first to second. Since the second circulation path composed of four pipes is further provided, the cleaning liquid in the liquid cleaning area can be kept clean.
  • dirt such as dust and oil is concentrated in the steam generation tank, if the solvent concentrated in the steam generation tank is replaced with a new solvent, dust and oil can be easily removed from the cleaning device. it can
  • FIG. 1 is a schematic front view showing an example of a cleaning apparatus of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic plan view of the cleaning apparatus shown in FIG.
  • FIG. 3 A plan view (A) and an A_A cross-sectional view (B) showing an example of a configuration in which a liquid level flow means is provided in the main tank which is a liquid cleaning area.
  • FIG. 4 is a perspective view showing an example of a liquid flow guide.
  • FIG. 5 is a plan view (A) and a B_B cross-sectional view (B) showing another example of a configuration in which liquid level flow means is provided in the main tank, which is a liquid cleaning area.
  • FIG. 6 is a schematic plan view (A) and a front perspective view (B) showing still another example of a mode in which liquid level flow means is provided in the main tank, which is a liquid cleaning area.
  • FIG. 7 is a perspective view showing an example of a partition plate.
  • FIG. 8 is a perspective view showing another example of a partition plate.
  • FIG. 9 is an explanatory view showing an aspect of a liquid flow when the partition plate shown in FIG. 8 is applied.
  • FIG. 10 is an explanatory view showing another aspect of liquid flow when the partition plate shown in FIG. 8 is applied.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of the circulation path of the cleaning apparatus of the present invention, where the solid line is a constant circulation path, and the broken line is a circulation line when supplying a cleaning agent.
  • FIG. 12 is a schematic view showing a conventional cleaning apparatus proposed in Patent Document 1.
  • Liquid flow guide plate Liquid flow guide
  • FIG. 1 is a schematic front view showing an example of the cleaning apparatus of the present invention
  • FIG. 2 is a schematic plan view of the cleaning apparatus shown in FIG.
  • the cleaning apparatus 10 of the present invention stores cleaning agent 46 that circulates through one or more circulation paths and cleans the workpiece 44 using the cleaning agent 46. It is a device that has a washing tank 1 2 to be used.
  • the cleaning tank 12 is a treatment tank for cleaning the work 44, and as shown in FIG. 1, a liquid cleaning area for cleaning the work 44 with the liquid of the stored cleaning agent 46. 1 6 and liquid cleaning area 1 6 Overflow tank in which surplus liquid of 6 flows in 6 3 and liquid tank 1 2 after being discharged from either side of cleaning tank 1 2 And at least a first circulation path 7 1. Further, this cleaning tank 1 2 will be explained for each processing area. As shown in FIG. 1, a liquid cleaning area for cleaning the work 44 with the liquid of the stored cleaning agent 46. 1 6 and liquid cleaning area 1 6 Overflow tank in which surplus liquid of 6 flows in 6 3 and liquid tank 1 2 after being discharged from either side of cleaning tank 1 2 And at least a first circulation path 7 1. Further, this cleaning tank 1 2 will be explained for each processing area. As shown in FIG.
  • FIG. 3, FIG. 5 and FIG. 6 are a plan view and a cross-sectional view showing an example of a configuration in which liquid level flow means is provided in the main tank 3 7 which is the liquid cleaning area 16 of the cleaning tank 12.
  • the feature of the present invention is that a liquid level flow means is provided in the liquid cleaning area 12, and the liquid level flow means has the first circulation path 71.
  • an inflow member 7 2 for allowing the cleaning agent 4 6 to flow into the liquid cleaning area 12 (via the inflow port 7 2 A and the inflow port 7 2 B).
  • the cleaning agent 4 6 has a liquid flow 7 4 and a liquid flow guide for guiding the liquid level 7 3 of the cleaning agent 4 6 in the cleaning area 12 and a parallel liquid flow.
  • the cleaning device of the present invention uses the liquid surface flow means having such a configuration to remove the liquid flow 7 4 of the cleaning agent 4 6 flowing in from the inflow member 72, and the liquid level 7 3 of the cleaning agent 4 6 in the cleaning area 12
  • the cleaning agent 4 6 overflows, light dust particles floating on the liquid surface 73 can be removed by the overflowing cleaning agent flow. .
  • dust can be prevented from re-adhering to the work 4 4 when the work 4 4 after solvent cleaning in the cleaning tank 12 is lifted.
  • FIG. 3 shows the cleaning tank
  • FIG. 14 is a plan view (A) and a cross-sectional view (A) taken along the line A—A showing an example in which a liquid level flow means is provided in the main tank 37 which is the liquid cleaning area 16 of FIG.
  • a tank having a substantially rectangular shape in a plan view can be exemplified, but it is not necessarily limited to such a form.
  • One of the short sides of the main tank 37 (the left side in FIG. 3) is provided with a liquid surface flow means, and the other short side (the right side in FIG. 3) is provided with an overflow tank 38. ing.
  • the cleaning agent 46 is introduced into the liquid flow 74 parallel to the liquid level 73 by the liquid level flow means, and overflows into the overflow tank 38.
  • this overflow tank 38 is preferably provided on only one side of the four sides constituting the main tank 37.
  • the main tank 37 and the overflow tank 38 are preferably provided with a liquid level gauge.
  • An inlet 7 2 A is provided as a member.
  • the inlet 7 2 A is connected to a first circulation path 71 that discharges the cleaning agent 46 from the bottom or side surface of the overflow tank 38 and leads it to the inlet 7 2 A.
  • the liquid flow of the cleaning agent 46 flowing from the inlet 7 2 A into the main tank 37 is guided in the liquid surface direction by the guide plate 81. Therefore, the inlet 7 2 A is connected to the guide plate 8 1 so that It is provided at a predetermined position where the liquid flow of 46 is guided in the liquid surface direction.
  • the number of inflow ports 7 2 A is one, but it may be two or more.
  • the guide plate 8 1 represents one form of the liquid flow guide, and as illustrated in FIGS. 3 and 4, the liquid flow of the cleaning agent 46 flowing from the inlet 7 2 A is illustrated. It has an inclined portion 83 that changes the direction to the liquid surface direction, and an opening 82 that guides the liquid flow 74 of the cleaning agent 46 that has been changed to the liquid surface direction to the liquid surface 73.
  • the inclined part 8 3 works so as to change the liquid flow direction of the cleaning agent 46 flowing from the inlet 7 2 A into the main tank 37 to the liquid surface direction, and is inclined as shown in the figure. It is provided as follows.
  • the degree of the inclination and the area thereof are not particularly limited, but the flow rate of the cleaning agent 46 flowing from the inlet 7 2 A and the flow velocity of the cleaning agent 46 are taken into account, and the liquid flow of the cleaning agent 46 is parallel to the liquid level 73. It is preferable that the liquid flow is composed of an angle and an area that can be smoothly changed to 74. In addition, if the inclination angle is given strongly, when the cleaning agent 46 flows from the normal direction of the tank wall surface, a range of 30 ° to 60 ° with respect to the normal can be exemplified.
  • the opening 8 2 acts so as to guide the liquid flow 74 of the cleaning agent 46 changed in the liquid level direction to the liquid level 73.
  • FIG. 3 and FIG. A mode in which a rectangular shape is cut out at a predetermined size from the middle of the inclined portion 83 can be exemplified.
  • the size and shape of the opening 8 2 are not particularly limited, but the cleaning agent 4 6 is changed to the liquid level 7 3 in consideration of the angle, flow rate, flow velocity, etc. of the cleaning agent 4 6 changed by the inclined part 83. It is preferable to have a size and shape that can change smoothly into parallel liquid streams 74.
  • the opening portion 8 2 is preferably formed in a rectangular shape that straddles the inclined portion 83 and the vertical portion 8 12 constituting the guide plate 8 1.
  • a mounting hole 8 1 3 is provided at the upper end of the vertical portion 8 1 2 constituting the guide plate 81.
  • the guide plate 8 1 can be stably and easily attached to and detached from the cleaning tank 12 as shown in FIG.
  • the lower end of the inclined portion 83 of the guide plate 8 1 is disposed so as to be in contact with the tank wall surface of the main tank 37, and both end surfaces in the width direction of the guide plate 81 are the length of the main tank. It arrange
  • FIG. 5 shows the cleaning tank
  • FIG. 12 is a plan view (A) and a cross-sectional view BB (B) showing another example of a configuration in which liquid level flow means is provided in the main tank 37 which is the liquid cleaning area 16 of FIG.
  • the main tank 37 for example, as shown in FIG. 5, a tank having a substantially rectangular shape in plan view can be illustrated, and one of the short sides of the main tank 37 (left side in FIG. 5) Is provided with a liquid surface flow means, and an overflow tank 38 is provided on the other short side (right side in FIG. 5).
  • the cleaning agent 4 6 has a liquid flow parallel to the liquid level 7 3 by the liquid level flow means.
  • One or a plurality of inflow ports are provided as inflow members in the vicinity of the tank wall on one of the short sides of the main tank 37 (left side in FIG. 5) and in the vicinity of the liquid surface in the liquid cleaning area 12.
  • a shower member 8 6 having 7 2 B is provided.
  • the shower member 86 as the inflow member is connected to the adjusting member 87 as the liquid flow guide. Adjustment member
  • 8 7 is a member that adjusts the cleaning agent 46 flowing in from the inlet 7 2 B provided in the shower member 86 so that it becomes a liquid flow 74 parallel to the liquid level 73.
  • the liquid level flow means shown in FIG. 5 will be described in more detail.
  • the shower member 86 is provided with a plurality of inlets 72B, and the cleaning agent 46 has its inlets 72B.
  • the adjustment of the liquid flow direction of the cleaning agent 4 6 flowing in from the inlet 7 2 B is performed by an adjustment member 8 7, and this adjustment member 8 7 includes an arm member 8 7 B connected to the shower member 8 6, and The arm member 8 7 B includes a joint portion 8 7 A that changes the arm member 8 7 B to a predetermined angle.
  • Such an adjusting member 87 can change the angle of the shower member 86 to a predetermined angle.
  • near the tank wall surface means near the tank wall surface and includes a case where it is in contact with the tank wall surface, and “near the liquid surface in the liquid cleaning area” It means a position that is immersed in the cleaning agent and is relatively close to the liquid level.
  • the shower member 8 6 whose angle is adjusted by the adjusting member 8 7 is as shown in FIG.
  • the holding member 8 9 connected to the adjusting member 8 7 is stably and easily attached to and detached from the cleaning tank 12.
  • the shower member 86 is connected to the first circulation path 71 that discharges the cleaning agent 46 from the bottom or side surface of the overflow tank 38 and guides it to the shower member 86.
  • the liquid flow of the cleaning agent 46 flowing into the main tank 37 from the inlet 72B of the shower member 86 is adjusted in the direction parallel to the liquid surface by the adjusting member 87. As a result, the liquid flow of the cleaning agent can be made parallel to the liquid surface.
  • FIG. 6 is a schematic plan view (A) and a front perspective view showing another example of a mode in which the liquid level flow means is provided in the main tank 37 which is the liquid cleaning area 16 of the cleaning tank 12 illustrated in FIG. Figure (B).
  • the liquid surface flow means according to this embodiment is characterized in that the liquid flow forming plate 18 1 is provided as a liquid flow guide.
  • the main tank 37 for example, as shown in FIG. 6, a tank having a substantially rectangular shape in plan view can be illustrated, and one of the short sides of the main tank 37 (in FIG. 6) On the left side, liquid level flow means is provided, and on the other short side (right side in FIG.
  • an overflow tank 38 is provided.
  • the cleaning agent 46 is introduced into the liquid flow 74 parallel to the liquid level 73 by the liquid level flow means, and overflows into the overflow tank 38.
  • the configuration of the tank wall surface, tank bottom surface and circulation path on both sides of the short side of the main tank 37 (left side and right side in Fig. 6) is the same as in Fig. 3, so the description is omitted in Fig. 6, but In the explanation, the same reference numerals as those in FIG. 3 are used.
  • the liquid flow forming plate 1 8 1 represents one form of the liquid flow guide, and as illustrated in FIG. 6, the liquid flow of the cleaning agent 46 flowing in from the inlet 7 2 A is illustrated. It has a curved surface 1 8 2 that gently guides the liquid in the liquid surface direction, and a horizontal surface 1 8 3 that is provided near the liquid surface and is substantially parallel to the liquid surface 7 3.
  • the shape of the curved surface 1 8 2 is not particularly limited, but the cross-sectional shape can be a curved surface shape similar to a quadratic curve as shown in FIG.
  • the length of the horizontal plane 1 8 3 is not particularly limited, but it is preferable to set the length so that the liquid flow can be gently guided in the liquid surface direction.
  • the liquid flow forming plate 1 81 is provided in the main tank 37 so that it can be easily attached and detached. Specifically, it is preferable to install a detachable guide rail or the like on both sides of the long side of the main tank 37, but other means may be used. In any case, it is desirable to mount the liquid flow forming plate 1 8 1 so that the mounting position can be easily adjusted.
  • the liquid flow flowing in from the inlet 7 2 A flows on the curved surface 1 8 2 and becomes a gentle flow, and is further parallel to the liquid level 7 3 by the horizontal plane 1 8 3.
  • a uniform liquid flow 74 can be formed uniformly. As a result, the dust floating on the liquid surface 73 can be effectively removed by the liquid flow 74 of the cleaning agent 46 flowing on the surface layer.
  • a restraining plate 1 85 that opposes the liquid flow forming plate 1 8 1 and suppresses the splash of the liquid flow of the cleaning agent 4 6 is preferably provided.
  • the holding plate 1 85 is not an essential component like the liquid flow forming plate 1 8 1, but specifically, the liquid flow forming plate 1 8 1 is opposed to the liquid flow forming plate 1 8 1.
  • 1 8 1 Horizontal plane 1 8 3 is preferably provided so as to be opposed to the surface, so that the liquid flow forming plate 1 8 1 effectively suppresses the splash of the cleaning agent 4 6 gently guided to the liquid level 7 3 be able to.
  • the holding plate 1 85 is a member facing the liquid flow forming plate 1 8 1, specifically, the horizontal surface 1 8 3 of the liquid flow forming plate 1 8 1. And a vertical portion 1 8 7 that rises continuously from the flat portion 1 8 6.
  • the arrangement position is not particularly limited. Since the cleaning plate gently guided to the liquid level 7 3 by the forming plate 1 8 1 prevents the splashing of the cleaning agent 4 6, the horizontal surface of the liquid flow forming plate 1 8 1 1 8 3, that is, the liquid flow formation Plate 1 8 1 curved surface 1 8 2 and horizontal plane 1 8 3 It is preferably provided at a position facing the vicinity of the boundary. Then, it is preferable that at least the plane portion 1 86 is provided at a position opposite to the vicinity of the boundary, and that it has a certain length as shown in FIG.
  • the holding plate 1 8 5 is also provided in the main tank 3 7 so that it can be easily attached and detached.
  • the mounting elongated hole 1 8 provided in the vertical portion 1 8 7 By attaching the holding member 1 8 4 to 8, it can be easily attached and detached.
  • the elongated mounting holes 1 8 8 are convenient for adjusting the distance between the holding plate 1 85 and the liquid flow forming plate 1 8 1. This interval is arbitrary depending on the flow rate, flow velocity, etc. so that the liquid flow passing between the control plate 1 85 and the liquid flow forming plate 1 8 1 can pass through the main tank 37 in a relatively stable state. Adjusted to
  • An overflow tank 38 is provided on the other short side of the main tank 37 (on the right side in FIG. 3).
