WO2006125426A1 - Vorrichtung zur reinigung von innenräumen in vakuumkammern - Google Patents
Vorrichtung zur reinigung von innenräumen in vakuumkammern Download PDFInfo
- Publication number
- WO2006125426A1 WO2006125426A1 PCT/DE2006/000894 DE2006000894W WO2006125426A1 WO 2006125426 A1 WO2006125426 A1 WO 2006125426A1 DE 2006000894 W DE2006000894 W DE 2006000894W WO 2006125426 A1 WO2006125426 A1 WO 2006125426A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- electrode
- vacuum chamber
- vacuum
- carrier
- cleaning
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B6/00—Cleaning by electrostatic means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4407—Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32853—Hygiene
- H01J37/32862—In situ cleaning of vessels and/or internal parts
Definitions
- the invention relates to a device for cleaning interior spaces in vacuum chambers, as used in particular in the system technology for surface modification and preferably in the vacuum coating technology on a wide variety of substrates. It can be used in systems engineering that can be used for PVD processes or as CVD processes.
- the interiors of the vacuum chambers are contaminated.
- material is removed from a substrate to be modified, which then remains partly in the form of particles in the interior of the vacuum chamber.
- contamination of the vacuum chambers occurs due to deposits not being deposited on the substrate. which layer material, which is then deposited on the inner walls of the vacuum chambers and grows there on the surfaces to layers and can form layer stack.
- the particle density can increase, which in turn the
- Lining panels can then be mechanically and / or chemically cleaned after disassembly from the respective vacuum chambers, which requires considerable effort. This requires flooding and opening of the respective vacuum chamber, which can not be used during this period, so that this alone increases the operating costs.
- An inventive device for cleaning interior spaces in vacuum chambers is designed so that at least one electrical electrode is arranged on a carrier.
- a carrier can then be introduced into a vacuum chamber or passed through vacuum chambers.
- the latter should always be possible if a vacuum system is formed from a plurality of vacuum chambers connected in series, via which substrates to be modified in each case are successively subjected to another modification or else only surface coating.
- the inventive The device as well as the respective substrates are transported via corresponding lock systems from a vacuum chamber into a respective subsequent vacuum chamber and discharged from a vacuum chamber arranged at the end of such a chain.
- a DC voltage source is connected to one or more electrodes or they can be connected to such a DC voltage source.
- an electrical field is formed in the interior space on two electrodes, with which free electrically charged or polar impurities, in particular such particles, are fixed electrostatically to at least one of the electrodes.
- the so fixed impurities can then be removed together with the device from the vacuum chamber or discharged.
- the device according to the invention can be used for a new cleaning in vacuum chambers.
- the second electrode forming an electric field can also be formed by a stationary part of the vacuum chamber and also connected to ground potential.
- the DC voltage supply can be realized, and the device according to the invention then be connected to this DC power supply, the manipulation for the connection of Vorrich- device can be done by means of a robot system and the required electrical contact can be made via corresponding electrical contact elements.
- a DC voltage source in the form of an electric energy storage device may also be provided on or in the carrier.
- e- lektroenergy Eat then conventional accumulators can be used.
- DC power supply by means of a bus bar, which is passed into a vacuum chamber or passed through the vacuum chamber, wherein for the tap at least one voltage pickup should be provided on the device.
- such a busbar is designed to be electrically insulated.
- the carrier should be formed of a dielectric material except for the electrode (s).
- Such a material may also be used for wheels or rollers which may be rotatably mounted to the device for easy entry or passage of the device into or through the vacuum chamber (s).
- a dielectric. see material, such as a glass or a ceramic formed carrier can then be one or more electrical electrode (s) as an electrically conductive layer (s) on / on the carrier formed.
- Such electrically conductive layers which can form one or more electrodes, can also be produced from electrically conductive material with a vacuum coating technology.
