WO2006001187A1

WO2006001187A1 - ディスク状記録媒体、ディスク装置及び光ディスクの製造方法

Info

Publication number: WO2006001187A1
Application number: PCT/JP2005/010795
Authority: WO
Inventors: Ariyoshi Nakaoki; Masanobu Yamamoto; Kimihiro Saito
Original assignee: Sony Corporation
Priority date: 2004-06-28
Filing date: 2005-06-13
Publication date: 2006-01-05
Also published as: TWI291692B; JP2006012336A; CN1977317A; TW200614204A

Abstract

　本発明は、情報信号の書換えが可能な光ディスクであり、情報信号の書換えが可能な書換可能領域のトラックに各々トラッキング制御用の案内溝（８１ａ）が形成され、案内溝（８１ａ）が形成された基板上には、情報信号を書き込むための記録層（８３）が積層されている。この記録層（８３）は、少なくとも情報信号の書換可能な領域においてマルチビームの近接場光により情報信号の書換えが可能とされ、最表面には、案内溝（８１ａ）が形成されている位置に応じて凹部（８５ａ）が形成されている。

Description

ディスク状記録媒体、ディスク装置及び光ディスクの製造方法技術分野

[0001] 本発明は、近接場光を用いて光学的に情報信号の記録又は再生を行うディスク状記録媒体、このディスク状記録媒体に対し情報信号の記録又は再生を行うディスク装置に関し、さらには、情報記録媒体としての光ディスクの製造方法に関する。

本出願は、日本国において 2004年 6月 28日に出願された日本特許出願番号 200 4—190250を基礎として優先権を主張するものであり、この出願は参照することにより、本出願に援用される。

背景技術

[0002] 従来、磁気記録媒体や光記録媒体の高密度化、大容量化の研究が進められ、高密度化、大容量ィ匕を図った記録媒体が提供されている。この種の記録媒体のうち、光記録媒体においては、 DVD (Digital Versatile Disc)が提供され、さらに、 DVDの数倍以上の記録密度を有する次世代型の DVDの開発も進められている。一方、ハードディスク磁気記録装置 (HDD)の記録密度も年々増加して!/ヽる。

ところで、画像情報のデジタル化や高精細化、光通信の高速度化に伴い、さらなるストレージの大容量化、高密度化が求められており、 2010年には lTbits/ (inch) ²の記録密度の達成が期待されて、る。

ハードディスク磁気記録装置では、超常磁性効果や、磁気ヘッドのギャップ幅の制御の困難性から、 100〜300Gbpsiが限界といわれ、その限界を超えるものとして、光アシスト磁気記録が期待されて、る。

光記録媒体にぉ、ては、近接場光を利用した光記録が記録密度の高度化を図る上で期待されている。この近接場光とは、微小開口や微小物体の周囲において光の回折限界以下の領域内に存在する非伝播光である。他の物体を当該微小開口ゃ微小物体の回折限界以下の距離まで近接させると、近接場光は当該物体内へ伝播するとともに相互作用を誘起させる。このような近接場光を滲出させるためには、微小開口や微小物体のサイズをより微細化することにより実現することができる。また、この滲出させた近接場光を光記録媒体に照射することにより高密度の光記録を行うことが可能となる。この近接場光を用いた光記録においては、 DVD等と同様に単一光スポットを案内溝 (グループ: Groove)又は畝 (ランド: Land)に追従させて、情報の記録や再生を行う。

上述した近接場光を用、て光記録媒体上に情報を記録するためには、グループの形成されていない平滑な書換可能領域に対してこれを実行する必要があり、特に高密度に情報を記録するためには、力かる平滑な書換可能領域の面積を増加させる必要がある。

従来の光記録媒体にぉ、ては、光記録媒体上に記録される記録領域がグループに沿うように形成され、近接場光による光スポットに対して 1つの案内溝が対応するように構成されている。このため、記録密度を向上させるベく光記録媒体上に数多くの光スポットを形成させた場合には、形成した光スポットに応じた数のグループが必要となる。現実的にこのような数多くの光スポットに対応したグループをスパイラル状に細かヽピッチでカッティングするのは容易ではな、。