  • the specific structure of the overflow tank 3 8 is not particularly limited.
  • the overflow tank 3 8 formed by placing the partition plate 91 in the main tank 37 has the capacity of the main tank 37 and the overflow tank by setting the position of the partition plate 91 to an arbitrary position.
  • the capacity of 3 8 can be changed arbitrarily.
  • a mounting hole 95 is provided at the upper end of the partition plate 91 (see FIG. 7). By attaching the holding member 94 to the mounting hole 95, the partition plate 91 can be stably and easily attached to and detached from the washing tank 12 as shown in FIGS. 3, 5, and 6. . On the other hand, the lower end of the partition plate 91 is disposed so as to hit the bottom surface of the main tank 37.
  • both ends in the width direction of the partition plate 91 are bent to form flange portions 96, and the gap between the flange portions 96 and the tank wall surface is, for example, as shown in Figs.
  • the panel member 9 7 may be provided on the back side as shown in FIG. 6, for example, and the panel member 9 7 may be urged by the urging force of the panel member 9 7 to seal the wall surface. You may make it seal between.
  • Spring Sealing with the member 97 is advantageous in that it eliminates the need for a sealing member, and can be preferably applied particularly when the compatibility between the material of the sealing member and the cleaning agent 46 is poor.
  • Examples of the material of the seal member include rubbers such as EPDM (ethylene propylene rubber), and fluorine-based members such as Viton, Teflon (registered trademark) coated O-ring, and Teflon (registered trademark).
  • the cleaning agent 46 in the main tank 37 can be transferred from the overflow port 92 provided only in the partition plate 91 to the inside of the overflow tank. Can overflow.
  • a plurality of continuous cutouts 9 2 A in the lower end face of the overflow port 9 2 are triangular portions where the cleaning agent 4 6 overflows, and from the notch 9 2 A to the cleaning agent 4 6 Overflows with floating dust.
  • the cleaning agent 4 6 overflowed from the main tank 37 passes through the first circulation path 71 as a piping path, and the bottom or side surface in the overflow tank 38 (side face in Fig. 3 etc.) And is guided to the inflow member (7 2 A, 7 2 B).
  • the first circulation path 71 includes a pump for circulating the cleaning agent 46 and a filter that captures and removes the dust contained in the cleaning agent 46. If necessary, a cooling unit is provided. 40 can also be provided. An example of the cooling unit 40 is a heat exchanger.
  • the cleaning agent used in the cleaning apparatus 10 of the present invention may include various types, such as HFC (Hydro ⁇ Fluoro ⁇ Carbon) and HFE (Hydro ⁇ Fluoro ⁇ Ether) ) And other brominated solvents, etc. are used.
  • the surface tension of the solvent differs depending on the type of such a cleaning agent, even if it is circulated in the first circulation path 71 at the same flow rate, it is removed by the overflowing cleaning agent liquid flow.
  • the dust removal efficiency may vary. In other words, when detergent 4 6 with a low surface tension is used, the rise of the liquid level 7 3 will be low, so that dust will be caught by the overflow port 9 2 In some cases, it is preferable to increase the circulation flow rate. On the other hand, when detergent 4 6 with a large surface tension is used, the rise of the liquid level 7 3 becomes large, so that it is difficult for the dust to catch on the overflow port 9 2 and flows out to the overflow tank 3 8 side. It becomes easy.
  • the cleaning apparatus according to the second embodiment is provided with a partition plate 1 91 having a slit or a through hole 98 between the liquid cleaning area and the liquid outflow area. It effectively removes particles floating mainly at intermediate depth positions.
  • the configuration of the partition plate 1 91 is only different from the configuration of the partition plate 9 1, and the other configurations shown in FIGS. 3, 5, and 6 are applied. Therefore, in the following, the same components are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.
  • FIG. 8 is a perspective view showing another example of the partition plate.
  • the liquid outflow area 1 3 8 is configured by providing the partition plate 19 1 in the main tank 37.
  • the liquid outflow area 1 3 8 may be an overflow tank 3 8 as in the above embodiment, or may not be an overflow tank.
  • the “liquid outflow area” In this case, it is used to include an overflow tank.
  • the partition plate 1 9 1 shown in FIG. 8 has a slot in addition to the overflow port 9 2. It is characterized in that it is provided with a hole or through hole 98, and specifically, it is configured such that a plurality of through holes 98 forming a long hole in the lateral direction are provided.
  • the through holes 98 may be regularly arranged as shown in FIG. 8, or may be irregularly arranged.
  • the positions where the slits 9 8 are provided may be provided on the entire surface of the partition plate 1 91, or may be provided on a part thereof, but preferably as shown in FIG. In addition, it is preferably provided at a predetermined intermediate depth position below the overflow port 92.
  • the cleaning agent 46 can be discharged from the discharge port (outflow part) 75 by natural flow.
  • the partition plate 1 91 it is possible to use one having a slit or a through hole 9 8 without the overflow port 9 2.
  • the shape of the through hole 98 is not particularly limited, and may be a long hole as shown in the figure, may be circular, or the number thereof is not particularly limited. Further, the shape and number of the slits are not particularly limited. For example, a slit in which the long holes shown in FIG. 8 are connected in the horizontal direction can be exemplified. If the size of the slits 9 8 is reduced to a small size, the cleaning agent 46 can overflow from the overflow port 92, and if the size is increased, the cleaning agent 4 6 can flow out from the slit or through hole 9 8 without overflowing.
  • FIG. 9 is an explanatory view showing a liquid flow mode when the partition plate shown in FIG. 8 is applied.
  • the horizontal surface 1 83 of the liquid flow forming plate 1 8 1 is provided on the upper side.
  • the liquid flow is supplied into the main tank 37 by the action of the liquid flow forming plate 1 8 1 in parallel with the liquid surface, but the partition plate 1 9 1 used in this aspect was provided at an intermediate depth position. Since it has the through hole 98, the liquid flow mainly flows into the liquid outflow area 13 38 from the through hole 98 at the intermediate depth position. As a result, for example, intermediate depth When particles floating in the region exist, the particles can flow out from the through hole 9 8 to the liquid outflow area 1 3 8.
  • the cleaning agent 46 can be used in combination with the overflow to flow into the liquid outflow area 1 38, so that it floats at an intermediate depth position. And particles floating on the surface layer can be discharged at the same time.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram showing another aspect of the liquid flow when the partition plate shown in FIG. 8 is applied.
  • the example shown here is a mode in which the horizontal surface 1 83 of the liquid flow forming plate 1 8 1 is provided on the lower side.
  • the liquid flow is supplied into the main tank 3 7 in parallel with the bottom surface of the main tank 37 by the action of the liquid flow forming plate 1 8 1, but the partition plate 1 9 1 used in this mode is located at the intermediate depth position.
  • the liquid flow mainly flows through the bottom portion and then flows into the liquid outflow area 13 8 from the through hole 98 at the intermediate depth position.
  • the particles can flow out from the through hole 98 to the liquid outflow area 13 8.
  • the cleaning agent 46 can be used in combination with the overflow flow so that it flows into the liquid outflow area 1 38.
  • particles floating on the intermediate depth position can also discharge particles floating on the surface layer at the same time.
  • the holding plate 1 85 may be removed.
  • FIG. 11 is a schematic diagram showing the piping path of the cleaning apparatus of the present invention.
  • “front view” indicates a form when the cleaning device of the present invention is represented by a front view, as shown in FIG. 1, and “plan view” indicates, as shown in FIG. The form when the washing
  • the cleaning tank 12 constituting the cleaning apparatus 10 of the present invention includes a liquid cleaning area 16 for cleaning the workpiece 44 with a liquid of the cleaning agent 46, and a liquid cleaning area.
  • 1 Steam cleaning area 1 8 provided at the top of the 6 to clean the work 4 4 with the steam 4 8 of the cleaning agent, and steam inlet / outlet provided at the top of the steam cleaning area 1 8 and the cleaning tank 1 2 1
  • It consists of a steam cooling area 20 between the 4 and 4 that cools the steam 4 8 of the cleaning agent and liquefies the cleaning agent 4 6, but as a tank other than the cleaning tank 1 2,
  • a steam generation tank 5 2 that is disposed separately from the tank 1 2 and generates the vapor 4 8 of the cleaning agent 4 6, and a cleaning that is disposed separately from the cleaning tank 1 2 and that is recovered by the recovery means 2 4
  • a water separation tank 28 for separating water from the agent 46 is further provided.
  • the cleaning apparatus 10 of the present invention connects the cleaning tank 12 and the steam generation tank 52 with the steam 4 8 generated in the steam generation tank 52.
  • the cleaning agent from which water has been removed in step 4 6 is connected to the water separation tank 2 8 from the water separation tank 2 8 to the washing tank 1 2.
  • a second pipe 2 7 for sending the surplus liquid of the cleaning agent 4 6 to the steam generation tank 5 2 is provided.
  • a second circulation path is formed by the washing tank 12, the steam generation tank 52, the water separation tank 28, and the first to fourth pipes.
  • the liquid cleaning area 16 corresponds to the main tank 37 described above, and is an area provided in the lower part of the cleaning tank 12 to clean the work 44 with the liquid cleaning agent 46. .
  • This liquid cleaning area 16 has a capacity sufficient to immerse one or more workpieces 4 4 in the cleaning agent 4 6.
  • an ultrasonic transducer 60 may be provided at the bottom. This ultrasonic transducer 60 can be operated as necessary to improve the cleaning efficiency of the workpiece 44.
  • the cleaning apparatus 10 of the present invention has the liquid flow 74 of the cleaning agent 46 flowing in the vicinity of the liquid level in the vicinity of the liquid level because it flows toward the overflow tank 3 8 in parallel with the liquid level 73.
  • Other liquid flows are not fast. Therefore, if work 4 4 is immersed in main tank 37, Since the agent 46 flows mainly near the liquid surface and the liquid flow around the workpiece 44 is gentle, the workpiece can be effectively cleaned by ultrasonic waves. If the liquid flow around the work 4 4 is fast, ultrasonic cleaning of the work is not performed effectively.
  • the liquid cleaning area 16 may be provided with temperature control means for performing temperature control.
  • temperature control means for performing temperature control.
  • a thermo module 6 2 (Peltier element) for keeping the temperature constant is attached to an appropriate part.
  • a predetermined number may be provided.
  • Such a thermal module 62 is an element that uses the Peltier effect and has the advantage that it has no moving parts and does not generate noise.
  • Various types of thermo modules 62 can be used. For example, Peltier elements and cooling fans can be used alone or in combination. In particular, it is desirable to place a thermo module 6 4 near the upper work entrance 14 and cool it.
  • the steam cleaning area 18 is an area provided in an intermediate portion of the cleaning tank 12 and cleaning the work 44 with the steam 48 of the cleaning agent.
  • the steam cleaning area 18 has a capacity sufficient to expose one or a plurality of workpieces 44 to the cleaning agent steam 48 atmosphere, similar to the liquid cleaning area 16 described above.
  • the cleaning agent steam 48 is supplied in contact with the work 44 in a saturated state.
  • the steam 48 is steam that has been raised in the first pipe 54 by the steam generated in the steam generation tank 52.
  • the vapor 48 supplied in this manner contacts the surface of the work 44 and condenses, whereby the work 44 is cleaned.
  • the work 4 4 pulled up from the liquid cleaning area 16 does not reattach dust or the like floating on the liquid surface. Cleaning can be performed.
  • heating means such as a heater 30 on the wall surface 3 1 of the steam cleaning area 1 8 (inner wall surface or outer wall surface of the intermediate portion of the cleaning tank 1 2). And. By providing such heating means, it is possible to suppress the vapor 48 of the cleaning agent from condensing and liquefying on the wall surface 31.
  • This heating means is steam cleaning It is preferably provided on the steam cleaning area 18 side near the boundary between the area 18 and the steam cooling area 20.
  • heating means By providing a heating means at this position, it is possible to prevent the cool air in the steam cooling area 20 from passing through the wall and lowering the temperature of the wall surface of the steam cleaning area 18, and as a result, It is possible to prevent condensation on the wall surface 31 and liquefy, and to prevent a drop in the temperature of the cleaning agent steam in the steam cleaning area, and thus steam cleaning can be performed in a stable state.
  • Various heating means can be exemplified, and for example, a planar heater and a pipe heater can be exemplified. These heating means can be provided along the inner wall surface or the outer wall surface in consideration of resistance to the cleaning agent and the like.
  • these heating means may be provided in the same area on the side of the steam cleaning area 18 near the boundary between the steam cleaning area 18 and the steam cooling area 20 instead of the wall surface 31 of the cleaning tank 12. . In this case, it is necessary to consider that the heating means should be placed at a position that avoids the loose contact with the workpiece 44. However, if the temperature of the steam 48 in the cleaning agent in the steam cleaning area 18 can be well prevented, At the same time, condensation on the wall surface 31 can also be prevented, and as a result, steam cleaning can be performed in a stable state.
  • a heat insulating member 36 on the wall surface in the vicinity of the boundary between the liquid cleaning area 16 and the vapor cleaning area 18.
  • a heat insulating member 3 6 on the wall surface near the boundary, it is possible to prevent temperature interference between the high temperature of the steam cleaning area wall surface and the low temperature of the liquid cleaning area wall surface. Cleaning can be realized.
  • a heat insulating member 35 on the wall surface near the boundary between the steam cleaning area 18 and the steam cooling area 20.
  • heat insulating members 3 5 and 3 6 for example, when a resin member (for example, polyacetal) having low thermal conductivity and resistant to a cleaning agent is used as a heat insulating member, a metal wall surface It can be provided so as to block the continuity.
  • a resin member for example, polyacetal
  • a metal wall surface It can be provided so as to block the continuity.
  • the steam cooling area 20 is an area provided in the upper part of the cleaning tank 12 to cool and liquefy the vapor of the cleaning agent. This steam cooling area 20 cannot be liquefied.
  • the height and the size should be such that no steam escapes from the work inlet / outlet 14 into the environment, and the height and size are designed based on the total capacity of the washing tank 12. Specifically, in the present embodiment, the free pod ratio of the height H of the steam cooling area 20 to the short side L of the opening is ensured to be 1.5 or more.
  • the steam In the steam cooling area 20, the steam is cooled and liquefied on the cooled inner wall surface. Such liquefaction lowers the vapor pressure in the vapor cooling area 20 and vaporizes the condensed droplets on the surface of the workpiece 44. As a result, the workpiece 44 is dried. Steam cleaning area 1 If heating means 30 and heat insulating member 3 6 are provided so as to prevent a temperature drop in the steam cleaning area 8, the temperature of the work 4 4 is maintained high, and even if the heat of vaporization is lost during drying, the work 4 4 There is an advantage that the temperature of the water does not drop too much and no spots due to recondensation occur. If the heat sink 32 is provided so as to lower the temperature of the steam cooling area 20, the vapor pressure can be lowered and the droplets condensed on the surface of the work 44 can be quickly vaporized.
  • thermo module 64 is provided to cool the temperature in the area to a temperature at which steam 48 is liquefied.
  • a plurality of thermo modules 64 are provided. It is preferable.
  • a heat sink 32 is preferably provided on the 20 side. This heat sink
  • the heat sink 3 2 is a processed part made of a metal material such as aluminum or copper having good thermal conductivity.