- Electrically conductive electrodes may preferably be arranged on opposite sides of a carrier, but at least at a distance which avoids short circuits.
- a voltage potential difference should be observed at electrodes which, taking into account the internal pressure in the respective vacuum chamber, can avoid plasma formation / ignition.
- an internal pressure p ⁇ 10 "4 Pa an operation with voltages of about 50 volts or a maximum potential difference of about 100 volts done.
- the device according to the invention should be designed so that a manipulation is possible, which ensures that during a cleaning a stationary arrangement within a vacuum chamber at least in the vicinity of coating sources is possible.
- a device according to the invention is to be passed through a plurality of vacuum chambers, this should be such that it can be guided past corresponding coating sources at a short distance, since in these areas the growth of the undesired layer stacks is maximized.
- a cleaning with a device according to the invention can be carried out in each case between the normal operation of a corresponding vacuum modification system and also at the respective customary base pressure within such a system or vacuum chamber.
- the cleaning effect can be further assisted when using a device according to the invention if thermally loaded layers already deposited within the vacuum chambers, so that stresses occur.
- the vacuum chambers or parts thereof can be heated.
- more than two electrical electrodes for the formation of one or more electric fields can also be present on a device according to the invention, in order to be able to exert a targeted local influence on respective field strengths, which can lead to improved cleaning of interior spaces of vacuum chambers ,
- FIG. 1 shows an example of a device according to the invention.
- FIG. 1 shows in schematic form a carrier 3 made of glass. On the surface of the carrier 3, two areas with a surface coating made of aluminum, which form the electrical electrodes 1 and 2 on the carrier 3, have been formed at a distance from one another.
- a thus prepared carrier 3 with the electrically conductive electrodes 1 and 2 can then the cleaning of Indoors on vacuum chambers with an internal pressure less than 10 "5 mbar at voltages greater than 50 V done and a significant cleaning effect can be achieved.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Vakuumkammern, wie sie insbesondere bei Anlagentechnik zur Oberflächenmodifizierung und Vakuumbeschichtungstechnologie auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden. Dabei ist es Aufgäbe der Erfindung, solche Innenräume effektiv zu reinigen und auch freie Partikel zu entfernen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung weist dabei mindestens eine Elektrode, die auf einem Träger angeordnet ist, auf. Sie ist durch eine Vakuumkammer hindurch oder einführbar. Die Elektrode (n) ist an eine Gleichspannungsquelle angeschlossen oder kann an eine solche angeschlossen werden. Dadurch können elektrisch geladene oder polare Verunreinigungen elektrostatisch an mindestens einer Elektrode fixiert und aus einer Vakuumkammer mit der Vorrichtung entfernt werden.
Description
Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Vakuum- kammern
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Vakuumkammern, wie sie insbesondere bei der Anlagentechnik zur Oberflächenmodifizierung und bevorzugt bei der Vakuumbeschichtungstechno- logie auf unterschiedlichsten Substraten eingesetzt werden. Dabei kann sie sowohl bei Anlagentechnik, die für PVD-Verfahren, als CVD-Verfahren genutzt werden können, eingesetzt werden.
Beim Betrieb solcher Vakuumanlagen kommt es zur Kontamination der Innenräume der Vakuumkammern. Im Falle von Vakuummodifizierungsanlagen erfolgt ein Material- abtrag von einem zu modifizierenden Substrat, welcher dann teilweise in Form von Partikeln im Inneren der Vakuumkammer zurückbleibt. Im Falle von Vakuumbe- schichtungsanlagen kommt es zu Verunreinigungen der Vakuumkammern durch nicht auf dem Substrat abgeschie-
denen Schichtmaterial, welches dann an den Innenwänden der Vakuumkammern deponiert wird und dort auf den Oberflächen zu Schichten aufwächst und Schichtstapel bilden kann.
