WO2006132107A1 - 2-エチルヘキサン酸ニオブ誘導体、該誘導体の製造方法、該誘導体を含有する有機酸金属塩組成物及び該組成物を用いた薄膜の製造方法 - Google Patents

2-エチルヘキサン酸ニオブ誘導体、該誘導体の製造方法、該誘導体を含有する有機酸金属塩組成物及び該組成物を用いた薄膜の製造方法 Download PDF

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Atsuya Yoshinaka
Hiroyuki Kameda
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    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216Metal oxides

Definitions

  • 2-Ethylhexanoic acid niobium derivative method for producing the derivative, organic acid metal salt composition containing the derivative, and method for producing a thin film using the composition
  • the present invention relates to a niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid having a specific structure, a process for producing the derivative, a niobium derivative of 2-ethyhexanoic acid, a metal precursor other than niobium, and an organic solvent.
  • the present invention relates to an organic acid metal salt composition and a method of producing a thin film using the composition.
  • Non-Patent Document 1 reports a niobium-doped lead zirconate titanate (PNZT) thin film in which a part of titanium sites of lead zirconate titanate is replaced with niobium.
  • PNZT niobium-doped lead zirconate titanate
  • a coating thermal decomposition method such as a sol-gel method, a CVD (chemical Vapor Deposition) method, an ALD (Atomic Lay Deposition) method, etc. It can be mentioned.
  • the MOD method which is easy to form thin films with low manufacturing costs, is a preferred method.
  • Alcoside compounds and metal salts of organic acids are mainly used as thin film precursors used in the MOD method, and the same is true for double precursor.
  • An article (claim 1) is disclosed.
  • niobium ethoxide, niobium propoxide, two niobium compounds may be used as niobium compounds.
  • Lead compounds are exemplified by alkoxides such as obbutoxide and niobium 2-methoxy ethoxide, carboxylic acids such as octyl acid-lobe, n-hexane niobium oxide, niobium 2-ethylbutyric acid niobium and i-niobivalate niobium etc.
  • Examples thereof include carboxylates such as lead octyrate, lead n-hexanoate, lead 2-ethylbutyrate, lead monovalerate and lead acetate, and alkoxides such as lead ethoxide, lead provoxide, lead butoxide, etc. It is done.
  • composition is represented by Bi (Ta Nb) O (where 0 ⁇ m ⁇ l),
  • the composition was formed into [ ⁇ Sr (Pb and
  • carboxylic acid salts such as niobium 2-ethyl butyric acid, niobium niobium ivalate and the like are exemplified, and lead compounds such as lead octyrate, n-hexenoic acid bell, lead 2-ethyric acid lactate, lead i-chivalerate, Examples thereof include carboxylates such as lead acetate and alkoxides such as lead ethoxide, lead propoxide and lead butoxide.
  • Patent Document 3 also includes a step of providing a plurality of polyoxyalky chelate base metal moieties, including perovskite type A-cytomoiety, perovskist type B cytomoiety, and superlattice formation moieties.
  • a method for making an electronic device said method combining the respective metal moieties in relative proportions corresponding to a layered superlattice material (112) having a plurality of layers (116, 124, 128) in sequence.
  • the process comprises an AZB ionic subunit cell (146) formed from an oxide of a metal selected from the group consisting of A-site metal, B-site metal, and mixtures thereof.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 9 25124. Claims
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-142845 Patent Claims
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Publication No. 11 509683. Claim: Page 47
  • Non-patent document 4 Jpn. Appl. Phys., Vol. 44, No. 1A (2005) page 267-274 Disclosure of the Invention
  • the organic acid niobium as described above has the problem that the properties and physical properties of the resulting derivative are largely different depending on the production method and production conditions, and it is difficult to handle as a precursor of the MOD method.
  • one of the problems in the MOD method is that it is difficult to obtain sufficient stability of a coating liquid composition containing a precursor.
  • the composition to be the coating solution is a force to be a mixed solution of precursors containing various metal elements in the thin film.
  • a metal alkoxide composite is used as a precursor compound. In the case where the metal alkoxide is highly reactive, it reacts with other precursors and moisture in the air to cause deterioration such as thickening gelation and precipitation.
  • organic acid niobium is often expressed as (RCOO) Nb, but the carbon content is Both Nb contents are various.
  • the model represented by is as shown in the following chemical formula, but it is difficult to actually identify the chemical structure accurately.
  • L represents an organic acid residue.
  • a coating solution using a precursor having a niobium content of about 11.5% by mass has a problem that storage stability is poor. Also, such organic acid niobium is further There is also a problem that gelation or precipitation of the coating solution occurs due to a chemical reaction when used in combination with other precursor compounds.
  • an object of the present invention is to provide a niobium derivative of 2-ethylhexanoate useful as a precursor of MOD method and a method for producing the same.
  • Another object of the present invention is to provide an organic acid metal salt containing a niobium precursor suitable as a raw material for MOD method and a metal precursor other than niobium when preparing a thin film containing niobium and a metal other than niobium by the MOD method. It is an object of the present invention to provide a composition and a method of producing a thin film using the composition.
  • the niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid of the present invention has a niobium content of 13 to 16% by mass, a carbon content of 50 to 58% by mass, and a niobium atom, an oxygen atom and It is characterized in that only the 2-ethyl hexanoic acid residue is also composed of force.
  • niobium derivative of 2-ethylhexanoate can be produced by reacting pentakis (alkoxy) niobium with 2-ethy lhexanoic acid.
  • the present invention is an organic acid metal salt composition
  • organic acid metal salt composition comprising the niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid described above; a metal precursor other than niobium; and at least one organic solvent. It is to provide.
  • organic acid metal salt composition of the present invention may contain any other metal precursor.
  • FIG. 1 is a chart of an iH-NMR analysis of the niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid of the present invention obtained in Example 1.
  • FIG. 2 is a chart of a 13 C-NMR analysis of the niobium derivative of 2-ethylhexanoate of the present invention obtained in Example 1.
  • FIG. 3 is a chart of IR analysis of the 2-ethylhexanoate niobium derivative of the present invention obtained in Example 1.
  • FIG. 4 is a chart of TG-DTA analysis of the 2-ethylhexanoate derivative of the present invention obtained in Example 1 of the present invention.
  • the niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid of the present invention has a niobium content of 13 to 16% by mass, preferably 13 to 15% by mass, and a carbon content of 50 to 58% by mass, preferably Is in the range of 52 to 57% by mass, and only the niobium atom, the oxygen atom and the 2-ethylhexanoic acid residue are also constituted.
  • the theoretical value of niobium 2-ethylhexanoate is such that the niobium content is 11.5% by mass and the carbon content is 59.4% by mass.
  • the niobium content is less than 13% by mass, storage stability is deteriorated, and this is not preferable.
  • the solubility margin is narrowed, which is not preferable.
  • the carbon content is less than 50% by mass, the solubility margin is narrowed, which is not preferable. If it exceeds 58% by mass, storage stability is unfavorably deteriorated.
  • the characteristics of the niobium derivative of 2-ethylhexyl acid according to the present invention are that it is a liquid, excellent in storage stability, excellent in mixing stability, and wide in solubility margin, and hence It is useful as a precursor of MOD method. Such characteristics are also attributed to the selection of 2-ethylhexanoic acid as the organic acid component.
  • an organic acid niobium derivative having a small number of carbon atoms which is an organic acid component such as acetic acid or valeric acid, tends to solidify, and it is difficult to give a stable coating solution.
  • the solubility in organic solvents is low, the solubility margin can not be obtained. Furthermore, they have the problem of producing an offensive odor.
  • the organic acid component contains a large number of carbons, the niobium content is small, so that there may be a case where a sufficient solubility margin can not be obtained with respect to the solubility in molar conversion.
  • a thin film obtained by using such an organic acid niobium derivative as a precursor has a large amount of impurity carbon residue.
  • the method for producing a 2-ethylhexanoic acid derivative according to the present invention is characterized in that pen is used as a starting material. It is a method of using Takys (alkoxy) niobium as a raw material. As a method of using pentakis (alkoxy) -obu as a raw material, a method of adding 2-ethylhexanoic acid and heating it, water by-produced when reacting pentakis (alkoxy) niobium and 2-ethylhexanoic acid is used. A method of using a dehydrating agent to be removed may be mentioned.
  • the reaction ratio of pentakis (alkoxy) niobium and 2-ethylhexanoic acid is in the range of 3 to 8 moles, preferably 4 to 6 moles of 2-ethylhexanoate per mole of pentakis (alkoxy) niobium. is there.
  • the amount of 2-ethylhexanoic acid is less than 3 moles, the alkoxy group will remain and the storage stability will deteriorate, which is not preferable. If it is more than 8 moles, the effect associated with the increase of the addition amount Is not desirable because it is economically disadvantageous.
  • the pentakis (alkoxy) niobium used as a starting raw material in the method for producing a 2-ethylhexanoate derivative of the present invention is, for example, pentakis (methoxy) niobium, pentakis (ethoxy) niobium,
  • the alkoxy can have a carbon number of 1 to 4 such as pentakis (propoxy) niobium, pentakis (isopropoxy) niobium, pentakis (butoxy) niobium, and the like.
  • acid anhydrides such as acetic anhydride, maleic anhydride, citraconic anhydride, malonic acid anhydride, malonic acid anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, phthalic anhydride, succinic anhydride, etc., triethyl orthoformate, trimethyl orthoformate etc. Orthoformic acid ester and the like can be mentioned.
  • acetic anhydride is preferred, which is preferred because it is easy to remove from the reaction system after the reaction.
  • the amount of dehydrating agent used is in the range of 0.5 to 10 moles, preferably 1 to 8 moles, per mole of pentakis (alkoxy) niobium which is the raw material.
