WO2006074681A1 - Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes Download PDF

Info

Publication number
WO2006074681A1
WO2006074681A1 PCT/EP2004/014842 EP2004014842W WO2006074681A1 WO 2006074681 A1 WO2006074681 A1 WO 2006074681A1 EP 2004014842 W EP2004014842 W EP 2004014842W WO 2006074681 A1 WO2006074681 A1 WO 2006074681A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optically functional
substrate
functional interface
partially
radiation field
Prior art date
Application number
PCT/EP2004/014842
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Dirk Hauschild
Aleksei Mikhailov
Original Assignee
Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg filed Critical Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg
Priority to PCT/EP2004/014842 priority Critical patent/WO2006074681A1/de
Priority to CN2004800447791A priority patent/CN101107544B/zh
Priority to EP04804427A priority patent/EP1834196A1/de
Priority to JP2007548698A priority patent/JP4527153B2/ja
Publication of WO2006074681A1 publication Critical patent/WO2006074681A1/de
Priority to US11/825,082 priority patent/US7515347B2/en

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0875—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
    • G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements

Definitions

  • the present invention relates to a device for changing an electromagnetic radiation field of the optical spectral range, in particular of a laser radiation field. Furthermore, the present invention relates to a method for producing such a device.
  • Electromagnetic radiation field of the optical spectral range in the present case means that the electromagnetic radiation can be refracted at optically functional interfaces.
  • this also applies to the near, middle and far infrared range as well as to the UV range up to the vacuum UV range.
  • an electromagnetic radiation field of the optical spectral range in particular if a laser radiation field is to be imaged or focused in a working plane, refractive elements such as lenses are mostly used.
  • the intensity distribution of the laser radiation field in the working plane is influenced by the shape and nature of the lenses used. For example, if a spherical lens is used to image or focus the laser radiation into the working plane, aberrations due to spherical aberration will result. On the other hand, with spherical lenses, the surfaces can be polished comparatively well, so that the quality of a spherical surface is comparatively good. However, if aspheric lenses are used to avoid the aforementioned aberrations, undesirable non-uniformities occur in the lens Intensity distribution of the laser radiation in the working plane due to the uneven surface of the aspherical lens.
  • Fig. 1 shows an example of a correction element 1 which can be used, for example, in addition to a spherical lens to correct aberrations caused by the spherical lens.
  • the correction element 1 depicted in FIG. 1 has an optically functional interface 2, which in FIG. 1 shows two elevations and one depression.
  • the shape of the optically functional boundary surface can vary, depending on whether only aberrations are to be corrected or whether the intensity distribution of the laser radiation field in the working plane should also be changed with regard to its shape.
  • the depth T 1 of the structures on the optically functional interface 2 of the correction element 1 can be, for example, 600 nm.
  • the surface roughness of the optically functional interface 2 in order to achieve a uniformity of the intensity distribution in the working plane necessary for high-power laser applications or for applications in chip production or the like, the surface roughness of the optically functional interface 2 must be in the range of at most 20 nm to 30 nm. Such a high-quality surface can not be achieved with conventional production methods with aspherical surfaces, either at all, or only with extremely expensive processes based on the displacement or manipulation of individual atoms.
  • the problem underlying the present invention is the provision of a device of the type mentioned, which is inexpensive to produce and for generating a uniform and / or deliberately altered intensity distribution of the radiation field in a working plane and / or a targeted change of the wavefront or phase front of the radiation field can contribute. Furthermore, a method is to be specified with which such a device can be produced, wherein in particular the intensity distribution of the radiation field in the working plane and / or the wavefront of the radiation field should be specifically influenced.
  • the device according to claim 1 comprises:
  • a first substrate having a first refractive index and a first optically functional interface that is at least partially curved, wherein the electromagnetic radiation field to be changed may at least partially pass through the first optically functional interface;
  • a second substrate having a second refractive index and a second optically functional interface that is at least partially curved, wherein the electromagnetic radiation field to be changed after passing through the first optically functional interface at least partially pass through the second optically functional interface;
  • the difference in refractive indices of the first and second substrates is less than the difference between each of the refractive indices of the first and second substrates and the refractive index of air;
  • first and second optically functional interfaces are disposed on facing sides of the first and second substrates
  • curvatures of the first and second optically functional interfaces correspond at least in sections to one another
  • the gap between the first optically functional interface and the second optically functional interface is configured such that the electromagnetic radiation field as it propagates from the first substrate into the second substrate through the first and second optically functional interfaces and the space therebetween is predominantly one Refraction on the basis of one or more refractive index differences, which are less than or equal to the difference of the refractive indices of the first and the second substrate.
  • Such a device can be used either to correct an electromagnetic radiation field or to form an electromagnetic radiation field when a desired intensity profile is set in a working plane should.
  • the device according to the invention does not have an optically functional interface, but two comparatively closely adjacent optically functional interfaces in two substrates separated from one another. However, these two substrates do not have as large a refractive index difference as that between air and glass of about 0.5.
  • the structures on the optically functional interfaces accordingly have to have a greater depth.
  • this can be achieved by the choice of a very small distance between the first and the second optically functional interface.
  • the first substrate and the second substrate are arranged such that the distance between the first and the second optically functional boundary surface is at least partially smaller than the mean wavelength of the electromagnetic radiation field.
  • the first substrate and the second substrate are arranged such that the distance between the first and the second optically functional interface is at least partially smaller than 100 nm.
  • the first substrate and the second substrate are arranged such that the distance between the first and the second optically functional interface is at least partially smaller than 50 nm, in particular according to claim 5 approximately between 10 and 20 nm is.
  • Such a small distance between the optically functional interfaces ensures that an electromagnetic wave propagating through the first substrate polarizes or influences the atoms, ions or molecules of the first substrate in the region of the first optically functional interface such that the polarization or influence of this
  • atoms, ions or molecules in the second substrate in the region of the second optically functional interface can also be polarized or influenced in the vicinity of the first optically functional interface, so that an electromagnetic wave can propagate from this second optically functional interface into the second substrate ,
  • the electromagnetic wave thus intervenes comparatively directly from the first substrate into the second substrate and as far as possible undergoes refraction on the basis of the refractive index difference between the first and the second substrate.
  • the difference between the refractive index of the first substrate and the refractive index of the air possibly in the space between the first and second substrate is indeed greater than the difference in refractive indices of the two substrates. Nevertheless, with a sufficiently small distance between the two optically functional interfaces to each other, the transition of the electromagnetic wave from the first substrate into the second substrate is not or only insignificantly influenced by the refractive index of the gap, but essentially only the difference of the refractive indices of the first substrate and the second substrate. A sufficiently small distance is present if the distance between the interfaces is smaller than the wavelength, in particular if the distance is small compared to the wavelength.
  • the refractive index of the medium of the gap will have very little effect on the transition of the electromagnetic wave from the first to the second substrate, if the distance is less than 1/10 of the wavelength of the electromagnetic radiation. This could be done with UV lasers of wavelengths in the range of 250 nm at distances less than 25 nm.
  • claim 6 proposes that in the intermediate space between the first optically functional interface and the second optically functional interface at least in sections a substance is arranged which has a refractive index greater than 1. It can be provided according to claim 7, that in the space between the first optically functional interface and the second optically functional interface at least partially a substance is arranged, which has a refractive index less than 0, 1 of each of the refractive indices of the first and second Substrates is different.
  • a substance is arranged which has a refractive index which is smaller than the larger of the two Refractive indices of the first and second substrates and is greater than the smaller of the two refractive indices of the first and the second substrate.
  • an immersion oil is arranged at least in sections in the intermediate space between the first optically functional boundary surface and the second optically functional boundary surface.
  • an immersive substance between the two optically functional interfaces may also prevent the electromagnetic radiation field from being refracted upon transition from the first substrate to the second substrate due to refractive index differences greater than the difference in refractive indices of the first and second substrate.
  • an immersion oil can be introduced, which has a refractive index, which is arranged between the refractive indices of the first and the second substrate.
  • the curvature of the first optically functional boundary surface corresponds to the curvature of the second optically functional boundary surface in such a way that the boundary surfaces engage one another comparatively fittingly. With exactly corresponding curvatures, the two optically functional interfaces can be approached very close to one another.
  • the difference of the refractive indices of the first and the second substrate may be less than 0.01, in particular less than 0.01, preferably about 0.005.
  • the effects of surface roughness on the quality of the intensity distribution in the working plane can be significantly reduced.