Da solche unerwünschten Schichten einen aus unterschiedlichen Stoffen gebildeten Schichtaufbau aufweisen, ist die Haftung untereinander unterschiedlich und in der Regel schlecht. Durch Veränderungen von Prozessparametern, wie z.B. Temperatur erhöhen sich die mechanischen Spannungen im Schichtstapel durch die unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten der Einzelschichten und es kommt zu Ablösungen und zum Abplatzen des Schichtmaterials von den Innenwän- den der Vakuumkammern. Das von den Innenwänden abgelöste Schichtmaterial bleibt in Form von Partikeln in der Vakuumkammer zurück.
In Folge dieser bezeichneten Verunreinigungen kann sich die Partikeldichte erhöhen, was wiederum die
Herstellungsqualität der jeweiligen Substrate negativ beeinträchtigt, da diese in die Schichten bzw. in die auf den Substraten erzeugten Strukturen eingelagert wird und somit die Qualität der Schichten bzw. Struk- turen stark verschlechtert und gar zu Ausschuss führen kann, was die Produktivität solcher Anlegen erheblich vermindert.
Bisher ist es üblich, Kammern von Vakuumanlagen groß- flächig mit Auskleidungsblechen zu versehen. Solche
Auskleidungsbleche können dann, in der Regel nach Demontage aus den jeweiligen Vakuumkammern mechanisch und/oder chemisch gereinigt werden, was einen erheblichen Aufwand erfordert. Hierzu ist Fluten und Öff- nen der jeweiligen Vakuumkammer erforderlich, die in diesem Zeitraum nicht genutzt werden kann, so dass
allein dadurch die Betriebskosten erhöht werden.
Die bereits genannte mechanische und/oder chemische Reinigung ist sehr aufwendig und erfordert Vorsichts- maßnahmen, da auch toxisch wirksame Stoffe bei einer solchen Reinigung berücksichtigt werden müssen.
Außerdem können in dieser Form auch nicht sämtliche Partikel entfernt werden, ' so dass diese sich wieder nachteilig bei der jeweiligen Oberflächenmodifizierung bzw. Beschichtung der Substrate auswirken.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung Möglichkeiten zu schaffen, mit denen Innenräume von Vakuumkammern ef- fektiv gereinigt und auch freie Partikel aus Vakuumkammern entfernt werden können".'
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe mit einer Vorrichtung, die die Merkmale des Anspruchs 1 aufweist, ge- löst. Vorteilhafte Ausgestaltungsformen und Weiterbildungen der Erfindung können mit den in den untergeordneten Ansprüchen bezeichneten Merkmalen erreicht werden .
Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Vakuumkammern ist dabei so ausgebildet, dass an einem Träger mindestens eine elektrische Elektrode angeordnet ist. Ein solcher Träger kann dann in eine Vakuumkammer eingeführt oder durch Vaku- umkammern hindurchgeführt werden. Letzteres sollte immer dann möglich sein, wenn eine Vakuummanlage aus mehreren hintereinander geschalteten Vakuumkammern gebildet ist, über die jeweils zu modifizierende Substrate sukzessive einer anderen Modifizierung oder auch lediglich Oberflächenbeschichtung unterzogen werden. In solchen Anlagen können die erfindungsgemä-
ße Vorrichtung wie auch die jeweiligen Substrate über entsprechende Schleusensysteme von einer Vakuumkammer in jeweils eine nachfolgende Vakuumkammer transportiert und aus einer am Ende einer solchen Kette ange- ordneten Vakuumkammer ausgeschleust werden.
Dabei ist an einer oder auch mehreren Elektrode (n) eine Gleichspannungsquelle angeschlossen oder sie kann an eine solche Gleichspannungsquelle angeschlos- sen werden.
Dadurch wird im Innenraum an zwei Elektroden ein e- lektrisches Feld ausgebildet, mit dem freie elektrisch geladene oder polare Verunreinigungen, insbe- sondere solche Partikel elektrostatisch an mindestens einer der Elektroden fixiert werden. Die so fixierten Verunreinigungen können dann gemeinsam mit der Vorrichtung aus der Vakuumkammer entfernt oder auch ausgeschleust werden.
