WO2006049218A1 - ナノ精密焼結システム - Google Patents

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WO2006049218A1
WO2006049218A1 PCT/JP2005/020225 JP2005020225W WO2006049218A1 WO 2006049218 A1 WO2006049218 A1 WO 2006049218A1 JP 2005020225 W JP2005020225 W JP 2005020225W WO 2006049218 A1 WO2006049218 A1 WO 2006049218A1
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WO
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sintering
process chamber
nano
raw material
chamber
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/020225
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English (en)
French (fr)
Inventor
Masao Tokita
Shinichi Suzuki
Katsuyuki Nakagawa
Original Assignee
Sps Syntex Inc.
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Publication date
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Priority to US11/666,616 priority patent/US7547204B2/en
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    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • B22F3/14Both compacting and sintering simultaneously
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F27B19/00Combinations of furnaces of kinds not covered by a single preceding main group
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    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures

Definitions

  • the present invention relates to a nano-precise sintering system for producing a sintered body having nano-sized particles and a Z or crystal structure, and more specifically, using a pulse current pressure sintering method,
  • the present invention relates to a nano-precision sintering system that sinters a starting material powder while suppressing grain growth to produce a sintered body having nano-sized particles and Z or crystal structure.
  • nano-sized raw material powders are powders having a nano-order powder size and even if the size of the powder is on the order of micron, the crystal structure is nano It was proved that the pulse current pressurization sintering method was very effective for sintering using a powder having an order size.
  • Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-345208
  • An object of the present invention is to provide a nano-precision sintering system that sinters nano-sized starting raw material powder to produce a sintered body having a nano-sized crystal grain size structure and having a high precision and high function. That is.
  • Another object of the present invention is to prevent nano-sized starting material powder from being oxidized in the atmosphere, and contaminated with dust, dust, or adsorbed water, and subjected to pulse-current pressure sintering in the state of pure starting material powder. It is to provide a nano precision sintering system that sinters by a method.
  • Another object of the present invention is to house a vacuum chamber in which the sintering atmosphere can be brought into a substantially vacuum state in a glove box capable of controlling the desired atmosphere, and the raw material powder is oxidized by the atmosphere, dust, dust or adsorbed moisture.
  • the aim is to provide a nano precision sintering system that fills the sintering mold in a state of preventing contamination and enables sintering in a vacuum state, thereby producing a precise nano sintered body.
  • nano-precision sintering that obtains a sintered body having a high-purity nano-sized particle structure by sintering nano-sized raw material powder by a pulse current pressure sintering method
  • a pulse current pressure sintering method In the system,
  • a sintering process chamber defined by a hermetic housing and controlled to a predetermined atmosphere
  • a shut-off device that is provided in a passage that connects the pre-process chamber and the sintering process chamber, and that can selectively prevent communication between the chambers in an airtight state;
  • a pulsed electric pressure sintering machine having a vacuum chamber that enables the sintering in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere;
  • the vacuum chamber is disposed in the sintering process chamber in a separable manner from the sintering process chamber;
  • the raw powder can be weighed, the raw material powder can be filled into the sintering mold, the upper punch can be inserted into the sintering mold, and the raw powder in the sintering mold can be pressed.
  • the raw material charging chamber in the nano-precision sintering system, can be sealed against the outside air adjacent to the previous process chamber and the front
  • a nano-precise sintering system which is arranged to be separable selectively from a process chamber while maintaining an airtight state, and the inside of the raw material charging chamber can be controlled to a predetermined atmosphere.
  • the vacuum chamber in the nano-precision sintering system, is connected to a first vacuum exhaust device, and at least one of the pre-process chamber and the sintering process chamber.
  • a nano-precision sintering system that is connected to a second evacuation device that is separate from the first evacuation device.
  • the vacuum chamber in the nano precision sintering system, is connected to the first vacuum exhaust device, and the raw material charging chamber and the sintering process chamber are the first vacuum chamber.
  • a nano-precision sintering system is provided that is connected to a second evacuation device that is separate from the evacuation device.
  • the present invention it is possible to quickly fill the inert gas into the pre-process chamber or the sintering process chamber and control the oxygen concentration therein.
  • the mill for mixing and pulverizing the raw material powder in the pre-process chamber and the raw material powder prepared by the mill are weighed.
  • a nano-precision sintering system in which a weighing meter and a press device for pressurizing the raw material powder filled in a sintering mold are arranged.
  • the raw material powder can be sintered without touching the outside air at all, and the raw material powder is pressurized to increase the packing density, so that the sintered body can have a desired density and thickness. Can be controlled.
  • the sintering mold filled with the raw material powder is not exposed to the outside air through the passage in the pre-process chamber.
  • a nano-precise sintering system is provided that is provided with a transport device that feeds into the sintering process chamber.
  • the pre-process channel, the raw material charging chamber, and the sintering process chamber are capable of supplying an inert gas to these chambers.
  • a nano-precision sintering system connected to a gas circulation purification device capable of reducing the oxygen concentration of the active gas to a predetermined value.
  • the inert gas can be circulated and reused, it is not necessary to use and discard the inert gas in the atmosphere, thereby saving resources and protecting the environment. it can.
  • the attachment member in the nano-precision sintering system, is provided with a globe thread and a solid body, and the globe assembly is fixed to the side wall of the housing in an airtight state. And a pressing member that is removably attached to the mounting member and holds the glove mouth portion in cooperation with the mounting member, and a lid that can be removably mounted on the pressing member.
  • a nano precision sintering system is provided.
  • the hermetic housing that defines the chamber includes at least a pair of globes, and the hermetic chamber defines the sintering process chamber.
  • the type housing has at least a pair of gloves, and the raw material powder is weighed in the previous process chamber, the raw material powder is filled into the sintering die, the upper punch is inserted into the sintering die, Pressurization of the raw material powder can be performed manually through the globe, and installation to a sintering type sintering machine filled with the raw material powder is performed
  • a nano-precision sintering system that can be manually operated through a glove in the sintering process chamber is provided.
  • a hot bar for accommodating the raw material powder in the previous chamber, a weighing of the raw material powder in the hopper, and cutting out
  • a supply device for supplying the raw material, a filling device for filling the sintering mold with a predetermined amount of raw material powder supplied by the supply device, and a sealed container sent into the pre-process chamber is opened and the container is opened.
  • a nano-precise sintering system comprising means for charging raw material powder into the hopper, and an automatic controller for automatically controlling the operation of the apparatus and means.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of one embodiment of a nano-precise sintering system of the present invention.
  • FIG. 2 is a front view of the nano-precise sintering system of FIG.
  • FIG. 3 is a plan view showing the inside of a pre-process chamber.
  • FIG. 4 [A] is a cross-sectional view of the glove assembly, and [B] is a front view of the glove assembly.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing details of a sintering machine of the nano-precise sintering system of FIG.
  • FIG. 6 is a diagram showing a gas circulation purification device of the nano-precise sintering system of FIG.
  • FIG. 7 is a view showing a vacuum exhaust device of the nano-precise sintering system of FIG. 2.
  • FIG. 8 [A] is a perspective view showing a sintering die and a punch member, and [B] is a view showing a state where the sintering die is sent into a sintering process chamber.
  • the nano-precision (nano-ultra-precision) sintering system is the quality degradation of the raw material powder due to the oxidation of the powder after the preparation of the powder or after the opening of the sealed container containing the powder, or contamination of impurities. Furthermore, in order to maintain the purity of the product by preventing deterioration during powder filling or installation in the sintering machine, the raw material powder is used in a glove box-type atmosphere-controllable chamber. Mixing, grinding, storage of prepared raw material powder, weighing of raw material powder, filling of raw material powder into mold, installation in sintering type sintering machine filled with raw material powder, and in vacuum atmosphere Perform pulsed current pressure sintering and get it! /
  • FIG. 1 an overall embodiment of a nano-precision sintering system according to the present invention is shown in plan view.
  • the nano-precision sintering system 1 of this embodiment is a sealed first type that defines a pre-process chamber 20 that performs pre-processes from mixing and grinding of raw material powders to filling of the prepared raw material powders into a sintering mold.
  • a hermetically sealed second housing 31 that defines a sintering process chamber 30 that houses a vacuum chamber of a pulsed energization pressure sintering machine, which are arranged as shown.
  • the first and second housings are in the form of a so-called glove box that is provided with a glove for shielding the chamber defined by them from the outside and carrying out the work inside them with external force! .
  • the hermetic first housing 21 can completely shut off the front process chamber 20 defined by the first housing 21 from the outer cover as described above.
  • the inside of the process chamber is formed by an outer wall (for example, reinforced with a frame) that does not break even if a certain level of negative pressure (for example, lOPa) is applied.
  • a sealed charging housing 22 that defines a raw material charging chamber 220 is fixed to a side wall 211 of one side of the first housing 21 (on the side opposite to the second housing and on the left side in the drawing).
  • a gate valve having a known structure is provided between the charging housing 22 and the side wall 211.
  • This charging housing 22 also has a structure that does not break even if the inside of the raw material charging chamber 220 is in a certain negative pressure state (for example, lOPa), for example, a cylindrical structure.
  • a cover 222 that can be manually opened and closed by a known method and that can close the opening of the raw material charging chamber 220 in an airtight state is provided at the end of the charging ring 22 and the first housing 22 opposite to the first housing. It has been.
  • the floor surface of the raw material charging chamber 220 is flat.
  • the first housing 21 is on the base 23.
  • Two relatively large windows 213 are provided on the front side wall 212 of the hermetic first housing 21.
  • the window 213 is fitted with a window glass 213a so that the outside force of the housing 21 can be seen inside the housing.
  • This window is reinforced by a known method and sealed so as to keep the airtightness around the window so that the window glass 213a is not damaged even if the pressure in the previous process chamber becomes negative.
  • a pair of groove assemblies 24 are further attached to the front wall 212 under each window.
  • each glove thread and three-dimensional body 24 includes an annular mounting member 241 fixed to the mounting hole 2 15 of the front wall 212 of the housing 21 and a plurality of mounting members 241 (FIG. 4 [A]). (Only one is shown in the figure) and an annular holding member 242 that is fixed by a set screw 243, and a groove 244 whose mouth is fixed by the mounting member 241 and the holding member 242. ing.