  • the heat sink 3 2 is connected to the steam cleaning area 1 8 and the steam cooling area 2. Since it is provided near the boundary with 0 so as not to obstruct the work to be taken in and out 4 4, more efficient steam cleaning is performed in the steam cleaning area 18, and more efficient drying is performed in the steam cooling area 20. Steam can be liquefied. In particular, it is preferably used because it can efficiently perform liquefaction.
  • the heat sink 3 2 is connected to the heat pipe 3 4 as shown in FIG. The shape of the heat sink 3 2 only needs to be such that it does not hinder the loading and unloading of the workpiece.
  • the shape is not particularly limited, but in the present embodiment, as shown in FIG.
  • An annular heat sink 3 2 is arranged along the inner wall of the cleaning tank 12 on the side. Further, although not shown, two heat sinks 32 may be arranged in parallel along the inner walls facing each other of the cleaning tank 12.
  • heat pipe 34 various commercially available ones can be used.
  • a conventionally known general heat pipe may be used, or "Heat Lane (registered trademark)"
  • a meandering thin tube type heat pipe called “Thi-S Heattronics Co., Ltd.” may be used.
  • These heat pipes 34 are preferably connected to a thermo module 64 provided in the steam cooling area 20, and heat exchange is performed by the thermo module 64 to cool the heat sink 32. can do.
  • the cleaning agent liquefied in the steam cooling area 20 can be recovered by the recovery means 24.
  • the steam 48 is liquefied on the inner wall surface of the steam cooling area 20 and flows down the inner wall surface.
  • the collecting means 24 may be provided so as to receive the cleaning agent flowing down the inner wall surface.
  • the recovered cleaning agent 4 6 is sent by the second pipe 2 6 to the water separation tank 2 8 arranged separately from the cleaning tank 1 2.
  • the cover 1 4 a is formed with a workpiece entrance / exit 14 of a size that allows the workpiece 4 4 to be taken in and out.
  • a cover 14 a in the washing tank 12 2 2, it is possible to prevent mist droplets from being scattered and to reduce the amount of vapor transpiration.
  • the cleaning agent that evaporates from the steam cooling area 20 into the environment adheres to the cover 14 4 a and is cooled, liquefied and dropped into the cleaning tank 12. To do. As a result, the consumption of expensive cleaning agents can be further suppressed.
  • the method of attaching the cover-14a is not particularly limited, but it is preferable to fix it by a simple method such as clamping so that it can be easily removed during maintenance.
  • the material of the cover is not particularly limited and can be formed of metal or resin.
  • the steam generation tank 5 2 is arranged separately from the cleaning tank 12 2 and the cleaning agent 4 6 is heated by heating means such as the heater 53, etc.
  • This is a treatment tank for generating steam 48.
  • a liquid level gauge may be provided on the side wall of the steam generation tank 52.
  • the first pipe 5 4 connecting the steam generation tank 5 2 and the cleaning tank 1 2 is a pipe for supplying the steam 4 8 generated in the steam generation tank 5 2 to the steam cleaning area 1 8.
  • the 4th pipe 2 7 connecting between the steam generation tank 5 2 and the overflow tank 3 8 (referred to as the “liquid outflow area” hereinafter) is the cleaning agent 4 6 in the cleaning tank 1 2.
  • This is a pipe for sending the surplus liquid to the steam generation tank 52.
  • the fourth pipe 27 is provided to send the excess liquid of the cleaning agent 46 flowing from the liquid cleaning area 16 to the overflow tank 38 to the steam generation tank 52. It has been.
  • the steam cleaning area 18 is provided so that the mounting position 56 on the steam generation tank 52 is lower than the mounting position 22 on the 18 side.
  • the mounting positions of both ends of the first pipe 5 4 may be the above height relationship, and the pipe form is not particularly limited, but as shown in Fig. 1, it is located in the steam generation tank 5 2 and the cleaning tank 12. It is preferable that the pipe is linearly connected so as to have a predetermined inclination.
  • the first pipe 5 4 easily sends the steam 48 generated in the steam generation tank 52 to the steam cleaning area 18, and the cleaning agent condensed and liquefied in the first pipe 54. Prevent entry into washing tank 1 2 and return all of it to steam generation tank 5 2.
  • the first pipe 5 4 is preferably inclined in a straight line from the steam generation tank 5 2 to the cleaning tank 12 in front view, but generates steam more than the mounting position 2 2 on the steam cleaning area 18 side. If the mounting position 5 6 on the tank 1 4 side is lower, it may be stepped or stepped when viewed from the front, while it is folded along the outer wall of the washing tank 1 2 It may be piped. Therefore, the first pipe 54 may be a pipe that is bent in a plan view and linear or stepped in a front view.
  • the height difference between the mounting positions 2 2, 5 6 at both ends of the first pipe 54 is not particularly limited, but it is sufficient that the height difference is within a range where the above-described effects are achieved.
  • the number, inner diameter, material, and the like of the first pipe 54 are selected according to the type and amount of the steam 48 sent into the cleaning tank 12. For example, when using a large washing tank 12 that needs to feed a large amount of steam, it is necessary to provide a large number of first pipes 54 having a large inner diameter.
  • the cleaning agent 46 Since an organic solvent is usually used as the cleaning agent 46, a material that is stable to the cleaning agent is selected as the material of the first pipe 54.
  • a metal-based resin-based material is used. It is preferable to use a material.
  • the first pipe 54 made of a resin material is preferably used. Because the first pipe 5 4 made of resin material has a lower thermal conductivity than a metal system such as steel, both tanks (cleaning tank 1 2 and steam generating tank 5 2) placed on both sides of the first pipe 5 4 ) Temperature is not disturbed.
  • All of the first pipes 54 may be made of a resin material, or a part thereof may be a pipe made of a resin material and the other part may be a metal pipe. When some metal pipes are used, it is desirable to cover them with heat insulating material so that the steam in the pipes does not condense at low outside temperatures. Examples of the heat insulating material include a rubber sponge.
  • the fourth pipe 2 7 connecting between the steam generation tank 5 2 and the overflow tank 3 8 is the cleaning that has flowed into the overflow tank 3 8 from the liquid cleaning area 16 of the cleaning tank 12 It is a pipe for sending the surplus liquid of the agent 4 6 to the steam generation tank 52.
  • the fourth pipe 27 is preferably a water-sealed structure having a U-shape as shown in FIG. This fourth pipe 27 has an overflow port from the steam generation tank 52 because the overflow port 3 is provided at a position higher than that of the steam generation tank 52. Since the cleaning agent heated to the tank 3 8 side does not flow back and has a water-sealed structure, the steam 48 generated in the steam generation tank 52 enters the overflow tank 38 side. There is no.
  • the water separation tank 2 8 is disposed separately from the cleaning tank 1 2 and is a treatment tank for separating water from the cleaning agent 4 6 recovered by the recovery means 2 4 It is.
  • the second pipe 26 connecting the water separation tank 28 and the recovery means 24 is a pipe for sending the cleaning agent 46 recovered by the recovery means 24 to the water separation tank 28,