通常、光記録媒体上においてグループを 2本並列で形成させるためには、カツティング時も 2本のビームを使用し、又は高速カッティング用の光ビームをゥォブルさせることで、これを擬似的に実現する必要があるが、必要なグループが 3本、 4本と増えて V、くにつれて、作製の難易度が増すと!、う問題点がある。

力かる問題を解決すベぐこの近接場光を用いた光記録の高密度化と転送レートの向上を図った光記録媒体、記録再生装置等が、特開 2003— 272176号公報等において提案されている。この公報には、スイングアームに取り付けられた摺動若しくは浮上型のスライダによる制御方法が開示されている。かかる従来例においては、対物レンズが光記録媒体の面に倣って駆動されるため、独立して配置されている光軸に対して、力かる対物レンズが傾いたり位置がずれたりすることが予想される。特に、近接場光による記録再生を行う場合においては、光記録媒体の表面並びに近接場光の光スポットに対する対物レンズの位置が厳格に求められるため、より信頼性の高い記録再生処理を行う上で障壁になる場合も考えられる。

また、記録再生処理の一工程においては、光記録媒体の表面に凹部が形成されてしまう場合もある。このような凹部が形成されてしまうと、近接場光による記録再生処理を行う場合にぉ、てかえって障壁となってしまう。

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

本発明は、上述した問題点に鑑みて提案されたものであり、その目的とするところは、近接場光による記録再生可能なディスク状記録媒体において、情報信号の高密度な記録を行うことができることに加え、表面に形成された凹部を有効活用することにより、これに追従させた各種処理を実行することが可能なディスク状記録媒体を提供することにあり、また力かるディスク状記録媒体が挿入された場合に、情報信号の高密度な記録処理を安定して実行可能なディスク装置を提供することにある。

本発明は、情報信号の書換えが可能な書換可能領域のトラックに各々トラッキング制御用の案内溝が形成されたディスク状記録媒体において、案内溝が形成された基板上には、情報信号を書き込むための記録層が積層され、記録層は、少なくとも書換可能領域においてマルチビームの近接場光により情報信号の書換えが可能とされ、当該ディスク状記録媒体の最表面には、案内溝が形成されている位置に応じて凹部が形成されている。

また、本発明は、情報信号の書換えが可能な書換可能領域のトラックに各々トラッキング制御用の案内溝が形成されたディスク状記録媒体に対し情報の記録又は再生を行うディスク装置にぉヽて、情報信号としての近接場光をマルチビームで書換可能領域に滲出させるための 2軸ァクチユエータと、 2軸ァクチユエータを所望のトラック位置へ移動させるための駆動制御部とを有する制御部とを備え、制御部は、案内溝が形成された基板上に、少なくとも書換可能領域において情報信号を書き込むための記録層が積層され、さらに案内溝が形成されて、る位置に応じて最表面に凹部が形成されてヽるディスク状記録媒体が挿入された場合には、近接場光によるスポット列が凹部に応じて配列されるように駆動制御部を介して 2軸ァクチユエータを制御する。

本発明に係るディスク状記録媒体は、案内溝が形成された基板上に、情報信号を書き込むための記録層が積層され、この記録層は、少なくとも書換可能領域においてマルチビームの近接場光により情報信号の書換え可能とされ、最表面には、案内溝が形成されている位置に応じて表面に凹部を形成しているので、マルチビームの近接場光により情報信号の書換えを行う際に、近接場光の光スポットを複数形成させることにより高密度の記録処理を実現することができる。すなわち、近接場光を用いて再生、記録を行う場合にには、光ビーム^^光するレンズからディスク最表面の距離 (空気層）が信号の強度に影響を与える。このため、案内溝を凹状にし、保護膜をこのグループに沿った形で形成することにより空気層の厚さが厚くなり、案内溝の信号が得やすくなる。さらに、記録面を凸形状とし、案内溝を所定間隔としてマルチビーム用とすることにより、レンズより近い位置で記録部が広く形成されることになり、近接場形成しやすい記録面とすることができる。このため、本発明は、マルチビームを用い、近接場による情報の再生又は記録を行う光ディスクに適用して有用である。