Nach der Entfernung bzw. Ausschleusung können die vorab elektrostatisch fixierten Verunreinigungen dann im Gegensatz zur herkömmlichen Vorgehensweise leicht entfernt und die erfindungsgemäße Vorrichtung für ei- ne neue Reinigung in Vakuumkammern eingesetzt werden.
Bei einer erfindungsgemäßen Vorrichtung mit lediglich einer einzigen Elektrode am Träger kann die zweite ein elektrisches Feld mitausbildende Elektrode auch von einem stationären Teil der Vakuumkammer gebildet und auch an Erdpotential angeschlossen sein.
Es besteht aber auch ohne weiteres die Möglichkeit, lediglich zwischen den jeweiligen elektrischen Elekt- roden eine Spannungspotentialdifferenz für die Ausbildung eines elektrischen Feldes auszunutzen, wie
aber auch eine entgegengesetzt gerichtete Polung an den jeweiligen elektrischen Elektroden vorzusehen.
Insbesondere bei einzeln betriebenen Vakuumkammern kann über eine Vakuumdurchführung in das Innere der
Vakuumkammer die Gleichspannungsversorgung realisiert werden, und die erfindungsgemäße Vorrichtung dann an diese Gleichspannungsversorgung angeschlossen werden, wobei die Manipulation für den Anschluss der Vorrich- tung mittels eines Robotersystems erfolgen kann und die erforderliche elektrische Kontaktierung über entsprechende elektrische Kontaktelemente erfolgen kann.
In einer anderen Alternative kann aber auch am oder auch im Träger eine Gleichspannungsquelle in Form eines Elektroenergiespeichers vorgesehen sein. Als E- lektroenergiespeicher können dann herkömmliche Akkumulatoren eingesetzt werden.
Auch in diesem Falle ist es aber besonders vorteilhaft einen Gleichspannungs-/Gleichspannungs-Konverter zwischen die jeweilige Gleichspannungsquelle und die Elektrode (n) zu schalten, mit dem eine Anhebung der elektrischen Spannungen oder auch eine Erhöhung der Spannungspotentialdifferenz, auch in geregelter Form erreichbar ist .
In einer weiteren Alternative kann aber auch die
GleichspannungsVersorgung mittels einer Stromschiene, die in eine Vakuumkammer hinein oder durch die Vakuumkammer hindurchgeführt ist erfolgen, wobei für den Abgriff mindestens ein Spannungsabnehmer an der Vorrichtung vorgesehen sein sollte .
Bevorzugt ist eine solche Stromschiene elektrisch i- soliert ausgebildet.
Der Träger sollte bis auf die Elektrode (n) aus einem dielektrischen Werkstoff gebildet sein. Ein solcher Werkstoff kann auch für Räder oder Rollen eingesetzt werden, die eine leichte Bewegung für das Ein- oder auch Hindurchführen der Vorrichtung in oder durch Vakuumkammer (n) drehbar an der Vorrichtung befestigt sein können.
Insbesondere in letztgenannter Ausbildungsform besteht dann auch die Möglichkeit, dass eine Elektrode durch die jeweilige Stromschiene gebildet werden kann.
Auf einem zumindest teilweise aus einem dielektri-. sehen Werkstoff, wie zum Beispiel einem Glas oder einer Keramik gebildeten Träger können dann eine oder mehrere elektrische Elektrode (n) als elektrisch leitende Schicht (en) auf/am Träger ausgebildet sein.
Solche elektrisch leitenden Schichten, die eine oder auch mehrere Elektrode (n) bilden können, können aus elektrisch leitendem Werkstoff auch mit einer Vakuum- beschichtungstechnologie hergestellt werden.