  • the third pipe 5 8 connecting the water separation tank 2 8 and the washing tank 1 2 is composed of the cleaning agent 4 6 from which water has been removed in the water separation tank 2 8 from the water separation tank 2 8 to the washing tank 1 2. It is a pipe for sending to.
  • the water separation tank 28 is provided with separation means for separating water from the cleaning agent 46 recovered by the recovery means 24.
  • the separation means is not particularly limited.
  • a partition plate 29 that partitions the center of the water separation tank 28 can be exemplified. This cutting plate 29 acts to separate the water causing the stain from the cleaning agent 46.
  • the cleaning agent 4 6 from which water has been separated in the water separation tank 28 is sent to the washing tank 12 by the third pipe 58, but by providing the recovery means 24 and the water separation layer 28 as described above. It is possible to prevent the cleaning agent containing water from being sent into the cleaning tank 1 2.
  • the third pipe 5 8 is connected to the inlet 59 of the bottom surface of the main tank 37, but the connection position is not limited to the bottom surface of the main tank. Either aspect may be used.
  • the liquid level in the water separation tank 28 should be higher than the liquid level in the main tank 37 so that the cleaning agent 46 does not flow back from the main tank 37 to the water separation tank 28. Is desirable.
  • the cleaning agent 46 flowing from the third pipe 58 to the main tank 37 is originally the cleaning agent 46 recovered by the recovery means 24, and therefore contains almost no dust. The amount is small.
  • the third pipe is a pipe connecting the water separation tank 28 and the main tank 37. Instead, the water separation tank 28 and the overflow tank 3 are connected. It is good also as piping which connects 8.
  • the cleaning agent 46 flowing into the overflow tank 3 8 flows into the steam generation tank 52 via the fourth pipe or passes through the first circulation path 71 and It will circulate to tank 37. That is, the flow of the cleaning agent 46 circulated by any one of the first circulation path and the second circulation path is the same as that in FIG.
  • a discharge port 68 and a discharge pipe 69 connected to the discharge port 68 can be provided at the bottom of the cleaning tank 12. At the bottom of the main tank 37, heavy debris from the debris attached to the workpiece 44 is collected, but such debris can be discharged from the discharge port 68.
  • the outlet 68 is used when the cleaning agent in the main tank 37 is replaced.
  • the steam generation tank 52 can be as large as, for example, a 200 Om L beaker, so that it can be easily replaced with a new solvent.
  • the fourth pipe 27 is represented as a pipe connecting the overflow tank 3 8 and the steam generation tank 52. It is good also as piping which connects the tank 3 7 and the steam generation tank 52. Even in this case, dust, oil, etc. accumulated in the main tank 37 can be sent into the steam generation tank 52, so that dust, oil, etc. in the steam generation tank 52 can be transferred to the steam generation tank 52. It can be concentrated inside. Even if the third pipe is a pipe connecting the water separation tank 28 and the overflow tank 38, the effect is the same because the cleaning agent 46 does not change.
  • the cleaning device 10 of the present invention when the liquid flow of the cleaning agent guided to the liquid surface overflows, the dust such as light dust particles floating on the liquid surface overflows. Therefore, when the work is lifted after solvent cleaning in the cleaning tank, dust does not reattach to the work and clean cleaning can be performed. Also, since dirt such as dust and oil is concentrated in the steam generation tank, if the solvent concentrated in the steam generation tank is replaced with a new solvent, dust and oil can be easily removed from the cleaning device. You can.
  • Such a cleaning device 10 cleans electronic parts, precision parts, metal parts, printed wiring boards, glass boards and other various objects to be cleaned (workpieces) extremely efficiently. Can be washed.

Description

明 細 書
洗浄装置
技術分野
[0001 ] 本発明は、 洗浄装置に関し、 更に詳しくは、 電子部品、 精密部品、 金属部 品、 プリント配線基板、 ガラス基板その他の各種被洗浄物 （ワーク） を洗浄 処理することができる洗浄装置に関する。
背景技術
[0002] 電子部品、 精密部品、 金属部品、 プリント配線基板、 ガラス基板その他の 各種被洗浄物 （以下、 「ワーク」 という。 ） を洗浄処理するための洗浄装置 が従来から提案されている。 図 1 2は、 特許文献 1で提案された従来の洗浄 装置を示す概略図である。 図 1 2に示す洗浄装置は、 上部にワーク出入口 2 0 5が形成され、 下部に溶剤 2 0 0 Aを貯溜する洗浄槽 2 0 6が形成される と共に、 中間部に冷却手段 2 0 7が配設されて、 該冷却手段 2 0 7と洗浄槽 2 0 6の溶剤 2 0 O A液面との間に処理エリア 2 0 8が形成されたタンク本 体 2 0 1を備えている。 また、 蒸気発生槽 2 0 3と蒸気供給手段 2 1 5とに より、 処理エリア 2 0 8に溶剤蒸気を供給するように構成されている。 この 蒸気発生槽 2 0 3には、 洗浄槽 2 0 6をオーバ一フローした溶剤 2 0 O Aが 流れ込むように配管 2 1 2が傾斜するように配置されている。 洗浄槽 2 0 6 には、 冷却槽 2 0 2で液化された溶剤 2 0 0 Aが配管 2 1 3を経由して供給 される。
[0003] この洗浄装置では、 溶剤 2 0 O A中で洗浄された後に上方に引き上げられ たワーク 2 1 0は、 処理エリア 2 0 8で洗浄剤蒸気で洗浄され、 その後、 さ らにその上方に設けられた乾燥ェリァで冷却乾燥される。 この乾燥ェリァで は、 洗浄剤の蒸気を冷却手段 2 0 7で冷やして凝縮することで、 洗浄剤蒸気 の蒸気圧を下げ、 ワーク 2 1 0の表面に凝縮していた洗浄剤滴を気化させる ことで乾燥が行われる。
特許文献 1 ：特開 2 0 0 5 - 7 4 3 1 9号公報 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] 上記特許文献 1に記載の従来の洗浄装置において、 蒸気発生槽 2 0 3から 処理エリア 2 0 8に供給された洗浄剤蒸気が蒸留されて液化した溶剤や、 冷 却槽 2 0 2で液化された溶剤が洗浄槽 2 0 6内に入るので、 洗浄槽内の溶剤 2 0 O Aの余剰量はオーバーフローする。 洗浄槽内でワークを洗浄した結果 生じたゴミゃパーティクルのうち、 重いゴミゃパ一テイクルは洗浄槽の底に 溜まって排出口などから排出されるが、 軽いゴミゃパーティクルは液表面に 漂うので、 洗浄槽内で溶剤洗浄したワークを引き上げる際に、 そのワークの 表面に浮遊するゴミ等が再び付着してしまう。 特に、 洗浄剤のオーバーフロ 一量が少ない場合は、 浮遊するゴミ等を洗浄槽から流し出すことができず、 また、 洗浄剤の表面張力が小さい場合には、 オーバーフローする液層の厚さ が薄く、 浮遊するゴミ等を洗浄槽から流し出すことができないという問題が あった。
[0005] 本発明は、 上記課題を解決するためになされたものであって、 その目的は 、 液表面に浮遊する軽いゴミゃパーティクルを無くし、 洗浄槽内で溶剤洗浄 した後のワークを引き上げた際にゴミ等の再付着を防ぐことができる洗浄装 置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0006] 上記課題を解決するための本発明の洗浄装置は、 流入部を有し、 当該流入 部から流入する洗浄剤を貯留すると共に当該貯留している洗浄剤の液体でヮ ークを洗浄する液体洗浄ェリアと、 当該液体洗浄ェリァ内の洗浄剤が流入す ると共に、 当該流入した洗浄剤を流出させる流出部を有する液流出エリアと 、 を備える洗浄槽を有し、 前記液体洗浄エリアには、 前記流入部と、 当該流 入部から流入する洗浄剤の液流を前記液体洗浄ェリァ内の洗浄剤の液面と平 行な液流になるように当該液面に導く液流ガイ ドとを有する液面流動手段が 設けられていることを特徴とする。
[0007] この発明によれば、 洗浄槽内の液体洗浄エリアには、 液体洗浄エリア内に 洗浄剤を流入する流入部と、 その流入部から流入する洗浄剤の液流を液体洗 浄ェリァ内の洗浄剤の液面と平行な液流になるように当該液面に導く液流ガ ィ ドとを有する液面流動手段が設けられているので、 液面に導かれた洗浄剤 の液流が液流出エリァ内に流入する際に、 液面に浮遊する軽いゴミゃパーテ ィクル等の塵埃を、 その洗浄剤の液流によって除去することができる。 その 結果、 洗浄槽内で溶剤洗浄した後のワークを引き上げる際に、 塵埃がワーク に再付着するのを防ぐことができる。
[0008] 本発明の洗浄装置において、 前記液流出エリアは、 前記液体洗浄エリアに 貯留された洗浄剤のうち、 表層の洗浄剤が流入するオーバーフロー槽である ように構成できる。
[0009] この発明によれば、 液流出エリアを、 液体洗浄エリアに貯留された洗浄剤 のうち表層の洗浄剤を流入するオーバーフロー槽となるように構成したので 、 液面に浮遊する軽いゴミゃパーティクル等の塵埃を、 余剰液としてオーバ 一フローする洗浄剤の液流によって除去することができる。
[0010] 本発明の洗浄装置において、 前記流入部が、 前記液体洗浄エリア内の槽壁 面に設けられた流入口であり、 前記液流ガイ ドが、 前記流入口から流入した 洗浄剤の液流方向を液面方向に変える傾斜部と、 当該液面方向に変えられた 洗浄剤の液流を液面に導く開口部とを有するガイ ド板であるように構成でき る。
[001 1 ] この発明によれば、 液体洗浄エリア内の槽壁面に設けられた流入口と、 上 記傾斜部及び開口部を有するガイ ド板とで液面流動手段を構成することによ り、 洗浄剤の液流を液面に効果的に導くことができ、 その結果、 液面に浮遊 する塵埃を、 洗浄剤の液流によって効果的に除去することができる。
[0012] 本発明の洗浄装置において、 前記流入部が、 前記液体洗浄エリア内の槽壁 面に設けられた流入口であり、 前記液流ガイ ドが、 前記流入口から流入した 洗浄剤の液流を前記液面方向になだらかに導く曲面と、 前記液面近傍で前記 液面とほぼ平行な水平面とを有する液流形成板であるように構成できる。
[0013] この発明によれば、 液流ガイ ドを、 流入口から流入した洗浄剤の液流を前 記液面方向になだらかに導く曲面と、 液面近傍で前記液面とほぼ平行な水平 面とを有する液流形成板であるように構成したので、 流入口から流入した液 流は曲面上を流れて緩やかな流れとなり、 さらにその水平面によって液面と 平行な液流を一様に形成することができる。 その結果、 液面に浮遊する塵埃 を、 表層を流れる洗浄剤の液流によって効果的に除去することができる。
[0014] 本発明の洗浄装置において、 前記液面近傍には、 前記液流形成板と対向す るとともに、 洗浄剤の液流の飛び跳ねを抑える抑え板をさらに備えるように 構成できる。
[0015] この発明によれば、 液面近傍の抑え板は液流形成板と対向するように設け られているので、 液流形成板で液面に緩やかに導かれた洗浄剤の飛び跳ねを 効果的に抑えることができる。
[001 6] 本発明の洗浄装置において、 前記流入部が、 前記液体洗浄エリア内の液面 近傍に設けられた 1又は複数の流入口を有するシャワー部材で構成されてお り、 前記液流ガイ ドが、 前記流入口から流入する洗浄剤の液流を液面と平行 な液流になるように調整する調整部材であるように構成できる。
[001 7] この発明によれば、 上記シャワー部材と上記調整部材とを有する液面流動 手段により、 洗浄剤の液流を液面に効果的に導くことができる。 その結果、 液面に浮遊する塵埃を、 液流出エリア内に流入する洗浄剤の液流によって効 果的に除去することができる。