  • the amount of the dehydrating agent used is less than 0.5 mol, the effect of use may not be exhibited, which is not preferable. If it exceeds 10 mol, the effect associated with the increase of the added amount is not exhibited, Unfavorably because it would be disadvantageous.
  • the reaction temperature is 100 to 150 ° C., preferably 110 to 140 ° C.
  • the reaction temperature is 1 If it is less than oo ° c, it takes time to complete the reaction, and since an alkoxy group may remain in the product, it is not preferable. If it exceeds 150 ° C, it is difficult to control the reaction. It is not preferable because it may be difficult to control molecular weight and niobium content.
  • Examples of thin films that can be produced by the MOD method using the 2-Ethylhexanoate derivative of the present invention using MOD materials include, for example, niobium oxide and niobium-tantalate oxide (Ta Nb O Etc.); Piezoelectric thin films such as lithium niobate;
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • niobium-doped lead titanate 2 m 1-m 2 5 1- ⁇ x a Nb 2 O 3
  • ferroelectric thin films such as lead phosphate and niobium-doped lead zirconate titanate.
  • a composition containing an organic solvent and a precursor compound etc. can be used as The form of the composition may be any of emulsion, suspension, dispersion, colloidal dispersion, and solution, but as a solution capable of forming a thin film having good uniformity of thin film composition and good surface condition. It is preferred to use.
  • the content of the niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid in the composition is usually in the range of 1 to 50% by mass, preferably 5 to 40% by mass, so that application to a substrate is easy. It is inside.
  • the organic acid metal salt composition of the present invention comprises the above-mentioned niobium derivative of 2-ethylhexanoate as a niobium precursor, a metal precursor other than niobium and at least one organic solvent as essential components. Or an organic acid metal salt composition characterized in that it may contain other metal precursors as needed.
  • the organic acid metal salt composition of the present invention is useful as a raw material for producing a glass or ceramic thin film on a substrate by a coating thermal decomposition method or a MOD method such as a sol-gel method.
  • periodic table group 1 elements such as lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium
  • periodic table 2 such as beryllium, magnesium, calcium, strontium, and sodium Scandium, yttrium, lanthanoid elements (lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium
  • Periodic group 3 elements such as gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, yttrium, lutetium), actinide elements, etc .
  • niobium derivative of 2-ethylhexanoic acid of the present invention is useful as a precursor of a thin film used in combination with lead.
  • a metal precursor other than niobium which is particularly suitable for use in combination with a 2-ethylhexylhexanoate derivative is a lead precursor, in particular an organic acid lead compound.
  • the above organic acid lead compound has a structure substantially represented by a general formula such as (RCOO) Pb, unlike the above-mentioned niobium derivative of 2-ethylhexanoate. Also organic
  • the lead acid compound may contain water of crystallization.
  • the organic acid lead compound used in the present invention may be a hydrate or a good anhydride, but when other precursors used in combination react with water and the mixing stability and storage stability deteriorate.
  • Anhydride is preferred because
  • an aliphatic organic acid having 2 to 18 carbon atoms is preferred.
  • organic acid lead compound obtained from the present invention may exist in solid form, and it may be difficult to give a sufficiently stable organic acid metal salt composition as a raw material for the MOD method.
  • lead compounds of organic acids obtained from such aliphatic organic acids have low solubility in organic solvents, there may be cases where a solubility margin can not be obtained.
  • organic acid lead compounds obtained from aliphatic organic acids having a large number of carbon atoms, such as stearic acid have low lead content !, so that a sufficient solubility margin can not be obtained with respect to solubility in molar conversion.
  • an organic acid which comprises an organic acid lead compound it is also required that the thing of stable quality can be obtained in low cost. Therefore, as an organic acid which comprises an organic acid lead compound, 2-ethyl ethylhexanoic acid which an aliphatic organic acid having a carbon number of 6 to 12 is preferable is more preferable.
  • the organic acid lead compound a compound obtained by applying a known production method which can not be distinguished by the production method can be used. It is preferable that the precursor does not contain a halogen impurity in the precursor. Therefore, it is preferable to use lead oxide, lead acetate, and bis (alkoxy) lead as a raw material.
  • the mixing ratio of the niobium 2-ethylhexanoic acid derivative and the organic acid lead complex is not particularly limited, and may be blended according to the application.
  • the metal molar ratio is 0.1 to 10 moles, preferably 0.1 to 5 moles of a lead atom to 1 mole of a niobium atom. It is.
  • organic solvent used for the organic acid metal salt composition of the present invention examples include a system solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, a hydrocarbon solvent having a cyano group, and other solvents, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • alcohol solvents examples include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, 2-butanol, tertiary butanol, pentanol and iso-propanol.
  • Pentanol 2 pentanol, neopentanol, tertiary pentanol, hexanol, 2-hexanol, heptanol, 2-heptanol, octanol, 2-ethylhexanol, 2-octanol, cyclopentanol, cyclo Xanol, cycloheptanoone nore, methinolecyclopentanoonele, methinolecyclohexanone, methinolecycloheptanoyl, benzyl alcohol, 2-methoxyethyl alcohol, 2-butoxyethyl alcohol, 2- (2-methoxy Ethoxy) ethanol, 2- (N, N dimethylamino) ethanol, 3- (N, N-dimethylamino) propanol and the like.
  • polyol solvents examples include ethylene glycol, propylene glycol, 1,2 butanediol, 1,3 butanediol, 1,4 butanediol, 1,5 pentanediol, neopentyl glycol, isoprene glycol (3-methyl-1 (1,3 butanediol), 1,2 hexanediol, 1,6 hexanediol, 3-methyl-1,5 pentandiol, 1,2 octanediol, octanediol (2 ethyl 1,3 hexandiol), 2 Examples thereof include butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2,5 dimethyl-2,5-hexanediol, 1,2-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol and the like.
  • ketone solvents include acetone, ethyl methyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl butyl ketone, dipropyl ketone, diisopropyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone and the like.
  • ester solvents methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, tert-butyl acetate, tert-butyl acetate, iso-amyl acetate, tert-amyl acetate Acetate, methyl propionate, ethyl propionate, isopropyl propionate, butyl propionate, isobutyl propionate, sec-butyl propionate, tert-butyl propionate, amyl propionate, isoamyl propionate, propionate Acid amyl acid, propionate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl methoxy
  • ether solvents include tetrahydrofuran, tetrahydropyran, morpholine, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, dibutyl ether, jetyl ether, dioxane and the like.
  • Examples of aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents include pentane, hexane and cyclohexane.
  • methylcyclohexane dimethylcyclohexane, ethylcyclohexyl, heptane, octane, decalin, solvent naphtha and the like.
  • aromatic hydrocarbon solvent examples include benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, mesitylene, jetylbenzene, tamene, isobutylbenzene, cymene and tetralin.
  • hydrocarbon solvent having a cyano group examples include: 1 cyanopropane, 1-cyanobutane, 1-cyanohexane, cyanocyclohexane, cyanobenzene, 1,3 disanopropane, 1, 4 dicyanobutane, 1, 6 dicyanohexane, 1, 4-dicyanocyclohexane, 1,
  • organic solvents include N-methyl-2 pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, and dimethyl formamide.
  • the content of the organic solvent in the organic acid metal salt composition of the present invention is not particularly limited, and can be blended in accordance with the application.
  • the organic acid metal salt composition of the present invention is in the range of 20 to 99% by mass, and in the range of 40 to 95% by mass to provide good coatability it can.
  • the above-mentioned organic solvent may be selected as it has sufficient solubility in the precursor and is easy to use as a coating solvent.
  • alcohol solvents exhibit good coating properties as a coating solvent for various substrates such as silicon substrates, metal substrates, ceramic substrates, glass substrates and resin substrates, and butanol is preferred. Yes.
  • a mixed solvent one containing butanol as a main component and more preferably containing 50% by mass or more of butanol is more preferable.
  • organic acid metal salt composition of the present invention may further comprise any of the above-described optional examples in addition to niobium acetate derivatives and metal precursors other than niobium, preferably organic acid lead compounds. Can be contained.
  • niobium acid hexahydrate derivative contained in the organic acid metal salt composition of the present invention and other metal precursors used by covering metal precursors other than niobium, such as lead organic acid compounds.
  • metal precursors other than niobium such as lead organic acid compounds.
  • titanium, zirconium, lanthanoid elements, bismuth and tantalum are useful.
  • titanium, zirconium and hafnium precursors examples include methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol, 2-butanol, isobutanol, tertiary butanol, amyl alcohol, isoamyl alcohol and tertiary amyl.
  • Alcohol 2-methoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2- (dimethylamino) ethanol, and other alcohol derivatives such as tetrakis alkoxide derived from the organic acid niobium derivative described above;
  • Organic acids derived from aliphatic organic acids and metal salts are mentioned, and as precursors of lanthanoid elements and bismuth, the above-mentioned al And tris alkoxides derived from a single Lewis compound, and organic acid metal salts derived from aliphatic organic acids having 2 to 18 carbon atoms exemplified in the description of the organic acid lead compounds described above;
  • Examples of the precursor include pentakis alkoxide derived from the above-mentioned alcohol compound and organic acid metal salts derived from aliphatic organic acids having 2 to 18 carbon atoms exemplified in the explanation of the organic acid lead complex.
  • the organic acid metal salt composition of the present invention can be used as a precipitate or gel even when an unstable metal alkoxide compound such as tetrakis (alkoxy) titanium or tetrakis (alkoxy) zirconium is used as another optional metal precursor.
  • an unstable metal alkoxide compound such as tetrakis (alkoxy) titanium or tetrakis (alkoxy) zirconium is used as another optional metal precursor.
  • the thin film production method of the present invention is based on the MOD method using the organic acid metal salt composition described above as a raw material.