  • An annular protrusion 241a is formed on the outer surface of the mounting member 241.
  • the annular groove 242a is formed on the corresponding surface of the holding member 242 to receive the protrusion.
  • the mouth portion is bent and fitted into the protrusion, and is fixed by a pressing member 242.
  • the globe 244 is of course made of an airtight material such as rubber.
  • a substantially disk-shaped lid 245 is detachably attached to the annular pressing member 242. Unlike the generally known glove box lid, the lid 245 can be completely removed from the holding member 242 and thus from the housing as described below. That is, the holding member 242 has a cylindrical inner peripheral surface 242b, and the outer surface (right side in FIG. 4A) protrudes radially inward and includes a plurality (in this embodiment, four are shown in FIG. 4). (Only two are shown in [B]) so as to form a notch 242d. A convex portion 242c extending in the direction is formed.
  • the lid 245 includes a cylindrical outer peripheral surface 245a that engages with the cylindrical inner peripheral surface 242b of the pressing member 242, and a plurality (four in this embodiment) that protrude in the radial direction and that are spaced apart in the circumferential direction.
  • a convex portion 245b is formed.
  • the shape of the convex portion 245b is a shape that fits into the notch 242d.
  • the convex portion 245b is aligned with the notch 242d so that the lid is fitted to the pressing member 242 and the convex portion 245b is fitted to the annular groove 242e of the pressing member 242.
  • the lid 245 is inserted into the handle, and the handle 245c is gripped and rotated so as to be fixed to the pressing member.
  • 242f is an air passage used to discharge air between the outside of the globe 244 and the lid 245 (space in the globe), and is connected to the previous process chamber via a conduit (not shown). The pressure between the inside and the space inside the globe is balanced. There are 242g, 241b, 241c and 241di.
  • the first housing 21 and the second housing 31 are configured such that one end (the left end in FIG. 2) of the communication pipe 25 is fixed to the side wall 215 of the housing 21 and the opposite end is fixed to the side wall 311 of the housing 31. Connected through a communication pipe.
  • This communication pipe 25 also has a structure that has a strength that does not break even if the inside of the communication passage 250 defined thereby is subjected to a certain negative pressure state (for example, lOPa), for example, a cylindrical structure. .
  • a gate valve 26 as an airtight shut-off device having a known structure is provided in the middle of the communication pipe 25.
  • This gate valve 26 when in the closed position, blocks communication between the pre-process chamber 20 defined by the first housing and the sintering process chamber 30 defined by the second housing 31 in an airtight state, It allows communication between them when in the open position.
  • a transport device 27 is disposed adjacent to the connection portion with the communication pipe 25.
  • This transport device includes a pair of guide rails 271 that are aligned with the center of the communication pipe 25 and spaced apart from each other in parallel, and a movable table 272 that is movably guided by the guide rails.
  • the movable table When the gate valve 26 is closed, the movable table has its tip on the front process chamber 20 side, and when the gate valve is open, it can be advanced through the gate valve into the sintering process chamber 30. It is summer.
  • the movable table is pushed and moved by hand, but it may be operated by an actuator such as a fluid pressure cylinder or an electric motor.
  • Ball mill 41 with a known structure prepared by mixing, pulverizing, etc., a raw material of a certain type (granular or powdery raw material) with a raw material powder having a desired particle size of nano order, and a known method for storing the prepared raw material powder
  • a hand press 44 having a known structure is disposed in the positional relationship shown in FIG.
  • This arrangement can be changed as appropriate, and in the pre-process chamber, for example, a graphite-made sintering mold, a press made by Graphite, which presses the raw material powder by being fitted on and under the sintering mold, for example. Make a place to store the cores.
  • the second hermetically sealed housing 31 that defines the sintering process chamber 30 is an electric current pressurization such as discharge plasma sintering or plasma active sintering. It can be provided in combination with a pulsed current pressure sintering machine (hereinafter simply referred to as a sintering machine) 50 that performs sintering.
  • a pulsed current pressure sintering machine hereinafter simply referred to as a sintering machine 50 that performs sintering.
  • the sintering machine 50 of this embodiment is fixed to the upper end of a stand 511, a plurality of (four in this embodiment) struts 512 fixed upright on the stand 511 and spaced apart from each other.
  • a main body frame 51 having an upper support plate 513, a lower housing assembly 52 supported by the support column 512 so as to be movable up and down, an upper housing assembly 53 supported by the support column 512 so as to be movable up and down, and a lower housing assembly
  • the lower energizing electrode assembly 54 attached to 52, the upper energizing electrode assembly 55 attached to the upper support plate 513, and the lower movable housing assembly are moved up and down by being attached to the center of the base 511.
  • a driving device 56 to be provided.
  • the lower housing assembly 52 includes a disc-like (in this embodiment) lower movable body 521 that is slidably guided and supported by a column 512 via bearings, and a lower housing 523 attached to the lower movable body 521. And have.
  • the housing 523 forms a bottom wall and has a bottom plate 524 to be attached to the lower movable body 521, and an annular body 525 which is connected to the bottom plate 524 by welding or the like and forms an annular (annular in this embodiment) side wall.
  • a ring member 526 fixed to the upper end of the annular plate.
  • the upper housing assembly 53 includes a ring-shaped upper movable body 531 that is slidably guided and supported by a column 512 via bearings, and an upper housing 533 that is attached to the upper movable body 531.
  • the upper housing has a top plate 534 constituting the upper wall and an annular shape (this example The lower end edge of the annular body 535 is attached to the upper movable body by welding or the like.
  • the upper and lower housings 533 and 523 cooperate with each other to define an inner sintering chamber or vacuum sintering chamber C.
  • the upper and lower housings are formed into a double wall structure (water jacket shape) by providing double annular bodies 535 and 525, respectively, and have a structure through which cooling water passes.
  • This sintered chamber C is controlled to a vacuum atmosphere by a device to be described later via a conduit 529 attached to the lower housing, but it is controlled to an inert gas atmosphere or the like. Also good.
  • a seal ring is provided on at least one of the upper surface of the ring member 526 and the lower surface of the upper movable body 531 so as to ensure airtightness between these surfaces.
  • a window 539 for measuring the temperature of the sintering mold with a non-contact thermometer 59 is formed in the upper ring 535 of Uzing. Quartz window glass is provided on the window to keep the inside and outside of the vacuum chamber heat resistant and airtight.
  • the annular body 135 of the upper housing may be provided with a window so that an external force can see the inside of the sintering chamber.
  • an annular stainless steel thin plate having a single layer or a plurality of layers is provided as a heat shield in the chamber. Also good. The vertical movement of the upper and lower housings is automatically performed by remote control.
  • the lower energization electrode assembly 54 is electrically connected to the lower movable body 521 and the bottom plate 524 through an insulating member (not shown) in a vertical through hole formed in the center of the lower movable body 521 and the bottom plate 524 of the lower housing. And a lower energizing electrode 541 fixed in an insulated state.
  • the lower energizing electrode 541 is provided with a cylindrical electrode body 542, in which a not-shown bag is connected to an external coolant supply source to form a cooling passage through which the coolant flows.
  • the lower energizing electrode 541 is connected to the power supply device of the sintering machine via the conductor 543.
  • the upper energizing electrode assembly 55 was fixed in a vertically through hole formed in the central portion of the upper support plate 513 while being electrically insulated from the upper support plate 513 via an insulating member (not shown).
  • An upper energizing electrode 551 is provided.
  • the upper energizing electrode 151 includes a long cylindrical electrode body 552 having a flange portion 553 at the upper end, and is connected to an external coolant supply source (not shown). A cooling passage for cooling liquid is formed !, The Although not shown, the upper energization electrode 551 is fixed to the upper support plate by attaching the flange portion 553 to the upper support plate 513 with a fixing bolt.
  • the upper energizing electrode 551 extends through a hole penetrating the top plate 534 of the upper housing 533 in the vertical direction, and the lower end is disposed in the inner sintering chamber, that is, the vacuum chamber C.
  • An insulating member and a seal member having a known structure are attached to the top plate 534, and electrical insulation between the upper energizing electrode and the top plate is achieved and airtightness between them is maintained.
  • the axis of the lower energizing electrode 541 and the axis of the upper energizing electrode 551 are positioned so as to be coaxial.
  • the driving device 56 is composed of a fluid pressure cylinder 561 attached to a base 511, and the tip (upper end in the figure) of the piston rod 562 is electrically isolated from a lower energizing electrode. It is fixed.
  • the fluid pressure cylinder is used as the driving device.
  • a method of driving with an electric motor may be adopted.
  • the flange portion 553 of the upper energizing electrode 551 is also connected to the power supply device of the sintering machine via a conductor such as a copper plate.
  • the mechanism for moving the upper housing assembly 53 up and down is a pair of fluid pressure cylinders supported by the upper support plate 513.
  • the piston rod of the cylinder is connected to the upper movable body 131 and the fluid pressure cylinder. May be moved up and down.
  • An electric motor or the like may be used in place of the fluid pressure cylinder, and may be performed via a mechanism such as a rack and pion or a screw shaft and a nut screwed into the rack and pion.
  • the top plate 316 of the second hermetically sealed housing 31 that defines the sintering process chamber 30 is kept airtight on the lower surface of the upper support plate 513 of the sintering machine 50, as shown in FIG.
  • the left and right side walls 311 and 312, the front side wall 312 (FIG. 2), and the upper end edge of the rear side wall are fixed in a sealed state to the edge of the top plate 316 by welding or the like.
  • An annular mounting plate 317 is fixed in a sealed state by welding or the like on the left and right side walls 311, 315, the front side wall 312 and the lower end edge of the rear wall.
  • a bottom plate 318 is fixed to the mounting plate 317 while being kept airtight by a known sealing device.
  • the bottom plate 318 is formed with holes through which the support column 512 and the lower energizing electrode 541 pass, and in these holes, a sealing device having a known structure is provided to seal the gap between the bottom plate, the support column and the lower energizing electrode. Yes. Also, the bottom energizing electrode and the bottom plate Is also electrically insulated.