[0018] 本発明の洗浄装置において、 前記液流出エリアは、 着脱可能に且つ取り付 け位置を変更可能な仕切り板により前記液体洗浄ェリアとの間が仕切られて 形成されているように構成できる。
[001 9] この発明によれば、 洗浄槽を構成する液流出エリアは、 着脱可能に且つ取 り付け位置を変更可能な仕切り板により液体洗浄ェリアとの間が仕切られて 形成されているので、 ワークの大きさや液循環量等に応じて仕切り板を動か し、 液体洗浄エリアの大きさを自由に変更することができる。
[0020] 本発明の洗浄装置において、 前記仕切り板は、 前記洗浄槽に貯留される洗 浄剤の中間深度位置にスリット又は透孔を有し、 前記液流出エリアは、 前記 透孔よりも深い位置に前記流出部を有するように構成できる。
[0021 ] この発明によれば、 仕切り板を、 洗浄槽に貯留される洗浄剤の中間深度位 置にスリット又は透孔を有するように構成したので、 洗浄剤がそのスリット 又は透孔を経由して液流出エリアに導かれることになる。 その結果、 例えば 中間深度領域に浮遊するパーティクルが存在した場合、 そのパーティクルを スリット又は透孔から液流出エリアに流出させることができる。 そして、 こ の発明によれば、 液流出エリアを、 透孔よりも深い位置に流出部を有するよ うに構成したので、 液流出エリァに流出した洗浄剤をその流出部から自然流 下によつて排出することができる。
[0022] 本発明の洗浄装置において、 前記洗浄槽には、 前記洗浄剤を循環させる 1 又は 2以上の循環経路が接続され、 第 1循環経路は、 前記洗浄剤を前記液流 出エリァの底面又は側面に設けられた前記流出部から排出して前記流入部に 導く配管経路であり、 当該配管経路には、 前記洗浄剤を循環させるためのポ ンプと、 前記洗浄剤中の塵埃を除去するフィルタ一とが設けられているよう に構成できる。
[0023] この発明によれば、 液流出エリァの底面又は側面に設けられた流出部から 排出して流入部に導く第 1循環経路と、 循環ポンプと、 塵除去フィルターと を有するので、 洗浄剤の循環流量を一定にすることができ、 浮遊するゴミ等 を液体洗浄ェリァから安定した状態で除去することができる。
[0024] 前記の洗浄装置において、 前記洗浄槽は、 前記液体洗浄エリアの上部に設 けられて前記洗浄剤の蒸気でワークを洗浄する蒸気洗浄エリアと、 当該蒸気 洗浄エリアと当該洗浄槽の上部に設けられたワーク出入口との間に設けられ て前記洗浄剤の蒸気を冷却して当該洗浄剤を液化させる蒸気冷却エリアと、 当該蒸気冷却エリアで液化された洗浄剤を回収する回収手段と、 をさらに有 し、 当該洗浄装置は、 前記洗浄槽から分離して配置されると共に前記洗浄剤 の蒸気を発生させる蒸気発生槽と、 前記洗浄槽から分離して配置されると共 に前記回収手段で回収される洗浄剤から水を分離する水分離槽と、 前記洗浄 槽と前記蒸気発生槽との間を接続して当該蒸気発生槽で発生させた蒸気を前 記蒸気洗浄エリアに供給するための第 1配管と、 前記回収手段で回収される 洗浄剤を前記蒸気冷却ェリァから前記水分離槽に送る第 2配管と、 前記水分 離槽で水分が除去された洗浄剤を当該水分離槽から前記洗浄槽に送る第 3配 管と、 前記洗浄槽と前記蒸気発生槽との間を接続して前記洗浄槽の洗浄剤の 余剰液を前記蒸気発生槽に送るための第 4配管と、 をさらに備えるように構 成できる。
[0025] この発明によれば、 洗浄槽が蒸気洗浄ェリアと蒸気冷却ェリアと回収手段 とをさらに有し、 洗浄装置が蒸気発生槽と水分離槽と第 1〜第 4配管とによ り構成される第 2循環経路をさらに備えるので、 液体洗浄エリアの洗浄液を 清浄に保つことができる。 また、 塵埃や油分等の汚れは蒸気発生槽に濃縮さ れるので、 蒸気発生槽内で濃縮された溶剤を新しい溶剤に交換すれば、 塵埃 や油分等を洗浄装置内から容易に除去することができる。 なお、 この蒸気発 生槽の大きさは、 例えば 2 0 0 O m Lビーカ __杯程度の容量とすることも できるので、 新しい溶剤への交換は容易である。
[0026] 本発明の洗浄装置において、 前記第 4配管が水封構造で設けられているよ うに構成できる。
[0027] この発明によれば、 洗浄槽と蒸気発生槽との間を接続する第 4配管が水封 構造で設けられているので、 蒸気発生槽で生じた洗浄液の蒸気が洗浄槽の側 に入り込むことがなく、 洗浄槽と蒸気発生槽との間の温度干渉を遮断するこ とができる。 その結果、 両槽それぞれの処理条件の変動を生じさせることが なく、 安定した条件での洗浄処理を行うことができる。
[0028] 本発明の洗浄装置において、 前記蒸気洗浄ェリアと前記蒸気冷却ェリアと の境界付近の蒸気洗浄ェリァ側には、 加熱手段が設けられているように構成 できる。
[0029] この発明によれば、 蒸気洗浄エリアの洗浄剤の蒸気の温度低下を防止する ことができる。 また、 洗浄槽の壁面で洗浄剤の蒸気が結露して液化するのを 抑制できるので、 蒸気洗浄を安定した状態で行うことができる。
[0030] 本発明の洗浄装置において、 前記蒸気洗浄ェリアと前記蒸気冷却ェリアと の境界付近の蒸気冷却エリア側には、 冷却用ヒートシンクが配置され、 当該 ヒートシンクには、 ヒ一トパイプが接続されているように構成できる。
[0031 ] この発明によれば、 蒸気洗浄エリアと蒸気冷却エリアとの境界にある蒸気 を効率的に冷却できるので、 蒸気冷却エリア内での液化を促進させて洗浄剤 の回収ないし再生を効率的に行うことができる。
[0032] 本発明の洗浄装置において、 前記液体洗浄ェリアと前記蒸気洗浄ェリアと の境界付近の前記洗浄槽の壁面には、 断熱部材が設けられているように構成 できる。
[0033] この発明によれば、 蒸気洗浄エリア壁面の高い温度と、 液体洗浄エリア壁 面の低い温度との温度干渉を防ぐことができるので、 所定の温度に設定され たそれぞれのェリァでの効率的な洗浄を実現することができる。
[0034] 本発明の洗浄装置において、 前記蒸気冷却エリアと前記ワーク出入口との フリーポード比は 1 . 5以上であり、 前記ワーク出入口にはカバーが設けら れているように構成できる。
[0035] この発明によれば、 蒸気冷却エリア内からの漏れを防止するので、 洗浄剤 の消費量をより低減することができる。
発明の効果
[0036] 本発明の洗浄装置によれば、 液面流動手段により洗浄剤の液流を液体洗浄 ェリァ内の洗浄剤の液面と平行な液流になるように液面に導くことができる ので、 液面に導かれた洗浄剤の液流が液流出エリア内に流入する際に、 その 液面に浮遊する軽いゴミゃパーテイクル等の塵埃を、 液流出エリア内に流入 する洗浄剤の液流によって除去することができる。 その結果、 洗浄槽内で溶 剤洗浄した後のワークを引き上げる際に、 塵埃がワークに再付着することが なく、 清浄な洗浄を行うことができる。
[0037] また、 本発明の洗浄装置によれば、 液流ガイ ドとして、 前記ガイ ド板ゃ前 記液流形成板を用いたので、 洗浄剤の液流を液面に効果的に導くことができ 、 その結果、 液面に浮遊する塵埃を、 洗浄剤の液流によって効果的に除去す ることができる。 [0038] また、 本発明の洗浄装置によれば、 液流出エリアをオーバ一フロー槽とな るように構成した場合には、 液面に浮遊する軽いゴミゃパーティクル等の塵 埃を、 余剰液としてオーバーフローする洗浄剤の液流によって除去すること ができ、 また、 液体洗浄エリアと液流出エリアとの間の仕切り板の中間深度 位置にスリツトゃ透孔を設けた場合には、 中間深度領域に浮遊するパーティ クルを洗浄剤の液流によつて液流出エリアに除去することができる。
[0039] また、 本発明の洗浄装置によれば、 洗浄槽が蒸気洗浄エリアと蒸気冷却ェ リアと回収手段とをさらに有し、 その洗浄装置が蒸気発生槽と水分離槽と第 1〜第 4配管とにより構成される第 2循環経路をさらに備えるので、 液体洗 浄エリアの洗浄液を清浄に保つことができる。 また、 塵埃や油分等の汚れは 蒸気発生槽に濃縮されるので、 蒸気発生槽内で濃縮された溶剤を新しい溶剤 に交換すれば、 塵埃や油分等を洗浄装置内から容易に除去することができる
図面の簡単な説明
[0040] [図 1 ]本発明の洗浄装置の一例を示す概略正面図である。
[図 2]図 1に示す洗浄装置の概略平面図である。
[図 3]液体洗浄エリアである本槽に液面流動手段が設けられた形態の一例を示 す平面図 （A ) と A _ A断面図 （B ) である。
[図 4]液流ガイ ドの一例を示す斜視図である。
[図 5]液体洗浄エリアである本槽に液面流動手段が設けられた形態の他の一例 を示す平面図 （A ) と B _ B断面図 （B ) である。
[図 6]液体洗浄エリアである本槽に液面流動手段が設けられた形態のさらに他 の一例を示す平面概略図 （A ) と正面透視図 （B ) である。
[図 7]仕切り板の一例を示す斜視図である。
[図 8]仕切り板の他の一例を示す斜視図である。
[図 9]図 8に示す仕切り板を適用した場合の液流の態様を示す説明図である。
[図 10]図 8に示す仕切り板を適用した場合の液流の他の態様を示す説明図で [図 11 ]本発明の洗浄装置の循環経路の説明図であり、 実線は常時循環経路で あり、 破線は洗浄剤補給時の循環ラインである。
[図 12]特許文献 1で提案された従来の洗浄装置を示す概略図である。
符号の説明
1 0 洗浄装置
1 2 洗浄槽
1 4 ワークの出入口
1 4 a カパ一
1 6 液体洗浄エリア
1 8 蒸気洗浄エリア
2 0 蒸気冷却エリア
2 2 蒸気洗浄ェリァ側の取付位置
2 4 回収手段
2 6 第 2配管
2 7 第 4配管
2 8 水分離槽
2 9 分離手段 （仕切板）
3 0 ヒータ
3 1 壁面
3 2 冷却用ヒートシンク
3 4 ヒ一トパイプ
3 5 , 3 6 断熱部材
3 7 本槽
3 8 オーバ一フロー槽
3 9 A , 3 9 B , 3 9 C 液面計
4 0 冷却ュニット
4 1 循環ポンプ
4 2 フィルタ一 ワーク
洗浄剤
蒸気
受皿
蒸気発生槽
ヒータ
第 1配管
蒸気発生槽側の取付位置 第 3配管
超音波振動子
, 6 4 サ一モモジュール 排出口
排出管
第 1循環経路
流入部材
A , 7 2 B 流入口
液卤
液流
排出口
液流ガイ ド板 （液流ガイ ド) 開口部
傾斜部
保持部材
シャワー部材 （流入部材） 調整部材 （液流ガイ ド）
A 関節部
B アーム部材
, 9 4 保持部材 9 1 仕切り板
9 2 オーバ一フ口一口
9 2 A 切り欠き部
9 3 シール部材
9 8 透孔
1 3 8 液流出エリア
1 7 4 中間深度位置での液流
1 8 1 液流形成板
1 8 2 曲面
1 8 3 水平面
1 8 4 保持部材
1 8 5 抑え板
1 8 6 平面部
1 8 7 垂直部
1 8 8 取付用長穴
1 9 1 仕切り板
2 7 4 底部深度位置での液流
発明を実施するための最良の形態
[0042] 以下、 本発明を実施するための最良の形態を、 図面に基づき説明する。 な お、 本発明の洗浄装置は、 その技術的特徴を有する範囲において、 以下の説 明及び図面に限定されない。
[0043] 本発明の洗浄装置は、 流入部を有し、 その流入部から流入する洗浄剤を貯 留すると共に貯留している洗浄剤の液体でワークを洗浄する液体洗浄ェリァ と、 その液体洗浄ェリァ内の洗浄剤が流入すると共に流入した洗浄剤を流出 させる流出部を有する液流出エリアとを備える洗浄槽を有している。 そして 、 液体洗浄エリアには、 前記の流入部と、 その流入部から流入する洗浄剤の 液流を液体洗浄ェリァ内の洗浄剤の液面と平行な液流になるようにその液面 に導く液流ガイ ドとを有する液面流動手段が設けられている。 [0044] 以下に示す第 1実施形態の洗浄装置は、 液流出エリァがオーバーフロー槽 となるように構成して、 主に液面に浮遊するパーティクルを効果的に除去す るものであり、 第 2実施形態に係る洗浄装置は、 スリット又は透孔を有する 仕切り板を液体洗浄ェリアと液流出エリアとの間に設けて、 主に中間深度位 置に浮遊するパーティクルを効果的に除去するものである。
[0045] (第 1実施形態）
図 1は、 本発明の洗浄装置の一例を示す概略正面図であり、 図 2は、 図 1 に示す洗浄装置の概略平面図である。 本発明の洗浄装置 1 0は、 図 1及び図 2に示すように、 1又は 2以上の循環経路により循環する洗浄剤 4 6を貯留 すると共にその洗浄剤 4 6を用いてワーク 4 4を洗浄する洗浄槽 1 2を有す る装置である。
[0046] 洗浄槽 1 2は、 ワーク 4 4を洗浄するための処理槽であり、 図 1に示すよ うに、 貯留している洗浄剤 4 6の液体でワーク 4 4を洗浄する液体洗浄エリ ァ 1 6と、 液体洗浄ェリア 1 6内の洗浄剤 4 6の余剰液が流入するオーバー フロー槽 3 8と、 洗浄槽 1 2内のいずれかの面から排出した後に液体洗浄ェ リア 1 6に導入する第 1循環経路 7 1 とを少なくとも備えている。 さらにこ の洗浄槽 1 2を処理工リァ毎に説明すれば、 図 1に示すように、 洗浄剤 4 6 の液体でワーク 4 4を洗浄する液体洗浄ェリア 1 6と、 液体洗浄ェリア 1 6 の上部に設けられて洗浄剤の蒸気 4 8でワーク 4 4を洗浄する蒸気洗浄エリ ァ 1 8と、 蒸気洗浄エリア 1 8と洗浄槽 1 2の上部に設けられたワーク出入 口 1 4との間に設けられて洗浄剤の蒸気 4 8を冷却して洗浄剤 4 6を液化さ せる蒸気冷却エリア 2 0と、 で構成されている。
[0047] 図 3、 図 5及び図 6は、 洗浄槽 1 2の液体洗浄ェリア 1 6である本槽 3 7 に液面流動手段が設けられた形態の例を示す平面図と断面図である。 本発明 の特徴は、 図 3、 図 5及び図 6に示すように、 液体洗浄ェリア 1 2に液面流 動手段が設けられており、 その液面流動手段が、 第 1循環経路 7 1を経由し て液体洗浄ェリァ 1 2内に洗浄剤 4 6を流入させる流入部材 7 2 (以下、 流 入口 7 2 A , 流入口 7 2 Bで表すことがある。 ） と、 流入部材 7 2から流入 する洗浄剤 4 6の液流 7 4を洗浄ェリア 1 2内の洗浄剤 4 6の液面 7 3と平 行な液流に導く液流ガイ ドとを有していることにある。 本発明の洗浄装置は 、 こうした構成を備えた液面流動手段によって、 流入部材 7 2から流入した 洗浄剤 4 6の液流 7 4を洗浄ェリア 1 2内の洗浄剤 4 6の液面 7 3と平行な 液流に導くので、 洗浄剤 4 6がオーバーフローする際に、 液面 7 3に浮遊す る軽いゴミゃパーティクル等の塵埃を、 オーバーフローする洗浄剤の液流に よって除去することができる。 その結果、 洗浄槽 1 2内で溶剤洗浄した後の ワーク 4 4を引き上げる際に、 塵埃がワーク 4 4に再付着するのを防ぐこと ができる。
[0048] 先ず、 図 3に示す液面流動手段について詳しく説明する。 図 3は、 洗浄槽
1 2の液体洗浄ェリア 1 6である本槽 3 7に液面流動手段が設けられた形態 の一例を示す平面図 （A ) と A— A断面図 （B ) である。 本槽 3 7としては 、 例えば図 3に示すように、 平面視で略長方形からなる槽を例示できるが、 必ずしもそうした形態に限定されるものではない。 本槽 3 7の短辺の一方 （ 図 3中の左側） には、 液面流動手段が設けられ、 短辺の他方 （図 3中の右側 ) には、 オーバ一フロー槽 3 8が設けられている。 洗浄剤 4 6は、 液面流動 手段により液面 7 3と平行な液流 7 4になるように導かれ、 オーバ一フロー 槽 3 8にオーバーフローする。 このオーバーフロー槽 3 8は、 図 3及び後述 の図 5、 図 6に示すように、 本槽 3 7を構成する四辺のうち一辺のみに設け られていることが好ましい。 なお、 本槽 3 7やオーバ一フロー槽 3 8には、 液面計が設けられていることが好ましい。
[0049] 本槽 3 7の短辺の一方 （図 3中の左側） の槽壁面には、 第 1循環経路 7 1 を経由して液体洗浄ェリァ 1 2内に洗浄剤 4 6を流入させる流入部材として の流入口 7 2 Aが設けられている。 この流入口 7 2 Aは、 洗浄剤 4 6をォ一 バーフロー槽 3 8の底面又は側面から排出して当該流入口 7 2 Aに導く第 1 循環経路 7 1に連結されている。 また、 この流入口 7 2 Aから本槽 3 7内に 流入する洗浄剤 4 6の液流は、 ガイ ド板 8 1により液面方向に導かれる。 し たがって、 その流入口 7 2 Aは、 ガイ ド板 8 1 との関係で、 流入した洗浄剤 4 6の液流が液面方向に導かれる所定の位置に設けられる。 なお、 図 3等で は、 流入口 7 2 Aの数は 1つであるが、 2つ以上であっても構わない。
[0050] ガイ ド板 8 1は、 液流ガイ ドの一形態を示すものであって、 図 3及び図 4 に例示するように、 流入口 7 2 Aから流入した洗浄剤 4 6の液流方向を液面 方向に変える傾斜部 8 3と、 液面方向に変えられた洗浄剤 4 6の液流 7 4を 液面 7 3に導く開口部 8 2とを有している。 傾斜部 8 3は、 流入口 7 2 Aか ら本槽 3 7内に流入する洗浄剤 4 6の液流方向を液面方向に変えるように作 用し、 図示のように傾斜した態様となるように設けられている。 その傾斜の 程度及びその面積は特に限定されないが、 流入口 7 2 Aから流入する洗浄剤 4 6の流量や流速等を考慮し、 流入した洗浄剤 4 6の液流が液面 7 3に平行 な液流 7 4にスムーズに変化することができる角度と面積で構成されている ことが好ましい。 なお、 強いて傾斜角度を挙げるとすれば、 洗浄剤 4 6が槽 壁面の法線方向から流入する場合、 その法線に対し、 3 0 ° 〜6 0 ° の範囲 を例示できる。