Elektrisch leitende Elektroden können bevorzugt an gegenüberliegenden Seiten eines Trägers, zumindest jedoch in einem Abstand, der Kurzschlüsse vermeidet, angeordnet sein.
Beim Einsatz für eine Reinigung innerhalb einer Vakuumkammer sollte eine Spannungspotentialdifferenz an Elektroden eingehalten werden, die unter Berücksichtigung des Innendruckes in der jeweiligen Vakuumkam- mer eine Plasmabildung/-zündung vermeiden kann. So kann beispielsweise bei einem Innendruck p ≤ 10"4 Pa
ein Betrieb mit Spannungen von ca. 50 Volt oder eine maximalen Spannungspotentialdifferenz von ca. 100 Volt erfolgen.
Außerdem können auch die jeweiligen Innenraumverhält- nisse von Vakuumkammern, was deren innere Volumina und auch die Abstände zu bereits ausgebildeten Verunreinigungsschichten und/oder abgelagerten Partikeln berücksichtigt werden.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung sollte dabei so ausgebildet sein, dass eine Manipulation möglich wird, die gewährleistet, dass bei einer Reinigung eine stationäre Anordnung innerhalb einer Vakuumkammer zumin- dest in der Nähe von Beschichtungsquellen möglich ist.
Soll eine erfindungsgemäße Vorrichtung durch mehrere Vakuumkammern hindurchgeschleust werden, sollte dies so erfolgen können, dass sie an entsprechenden Beschichtungsquellen mit kurzem Abstand vorbeigeführt werden kann, da in diesem Bereichen das Wachstum der unerwünschten Schichtstapel maximiert ist ..
Eine Reinigung mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung kann jeweils zwischen dem normalen Betrieb einer entsprechenden Vakuummodifizierungsanlage und auch beim jeweils üblichen Basisdruck innerhalb einer solchen Anlage bzw. Vakuumkammer durchgeführt werden.
Die Reinigungswirkung kann beim Einsatz einer erfindungsgemäßen Vorrichtung noch unterstützt werden, wenn innerhalb der Vakuumkammern bereits deponierte Schichten thermisch belastet werden, so dass Spannun- gen auftreten. Hierfür können die Vakuumkammern oder Teile davon aufgeheizt werden.
Wie bereits angedeutet können aber auch an einer erfindungsgemäßen Vorrichtung mehr als zwei elektrische Elektroden für die Ausbildung eines oder auch mehrerer elektrischer Felder vorhanden sein, um einen gezielten lokalen Einfluss auf jeweilige Feldstärken ausüben zu können, die zu einer verbesserten Reinigung von Innenräumen von Vakuumkammern führen können.
Nachfolgend soll die Erfindung beispielhaft näher erläutert werden, ohne dass dies eine Einschränkung der Erfindung auf das beschriebene Beispiel darstellen soll.
So zeigt:
Figur 1 ein Beispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.
In Figur 1 ist in schematischer Form ein Träger 3 aus Glas gezeigt . Auf der Oberfläche des Trägers 3 sind in einem Abstand zueinander zwei Bereiche mit einer Oberflächenbeschichtung aus Aluminium ausgebildet worden, die die elektrischen Elektroden 1 und 2 am Träger 3 bilden.
In nicht dargestellter Form können auch Teile dieser Schichten elektrische Zuleitungen an eine Gleichspan- nungsversorgung, wie sie im allgemeinen Teil der Beschreibung erklärt worden ist bilden, aber auch in eine elektrisch leitende Verbindung hergestellt so werden .
Ein so vorbereiteter Träger 3 mit den elektrisch leitenden Elektroden 1 und 2 kann dann die Reinigung von
Innenräumen an Vakuumkammern mit einem Innendruck kleiner 10"5 mbar bei Spannungen größer 50 V erfolgen und eine merkliche Reinigungswirkung erreicht werden.