  • the top plate 316, the side walls 311, 312, 315 and the like, and the bottom plate 318 surround the housing forming the sintering chamber C, and the sintering process chamber 30 is formed around the housing.
  • the front side wall 312 is provided with a window 313 through which external force can be seen in the sintering process chamber 30, and a window glass 313 a is attached to the window 313.
  • This window glass is also structured to prevent breakage due to a pressure difference inside and outside the sintering chamber by a known method, and an airtight state around the window is secured.
  • the external force of 31 can also work in the sintering process chamber.
  • the right side wall 315 is provided with a window 314 that is elongated vertically, and a window glass 314a is also disposed on the window 314.
  • This window 314 is aligned with the vacuum chamber window 539 so that a non-contact thermometer (infrared thermometer) 59 can measure the temperature in the sintering chamber C.
  • the thermometer 59 is attached to an elevating rod 592 connected to a piston rod 562 of a fluid pressure cylinder constituting the driving device by a member 591, and moves up and down in accordance with the up and down movement of the lower energizing electrode.
  • the temperature of the sintering mold may be measured directly at one place or a plurality of places directly in the sintering mold even with a thermocouple thermometer to increase the measurement accuracy.
  • a gas circulation purification device 60 is provided behind the first housing 21 (upper side in FIG. 1).
  • the gas circulation purification device 60 includes a gas circulation purification unit 61 having a known structure, an inert gas cooler 62, a pump 63, an oxygen concentration meter 64, a moisture meter 65, and the like.
  • the piping system 66 shown in the figure is connected to the first node 21, the housing 21, the charging housing 22 and the second housing 31.
  • This gas recirculation purification apparatus includes a pre-process chamber 20 defined by a first housing, a charge chamber 220 defined by a charge housing 22, and a sintering process defined by a second housing.
  • argon gas is selectively sent to replace the air in these chambers with an inert gas, and the oxygen concentration in the inert gas in the chamber is reduced to lpp m or less.
  • the inert gas is disposable and in the atmosphere. Since it is reused without being released into the environment, resources can be saved and the environment can be protected.
  • the vacuum chamber C of the sintering machine 50 is connected to a first evacuation device 70 shown in FIG. 7 via a conduit 529 attached to the lower housing.
  • the first evacuation apparatus includes a vacuum pump 71, a diffusion pump 72, a gate valve 73, a vacuum valve 74, other valves 75, etc., which are connected to a piping system 76 as shown in the figure. Connected by.
  • This first evacuation device can make the inside of the vacuum chamber C have a vacuum degree of about 6 ⁇ 10_3 Pa.
  • the raw material charging chamber 220 defined by the charging housing 22 and the sintering process chamber 30 defined by the second housing are connected to a second evacuation device 70a as shown in FIG. ing.
  • the second evacuation device 70a has a rotary pump 7la and valves 74a and 75a, which are connected by a piping system 76a as shown.
  • This second vacuum exhaust device only needs to have a lower degree of vacuum, such as lOPa, in the raw material charging chamber 220 and the sintering process chamber 30 than in the vacuum chamber.
  • the pre-process chamber 20 is not connected to the second vacuum exhaust device 70a, but may be connected. Further, instead of connecting the pre-process chamber to the second vacuum exhaust device, the connection between the raw material charging chamber or the sintering process chamber and the second vacuum exhaust device 70a may be stopped.
  • the sintering mold a used in sintering and the upper and lower press cores or punch members c inserted into the holes of the sintering mold (see FIG. 8 [A ] Is loaded into the pre-process chamber 20. Also, the lid 245 of each glove & solid 24 is also attached to the pressing member 242. Next, the cover 222 provided at the open end of the insertion nosing 22 is opened by hand, and the raw material charging chamber 220 is filled with a material to be used for sintering, for example, a granular material of SiC or AlO. Alternatively, powder is put in a container and charged. Raw material charging
  • the cover 222 is manually closed to close the raw material charging chamber in an airtight state.
  • the gas circulation purification device 60 replaces the air in the pre-process chamber 20 and the sintering process chamber 30 with an inert gas, for example, argon gas, and the acid in the inert gas.
  • an inert gas for example, argon gas
  • the operation to bring the elementary concentration to the desired level is started.
  • the air in the chamber is replaced with an inert gas, the replacement efficiency is poor even if the inert gas is injected into the chamber filled with air.
  • the pressure in the inlet chamber and the sintering process chamber) is pulled out by the second vacuum exhaust device 70a to bring it into a negative pressure state, and an inert gas is immediately injected.
  • the inside of the globe also becomes negative pressure and the pressure is balanced.
  • the gate valve provided between the pre-process chamber 20 and the sintering process chamber 30 and the gate valve provided between the pre-process chamber 20 and the raw material charging chamber 220 are in the open position, and The air in the process chamber is also exhausted.
  • the gas circulation purification device 60 fills the entire raw material charging chamber and the sintering chamber with inert gas, and further, the oxygen concentration in the inert gas filled in all the chambers is set to a desired value. Decrease to a degree (eg, lppm or less).
  • the gate valve (not shown) that partitions the raw material charging channel 220 and the previous process chamber and opens the previous process is opened.
  • the glove is operated from the channel and the raw material in the raw material charging chamber is taken in.
  • a sealed container for example, a vacuum pack shape or an inert gas-mixed package shape
  • a sealed container for example, a vacuum pack shape or an inert gas-mixed package shape
  • the gate valve 26 is opened, the pre-process chamber 20 and the sintering process chamber 30 are communicated, and the movable table 272 of the transfer device 27 is moved into the sintering process chamber 30 through the passage.
  • the movable table 272 of the transfer device 27 is moved into the sintering process chamber 30 through the passage.
  • the lower housing 523 of the sintering machine 50 is in the lower position and the upper housing 533 is in the upper position, and they are separated from each other up and down. This allows access to the sintering chamber C.
  • the combination of the sintering mold a and the punch members 1) and c filled with the raw material powder is as shown in FIG. 8 [B]. It is sent to the immediate vicinity of 541 of the current-carrying electrode. Under such a state, a combination such as a sintered mold on the movable table is manually set on the upper surface 544 of the lower energizing electrode via the pair of globes 24 attached to the second housing 31. . This completes the setting to the sintering machine 50 such as a sintering die.
  • the movable table 272 is manually returned into the pre-process chamber 20, and the gate valve 26 is set to the closed position, and the sintering process chamber 30 is shut off from the pre-process chamber 20.
  • the upper housing 533 is lowered to engage the lower housing to isolate the vacuum chamber C defined by both housings from the sintering process chamber and operate the driving device 56 to lower energization.
  • the electrode 541 is raised, and the punch member is sandwiched between the upper surface of the lower conductive electrode 541 and the lower surface of the upper conductive electrode 551.
  • the inside of the vacuum chamber is evacuated by a vacuum exhaust device 70 (for example, 6 X 10 " 3 Pa), and a DC pulse current (for example, 1000A! Sintering is performed.
  • the gate valve 26 is opened, the movable table of the transfer device 27 is moved into the sintering process chamber, and the probe is cooled until the sintering mold is cooled.
  • the sintered compact or other combination is transferred to the movable table by hand, and moved to the pre-process chamber by the movable table, where the sintered body obtained by sintering using a hand press is sintered.
  • the sintered body is taken out through the material charging chamber.
  • the nano-precision sintering system of the above embodiment is suitable for producing a single sintered body such as a prototype, for example, but in the raw material charging chamber, the pre-process chamber, and the sintering process chamber. It is also possible to mass-produce sintered bodies determined by trial production by installing a control device that automatically controls the operation of these devices while also installing and sharing a device that can automatically perform the work performed by the above manual work It is.
  • the raw material powder is a system It is preferable to use the one prepared in advance and placed in a sealed container.
  • the raw material charging chamber is provided with an automatic transfer device that can feed a sealed container of raw material powder to the pre-process chamber, and the operation of the transfer device 27 described above is automated.
  • a hopper for containing raw material powder a raw material powder in the hopper is cut out and supplied by weighing, and a predetermined amount of raw material powder supplied by the supply device is received and sintered.
  • a filling device for filling the inside, a punch member inserting device for inserting the upper punch member into the sintering die filled with a predetermined amount of the raw material powder, and a press device for pressurizing the raw material powder in the sintering die are further provided.
  • a robot that opens the sealed container of raw material powder and loads the raw material powder into the hopper, a transfer robot that transfers the sintering mold between the filling device, the punch member insertion device, and the press device are provided. Enable automatic control by an automatic control device. Further, the combination of the sintering die and punch member sent by the conveying device 27 is set in the sintering process chamber 30 at a predetermined position of the sintering machine. A robot that takes out the combination of members is also provided, and its operation can be automatically controlled by an automatic control device.
  • the case where the glove assembly is provided in the housings 21, 31 has been described. However, only the above-described automation device is provided in the housings 21, 31 and the glove assembly is omitted.
  • the sintering operation may be fully automated. In this case, manufacture the sintered body as a prototype in a separate facility, and if it is determined that mass production is possible, use an automated device to sinter.
  • the nano-order fine powder (powder having a nano-order powder size and a powder size in the micron order without contacting the sintering raw material with the outside air, particularly oxygen) Even if there is a powder whose crystal structure has a nano-order size), the raw material powder is filled into the sintering mold without touching the outside air, especially oxygen and / or moisture, and the raw material powder is filled and sintered.
  • the mold can be set in a sintering machine without being exposed to oxygen, and further, sintering in a vacuum atmosphere can be performed, so that it is possible to sinter by completely preventing oxidation by oxygen, contamination by dust, dust, adsorbed moisture, etc. Therefore, it is possible to produce a precise nano-structured sintered body of high purity and quality, especially by SPS sintering characterized by reactive sintering at the particle interface.
  • nanostructured materials of various metals or ceramics, and nanocomposite materials (electronic materials), because they can sinter extremely pure, nanostructured sintered bodies that do not contain impurities. Can be used.