[0051 ] 開口部 8 2は、 液面方向に変えられた洗浄剤 4 6の液流 7 4を液面 7 3に 導くように作用し、 その一例としては図 3及び図 4に示すように、 傾斜部 8 3の途中から所定の大きさで矩形状に切り欠かれた態様を例示できる。 開口 部 8 2の大きさや形状は特に限定されないが、 傾斜部 8 3で変えられた洗浄 剤 4 6の液流の角度、 流量、 流速等を考慮し、 洗浄剤 4 6が液面 7 3に平行 な液流 7 4にスムーズに変化することができる大きさと形状で構成されてい ることが好ましい。 例えば図 4に示すように、 開口部 8 2は、 ガイ ド板 8 1 を構成する傾斜部 8 3と垂直部 8 1 2とをまたぐ矩形状に形成されているこ とが好ましい。
[0052] ガイ ド板 8 1を構成する垂直部 8 1 2の上端部には取付穴 8 1 3が設けら れている。 その取付穴 8 1 3に保持部材 8 4を取り付けることにより、 図 3 に示すように、 ガイ ド板 8 1を洗浄槽 1 2に安定且つ着脱容易に保持するこ とができる。 一方、 ガイ ド板 8 1の傾斜部 8 3側の下端は本槽 3 7の槽壁面 に当たる程度に配置され、 また、 ガイ ド板 8 1の幅方向の両端面は本槽の長 辺を構成する側壁面に当たる程度に配置されている。 このような態様でガイ ド板 8 1を配置することにより、 流入口 7 2 Aから本槽 3 7内に流入した洗 浄剤 4 6のほとんどが液面方向に導かれる。
[0053] 次に、 図 5に示す液面流動手段について詳しく説明する。 図 5は、 洗浄槽
1 2の液体洗浄ェリア 1 6である本槽 3 7に液面流動手段が設けられた形態 の他の一例を示す平面図 （A ) と B— B断面図 （B ) である。 図 3の場合と 同様、 本槽 3 7としては、 例えば図 5に示すように平面視で略長方形からな る槽を例示でき、 本槽 3 7の短辺の一方 （図 5中の左側） には、 液面流動手 段が設けられ、 短辺の他方 （図 5中の右側） には、 オーバーフロー槽 3 8が 設けられている。 洗浄剤 4 6は、 液面流動手段により液面 7 3と平行な液流
7 4になるように導かれ、 オーバ一フロー槽 3 8にオーバ一フローする。
[0054] 本槽 3 7の短辺の一方 （図 5中の左側） の槽壁面近傍であって液体洗浄ェ リア 1 2内の液面近傍には、 流入部材として、 1又は複数の流入口 7 2 Bを 有するシャワー部材 8 6が設けられている。 この流入部材としてのシャワー 部材 8 6は、 液流ガイ ドとしての調整部材 8 7に連結されている。 調整部材
8 7は、 シャワー部材 8 6が備える流入口 7 2 Bから流入する洗浄剤 4 6を 液面 7 3と平行な液流 7 4になるように調整する部材である。
[0055] 図 5に示す液面流動手段を更に詳しく説明すれば、 シャワー部材 8 6には 、 複数の流入口 7 2 Bが設けられており、 洗浄剤 4 6は、 その流入口 7 2 B から本槽 3 7内に流入する。 流入口 7 2 Bから流入する洗浄剤 4 6の液流方 向の調整は調整部材 8 7により行われ、 この調整部材 8 7は、 シャワー部材 8 6に連結するアーム部材 8 7 Bと、 そのアーム部材 8 7 Bを所定の角度に 変更する関節部 8 7 Aとで構成されている。 こうした調整部材 8 7によって 、 シャワー部材 8 6の角度を所定の角度に変化させることができる。 なお、 上記の 「槽壁面近傍」 とは、 槽壁面の近くであることを意味すると共に槽壁 面に接触している場合も含み、 また、 「液体洗浄エリア内の液面近傍」 とは 、 洗浄剤内に浸潰した状態であって比較的液面に近い位置を意味する。
[0056] 調整部材 8 7により角度調整されたシャワー部材 8 6は、 図 5に示すよう に、 その調整部材 8 7に連結した保持部材 8 9により、 洗浄槽 1 2に安定且 つ着脱容易に保持されている。 また、 こうしたシャワー部材 8 6は、 洗浄剤 4 6をオーバ一フロー槽 3 8の底面又は側面から排出して当該シャワー部材 8 6に導く第 1循環経路 7 1に連結されている。 このシャワー部材 8 6の流 入口 7 2 Bから本槽 3 7内に流入する洗浄剤 4 6の液流は、 上記の調整部材 8 7により液面と平行な方向に調整されている。 その結果、 洗浄剤の液流を 液面と平行にすることができる。
[0057] 次に、 図 6に示す液面流動手段について詳しく説明する。 図 6は、 図 1に 例示する洗浄槽 1 2の液体洗浄エリア 1 6である本槽 3 7に液面流動手段が 設けられた形態の他の一例を示平面概略図 （A ) と正面透視図 （B ) である 。 この形態に係る液面流動手段は、 液流形成板 1 8 1を液流ガイ ドとして設 けた点に特徴がある。 なお、 図 3の場合と同様、 本槽 3 7としては、 例えば 図 6に示すように、 平面視で略長方形からなる槽を例示でき、 本槽 3 7の短 辺の一方 （図 6中の左側） には、 液面流動手段が設けられ、 短辺の他方 （図 6中の右側） には、 オーバ一フロー槽 3 8が設けられている。 洗浄剤 4 6は 、 液面流動手段により液面 7 3と平行な液流 7 4になるように導かれ、 ォ一 バーフロー槽 3 8にオーバーフローする。 本槽 3 7の短辺の両側 （図 6中の 左側と右側） の槽壁面と槽底面と循環経路の構成は、 図 3と同様であるので 図 6ではその記載を省略するが、 以下の説明では図 3と同一の符号を用いて 説明する。
[0058] 液流形成板 1 8 1は、 液流ガイ ドの一形態を示すものであって、 図 6に例 示するように、 流入口 7 2 Aから流入した洗浄剤 4 6の液流を液面方向にな だらかに導く曲面 1 8 2と、 液面近傍に設けられたものであって液面 7 3と ほぼ平行な水平面 1 8 3とを有している。 曲面 1 8 2の形状は特に限定され ないが、 その断面形状を図 6に示すような二次曲線に類似の曲面形状とする ことができる。 また、 水平面 1 8 3の長さについても特に限定されないが、 液流を液面方向になだらかに導くことができる長さとすることが好ましく、 —例としては、 1 O m m〜 2 O m m程度を挙げることができる。 [0059] この液流形成板 1 8 1は、 本槽 3 7内に簡単に着脱できるように設けられ ている。 具体的には、 本槽 3 7の長辺の両側に着脱可能な例えばガイ ドレ一 ル等を設けてはめ込むことが好ましいが、 その他の手段であってもよい。 い ずれにしても、 液流形成板 1 8 1の取り付け位置を容易に調整できるように 装着することが望ましい。 こうした液流形成板 1 8 1を設けることにより、 流入口 7 2 Aから流入した液流は曲面 1 8 2上を流れて緩やかな流れとなり 、 さらにその水平面 1 8 3によって液面 7 3と平行な液流 7 4を一様に形成 することができる。 その結果、 液面 7 3に浮遊する塵埃を、 表層を流れる洗 浄剤 4 6の液流 7 4の液流によって効果的に除去することができる。
[0060] 液面近傍には、 液流形成板 1 8 1 と対向するとともに、 洗浄剤 4 6の液流 の飛び跳ねを抑える抑え板 1 8 5が好ましく設けられている。 この抑え板 1 8 5は、 この態様においては液流形成板 1 8 1のような必須の構成ではない が、 液流形成板 1 8 1 と対向するように、 具体的には液流形成板 1 8 1の水 平面 1 8 3と対向するように好ましく設けられているので、 液流形成板 1 8 1で液面 7 3に緩やかに導かれた洗浄剤 4 6の飛び跳ねを効果的に抑えるこ とができる。 その結果、 飛び跳ねによって生じていた洗浄剤 4 6の乱流を抑 えることができるので、 液面近傍を流れる表層流の流れを一定かつ安定して 生じさせることができる。 こうした安定した表層流を生じさせることは、 例 えば図 1に示す超音波振動子 6 0による洗浄効果を妨げるのを防ぐことがで さる。
[0061 ] 抑え板 1 8 5は、 図 6に例示するように、 液流形成板 1 8 1 と対向する部 材であり、 具体的には、 液流形成板 1 8 1の水平面 1 8 3と平行に配置され た平面部 1 8 6と、 その平面部 1 8 6から連続して起き上がった垂直部 1 8 7とで構成されている。 平面部 1 8 6は、 液流形成板 1 8 1の水平面 1 8 3 と平行に配置されているものであれば、 その配置位置は特に限定されないが 、 この抑え板 1 8 5は、 液流形成板 1 8 1で液面 7 3に緩やかに導かれた洗 浄剤 4 6の飛び跳ねを抑えるものであるため、 液流形成板 1 8 1の水平面 1 8 3の手前側、 すなわち液流形成板 1 8 1の曲面 1 8 2と水平面 1 8 3との 境界付近と対向する位置に設けられていることが好ましい。 そして、 その境 界付近と対向する位置に少なくとも平面部 1 8 6を有するとともに、 図 6に 示すように一定の長さを有するように構成されていることが好ましい。
[0062] この抑え板 1 8 5も本槽 3 7内に簡単に着脱できるように設けられている ことが好ましく、 具体的には、 垂直部 1 8 7に設けられた取付用長穴 1 8 8 に保持部材 1 8 4を取り付けることにより着脱容易に保持できる。 なお、 取 付用長穴 1 8 8は、 抑え板 1 8 5と液流形成板 1 8 1 との間隔を調整するの に便利である。 この間隔は、 抑え板 1 8 5と液流形成板 1 8 1 との間を通過 する液流が比較的安定した状態で本槽 3 7内を通過できるように、 その流量 や流速等によって任意に調整される。
[0063] 次に、 液流出エリアを構成するオーバーフロー槽について説明する。 本槽 3 7の短辺の他方 （図 3中の右側） には、 オーバーフロー槽 3 8が設けられ ている。 オーバ一フロー槽 3 8の具体的な構造は特に限定されないが、 例え ば図 3、 図 5及び図 6に示すように、 着脱可能な仕切り板 9 1により構成す ることができる。 本槽 3 7内に仕切り板 9 1を配置して形成したオーバ一フ ロー槽 3 8は、 その仕切り板 9 1の位置を任意の位置にすることにより、 本 槽 3 7の容量とオーバーフロー槽 3 8の容量を任意に変化させることができ る。
[0064] 仕切り板 9 1の上端部には取付穴 9 5が設けられている （図 7参照） 。 そ の取付穴 9 5に保持部材 9 4を取り付けることにより、 図 3、 図 5及び図 6 に示すように、 仕切り板 9 1を洗浄槽 1 2に安定且つ着脱容易に保持するこ とができる。 一方、 仕切り板 9 1の下端は本槽 3 7の底面に当たる程度に配 置されている。
[0065] また、 仕切り板 9 1の幅方向の両端が折り曲げられてフランジ部 9 6とな つており、 そのフランジ部 9 6と槽壁面との間は、 例えば図 3及び図 5に示 すようにシート状のゴム等からなるシール部材 9 3でシールするようにして もよいし、 例えば図 6に示すようにパネ部材 9 7を背面側に設けてそのパネ 部材 9 7の付勢力によって壁面との間をシールするようにしてもよい。 バネ 部材 9 7でシールした場合は、 シール部材が不要になる点で有利であり、 特 にシール部材の材質と洗浄剤 4 6との相性が悪い場合には好ましく適用でき る。
なお、 シール部材の材質としては、 E P D M (エチレン■ プロピレンゴム） 等のゴム類や、 バイ トン、 テフロン （登録商標） 被覆 Oリング、 テフロン （ 登録商標） 等のフッ素系部材を挙げることができる。
[0066] こうした態様で仕切り板 9 1を設けることにより、 本槽 3 7内の洗浄剤 4 6は、 仕切り板 9 1に設けられたオーバ一フロー口 9 2のみからオーバ一フ 口一槽内にオーバ一フローすることができる。 なお、 オーバ一フロー口 9 2 の下部端面の三角形状で連続する複数の切り欠き部 9 2 Aは、 洗浄剤 4 6が オーバーフローする部位であり、 その切り欠き部 9 2 Aから洗浄剤 4 6が浮 遊する塵埃等と一緒にオーバーフローする。
[0067] 本槽 3 7からオーバーフローした洗浄剤 4 6は、 配管経路である第 1循環 経路 7 1を経由し、 オーバ一フロー槽 3 8内の底面又は側面 （図 3等におい ては側面） から排出して上記の流入部材 （7 2 A , 7 2 B ) に導かれる。 こ の第 1循環経路 7 1には、 洗浄剤 4 6を循環させるためのポンプと、 洗浄剤 4 6中の塵埃を捕獲して除去するフィルタ一とが設けられ、 必要に応じて冷 却ユニット 4 0を設けることもできる。 冷却ユニット 4 0としては、 例えば 熱交換機等を挙げることができる。
[0068] なお、 本発明の洗浄装置 1 0で使用される洗浄剤としては、 各種のものを 挙げることができるが、 例えば H F C (ハイ ドロ ■ フルォロ ■カーボン） や H F E (ハイ ドロ ■ フルォロ ■エーテル） 等のフッ素系溶剤、 臭素系溶剤等 が用いられる。
[0069] こうした洗浄剤は、 その種類により溶剤の表面張力が異なるので、 第 1循 環経路 7 1内を同じ流量で循環させた場合であっても、 オーバーフローする 洗浄剤の液流によって除去される塵埃の除去効率が異なることがある。 すな わち、 表面張力が小さい洗浄剤 4 6を用いた場合には、 液面 7 3の盛り上が りが低くなるので、 塵埃がオーバ一フロー口 9 2に引っ掛かってオーバ一フ ロー槽 3 8側に流出しないことがあるが、 その場合には循環流量を多くする ことが好ましい。 一方、 表面張力が大きい洗浄剤 4 6を用いた場合には、 液 面 7 3の盛り上がりが大きくなるので、 塵埃がオーバ一フロー口 9 2に引つ 掛かり難く、 オーバーフロー槽 3 8側に流出し易くなる。
[0070] 以上のように、 図 3、 図 5及び図 6に示す液面流動手段により、 液面 7 3 に導かれた洗浄剤 4 6の液流 7 4がオーバ一フローする際に、 液面 7 3に浮 遊する軽いゴミゃパーティクル等の塵埃を、 オーバーフローする洗浄剤の液 流によって除去することができる。 その結果、 洗浄槽内で溶剤洗浄した後の ワークを引き上げる際に、 塵埃がワークに再付着するのを防ぐことができる 。 特に、 循環する洗浄剤 4 6は、 必ず本槽 3 7とオーバーフロー槽 3 8を経 て循環するので、 後述する回収手段 2 4により再生される蒸留再生量が少な い場合であっても、 オーバーフローする洗浄剤の量は一定量で循環させるこ とができる。
[0071 ] (第 2実施形態）
第 2実施形態に係る洗浄装置は、 図 8〜図 1 0に示すように、 スリット又 は透孔 9 8を有する仕切り板 1 9 1を液体洗浄ェリアと液流出エリアとの間 に設けて、 主に中間深度位置に浮遊するパーティクルを効果的に除去するも のである。 この第 2実施形態は、 仕切り板 1 9 1の構成が、 上記仕切り板 9 1の構成と異なっているのみであり、 他の構成については、 図 3、 図 5及び 図 6に示すものを適用できるので、 以下では、 同一の構成については同一の 符号を用いてその説明を省略する。
[0072] 図 8は、 仕切り板の他の一例を示す斜視図である。 本実施形態では、 仕切 り板 1 9 1を本槽 3 7内に設けることにより、 液流出エリア 1 3 8を構成し ている。 なお。 この液流出エリア 1 3 8は、 上記の実施形態のように、 ォ一 バ一フロー槽 3 8であってもよいし、 オーバ一フロー槽でなくてもよいので 、 本願において 「液流出エリア」 というときは、 オーバ一フロー槽を包含す る意味で用いる。
[0073] 図 8に示す仕切り板 1 9 1は、 オーバ一フロー口 9 2に加え、 さらにスリ ット又は透孔 9 8が設けられていることに特徴があり、 具体的には、 横方向 に長穴を構成する透孔 9 8が複数設けられているように構成されている。 こ の透孔 9 8は、 図 8に示すように規則的に配列されていてもよいし、 不規則 に配列されていてもよい。 また、 スリットゃ透孔 9 8が設けられる位置は、 仕切り板 1 9 1の全面に設けられていてもよいし、 その一部に設けられてい てもよいが、 好ましくは、 図 8に示すように、 オーバ一フロー口 9 2から下 の所定の中間深度位置に設けられていることが好ましい。 具体的には、 ォ一 バーフロー口 9 2の下部から排出口 7 5 (図 3等を参照） までの間の中間深 度位置に設けられていることが好ましく、 例えば排出口 7 5が図 3に示す側 壁面に設けられている場合にはその上に設けられる。 このように構成するこ とにより、 洗浄剤 4 6をその排出口 （流出部） 7 5から自然流下によつて排 出することができる。 なお、 仕切り板 1 9 1 として、 オーバ一フロー口 9 2 を有さず、 スリツト又は透孔 9 8が設けられたものも用いることが可能であ る。