Claims
1. Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Va- kuumkamraern, bei der ein Träger (3) , an dem min- destens eine elektrische Elektrode (1.2) angeordnet ist, in eine Vakuumkammer einführbar oder durch diese hindurchführbar ist,
an die Elektrode (n) (1,2) eine Gleichspannungs- quelle angeschlossen oder anschließbar ist, so dass zur Entfernung von elektrisch geladenen o- der polaren Verunreinigungen aus dem Innenraum einer Vakuumkammer mittels eines ausgehend von mindestens zwei Elektroden (1,2) ausgebildeten elektrischen Feldes elektrostatisch an mindestens einer der Elektroden ' (1,2) fixier- und aus der Vakuumkammer entfernbar sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie an eine über eine Vakuumdurchführung in das Innere einer Vakuumkammer geführte Gleichspannungsversorgung anschließbar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass am/im Träger (3) eine Gleichspannungsquelle in Form eines Elektroenergie- speichers vorhanden ist.
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden An- Sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spannungsquelle an einem Gleichspannungs- /Gleichspannungs-Konverter und die Elektrode (n) (1,2) an den Gleichspannungs-/Gleichspannungs- Konverter angeschlossen sind.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gleichspannungsversorgung mittels einer Stromschiene, die in oder durch eine Vakuumkammer hindurch geführt ist und mittels mindestens eines Spannungsabnehmers -erfolgt .
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden An- sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Stromschiene elektrisch isoliert ist .
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (3) bis auf die Elektrode (n) (1,2) aus einem dielektrischen Werkstoff gebildet ist.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode (n) (1,2) als elektrisch leitende
Schicht (en) auf/am Träger (3) ausgebildet ist/sind.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden (1,2) an sich gegenüberliegenden Seiten des Trägers (3) angeordnet sind.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass unter Berücksichtigung des Innendruckes in der jeweiligen Vakuumkammer eine, eine Plasmabildung vermeidende, Spannungspotentialdifferenz an Elekt- roden (1,2) eingehalten ist.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode (n) (1,2) bei der Reinigung zumindest in der Nähe von Beschichtungsquellen angeordnet oder an diesen vorbeiführbar ist/sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200510025101 DE102005025101B3 (de) | 2005-05-27 | 2005-05-27 | Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Vakuumkammern |
DE102005025101.3 | 2005-05-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2006125426A1 true WO2006125426A1 (de) | 2006-11-30 |
WO2006125426A8 WO2006125426A8 (de) | 2007-02-08 |
Family
ID=36599648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/DE2006/000894 WO2006125426A1 (de) | 2005-05-27 | 2006-05-16 | Vorrichtung zur reinigung von innenräumen in vakuumkammern |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102005025101B3 (de) |
WO (1) | WO2006125426A1 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008008576A1 (de) | 2008-02-11 | 2009-08-20 | Carl Freudenberg Kg | Elektrostatischer Staubfänger |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07195046A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-01 | Mitsubishi Electric Corp | 異物除去方法及び装置 |
DE19711661A1 (de) * | 1996-03-21 | 1997-12-18 | Ernst Wenger | Verfahren zum Entstauben von Oberflächen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
JPH1034098A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Akira Mizuno | 除塵プレ−ト及び除塵シ−ト並びに除塵装置 |
EP1382714A2 (de) * | 2002-07-18 | 2004-01-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Entfernung von Partikeln |
US20040079385A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-04-29 | Frisa Larry E. | Method for removing particles from a semiconductor processing tool |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1153787A (en) * | 1965-09-01 | 1969-05-29 | Libbey Owens Ford Glass Co | Method and apparatus for Glow Cleaning |
JPH06192857A (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-12 | Nec Corp | ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 |
-
2005