  • Well-known methods can be applied without particular limitation on the conditions of the MOD method.
  • a typical method comprises a coating step of coating the organic acid metal salt composition of the present invention on a substrate, and a heating / baking step of heating the substrate or the whole to form a thin film, coating as necessary.
  • a drying step of drying the solvent in the applied composition or a calcination step of heating at a lower temperature than the baking step may be incorporated between the step and the heating and baking step, and the annealing step may be incorporated after the baking step. May be incorporated.
  • the coating process power may be repeated all the steps of the baking process several times, and the coating process, the drying process and the Z or calcination process may be repeated several times.
  • the coating method in the above-mentioned coating process may be spin coating, dipping, spray coating, mist coating, flow coating, curtain coating, roll coating, knife coating, bar coating, screen
  • the printing method, the ink jet method, the brush coating etc. are mentioned.
  • the temperature in the above drying step is preferably 50 ° C. to 200 ° C., and more preferably 80 ° C. to 150 ° C. Moreover, as for the temperature in a calcination process, 150 degreeC-600 degreeC is preferable, and 200 degreeC-400 degreeC is more preferable. Moreover, as for the temperature in a baking process, 400 degreeC-1000 degreeC are preferable, and 450 degreeC-800 degreeC are more preferable. The temperature is preferably from 450 ° C ⁇ 1200 ° C in Aniru process, preferably from 600 o C ⁇ 1000 o C power ⁇ .
  • the above-described calcination step and firing step may be performed under various gas atmospheres for the purpose of promoting the formation of a thin film, and for the purpose of improving the surface state of the thin film and the electric characteristics.
  • the gas include oxygen, ozone, water, carbon dioxide, hydrogen peroxide, nitrogen, helium, hydrogen, argon and the like.
  • an organic acid metal salt composition containing, as a raw material of the MOD method, niobium and a metal other than niobium, preferably a precursor of lead, which has good storage stability.
  • a homogeneous thin film can be obtained according to the method of producing a thin film by the MOD method using the composition as a raw material.
  • the metal salt of an organic acid salt of the present invention using the 2-ethylhexanoic acid derivative of the present invention can be suitably used as a precursor for producing a thin film by the MOD method, for example, Thin films such as lead niobate, niobium-doped lead titanate, niobium-doped lead titanate, niobium-doped lead zirconate titanate, niobium / bismuth strontium tantalate / lead, niobium / bismuth strontium tantalate z-barium z-lead, etc. These thin films can be suitably used as dielectric elements, ferroelectric elements, piezoelectric elements and the like.
  • the powder obtained by adding 45% 63% aqueous nitric acid to the sample mass and heating to 100 ° C is Nb O 2
  • the niobium content was 13.7% by mass.
  • Fig. 3 shows the obtained chart. From the chart shown in FIG. 3, a plurality of absorption was observed at 1500-160 Ocm 1, a plurality of absorption was observed in 1400 to 1500 cm 1. This indicates that there is more than one type of COONb! /!
  • Body No. 1 Body No. 2
  • the niobium derivative of 2-ethylhexyl xanthate according to the present invention has good solubility in an organic solvent, and also has good mixing stability with other precursor compounds. did it.
  • tantalum ethoxide also has a stabilizing effect.
  • niobium derivatives of 2-ethylhexanoic acid with high niobium content have poor solubility and niobium derivatives of 2-ethylhexanoic acid with low niobium content have poor mixing stability with other precursor compounds. .
  • niobium derivative of 2-ethylhexylnoate No. 1 obtained in Example 1 above and lead 2-ethylhexylhexanoate are dissolved in butanol, and the metal molar ratio of niobium to lead is 1: 1, and niobium and lead are obtained.
  • Organic metal salt 1 composition having a combined metal concentration of 0.1 mole Z liter was prepared.
  • Preparation 2 was prepared.
  • organic acid metal salt composition 1 of the product of the present invention obtained in the above Example 2 and the organic acid metal salt composition 2 of the comparative product obtained in the above Comparative Example 3 are put in 10 ml of a 20 ml sample bottle. The appearance of the sample after storage in a constant temperature and humidity chamber for 18 hours was observed. As a result, organic acid metal salt composition 1 was clear, but organic acid metal salt composition 2 was turbid and precipitation was observed.
  • the organic acid metal salt composition 1 of the product of the present invention obtained in the above Example 2 and the comparative product obtained in Comparative Example 3 The thermal decomposition behavior of the organic acid metal salt composition 2 was evaluated using TG-DTA.
  • the measurement conditions for TG DTA were as follows: atmosphere: air; 300 ml Zmin, temperature program: measurement range; 30 ° C. to 600 ° C., temperature rising rate: 10 ° C. Z min, reference: alumina 7. 575 mg.
  • the amount of samples was 23.6935 mg for organic acid metal salt composition 1 and 24.3817 mg for organic acid metal salt composition 2.
  • the organic acid metal salt composition 1 of the product of the present invention is more excellent in storage stability than the organic acid metal salt composition 2 of the comparative product.
  • one thermal decomposition peak was observed for the organic acid metal salt composition 1, and two thermal decomposition peaks were observed for the organic acid metal salt composition 2.
  • the organic acid metal salt composition 2 shows that the niobium precursor and the lead precursor are decomposed respectively.
  • the thin film obtained from the organic acid metal salt composition 1 is excellent in the uniformity of the thin film composition as a material of the MOD method for producing a composite metal-containing thin film.
  • niobium derivative of 2-ethylhexylnoate No. 1 obtained in Example 1 above, 2-ethylhexyltin, tetrakis (isopropoxy) titanium and tetrakis (butoxy) zirconium are dissolved in butanol to obtain niobium and lead.
  • Organic acid metal salt of the present invention having a metal molar ratio of titanium to zirconium of 1: 1: 0.5: 0.5, and a combined metal concentration of niobium, lead, titanium and zirconium of 0.1 mole Z liter Composition 3 was prepared.
  • Preparation 4 was prepared.
  • Comparative Example 5 A solution of tetrakis (isopropoxy) titanium and tetrakis (butoxy) zirconium in butanol has a metal molar ratio of titanium to zirconium of 1: 1, and a combined metal concentration of titanium and zirconium is 0.05 mole. A comparative organic acid metal salt composition 5 was prepared.
  • the organic acid metal salt composition 3 of the product of the present invention obtained in Example 3 above and the organic acid metal salt compositions 4 and 5 of the comparative products obtained in Comparative Example 4 and Comparative Example 5 above are put 10 ml in 20 ml sample bottles. The condition of the sample after storage in a constant temperature and humidity chamber at 30 ° C. and 50% humidity for 18 hours was observed. As a result, the organic acid metal salt composition 3 was clear, but the organic acid metal salt compositions 4 and 5 were cloudy, and precipitation was observed.
  • a thin film was formed on a 6-inch silicon wafer according to the following procedure.
  • the thin film obtained from the organic acid metal salt composition 3 was homogeneous as a result of observing the surface condition by visual observation and using a 100 ⁇ polarizing optical microscope, and the resulting thin film was homogeneous, showing cracks, aggregates and A pinhole was not observed.
  • the thin film obtained from the organic acid metal salt composition 4 of the comparative product showed partial cloudiness, and aggregates and cracks were observed.
  • Two ml of the organic acid metal salt composition was cast on a silicon wafer and spin-coated at 500 rpm for 5 seconds and 150 O rpm for 15 seconds.
  • the glass substrate was heated on a 100 ° C. hot plate for 30 seconds to dry the solvent, and calcined at 300 ° C. for 2 minutes to bring the force back to room temperature. After spin coating, drying, calcination, and cooling were repeated three times, firing was performed by heating at 600 ° C. for 3 minutes in an electric furnace.
  • the thin film using the organic acid metal salt composition 3 of the present invention is homogeneous and has favorable characteristics.