[0074] 透孔 9 8の形状は特に限定されず、 図示のような長穴であってもよいし、 円形であってもよいし、 その数も特に限定されない。 また、 スリットについ てもその形状や数は特に限定されないが、 例えば図 8に示す長穴が横方向に 繋がったようなスリットを例示できる。 なお、 こうしたスリットゃ透孔 9 8 の大きさを小さめに絞れば、 洗浄剤 4 6をオーバ一フロー口 9 2からオーバ —フローさせることができるし、 その大きさを大きめにすれば、 洗浄剤 4 6 をオーバ一フローさせずにスリット又は透孔 9 8から流出させることができ る。
[0075] 図 9は、 図 8に示す仕切り板を適用した場合の液流の態様を示す説明図で ある。 ここで示す例は、 液流形成板 1 8 1の水平面 1 8 3を上側に設けた態 様である。 液流は液流形成板 1 8 1の作用によって液面に対して平行に本槽 3 7内に供給されるが、 この態様で用いた仕切り板 1 9 1は、 中間深度位置 に設けられた透孔 9 8とを有するので、 その液流は、 主に中間深度位置の透 孔 9 8からも液流出エリア 1 3 8内に流入する。 その結果、 例えば中間深度 領域に浮遊するパーティクルが存在した場合、 そのパーティクルを透孔 9 8 から液流出エリア 1 3 8に流出させることができる。 また、 上記のように、 透孔 9 8の大きさを調整すれば、 洗浄剤 4 6をオーバーフローと併用して液 流出エリァ 1 3 8内に流出させることができるので、 中間深度位置に浮遊す るパーティクルと表層部に浮遊するパーティクルとを同時に排出することも できる。
[0076] 図 1 0は、 図 8に示す仕切り板を適用した場合の液流の他の態様を示す説 明図である。 ここで示す例は、 液流形成板 1 8 1の水平面 1 8 3を下側に設 けた態様である。 液流は液流形成板 1 8 1の作用によって本槽 3 7の底面に 対して平行に本槽 3 7内に供給されるが、 この態様で用いた仕切り板 1 9 1 は、 中間深度位置に設けられた透孔 9 8とを有するので、 その液流は、 主に 底部を通過した後に中間深度位置の透孔 9 8から液流出エリア 1 3 8内に流 入する。 その結果、 例えば底部に浮遊するパーティクルが存在した場合、 そ のパーティクルを透孔 9 8から液流出エリア 1 3 8に流出させることができ る。 また、 上記のように、 透孔 9 8の大きさを調整すれば、 洗浄剤 4 6をォ —バ一フローと併用して液流出エリア 1 3 8内に流出させることができるの で、 底部に浮遊するパーティクルに限らず、 中間深度位置に浮遊するパーテ イクルゃ表層部に浮遊するパーティクルを同時に排出することもできる。 な お、 この形態では、 抑え板 1 8 5は外しても構わない。
[0077] (全体構成）
次に、 本発明の洗浄装置の全体構成について、 図 1、 図 2及び図 1 1によ り詳しく説明する。 なお、 図 1 1は、 本発明の洗浄装置の配管経路を示す模 式図である。 本願において、 「正面視」 とは、 図 1に示すように、 本発明の 洗浄装置を正面図で表したときの形態を示しており、 「平面視」 とは、 図 2 に示すように、 本発明の洗浄装置を平面図で表したときの形態を示している
[0078] 本発明の洗浄装置 1 0を構成する洗浄槽 1 2は、 図 1に示すように、 洗浄 剤 4 6の液体でワーク 4 4を洗浄する液体洗浄ェリア 1 6と、 液体洗浄ェリ ァ 1 6の上部に設けられて洗浄剤の蒸気 4 8でワーク 4 4を洗浄する蒸気洗 浄エリア 1 8と、 蒸気洗浄エリア 1 8と洗浄槽 1 2の上部に設けられたヮ一 ク出入口 1 4との間に設けられて洗浄剤の蒸気 4 8を冷却して洗浄剤 4 6を 液化させる蒸気冷却エリア 2 0とで構成されているが、 洗浄槽 1 2以外の槽 としては、 洗浄槽 1 2から分離して配置されると共に洗浄剤 4 6の蒸気 4 8 を発生させる蒸気発生槽 5 2と、 洗浄槽 1 2から分離して配置されると共に 回収手段 2 4で回収される洗浄剤 4 6から水を分離する水分離槽 2 8とをさ らに備えている。
[0079] また、 本発明の洗浄装置 1 0は、 洗浄槽 1 2と蒸気発生槽 5 2との間を接 続して蒸気発生槽 5 2で発生させた蒸気 4 8を蒸気洗浄ェリア 1 8に供給す るための第 1配管 5 4と、 回収手段 2 4で回収される洗浄剤 4 6を蒸気冷却 エリア 2 0から水分離槽 2 8に送る第 2配管 2 6と、 水分離槽 2 8で水分が 除去された洗浄剤 4 6を水分離槽 2 8から洗浄槽 1 2に送る第 3配管 5 8と 、 洗浄槽 1 2と蒸気発生槽 5 2との間を接続して洗浄槽 1 2の洗浄剤 4 6の 余剰液を蒸気発生槽 5 2に送るための第 4配管 2 7とを有している。 なお、 洗浄槽 1 2、 蒸気発生槽 5 2、 水分離槽 2 8及び第 1〜第 4配管により、 第 2循環経路が形成されている。
[0080] 以下、 各エリア、 回収手段、 第 1〜第 4配管、 蒸気発生槽、 水分離槽等に ついて説明する。
[0081 ] 液体洗浄エリア 1 6は、 上述の本槽 3 7に対応するものであり、 洗浄槽 1 2の下部に設けられて、 液状の洗浄剤 4 6でワーク 4 4を洗浄するエリアで ある。 この液体洗浄エリア 1 6は、 1つ又は複数のワーク 4 4を洗浄剤 4 6 に浸漬できるだけの容量を持っている。 その底部には、 図 1に示すように、 超音波振動子 6 0を設けてもよい。 この超音波振動子 6 0は、 必要に応じて 作動させ、 ワーク 4 4の洗浄効率を向上させることができる。
[0082] 特に、 本発明の洗浄装置 1 0は、 洗浄剤 4 6の液流 7 4が液面近傍を液面 7 3と平行にオーバ一フロー槽 3 8に向かって流れるので、 液面付近以外の 液流は速くない。 そのため、 ワーク 4 4が本槽 3 7内に浸潰した場合、 洗浄 剤 4 6は液面近傍を主に流れ、 ワーク 4 4の周りの液流は緩やかであるので 、 超音波によるワーク洗浄を効果的に行うことができる。 なお、 ワーク 4 4 の周りの液流が速い場合には超音波によるワーク洗浄は効果的に行われない
[0083] 液体洗浄エリア 1 6には、 温度制御を行うための温度制御手段を設けても よい。 例えば超音波振動子 6 0を動作させると洗浄剤 4 6の温度が上昇する ので、 図 1に示すように、 温度を一定に保っためのサ一モモジュール 6 2 ( ペルチェ素子） を適当な部位に所定の個数設けてもよい。 こうしたサ一モモ ジュール 6 2は、 ペルチェ効果を利用した素子であり、 可動部が無く騒音を 発生しないという利点がある。 サ一モモジュール 6 2は、 各種のものを用い ることができ、 例えばペルチヱ素子や冷却ファンを単独又は組み合わせて用 いることができる。 特に上部のワーク出入口 1 4付近にサ一モモジュール 6 4を配置して冷却することが望ましい。
[0084] 蒸気洗浄エリア 1 8は、 洗浄槽 1 2の中間部に設けられて、 洗浄剤の蒸気 4 8でワーク 4 4を洗浄するエリアである。 この蒸気洗浄エリア 1 8も、 上 記液体洗浄エリア 1 6と同様、 1つ又は複数のワーク 4 4を洗浄剤の蒸気 4 8雰囲気に曝すことができるだけの容量を持っている。 この蒸気洗浄エリア 1 8では、 洗浄剤の蒸気 4 8が飽和状態でワーク 4 4に接触するように供給 される。 その蒸気 4 8は、 蒸気発生槽 5 2で発生した蒸気が第 1配管 5 4を 上昇してきた蒸気である。 こうして供給された蒸気 4 8は、 ワーク 4 4の表 面に接触して凝縮することにより、 ワーク 4 4の洗浄が行われる。 特に本発 明の洗浄装置においては、 液体洗浄エリア 1 6から引き上げられるワーク 4 4に、 液表面に浮遊する塵埃等の再付着がないので、 ワーク 4 4を蒸気洗浄 することにより、 極めて清浄な洗浄を行うことができる。
[0085] 蒸気洗浄エリア 1 8の壁面 3 1 (洗浄槽 1 2の中間部の内壁面又は外壁面 ) には、 図 1に示すように、 ヒータ 3 0等の加熱手段を設けることが好まし し、。 こうした加熱手段を設けることによって、 洗浄剤の蒸気 4 8がその壁面 3 1で結露して液化するのを抑制できる。 なお、 この加熱手段は、 蒸気洗浄 エリア 1 8と蒸気冷却ェリア 2 0との境界付近の蒸気洗浄ェリァ 1 8側に設 けられていることが好ましい。 この位置に加熱手段を設けることにより、 蒸 気冷却エリア 2 0の冷気が壁面を伝導して蒸気洗浄エリア 1 8の壁面の温度 を下げるのを防ぐことができ、 その結果、 蒸気 4 8がその壁面 3 1で結露し て液化するのを防ぐことができると共に、 蒸気洗浄エリアの洗浄剤の蒸気の 温度低下を防止することができ、 ひいては、 蒸気洗浄を安定した状態で行う ことができる。 加熱手段としては種々のものを挙げることができ、 例えば面 状ヒータやパイプヒータ等を挙げることができる。 これらの加熱手段は、 洗 浄剤に対する耐性等を考慮して、 内壁面又は外壁面に沿わせて設けることが できる。 さらに、 これら加熱手段は、 洗浄槽 1 2の壁面 3 1に代えて、 蒸気 洗浄ェリア 1 8と蒸気冷却ェリア 2 0との境界付近の蒸気洗浄ェリア 1 8側 の同エリア内部に設けても良い。 この場合、 加熱手段は、 ワーク 4 4との緩 衝を避ける位置に配置するように配慮する必要があるが、 蒸気洗浄エリア 1 8の洗浄剤の蒸気 4 8の温度低下を良好に防止できると同時に、 壁面 3 1へ の結露も防止することもでき、 ひいては蒸気洗浄を安定した状態で行うこと ができる。
[0086] 液体洗浄エリア 1 6と蒸気洗浄エリア 1 8との境界付近の壁面には、 断熱 部材 3 6を設けることが好ましい。 断熱部材 3 6を境界付近の壁面に設ける ことによって、 蒸気洗浄エリア壁面の高い温度と、 液体洗浄エリア壁面の低 い温度との温度干渉を起こり難くすることができるので、 それぞれのエリア での効率的な洗浄を実現することができる。 なお、 蒸気洗浄エリア 1 8と蒸 気冷却エリア 2 0との境界付近の壁面にも断熱部材 3 5を設けることが好ま しい。 これらの断熱部材 3 5 , 3 6の設置方法については、 例えば熱伝導率 が低く洗浄剤に対して耐性のある樹脂部材 （例えば、 ポリアセタール等） を 断熱部材として用いた場合は、 金属製の壁面の連続性を遮断するように設け ることができる。
[0087] 蒸気冷却エリア 2 0は、 洗浄槽 1 2の上部に設けられて、 洗浄剤の蒸気を 冷却して液化させるエリアである。 この蒸気冷却エリア 2 0は、 液化できな い蒸気がワーク出入口 1 4から環境中に逃げない程度の高さ及び大きさであ ればよく、 その高さ及び大きさは、 洗浄槽 1 2全体の容量に基づいて設計さ れる。 具体的には、 本実施の形態においては、 開口部の短辺 Lに対する蒸気 冷却エリア 2 0の高さ Hのフリーポード比を 1 . 5以上確保するようにして いる。
[0088] 蒸気冷却エリア 2 0では、 冷却された内壁面で蒸気が冷やされて液化する 。 こうした液化は蒸気冷却エリア 2 0内の蒸気圧を下げ、 ワーク 4 4の表面 に凝縮していた液滴を気化させ、 その結果、 ワーク 4 4の乾燥が行われる。 蒸気洗浄ェリア 1 8内での温度低下を防ぐように加熱手段 3 0や断熱部材 3 6を設ければ、 ワーク 4 4の温度が高く維持され、 乾燥時に気化熱が奪われ てもワーク 4 4の温度が下がりすぎることがなく、 再凝縮によるシミ等の発 生も起こらないという利点がある。 また、 蒸気冷却エリア 2 0の温度を低下 させるようにヒートシンク 3 2を設ければ、 蒸気圧を下げてワーク 4 4表面 に凝縮していた液滴を速やかに気化させることができる。
[0089] 蒸気冷却エリア 2 0の壁面には、 図 1及び図 2に示すように、 サ一モモジ ユール 6 4 (ペルチェ素子） が適当な部位に所定の個数設けられている。 こ のサーモモジュール 6 4は、 エリア内の温度を蒸気 4 8が液化する程度の温 度に冷却するために設けられるものであり、 例えば図 1及び図 2に示すよう に、 複数設けられていることが好ましい。
[0090] 蒸気洗浄ェリア 1 8と蒸気冷却ェリア 2 0との境界付近の蒸気冷却ェリァ
2 0側には、 ヒートシンク 3 2を設けることが好ましい。 このヒートシンク
3 2は、 熱伝導性の良いアルミニウムや銅等の金属材料で形成された加工部 材であり、 洗浄装置 1 0においては、 そのヒートシンク 3 2を、 蒸気洗浄ェ リア 1 8と蒸気冷却エリア 2 0との境界付近に、 出し入れするワーク 4 4の 邪魔にならないように設けたので、 蒸気洗浄エリア 1 8ではより効率的な蒸 気洗浄を行い、 蒸気冷却エリア 2 0ではより効率的な乾燥と蒸気の液化を行 うことができる。 特に、 液化を効率的に行うことができる点で好ましく用い られる。 [0091 ] ヒートシンク 3 2は、 図 1に示すように、 ヒートパイプ 3 4に接続されて いる。 ヒートシンク 3 2の形状は、 ワークの出し入れを阻害しないようにな つていればよく、 その形状は特に限定されないが、 本実施の形態においては 、 図 2に示すように、 ヒートパイプ 3 4の下側で洗浄槽 1 2の内壁に沿うよ うに環状のヒートシンク 3 2が配置されている。 また、 図示しないが、 洗浄 槽 1 2の向かい合う内壁に沿って、 2つのヒートシンク 3 2が平行に配置さ れたものであってもよい。
[0092] ヒートパイプ 3 4としては、 市販されている各種のものを用いることがで き、 例えば、 従来から知られている一般的なヒートパイプを用いてもよいし 、 「ヒートレーン （登録商標） 」 （ティ一エスヒートロニクス株式会社製） と呼ばれる蛇行細管型ヒートパイプを用いてもよい。 これらのヒートパイプ 3 4は、 蒸気冷却エリア 2 0に設けられたサ一モモジュール 6 4に接続され ていることが好ましく、 そのサ一モモジュール 6 4で熱交換してヒートシン ク 3 2を冷却することができる。
[0093] 蒸気冷却エリア 2 0で液化された洗浄剤は、 回収手段 2 4により回収する ことができる。 蒸気 4 8は蒸気冷却エリア 2 0の内壁面で液化し、 その内壁 面を流れ落ちる。 回収手段 2 4は、 内壁面を流れ落ちる洗浄剤を受け止める ように設けてあればよく、 例えば図 1に示すように、 内壁面に沿って受皿 5 0を形成することが好ましい。 この受皿 5 0により、 蒸気冷却エリア 2 0で 液化した洗浄剤を回収することができる。 回収された洗浄剤 4 6は、 洗浄槽 1 2から分離して配置される水分離槽 2 8に第 2配管 2 6によって送られる
[0094] 洗浄槽 1 2の上方には開口部があり、 その開口部はカバ一 1 4 aで覆われ ている。 カバ一 1 4 aには、 ワーク 4 4の出し入れができる大きさのワーク 出入口 1 4が形成されている。 こうしたカバ一 1 4 aを洗浄槽 1 2に設ける ことにより、 霧滴の飛散を防ぐことができると共に、 蒸気の蒸散量の低減を 図ることができる。 また、 蒸気冷却エリア 2 0から環境中に蒸発しようとす る洗浄剤はカバー 1 4 aに付着して冷却され、 液化して洗浄槽 1 2内に滴下 する。 これにより、 高価な洗浄剤の消費量をより抑えることができる。 カバ - 1 4 aの取付方法は特に限定されないが、 メンテナンス時に容易に取り外 しができるようにクランプ等の簡易的な方法で固定することが好ましい。 ま た、 カバーの材質等も特に限定されず、 金属や樹脂で形成することができる
[0095] 蒸気発生槽 5 2は、 図 1に示すように、 洗浄槽 1 2から分離して配置され ると共に洗浄剤 4 6をヒータ 5 3等の加熱手段で加熱して洗浄剤 4 6の蒸気 4 8を発生させるための処理槽である。 この蒸気発生槽 5 2の側壁には、 液 面計を設けてもよい。 この蒸気発生槽 5 2と洗浄槽 1 2との間を接続する第 1配管 5 4は、 蒸気発生槽 5 2で発生させた蒸気 4 8を蒸気洗浄エリア 1 8 に供給するための配管であり、 この蒸気発生槽 5 2とオーバ一フロー槽 3 8 (液流出エリアということができる。 以下同じ。 ） との間を接続する第 4配 管 2 7は、 洗浄槽 1 2の洗浄剤 4 6の余剰液を蒸気発生槽 5 2に送るための 配管である。 なお、 図 1に示す実施の形態において、 第 4配管 2 7は液体洗 浄ェリア 1 6からオーバーフロー槽 3 8に流入した洗浄剤 4 6の余剰液を蒸 気発生槽 5 2に送るように設けられている。
[0096] 蒸気発生槽 5 2と洗浄槽 1 2とを連結する第 1配管 5 4は、 図 1及び図 1
1に示すように、 蒸気洗浄エリア 1 8側の取付位置 2 2よりも蒸気発生槽 5 2側の取付位置 5 6の方が低くなるように設けられている。 第 1配管 5 4の 両端の取付位置は上記高低の関係であればよく、 配管形態は特に限定されな いが、 図 1に示すように、 蒸気発生槽 5 2と洗浄槽 1 2に所との間で所定の 傾きとなるように直線的に配管されたものであることが好ましい。 こうした 第 1配管 5 4は、 蒸気発生槽 5 2で発生した蒸気 4 8を、 蒸気洗浄エリア 1 8に容易に送ると共に、 第 1配管 5 4内で凝縮して液化してしまった洗浄剤 が洗浄槽 1 2に入るのを防いで、 その全てを蒸気発生槽 5 2に戻す。 このこ とは、 通常所定の温度に設定される液体洗浄エリア 1 6の洗浄剤 4 6に、 第 1配管 5 4内で液化した高温の洗浄剤が混ざるのを防ぐので、 液体洗浄ェリ ァ 1 6でのワーク 4 4の洗浄を安定した状態で行うことができる。 [0097] 第 1配管 5 4は、 蒸気発生槽 5 2から洗浄槽 1 2に正面視で直線状に傾い ていることが好ましいが、 蒸気洗浄エリア 1 8側の取付位置 2 2よりも蒸気 発生槽 1 4側の取付位置 5 6の方が低くなつていれば、 正面視で階段状又は 段差状になっていてもよいし、 洗浄槽 1 2の外壁面に沿わせるように折り曲 げながら配管されたものであってもよい。 従って、 第 1配管 5 4は、 平面視 では折り曲げながら且つ正面視では直線状又は階段状となるように配管した ものであってもよい。 第 1配管 5 4の両端の取付位置 2 2 , 5 6の高低差は 特に限定されないが、 上記効果を奏する範囲内での高低差を有していればよ い。
[0098] 第 1配管 5 4は、 洗浄槽 1 2に送り込む蒸気 4 8の種類と量に応じて、 本 数、 内径、 材質等が選択される。 例えば大量の蒸気を送り込む必要がある大 型の洗浄槽 1 2を用いる場合には、 内径の大きな第 1配管 5 4を多数本設け る必要がある。
[0099] 通常、 洗浄剤 4 6として有機系溶剤が用いられるので、 第 1配管 5 4の材 質としては、 洗浄剤に対して安定であるものが選択され、 例えば金属系ゃ樹 脂系の材料を用いることが好ましい。 このうち、 樹脂材料からなる第 1配管 5 4が好ましく用いられる。 樹脂材料からなる第 1配管 5 4は、 スチール等 の金属系に比べて熱伝導率が低いので、 第 1配管 5 4の両側に配置される両 槽 （洗浄槽 1 2と蒸気発生槽 5 2 ) の温度が乱されることがない。
その結果、 例えば蒸気発生槽の高い温度が洗浄槽に伝わることによる処理温 度の変動を防ぐことができると共に、 洗浄槽の温度が蒸気発生槽に伝わるこ とによる蒸気発生効率の低下等を防ぐことができる。 第 1配管 5 4は、 その 全てが樹脂材料からなるものであってもよいし、 その一部を樹脂材料からな る配管とし他の部分を金属製の配管としたものであってもよい。 金属製の配 管を一部に用いた場合には、 低い外気温で配管内の蒸気が結露しないように 断熱材で覆っておくことが望ましい。 断熱材としては、 例えばゴム系スポン ジ等が挙げられる。
[0100] —方、 スチール等の金属系の材料からなる第 1配管 5 4を用いた場合には 、 配管周りを断熱材等で覆って外気温の影響を防ぐことが望ましく、 その配 管経路の一部に、 熱伝導性の低い樹脂製の配管を設けることがより望ましい 。 こうすることにより、 上記同様、 処理温度の変動を防いだり、 蒸気発生効 率の低下を防いだり、 配管内の蒸気の結露を防ぐことができる。
[0101 ] 蒸気発生槽 5 2とオーバ一フロー槽 3 8との間を接続する第 4配管 2 7は 、 洗浄槽 1 2の液体洗浄エリア 1 6からオーバ一フロー槽 3 8に流入した洗 浄剤 4 6の余剰液を蒸気発生槽 5 2に送るための配管である。 この第 4配管 2 7は、 図 1に示すような U字形状からなる水封構造であることが好ましい 。 この第 4配管 2 7は、 オーバ一フロー槽 3 8側の配管口が蒸気発生槽 5 2 側の配管口よりも高い位置に設けられているため、 蒸気発生槽 5 2側からォ 一バーフロー槽 3 8側に加熱された洗浄剤が逆流することがなく、 また、 水 封構造となっているため、 蒸気発生槽 5 2で生じた蒸気 4 8がオーバーフロ ー槽 3 8側に入り込むことがない。
[0102] 水分離槽 2 8は、 図 1に示すように、 洗浄槽 1 2から分離して配置される と共に回収手段 2 4で回収される洗浄剤 4 6から水を分離するための処理槽 である。 この水分離槽 2 8と回収手段 2 4との間を接続する第 2配管 2 6は 、 回収手段 2 4で回収された洗浄剤 4 6を水分離槽 2 8に送るための配管で あり、 この水分離槽 2 8と洗浄槽 1 2との間を接続する第 3配管 5 8は、 水 分離槽 2 8で水分が除去された洗浄剤 4 6を水分離槽 2 8から洗浄槽 1 2に 送るための配管である。
[0103] 水分離槽 2 8には、 図 1に示すように、 回収手段 2 4で回収された洗浄剤 4 6から水を分離する分離手段が設けられている。 分離手段は特に限定され ないが、 例えば洗浄剤として水よりも比重の大きい有機溶剤を用いた場合に は、 水分離槽 2 8の中央を仕切る仕切板 2 9を挙げることができる。 この仕 切板 2 9は、 シミの原因となる水と洗浄剤 4 6とを分離するよう作用する。 水分離槽 2 8で水が分離された洗浄剤 4 6は、 第 3配管 5 8によって洗浄槽 1 2に送られるが、 上記の回収手段 2 4と水分離層 2 8とを設けることによ り、 水を含んだ状態の洗浄剤が洗浄槽 1 2内に送られるのを防ぐことができ る。
[0104] 第 3配管 5 8は、 図 1においては、 本槽 3 7の底面の流入口 5 9に接続さ れているが、 その接続位置は本槽の底面に限定されず、 本槽の何れかの側面 であってもよい。 また、 本槽 3 7から水分離槽 2 8に洗浄剤 4 6が逆流しな いように、 本槽 3 7の液面よりも水分離槽 2 8の液面の方が高くなつている ことが望ましい。 なお、 この第 3配管 5 8から本槽 3 7に流入する洗浄剤 4 6は、 そのもとは、 回収手段 2 4で回収された洗浄剤 4 6であるので、 塵埃 はほとんど含まれておらず、 その量は少ない。
[0105] また、 図 1においては、 第 3配管は、 水分離槽 2 8と本槽 3 7とを接続す る配管としているが、 それに代えて、 水分離槽 2 8とオーバ一フロー槽 3 8 とを接続するする配管としてもよい。 この場合、 オーバ一フロー槽 3 8に流 入した洗浄剤 4 6は、 第 4配管を経由して蒸気発生槽 5 2へ流入するかまた は、 第 1循環経路 7 1を経由して、 本槽 3 7へ循環することとなる。 即ち、 第 1循環経路と第 2循環経路とのうちいずれかの循環経路により循環する洗 浄剤 4 6の流れは、 図 1における場合と同様である。
[0106] なお、 洗浄槽 1 2内の底部には、 排出口 6 8とその排出口 6 8に接続する 排出管 6 9とを設けることができる。 本槽 3 7の底部には、 ワーク 4 4に付 着したゴミ等のうち重いゴミ等が溜まるが、 排出口 6 8からそうしたゴミ等 を排出することができる。 また、 その排出口 6 8は、 本槽 3 7の洗浄剤を交 換する際に用いられる。
[0107] 最後に、 洗浄槽 1 2内の汚れを蒸気発生槽 5 2内に濃縮することができる 理由を図 1 1を用いて説明する。 図 1 1に示すように、 ワーク 4 4は本槽 3 7内で洗浄されるので、 本槽 3 7内にはワーク 4 4に付着した塵埃等や油分 等の汚れが残るが、 そうした汚れのうち重い塵埃等は本槽 3 7の下部に溜ま り、 軽い塵埃や油分等はオーバーフロー槽 3 8内に流れ込む。 オーバーフロ ー槽 3 8に流れ込んだ塵埃や油分等の一部は第 4配管 2 7から蒸気発生槽 5 2内に入るが、 蒸気発生槽 5 2内からは蒸気 4 8のみが第 1配管 5 4から洗 浄槽 1 2内に戻るので、 蒸気発生槽 5 2内に入った塵埃や油分等は蒸気発生 槽 5 2内で徐々に濃縮されていくことになる。 その結果、 本槽 3 7内の汚れ を蒸気発生槽 5 2内に集め、 しかも濃縮することができる。 そして、 蒸気発 生槽 5 2内で濃縮された溶剤を新しい溶剤に交換すれば、 塵埃や油分等を洗 浄装置 1 0内から容易に除去することができる。 なお、 この蒸気発生槽の大 きさは、 例えば 2 0 0 O m Lビーカ __杯程度の容量とすることもできるの で、 新しい溶剤への交換は容易である。
[0108] また、 図 1及び図 1 1においては、 第 4配管 2 7は、 オーバ一フロー槽 3 8と蒸気発生槽 5 2とを接続する配管として表されているが、 それに代えて 、 本槽 3 7と蒸気発生槽 5 2とを接続する配管としてもよい。 この場合であ つても、 本槽 3 7内に溜まった塵埃や油分等を蒸気発生槽 5 2内に送ること ができるので、 蒸気発生槽 5 2内の塵埃や油分等を蒸気発生槽 5 2内に濃縮 することができる。 なお、 第 3配管を水分離槽 2 8とオーバーフロー槽 3 8 とを接続するする配管とした場合も、 洗浄剤 4 6の循環に変わりないので、 その効果は同様である。
[0109] また、 図 1 1に示すように、 洗浄剤 4 6を供給する場合には、 配管 9 8を 経由して、 洗浄剤 4 6の供給容器 9 9からオーバーフロー槽 3 8内に供給す ることができる。 なお、 図 1 1においては、 オーバ一フロー槽 3 8の底部に 供給しているが、 これに限られず、 本槽 3 7や水分離槽 2 8に供給しても良 い。
[01 10] 以上説明した本発明の洗浄装置 1 0によれば、 液面に導かれた洗浄剤の液 流がオーバーフローする際に、 液面に浮遊する軽いゴミゃパーティクル等の 塵埃を、 オーバーフローする液流によって除去することができるので、 洗浄 槽内で溶剤洗浄した後のワークを引き上げる際に、 塵埃がワークに再付着す ることがなく、 清浄な洗浄を行うことができる。 また、 塵埃や油分等の汚れ は蒸気発生槽に濃縮されるので、 蒸気発生槽内で濃縮された溶剤を新しい溶 剤に交換すれば、 塵埃や油分等を洗浄装置内から容易に除去することができ る。 こうした洗浄装置 1 0は、 電子部品、 精密部品、 金属部品、 プリント配 線基板、 ガラス基板その他の各種被洗浄物 （ワーク） を極めて効率よく清浄 に洗浄処理することができる。

Claims

請求の範囲
[1 ] 流入部を有し、 当該流入部から流入する洗浄剤を貯留すると共に当該貯留 している洗浄剤の液体でワークを洗浄する液体洗浄ェリアと、 当該液体洗浄 エリア内の洗浄剤が流入すると共に当該流入した洗浄剤を流出させる流出部 を有する液流出エリアと、 を備える洗浄槽を有し、
前記液体洗浄エリアには、 前記流入部と、 当該流入部から流入する洗浄剤 の液流を前記液体洗浄ェリァ内の洗浄剤の液面と平行な液流になるように当 該液面に導く液流ガイ ドとを有する液面流動手段が設けられていることを特 徵とする洗浄装置。
[2] 前記液流出エリアは、 前記液体洗浄エリアに貯留された洗浄剤のうち、 表 層の洗浄剤が流入するオーバーフロー槽である、 請求項 1に記載の洗浄装置
[3] 前記流入部が、 前記液体洗浄ェリァ内の槽壁面に設けられた流入口であり 前記液流ガイ ドが、 前記流入口から流入した洗浄剤の液流方向を液面方向 に変える傾斜部と、 当該液面方向に変えられた洗浄剤の液流を液面に導く開 口部とを有するガイ ド板である、 請求項 1又は 2に記載の洗浄装置。
[4] 前記流入部が、 前記液体洗浄ェリァ内の槽壁面に設けられた流入口であり 前記液流ガイ ドが、 前記流入口から流入した洗浄剤の液流を前記液面方向 になだらかに導く曲面と、 前記液面近傍で前記液面とほぼ平行な水平面とを 有する液流形成板である、 請求項 1又は 2に記載の洗浄装置。
[5] 前記液面近傍には、 前記液流形成板と対向するとともに、 洗浄剤の液流の 飛び跳ねを抑える抑え板をさらに備える、 請求項 4に記載の洗浄装置。
[6] 前記流入部が、 前記液体洗浄エリア内の液面近傍に設けられた 1又は複数 の流入口を有するシャヮ一部材で構成されており、
前記液流ガイ ドが、 前記流入口から流入する洗浄剤の液流を液面と平行な 液流になるように調整する調整部材である、 請求項 1又は 2に記載の洗浄装 置。
[7] 前記液流出エリァは、 着脱可能に且つ取り付け位置を変更可能な仕切り板 により前記液体洗浄エリアとの間が仕切られて形成されている、 請求項 1又 は 2に記載の洗浄装置。
[8] 前記仕切り板は、 前記洗浄槽に貯留される洗浄剤の中間深度位置にスリッ ト又は透孔を有し、
前記液流出エリアは、 前記透孔よりも深い位置に前記流出部を有する、 請 求項 7に記載の洗浄装置。
[9] 前記洗浄槽には、 前記洗浄剤を循環させる 1又は 2以上の循環経路が接続 され、
第 1循環経路は、 前記洗浄剤を前記液流出エリアの底面又は側面に設けら れた前記流出部から排出して前記流入部に導く配管経路であり、 当該配管経 路には、 前記洗浄剤を循環させるためのポンプと、 前記洗浄剤中の塵埃を除 去するフィルタ一とが設けられている、 請求項 1〜8の何れかに記載の洗浄 装置。
[10] 請求項 9に記載の洗浄装置において、
前記洗浄槽は、 前記液体洗浄ェリァの上部に設けられて前記洗浄剤の蒸気 でワークを洗浄する蒸気洗浄ェリアと、 当該蒸気洗浄ェリアと当該洗浄槽の 上部に設けられたワーク出入口との間に設けられて前記洗浄剤の蒸気を冷却 して当該洗浄剤を液化させる蒸気冷却ェリアと、 当該蒸気冷却ェリァで液化 された洗浄剤を回収する回収手段と、 をさらに有し、
当該洗浄装置は、 前記洗浄槽から分離して配置されると共に前記洗浄剤の 蒸気を発生させる蒸気発生槽と、 前記洗浄槽から分離して配置されると共に 前記回収手段で回収される洗浄剤から水を分離する水分離槽と、 前記洗浄槽 と前記蒸気発生槽との間を接続して当該蒸気発生槽で発生させた蒸気を前記 蒸気洗浄エリアに供給するための第 1配管と、 前記回収手段で回収される洗 浄剤を前記蒸気冷却ェリァから前記水分離槽に送る第 2配管と、 前記水分離 槽で水分が除去された洗浄剤を当該水分離槽から前記洗浄槽に送る第 3配管 と、 前記洗浄槽と前記蒸気発生槽との間を接続して前記洗浄槽の洗浄剤の余 剰液を前記蒸気発生槽に送るための第 4配管と、 をさらに備える洗浄装置。
[1 1 ] 前記第 4配管が水封構造で設けられている、 請求項 1 0に記載の洗浄装置
[12] 前記蒸気洗浄ェリアと前記蒸気冷却ェリアとの境界付近の蒸気洗浄ェリァ 側には、 加熱手段が設けられている、 請求項 1 0に記載の洗浄装置。
[13] 前記蒸気洗浄ェリアと前記蒸気冷却ェリアとの境界付近の蒸気冷却ェリァ 側には、 冷却用ヒートシンクが配置され、 当該ヒートシンクには、 ヒートパ イブが接続されている、 請求項 1 0に記載の洗浄装置。
[14] 前記液体洗浄ェリアと前記蒸気洗浄ェリアとの境界付近の前記洗浄槽の壁 面には、 断熱部材が設けられている、 請求項 1 0に記載の洗浄装置。
[15] 前記蒸気冷却エリアと前記ワーク出入口とのフリーポード比は 1 . 5以上 であり、 前記ワーク出入口にはカバーが設けられている、 請求項 1 0に記載 の洗浄装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102580945A (zh) * 2012-03-09 2012-07-18 昆山亿富达电子有限公司 溢流水洗装置
CN104106202A (zh) * 2012-01-26 2014-10-15 西门子公司 用于冷却超导机的装置
CN106000992A (zh) * 2016-06-16 2016-10-12 江苏永尚能源科技有限公司 一种密封件清洗装置
CN112018006A (zh) * 2020-09-18 2020-12-01 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体清洗设备
CN114273302A (zh) * 2021-12-06 2022-04-05 康硕(德阳)智能制造有限公司 一种3d打印产品多功能清洗装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY147281A (en) * 2008-07-31 2012-11-30 Invenpro M Sdn Bhd An apparatus for washing a workpiece

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5871630A (ja) * 1981-10-23 1983-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 処理液による処理方法および処理装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5871630A (ja) * 1981-10-23 1983-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 処理液による処理方法および処理装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104106202A (zh) * 2012-01-26 2014-10-15 西门子公司 用于冷却超导机的装置
US9728313B2 (en) 2012-01-26 2017-08-08 Siemens Aktiengesellschaft Device for cooling a superconducting machine
CN102580945A (zh) * 2012-03-09 2012-07-18 昆山亿富达电子有限公司 溢流水洗装置
CN106000992A (zh) * 2016-06-16 2016-10-12 江苏永尚能源科技有限公司 一种密封件清洗装置
CN112018006A (zh) * 2020-09-18 2020-12-01 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体清洗设备
CN114273302A (zh) * 2021-12-06 2022-04-05 康硕(德阳)智能制造有限公司 一种3d打印产品多功能清洗装置

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