- 2005-05-27 DE DE200510025101 patent/DE102005025101B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-05-16 WO PCT/DE2006/000894 patent/WO2006125426A1/de active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07195046A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-01 | Mitsubishi Electric Corp | 異物除去方法及び装置 |
DE19711661A1 (de) * | 1996-03-21 | 1997-12-18 | Ernst Wenger | Verfahren zum Entstauben von Oberflächen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
JPH1034098A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Akira Mizuno | 除塵プレ−ト及び除塵シ−ト並びに除塵装置 |
EP1382714A2 (de) * | 2002-07-18 | 2004-01-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Entfernung von Partikeln |
US20040079385A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-04-29 | Frisa Larry E. | Method for removing particles from a semiconductor processing tool |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 1995, no. 11 26 December 1995 (1995-12-26) * |
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 1998, no. 06 30 April 1998 (1998-04-30) * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006125426A8 (de) | 2007-02-08 |
DE102005025101B3 (de) | 2006-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0783174B1 (de) | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats | |
DE3614384A1 (de) | Verfahren zur beschichtung von substraten in einer vakuumkammer | |
DE4126236C2 (de) | Rotierende Magnetron-Kathode und Verwendung einer rotierenden Magnetron-Kathode | |
DE102008019023A1 (de) | Vakuum-Durchlaufanlage zur Prozessierung von Substraten | |
DE3402971A1 (de) | Vorrichtung zur beschichtung eines substrates mittels plasma-chemical vapour deposition oder hochfrequenz-kathodenzerstaeubung | |
EP0888463B1 (de) | Einrichtung zum vakuumbeschichten von schüttgut | |
EP0008634A1 (de) | Verfahren zum Auflagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes Werkstück und Vorrichtung zur Durchführung desselben | |
DE102012200564A1 (de) | Antriebs- und Versorgungseinrichtung für eine rotierende Elektrode, drehbare Anode und Vakuumprozessanlage | |
EP1673488B1 (de) | Modulare vorrichtung zur beschichtung von oberflächen | |
WO2006125426A1 (de) | Vorrichtung zur reinigung von innenräumen in vakuumkammern | |
EP0257620B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ausbilden einer Schicht durch plasmachemischen Prozess | |
EP0786793A2 (de) | Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken | |
EP0647961A1 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von langgestreckten biegsamen Erzeugnissen | |
DE102013107659B4 (de) | Plasmachemische Beschichtungsvorrichtung | |
EP0301604A2 (de) | Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrates mittels Plasma-Chemical Vapour Deposition oder Kathodenzerstäubung und damit ausgeführtes Verfahren | |
DE2134377A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ab scheiden dunner Schichten mittels Kathodenzerstäubung auf Metallwerkstucken | |
DE3000451A1 (de) | Vakuumbedampfungsanlage | |
DE3837487A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum aetzen von substraten mit einer magnetfeldunterstuetzten niederdruck-entladung | |
EP1006211A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Plasma-Oberflächenbehandlung von Substraten | |
DE102012111186A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen einer Magnetron-Entladung | |
DE102006062375B4 (de) | Anordnung und Verfahren zur Entfernung von Verunreinigungen oder Modifizierung von Oberflächen von Substraten mittels elektrischer Bogenentladung | |
WO2003107385A2 (de) | Vorrichtung zur beschichtung von substraten mittels physikalischer dampfabscheidung über den hohlkathodeneffekt | |
EP1462538B1 (de) | Verfahren zum reaktiven Magnetron-sputtern | |
DE3821815A1 (de) | Vorrichtung zur beschichtung eines laenglichen innenraums eines hohlkoerpers mit einer diamantartigen, harten kohlenstoffbeschichtung mit hilfe eines plasmagestuetzten cvd-verfahrens | |
EP2558609B1 (de) | Verfahren zum beschichten eines substrates innerhalb einer vakuumkammer mittels plasmaunterstützer chemischer dampfabscheidung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application | ||
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: RU |
|
WWW | Wipo information: withdrawn in national office |
Country of ref document: RU |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 06742373 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |