WO2004114729A1 - プラズマ発生電極及びプラズマ発生装置、並びに排気ガス浄化装置 - Google Patents

プラズマ発生電極及びプラズマ発生装置、並びに排気ガス浄化装置 Download PDF

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WO2004114729A1
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ceramic body
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Masanobu Miki
Kenji Dosaka
Yukio Miyairi
Yasumasa Fujioka
Masaaki Masuda
Tatsuhiko Hatano
Takeshi Sakuma
Yuuichiro Imanishi
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Ngk Insulators, Ltd.
Honda Motor Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a plasma generation electrode, a plasma generation device, and an exhaust gas purification device.
  • the present invention relates to a plasma generating electrode, a plasma generating device, and an exhaust gas purifying device. More specifically, the present invention relates to a plasma generation electrode and a plasma generation device capable of simultaneously generating plasma in different states. Further, the present invention relates to an exhaust gas purifying device capable of purifying exhaust gas satisfactorily.
  • Silent discharge is generated by placing a dielectric between two electrodes and applying a high-voltage alternating current or a periodic pulse voltage, and active species, radicals, and ions are generated in the resulting plasma field. It is known that it promotes the reaction and decomposition of gases, which can be used to remove harmful components contained in engine exhaust gas and various incinerator exhaust gases.
  • the plasma is intended to process a predetermined substance.
  • the generation electrode cannot process other substances, and when processing exhaust gas containing a plurality of substances, there is a problem that a plurality of plasma generation electrodes are required.
  • high-intensity plasma must be generated, resulting in a problem of increased power consumption.
  • the NO reduction catalyst used in exhaust gas purification equipment such as SCR that further processes the gas that has passed through the plasma generation electrode converts nitrogen dioxide (NO) into oxygen using the fuel (hydrocarbon) contained in the exhaust gas. Hydrocarbons are oxidized by high-intensity plasma. The Utame, the ability of vo chi reduction catalyst is lowered.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a plasma generating electrode and a plasma generating apparatus capable of simultaneously generating plasma in different states. Further, the present invention provides an exhaust gas purifying apparatus which includes the above-described plasma generating device and a catalyst and is capable of purifying exhaust gas satisfactorily.
  • the present invention provides the following plasma generating electrode, plasma generating device, and exhaust gas purifying device.
  • a plasma generating electrode that includes at least a pair of electrodes disposed to face each other and is capable of generating plasma by applying a voltage between the electrodes, wherein at least one of the pair of electrodes is provided.
  • One section is a plate-shaped ceramic body serving as a dielectric, and a cross section cut in a plane perpendicular to the film thickness direction and penetrated in the film thickness direction and provided in the ceramic body without overlapping each other.
  • a plurality of conductive films in which a plurality of through-holes having a shape including a circular arc partially form a predetermined arrangement pattern, wherein at least one of the through-holes formed in the at least one conductive film is formed.
  • the arrangement pattern is configured to be different from the arrangement pattern of the through holes formed in the other conductive films, and by applying a voltage between the pair of electrodes, the different through holes of the conductive film are different.
  • a plasma generation electrode (hereinafter, referred to as a plasma generation electrode) that can simultaneously generate plasma in different states according to the array pattern
  • a plasma generating electrode including at least a pair of electrodes arranged opposite to each other and capable of generating a plasma by applying a voltage between the electrodes, wherein at least one of the pair of electrodes is One has a plate-shaped ceramic body serving as a dielectric, and a cross-sectional shape cut in a plane provided inside the ceramic body and perpendicular to the film thickness direction and penetrated in the film thickness direction.
  • a plasma generating electrode (hereinafter, may be referred to as a "second invention") capable of simultaneously generating plasma in different states according to the arrangement pattern of the through holes having different conductive films.
  • the cross-sectional shape of the through hole cut along a plane perpendicular to the film thickness direction is circular.
  • [5] At least one kind selected from the group consisting of S, tungsten, molybdenum, manganese, chromium, titanium, dinoreconium, nickel, iron, silver, copper, platinum, and palladium.
  • the conductive film is screen-printed, calendered, sprayed on the ceramic body
  • the plasma generation electrode according to any one of [1] to [5], wherein the plasma generation electrode is disposed by chemical vapor deposition or physical vapor deposition.
  • a plasma generating apparatus including the plasma generating electrode according to any one of [1] to [6] (hereinafter, may be referred to as a "third invention").
  • An exhaust gas purifying apparatus comprising: the plasma generator according to the above [7]; and a catalyst, wherein the plasma generator and the catalyst are disposed inside an exhaust system of an internal combustion engine.