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Abstract

 ナノサイズの原料粉末をパルス通電加圧焼結法により焼結して純度の高いナノサイズの粒子構造を有する焼結体を得るナノ精密焼結システム1は、少なくとも一つのグローブを有する少なくとも一つの密閉式ハウジング21によって画定されていて所定の雰囲気に制御され得る少なくとも一つの前工程チャンバ20と、少なくとも一つのグローブを有する密閉式ハウジング31によって画定されていて所定の雰囲気に制御され得る焼結工程チャンバ30と、前記前工程チャンバと前記焼結工程チャンバとを連通する通路に設けられていて前記両チャンバ間の連通を選択的にかつ気密状態で阻止可能な遮断装置26と、真空雰囲気下での前記焼結を可能にする真空チャンバCを有するパルス通電加圧焼結機50と、を備え、前記真空チャンバが前記焼結工程チャンバ内にその焼結工程チャンバから隔絶可能に配置されている。                                                                          

Description

明 細 書
ナノ精密焼結システム
技術分野
[oooi] 本発明はナノサイズの粒子及び Z又は結晶構造を有する焼結体を製造するナノ精 密焼結システムに関し、より詳しくは、パルス通電加圧焼結法を利用して、ナノサイズ の出発原料粉末を、粒成長を抑制して焼結し、ナノサイズの粒子及び Z又は結晶構 造を有する焼結体を製造するナノ精密焼結システムに関する。
背景技術
[0002] 近年、ナノ構造材料にっ 、ての研究が様々な分野で行われ、粉末焼結の分野に おいても、ナノサイズの出発原料粉末を使用して焼結体 (例えば、金属系或いはセラ ミック系のナノフェーズ材料、ナノコンポジット材料等)をつくる技術が研究、開発され ている。従来のいわゆる単なる加熱と加圧を行う焼結法では焼結に時間がかかり、せ つ力べナノサイズの出発原料粉末を使用して焼結しても、焼結の過程において粒成 長が起こり、でき上がった焼結体の結晶粒径をみると出発原料のナノサイズより大きく 成長しているのが実情である。このため、微細組織構造を制御する焼結技術或いは 粒成長を制御する焼結技術が必要であり、焼結を短時間で行うことが必要不可欠で ある。
[0003] 本発明者等は、放電プラズマ焼結或いはプラズマ活性ィ匕焼結のような 、わゆるパ ルス通電加圧焼結法及びその焼結法を実行し得る焼結装置及びシステムの開発に 長年たずさわっており、ナノサイズの原料粉末 (ここで、ナノサイズの原料粉末とは、 粉末のサイズ自体がナノオーダーを有する粉末及び粉末のサイズはミクロンオーダ 一であってもその結晶構造がナノオーダーのサイズを有する粉末を言う)を使用した 焼結にパルス通電加圧焼結法が極めて有効であることがわ力つた。しかし、不純物を 含まな 、ナノサイズの粉末材料を焼結して純度の高 、、し力もナノサイズの結晶粒径 構造を有する超精密かつ高機能を有する焼結体をつくるには、従来知られているパ ルス通電加圧焼結装置を使用して粒成長を抑制しただけでは不可能なことがわかつ た。これは、ナノサイズの粉末力 通常のミクロンオーダーの粉末に比べて比表面積 が大きくかつ粒子表面の活性度が高ぐ大気に触れることで容易に酸ィ匕被膜を形成 してしまうことが知られており、このため材料の合成過程でこの酸ィ匕物が粒界に析出 することにより或いは内部に分散することにより所望の特性が得られないという欠点が あるためである。
特許文献 1:特開 2000— 345208号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] 本発明の目的は、ナノサイズの出発原料粉末を焼結してナノサイズの結晶粒径構 造を有する精密かつ高機能を有する焼結体をつくるナノ精密焼結システムを提供す ることである。
[0005] 本発明の他の目的は、ナノサイズの出発原料粉末の大気による酸化、塵、埃或い は吸着水分による汚染を防止し、純粋の出発原料粉末の状態でパルス通電加圧焼 結法により焼結するナノ精密焼結システムを提供することである。
[0006] 本発明の別の目的は、焼結雰囲気をほぼ真空状態にできる真空チャンバを所望の 雰囲気制御可能なグローブボックス内に収納し、原料粉末を大気による酸化、塵、埃 或いは吸着水分による汚染を防止した状態で焼結型内へ充填し、真空状態で焼結 可能にし、それによつて精密なナノ焼結体をつくるナノ精密焼結システムを提供する ことである。
課題を解決するための手段
[0007] 請求項 1の本発明によれば、ナノサイズの原料粉末をパルス通電加圧焼結法により 焼結して純度の高いナノサイズの粒子構造を有する焼結体を得るナノ精密焼結シス テムにいおいて、
少なくとも一つの密閉式ノ、ウジングによって画定されていて所定の雰囲気に制御さ れ得る少なくとも一つの前工程チャンバと、
密閉式ハウジングによって画定されていて所定の雰囲気に制御され得る焼結工程 チャンバと、
前記前工程チャンバと前記焼結工程チャンバとを連通する通路に設けられていて 前記両チャンバ間の連通を選択的にかつ気密状態で阻止可能な遮断装置と、 真空雰囲気又は不活性ガス雰囲気下での前記焼結を可能にする真空チャンバを 有するパルス通電加圧焼結機と、
を備え、
前記真空チャンバが前記焼結工程チャンバ内にその焼結工程チャンバから隔離可 能に配置され、
前記前工程チャンバ内で、原料粉末の秤量、原料粉末の焼結型内への充填、焼 結型内への上パンチの挿入、焼結型内の原料粉末の加圧を実行可能であり、 前記原料粉末が充填された焼結型の焼結機への設置を、前記焼結工程チャンバ 内の所定の雰囲気下で外気に触れることなく行えることを特徴とするナノ精密焼結シ ステムが提供される。
[0008] 上記本発明によれば、出発原料粉末の調製時の表面性状が維持されて酸化、汚 染がなぐ純度の高いナノ結晶粒径構造の焼結体をつくることができる。
[0009] 請求項 2の発明によれば、上記のナノ精密焼結システムにお!/、て、前記前工程チヤ ンバに隣接して原料装入チャンバが外気に対して密閉可能にかつ前記前工程チヤ ンバと選択的にかつ気密状態を保持して隔離可能に配置され、前記原料装入チャン バ内が所定の雰囲気に制御可能になっているナノ精密焼結システムが提供される。
[0010] この発明によれば、原料を装入するチャンバを設けてそのチャンバ内も雰囲気制御 できるので更に純度の高い焼結体を得ることができる。
[0011] 請求項 3の発明によれば、上記のナノ精密焼結システムにおいて、前記真空チャン バが第 1の真空排気装置に接続され、前記前工程チャンバ及び前記焼結工程チヤ ンバの少なくとも一方が前記第 1の真空排気装置とは別個の第 2の真空排気装置に 接続されているナノ精密焼結システムが提供される。また、請求項 4の発明によれば 、上記のナノ精密焼結システムにおいて、前記真空チャンバが第 1の真空排気装置 に接続され、原料装入チャンバ及び前記焼結工程チャンバが前記第 1の真空排気 装置とは別個の第 2の真空排気装置に接続されているナノ精密焼結システムが提供 される。
[0012] この発明によれば、前工程チャンバ或いは焼結工程チャンバ内への不活性ガスの 充填及びその中の酸素濃度の制御を速やかに行うことができる。 [0013] 請求項 5の発明によれば、上記のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程チヤ ンバ内に、原料粉末を混合、粉砕するミルと、前記ミルにより調製された原料粉末を 秤量する秤量計と、焼結型内に充填された前記原料粉末を加圧するプレス装置とを 配置したナノ精密焼結システムが提供される。
[0014] この発明によれば、原料粉末を外気に一切触れさせることなく焼結処理ができ、ま た原料粉末を加圧して充填密度を上げるので焼結体を所望の緻密度、厚さに制御 できる。
[0015] 請求項 6に記載の発明によれば、上記のナノ精密焼結システムにおいて、前記前 工程チャンバ内には、原料粉末が充填された焼結型を前記通路を通して外気に触 れることなく焼結工程チャンバ内に送る搬送装置が設けられているナノ精密焼結シス テムが提供される。
[0016] 請求項 7の発明によれば、上記のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程チヤ ンノ 、原料装入チャンバ及び焼結工程チャンバが、それらのチャンバに不活性ガス を供給可能で不活性ガスの酸素濃度を所定の値まで低下できるガス循環精製装置 に接続されて 、るナノ精密焼結システム提供される。
[0017] この発明によれば、不活性ガスを循環させて再利用可能であるので、不活性ガスを 大気中に使 、捨てしな 、で済み、資源の節約及び環境の保護を行うことができる。
[0018] 請求項 8の発明によれば、上記のナノ精密焼結システムにお 、て、グローブ糸且立体 を備え、前記グローブ組立体が前記前記ハウジングの側壁に気密状態で固定された 取付け部材と、前記取付け部材に取り外し可能に取りつけられ、前記取付け部材と 協働して前記グローブの口部を挟んで保持する押さえ部材と、前記押さえ部材に取 り外し可能に装着可能な蓋とを備えるナノ精密焼結システムが提供される。
[0019] 請求項 9に記載の発明によれば、前記ナノ精密焼結システムにおいて、前記前ェ 程チャンバを画定する密閉式ハウジングが少なくとも一対のグローブを備え、前記焼 結工程チャンバを画定する密閉式ハウジングが少なくとも一対のグローブを備え、前 記前工程チャンバ内での原料粉末の秤量、原料粉末の焼結型内への充填、焼結型 内への上パンチの挿入、焼結型内の原料粉末の加圧を前記グローブを介して人手 により実行可能であり、前記原料粉末が充填された焼結型の焼結機への設置を前記 焼結工程チャンバのグローブを介して人手により行えるナノ精密焼結システムが提供 される。
[0020] 請求項 10に記載の発明によれば、前記ナノ精密焼結システムにおいて、前記前ェ 程チャンバ内には、前記原料粉末を収容するホツバ、前記ホッパ内の原料粉末の計 量、切り出しを行い供給する供給装置、前記供給装置により供給された所定量の原 料粉末を焼結型内に充填する充填装置、前記前工程チャンバ内に送られた密閉容 器を開封してその中の原料粉末を前記ホッパ内に装入する手段、並びに前記装置 及び手段の動作を自動制御する自動制御装置を備えるナノ精密焼結システムが提 供される。
図面の簡単な説明
[0021] [図 1]本発明のナノ精密焼結システムの一実施形態の概略平面図である。
[図 2]図 2のナノ精密焼結システムの正面図である。
[図 3]前工程チャンバ内を示す平面図である。
[図 4] [A]はグローブ組立体の断面図であり、 [B]はグローブ組立体の正面図である
[図 5]図 2のナノ精密焼結システムの焼結機の詳細を示す断面図である。
[図 6]図 2のナノ精密焼結システムのガス循環精製装置を示す図である。
[図 7]図 2のナノ精密焼結システムの真空排気装置を示す図である。
[図 8] [A]は焼結型及びパンチ部材を示す斜視図であり、 [B]は焼結型が焼結工程 チャンバ内に送られた状態を示す図である。
符号の説明
[0022] 1 ナノ精密焼結システム
20 前工程チャンバ 21 ハウジング
22 装入ハウジング 24 グローブ糸且立体
25 連通管 26 ゲート弁