Abstract

 本発明の2-エチルヘキサン酸ニオブ誘導体は、ニオブ含有量が13~16質量%であり、炭素含有量が50~58質量%の範囲内であり、且つニオブ原子、酸素原子及び2-エチルヘキシル酸残基のみから構成されていることを特徴とし、また、該誘導体は、ヘンタキス(アルコキシ)ニオブと、2-エチルヘキシル酸とを反応させることにより製造することができ、更に、本発明の有機酸金属塩組成物は、該誘導体と、ニオブ以外の金属のプレカーサ及び少なくとも1種の有機溶剤を含有してなることを特徴とし、該有機酸金属塩組成物を基体上へ塗布し、加熱することによりニオブ元素とニオブ以外の金属とを含有してなる薄膜を形成することができる。

Description

明 細 書
2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体、該誘導体の製造方法、該誘導体を 含有する有機酸金属塩組成物及び該組成物を用いた薄膜の製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、特定の構造を有する 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体、該誘導体の 製造方法、 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体とニオブ以外の金属プレカーサと有 機溶剤を含有してなる有機酸金属塩組成物、及び該組成物を用いた薄膜の製造方 法に関する。
背景技術
[0002] ニオブ元素を含有するセラミック薄膜またはニオブ元素と鉛元素を含有するセラミツ タス薄膜は、特異的な電気特性を有するため、様々な用途への応用が検討されてい る。特に、優れた誘電特性の特徴を応用した高誘電体キャパシタ、強誘電体キャパ シタ、ゲート絶縁膜、バリア膜、圧電素子等の電子部品の電子部材に用いられている 。例えば、非特許文献 1には、チタン酸ジルコン酸鉛のチタンサイトの一部をニオブ に置換したニオブ添加チタン酸ジルコン酸鉛 (PNZT)薄膜が報告されて ヽる。
[0003] 上述のような薄膜の製造法としては、塗布熱分解法やゾルゲル法等の MOD (Meta 1 urganic Deposition)法、 CVD (chemical Vapour Deposition)法、 ALD (Atomic La yer Deposition)法等が挙げられる。比較的加工精度の低い薄膜については、製造コ ストが小さぐ薄膜形成が容易な MOD法が好適な方法である。 MOD法に用いられ る薄膜のプレカーサは、主にアルコシド化合物、有機酸金属塩が使用されており、二 ォブプレカーサについても同様である。
[0004] また、特許文献 1には、溶液中の金属組成比(モル比)が A: B : C=X:Y:Zで表さ れ(ただし、 Aは Srと Ba及び/又は Pb、 Bは Bi、 Cは Ta及び/又は Nbを示す。)、 0 . 4≤X≤1. 0、 1. 5≤Y≤3. 5、 Ζ = 2であり、 Sr: Ba: Pb = a:b : cで表したときに、 0 . 7X≤a<X、0く b + c≤0. 3Xとなるように有機溶媒中に金属化合物を混合してな る 系強誘電体薄膜形成用組成物 (請求項 1)が開示されている。また、特許文献 1 の [0024]段落には、ニオブ化合物として、ニオブエトキシド、ニオブプロポキシド、二 ォブブトキシド、ニオブ 2—メトキシエトキシド等のアルコキシドや、ォクチル酸-ォ ブ、 n—へキサン酸ニオブ、 2—ェチル酪酸ニオブ、 i一吉草酸ニオブ等のカルボン 酸等が例示されており、鉛化合物として、ォクチル酸鉛、 n—へキサン酸鉛、 2—ェチ ル酪酸鉛、 i一吉草酸鉛、酢酸鉛等のカルボン酸塩や、鉛ェトキシド、鉛プロボキシド 、鉛ブトキシド等のアルコキシド等が例示されて 、る。
[0005] 更に、特許文献 2には、組成が Bi (Ta Nb ) O (ただし、 0≤m≤l)で表される、
2 m 1-m 2 8
厚さ 5〜50nmの下地層と、該下地層上に形成された、組成が(Sr Bi ) Bi (Ta Nb x 1-x 2 Y
) O (ただし、 0. 4≤X≤1、 0≤Y≤1、 Zは各金属元素に付随した酸素の数の合
1-Y 2 z
計)で表される主層とを備えてなる 系強誘電体薄膜 (請求項 1)及び組成が Bi (Ta
2
Nb ) O (ただし、 0≤m≤l)で表される、厚さ 5〜50nmの下地層と、該下地層上 m 1-m 2 8
に形成された、組成が [{Sr (Pb及び
x Z又は Ba } Bi ]Bi (Ta Nb ) O (ただし、 n X 1-X 2 Y 1-Y 2 z
0<n≤0. 3、 0. 4≤X≤1、 0≤Y≤1、 Zは各金属元素に付随した酸素の数の合計 )で表される主層とを備えてなる Bi系強誘電体薄膜 (請求項 2)が開示されている。ま た、特許文献 2の [0025]段落には、ニオブ化合物として、ニオブエトキシド、ニオブ プロポキシド、ニオブブトキシド、ニオブ 2—メトキシエトキシド等のアルコキシドや、 ォクチル酸ニオブ、 n—へキサン酸ニオブ、 2—ェチル酪酸ニオブ、 i一吉草酸ニオブ 等のカルボン酸塩が例示されており、鉛化合物として、ォクチル酸鉛、 n—へキサン 酸鈴、 2—ェチル酪酸鉛、 i一吉草酸鉛、酢酸鉛等のカルボン酸塩や、鉛エトキシド、 鉛プロポキシド、鉛ブトキシド等のアルコキシド等が例示されて 、る。
[0006] また、特許文献 3には、ぺロブスカイト型 A—サイトモイエティー、ぺロブスカイト型 B サイトモイエティー、および超格子生成モイエティーを含む複数のポリオキシアル キレートイ匕金属モイエティーを提供する工程を包含する、電子素子を作成するための 方法であって、該方法は、該各金属モイエティーを、複数の層(116、 124、 128)を 順に有する積層化超格子材料 (112)に対応する相対割合で組み合わせる工程であ つて、該順は、 A—サイト金属、 B—サイト金属、およびその混合物からなる群より選 択される金属の酸化物から形成される、 AZBイオン性サブユニットセル(146)を有 する AZB ( 124)と;超格子生成イオン性サブユニットセルを有する超格子生成層(1 16)と; A サイト金属および B サイト金属の両方を含有するぺロブスカイト型 AB層 (128)であって、該 AB層は該 AZB層の格子とは異なるぺロブスカイト型酸素八面 体格子を有するベロブスカイト型 AB層と、を含んでいる工程と、該前駆体溶液を基 板に塗布する工程と、該基板上の該前駆体溶液を処理することにより、該 AZB層、 該超格子生成層、および該ぺロブスカイト型 AB層を有する混合積層化格子材料を 形成する工程と、を特徴とする方法が開示されている。また、特許文献 3の 47頁実施 例 4には、プレ前駆体溶液の原料として 2 ェチルへキサン酸ニオブを使用すること が記載されている。
[0007] 特許文献 1 :特開平 9 25124号公報 特許請求の範囲 [0024]
特許文献 2 :特開平 9 142845号公報 特許請求の範囲 [0025]
特許文献 3 :特表平 11 509683号公報 請求の範囲 47頁
非特許文献 4:Jpn. Appl. Phys. , Vol. 44, No. 1A(2005) 267〜274頁 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 上述のような有機酸ニオブは、製造方法及び製造条件により、得られる誘導体の性 質、物性が大きく異なり、 MOD法のプレカーサとしては扱いにくいという問題点を有 していた。また、 MOD法における問題点の 1つは、プレカーサを含む塗布液組成物 について充分な安定性を得ることが困難なことにある。多成分系のセラミックス薄膜を 形成するには、塗布液となる組成物は、薄膜に多種の金属元素を含有するプレカー サの混合溶液となる力 例えば、プレカーサ化合物として金属アルコキシドィ匕合物を 用いる場合は、金属アルコキシドが反応性に富むために、他のプレカーサや大気中 の水分等と反応して増粘ゲル化や沈殿形成等の変質を起こす。これらの変質は、塗 布工程や膜質に悪影響を及ぼすことになる。また、得られる薄膜の状態 (形状や電気 特性)がプレカーサの組み合わせに依存するので、上記の安定性の問題と合わせて 最適な組み合わせを見出だすのが困難であった。例えば、チタンやジルコニウムの プレカーサとしては、アルコキシド化合物が優れた薄膜を与えることが知られて 、るが 、これに他のプレカーサ成分を混合した場合に使用に耐え得る保存安定性を得るこ とは困難である。
[0009] 一般に有機酸ニオブは、 (RCOO) Nbと表記される場合が多いが、炭素含有量、 Nb含有量共に様々である。実際に、有機酸ニオブを形成する結合ユニットは、「RC OO Nbと Nb O Nb」、「RCOO Nbと Nb = Ojまたは「RCOO Nbと Nb O Nbと Nb = 0」であり、例えば単純な構造で代表したモデルを示すと下記化学式の ようになるが、実際に化学構造を正確に同定することは困難である。なお、下記化学 式において、 Lは有機酸残基を表す。
[0010] [化 1]
Figure imgf000006_0001
[0011] ここで、例えば、ニオブペンタアルコキシドと有機酸を反応させることにより得られた
(RCOO) Nbの組成に近い炭素含有量、 Nb含有量を有する有機酸ニオブ誘導体
5
は、保存安定性が悪い。なお、ニオブペンタアルコキシドから得られた有機酸ニオブ 誘導体は、アルコキシ基が残存し易いことが知られており、実際には、 RCOO Nb、 Nb O Nb、 Nb OR' (OR'は原料由来のアルコキシ基)から構成される化合物 と考えられている。また、 (RCOO) Nbの構造を有する化合物自体の保存安定性が
5
悪いことも考えられる。一方、分子中の Nb O Nbの連鎖が大きいものは、分子量 、ニオブ含有量が大きくなり、炭素含有量が小さくなる。このような有機酸ニオブ誘導 体は溶解性が悪ィ匕するので、使用できる溶剤やその濃度が制限され、即ち、溶解性 のマージンが狭くなる。また、他の金属プレカーサと併用する時に、得られる薄膜中 に酸化ニオブが局在化するので、所望する均一な組成や結晶構造を形成できな ヽ 部分が多くなり、得られる薄膜は、期待される電気特性が得られない。
[0012] 更に、 Nb [C H CH (C H ) COO]の理論値に近い 2—ェチルへキサン酸ニオブ、
4 9 2 5 5
即ち、ニオブ含有量が 11. 5質量%前後のものをプレカーサとして使用した塗布液 は保存安定性が悪いという問題を有している。また、このような有機酸ニオブは、更に 他のプレカーサ化合物と混合して使用する場合に化学反応により、塗布液のゲルィ匕 や沈殿が生ずる等の問題点もある。
[0013] 従って、本発明の目的は、 MOD法のプレカーサとして有用な 2—ェチルへキサン 酸ニオブ誘導体及びその製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、ニオブとニオブ以外の金属を含有する薄膜を MOD 法によって作製する際に、 MOD法用原料に適するニオブプレカーサとニオブ以外 の金属プレカーサを含有する有機酸金属塩組成物及び該組成物を用いた薄膜の製 造方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0014] 本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有する 2—ェチルへキサン 酸ニオブ誘導体が上記問題点を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至つ た。