本発明のさらに他の目的、本発明によって得られる具体的な利点は、以下において図面を参照して説明される実施に形態から一層明らかにされるであろう。

図面の簡単な説明

[図 1]図 1は、本発明を適用した光記録装置を示すブロック回路図である。

[図 2]図 2は、光記録装置が備えるレンズブロックを示す側面図である。

[図 3]図 3は、戻り光量とギャップ間距離との関係を示す特性図である。

[図 4]図 4は、本発明を適用した光記録装置により信号の記録が行われる光ディスクを示す部分断面図である。

[図 5]図 5は、本発明を適用した光記録装置に搭載されるレンズブロックにおいて、マルチビームの近接場光を信号記録面に対して滲出する例を示す断面図である。

[図 6]図 6は、レンズブロック力ゝらの近接場光により形成される光スポットを図 5中 D方向力示す図である。

[図 7]図 7は、案内溝を蛇行して形成した光ディスクを示す平面図である。

[図 8]図 8は、光スポットを光ディスク上に一度に 4つ形成した例を示す平面図である。

[図 9]図 9A〜図 9Gは光ディスクの製造工程を工程順に示す断面図であって、図 9A はガラス原盤の表面を研磨洗浄する状態を示し、図 9Bは洗浄したガラス原盤の表面にフォトレジストを塗布した状態を示し、図 9Cはグループ情報で変調したレーザ光をフォトレジスト上に照射し、グループパターンを記録した状態を示し、図 9Dはガラス原盤を現像処理した状態を示し、図 9Eはガラス原盤の表面にニッケルを蒸着し-ッケルメツキ層を形成した状態を示し、図 9Fはニッケルメツキ層により構成されたスタンパによりディスク基板を成形した状態を示し、図 9Gは記録層及び保護膜が形成された光ディスクを示す。

発明を実施するための最良の形態

以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら詳細に説明する。

まず、本発明を適用したディスク装置を説明する。光記録装置 1は、図 1に示すように、記録媒体として光ディスク 2を着脱可能とした装置であって、着脱可能とされた光ディスク 2を回転駆動させるスピンドルモータ 3と、光ディスク 2の信号記録面 2a上にレ一ザ光を照射するとともに、光ディスク 2の信号記録面力反射される戻り光を検出する光学ヘッド 4と、光学ヘッド 4により検出された戻り光に基づいてそれぞれ制御信号 Sを生成するギャップ制御部 6とを備えている。

スピンドルモータ 3には、光ディスク 2を装着するディスクテーブルが一体的に取り付けられる。スピンドルモータ 3は、図示しないシステムコントローラ力も供給されるスピンドル駆動信号に基づき、駆動軸を例えば、線速度一定 (CLV:Constant Linear Vel ocity)、又は角速度一定（CAV: Constant Angular Velocity)で回転駆動させことにより、ディスクテーブル上に装着された光ディスク 2を回転する。

光学ヘッド 4は、スピンドルモータ 3の駆動により回転操作される光ディスク 2の各記録層に光ビーム^^光し、光ディスク 2の信号記録面 2aにて反射された戻り光を検出して図示しない信号処理部へ出力する。この際、光学ヘッド 4は、回転操作される光ディスク 2の種類によって、その光ディスク 2に最適な波長のレーザ光を出射するように制御される。

また、ギャップ制御部 6は、光学ヘッド 4から送信されるギャップエラー信号 GEに基づいて制御信号 Sを生成し、これを光学ヘッド 4へ出力する。即ち、この制御信号 S により、光学ヘッド 4の備える対物レンズを光ディスク 2に近接離間する方向へ微調整することができる。

この光記録装置 1では、図示しないアクセス機構により、光学ヘッド 4を光ディスク 2 の径方向に送り操作し、さらに、光学ヘッド 4が光ディスク 2の所定の記録トラック上に位置するように移動制御する。

次に、本発明を適用した光記録装置 1に用いられる光学ヘッド 4を更に詳しく説明する。

この光学ヘッド 4は、図 1に示すように、マルチビームのレーザ光を出射可能な半導体レーザの駆動電流を制御する APC (Automatic Power Controller) 42と、各半導体レーザを支持するホルダ 43と、この半導体レーザから出射されたマルチビームのレ一ザ光の光路中に配されたビームスプリッタ 44と、このビームスプリッタ 44を透過したレーザ光を平行光とするコリメータレンズ 45と、このコリメータレンズ 45により平行光とされたレーザ光の光路中に配設されたミラー 46と、このミラー 46により反射されたレ一ザ光が入射する 1Z4波長板 47と、この 1Z4波長板 47を通過したレーザ光を光デイスク 2の信号記録面 2a上に集光するレンズブロック 38と、光ディスク 2の信号記録面 2aから反射して戻ってきた戻り光を集光する集光レンズ 55と、戻り光を受光する受光素子 56とを備えている。

ホルダ 43には、所定の波長力なるマルチビームのレーザ光を出射する半導体レ一ザ 71が取り付けられている。この半導体レーザ 71は、半導体の再結合発光を利用した発光素子である。この半導体レーザ 71は、レーザ光の出力が一定になるように A PC42により駆動電流が制御された上で、情報源 58から供給される情報信号に基づくレーザ光を出射する。

ビームスプリッタ 44は、半導体レーザ 71から出射されたレーザ光を透過させて光デイスク 2に導くとともに、光ディスク 2から反射して戻ってくる戻り光を反射して受光素子 56へと導く。このビームスプリッタ 44を透過した発散光であるレーザ光は、コリメータレンズ 45〖こより平行光とされ、 1Z4波長板 47を透過する。なお、ビームスプリッタ 44 は、半導体レーザ 71から出射されたレーザ光が偏光を有する場合に、偏光ビームスプリッタを用いることで、光ディスク 2から反射して戻ってくる戻り光が半導体レーザ 71 に戻ることを防止することができる。

ミラー 46は、ビームスプリッタ 44を透過したレーザ光を反射されることにより光路を折り曲げる。これにより、レーザ光は、光学ヘッド 4の下方に位置する光ディスク 2の信号記録面 2aに対して略垂直に照射されることになる。

1Z4波長板 47は、通過するレーザ光に π Ζ2の位相差を与えるものである。半導体レーザ 71から出射された直線偏光のレーザ光は、 1Z4波長板 47を通過して円偏光となる。また光ディスク 2を反射して戻ってくる円偏光のレーザ光は、この 1Z4波長板 47を通過した場合に、直線偏光となる。

レンズブロック 38は、ミラー 46を反射したレーザ光の光路中に配設されており、このレーザ光を集光して光ディスク 2の信号記録面 2a上に照射させる機能を有する。このレンズブロック 38は、自身が備える 2軸ァクチユエータによって、光ディスク 2に近接離間する方向及び光ディスク 2の径方向の 2軸方向に移動可能に支持されている。そして、このレンズブロック 38は、光ディスク 2からの戻り光により生成された制御信号 Sに基づいて、 2軸ァクチユエータにより移動動作され、フォーカシング制御が実現されること〖こなる。

光ディスク 2の信号記録面 2a上に集光された各レーザ光は、この信号記録面 2aで反射され、レンズブロック 38を通過することにより平行光となる。そして、光ディスク 2 力反射して戻ってくる戻り光は、 1Z4波長板 47を介してコリメータレンズ 45を通過することにより集束光とされ、ビームスプリッタ 44を反射する。

また、受光素子 56は、ビームスプリッタ 44を反射し、集光レンズ 55により集光されたレーザ光を受光して光電変換して後述するギャップエラー信号 GEを生成し、これをギャップ制御部 6へ供給する。ちなみに、この受光素子 56上においてマルチビームのレーザ光の光スポットに対応した数の検出パターンを作製しておくことにより、それぞれ独立した信号として取得することが可能となる。この受光素子 56に形成された検出パターンを最適化することにより、例えばプッシュプル法に基づ、て光スポットを読み取ることも可能となる。

次に、レンズブロックの詳細について更に詳しく説明する。レンズブロック 38は、ミラ一 46を反射したレーザ光の光路中に配設されており、図 2に示すように、対物レンズ 62と、 SIL (Solid Immersion Lens) 63と、レンズフォルダ 64と、 2軸ァクチユエータ 65 とを備えている。

対物レンズ 62は、レーザ光を集光して SIL63に供給する機能を有する非球面レンズである。 SIL63は、球形レンズの一部を平面にして切り取った形状をした高屈折率のレンズである。 SIL63は、信号記録面 2aに近接配置され、対物レンズ 62から供給されたレーザ光を球面側力入射し、球面と反対側の面 (端面）の中央部に集束させる。

なお、このレンズブロック 38では、上述した SIL63の代替として、反射ミラーが形成された SIM (Solid Immersion Mirror)を用いてもよい。

レンズフォルダ 64は、対物レンズ 62と、 SIL63とを所定の位置関係で保持している。 SIL63は、レンズフォルダ 64によって、球面側が対物レンズ 62と対向するように、また球面と反対側の面 (端面）が光ディスク 2の信号記録面 2aと対向するように保持される。

このように、レンズフォルダ 64によって対物レンズ 62と、信号記録面 2aとの間に高屈折率の SIL63を配置することで、対物レンズ 62のみの開口数よりも大きな開口数 NAを得ることができる。一般に、レンズから照射されるレーザ光のスポットサイズは、レンズの開口数 NAに反比例することから、対物レンズ 62、 SIL63によって、より微小なスポットサイズのレーザ光にすることができる。

2軸ァクチユエータ 65は、ギャップ制御部 6から制御信号 Sとして出力される制御電圧に応じてフォーカス方向にレンズフオノレダ 64を動作させる。

レンズブロック 38において定義されるエバネセント光は、 SIL63の端面に臨界角以上の角度で入射され全反射したレーザ光の反射境界面力も滲み出した光である。 SI L63の端面力光ディスク 2の信号記録面 2aから、後述する-ァフィールド (近接場）内にある場合に、 SIL63の端面より滲み出した上述のエバネセント光は、信号記録面 2aに照射されることになる。

続いて、ユアフィールドについて説明をする。一般に、ユアフィールドは、図 2に示すように SIL63の端面力ら、光ディスク 2における信号記録面 2aまでの距離（ギャップ )を(1としたとき、 SIL63に入射されたレーザ光の波長えによって d≤ λ Ζ2と定義される領域が-ァフィールドである。即ち、光ディスク 2の信号記録面 2aと、 SIL63の端面との距離で定義されるギャップ dが、 d≤ λ Ζ2を満たし、 SIL63の端面からエバネセント光が光ディスク 2の信号記録面 2aに滲み出す状態を-ァフィールド状態といい、ギャップ dが、 d> λ Ζ2を満たし、信号記録面 2a上にエバネセント光が滲み出さない状態をファーフィールド状態と、う。

ところで、ファーフィールド状態である場合、 SIL63の端面に臨界角以上の角度で入射されたレーザ光は、全て反射されて戻り光となる。したがって、図 3に示すようにファーフィールド状態での戻り光量は、一定値となっている。

一方、ユアフィールド状態である場合、 SIL63の端面に臨界角以上の角度で入射されたレーザ光の一部は、上述したように、 SIL63の端面つまり反射境界面において、エバネセント光として光ディスク 2の信号記録面 2aに滲み出す。したがって、図 3に示すように全反射されたレーザ光の戻り光量は、ファーフィールド状態のときょり減少することになる。また、この-ァフィールド状態における戻り光量は、 SIL63端面とディスク 2との距離に依存して減少する。

なお、ユアフィールド状態である場合において、戻り光量がギャップ長に対して線形に変化する線形領域と、非線形に変化する非線形領域とに分類することができる。したがって、 SIL63の端面の位置が-ァフィールド状態にあり、かつ線形領域に属する場合には、戻り光量を受光素子 56により受光して光電変換してギャップエラー信号 G Eを生成し、これに基づきフィードバックサーボを行うことにより、ギャップを一定に制御することが可能となる。即ち、図 3に示すように戻り光量が制御目標値 Pになるように制御を行えば、ギャップ dを一定の距離に保持することが可能となる。

ちなみに、このレンズフォルダを構成する対物レンズ 62、 SIL63の組み合わせにより、 NA= 1. 83の高 NA状態を形成している力力かる場合に限定されるものではなぐ NAが 1. 0以上であれば、近接場光を滲出させることが可能となる。

上述した構成力もなるレンズブロック 38におけるギャップ dを λ Ζ2以下となるまで信号記録面 2aへ近接させることから、この案内溝の代替として畝 (ランド： Land)を設けると走査時にこれに衝突する可能性もあることから、案内溝を凹状にすることで、本発明の効果がより顕著になる。

このように、本発明を適用した光記録装置 1では、 2軸ァクチユエータ 65を用いることによりフォーカス制御を行うことができるため、光スポットに対する対物レンズの位置が厳格に求められる近接場光による記録再生において、より信頼性の高い処理を実現することが可能となる。

次に、本発明を適用した光記録装置 1により情報信号を記録する光ディスク 2の詳細な構成につき説明をする。

この光ディスク 2は、より簡略に示すと例えば図 4に示すように、案内溝 81aが形成された基板 81上に、少なくとも記録層 83が積層されてなる。

基板 81は、例えばポリカーボネートからなる。この基板 81に形成された案内溝 81a は、例えば電子線等を用いて露光することにより容易にナノメータサイズの幅となるようにカッティングすることが可能となる。即ち、この基板 81は現状のマスタリング装置を用いて容易に作製することができる。

また、記録層 83は、 GeSbTe等の材料カゝらなる相変化記録膜で構成され、またこれを光磁気記録膜で構成する場合には、例えば TbFeCo等の材料力もなる。

この光ディスク 2の最表面には、案内溝 81aが形成されている位置に応じて微小な凹部 85aがさらに形成されている。特に光ディスク 2の最表面に至るまでの層をダイヤモンド状カーボン（DLC : Diamond Like Carbon)膜等のような固形かつ無機系の膜や紫外線硬化榭脂を用いることにより、レジスト等を使用する場合と比較して凹部 85aを効率的〖こ形成させることができる。

なお、近接場光を用いて高密度の光記録を行う場合には、この凹部 85aの領域を極力少なくすることにより、平坦な部分の面積を増カロさせることが望ましいが、マルチビームを利用する光記録装置 1では、形成させる光スポットの数に対する案内溝 81a の割合を極力減らすことができる点において有利となり、記録密度を高めることも可能となる。

ちなみに、この凹部 85aのサイズは、例えば深さが 30nmであり、幅が約 80nmで構成される力力かるサイズに限定されるものではない。

即ち、本発明を適用した光記録装置 1では、最表面に凹部 85aが形成された光ディスク 2に対して近接場光の光スポットを形成させることにより記録処理を実現することができることに加え、力かる凹部 85aに追従させた各種動作を実行させることができる。この凹部 85aを利用したガイドトラックの信号の取得をも実現することができる。特に、この凹部 85aの位置は、上述した案内溝 81aの位置に応じて形成させることでかかるメリットが出てくる。

このような構成カゝらなる光ディスク 2に対して、光記録装置 1により、近接場光をマルチビームで照射する場合につき説明をする。

図 5は、上述した構成力もなるレンズブロック 38において、マルチビームの近接場光を信号記録面 2aに対して滲出させる例を示している。マルチビームのレーザ光のうち実線で示される第 1のレーザ光 L1に基づく近接場光は、信号記録面 2aにおける点 Pへ照射されることになる。またこのマルチビームのレーザ光のうち点線で示される第 2のレーザ光 L2に基づく近接場光は、信号記録面 2aにおける点 qへ照射される。図 6は、レンズブロック力ゝらの近接場光により形成される光スポット Spを図 5中 D方向力も示している。マルチビームの各光スポット Spは、図 6に示すように、光ディスク 2のディスク進行方向 Aに対して垂直な案内溝 81aを挟むようにして一列に配置される。この光スポット Spの中心 Pを結ぶ直線の案内溝 81aに対する角度 φはいかなる値であってもよい。力かる場合には角度 φを予め識別しておくことにより、各光スポット Sp の距離を取得することが可能となり、後段の信号処理における有利性を確保することができる。

この図 6において、マルチビームの各光スポット Sp間の、光ディスク 2の径方向 Bにおける距離を dとした場合に、この案内溝 81aの幅を d以下とすることにより、トラツキング情報を両光スポット Spに基づく光量の変化力検出することが可能となり、例えばプッシュプル信号を検出することによりかかるトラッキング情報を得ることも可能となるちなみに、この案内溝 81aは、図 7に示すように蛇行されて形成されていてもよい。即ち、クロックやアドレス等の情報に基づいて案内溝 81aを蛇行させることにより、力力る案内溝 81aを跨ぐようにして形成された 2つの光スポット Spからなる光スポット列 S Lにより、信号検出することも可能となる。即ち、この 2つの光スポット Spにより戻り光の案内溝 81aとのズレ分を算出し、それを誤差信号として 2軸ァクチユエータ 65に与えることにより上述の如きトラッキングが実現される。

このようにして案内溝 81aに光スポット Spを追従させることにより、例えば螺旋状に案内溝 81aが描かれている場合には、光ディスク 2を 1周させた後には、図 6、図 7に実線で示される位置から点線で示される位置まで光スポット列 SLが移動することになる。

なお、この案内溝 81a間のピッチは、 n個の光スポットからなる光スポット列を形成させる場合において、 n X dとなるように制御してもよい。これにより、形成させる光スポット Spの中心 Pを結ぶ直線が仮に案内溝 81 aに対して垂直方向となる場合であつても、光スポット Spの照射位置が互いに重なり合うことがなくなり、光ディスク 2への記録再生処理を効率よく行うことが可能となる。

また、光スポット Spを光ディスク 2上に一度に 4つ形成させる例を図 8に示す。この図 8に示されるように、案内溝 81aを挟むようにして両側に 2つずつ光スポット Spが形成されている。案内溝 81aが螺旋状に描かれている場合には、光ディスク 2を 1周させた後には、図 8に示す実線で示される位置カゝら点線で示される位置まで光スポット Spが移動することになる。なお、案内溝 81aの両側に形成される光スポット Spの数は 1 : 1 の比になるのが望ましいが、これに限定されるものではなぐいかなる比で構成されていてもよい。例えば、案内溝 81aの一端側に 1つの光スポット Spが、他端側には 3つの光スポット Spが 1 : 3の比で構成されていてもよい。また、光スポット Spは、案内溝 8 laに応じて形成されているものであれば、案内溝 81aの一端側のみに 4つ並べる構成であってもよい。さらに、この光スポット Spの数は複数であればいかなるものであつてもよい。

光スポット Spを光ディスク 2上に一度に 4つ形成させる場合も同様に n X dの式力 4 d、即ち 4つ分のスポット間隔以上に案内溝 81aの間隔を制御することにより、光スポット Spの照射位置が互いに重なり合うことがなくなり、光ディスク 2への記録再生処理を効率よく行うことが可能となる。

次に、本発明を適用した記録用の光ディスクの製造工程を説明する。

本発明が適用される光ディスク 2を製造するには、図 9Aに示すように、ガラス原盤 1 01を用意し、このガラス原盤 101の表面を研磨洗浄する。次いで、図 9Bに示すように、洗浄したガラス原盤 101の表面にフォトレジスト 102を塗布する。次いで、図 9C に示すように、グループ情報で変調したレーザ光 103を対物レンズ 104により集光してフォトレジスト 102上に照射し、グループパターンを記録する。この場合に、フオトレジスト 102に照射するレーザ光としては、近接場光を用いることも可能である。

上述したようにグループパターンを露光記録した後、図 9Dに示すように、ガラス原盤 101を現像処理する。このとき、例えば、レーザ光が照射された部分のフォトレジスト 102のみが現像液により溶解される。この結果、ガラス原盤 101上には、記録面に形成されるパターンに対応するパターンが形成される。

次に、図 9Eに示すように、現像を行って表面にパターンが形成されたガラス原盤 1 01の表面に、ニッケルを蒸着し、ニッケルメツキ層 117を形成する。その後、この-ッケルメツキ層 117をガラス原盤 101から引き離すことで、ガラス原盤 101上に形成された凹凸パターンがニッケルメツキ層 117に転写される。凹凸パターンが転写された- ッケルメツキ層 117は、光ディスクを構成するディスク基板を成形するためのスタンパとして用いられる。

ニッケルメツキ層 117により構成されたスタンパ 127を、例えば射出成形用の金型装置に装着し、この金型装置を用いて合成樹脂材料を成形する。合成榭材料が成形されると、図 9Fに示すように、スタンパ 127の表面に形成された凹凸パターンであるグループパターン 112aが転写されたディスク基板 112が形成される。

このディスク基板 112のグループパターン 112aが形成された面上に記録膜 105を形成し、さら〖こ、記録膜 105を覆って透明な保護膜 106を被着形成することによって、図 9Gに示すような記録用の光ディスク 107が形成される。

この光ディスク 107において、記録層 105は、光ビームの照射によって情報信号の記録を可能とし、又は情報信号の書換えを可能とする材料を用いて形成される。例えば、記録層 105は、 GeSbTe等の材料カゝらなる相変化記録膜より構成され、又は T bFeCo等の材料力もなる光磁気記録膜により構成される。

また、ここで、保護膜 106は、ダイヤモンド状カーボン（DLC : Diamond Like Carbon) 膜等のような固形かつ無機系の膜により形成することが望ましい。また、保護膜 106 は、紫外線硬化榭脂により形成したものであってもよ、。

なお、本発明を適用した光記録装置 1では、ユアフィールドと、ファーフィールドの 2 つのモードに基づいて信号を記録することができる例について説明をした力かかる場合に限定されるものではなぐニァフィールドのみのモードに基づいて近接場光により信号を記録できる装置に適用してもよい。また、本発明を適用した光記録装置 1 により、光ディスク 2に記録されている信号を再生できる構成を採用してもよいことは勿論である。

なお、本発明は、図面を参照して説明した上述の実施例に限定されるものではなく

、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなぐ様々な変更、置換又はその同等のものを行うことができることは当業者にとって明らかである。

Claims

請求の範囲

[1] 1.情報信号の書換えが可能な書換可能領域のトラックに各々トラッキング制御用の案内溝が形成されたディスク状記録媒体にぉヽて、

上記案内溝が形成された基板上には、上記情報信号を書き込むための記録層が積層され、

上記記録層は、少なくとも書換可能領域にぉ、てマルチビームの近接場光により上記情報信号の書換えが可能とされ、

当該ディスク状記録媒体の最表面には、上記案内溝が形成されて、る位置に応じて凹部が形成されていることを特徴とするディスク状記録媒体。

[2] 2.上記案内溝は、上記マルチビームの近接場光のスポット間隔 d以下の幅で構成され、上記スポットの数 nとしたとき d X n以上のピッチで構成されてなることを特徴とする請求の範囲第 1項記載のディスク状記録媒体。

[3] 3.当該ディスク状記録媒体の最表面に至るまでの層は、ダイヤモンド状カーボン (D

LC;Diamond Like Carbon)膜で構成されていることを特徴とする請求の範囲第 1項記載のディスク状記録媒体。

[4] 4.上記案内溝は、蛇行させて形成されてなることを特徴とする請求の範囲第 1項記載のディスク状記録媒体。

[5] 5.情報信号の書換えが可能な書換可能領域のトラックに各々トラッキング制御用の案内溝が形成されたディスク状記録媒体につき記録 Z再生処理するディスク装置において、

上記情報信号としての近接場光をマルチビームで上記書換可能領域に滲出させるための 2軸ァクチユエータと、当該 2軸ァクチユエータを所望のトラック位置へ移動させるための駆動制御部とを有する制御手段とを備え、

上記制御手段は、上記案内溝が形成された基板上に、少なくとも書換可能領域において上記情報信号を書き込むための記録層が積層され、さらに上記案内溝が形成されて!/ヽる位置に応じて最表面に凹部が形成されて!ヽるディスク状記録媒体が挿入された場合には、上記近接場光によるスポット列が上記凹部に応じて配列されるように、上記駆動制御部を介して上記 2軸ァクチユエータを制御することを特徴とするデイスク装置。

[6] 6.上記制御手段における 2軸ァクチユエータは、供給された光を集光させるとともに上記近接場光を滲出させるための対物レンズを備え、上記対物レンズの開ロスイツチ NAは、 1.0以上であることを特徴とする請求の範囲第 5項記載のディスク装置。

[7] 7.近接場光を用いたマルチビームによる書換可能な領域を有する光ディスクの製造方法において、

上記書換可能な領域に形成されるトラックに各々トラッキング制御用の案内溝を基板上に形成し、

上記案内溝が形成された上記基板上に、少なくとも書換可能な領域においてマルチビームの近接場光により情報信号を記録するための記録層を形成し、

上記基板の表面には、上記案内溝が形成されて、る位置に応じて凹部を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。