30 後工程チャンバ 31 ハウジング
50 焼結機
523 下ハウジング 533 上ハウジング 541 下通電電極 551 上通電電極
C 焼結チャンバ
発明を実施するための最良の形態
[0023] 以下、図面を参照して本発明によるナノ精密(又はナノ超精密)焼結システムの一 実施形態について説明する。
[0024] 本実施形態によるナノ精密(ナノ超精密)焼結システムは、粉末の調製後又は粉末 の入った密閉容器の開封後の粉末の酸化、或いは不純物の混入などにより原料粉 末の品質劣化し、更には粉末の充填時或いは焼結機への設置過程での劣化を防止 することで製品の純度を保持するため、 、わゆるグローブボックス式の雰囲気制御可 能なチャンバ内で、原料粉末の混合、粉砕、調製された原料粉末の保管、原料粉末 の秤量、原料粉末の型内への充填、及び原料粉末が充填された焼結型の焼結機へ の設置、並びに真空雰囲気でのパルス通電加圧焼結を行 、得るようになって!/、る。
[0025] 図 1において、本発明によるナノ精密焼結システムの一実施形態の全体が平面で 示されている。この実施形態のナノ精密焼結システム 1は、原料粉末の混合、粉砕か ら焼結型への調製済み原料粉末の充填までの前工程を行う前工程チャンバ 20を画 定する密閉式の第 1のハウジング 21と、パルス通電加圧焼結機の真空チャンバを収 容する焼結工程チャンバ 30を画定する、密閉式の第 2のハウジング 31とを備え、そ れらは図示のように配置されて 、る。第 1及び第 2のハウジングはそれらによって画定 されるチャンバを外部から遮断してその中での作業を外部力も行うためのグローブが 設けられた 、わゆるグローブボックスの形式になって!/、る。
[0026] 図 1及び図 2において、密閉式の第 1のハウジング 21は、前述のように、それによつ て画定される前工程チャンバ 20を外部カゝら完全に遮断できし力ゝも前工程チャンバ内 をある程度の負圧状態 (例えば lOPa)にしても破損しないような外壁 (例えばフレー ムで補強して)によって形成されている。第 1のハウジング 21の一方(第 2のハウジン グとは反対の側で図では左側)の側壁 211には、原料装入チャンバ 220を画定する 密閉式の装入ハウジング 22が固定されている。装入ハウジング 22と側壁 211との間 には、図示しないが、公知の構造のゲート弁が設けられている。このゲート弁は、閉じ 位置にあるとき、前工程チャンバ 20と装填チャンバ 220との連通を気密状態で阻止 し、開き位置にあるとき、それらの連通を可能にできる気密式の遮断装置を構成して いる。この装入ハウジング 22も原料装入チャンバ 220内がある程度の負圧状態 (例え ば lOPa)にされても破損しないような構造、例えば円筒形の構造になっている。装入 ノ、ウジング 22の、第 1のハウジングと反対側の端部には公知の方法で手動で開閉可 能でかつ原料装入チャンバ 220の開口部を気密状態で閉鎖できるカバー 222が設 けられている。なお、図示しないが、原料装入チャンバ 220の床面は平坦になってい る。第 1のハウジング 21は基台 23の上に乗っている。
密閉式の第 1のハウジング 21の前側の側壁 212には二つの比較的大きな窓 213 が設けられている。この窓 213は、ハウジング 21の外側力 ハウジング内が見えるよう に窓ガラス 213aが装着されている。この窓は、前工程チャンバ内が負圧になっても 窓ガラス 213aが破損しないように、公知の方法で補強されかつ窓周辺の気密を保持 するようにシールされている。前壁 212には、更に、各窓の下側にそれぞれ対のグロ ーブ組立体 24が取りつけられている。
各グローブ糸且立体 24は、図 4に示されるように、ハウジング 21の前壁 212の装着穴 2 15に固定された環状の取付け部材 241と、その取付け具 241に複数(図 4 [A]では 1個のみ図示)の止めねじ 243によって固定されるようになっている環状の押さえ部 材 242と、取付け部材 241と押さえ部材 242とによって口部が固定されているグロ一 ブ 244とを備えている。取付け部材 241の外側面には外側(図 4で右側)に突出する 環状の突起 241aが形成され、押さえ部材 242の対応する面にはその突起を受ける 環状の溝 242aが形成され、グローブ 244の口部をその突起に折り曲げて嵌めて押さ ぇ部材 242で固定するようになっている。このようにすることにより、グローブ取付け部 を介しての空気漏れを防止できる。グローブ 244はもちろんゴム等の気密性の材料 でつくられている。環状の押さえ部材 242には略円板状の蓋 245が取り外し可能に 装着されている。この蓋 245は一般的に知られているグローブボックスの蓋と異なり、 押さえ部材 242から、したがってハウジングから、以下で説明するように完全に取り外 せるようになつている。すなわち、押さえ部材 242には円筒状の内周面 242bが形成 され、外側面(図 4[A]で右側)には半径方向内側に突出しかつ複数 (本実施形態で は 4個で図 4 [B]では 2個のみ示す)の切欠き部 242dを形成するようにして円周方向 に伸びる凸部 242cが形成されている。蓋 245には押さえ部材 242の円筒状の内周 面 242bと係合する円筒状の外周面 245aと、半径方向に突出しかつ円周方向に隔 てられた複数 (本実施形態では 4個)の凸部 245bが形成されせれている。凸部 245b の形状は切欠き部 242d内に入る形状であり、その凸部 245bを切欠き部 242dに合 わせて蓋を押さえ部材 242に嵌め、凸部 245bを押さえ部材 242の環状の溝 242e内 に入れ、蓋 245を取っ手 245cを把持して回転させて押さえ部材に固定するようにな つている。なお、 242fはグローブ 244の外側と蓋 245との間(グローブ内の空間)の 空気を排出するために使用する空気通路で、図示しない導管を介して前工程チャン バに接続され、前工程チャンバ内とグローブ内の空間との圧力のバランスを取るよう にしてある。また 242g、 241b, 241c, 241diまシーノレである。
[0028] 第 1のハウジング 21と第 2のハウジング 31とは、連通管 25の一端(図 2で左端)がハ ウジング 21の側壁 215に固定させかつ反対端がハウジング 31の側壁 311に固定さ れて、連通管を介して接続されている。この連通管 25も、それによつて画定される連 絡通路 250内がある程度の負圧状態 (例えば lOPa)にされても破損しないような強 度を有する構造、例えば円筒形の構造になっている。連通管 25の途中には公知の 構造の気密式遮断装置としてのゲート弁 26が設けられている。このゲート弁 26は、 閉じ位置にあるとき、第 1のハウジングにより画定される前工程チャンバ 20と第 2のハ ウジング 31によって画定される焼結工程チャンバ 30との連通を気密状態で阻止し、 開き位置にあるときそれらの連通を可能にできるようになつている。第 1のハウジング 2 1内には、図 3に示されるように、連通管 25との接続部に隣接して搬送装置 27が配 置されている。この搬送装置は、連通管 25の中心に整合させて互いに平行に隔てて 配置された一対のガイドレール 271と、そのガイドレールにより移動可能に案内され た可動テーブル 272とを備えている。可動テーブルは、ゲート弁 26が閉じられるとき はその先端がゲート弁より前工程チャンバ 20側にあり、ゲート弁が開いているときは ゲート弁を通って焼結工程チャンバ 30内に前進できるようになつている。可動テープ ルは、本実施形態では手で押して動かすようになっているが、流体圧シリンダ、電動 モータ等のァクチユエータで動作させるようにしてもょ 、。
[0029] 第 1のハウジング 21によって画定される前工程チャンバ 20内には、少なくとも 1種 類の原料 (粒状又は粉末状の原料)をナノオーダーの所望の粒径の原料粉末に混 合、粉砕等して調製する公知の構造のボールミル 41と、調製した原料粉末を保存し ておく公知の構造のデシケーター 42と、必要量の原料粉末を秤量する電子秤量計 4 3と、焼結型内に所定量の原料粉末を入れた後その粉末を圧粉体にするてめに加圧 し、或いは後述する焼結機により焼結されてできた焼結体を焼結型力 離型するた めの、公知の構造のハンドプレス 44とが図 3に示される位置関係で配置されている。 なおこの配置は適宜変更可能であり、また、前工程チャンバ内には、例えばグラファ イト製の焼結型、焼結型の上、下に嵌められて原料粉末を加圧する、グラフアイト製 のプレスコア等を保管する場所を設けてもょ 、。
[0030] 焼結工程チャンバ 30を画定する第 2の密閉式のハウジング 31は、図 5に詳細に示 されるように、放電プラズマ焼結或いはプラズマ活性ィ匕焼結等のノ ルス通電加圧焼 結を行うパルス通電加圧焼結機(以下単に焼結機) 50と組み合わせて設けられて ヽ る。
[0031] この実施形態の焼結機 50は、台 511、その台 511に直立状態で互いに隔てて固 定された複数 (この実施形態では 4本)の支柱 512及び支柱 512の上端に固定され た上支持板 513を有する本体フレーム 51と、支柱 512に上下移動可能に支持され た下ハウジング組立体 52と、支柱 512に上下移動可能に支持された上ハウジング組 立体 53と、下ハウジング組立体 52に取り付けられた下通電電極組立体 54と、上支 持板 513に取り付けられている上通電電極組立体 55と、台 511の中央に取り付けら れて 、て下可動ハウジング組立体を上下動させる駆動装置 56とを備えて 、る。下ハ ウジング組立体 52は、軸受けを介して支柱 512に滑動可能に案内支持された円板 状 (この実施形態で)の下可動体 521と、下可動体 521に取り付けられた下ハウジン グ 523とを有している。ハウジング 523は底壁を形成していて下可動体 521に取り付 ける底板 524と、底板 524に溶接等により接続された、環状 (この実施形態では円環 状)の側壁を構成する環状体 525と、環状板の上端に固定されたリング部材 526とを 有している。上ハウジング組立体 53は、軸受けを介して支柱 512に滑動可能に案内 支持されたリング状の上可動体 531と、上可動体 531に取り付けられた上ハウジング 533とを備えている。上ハウジングは、上壁を構成する天板 534と、環状 (この実施例 では円環状)の側壁を構成する環状体 535とを備え、環状体 535の下端縁は溶接等 により上可動体に取り付けている。上、下ハウジング 533及び 523は互いに協同して 内側の焼結チャンバすなわち真空焼結チャンバ Cを画成するようになって 、る。上、 下ハウジングは、環状体 535、 525をそれぞれ二重に設けることによって二重壁構造 (ウォータージャケット状)にされ、中に冷却水を通す構造になっている。この焼結チ ヤンバ Cは下ハウジングに取りつけられた導管 529を介して、後述する装置により、真 空雰囲気に制御されるようになって 、るが、不活性ガス雰囲気等に制御するようにし てもよい。なお、リング部材 526の上面及び上可動体 531の下面の少なくとも一方に はシールリングが設けられ、それらの面間の気密性を確保するようになっている。上 ノ、ウジングの環状体 535には非接触温度計 59で焼結型の温度を測定するための窓 539が形成されている。窓には石英製の窓ガラスが設けられて真空チャンバ内外を 耐熱性を保持しかつ気密状態に遮断している。なお、図示しないが上ハウジングの 環状体 135には外部力も焼結チャンバ内を見れるように覼き窓を設けてもよい。また 、図示しないが、通電焼結時の焼結型からの発熱からハウジングの内壁を保護する ために、チャンバ内部に単層又は複数の層の環状のステンレス鋼薄板を遮熱板とし て設けてもよい。なお、上下ハウジングの上下動作は遠隔操作により自動的に行うよ うになつている。
下通電電極組立体 54は、下可動体 521及び下ハウジングの底板 524の中央部に 形成された上下方向の貫通穴内に、図示しない絶縁部材を介して下可動体 521及 び底板 524に電気的に絶縁させた状態で固定された下通電電極 541を備えている。 下通電電極 541は円柱状の電極本体 542を備え、その内部には図示しな ヽが外部 の冷却液供給源と接続されて ヽて中に冷却液を流す冷却通路が形成されて ヽる。下 通電電極 541は、導電体 543を介して焼結機の電源装置に接続されている。上通電 電極組立体 55は、上支持板 513の中央部に形成された上下方向の貫通穴内に、図 示しない絶縁部材を介して上支持板 513に電気的に絶縁させた状態で固定された 上通電電極 551を備えている。上通電電極 151は、この実施形態では、上端にフラ ンジ部 553を有する円柱状の長い電極本体 552を備え、その内部には図示しないが 外部の冷却液供給源と接続されて ヽて中に冷却液を流す冷却通路が形成されて!、 る。上通電電極 551は、図示しないが、フランジ部 553を固定ボルトで上支持板 513 に取り付けることによって、上支持板に固定されている。この場合、公知の絶&^リー ブ及び絶縁ヮッシャ等を用いて、固定ボルトの周囲での上通電電極 551と上支持板 513との間の電気的絶縁を確保してある。上通電電極 551は上ハウジング 533の天 板 534を上下に貫通する穴を通して伸び、下端が内側焼結チャンバすなわち真空チ ヤンバ C内に配置されるようになっている。天板 534には公知の構造の絶縁部材及 びシール部材が取り付けられ、上通電電極と天板との電気的絶縁を図ると共にそれ らの間の気密を保持している。下通電電極 541の軸心と上通電電極 551の軸心とは 同軸になるように位置決めされて 、る。
[0033] 駆動装置 56は、この実施形態では台 511に取りつけられた流体圧シリンダ 561で 構成され、そのピストンロッド 562の先端(図で上端)には下通電電極に電気的に絶 縁して固定されている。なお、上記実施例では駆動装置として流体圧シリンダを採用 したが、これに代えて電動モータで駆動する方式を採用してもよい。上通電電極 551 のフランジ部 553も銅板等の導電体を介して焼結機の電源装置に接続されている。 上ハウジング組立体 53を上下移動させる機構は、図示しないが、上支持板 513に支 持された対の流体圧シリンダとし、そのシリンダのピストンロッドを上可動体 131に接 続して流体圧シリンダにより上下動させてもよい。流体圧シリンダの代わりに電動モー タ等を使用しラック及びピ-オン或いはねじ軸及びそれに螺合するナット等の機構を 介して行ってもよ ヽ。
[0034] 焼結工程チャンバ 30を画定する第 2の密閉式のハウジング 31の天板 316は、図 5 に示されるように、焼結機 50の上支持板 513の下面に気密状態を保持して固定され 、その天板 316の縁には左、右の側壁 311、 312、前側の側壁 312 (図 2)及び後側 の側壁の上端縁が溶接等によって密封状態で固定されている。左、右側壁 311、 31 5、前側の側壁 312及び後壁の下端縁には環状の取付け板 317が溶接等によって 密封状態で固定されている。取付け板 317には底板 318が公知のシール装置により 気密状態を保持して固定されて 、る。底板 318には支柱 512及び下通電電極 541 が貫通する穴が形成されており、それらの穴には底板と支柱及び下通電電極との隙 間を密閉する公知の構造のシール装置が設けられている。また、下通電電極と底板 とは電気的にも絶縁されている。天板 316、側壁 311、 312、 315等及び底板 318は 焼結チャンバ Cを形成するハウジングを囲んでいて、その周囲に焼結工程チャンバ 3 0を形成している。
[0035] 前側の側壁 312には外部力も焼結工程チャンバ 30内を見ることができる窓 313が 設けられ、その窓には窓ガラス 313aが取り付けられている。この窓ガラスも公知の方 法で焼結チャンバ内外の圧力差による破損を防止する構造になっており、窓周辺の 気密状態も確保されている。前側の側壁 312には、第 1のハウジング 21に取り付けら れて 、るグローブ組立体と同じ構造のグローブ組立体 24が複数個(この実施形態で は 3個)取り付けられ、グローブを介してハウジング 31の外側力も焼結工程チャンバ 内の作業をできるようになって 、る。
[0036] 図 5に示されるように、右側の側壁 315には上下に長くなつた窓 314が設けられ、そ の窓にも窓ガラス 314aが配置されている。この窓 314は真空チャンバ用の窓 539と 整合され、非接触式温度計 (赤外線温度計) 59で焼結チャンバ C内の温度を測定で きるようになつている。この温度計 59は、駆動装置を構成する流体圧シリンダのピスト ンロッド 562に部材 591により連結された昇降ロッド 592に取り付けられ、下通電電極 の上下動に合わせて上下動作するようになっている。なお、図示しないが、焼結型の 温度を熱電対式の温度計でも直接焼結型内部を 1箇所又は複数箇所同時に測定し て測定精度を高くしても良い。
[0037] 図 1に示されるように第 1のハウジング 21の後方(図 1で上側)にはガス循環精製装 置 60が設けられている。このガス循環精製装置 60は、図 6に示されるように、公知の 構造のガス循環精製ユニット 61と、不活性ガスクーラー 62と、ポンプ 63と、酸素濃度 計 64、水分計 65等を備えており、同図に示されるような配管系 66により第 1のノ、ウジ ング 21、装入ハウジング 22及び第 2のハウジング 31に接続されている。このガス循 環精製装置は第 1のハウジングにより画定される前工程チャンバ 20、装入ハウジング 22により画定される装入チャンバ 220、第 2のハウジングにより画定される焼結工程 チャンバ内に不活性ガス、例えばアルゴンガスを選択的に送り、それらのチャンバ内 の空気を不活性ガスで置換すると共にチャンバ内の不活性ガス中の酸素濃度を lpp m以下にする。このガス循環精製装置 60によれば、不活性ガスが使い捨てで大気中 に放出することなく再利用されるので、資源の節約及び環境の保護を図ることができ る。
[0038] 焼結機 50の真空チャンバ Cは下ハウジングに取り付けられた導管 529を介して、図 7に示される第 1の真空排気装置 70に接続されている。第 1の真空排気装置は、図 7 に示されるように、真空ポンプ 71、ディフュージョンポンプ 72、ゲート弁 73、真空弁 7 4、その他の弁 75等を備え、それらは図示のように配管系 76により接続されている。 この第 1の真空排気装置は、真空チャンバ C内を 6 X 10_3Pa程度までの真空度にで きるようになつている。
[0039] 装入ハウジング 22によって画定される原料装入チャンバ 220及び第 2のハウジング によって画定される焼結工程チャンバ 30は、図 7に示されるように第 2の真空排気装 置 70aに接続されている。第 2の真空排気装置 70aは、ロータリポンプ 7 laと、弁 74a 、 75aとを有し、図示のように配管系 76aによって接続されている。この第 2の真空排 気装置は、原料装入チャンバ 220及び焼結工程チャンバ 30内を、真空チャンバじょ りも低度の真空度、例えば lOPaにできるものであればよい。なお、本実施形態では 前工程チャンバ 20は第 2の真空排気装置 70aに接続されてないが、接続してもよい 。また前工程チャンバを第 2の真空排気装置に接続する代わりに、原料装入チャンバ 又は焼結工程チャンバと第 2の真空排気装置 70aとの接続を止めてもよい。
[0040] 次に、上記システムを使用してナノ精密焼結体をつくる方法を説明する。
[0041] まず、システムの使用の先だって、焼結で使用する焼結型 a及びその焼結型の穴 内に挿入される上及び下プレスコァ或 、はパンチ部材 c ( ヽずれも図 8 [A]に図示 )を前工程チャンバ 20内に装入しておく。また、各グローブ^ &立体 24の蓋 245も押さ ぇ部材 242に装着しておく。次に、挿入ノヽウジング 22の開口端に設けられたカバー 2 22を手で開いて原料装入チャンバ 220内には、焼結に使用しょうとする材料、例え ば、 SiC或いは Al Oの粒状体又は粉体を容器に入れて装入しておく。原料装入チ
2 3
ヤンバ 220内への原料の装入が完了したのち、カバー 222を手動で閉じて原料装入 チャンバを気密状態に閉鎖する。
[0042] その後、ガス循環精製装置 60によって、前工程チャンバ 20及び焼結工程チャンバ 30内に空気を不活性ガス、例えばアルゴンガスで置換すると共に不活性ガス中の酸 素濃度を所望の程度 (例えば lppm以下、好ましくは 0. 2ないし 0. 3ppm)にさせる 操作を開始する。チャンバ内の空気を不活性ガスで置換する場合、空気で満たされ ているチャンバ内に不活性ガスを注入しても置換効率が悪いので、置換を行おうとす るチャンバ(この実施形態では原料装入チャンバ及び焼結工程チャンバ)内の空気 を第 2の真空排気装置 70aで抜き取って負圧状態にし、直ぐに不活性ガスを注入す る力 チャンバ内が負圧になると押さえ部材 242に形成された空気通路 242fを通し てグローブ内も負圧になり圧力のバランスが取られる。排気のとき前工程チャンバ 20 と焼結工程チャンバ 30との間に設けられたゲート弁及び前工程チャンバ 20と原料装 入チャンバ 220との間に設けられたゲート弁は開き位置になって、前工程チャンバ内 の空気も排気される。ガス循環精製装置 60により原料装入チャンノ^前工程チャン バ及び焼結工程チャンバ内全体を不活性ガスで満し、更に、全チャンバ内に充填さ れた不活性ガス中の酸素濃度を所望の程度 (例えば lppm以下)まで低下させる。
[0043] 不活性ガス中の酸素濃度が所定以下になったことを確認した後、原料装入チャン ノ 220と前工程チャンバとを仕切って 、るゲート弁(図示せず)を開き、前工程チャン ノからグローブを操作して原料装入チャンバ内の原料を取り入れる。ゲート弁を閉じ た後、グローブを介して人手により、ボールミル 41を操作して原料粉末の調製、調製 した原料粉末のデシケーター 42内への保管、焼結に使用する原料粉末の電子秤量 計 43による秤量、下パンチ部材 bが装着された焼結型 a内への調製された原料粉末 の充填、充填が完了した後の上パンチ部材 cの焼結型 aへの装着、ハンドプレス 44を 利用した原料粉末の加圧(両パンチ部材を押してそれらのパンチ部材間にある原料 粉末を加圧する)等を、窓 213を介して視認しながら行う。加圧が完了した焼結型及 びパンチ部材の組合せ体は、搬送装置 27の可動テーブル 272の上(ゲート弁 26に 近い端部)に載せる。これで前工程の作業が完了する。
[0044] なお、本焼結システムの外で予め調製された粉末材料を使用する場合は、そのよう な粉末材料が装入された密閉容器 (例えば真空パック状或いは不活性ガス混入パッ ク状密閉容器)を原料装入チャンバ 22を介して上述のように前工程チャンバ 20内に 入れ、その中で密閉容器を開封して粉末材料を取り出して使用するようにしてもょ ヽ [0045] 次にゲート弁 26を開き、前工程チャンバ 20と焼結工程チャンバ 30とを連通させ、 搬送装置 27の可動テーブル 272を通路を通して焼結工程チャンバ 30内に移動させ る。これに先立って、図 8 [B]に示されるように、焼結機 50の下ハウジ 523は下位置 にまた上ハウジング 533は上位置にあり両者は互いに上下に離されており、グローブ を介して焼結チャンバ C内に接近できるようになつている。可動テーブル 272が最も 焼結工程チャンバ 30内に押し込まれたとき、原料粉末が充填された焼結型 a及びパ ンチ部材1)、 cの組合せ体は図 8 [B]に示されるように下通電電極の 541の直ぐ近くま で送りこまれている。このような状態の下で、第 2のハウジング 31に取り付けられた対 のグローブ 24を介して可動テーブル上にある焼結型等の組合せ体を手で下通電電 極の上面 544上にセットする。これで焼結型等の焼結機 50へのセットが完了する。
[0046] セットが完了した後、可動テーブル 272を手で前工程チャンバ 20内に戻すと共に、 ゲート弁 26を閉じ位置にし、焼結工程チャンバ 30を前工程チャンバ 20から遮断する 。その後焼結機の上ハウジン 533を降下させて上、下ハウジングを係合させて両ハウ ジングによって画定される真空チャンバ Cを焼結工程チャンバから隔絶すると共に駆 動装置 56を動作させて下通電電極 541を上昇させ、下通電電極 541の上面と上通 電電極 551の下面とでパンチ部材を挟む。その後真空チャンバ内を真空排気装置 7 0により真空状態 (例えば、 6 X 10"3Pa)にし、駆動装置で原料粉末加圧しながらそれ に直流パルス電流(例えば 1000Aな!、し 10000A)を流し、焼結を行う。
[0047] 焼結が完了したら、真空チャンバを解放した後ゲート弁 26を開いて搬送装置 27の 可動テーブルを焼結工程チャンバ内に移動させ、焼結型が冷却するのを待って、グ ローブを介して手で焼結型等の組合せ体を可動テーブルに移し、可動テーブルによ り前工程チャンバ内に移し、そこでハンドプレスを利用して焼結によりできた焼結体を 焼結型 aから取り外し、焼結体は材料装入チャンバを介して外に出される。
[0048] 上記実施形態のナノ精密焼結システムは、例えば試作品のような単品の焼結体を つくる場合に適しているが、原料装入チャンバ、前工程チャンバ及び焼結工程チャン バ内に、上記手作業によって行った作業を自動的に行える装置を併設及び Z又は 共用すると共にそれらの装置の動作を自動制御する制御装置設けることにより、試作 により決定した焼結体を量産することも可能である。この場合、原料粉末は、システム の外で予め調製されて密封容器内に入れられているものを使用するのが好ましい。
[0049] すなわち、原料装入チャンバには、原料粉末の密閉容器を前工程チャンバに送り 込める自動搬送装置を設け、前述の搬送装置 27の動作を自動化する。また、前ェ 程チャンバ 20内には原料粉末を収容するホッパ、ホッパ内の原料粉末を切り出し、 計量して供給する供給装置、供給装置により供給される所定量の原料粉末を受け取 つて焼結型内に充填する充填装置、所定量の原料粉末が充填された焼結型内に上 パンチ部材を装入するパンチ部材挿入装置、焼結型内の原料粉末を加圧するプレ ス装置を更に設けると共に、原料粉末の密閉容器を開封して原料粉末をホッパ内に 装入するロボット、焼結型を充填装置、パンチ部材挿入装置及びプレス装置間で転 送する転送ロボット等を設け、これらの動作を自動制御装置により自動制御可能にす る。更に、焼結工程チャンバ 30内には搬送装置 27により送られた焼結型及びパンチ 部材の組み合わせを焼結機の所定の位置にセットし、また焼結完了後にはそこから 焼結型及びパンチ部材の組み合わせを取り出すロボットも設けてその動作も自動制 御装置により自動制御可能にする。
[0050] 更に、上記実施例の説明ではハウジング 21、 31にグローブ組立体を設けた場合に ついて説明したが、前述の自動化装置のみをハウジング 21、 31内に設けてグローブ 組立体は省略し、焼結作業を完全に自動化してもよい。この場合は試作品としての 焼結体の製造は別の設備で行 、、量産可能なことが決定した場合に自動化装置に より焼結してちょい。
[0051] 以上の説明から明らかなように、焼結原料を外気、特に酸素にふれさせることなくナ ノオーダーの微細粉末 (粉末のサイズ自体がナノオーダーを有する粉末及び粉末の サイズはミクロンオーダーであってもその結晶構造がナノオーダーのサイズを有する 粉末)を作り、できた原料粉末を外気、特に酸素及び又は湿気に触れることなく焼結 型内へ充填し、原料粉末の充填された焼結型を酸素に触れさせることなく焼結機に セットでき、更に真空雰囲気での焼結を行えるので、酸素による酸化、塵、埃、吸着 水分等による汚染を完全に防止して焼結が可能になり、純度及び品質の高い、特に 粒子界面での反応性焼結を特徴とする SPS焼結ならではの精密なナノ構造焼結体 をつくることができる。 産業上の利用可能性
不純物を含まな 、極めて純度の高 、ナノ構造の焼結体を焼結可能であるから、様 々な金属系又はセラミック系のナノフェーズ材料、ナノコンポジット材料 (電子材料)の 研究開発、生産に利用することができる。

Claims

請求の範囲
[1] ナノサイズの原料粉末をパルス通電加圧焼結法により焼結して純度の高 、ナノサイ ズの粒子構造を有する焼結体を得るナノ精密焼結システムに 、ぉ 、て、
少なくとも一つの密閉式ノ、ウジングによって画定されていて所定の雰囲気に制御さ れ得る少なくとも一つの前工程チャンバと、
密閉式ハウジングによって画定されていて所定の雰囲気に制御され得る焼結工程 チャンバと、
前記前工程チャンバと前記焼結工程チャンバとを連通する通路に設けられていて 前記両チャンバ間の連通を選択的にかつ気密状態で阻止可能な遮断装置と、 真空雰囲気又は不活性ガス雰囲気下での前記焼結を可能にする真空チャンバを 有するパルス通電加圧焼結機と、
を備え、
前記真空チャンバが前記焼結工程チャンバ内にその焼結工程チャンバから隔離可 能に配置され、
前記前工程チャンバ内で、原料粉末の秤量、原料粉末の焼結型内への充填、焼 結型内への上パンチの挿入、焼結型内の原料粉末の加圧を実行可能であり、 前記原料粉末が充填された焼結型の焼結機への設置を、前記焼結工程チャンバ 内の所定の雰囲気下で外気に触れることなく行えることを特徴とするナノ精密焼結シ ステム。
[2] 請求項 1に記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程チャンバに隣接して 原料装入チャンバが外気に対して密閉可能にかつ前記前工程チャンバと選択的に かつ気密状態を保持して隔離可能に配置され、前記原料装入チャンバ内が所定の 雰囲気に制御可能になっているナノ精密焼結システム。
[3] 請求項 1に記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記真空チャンバが第 1の真空 排気装置に接続され、前記前工程チャンバ及び前記焼結工程チャンバの少なくとも 一方が前記第 1の真空排気装置とは別個の第 2の真空排気装置に接続されている ナノ精密焼結システム。
[4] 請求項 2に記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記真空チャンバが第 1の真空 排気装置に接続され、原料装入チャンバ及び前記焼結工程チャンバが前記第 1の 真空排気装置とは別個の第 2の真空排気装置に接続されているナノ精密焼結システ ム。
[5] 請求項 1ないし 4のいずれかに記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程 チャンバ内に、原料粉末を混合、粉砕するミルと、前記ミルにより調製された原料粉 末を秤量する秤量計と、焼結型内に充填された前記原料粉末を加圧するプレス装置 とを配置したナノ精密焼結システム。
[6] 請求項 1ないし 5の何れかに記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程チ ヤンバ内には、原料粉末が充填された焼結型を前記通路を通して焼結工程チャンバ 内に送る搬送装置が設けられて ヽるナノ精密焼結システム。
[7] 請求項 1ないし 6に記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程チャンバ、原 料装入チャンバ及び焼結工程チャンバが、それらのチャンバに不活性ガスを供給可 能で不活性ガス中の酸素濃度を lppm以下まで低下できるガス循環精製装置に接 続されて!、るナノ精密焼結システム。
[8] 請求項 1ないし 7に記載のナノ精密焼結システムにおいて、グローブ組立体を備え、 前記グローブ組立体が前記前記ハウジングの側壁に気密状態で固定された取付け 部材と、前記取付け部材に取り外し可能に取りつけられ、前記取付け部材と協働して 前記グローブの口部を挟んで保持する押さえ部材と、前記押さえ部材に取り外し可 能に装着可能な蓋とを備えるナノ精密焼結システム。
[9] 請求項 1ないし 8に記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程チャンバを画 定する密閉式ハウジングが少なくとも一対のグローブを備え、前記焼結工程チャンバ を画定する密閉式ハウジングが少なくとも一対のグローブを備え、前記前工程チャン バ内での原料粉末の秤量、原料粉末の焼結型内への充填、焼結型内への上パンチ の挿入、焼結型内の原料粉末の加圧を前記グローブを介して人手により実行可能で あり、前記原料粉末が充填された焼結型の焼結機への設置を前記焼結工程チャン バのグローブを介して人手により行えるナノ精密焼結システム。
[10] 請求項 1ないし 9のいずれかに記載のナノ精密焼結システムにおいて、前記前工程 チャンバ内には、前記原料粉末を収容するホツバ、前記ホッパ内の原料粉末の計量 、切り出しを行い供給する供給装置、前記供給装置により供給された所定量の原料 粉末を焼結型内に充填する充填装置、前記前工程チャンバ内に送られた密閉容器 を開封してその中の原料粉末を前記ホッパ内に装入する手段、並びに前記装置及 び手段の動作を自動制御する自動制御装置を備えるナノ精密焼結システム。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050195966A1 (en) * 2004-03-03 2005-09-08 Sigma Dynamics, Inc. Method and apparatus for optimizing the results produced by a prediction model
US8142619B2 (en) 2007-05-11 2012-03-27 Sdc Materials Inc. Shape of cone and air input annulus
US8575059B1 (en) 2007-10-15 2013-11-05 SDCmaterials, Inc. Method and system for forming plug and play metal compound catalysts
WO2009108913A2 (en) * 2008-02-28 2009-09-03 San Diego State University Current activated tip-based sintering (cats)
US8803025B2 (en) * 2009-12-15 2014-08-12 SDCmaterials, Inc. Non-plugging D.C. plasma gun
US8545652B1 (en) * 2009-12-15 2013-10-01 SDCmaterials, Inc. Impact resistant material
US8652992B2 (en) 2009-12-15 2014-02-18 SDCmaterials, Inc. Pinning and affixing nano-active material
US9126191B2 (en) 2009-12-15 2015-09-08 SDCmaterials, Inc. Advanced catalysts for automotive applications
US9090475B1 (en) 2009-12-15 2015-07-28 SDCmaterials, Inc. In situ oxide removal, dispersal and drying for silicon SiO2
US9149797B2 (en) 2009-12-15 2015-10-06 SDCmaterials, Inc. Catalyst production method and system
US8557727B2 (en) 2009-12-15 2013-10-15 SDCmaterials, Inc. Method of forming a catalyst with inhibited mobility of nano-active material
US8470112B1 (en) * 2009-12-15 2013-06-25 SDCmaterials, Inc. Workflow for novel composite materials
JP5459907B2 (ja) * 2010-01-27 2014-04-02 東京エレクトロン株式会社 基板載置装置の評価装置、及びその評価方法、並びにそれに用いる評価用基板
US8669202B2 (en) 2011-02-23 2014-03-11 SDCmaterials, Inc. Wet chemical and plasma methods of forming stable PtPd catalysts
US8679433B2 (en) 2011-08-19 2014-03-25 SDCmaterials, Inc. Coated substrates for use in catalysis and catalytic converters and methods of coating substrates with washcoat compositions
TWI496343B (zh) 2012-10-19 2015-08-11 Iner Aec Executive Yuan 固態氧化物燃料電池之處理方法及其裝置
US9511352B2 (en) 2012-11-21 2016-12-06 SDCmaterials, Inc. Three-way catalytic converter using nanoparticles
US9156025B2 (en) 2012-11-21 2015-10-13 SDCmaterials, Inc. Three-way catalytic converter using nanoparticles
WO2015013545A1 (en) 2013-07-25 2015-01-29 SDCmaterials, Inc. Washcoats and coated substrates for catalytic converters
WO2015061477A1 (en) 2013-10-22 2015-04-30 SDCmaterials, Inc. Catalyst design for heavy-duty diesel combustion engines
KR20160074574A (ko) 2013-10-22 2016-06-28 에스디씨머티리얼스, 인코포레이티드 희박 NOx 트랩의 조성물
CN110818418A (zh) * 2014-01-22 2020-02-21 日本轻金属株式会社 中子慢化剂
US9687811B2 (en) 2014-03-21 2017-06-27 SDCmaterials, Inc. Compositions for passive NOx adsorption (PNA) systems and methods of making and using same
GB201418595D0 (en) 2014-10-20 2014-12-03 Renishaw Plc Additive manufacturing apparatus and methods
JP6137154B2 (ja) * 2014-12-09 2017-05-31 株式会社シンターランド 放電プラズマ焼結方法及びその装置
RU2686785C1 (ru) 2015-07-21 2019-04-30 Ниппон Лайт Метал Компани, Лтд. Спеченный компакт фторида магния, способ изготовления спеченного компакта фторида магния, замедлитель нейтронов и способ изготовления замедлителя нейтронов
WO2018010774A1 (en) * 2016-07-12 2018-01-18 Hewlett-Packard Development Company L.P. Removable unit in an additive manufacturing system
CN106238732B (zh) * 2016-08-30 2019-08-02 浙江晨华科技有限公司 一种放电等离子烧结系统
CN107290131B (zh) * 2017-07-15 2019-05-10 山西建龙实业有限公司 一种评价烧结机台车边部效应的方法
EP3486070B8 (en) 2017-11-15 2023-04-12 Concept Laser GmbH Method for additively manufacturing of three-dimensional objects
CN108592624B (zh) * 2018-06-29 2024-04-19 昇力恒(宁夏)真空科技股份公司 高温真空烧结炉用内旋锁紧抽真空料罐
CN111036915B (zh) * 2019-12-26 2021-09-17 河海大学常州校区 一种有压纳米颗粒烧结装置
FR3124413B1 (fr) * 2021-06-28 2023-12-15 Addup Dispositif de fabrication additive avec une enceinte équipée de gants isolés thermiquement.
CN113446854A (zh) * 2021-06-30 2021-09-28 江苏凯达新材料科技有限公司 一种纳米陶瓷自动化烧结装备
CN115921882A (zh) * 2022-12-08 2023-04-07 中国科学院赣江创新研究院 一种用于热等静压包套的粉末后处理系统及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000345208A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Sumitomo Coal Mining Co Ltd 自動通電焼結方法及びそのシステム
JP2002105507A (ja) * 2000-09-28 2002-04-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd 通電加圧焼結装置
JP2002167607A (ja) * 2000-11-30 2002-06-11 Sumitomo Heavy Ind Ltd 通電加圧焼結装置
JP2003193112A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Sumitomo Coal Mining Co Ltd パルス通電加圧焼結方法、その焼結装置及び焼結体

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4325734A (en) * 1980-03-27 1982-04-20 Mcgraw-Edison Company Method and apparatus for forming compact bodies from conductive and non-conductive powders
JP2000297302A (ja) * 1999-02-12 2000-10-24 Kubota Corp 通電焼結方法及び通電焼結装置及び通電焼結用の型
CN2398038Y (zh) * 1999-11-03 2000-09-27 燕山大学 在真空及还原气氛条件下热压烧结动态密封装置
JP3786647B2 (ja) * 2003-02-12 2006-06-14 Spsシンテックス株式会社 パルス通電加圧焼結用のダイセット及びパルス通電加圧焼結システム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000345208A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Sumitomo Coal Mining Co Ltd 自動通電焼結方法及びそのシステム
JP2002105507A (ja) * 2000-09-28 2002-04-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd 通電加圧焼結装置
JP2002167607A (ja) * 2000-11-30 2002-06-11 Sumitomo Heavy Ind Ltd 通電加圧焼結装置
JP2003193112A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Sumitomo Coal Mining Co Ltd パルス通電加圧焼結方法、その焼結装置及び焼結体

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1839782A4 *

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