即ち、本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体は、ニオブ含有量が 13〜16 質量%であり、炭素含有量が 50〜58質量%の範囲内であり、且つニオブ原子、酸 素原子及び 2 -ェチルへキサン酸残基のみ力も構成されて ヽることを特徴とする。
[0015] また、上記 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体は、ペンタキス(アルコキシ)ニオブ と、 2—ェチルへキサン酸とを反応させることを特徴として製造することができる。
[0016] 更に、本発明は、上記 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体;ニオブ以外の金属プレ カーサ;及び少なくとも 1種の有機溶剤を含有してなることを特徴とする有機酸金属塩 組成物を提供することにある。
[0017] また、本発明の有機酸金属塩組成物は、他の任意の金属プレカーサを含有するこ とがでさる。
[0018] 更に、本発明の基体上への薄膜の製造方法は、上記有機酸金属塩組成物を基体 上に塗布し、加熱することによりニオブ元素とニオブ以外の金属とを含有してなる薄 膜を形成することを特徴とする。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1]実施例 1で得られた本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の iH— NM R分析のチャートである。 [図 2]実施例 1で得られた本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の13 C—NM R分析のチャートである。
[図 3]実施例 1で得られた本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の IR分析の チャートである。
[図 4]実施例 1で得られた本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の TG— DT A分析のチャートである。
発明を実施するための最良の形態
[0020] 本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体は、ニオブ含有量が 13〜16質量% 、好ましくは 13〜15質量%の範囲内にあり、炭素含有量が 50〜58質量%、好ましく は 52〜57質量%の範囲内にあり、ニオブ原子、酸素原子及び 2—ェチルへキサン 酸残基のみ力も構成されているものである。なお、 2—ェチルへキサン酸ニオブの理 論値は、ニオブ含有量が 11. 5質量%であり、炭素含有量が 59. 4質量%である。
[0021] ここで、ニオブ含有量が 13質量%未満となると、保存安定性が悪くなるために好ま しくなぐまた、 16質量%を超えると、溶解性のマージンが狭くなるために好ましくな い。また、炭素含有量が 50質量%未満となると、溶解性のマージンが狭くなるために 好ましくなぐまた、 58質量%を超えると、保存安定性が悪くなるために好ましくない。
[0022] 本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の特徴は、液体であること、保存安定 性に優れること、混合安定性に優れること、溶解性のマージンが広いことであり、それ 故、 MOD法のプレカーサとして有用である。このような特徴は、有機酸成分として 2 —ェチルへキサン酸を選択したことも寄与している。
[0023] 例えば、酢酸や吉草酸等の有機酸成分である炭素数の少ない有機酸ニオブ誘導 体は、固体ィ匕する傾向があり、安定な塗布液を与え難い。また、有機溶剤に対する 溶解性が低いので、溶解性のマージンが得られない。更には、不快な臭気を発生す る問題を有している。また、有機酸成分の炭素数が多いものは、ニオブ含有量が少 ないので、モル換算の溶解性について、充分な溶解性マージンが得られない場合が ある。また、このような有機酸ニオブ誘導体をプレカーサに用いて得られる薄膜は不 純物カーボン残渣が多くなる。
[0024] 本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法は、出発原料としてペン タキス(アルコキシ)ニオブを原料に用いる方法である。ペンタキス(アルコキシ) -ォ ブを原料に用いる方法としては、 2—ェチルへキサン酸を加えて加熱する方法、ペン タキス(アルコキシ)ニオブと 2—ェチルへキサン酸との反応時に副生する水を取り除 ぐ脱水剤を併用する方法が挙げられる。なお、ペンタキス (アルコキシ)ニオブと 2— ェチルへキサン酸の反応割合は、ペンタキス(アルコキシ)ニオブ 1モルに対して、 2 ーェチルへキサン酸 3〜8モル、好ましくは 4〜6モルの範囲内である。ここで、 2—ェ チルへキサン酸の量が 3モル未満となると、アルコキシ基が残留し、保存安定性が悪 化するため好ましくなぐまた、 8モルを超えると、添加量の増加に伴う効果が発揮さ れず、経済的に不利となるために好ましくない。
[0025] なお、本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法において、出発原 料として使用されるペンタキス(アルコキシ)ニオブとしては、例えばペンタキス (メトキ シ)ニオブ、ペンタキス(エトキシ)ニオブ、ペンタキス(プロボキシ)ニオブ、ペンタキス (イソプロポキシ)ニオブ、ペンタキス(ブトキシ)ニオブ等の炭素数 1〜4のアルコキシ ドを ί列示することができる。
[0026] なお、ペンタキス (アルコキシ)ニオブを出発原料として使用する場合に、反応系内 に水が存在すると Nb— O—Nbの連鎖が進むので、反応の制御が難しくなる。従って 、本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法としては、副生する水を 消費する脱水剤を用いるのが好ましい。上記の脱水剤としては、無水酢酸、無水マレ イン酸、無水シトラコン酸、無水マロン酸、無水ィタコン酸、無水フタル酸、無水スクシ ン酸等の酸無水物、オルトギ酸トリエチル、オルトギ酸トリメチル等のオルトギ酸エステ ル等が挙げられる。この中でも、反応後、反応系内から除去するのが容易であるので 酸無水物が好ましぐ無水酢酸が最も好ましい。また、脱水剤の使用量は、原料であ るペンタキス(アルコキシ)ニオブ 1モルに対して、 0. 5〜10モル、好ましくは 1〜8モ ルの範囲内である。脱水剤の使用量が 0. 5モル未満であると、使用効果が発現しな い場合があるために好ましくなぐまた、 10モルを超えると、添加量の増加に伴う効果 が発揮されず、経済的に不利となるために好ましくない。
[0027] また、本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法において、反応温 度は、 100〜150°C、好ましくは 110〜140°Cの範囲内である。ここで、反応温度が 1 oo°c未満であると、反応を完結させるために時間が掛り、また、生成物中にアルコキ シ基が残留することがあるため好ましくなぐまた、 150°Cを超えると、反応の制御が 難しくなり、分子量、ニオブ含有量のコントロールが困難になる場合があるために好ま しくない。
[0028] 本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体を用いる MOD用原料を用いる MO D法により製造可能な薄膜としては、例えば酸ィ匕ニオブ、ニオブ—タンタル酸ィ匕物 (T a Nb O )等の誘電体薄膜;ニオブ酸リチウム等の圧電体薄膜;ニオブ—タンタル酸
2-x X 5
ビスマス [Bi (Ta Nb ) O ]、ニオブ一タンタノレ酸ビスマスストロンチウム(Sr Ba T
2 m 1-m 2 5 1-χ x a Nb O )、ニオブ添カ卩チタン酸鉛、ニオブ添カ卩チタン酸ビスマス、ニオブ添加チタ
2-y y 9
ン酸鉛、ニオブ添加チタン酸ジルコン酸鉛等の強誘電体薄膜が挙げられる。
[0029] 本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体を上記薄膜の MOD法の原料として 用いる場合、有機溶剤並びに必要により用いられる他の元素を薄膜に導入するプレ カーサ化合物等を含有する組成物として用いることができる。該組成物の形態は、ェ マルシヨン、サスペンション、デイスパージヨン、コロイダル分散液、溶液のいずれでも 良いが、薄膜組成の均一性が良好で且つ表面状態が良好な薄膜を形成することが できる溶液として使用することが好ましい。また、該組成物中の 2—ェチルへキサン酸 ニオブ誘導体の含有量は、通常、基体への塗布が容易である 1〜50質量%の範囲 内であり、好ましくは 5〜40質量%の範囲内である。
[0030] 本発明の有機酸金属塩組成物は、ニオブプレカーサとして上記の 2-ェチルへキサ ン酸ニオブ誘導体、ニオブ以外の金属プレカーサ及び少なくとも 1種の有機溶剤を 必須成分として含有してなることを特徴とする有機酸金属塩組成物であり、必要に応 じて他の金属プレカーサを含有してもよい。なお、本発明の有機酸金属塩組成物は 、塗布熱分解法やゾルゲル法のような MOD法により、基体上にガラスやセラミックス の薄膜を製造する原料として有用である。
[0031] ニオブ以外の金属プレカーサの金属種としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ル ビジゥム、セシウム等の周期表 1族元素;ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト口 ンチウム、ノ リウム等の周期表 2族元素;スカンジウム、イットリウム、ランタノイド元素( ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、 ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イツテル ピウム、ルテチウム)、ァクチノイド元素等の周期表 3族元素;チタニウム、ジルコニウム 、ハフニウムの周期表 4族元素;バナジウム、タンタルの周期表 5族元素;クロム、モリ ブデン、タングステンの周期表 6族元素;マンガン、テクネチウム、レニウムの周期表 7 族元素;鉄、ルテニウム、オスミウムの周期表 8族元素;コノ レト、ロジウム、イリジウム の周期表 9族元素;ニッケル、パラジウム、白金の周期表 10族元素;銅、銀、金の周 期表 11族元素;亜鉛、カドミウム、水銀の周期表 12族元素;アルミニウム、ガリウム、 インジウム、タリウムの周期表 13族元素;珪素、ゲルマニウム、錫、鉛の周期表 14族 元素;砒素、アンチモン、ビスマスの周期表 15族元素;ポロニウムの周期表 16族元素 が挙げられる。また、他の金属プレカーサとしては、有機酸金属塩、金属アルコキシド 化合物、ベータージケトン金属錯体、ベーターケトエステル金属錯体等が挙げられる