  • a difference in refractive indices in the range of 0.005 in contrast to a refractive index difference of 0.5 according to the prior art achieved by a factor of 100 greater tolerance to surface roughness.
  • surface roughnesses of the order of magnitude between 2 ⁇ m and 3 ⁇ m can then be tolerated given corresponding requirements for the uniformity of the intensity profile.
  • such surfaces can be produced very easily and inexpensively.
  • the depth of the structure contributing to the curvature of the first optically functional interface and / or the second optically functional interface is greater than 10 ⁇ m, preferably greater than 50 ⁇ m.
  • Such deep structures can also be produced simply and cost-effectively with corresponding production methods.
  • the first optically functional interface and / or the second optically functional interface at least partially have a rotationally symmetric curvature with respect to the mean propagation direction of the radiation field to be changed.
  • the first optically functional interface and / or the second optically functional interface at least partially have a part-cylindrical curvature.
  • the surfaces of the optically functional interface may be easier to produce.
  • the first optically functional interface and / or the second optically functional interface at least partially have an aspherical curvature.
  • spherical aberrations caused by imaging or focusing in a working plane by means of spherical lenses can be corrected for aspheric curvatures.
  • first and the second optically functional interface can be made comparatively arbitrary in order to achieve a desired intensity distribution in the working plane.
  • the first substrate and / or the second substrate comprise positioning means which allow a comparatively suitable positioning of the first optically functional interface at the second optically functional interface.
  • the positioning means may be formed as grooves and / or elongated elevations.
  • the first substrate and / or the second substrate is at least partially planar on the side facing away from the optically functional interfaces.
  • Such planar surfaces of the substrate can be prepared by simple means with very low surface roughness, so that even these interfaces through which the electromagnetic radiation must pass, not adversely affect the intensity distribution to be achieved in the working plane.
  • the device a third substrate having a third refractive index and a third optically functional interface which is at least partially curved, wherein the electromagnetic radiation field to be changed may pass at least partially through the third optically functional interface; and continue
  • a fourth substrate having a fourth refractive index and a fourth optically functional interface that is at least partially curved, wherein the electromagnetic radiation field to be changed, after passing through the third optically functional interface, may pass through at least partially through the fourth optically functional interface;
  • the difference of the refractive indices of the third and fourth substrates is smaller than the difference between each of the refractive indices of the third and fourth substrates and the refractive index of air;
  • curvatures of the third and the fourth optically functional interface at least partially correspond to each other;
  • the gap between the third optically functional interface and the fourth optically functional interface is designed such that the electromagnetic radiation field in the propagation from the third substrate into the fourth substrate through the third and fourth optically functional interfaces and the space therebetween predominantly undergoes refraction based on one or more refractive index differences that is less than or equal to the difference in refractive indices of the third and fourth substrates.
  • first and second optically functional interfaces have a cylindrical structure with cylinder axes in a first direction perpendicular to the direction of propagation of the electromagnetic radiation
  • third and fourth optically functional interfaces are cylindrical with cylindrical axes in a second direction perpendicular to the propagation direction of the electromagnetic radiation, which is also perpendicular to the first direction.
  • first and second cylindrical interfaces on one side and the second and third cylindrical interfaces on the other side form mutually crossed cylindrical lenses which can affect the electromagnetic radiation passing therethrough in two mutually perpendicular directions.
  • the third substrate and / or the fourth substrate comprise positioning means which allow a comparatively suitable positioning of the third optically functional interface at the fourth optically functional interface. Furthermore, it is also possible to provide positioning means which enable a positioning of the first and the second substrate on the third and the fourth substrate, in such a way that the entire device can be accurately assembled by the positioning means.
  • the device comprises more than four substrates with more than four optically functional interfaces which are arranged similar to the first and second or third and fourth.
  • the device comprises more than four substrates with more than four optically functional interfaces which are arranged similar to the first and second or third and fourth.
  • the device comprises, in addition to the at least two substrates, at least one lens means which enables at least partial focusing of the electromagnetic radiation field into a working plane.
  • the at least one lens means at least partially have a spherical curvature.
  • the substrates with the optically functional interfaces act largely as correction elements for the lens means, which are designed, for example, with a spherical surface, which essentially effects the imaging or focusing of the electromagnetic radiation into the working plane.
  • the method according to the invention according to claim 27 comprises the following method steps:
  • the intensity distribution of the electromagnetic radiation in the working plane is determined; the determined intensity distribution is compared with the desired intensity distribution;
  • the shape of the first and the second optically functional interface becomes such that when a first and a second optically functional interface are inserted with the calculated shapes in the beam path of the electromagnetic field, the desired intensity distribution in the working plane can be achieved is;
  • the first and second optically functional interfaces are prepared in the calculated form.
  • any intensity distribution to be created can be selected Due to the difference between the desired and the determined intensity distribution, the shape of the first and second optically functional interfaces can be calculated so that after introduction of the first and second optically functional interfaces, the desired intensity distribution in the working plane can be achieved. It can be provided according to claim 28, that the calculation of the shape of the first and the second optically functional interface is performed under specification of the refractive indices of the first and the second substrate.
  • the refractive indices of the substrates can be selected according to the requirements of the quality of the intensity profile, the difference between the refractive indices should normally be smaller if the quality requirements for the intensity distribution in the working plane are higher.
  • Fig. 1 shows schematically an optical correction element according to the prior art
  • Fig. 2 is a schematic side view of a device according to the invention.
  • FIG. 3 is a detail view according to the arrow IM in Fig. 2nd
  • the embodiment shown in FIG. 2 of a device according to the invention comprises a first substrate 3 with a first refractive index n 2 and a second substrate 4 with a second refractive index n 3.
  • the first substrate 3 has on its lower side in FIG. 2 a first optically functional interface 5.
  • the second substrate 4 has on its upper side in FIG. 2 a second optically functional interface 6.
  • the substrates 3, 4 have planar interfaces 7, 8 on their sides facing away from the optically functional boundary surfaces 5, 6.
  • the first optically functional interface 5 and the second optically functional interface 6 have curved structures whose depth T 2 can be comparatively large, for example, more than 10 ⁇ m, in particular about 50 to 60 ⁇ m.
  • first optically functional boundary surface 5 and the second optically functional boundary surface 6 in FIG Have substantially the same curvature or the same shape, so that they are at least partially parallel to each other.
  • the distance d of the optically functional boundary surfaces 5, 6 from one another can be comparatively small, in particular approximately 10 nm to 20 nm.
  • an immersive substance preferably an immersion oil, whose refractive index is in the range of the order of n 2 and n 3 .
  • the refractive index n 2 of the first substrate 3 is approximately 1.500, and furthermore that the refractive index n 3 of the second substrate 4 is approximately 1.505, so that the difference ⁇ n between the refractive indices of the substrates 3, 4 is about 0.005.
  • the refractive index of the immersion oil may be 1, 503.
  • first and second optically functional interfaces are cylindrically shaped to extend without changes in the plane of the drawing of FIG.
  • third and fourth functional interfaces are provided which are arranged similarly to the first and second optically functional interfaces, but have cylinder axes which are perpendicular to those of the first and second optically functional interfaces. To this This results in mutually crossed cylindrical lenses, which can influence the electromagnetic radiation in two mutually perpendicular directions.
  • electromagnetic radiation for example in the form of laser radiation
  • a laser beam would thus enter the upper planar interface 7 in FIG. 2 and emerge from the first substrate 3 through the first optically functional interface 5.
  • the laser beam emitted from the first optically functional interface 5 would enter the second optically functional interface 6 of the second substrate 4 and leave it through the lower planar interface 8.
  • the laser radiation at the transition from the first substrate 3 into the second substrate 4 is not or only slightly by the refractive index of the located in the gap 9 Medium, but almost exclusively by the refractive index difference between the first substrate 3 and the second substrate 4. This is because the electromagnetic wave with respect to the distance d has a comparatively large wavelength or expansion, so that the electromagnetic wave almost unhindered through the gap 9 passes through.
  • the electromagnetic field of the laser radiation causes in the region of the first optically functional interface 5 a change of the example dielectric medium of the first substrate 3, which in turn directly due to the small distance d a change of, for example, also dielectric medium of the second substrate 4 in the region of the second optically functional Interface 6 causes.
  • This in the field The change in the example of the dielectric medium caused by the second optically functional interface 6 in turn causes the electromagnetic wave to propagate downward in FIG. 3 in the second substrate 4.
  • the effects of any surface roughness on the desired intensity distribution in the working plane are comparatively low.
  • such rough surfaces can be produced very easily and inexpensively.
  • the depth T 2 of the structures of the curvatures of the optically functional boundary surfaces 5, 6 is selected to be correspondingly large, for example in the range of 60 microns as already described.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

Vorrichtung zur Veränderung der Intensitätsverteilung eines Laserstrahlungsfeldes, umfassend zwei Substrate (3, 4) mit unterschiedlichen Brechungsindizes (n2, n3) und mit zwei aneinanderliegenden, einander entsprechenden optisch funktionalen Grenzflächen (5, 6), die zumindest teilweise gekrümmt sind, wobei das zu verändernde Laserstrahlungsfeld nacheinander durch die optisch funktionalen Grenzflächen (5, 6) hindurchtreten kann, wobei die Differenz (Δn) der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) kleiner als 0,1 ist, und wobei der Zwischenraum (9) zwischen der ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5) und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6) derart gestaltet ist, dass die Laserstrahlung bei der Ausbreitung von dem ersten Substrat (3) in das zweite Substrat (4) im wesentlichen nur eine Brechung auf Basis der Differenz (Δn) der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) erfährt.

Description

Vorrichtung und Verfahren zur Veränderung eines elektromagnetischen Strahlungsfeldes des optischen Spektralbereichs, insbesondere eines Laserstrahlungsfeldes
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Veränderung eines elektromagnetischen Strahlungsfeldes des optischen Spektralbereichs, insbesondere eines Laserstrahlungsfeldes. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Vorrichtung.
Elektromagnetisches Strahlungsfeld des optischen Spektralbereichs soll im vorliegenden Fall bedeuten, dass die elektromagnetische Strahlung an optisch funktionalen Grenzflächen gebrochen werden kann. Dies trifft neben dem sichtbaren Bereich auch auf den nahen, mittleren und fernen Infrarotbereich sowie auf den UV-Bereich bis in den Vakuum-UV-Bereich zu.
Wenn ein elektromagnetisches Strahlungsfeld des optischen Spektralbereichs, insbesondere wenn ein Laserstrahlungsfeld in eine Arbeitsebene abgebildet oder fokussiert werden soll, werden zumeist refraktive Elemente wie Linsen verwendet. Die Intensitätsverteilung des Laserstrahlungsfeldes in der Arbeitsebene wird dabei durch die Form und Beschaffenheit der verwendeten Linsen beeinflusst. Wenn beispielsweise eine sphärische Linse für die Abbildung oder die Fokussierung der Laserstrahlung in die Arbeitsebene verwendet wird, ergeben sich Abbildungsfehler aufgrund sphärischer Aberration. Andererseits lassen sich bei sphärischen Linsen die Oberflächen vergleichsweise gut polieren, so dass die Qualität einer sphärischen Oberfläche vergleichsweise gut ist. Wenn jedoch asphärische Linsen benutzt werden, um die vorgenannten Abbildungsfehler zu vermeiden, entstehen unerwünschte Ungleichmäßigkeiten in der Intensitätsverteilung der Laserstrahlung in der Arbeitsebene aufgrund der ungleichmäßigen Oberfläche der asphärischen Linse.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel für ein Korrekturelement 1 , das beispielsweise zusätzlich zu einer sphärischen Linse verwendet werden kann, um die durch die sphärische Linse hervorgerufenen Abbildungsfehler zu korrigieren. Das in Fig. 1 abgebildete Korrekturelement 1 besteht aus einem Substrat mit einem Brechungsindex n2, der beispielsweise bei Glas in der Größenordnung von etwa 1 ,5 liegt. Demgegenüber weist die umgebende Luft einen Brechungsindex von ni = 1 auf. Das in Fig. 1 abgebildete Korrekturelement 1 weist eine optisch funktionale Grenzfläche 2 auf, die in Fig. 1 zwei Erhebungen und eine Vertiefung zeigt. Die Gestalt der optisch funktionalen Grenzfläche kann variieren, je nachdem ob nur Abbildungsfehler korrigiert werden sollen oder aber ob auch die Intensitätsverteilung des Laserstrahlungsfeldes in der Arbeitsebene hinsichtlich ihrer Form verändert werden soll.
Die Tiefe T1 der Strukturen auf der optisch funktionalen Grenzfläche 2 des Korrekturelementes 1 kann beispielsweise 600 nm betragen. Vermittels derartig tiefer Strukturen und einem Brechungsindex- Unterschied Δn = 0,5 lassen sich die typischen Abbildungsfehler einer sphärischen Linse korrigieren. Um jedoch eine für Hochleistungslaseranwendungen beziehungsweise für Anwendungen in der Chipherstellung oder dergleichen notwendige Gleichmäßigkeit der Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene zu erzielen, muss die Oberflächenrauigkeit der optisch funktionalen Grenzfläche 2 im Bereich von maximal 20 nm bis 30 nm liegen. Eine derartig hochwertige Oberfläche lässt sich mit üblichen Herstellungsmethoden bei asphärischen Oberflächen entweder gar nicht erzielen oder aber nur mit extrem kostenaufwändigen Verfahren, die auf dem Versetzen beziehungsweise Manipulieren einzelner Atome beruhen. Das der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Problem ist die Schaffung einer Vorrichtung der eingangs genannten Art, die kostengünstig herstellbar ist und zur Erzeugung einer gleichmäßigen und/oder gezielt veränderten Intensitätsverteilung des Strahlungsfeldes in einer Arbeitsebene und/oder zu einer gezielten Veränderung der Wellenfront oder Phasenfront des Strahlungsfeldes beitragen kann. Weiterhin soll ein Verfahren angegeben werden, mit dem eine derartige Vorrichtung herstellbar ist, wobei insbesondere gezielt die Intensitätsverteilung des Strahlungsfeldes in der Arbeitsebene und/oder die Wellenfront des Strahlungsfeldes beeinflusst werden soll.
Dies wird hinsichtlich der Vorrichtung durch die Merkmale des Anspruchs 1 sowie hinsichtlich des Verfahrens durch die Merkmale des Anspruchs 27 erreicht. Die Unteransprüche betreffen bevorzugte Weiterbildungen der Erfindung.
Die Vorrichtung gemäß Anspruch 1 umfasst:
ein erstes Substrat mit einem ersten Brechungsindex und einer ersten optisch funktionalen Grenzfläche, die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld zumindest teilweise durch die erste optisch funktionale Grenzfläche hindurchtreten kann;
ein zweites Substrat mit einem zweiten Brechungsindex und einer zweiten optisch funktionalen Grenzfläche, die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld nach Hindurchtritt durch die erste optisch funktionale Grenzfläche zumindest teilweise durch die zweite optisch funktionale Grenzfläche hindurchtreten kann;
- wobei die Differenz der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates kleiner als die Differenz zwischen einem jeden der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates und dem Brechungsindex von Luft ist;
wobei die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche auf einander zugewandten Seiten des ersten und des zweiten Substrates angeordnet sind,
wobei die Krümmungen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche zumindest abschnittsweise einander entsprechen; und
wobei der Zwischenraum zwischen der ersten optisch funktionalen Grenzfläche und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche derart gestaltet ist, dass das elektromagnetische Strahlungsfeld bei der Ausbreitung von dem ersten Substrat in das zweite Substrat durch die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche und den dazwischen befindlichen Zwischenraum überwiegend eine Brechung auf Basis eines oder mehrerer Brechungsindex-Differenzen erfährt, die kleiner oder gleich der Differenz der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates sind.
Eine derartige Vorrichtung kann entweder zur Korrektur eines elektromagnetischen Strahlungsfeldes oder zur Formung eines elektromagnetischen Strahlungsfeldes verwendet werden, wenn ein gewünschtes Intensitätsprofil in einer Arbeitsebene eingestellt werden soll. Im Gegensatz zu dem beispielsweise im Stand der Technik verwendeten Korrekturelement gemäß Fig. 1 weist die erfindungsgemäße Vorrichtung nicht eine optisch funktionale Grenzfläche, sondern zwei vergleichsweise nah benachbarte optisch funktionale Grenzflächen in zwei voneinander separierten Substraten auf. Diese beiden Substrate weisen jedoch keinen so großen Brechungsindexunterschied auf, wie der zwischen Luft und Glas von etwa 0,5. Um trotzdem eine ähnlich starke Beeinflussung der Wellenfront des Strahlungsfeldes zu erreichen beziehungsweise eine ähnlich große Korrektur des Intensitätsprofils in der Arbeitsebene zu erzielen, müssen dementsprechend die Strukturen auf den optisch funktionalen Grenzflächen eine größere Tiefe aufweisen. Andererseits wird aber auch bei einem beispielsweise um einen Faktor 5 kleineren Brechungsindexunterschied die Auswirkung von Oberflächenrauigkeiten auf die Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene ebenfalls um einen Faktor 5 kleiner sein, so dass bei den gleichen hohen Anforderungen wie oben zum Stand der Technik beschrieben nicht mehr Oberflächenrauigkeiten von maximal 20 nm bis 30 nm erreicht werden müssen, sondern nur
Oberflächenrauigkeiten im Bereich zwischen 100 und 150 nm. Dies ist mit deutlich günstigeren Herstellungsverfahren erreichbar. Erfindungsgemäß muss lediglich gemäß der letzten Merkmalsgruppe des Anspruchs 1 gewährleistet sein, dass das elektromagnetische Strahlungsfeld bei der Ausbreitung von dem ersten Substrat in das zweite Substrat durch die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche und dem dazwischen befindlichen Zwischenraum überwiegend eine Brechung auf Basis einer oder mehrerer vergleichsweise kleiner Brechungsindexdifferenzen erfährt.
Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung kann dies durch die Wahl eines sehr kleinen Abstandes zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche erzielt werden. Beispielsweise kann dabei gemäß Anspruch 2 vorgesehen sein, dass das erste Substrat und das zweite Substrat derart angeordnet sind, dass der Abstand zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche zumindest abschnittsweise kleiner als die mittlere Wellenlänge des elektromagnetischen Strahlungsfeldes ist. Insbesondere kann gemäß Anspruch vorgesehen sein, dass das erste Substrat und das zweite Substrat derart angeordnet sind, dass der Abstand zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche zumindest abschnittsweise kleiner als 100 nm ist. Vorzugsweise kann gemäß Anspruch 4 vorgesehen sein, dass das erste Substrat und das zweite Substrat derart angeordnet sind, dass der Abstand zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche zumindest abschnittsweise kleiner als 50 nm ist, insbesondere gemäß Anspruch 5 etwa zwischen 10 und 20 nm beträgt.
Durch derartig kleine Abstände zwischen den optisch funktionalen Grenzflächen wird erreicht, dass eine sich durch das erste Substrat ausbreitende elektromagnetische Welle derart die Atome, Ionen oder Moleküle des ersten Substrates im Bereich der ersten optisch funktionalen Grenzfläche polarisiert beziehungsweise beeinflusst, dass durch diese Polarisation oder Beeinflussung der Materie in der Nähe der ersten optisch funktionalen Grenzfläche gleichzeitig auch Atome, Ionen oder Moleküle in dem zweiten Substrat im Bereich der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche polarisiert oder beeinflusst werden, so dass sich von dieser zweiten optisch funktionalen Grenzfläche eine elektromagnetische Welle in das zweite Substrat ausbreiten kann. Die elektromagnetische Welle greift somit vergleichsweise direkt von dem ersten Substrat in das zweite Substrat ein und erfährt weitestgehend eine Brechung auf Basis des Brechungsindex-Unterschieds zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat. Der Unterschied des Brechungsindex des ersten Substrats zu dem Brechungsindex der sich eventuell in dem Zwischenraum zwischen erstem und zweitem Substrat befindenden Luft ist zwar größer als der Unterschied der Brechungsindizes der beiden Substrate. Trotzdem wird bei hinreichend kleinem Abstand der beiden optisch funktionalen Grenzflächen zueinander der Übergang der elektromagnetischen Welle von dem ersten Substrat in das zweite Substrat nicht oder nur unwesentlichen von dem Brechungsindex des Zwischenraums beeinflusst, sondern im Wesentlichen nur von der Differenz der Brechungsindizes des ersten Substrates und des zweiten Substrates. Ein hinreichend kleiner Abstand liegt vor, wenn der Abstand zwischen den Grenzflächen kleiner als die Wellenlänge, insbesondere wenn der Abstand klein gegenüber der Wellenlänge ist. Beispielsweise wird sich der Brechungsindex des Mediums des Zwischenraums nur noch sehr wenig auf den Übergang der elektromagnetischen Welle von dem ersten in das zweite Substrat auswirken, wenn der Abstand weniger als 1 /10 der Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung beträgt. Dies könnte bei UV-Lasern von Wellenlängen im Bereich von 250 nm bei Abständen kleiner 25 nm gegeben sein.
Gemäß einer zusätzlichen oder alternativen Ausführungsform der Erfindung schlägt Anspruch 6 vor, dass in dem Zwischenraum zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche zumindest abschnittsweise eine Substanz angeordnet ist, die einen Brechungsindex größer 1 aufweist. Dabei kann gemäß Anspruch 7 vorgesehen sein, dass in dem Zwischenraum zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche zumindest abschnittsweise eine Substanz angeordnet ist, die einen Brechungsindex aufweist, der weniger als 0, 1 von einem jeden der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates verschieden ist. Dabei kann insbesondere vorgesehen sein, dass in dem Zwischenraum zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche zumindest abschnittsweise eine Substanz angeordnet ist, die einen Brechungsindex aufweist, der kleiner ist als der größere der beiden Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates und größer ist als der kleinere der beiden Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates. Gemäß einer besonderen Gestaltung kann dabei vorgesehen sein, dass in dem Zwischenraum zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche zumindest abschnittsweise ein Immersionsöl angeordnet ist. Das Vorsehen einer immersiven Substanz zwischen den beiden optisch funktionalen Grenzflächen kann ebenfalls verhindern, dass das elektromagnetische Strahlungsfeld bei dem Übergang von dem ersten Substrat in das zweite Substrat nicht aufgrund von Brechungsindexunterschieden gebrochen wird, die größer sind als die Differenz der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates. Somit kann beispielsweise in den Zwischenraum zwischen den optisch funktionalen Grenzflächen ein Immersionsöl eingebracht werden, das einen Brechungsindex hat, der zwischen den Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates angeordnet ist.
Gemäß Anspruch 10 kann vorgesehen sein, dass die Krümmung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche derart der Krümmung der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche entspricht, dass die Grenzflächen vergleichsweise passend ineinander greifen. Bei exakt einander entsprechenden Krümmungen lassen sich die beiden optisch funktionalen Grenzflächen sehr nahe aneinander annähern.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung kann die Differenz der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates kleiner als 0,01 , insbesondere kleiner als 0,01 , vorzugsweise etwa 0,005 sein. Durch derart kleine Brechungsindexunterschiede lassen sich die Auswirkungen von Oberflächenrauigkeiten auf die Qualität der Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene deutlich verkleinern. Beispielsweise wird bei einer Differenz der Brechungsindizes im Bereich von 0,005 im Gegensatz zu einer Brechungsindex-Differenz von 0,5 gemäß dem Stand der Technik eine um einen Faktor 100 größere Toleranz gegen Oberflächenrauigkeiten erzielt. Beispielsweise sind dann bei entsprechenden Anforderungen an die Gleichmäßigkeit des Intensitätsprofils Oberflächenrauigkeiten in der Größenordnung zwischen 2 μm und 3 μm tolerierbar. Derartige Oberflächen lassen sich jedoch sehr einfach und kostengünstig herstellen.
Dementsprechend kann dann vorgesehen werden, dass die Tiefe der Struktur, die zu der Krümmung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche und/oder der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche beitragen, größer als 10 μm, vorzugsweise größer als 50 μm ist. Derartig tiefe Strukturen lassen sich jedoch mit entsprechenden Fertigungsverfahren ebenfalls einfach und kostengünstig herstellen.
Gemäß Anspruch 16 kann vorgesehen sein, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche und/oder die zweite optisch funktionale Grenzfläche zumindest abschnittsweise eine rotationssymmetrische Krümmung hinsichtlich der mittleren Ausbreitungsrichtung des zu verändernden Strahlungsfeldes aufweisen.
Alternativ oder zusätzlich dazu kann gemäß Anspruch 17 vorgesehen sein, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche und/oder die zweite optisch funktionale Grenzfläche zumindest abschnittsweise eine teilzylindrische Krümmung aufweisen. Durch das Vorsehen von zumindest abschnittsweisen teilzylindrischen Krümmungen lassen sich die Oberflächen der optisch funktionalen Grenzfläche unter Umständen einfacher herstellen.
Alternativ oder zusätzlich kann gemäß Anspruch 18 vorgesehen sein, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche und/oder die zweite optisch funktionale Grenzfläche zumindest abschnittsweise eine asphärische Krümmung aufweisen. Durch das Vorsehen von asphärischen Krümmungen lassen sich beispielsweise sphärische Abberationen, die durch die Abbildung oder Fokussierung in eine Arbeitsebene vermittels sphärischer Linsen entstehen, korrigieren.
Die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche lassen sich insbesondere vergleichsweise beliebig gestalten, um eine gewünschte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene zu erzielen.
Gemäß Anspruch 19 kann vorgesehen sein, dass das erste Substrat und/oder das zweite Substrat Positioniermittel umfassen, die eine vergleichsweise passende Positionierung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche an der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche ermöglichen. Dabei können beispielsweise gemäß Anspruch 20 die Positioniermittel als Nuten und/oder längliche Erhebungen ausgebildet sein. Vermittels derartiger Positioniermittel können die optisch funktionalen Grenzflächen exakt aufeinander positioniert werden, um einen möglichst kleinen Abstand zwischen den optisch funktionalen Grenzflächen sowie eine möglichst exakte Positionierung in Querrichtung zueinander zu erreichen, um die gewünschte Beeinflussung der Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung zu erzielen.
Gemäß Anspruch 21 besteht die Möglichkeit, dass das erste Substrat und/oder das zweite Substrat auf der von den optisch funktionalen Grenzflächen abgewandten Seite zumindest abschnittsweise plan ist. Derartig plane Oberflächen des Substrates lassen sich mit einfachen Mitteln mit sehr geringen Oberflächenrauigkeiten herstellen, so dass auch diese Grenzflächen, durch die die elektromagnetische Strahlung hindurchtreten muss, die zu erzielende Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene nicht nachteilig beeinflussen.
Gemäß Anspruch 22 besteht weiterhin die Möglichkeit, dass die Vorrichtung ein drittes Substrat mit einem dritten Brechungsindex und einer dritten optisch funktionalen Grenzfläche umfasst, die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld zumindest teilweise durch die dritte optisch funktionale Grenzfläche hindurchtreten kann; sowie weiterhin
ein viertes Substrat mit einem vierten Brechungsindex und einer vierten optisch funktionalen Grenzfläche umfasst, die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld nach Hindurchtritt durch die dritte optisch funktionale Grenzfläche zumindest teilweise durch die vierte optisch funktionale Grenzfläche hindurchtreten kann;
- wobei die Differenz der Brechungsindizes des dritten und des vierten Substrates kleiner als die Differenz zwischen einem jeden der Brechungsindizes des dritten und des vierten Substrates und dem Brechungsindex von Luft ist;
- wobei die dritte und die vierte optisch funktionale Grenzfläche auf einander zugewandten Seiten des dritten und des vierten Substrates angeordnet sind,
- wobei die Krümmungen der dritten und der vierten optisch funktionalen Grenzfläche zumindest abschnittsweise einander entsprechen;
- wobei der Zwischenraum zwischen der dritten optisch funktionalen Grenzfläche und der vierten optisch funktionalen Grenzfläche derart gestaltet ist, dass das elektromagnetische Strahlungsfeld bei der Ausbreitung von dem dritten Substrat in das vierte Substrat durch die dritte und die vierte optisch funktionale Grenzfläche und den dazwischen befindlichen Zwischenraum überwiegend eine Brechung auf Basis eines oder mehrerer Brechungsindex-Differenzen erfährt, die kleiner oder gleich der Differenz der Brechungsindizes des dritten und des vierten Substrates basiert.
Vermittels derartiger dritter und vierter gekrümmter optisch funktionaler Grenzflächen lassen sich weitere Veränderungen an der Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung bewirken. Beispielsweise besteht die Möglichkeit, dass die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche eine zylindrische Struktur mit Zylinderachsen in einer ersten Richtung senkrecht zur Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung aufweisen, wohingegen die dritten und die vierten optisch funktionalen Grenzflächen eine zylindrische Struktur mit Zylinderachsen in einer zweiten Richtung senkrecht zur Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung aufweisen, die weiterhin auch senkrecht zu der ersten Richtung ist. Auf diese Weise bilden die ersten und die zweiten zylindrischen Grenzflächen auf der einen Seite und die zweiten und die dritten zylindrischen Grenzflächen auf der anderen Seite zueinander gekreuzte Zylinderlinsen, die die durch sie hindurchtretende elektromagnetische Strahlung in zwei zueinander senkrechten Richtungen beeinflussen können.
Hierbei kann gemäß Anspruch 23 vorgesehen sein, dass das dritte Substrat und/oder das vierte Substrat Positioniermittel umfassen, die eine vergleichsweise passende Positionierung der dritten optisch funktionalen Grenzfläche an der vierten optisch funktionalen Grenzfläche ermöglichen. Weiterhin können auch Positioniermittel vorgesehen sein, die eine Positionierung des ersten und des zweiten Substrates an dem dritten und dem vierten Substrat ermöglichen, so dass die gesamte Vorrichtung durch die Positioniermittel exakt zusammengebaut werden kann.
Gemäß Anspruch 24 besteht die Möglichkeit, dass die Vorrichtung mehr als vier Substrate mit mehr als vier optisch funktionalen Grenzflächen umfasst, die ähnlich zueinander angeordnet sind wie die ersten und zweiten beziehungsweise dritten und vierten. Es besteht also die Möglichkeit, eine ganze Reihe von Substraten hintereinander aufzubauen, so dass eine ganze Reihe von optisch funktionalen Grenzflächen jeweils paarweise zusammenwirken und zur Veränderung der Intensitätsverteilung des elektromagnetischen Strahlungsfeldes beziehungsweise zur Veränderung der Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung beitragen.
Es besteht weiterhin gemäß Anspruch 25 die Möglichkeit, dass die Vorrichtung zusätzlich zu den mindestens zwei Substraten mindestens ein Linsenmittel umfasst, das eine zumindest teilweise Fokussierung des elektromagnetischen Strahlungsfeldes in eine Arbeitsebene ermöglicht.
Hierbei kann beispielsweise gemäß Anspruch 26 das mindestens eine Linsenmittel zumindest abschnittsweise eine sphärische Krümmung aufweisen. In diesem Fall wirken die Substrate mit den optisch funktionalen Grenzflächen weitestgehend als Korrekturelemente für das beispielsweise mit einer sphärischen Oberfläche ausgestaltete Linsenmittel, das im Wesentlichen die Abbildung oder Fokussierung der elektromagnetischen Strahlung in die Arbeitsebene bewirkt.
Das erfindungsgemäße Verfahren gemäß Anspruch 27 umfasst folgende Verfahrensschritte:
Die Intensitätsverteilung der elektromagnetischen Strahlung in der Arbeitsebene wird ermittelt; die ermittelte Intensitätsverteilung wird mit der gewünschten Intensitätsverteilung verglichen;
aus dem Unterschied zwischen ermittelter und gewünschter Intensitätsverteilung wird die Form der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche, derart, dass bei Einfügen einer ersten und einer zweiten optisch funktionalen Grenzfläche mit den berechneten Formen in den Strahlengang des elektromagnetischen Feldes die gewünschte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene erzielbar ist;
die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche werden in der berechneten Form hergestellt.
Durch ein derartiges Verfahren lässt sich letztlich eine Vorrichtung herstellen, mit der eine im Wesentlichen beliebig gestaltete Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene erzielbar ist. Beispielsweise könnte es sich bei einer derartigen Intensitätsverteilung um eine rechteckförmige, sogenannte „Top Hat"- Verteilung handeln. Es besteht durchaus auch die Möglichkeit, andere Intensitätsverteilungen, wie beispielsweise dreieckige Intensitätsverteilung oder dergleichen herzustellen. Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren kann eine beliebige zu erstellende Intensitätsverteilung ausgewählt werden und mit der Intensitätsverteilung verglichen werden, die ohne Einfügung der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche in der Arbeitsebene entsteht. Aufgrund der Differenz zwischen der gewünschten und der ermittelten Intensitätsverteilung kann die Form der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche berechnet werden, so dass nach Einbringung der ersten und zweiten optisch funktionalen Grenzfläche die gewünschte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene erzielt werden kann. Dabei kann gemäß Anspruch 28 vorgesehen werden, dass die Berechnung der Form der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche unter Vorgabe der Brechungsindizes des ersten und des zweiten Substrates durchgeführt wird. Die Brechungsindizes der Substrate können nach den Anforderungen an die Qualität des Intensitätsprofils ausgewählt werden, wobei die Differenz zwischen den Brechungsindizes in der Regel dann kleiner sein sollte, wenn die Anforderungen an die Qualität der Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene höher sind.
Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden deutlich anhand der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die beiliegenden Abbildungen. Darin zeigen
Fig. 1 schematisch ein optisches Korrekturelement gemäß dem Stand der Technik;
Fig. 2 eine schematische Seitenansicht einer erfindungsgemäßen Vorrichtung;
Fig. 3 eine Detailansicht gemäß dem Pfeil IM in Fig. 2.
Das aus Fig. 2 ersichtliche Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung umfasst ein erstes Substrat 3 mit einem ersten Brechungsindex n2 und ein zweites Substrat 4 mit einem zweiten Brechungsindex n3. Das erste Substrat 3 weist auf seiner in Fig. 2 unteren Seite eine erste optisch funktionale Grenzfläche 5 auf. Das zweite Substrat 4 weist auf seiner in Fig. 2 oberen Seite eine zweite optisch funktionale Grenzfläche 6 auf. Die Substrate 3, 4 weisen auf ihren von den optisch funktionalen Grenzflächen 5, 6 abgewandten Seiten plane Grenzflächen 7, 8 auf. Das erste Substrat 3 und das zweite Substrat 4 sind beispielsweise von Luft umgeben, die einen Brechungsindex von ni = 1 aufweisen kann.
Die erste optisch funktionale Grenzfläche 5 und die zweite optisch funktionale Grenzfläche 6 weisen gekrümmte Strukturen auf, deren Tiefe T2 vergleichsweise groß sein kann, beispielsweise mehr als 10 μm betragen kann, insbesondere etwa 50 bis 60 μm betragen kann.
Aus Fig. 3 ist detailliert ersichtlich, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche 5 und die zweite optisch funktionale Grenzfläche 6 im Wesentlichen die gleiche Krümmung beziehungsweise die gleiche Form aufweisen, so dass sie zumindest abschnittsweise parallel zueinander verlaufen. Der Abstand d der optisch funktionalen Grenzflächen 5, 6 zueinander (siehe dazu Fig. 3) kann vergleichsweise klein sein, insbesondere etwa 10 nm bis 20 nm betragen.
Es besteht die Möglichkeit, dass in dem Zwischenraum 9 zwischen der ersten optisch funktionalen Grenzfläche 5 und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche 6 Luft mit einem Brechungsindex ni = 1 vorgesehen ist. Alternativ dazu kann jedoch in dem Zwischenraum 9 eine Substanz mit einem Brechungsindex größer 1 vorgesehen sein. Insbesondere kann eine immersive Substanz, vorzugsweise ein Immersionsöl vorgesehen sein, dessen Brechungsindex im Bereich der Größenordnung von n2 und n3 liegt.
Es besteht insbesondere die Möglichkeit, dass der Brechungsindex n2 des ersten Substrates 3 etwa 1 ,500 beträgt und dass weiterhin der Brechungsindex n3 des zweiten Substrates 4 etwa 1 ,505 beträgt, so dass die Differenz Δn zwischen den Brechungsindizes der Substrate 3, 4 etwa 0,005 beträgt. In einem derartigen Fall kann beispielsweise der Brechungsindex des Immersionsöls 1 ,503 betragen.
Es besteht die Möglichkeit, dass die Oberflächenkrümmungen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche zylindrisch ausgebildet sind, so dass sie sich ohne Veränderungen in die Zeichenebene der Fig. 2 erstrecken. In einem derartigen Fall kann es insbesondere vorteilhaft sein, wenn dritte und vierte funktionale Grenzflächen vorgesehen sind, die ähnlich angeordnet sind wie die ersten und zweiten optisch funktionalen Grenzflächen, jedoch Zylinderachsen aufweisen, die senkrecht zu denen der ersten und zweiten optisch funktionalen Grenzfläche ausgebildet sind. Auf diese Weise ergeben sich zueinander gekreuzte Zylinderlinsen, die die elektromagnetische Strahlung in zwei zueinander senkrechten Richtungen beeinflussen können.
Durch die in Fig. 2 gezeigten Substrate 3, 4 kann elektromagnetische Strahlung, beispielsweise in Form von Laserstrahlung beispielsweise von oben nach unten in Fig. 2 hindurchtreten. Ein Laserstrahl würde somit in die in Fig. 2 obere plane Grenzfläche 7 eintreten und aus dem ersten Substrat 3 durch die erste optisch funktionale Grenzfläche 5 austreten. Weiterhin würde der aus der ersten optisch funktionalen Grenzfläche 5 ausgetretene Laserstrahl in die zweite optisch funktionale Grenzfläche 6 des zweiten Substrates 4 eintreten und dieses durch die untere plane Grenzfläche 8 verlassen.
Insbesondere bei einem sehr kleinen Abstand d von beispielsweise 10 nm bis 20 nm der optisch funktionalen Grenzflächen 5, 6 zueinander wird die Laserstrahlung beim Übergang von dem ersten Substrat 3 in das zweite Substrat 4 nicht oder nur unwesentlich durch den Brechungsindex des in dem Zwischenraum 9 befindlichen Mediums beeinflusst, sondern fast ausschließlich durch den Brechungsindex- Unterschied zwischen dem ersten Substrat 3 und dem zweiten Substrat 4. Dies hat seinen Grund darin, dass die elektromagnetische Welle gegenüber dem Abstand d eine doch vergleichsweise große Wellenlänge beziehungsweise Ausdehnung aufweist, so dass die elektromagnetische Welle beinahe ungehindert durch den Zwischenraum 9 hindurchgreift. Das elektromagnetische Feld der Laserstrahlung bewirkt im Bereich der ersten optisch funktionalen Grenzfläche 5 eine Veränderung des beispielsweise dielektrischen Mediums des ersten Substrates 3, die wiederum direkt aufgrund des kleinen Abstandes d eine Veränderung des beispielsweise ebenfalls dielektrischen Mediums des zweiten Substrates 4 im Bereich der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche 6 bewirkt. Diese im Bereich der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche 6 bewirkte Veränderung des beispielsweise dielektrischen Mediums bewirkt ihrerseits die Ausbreitung der elektromagnetischen Welle nach unten in Fig. 3 in dem zweiten Substrat 4.
Aufgrund der Tatsache, dass somit die elektromagnetische Welle beziehungsweise die zu verändernde Laserstrahlung lediglich sehr kleine Brechungsindexvariationen im Bereich der optisch funktionalen Grenzflächen 5, 6 erfährt, sind die Auswirkungen etwaiger Oberflächenrauigkeiten auf die gewünschte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene vergleichsweise gering. Das bedeutet aber, dass vergleichsweise große Oberflächenrauigkeiten von bis zu einigen μm akzeptiert werden können. Derartig raue Oberflächen lassen sich jedoch sehr einfach und kostengünstig herstellen. Um trotzdem entsprechend große Auswirkungen der gezielt erstellten Krümmungen der optisch funktionalen Grenzflächen 5, 6 auf die Wellenfront beziehungsweise die Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene haben zu können, wird die Tiefe T2 der Strukturen der Krümmungen der optisch funktionalen Grenzflächen 5, 6 entsprechend groß gewählt, beispielsweise im Bereich von 60 μm wie bereits beschrieben.

Claims

Patentansprüche:
1. Vorrichtung zur Veränderung eines elektromagnetischen
Strahlungsfeldes des optischen Spektralbereichs, insbesondere eines Laserstrahlungsfeldes, umfassend
ein erstes Substrat (3) mit einem ersten Brechungsindex (n2) und einer ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5), die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld zumindest teilweise durch die erste optisch funktionale Grenzfläche (5) hindurchtreten kann;
ein zweites Substrat (4) mit einem zweiten Brechungsindex (n3) und einer zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6), die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld nach Hindurchtritt durch die erste optisch funktionale Grenzfläche (5) zumindest teilweise durch die zweite optisch funktionale Grenzfläche (6) hindurchtreten kann;
wobei die Differenz (Δn) der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) kleiner als die Differenz zwischen einem jeden der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) und dem Brechungsindex (ni) von Luft ist;
wobei die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche (5, 6) auf einander zugewandten Seiten des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) angeordnet sind, wobei die Krümmungen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) zumindest abschnittsweise einander entsprechen; und
wobei der Zwischenraum (9) zwischen der ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5) und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6) derart gestaltet ist, dass das elektromagnetische Strahlungsfeld bei der Ausbreitung von dem ersten Substrat (3) in das zweite Substrat (4) durch die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche (5, 6) und den dazwischen befindlichen Zwischenraum (9) überwiegend eine Brechung auf Basis eines oder mehrerer Brechungsindex-Differenzen erfährt, die kleiner oder gleich der Differenz (Δn) der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das erste Substrat (3) und das zweite Substrat (4) derart angeordnet sind, dass der Abstand (d) zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) zumindest abschnittsweise kleiner als die mittlere Wellenlänge des elektromagnetischen Strahlungsfeldes ist.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Substrat (3) und das zweite Substrat (4) derart angeordnet sind, dass der Abstand (d) zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) zumindest abschnittsweise kleiner als 100 nm ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Substrat (3) und das zweite Substrat (4) derart angeordnet sind, dass der Abstand (d) zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) zumindest abschnittsweise kleiner als 50 nm ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Substrat (3) und das zweite Substrat (4) derart angeordnet sind, dass der Abstand (d) zwischen der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) zumindest abschnittsweise zwischen 10 nm und 20 nm beträgt.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Zwischenraum (9) zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche (5) und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise eine Substanz angeordnet ist, die einen Brechungsindex größer 1 aufweist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Zwischenraum (9) zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche (5) und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise eine Substanz angeordnet ist, die einen Brechungsindex aufweist, der weniger als 0, 1 von einem jeden der Brechungsindizes (n2, n$) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) verschieden ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Zwischenraum (9) zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche (5) und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise eine Substanz angeordnet ist, die einen Brechungsindex aufweist, der kleiner ist als der größere der beiden Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) und größer ist als der kleinere der beiden Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4).
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Zwischenraum (9) zwischen erster optisch funktionaler Grenzfläche (5) und zweiter optisch funktionaler Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise ein Immersionsöl angeordnet ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Krümmung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5) derart der Krümmung der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6) entspricht, dass die Grenzflächen (5, 6) vergleichsweise passend ineinander greifen.
1 1 . Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Differenz (Δn) der Brechungsindizes (ri2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) kleiner als 0, 1 ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 1 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Differenz (Δn) der Brechungsindizes (ri2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) kleiner als 0,01 ist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Differenz (Δn) der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) etwa 0,005 ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Tiefe (T2) der Strukturen, die zu der Krümmung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5) und/oder der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6) beitragen, größer als 10 μm ist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Tiefe (T2) der Strukturen, die zu der Krümmung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5) und/oder der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6) beitragen, größer als 50 μm ist.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche (5) und/oder die zweite optisch funktionale Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise eine rotationssymmetrische Krümmung hinsichtlich der mittleren Ausbreitungsrichtung des zu verändernden Strahlungsfeldes aufweisen.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche (5) und/oder die zweite optisch funktionale Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise eine teilzylindrische Krümmung aufweisen.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die erste optisch funktionale Grenzfläche (5) und/oder die zweite optisch funktionale Grenzfläche (6) zumindest abschnittsweise eine asphärische Krümmung aufweisen.
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Substrat (3) und/oder das zweite Substrat (4) Positioniermittel umfassen, die eine vergleichsweise passende Positionierung der ersten optisch funktionalen Grenzfläche (5) an der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (6) ermöglichen.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Positioniermittel als Nuten und/oder längliche Erhebungen ausgebildet sind.
21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Substrat (3) und/oder das zweite Substrat (4) auf der von den optisch funktionalen Grenzflächen (5, 6) abgewandten Seite zumindest abschnittsweise plan ist.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 21 , dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung
ein drittes Substrat mit einem dritten Brechungsindex und einer dritten optisch funktionalen Grenzfläche umfasst, die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld zumindest teilweise durch die dritte optisch funktionale Grenzfläche hindurchtreten kann; sowie weiterhin
ein viertes Substrat mit einem vierten Brechungsindex und einer vierten optisch funktionalen Grenzfläche umfasst, die zumindest teilweise gekrümmt ist, wobei das zu verändernde elektromagnetische Strahlungsfeld nach Hindurchtritt durch die dritte optisch funktionale Grenzfläche zumindest teilweise durch die vierte optisch funktionale Grenzfläche hindurchtreten kann;
wobei die Differenz der Brechungsindizes des dritten und des vierten Substrates kleiner als die Differenz zwischen einem jeden der Brechungsindizes des dritten und des vierten Substrates und dem Brechungsindex
Figure imgf000028_0001
wobei die dritte und die vierte optisch funktionale Grenzfläche auf einander zugewandten Seiten des dritten und des vierten Substrates angeordnet sind,
wobei die Krümmungen der dritten und der vierten optisch funktionalen Grenzfläche zumindest abschnittsweise einander entsprechen;
wobei der Zwischenraum zwischen der dritten optisch funktionalen Grenzfläche und der vierten optisch funktionalen Grenzfläche derart gestaltet ist, dass das elektromagnetische Strahlungsfeld bei der Ausbreitung von dem dritten Substrat in das vierte Substrat durch die dritte und die vierte optisch funktionale Grenzfläche und den dazwischen befindlichen Zwischenraum überwiegend eine Brechung auf Basis eines oder mehrerer Brechungsindex-Differenzen erfährt, die kleiner oder gleich der Differenz der Brechungsindizes des dritten und des vierten Substrates basiert.
23. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass das dritte Substrat und/oder das vierte Substrat Positioniermittel umfassen, die eine vergleichsweise passende Positionierung der dritten optisch funktionalen Grenzfläche an der vierten optisch funktionalen Grenzfläche ermöglichen.
24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung mehr als vier Substrate (3, 4) mit mehr als vier optisch funktionalen Grenzflächen (5, 6) umfasst, die ähnlich zueinander angeordnet sind wie die ersten und zweiten beziehungsweise dritten und vierten.
25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung zusätzlich zu den mindestens zwei Substraten (3, 4) mindestens ein Linsenmittel umfasst, das eine zumindest teilweise Fokussierung des elektromagnetischen Strahlungsfeldes in eine Arbeitsebene ermöglicht.
26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Linsenmittel zumindest abschnittsweise eine sphärische Krümmung aufweist.
27. Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 26, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
Die Intensitätsverteilung der elektromagnetischen Strahlung in der Arbeitsebene wird ermittelt;
die ermittelte Intensitätsverteilung wird mit der gewünschten Intensitätsverteilung verglichen;
aus dem Unterschied zwischen ermittelter und gewünschter Intensitätsverteilung wird die Form der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) berechnet, derart, dass bei Einfügen einer ersten und einer zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) mit den berechneten Formen in den Strahlengang des elektromagnetischen Feldes die gewünschte Intensitätsverteilung in der Arbeitsebene erzielbar ist; die erste und die zweite optisch funktionale Grenzfläche (5, 6) werden in der berechneten Form hergestellt.
28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass die Berechnung der Form der ersten und der zweiten optisch funktionalen Grenzfläche (5, 6) unter Vorgabe der Brechungsindizes (n2, n3) des ersten und des zweiten Substrates (3, 4) durchgeführt wird.
PCT/EP2004/014842 2004-12-30 2004-12-30 Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes WO2006074681A1 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2004/014842 WO2006074681A1 (de) 2004-12-30 2004-12-30 Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes
CN2004800447791A CN101107544B (zh) 2004-12-30 2004-12-30 改变光谱范围电磁辐射场、尤其是激光辐射场的装置和方法
EP04804427A EP1834196A1 (de) 2004-12-30 2004-12-30 Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes
JP2007548698A JP4527153B2 (ja) 2004-12-30 2004-12-30 光学スペクトル領域の電磁界、特に、レーザビーム照射野を変化させるための装置および方法
US11/825,082 US7515347B2 (en) 2004-12-30 2007-07-02 Device and method for varying an electromagnetic radiation field in the optical spectral region, particular in a laser radiation field

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2004/014842 WO2006074681A1 (de) 2004-12-30 2004-12-30 Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US11/825,082 Continuation US7515347B2 (en) 2004-12-30 2007-07-02 Device and method for varying an electromagnetic radiation field in the optical spectral region, particular in a laser radiation field

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006074681A1 true WO2006074681A1 (de) 2006-07-20

Family

ID=34959726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2004/014842 WO2006074681A1 (de) 2004-12-30 2004-12-30 Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7515347B2 (de)
EP (1) EP1834196A1 (de)
JP (1) JP4527153B2 (de)
CN (1) CN101107544B (de)
WO (1) WO2006074681A1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8890073B2 (en) 2011-03-28 2014-11-18 Northrop Grumman Guidance And Electronics Company, Inc. Systems and methods for detecting and/or identifying materials based on electromagnetic radiation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4331390A (en) * 1979-10-09 1982-05-25 The Perkin-Elmer Corporation Monocentric optical systems
US5959777A (en) * 1997-06-10 1999-09-28 The University Of British Columbia Passive high efficiency variable reflectivity image display device
US20040177913A1 (en) * 2003-03-13 2004-09-16 Sean Chang Method of fabricating an air gap between optical devices
US20040218868A1 (en) * 2003-04-29 2004-11-04 Ansheng Liu Method and apparatus for splitting or combining optical beams with A Y coupler with reduced loss and electrical isolation

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1026732A (ja) * 1996-07-12 1998-01-27 Toshiba Corp 光走査装置並びにこの光走査装置を利用した画像形成装置
JP3614294B2 (ja) * 1998-03-09 2005-01-26 富士通株式会社 光強度変換素子及び光学装置及び情報記憶装置
US7293871B2 (en) * 2000-11-27 2007-11-13 Ophthonix, Inc. Apparatus and method of correcting higher-order aberrations of the human eye

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4331390A (en) * 1979-10-09 1982-05-25 The Perkin-Elmer Corporation Monocentric optical systems
US5959777A (en) * 1997-06-10 1999-09-28 The University Of British Columbia Passive high efficiency variable reflectivity image display device
US20040177913A1 (en) * 2003-03-13 2004-09-16 Sean Chang Method of fabricating an air gap between optical devices
US20040218868A1 (en) * 2003-04-29 2004-11-04 Ansheng Liu Method and apparatus for splitting or combining optical beams with A Y coupler with reduced loss and electrical isolation

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HUGH NEWWELL: "Techniques in cementing large lenses", PROCEEDINGS OF SPIE, vol. 4411, 2002, pages 142 - 146
HUGH NEWWELL: "Techniques in cementing large lenses", PROCEEDINGS OF SPIE, vol. 4411, 2002, pages 142 - 146, XP002344588 *
See also references of EP1834196A1 *

Also Published As

Publication number Publication date
US20070297742A1 (en) 2007-12-27
CN101107544A (zh) 2008-01-16
US7515347B2 (en) 2009-04-07
JP4527153B2 (ja) 2010-08-18
EP1834196A1 (de) 2007-09-19
CN101107544B (zh) 2010-05-05
JP2008527402A (ja) 2008-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009010538B4 (de) Multifunktionsglas mit einer optisch wirksamen Fläche, die zumindest teilweise eine Fresnel-Struktur mit mehreren Fresnel-Segmenten aufweist, sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen optischen Multifunktionsglases
DE112014001696B4 (de) Laserbearbeitungsvorrichtung und Laserbearbeitungsverfahren
DE102008005817A1 (de) Optisches Anzeigegerät
EP3210068B1 (de) Abbildungsoptik und datenbrille
DE102011055777B4 (de) Optisches Gerät, optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102004020250A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur optischen Strahlhomogenisierung
WO2008092431A2 (de) Anastigmatisches anamorphotisches objektiv
DE102007023884A1 (de) Spiegeloptik und Abbildungsverfahren zum seitenrichtigen und aufrechten Abbilden eines Objektes in ein Bildfeld
EP3237960A1 (de) Abbildungsoptik zum erzeugen eines virtuellen bildes und datenbrille
DE112019002367T5 (de) Metaflächen-Struktur und Verfahren zum Herstellen einer Metaflächen-Struktur
WO2008090001A1 (de) Rückprojektionsvorrichtung und verfahren für eine rückprojektionsvorrichtung
DE112012002140B4 (de) Beleuchtungsvorrichtung
DE10013261B4 (de) Mikromechanisch hergestellter optischer Strahlteiler
DE112013003558B4 (de) Zoombares Strahlaufweitungssystem für einen Ultraviolettlaser und Laserbearbeitungsvorrichtung
WO2006074681A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur veränderung eines elektromagnetischen strahlungsfeldes des optischen spektralbereichs, insbesondere eines laserstrahlungsfeldes
DE102009037743B4 (de) Hochaperturiges Immersionsobjektiv
DE2703823C3 (de) Wiedergabeobjektiv mit mittlerer Vergrößerung für Bildplatten
DE10121747B4 (de) Element zur kombinierten Symmetrisierung und Homogenisierung eines Strahlenbündels
EP3577514B1 (de) Vorrichtung zur kollimation eines lichtstrahls, hochleistungslaser und fokussieroptik sowie verfahren zum kollimieren eines lichtstrahles
DE102019109944A1 (de) Diffraktives optisches Element, Verfahren zum Entwerfen einer effizienzachromatisierten diffraktiven Struktur und Verfahren zur Herstellung eines effizienzachromatisierten diffraktiven Elementes
WO2006074684A1 (de) Refraktive vorrichtung, verfahren zur herstellung und verwendung einer derartigen refraktiven vorrichtung sowie halbleiterlaseranordnung mit einer derartigen refraktiven vorrichtung
DE102006024810A1 (de) Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie adaptiver Spiegel hierfür
DE102013101856B4 (de) Vorrichtung zur Veränderung eines Strahlprofils eines einfallenden Lichtstrahls, insbesondere Strahlaufweiter
DE69531832T2 (de) Grin-linse und ihr herstellungsverfahren
WO2013017457A1 (de) Spektrometer

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004804427

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200480044779.1

Country of ref document: CN

Ref document number: 2007548698

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11825082

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2004804427

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 11825082

Country of ref document: US