[0032] 本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体は、鉛を併用する薄膜のプレカーサ として有用である。従って、本発明の有機酸金属塩組成物において、 2—ェチルへキ サン酸ニオブ誘導体との併用に特に適したニオブ以外の金属プレカーサは、鉛プレ カーサであり、特に、有機酸鉛化合物である。
[0033] 上記の有機酸鉛化合物は、上記の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体とは異なり 、実質的に (RCOO) Pb等の一般式で表される構造を有するものである。また、有機
2
酸鉛化合物は、結晶水を含有する場合もある。本発明に使用する有機酸鉛化合物 は水和物であっても良ぐ無水物であっても良いが、併用する他のプレカーサが水と 反応して混合安定性や保存安定性が悪化する場合があるので無水物が好ましい。
[0034] 有機酸鉛化合物を構成する有機酸としては、炭素数 2〜18の脂肪族有機酸が好ま しぐ例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、力プリル酸、 2—ェチルへキサン酸、ペラルゴン酸、力プリン酸、ネオデカン酸、ゥンデカン酸、ラウ リン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ス テアリン酸、リノール酸、ガンマ一一リノレン酸、リノレン酸、リシノール酸、 12—ヒドロ キシステアリン酸等が挙げられる。
[0035] ここで、酢酸、プロピオン酸、吉草酸等の炭素数が比較的少な 、脂肪族有機酸塩 から得られる有機酸鉛化合物は、固体のものも存在し、 MOD法用の原料として充分 に安定な有機酸金属塩組成物を与え難い場合がある。また、このような脂肪族有機 酸から得られる有機酸鉛化合物は、有機溶剤に対する溶解性が低いので、溶解性 のマージンが得られない場合もある。一方、ステアリン酸等の炭素数の多い脂肪族有 機酸から得られる有機酸鉛化合物は、鉛含有量が小さ!、のでモル換算の溶解性に ついて、充分な溶解性マージンが得られない場合もある。また、このような脂肪族有 機酸力 得られる有機酸鉛ィ匕合物をプレカーサに用いて得られる薄膜中の不純物力 一ボン残渣が多くなる場合もある。また、有機酸鉛化合物を構成する有機酸としては 、安定した品質のものが安価に入手できることも必要である。従って、有機酸鉛化合 物を構成する有機酸としては、炭素数 6〜 12の脂肪族有機酸が好ましぐ 2—ェチル へキサン酸がより好ましい。
[0036] 有機酸鉛化合物は、その製造方法により区別されることなぐ周知の製造方法を応 用して得られたものを使用することができる力 プレカーサ中にハロゲン不純物を含 有しないものが好ましいので、酸化鉛、酢酸鉛、ビス (アルコキシ)鉛を原料として製 造されたものが好ましい。
[0037] なお、本発明の有機酸金属塩組成物において、 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導 体と有機酸鉛ィ匕合物の混合割合は、特に限定されず、用途に合わせて配合すること ができる。例えば、誘電体ゃ圧電体の薄膜のプレカーサとして用いる場合には、金属 モル比で、ニオブ原子 1モルに対して鉛原子を 0. 01〜10モル、好ましくは 0. 1〜5 モノレの範囲内である。
[0038] 次に、本発明の有機酸金属塩組成物に使用する有機溶剤について説明する。
本発明の有機酸金属塩組成物に使用する有機溶剤としては、アルコール系溶剤、 ポリオール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、ポリエーテル 系溶剤、脂肪族又は脂環族炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、シァノ基を 有する炭化水素溶剤、その他の溶剤等が挙げられ、これらは 1種類又は 2種類以上 を混合して用いることができる。
[0039] アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー ル、ブタノール、イソブタノール、 2—ブタノール、第 3ブタノール、ペンタノール、イソ ペンタノール、 2 ペンタノール、ネオペンタノール、第 3ペンタノール、へキサノール 、 2—へキサノール、ヘプタノール、 2—へプタノール、ォクタノール、 2—ェチルへキ サノール、 2—ォクタノール、シクロペンタノール、シクロへキサノール、シクロヘプタノ 一ノレ、メチノレシクロペンタノ一ノレ、メチノレシクロへキサノーノレ、メチノレシクロヘプタノ一 ル、ベンジルアルコール、 2—メトキシエチルアルコール、 2—ブトキシェチルアルコ ール、 2— (2—メトキシエトキシ)エタノール、 2— (N, N ジメチルァミノ)エタノール 、 3—(N, N—ジメチルァミノ)プロパノール等が挙げられる。
[0040] ポリオール系溶剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、 1, 2 ブタ ンジオール、 1, 3 ブタンジオール、 1, 4 ブタンジオール、 1, 5 ペンタンジォー ル、ネオペンチルグリコール、イソプレングリコール(3—メチルー 1, 3 ブタンジォー ル)、 1, 2 へキサンジオール、 1, 6 へキサンジオール、 3—メチルー 1, 5 ペン タンジオール、 1, 2 オクタンジオール、オクタンジオール(2 ェチルー 1, 3 へキ サンジオール)、 2 ブチルー 2 ェチルー 1, 3 プロパンジオール、 2, 5 ジメチ ルー 2, 5 へキサンジオール、 1, 2 シクロへキサンジオール、 1, 4ーシクロへキサ ンジオール、 1, 4ーシクロへキサンジメタノール等が挙げられる。
[0041] ケトン系溶剤としては、アセトン、ェチルメチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイ ソブチルケトン、ェチルブチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソプチルケトン、メチルァ ミルケトン、シクロへキサノン、メチルシクロへキサノン等が挙げられる。
[0042] エステル系溶剤としては、ギ酸メチル、ギ酸ェチル、酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸 イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第 2ブチル、酢酸第 3ブチル、酢酸 ァミル、酢酸イソァミル、酢酸第 3ァミル、酢酸フエ-ル、プロピオン酸メチル、プロピオ ン酸ェチル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソブチ ル、プロピオン酸第 2ブチル、プロピオン酸第 3ブチル、プロピオン酸ァミル、プロピオ ン酸イソァミル、プロピオン酸第 3ァミル、プロピオン酸フエ-ル、乳酸メチル、乳酸ェ チル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸 ェチル、エトキシプロピオン酸ェチル、エチレングリコールモノメチルエーテルァセテ ート、ジエチレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート、エチレングリコーノレモノェ チノレエーテノレアセテート、エチレングリコーノレモノプロピノレエーテノレアセテート、ェチ レングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコーノレモノブチノレエ 一テルアセテート、エチレングリコールモノ第 2ブチルエーテルアセテート、エチレン グリコールモノイソブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ第 3ブチルェ 一テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング リコーノレモノェチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコーノレモノプロピノレエーテノレ アセテート、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、プロピレングリ コーノレモノブチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコーノレモノ第 2ブチノレエーテノレ アセテート、プロピレングリコールモノイソブチルエーテルアセテート、プロピレングリコ ールモノ第 3ブチルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルァセ テート、ブチレングリコールモノェチルエーテルアセテート、ブチレングリコーノレモノプ 口ピルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、 ブチレングリコーノレモノブチノレエーテノレアセテート、ブチレングリコーノレモノ第 2ブチ ルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノイソブチルエーテルアセテート、ブチ レングリコールモノ第 3ブチルエーテルアセテート、ァセト酢酸メチル、ァセト酢酸ェチ ル、ォキソブタン酸メチル、ォキソブタン酸ェチル、 γ—ラタトン、 δ—ラタトン等が挙 げられる。
[0043] エーテル系溶剤としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、モルホリン、ェチレ ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレン グリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジェチルエーテル、ジォキサン等 が挙げられる。
[0044] 脂肪族又は脂環族炭化水素系溶剤としては、ペンタン、へキサン、シクロへキサン
、メチルシクロへキサン、ジメチルシクロへキサン、ェチルシクロへキサン、ヘプタン、 オクタン、デカリン、ソルベントナフサ等が挙げられる。
[0045] 芳香族炭化水素系溶剤としては、ベンゼン、トルエン、ェチルベンゼン、キシレン、 メシチレン、ジェチルベンゼン、タメン、イソブチルベンゼン、シメン、テトラリンが挙げ られる。
[0046] シァノ基を有する炭化水素溶剤としては、 1 シァノプロパン、 1ーシァノブタン、 1 ーシァノへキサン、シァノシクロへキサン、シァノベンゼン、 1, 3 ジシァノプロパン、 1, 4 ジシァノブタン、 1, 6 ジシァノへキサン、 1, 4ージシァノシクロへキサン、 1,
4 ジシァノベンゼン等が挙げられる。
[0047] その他の有機溶剤としては、 N—メチルー 2 ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジ メチルホルムアミドが挙げられる。
[0048] 本発明の有機酸金属塩組成物中の有機溶剤の含有量は、特に限定されず、用途 に合わせて配合することができる。 MOD法の原料として本発明の有機酸金属塩組 成物を用いる場合、 20〜99質量%の範囲内であり、 40〜95質量%の範囲内とすれ ば良好な塗布性を提供することができる。
[0049] なお、上記の有機溶剤は、プレカーサに対する充分な溶解性を示し塗布溶剤とし て使用し易いものを選択すればよい。上記の有機溶剤の中でも、アルコール系溶剤 はシリコン基体、金属基体、セラミックス基体、ガラス基体、榭脂基体等の様々な基体 に対する塗布溶媒として良好な塗布性を示すので好ましぐブタノールがより好まし い。また、混合溶剤を用いる場合もブタノールを主成分としたものが好ましぐブタノ ールを 50質量%以上使用するものがより好ましい。
[0050] また、本発明の有機酸金属塩組成物は、 2 ェチルへキサン酸ニオブ誘導体及び ニオブ以外の金属プレカーサ、好ましくは有機酸鉛ィ匕合物に加えて、更に前記に例 示した任意の金属プレカーサを含有することができる。
[0051] 本発明の有機酸金属塩組成物に含有される 2 ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 及び有機酸鉛ィ匕合物のようなニオブ以外の金属プレカーサにカ卩えて使用される他の 金属プレカーサとしては、特にチタニウム、ジルコニウム、ランタノイド元素、ビスマス、 タンタルが有用である。
[0052] 上記のチタニウム、ジルコニウム、ハフニウムのプレカーサとしては、メタノール、ェ タノール、プロパノール、 2—プロパノール、ブタノール、 2—ブタノール、イソブタノー ル、第 3ブタノール、ァミルアルコール、イソアミルアルコール、第 3ァミルアルコール、 2—メトキシエタノール、 2—ブトキシエタノール、 2—(ジメチルァミノ)エタノール等の アルコールィ匕合物力 誘導されるテトラキスアルコキシド;前記の有機酸ニオブ誘導 体の説明において、例示した炭素数 2〜18の脂肪族有機酸から誘導される有機酸 金属塩が挙げられ、ランタノイド元素、ビスマスのプレカーサとしては、上記のアルコ 一ルイ匕合物から誘導されるトリスアルコキシド、前記の有機酸鉛化合物の説明にお ヽ て例示した炭素数 2〜18の脂肪族有機酸から誘導される有機酸金属塩が挙げられ 、タンタルのプレカーサとしては、上記のアルコール化合物力 誘導されるペンタキス アルコキシド、前記の有機酸鉛ィ匕合物の説明において例示した炭素数 2〜18の脂 肪族有機酸から誘導される有機酸金属塩が挙げられる。
[0053] 本発明の有機酸金属塩組成物は、他の任意の金属プレカーサとしてテトラキス(ァ ルコキシ)チタニウムゃテトラキス(アルコキシ)ジルコニウム等の不安定な金属アルコ キシド化合物を用いた場合でも沈殿やゲル化等を起こしにくい、安定した有機酸金 属塩組成物を提供することができる。
[0054] 次に、本発明の薄膜の製造方法について説明する。
本発明の薄膜の製造方法は、上記で説明の有機酸金属塩組成物を原料に用いた MOD法によるものである。 MOD法の条件等は特に限定することなく周知の方法を 応用できる。例えば、代表的な方法は、基体上に本発明の有機酸金属塩組成物を 塗布する塗布工程と、基体又は全体を加熱して薄膜を形成する加熱焼成工程とから なり、必要に応じて塗布工程と加熱焼成工程の間に、塗布された組成物中の溶剤を 乾燥させる乾燥工程や、焼成工程よりも低 ヽ温度で加熱する仮焼工程を組み入れる こともでき、焼成工程の後にァニール工程を組み入れてもよい。また、必要な膜厚を 得るためには上記の塗布工程から任意の工程までを複数繰り返せばよ!ヽ。例えば、 塗布工程力も焼成工程の全ての工程を複数回繰り返してもよぐ塗布工程と乾燥ェ 程及び Z又は仮焼工程を複数回繰り返してもよ ヽ。
[0055] 上記の塗布工程における塗布方法としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー コート法、ミストコート法、フローコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ナイフコ ート法、バーコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、刷毛塗り等が挙げられる。
[0056] 上記の乾燥工程における温度は、 50°C〜200°Cが好ましぐ 80°C〜150°Cがより 好ましい。また、仮焼工程における温度は 150°C〜600°Cが好ましぐ 200°C〜400 °Cがより好ましい。また、焼成工程における温度は 400°C〜1000°Cが好ましぐ 450 °C〜800°Cがより好ましい。また、ァニール工程における温度は 450°C〜1200°Cが 好ましく、 600oC〜1000oC力より好まし ヽ。 [0057] 上記の仮焼工程、焼成工程は、薄膜形成を促進する目的や薄膜の表面状態ゃ電 気特性を改善する目的で種々のガス雰囲気下で行ってもよい。該ガスとしては、酸素 、オゾン、水、二酸化炭素、過酸化水素、窒素、ヘリウム、水素、アルゴン等が挙げら れる。
[0058] 本発明によれば、有機溶剤に対する溶解性に優れ、他のプレカーサ化合物と混合 した時に安定した溶液を提供することができる MOD法のプレカーサとして好適な 2 —ェチルへキサン酸ニオブ誘導体が得られるという効果を奏するものである。
[0059] また、本発明によれば、 MOD法の原料として、良好な保存安定性を有するニオブ とニオブ以外の金属、好ましくは鉛のプレカーサを含有する有機酸金属塩組成物を 提供することができ、更に、該組成物を原料に用いた MOD法による薄膜の製造方 法によれば、均質な薄膜を得ることができる。
[0060] なお、本発明の 2—ェチルへキサン酸誘導体を用いた本発明の有機酸金属塩組 成物は、 MOD法により薄膜を製造する際のプレカーサとして好適に用いることがで き、例えば、ニオブ酸鉛、ニオブ添加チタン酸鉛、ニオブ添加チタン酸鉛、ニオブ添 加チタン酸ジルコン酸鉛、ニオブ/タンタル酸ビスマスストロンチウム/鉛、ニオブ/ タンタル酸ビスマスストロンチウム Zバリウム Z鉛等の薄膜を形成するために使用す ることができ、これらの薄膜は、誘電体素子、強誘電体素子、圧電体素子等として好 適に使用することができるものである。
実施例
[0061] 以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明 は以下の実施例等によって限定されるものではないことを理解されたい。
実施例 1: 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 No. 1の製造
乾燥アルゴンガス雰囲気下で、反応フラスコにペンタキス(エトキシ)ニオブ 0. 5モ ル、乾燥トルエン 200mlを仕込み、これを無水酢酸 2. 6モル、 2—ェチルへキサン酸 2. 6モルを加え、バス温度 120°Cで 4時間還流させた後、バス温度 135°Cでトルエン 及び低沸点物を反応系から留去し、更に、系内を 3〜讣ールに減圧して濃縮するこ とにより黄色粘性液体 345gを得た。得られた黄色粘性液体について、以下の測定を 行った: [0062] (1)元素分析
試料質量に対し 45倍の 63%硝酸水を加え、 100°Cに加熱して得た粉末を Nb O
2 5 として定量したところ、ニオブ含有量は 13. 7質量%であった。
また、炭素及び水素含有量を CHN元素分析 により行ったところ、 C含有量は 55. 1質量%、 H含有量は 8. 3質量%であった。
(2)スペクトル分析
• iH— NMR分析:得られたチャートを図 1に示す。図 1に示す1 H— NMR分析のチヤ ートから、アルコキシ基が不在であることが確認できた。
13C— NMR (溶媒:重ベンゼン):得られたチャートを図 2に示す。図 2に示すチヤ一 トから、アルコキシ基が不在であることが確認できた。また、 2—ェチルへキサン酸残 基の炭素ピークが各々複数観察された。このことは、複数の環境の 2—ェチルへキサ ン酸残基が存在して ヽることを示すものである。
•IR (塗布法):得られたチャートを図 3に示す。図 3に示すチャートから、 1500-160 Ocm 1に複数の吸収が観察され、 1400〜 1500cm 1にも複数の吸収が観察された。 このことは、複数種の COONbが存在して!/、ることを示して!/、る。
(3)熱分析
TG— DTA (空気 300mlZ分、昇温速度: 10°CZ分、サンプル量 38. 8037mg、リ ファレンスアルミナ 7. 1320mg):得られたチャートを図 4に示す。
[0063] 比較例 1 : 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 No. 2の製造
乾燥アルゴンガス雰囲気下で、反応フラスコに五塩化ニオブ 0. 5モル、エタノール 200mlを仕込み、 2—ェチルへキサン酸 2. 6モルを加え、アンモニアガスを吹き込み ながら 2時間撹拌した。アンモニアガスを止め、バス温度 80°Cで 4時間還流させた後 、アルゴンガスを吹き込みながら、更に 1時間還流した。反応液を室温まで冷却し、塩 化アンモ-ゥムをデカンシヨン及び濾過により取り除いた溶液について、溶媒をェタノ ールからトルエンに交換して、析出した塩ィ匕アンモ-ゥムを濾別した。この溶液をバス 温度 135°Cでトルエン及び低沸点物を留去した後、更に系内を 3〜 1トールに減圧し て濃縮を行い、黄色粘性液体 345gを得た。得られた黄色粘性液体について、上記 実施例 1と同様に元素分析を行ったところ、ニオブ含有量は 12. 2質量%であり、炭 素含有量は 59. 0質量%であった。
[0064] 比較例 2 : 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 No. 3の製造
乾燥アルゴンガス雰囲気下で、反応フラスコにペンタキス(エトキシ)ニオブ 0. 5モ ル、乾燥キシレン 200mlを仕込み、これに 2—ェチルへキサン酸 2. 6モルを加え、バ ス温度 145°Cで 4時間還流させた後、バス温度 145°Cでキシレン及び低沸点物を反 応系から留去し、更に、系内を 3〜讣ールに減圧して濃縮することにより黄色粘性液 体 335gを得た。得られた黄色粘性液体について、実施例 1と同様に元素分析を行つ たところ、ニオブ含有量は 17. 4質量%であり、炭素含有量は 53. 0質量%であった
[0065] 評価 1
上記実施例 1、比較例 1及び比較例 2で得られた 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導 体 No. 1〜3について、トルエン及びブタノールを用いて有機溶剤への溶解性を評 価した。有機溶剤 6gと 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 4gを混合した結果を表 1 に示す。
[0066] [表 1]
Figure imgf000019_0001
[0067] 評価 2
上記実施例 1及び比較例 1で得られた 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 No . 1 〜2について、ペンタキス(エトキシ)タンタル 0. 6モル/リットルのテトラヒドロフラン溶 液を用いて混合安定性の試験を行った。タンタルアルコキシド溶液に 2—ェチルへキ サン酸ニオブ誘導体をニオブのモル数がタンタルの 50%になる量カ卩えた溶液と 2— ェチルへキサン酸ニオブ誘導体をカ卩えない溶液を 20mlのサンプル瓶に 10ml入れ、 30°C湿度 50%の恒温恒湿槽に 18時間保存した後の試料の様子を観察した。結果 を表 2に示す。
[0068] [表 2] 2-ェチルへキサン酸 誘導 2-ェチルへ麵 '誘導 - 誘 f本未測
体 No. 1 体 No. 2
1 8時間後 透明溶液 微獨、 沈殿 微獨、 沈殿
[0069] 上記結果より、本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体は、有機溶剤に対す る溶解性が良好であり、また、他のプレカーサ化合物との混合安定性も良好であるこ とが確認できた。なお、タンタルエトキシドに対しては安定ィ匕付与効果も有することが 確認できた。 これに対し、ニオブ含有量の多い 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 は、溶解性が劣り、ニオブ含有量が少ない 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体は、 他のプレカーサ化合物との混合安定性に劣る。
このことは、本発明の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体が、 MOD法のプレカー サとして特異的に優れた効果を示すものである。
[0070] 実施例 2
上記実施例 1で得た 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 No . 1と 2—ェチルへキサ ン酸鉛をブタノールに溶解させ、ニオブと鉛の金属モル比が 1 : 1であり、ニオブと鉛 を合わせた金属分濃度が 0. 1モル Zリットルである有機酸金属塩組成物 1を調製し た。
[0071] 比較例 3
2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体に変えて、ペンタキス(エトキシ)ニオブを用い た以外は、上記実施例 2と同様の配合 (金属モル比、金属分換算濃度)の比較品の 有機酸金属塩組成物 2を調製した。
[0072] 評価 3
上記実施例 2で得た本発明品の有機酸金属塩組成物 1と上記比較例 3で得た比較 品の有機酸金属塩組成物 2を 20mlのサンプル瓶に 10m入れ、 30°C湿度 50%の恒 温恒湿槽に 18時間保存した後の試料の様子を観察した。その結果、有機酸金属塩 組成物 1は、透明であつたが、有機酸金属塩組成物 2は、濁っており、沈殿が観察さ れた。
[0073] 評価 4
上記実施例 2で得た本発明品の有機酸金属塩組成物 1と比較例 3で得た比較品の 有機酸金属塩組成物 2について、 TG— DTAを用いて熱分解挙動を評価した。 TG DTAの測定条件は、雰囲気:空気; 300mlZmin、温度プログラム:測定範囲; 30 °C〜600°C、昇温速度; 10°CZmin、リファレンス:アルミナ 7. 575mgで行った。サ ンプル量は、有機酸金属塩組成物 1は、 23. 6935mg、有機酸金属塩組成物 2は、 24. 3817mgであった。
この結果、有機酸金属塩組成物 1の DTAについて、 291°Cを頂点とする 1つのブロ ード発熱ピークが観察され、有機酸金属塩組成物 2の DTAについては、 294°Cを頂 点とするブロード発熱ピークと 321°Cを頂点とするブロード発熱ピークが観察された。
[0074] 上記の評価 3より、本発明品の有機酸金属塩組成物 1は、比較品の有機酸金属塩 組成物 2よりも保存安定性が優れることが確認できた。また、評価 4より、有機酸金属 塩組成物 1は、熱分解ピークが 1本観察され、有機酸金属塩組成物 2は、熱分解ピー クが 2本観察された。これは、有機酸金属塩組成物 1においては、 2—ェチルへキサ ン酸ニオブ誘導体と 2—ェチルへキサン酸鉛誘導体が同時熱分解を起こしているこ とを示し、有機酸金属塩組成物 2においては、ニオブプレカーサと鉛プレカーサが各 々分解していることを示している。このことは、複合金属含有薄膜を製造する MOD法 の材料として、有機酸金属塩組成物 1から得られる薄膜は、薄膜組成の均一性に優 れることを示唆している。
[0075] 実施例 3
上記実施例 1で得た 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 No. 1、 2—ェチルへキサ ン酸鈴、テトラキス (イソプロボキシ)チタニウム及びテトラキス (ブトキシ)ジルコニウム をブタノールに溶解させて、ニオブと鉛とチタニウムとジルコニウムの金属モル比が 1: 1 : 0. 5 : 0. 5であり、ニオブと鉛とチタニウムとジルコニウム合わせた金属分濃度が 0 . 1モル Zリットルの本発明品の有機酸金属塩組成物 3を調製した。
[0076] 比較例 4
2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体に変えて、ペンタキス(エトキシ)ニオブを用い た以外は、上記実施例 1と同様の配合 (金属モル比、金属分換算濃度)の比較品の 有機酸金属塩組成物 4を調製した。
[0077] 比較例 5 テトラキス (イソプロボキシ)チタニウム及びテトラキス (ブトキシ)ジルコニウムをブタノ ールに溶解させて、チタニウムとジルコニウムの金属モル比が 1 : 1であり、チタニウム とジルコニウム合わせた金属分濃度が 0. 05モル Zリットルの比較品の有機酸金属 塩組成物 5を調製した。
[0078] 評価 5
上記実施例 3で得た本発明品の有機酸金属塩組成物 3と上記比較例 4及び比較 例 5で得た比較品の有機酸金属塩組成物 4及び 5を 20mlのサンプル瓶に 10ml入れ 、 30°C湿度 50%の恒温恒湿槽に 18時間保存した後の試料の様子を観察した。その 結果、有機酸金属塩組成物 3は、透明であつたが、有機酸金属塩組成物 4及び 5は 、濁っており、沈殿が観察された。
[0079] 上記の評価例 5より、本発明品の有機酸金属塩組成物 3は、比較品の有機酸金属 塩組成物 4及び 5よりも保存安定性が優れることが確認できた。
[0080] 実施例 4
上記実施例 3で得た有機酸金属塩組成物 3及び上記比較例 4で得た有機酸金属 塩組成物 4を用いて、以下の手順により、 6インチシリコンウェハに薄膜を形成した。 得られた薄膜にっ 、て、 目視及び 100倍の偏光光学顕微鏡を用いて表面状態を観 察した結果、有機酸金属塩組成物 3から得られた薄膜は均質であり、クラック、凝集 物及びピンホールは観察されなカゝつた。比較品の有機酸金属塩組成物 4から得られ た薄膜は、部分的に白濁が見られ、凝集物とクラックが観察された。
[0081] (手順)
有機酸金属塩組成物 2mlをシリコンウェハ上にキャストして、 500rpmで 5秒、 150 Orpmで 15秒の条件でスピンコートを行った。ガラス基盤を 100°Cのホットプレート上 で 30秒加熱して溶媒を乾燥させて、 300°Cで 2分仮焼して力も室温に戻した。スピン コート、乾燥、仮焼、冷却を 3回繰り返した後、電気炉にて、 600°C、 3分間加熱して 焼成を行った。
[0082] 上記の実施例 4から、本発明の有機酸金属塩組成物 3を用いた薄膜が、均質で良 好な特性を有するものであることが確認できた。

Claims

請求の範囲
[I] ニオブ含有量が 13〜16質量%であり、炭素含有量が 50〜58質量%の範囲内で あり、且つニオブ原子、酸素原子及び 2—ェチルへキサン酸残基のみ力 構成され て 、ることを特徴とする 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体。
[2] 請求項 1記載の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法において、ペンタ キス(アルコキシ)ニオブと、 2—ェチルへキサン酸とを反応させることを特徴とする 2 ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法。
[3] ペンタキス(アルコキシ)ニオブ 1モルに対して、 2 ェチルへキサン酸 4〜6モルを 脱水剤の存在下で反応させる、請求項 2記載の 2—ェチルへキサン酸ニオブ誘導体 の製造方法。
[4] ペンタキス(アルコキシ)ニオブ 1モルに対して、 1〜8モルの脱水剤を使用する、請 求項 3記載の 2 ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法。
[5] 脱水剤として、ペンタキス(アルコキシ)ニオブ 1モルに対して、 4〜6モルの無水酢 酸を使用する、請求項 3または 4記載の 2 ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造 方法。
[6] 反応温度が 100〜150°Cの範囲内である、請求項 2ないし 5のいずれ力 1項記載の
2 ェチルへキサン酸ニオブ誘導体の製造方法。
[7] 請求項 1に記載の 2 ェチルへキサン酸ニオブ、ニオブ以外の金属プレカーサ及 び少なくとも 1種の有機溶剤を含有してなることを特徴とする有機酸金属塩組成物。
[8] 組成物中の有機溶剤の含有量は、 20〜99質量%の範囲内である、請求項 7記載 の有機酸金属塩組成物。
[9] ニオブ以外の金属プレカーサが一般式 (RCOO) Pb (式中、 Rは炭素数 1〜17の
2
脂肪族炭化水素基を表す)で表される有機酸鉛ィ匕合物である、請求項 7または 8記 載の有機酸金属塩組成物。
[10] 有機酸鉛化合物は、 2 ェチルへキサン酸鉛である、請求項 9記載有機酸金属塩 組成物。
[II] 金属モル比で、ニオブ原子 1モルに対して鉛原子を 0. 01〜10モルの割合で含有 してなる、請求項 9または 10記載有機酸金属塩組成物。
[12] 更に、他の任意の金属プレカーサを含有してなる、請求項 7ないし 11のいずれか 1 項記載の有機酸金属塩組成物。
[13] 他の任意の金属プレカーサは、少なくとも 1種の金属アルコキシド化合物である、請 求項 12記載の有機酸金属塩組成物。
[14] 金属アルコキシド化合物は、チタニウムアルコキシド及びジルコニウムアルコキシド 力もなる群力も構成される 1種または 2種以上の化合物である、請求項 13記載の有 機酸金属塩組成物。
[15] 基体上に、請求項 7な 、し 14の 、ずれか 1項記載の有機酸金属塩組成物を基体 上へ塗布し、加熱することによりニオブ元素とニオブ以外の金属とを含有してなる薄 膜を形成することを特徴とする基体上への薄膜の製造方法。
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