  • a fourth invention it may be referred to as a "fourth invention.”
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing one embodiment of a plasma generating electrode of the present invention (first invention).
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing an example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention). is there
  • FIG. 3 is a perspective view schematically showing another embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention).
  • FIG. 4 is a plan view schematically showing another example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention). It is a figure.
  • FIG. 5 is a plan view schematically showing another example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention). It is a figure.
  • FIG. 6 is a plan view schematically showing another example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention). It is a figure.
  • FIG. 7 is a plan view schematically showing another example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention). It is a figure.
  • FIG. 8 is a plan view schematically showing another example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (first invention). It is a figure.
  • FIG. 9 is a perspective view schematically showing one embodiment of a plasma generating electrode of the present invention (second invention).
  • FIG. 10 is a plan view schematically showing an example of a ceramic body and a conductive film constituting one electrode in one embodiment of the plasma generating electrode of the present invention (second invention). It is a figure.
  • FIG. 11 (a) is a cross-sectional view of one embodiment of a plasma generator according to the present invention (third invention) cut along a plane including a flow direction of a fluid to be processed.
  • FIG. 11 (b) is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 11 (a).
  • FIG. 12 is an explanatory view schematically showing one embodiment of the exhaust gas purifying apparatus of the present invention (fourth invention).
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing one embodiment of a plasma generating electrode of the present invention (first invention), and FIG. 2 is a diagram showing a ceramic constituting one of the plasma generating electrodes.
  • FIG. 3 is a plan view schematically showing a body and a conductive film.
  • the plasma generating electrode 1 of the present embodiment includes at least a pair of electrodes 5 that are opposed to each other, and can generate plasma by applying a voltage between the electrodes.
  • a plasma generating electrode 1 in which at least one electrode 5a of a pair of electrodes 5 is a plate-shaped ceramic serving as a dielectric.
  • 4 has a plurality of conductive films 3 formed so as to have a predetermined arrangement pattern, and the arrangement pattern of the through holes 4a formed in at least one conductive film 3a is different from that of another conductive film 3b.
  • the arrangement pattern of the formed through-holes 4b is different from that of the formed through-holes 4b.
  • the configuration of the other electrode 5b is not particularly limited. As shown in FIG. 1, a conventionally known metal electrode may be used, but as shown in FIG. It is preferable that the other electrode 5b constituting the generating electrode 1 has a plurality of conductive films in which through holes of different arrangement patterns are formed, similarly to the one electrode 5a. In the case of such a configuration, it is preferable that one electrode 5a and the other electrode 5b are formed so that the connection component force for supplying current to each of them is opposite to each other. Masire,
  • the plasma generating electrode 1 shown in FIG. 1 a state is shown in which two electrodes 5 are arranged to face each other, but the number of electrodes 5 is not limited to this. Although omitted, three or more electrodes may be arranged so as to face each other in parallel, and adjacent mutual electrodes may be configured as a pair of electrodes, respectively.
  • the portion may have a shape including an arc, for example, an elliptical shape, a shape in which vertices of a polygon are rounded in an arc shape, or the like.
  • Plasma generating electrode 1 of the present embodiment has a plate-shaped ceramic body 2 serving as a dielectric, and a plurality of conductive films 3 arranged inside ceramic body 2 without overlapping each other. This is a barrier discharge electrode 5.
  • the plasma generation electrode 1 is, for example, an exhaust gas processing device or a purification device that processes a fluid to be processed such as an exhaust gas into plasma generated between the pair of electrodes 5, or oxygen contained in air or the like. It can be suitably used for an ozonizer which purifies ozone by reacting.
  • the through-holes 4 constituting the respective arrangement patterns have a shape partially including an arc. This allows the through-holes 4 to serve as a starting point of the discharge to generate a discharge evenly on the outer periphery of the through-holes 4, and also allows the plurality of through-holes 4 to form the entire conductive film 3 in a predetermined arrangement pattern. As a result, the electrode 5 can generate a stable and uniform plasma as a whole.
  • the shape of the through hole 4 is a polygon or the like formed by a circle, discharge concentrates on a portion corresponding to the vertex of the polygon, and uniform plasma cannot be generated.
  • the arrangement pattern of the through holes 4a formed in one conductive film 3a different from the arrangement pattern of the through holes 4b formed in the other conductive film 3b, one conductive film 3a and another conductive film 3a are formed. It is possible to make the capacitance different from that of the film 3b. Since the capacitances are different, discharges in different states occur in the conductive films 3a and 3b, respectively, and as a result, plasma in different states can be generated.
  • the difference in the arrangement pattern in each conductive film 3 may mean that the perimeter of the through hole 4 per unit area of each conductive film 3 may be different, which may cause the discharge in each conductive film 3 to be different. Also.
  • the arrangement pattern of through holes 4 formed in each conductive film 3 is configured to generate plasma having a predetermined intensity.
  • the strength of the plasma generated between the electrodes 5 is determined by the material and capacitance of the conductive film 3, the voltage applied to the electrode 5, the distance between the electrodes 5a and 5b, and the like. By making the capacitance different depending on the arrangement pattern of the through holes 4, the intensity of plasma generated on each conductive film 3 can be adjusted.
  • At least one conductive film 3a may be mainly composed of a metal different from other conductive films 3b.
  • the capacitance of one conductive film 3a and the other conductive film 3b can be adjusted from the viewpoint of the material, and the conductive films 3a and 3b have a desired strength. Easy to generate plasma
  • one conductive film 3a and another conductive film 3b may be supplied with electricity from the same power supply, or may be supplied with different power supplies. Electricity may be supplied from this.
  • one electrode 5a has two conductive films 3a and 3b, and the through holes 4a and 4b having different diameters are formed so as to have different intervals.
  • the arrangement pattern of the through-holes 4a and 4b is not limited to this. For example, as shown in FIG. 4, the diameters of the through-holes 4a and 4b are the same, and the distance between them is changed. Thus, the arrangement pattern may be different.
  • each of the conductive films 3a and 3b and the number of the conductive films 3a and 3b are not limited.
  • the through holes 4c, 4d, and 4e may be formed in 3d and 3e in a predetermined arrangement pattern.
  • the plasma generating electrode 1 of the present embodiment since plasma in different states can be simultaneously generated between the pair of electrodes 5, for example, an internal combustion engine such as an automobile engine is used.
  • an internal combustion engine such as an automobile engine is used.
  • soot is oxidized by plasma generated by one conductive film 3a, and nitrogen monoxide (NO) is oxidized by plasma generated by another conductive film 3b. It can be processed.
  • NO nitrogen monoxide
  • a plasma generating electrode provided with one electrode 5a shown in FIG. 2 and FIG. 4 is used in an exhaust gas treatment device and the exhaust gas is passed in the direction of arrow A, the two conductive films 3a, The plasma in different states generated in 3b can be continuously passed, and a plurality of substances contained in the exhaust gas can be effectively treated.
  • the electrode 5a shown in FIGS. 5 to 8 is particularly configured to be suitably used for treating exhaust gas containing soot.
  • the conductive film 3d is oxidized so that soot can be effectively oxidized.
  • a strong plasma is generated, while a plasma having a low oxidizing power is generated in the conductive film 3e to oxidize relatively easily oxidizable substances such as NO and C ⁇ other than soot.
  • the exhaust gas is passed through the electrode 5a in the direction indicated by the arrow A, first, a relatively large amount of soot is attracted to the material to be treated by the plasma generated by the conductive film 3c. Thus, a soot bias is formed in the flow of the exhaust gas.
  • the soot is collectively oxidized with the plasma generated in the conductive film 3d, and Outside NO and CO are oxidized by plasma generated in either the conductive film 3d or the conductive film 3e.
  • this configuration it is possible to form a region composed of only plasma with weak oxidizing power between the pair of electrodes 5 (see FIG. 1) in a direction parallel to the flow direction of the exhaust gas. Therefore, it is possible to discharge the fuel (hydrocarbon) contained in the exhaust gas in a state where it is not completely oxidized, that is, in a state where the hydrocarbon is converted into aldehyde or the like. Therefore, when exhaust gas treatment is performed using an N ⁇ reduction catalyst or the like, the efficiency can be improved.
  • a plasma generating electrode provided with the electrode 5a shown in FIGS. 7 and 8 When a plasma generating electrode provided with the electrode 5a shown in FIGS. 7 and 8 is used, first, for example, a swirling flow is generated in the exhaust gas before the plasma is passed, and centrifugal force is applied to the exhaust gas. This creates a soot bias in the exhaust gas stream. Then, a plasma having a strong oxidizing power is generated in a region through which the exhaust gas in which the soot is biased, that is, the conductive film 3c is generated, and a plasma having a weak oxidizing power is generated in the other region, that is, the conductive film 3d.
  • the same operation and effect as in the case of using the electrode 5a shown in FIGS. 5 and 6 can be obtained.
  • the conductive film 3 used in the present embodiment preferably has a thickness equivalent to 0.1 to 10% of the thickness of the ceramic body 2. With this configuration, a uniform discharge can be generated on the surface of the ceramic body 2 serving as a dielectric.
  • the specific thickness of the conductive film 3 is 5-50 ⁇ for reasons such as miniaturization of the plasma generating electrode 1 and reduction of the resistance of the fluid to be processed such as exhaust gas passing between the pair of electrodes 5. It is preferred that it is about. If the thickness of the conductive film 3 is less than 5 ⁇ m, the reliability may be poor when the conductive film 3 is formed by printing or the like, and the resistance of the formed conductive film 3 may be high. Therefore, the efficiency of plasma generation may be reduced. If the thickness of the conductive film 3 exceeds 50 xm, the resistance of the conductive film 3 decreases, but it affects the unevenness of the surface of the ceramic body 2 and the surface must be processed so that the surface is flat. There is.
  • conductive film 3 forming one electrode 5a is provided inside ceramic body 2 so that the distance from both surfaces of ceramic body 2 is substantially equal.
  • conductive film 3 forming one electrode 5a is provided inside ceramic body 2 so that the distance from both surfaces of ceramic body 2 is substantially equal.
  • plasma of the same intensity is generated between the P-contact electrodes. Can be generated. If the ceramic bodies 2 are arranged so that their distances from both surfaces are different, the capacitance of one electrode 5a on each surface changes, and the discharge characteristics on each surface may be different.
  • the conductive film 3 used in the present embodiment preferably contains a metal having excellent conductivity as a main component.
  • the main components of the conductive film 3 include tungsten, molybdenum, and manganese.
  • Preferable examples include at least one metal selected from the group consisting of chromium, titanium, zirconium, nickel, iron, silver, copper, platinum, and palladium.
  • the main component means a component that accounts for 60% by mass or more of the component.
  • the conductive film 3 contains two or more metals from the above-described groups as main components, the conductive film 3 accounts for 60% by mass or more of the total force component of those metals.
  • a method of disposing the conductive film 3 inside the ceramic body 2 for example, a method of burying and disposing the conductive film 3 such as a metal plate or a metal foil in a pressed compact formed by powder press molding is provided. And the like.
  • the above-described metal is mainly used so that the distance (distance in the thickness direction) of the pressed body from each other surface is equal.
  • a metal plate or metal foil as a component is provided. Since the deposited metal foil or the like may be deformed or cut due to shrinkage of the ceramics during firing, firing is preferably performed so as to suppress mass transfer in a planar direction. With this configuration, it is possible to perform sintering by applying a pressing pressure in the thickness direction of the press-formed body.
  • the conductive film 3 may be provided by being applied to the ceramic body 2.
  • the specific coating method include, for example, screen printing, calendar roll, dip coating, chemical vapor deposition, physical vapor deposition, and the like. According to such a method, it is possible to easily form the thin conductive film 3 having excellent smoothness of the surface after coating.
  • chemical vapor deposition and physical vapor deposition may be somewhat expensive, but a thinner conductive film can be easily arranged, and a smaller diameter, and A through hole having a smaller distance between adjacent centers can be easily formed.
  • a conductive paste is formed by mixing a metal powder mentioned as a main component of the conductive film 3, an organic binder, and a solvent such as terpineol. Then, it can be formed by coating the ceramic body 2 by the method described above. Further, an additive may be added to the above-mentioned conductor base as needed to improve the adhesion to the ceramic body 2 and the sinterability.
  • the ceramic body 2 By adding the same component as the ceramic body 2 to the metal component of the conductive film 3, it becomes possible to improve the adhesion between the conductive film 3 and the ceramic body 2. Further, a glass component can be added to the ceramic component added to the metal component. By adding the glass component, the sinterability of the conductive film 3 is improved, and the denseness is improved in addition to the adhesion.
  • the total of the components and / or glass components of the ceramic body 2 other than the metal components is preferably 30% by mass or less. If it exceeds 30% by mass, the resistance value may decrease, and the function as the conductive film 3 may not be obtained.
  • the ceramic body 2 in the present embodiment has a function as a dielectric as described above, and is used in a state where the conductive film 3 is sandwiched between the ceramic bodies 2 so that the conductive body (3) Compared to the case of performing discharge alone, biased discharge such as spark is reduced, and small discharge can be generated at a plurality of locations. Such a plurality of small discharges can reduce power consumption because a smaller amount of current flows compared to a discharge such as a spark, and further, a current flowing between the electrodes 5 due to the presence of the dielectric. Is limited, and it is possible to generate non-thermal plasma with low energy consumption without temperature rise.
  • the ceramic body 2 used in the present embodiment preferably contains a material having a high dielectric constant as a main component, for example, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, titanium-barium oxide, magnesium.
  • a material having a high dielectric constant for example, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, titanium-barium oxide, magnesium.
  • a monocalcium-titanium oxide, a cerium-titanium-zinc oxide, silicon nitride, aluminum nitride, or the like can be preferably used.
  • a material excellent in thermal shock resistance as a main component, it becomes possible to operate the plasma generating electrode 1 even under high temperature conditions.
  • the thickness of the ceramic body 2 is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 3 mm. If the thickness of the ceramic body 2 is less than 0.1 mm, the electrical insulation of the electrode 5 may not be secured. Further, if the thickness of the ceramic body 2 exceeds 3 mm, it will hinder space saving as an exhaust gas purification system, and the load will increase due to an increase in the distance between the electrodes, which may lower efficiency. [0040] As the ceramic body 2 used in the present embodiment, a ceramic green sheet for a ceramic substrate can be suitably used.
  • the ceramic green sheet is formed by molding a slurry or paste for producing a green sheet to a predetermined thickness according to a conventionally known method such as a doctor blade method, a calendar method, a printing method, a reverse roller coater method, or the like. S can do it.
  • the ceramic green sheet formed in this way is subjected to processing such as cutting, cutting, punching, forming a communication hole, or the like, and is formed by laminating a plurality of green sheets by thermocompression bonding or the like. It may be used as a laminate.
  • the above-mentioned slurry or paste for producing a green sheet is preferably prepared by mixing a predetermined ceramic powder with an appropriate binder, sintering aid, plasticizer, dispersant, organic solvent and the like.
  • Suitable examples of the ceramic powder include powders of alumina, mullite, ceramic glass, zirconia, cordierite, silicon nitride, aluminum nitride, and glass.
  • silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, titanium oxide, dinoreconium oxide and the like can be mentioned as preferred examples.
  • the sintering aid is preferably added in an amount of 3 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ceramic powder.
  • the plasticizer, the dispersant and the organic solvent, the plasticizer, the dispersant and the organic solvent used in the conventionally known methods can be suitably used.
  • a ceramic sheet produced by extrusion molding can be suitably used.
  • a plate-shaped ceramic molded body extruded from a kneaded product prepared by adding the above-mentioned ceramic powder and a molding aid such as methylcellulose or a surfactant or the like through a predetermined mold can be used.
  • the porosity of the ceramic body 2 is preferably 0.1 to 35%, and more preferably 0.110%. With such a configuration, it is possible to efficiently generate plasma between the electrode 5a provided with the ceramic body 2 and the other electrode 5b opposed to each other, thereby realizing energy saving.
  • the distance between the pair of electrodes 5 is preferably set to a distance that can effectively generate plasma between the pair of electrodes 5, and a force that varies depending on a voltage or the like applied to the electrode is preferable. 5 mm is preferable.
  • a method for manufacturing the plasma generating electrode of the present embodiment will be specifically described.
  • a ceramic green sheet to be the above-mentioned ceramic body is formed.
  • at least one material selected from the group consisting of alumina, mullite, ceramic glass, and glass may be added to the above-described sintering aid, a binder such as a petyral resin or a cellulose resin, a plasticizer such as DOP or DBP, and a toluene.
  • Organic solvents such as butadiene and butadiene are kneaded and mixed well using an alumina pot and alumina cobblestone to prepare a slurry for green sheet production. Further, these materials may be manufactured by ball mill mixing using a monoball.
  • the obtained slurry for producing a green sheet is stirred under reduced pressure to remove bubbles, and further adjusted to have a predetermined viscosity.
  • the slurry for green sheet production adjusted in this manner is formed into a tape shape by a tape forming method such as a doctor blade method to form an unfired ceramic body.
  • a conductor paste for forming a conductive film disposed on one surface of the obtained unfired ceramic body is formed.
  • This conductor paste can be formed, for example, by mixing a solvent such as a binder and terpineol with silver powder and sufficiently mixing the mixture using a triroll mill.
  • the conductive paste thus formed is printed on the surface of the unfired ceramic body using screen printing or the like to form a plurality of conductive films. At this time, a plurality of through holes are printed in the conductive film so as to have different arrangement patterns.
  • each conductive film is formed of an unfired ceramic body so that electricity can be supplied to each conductive film from outside the electrode. It is preferable to print so that it extends to the outer periphery.
  • each conductive film having a different through hole arrangement pattern may be simultaneously printed or formed separately. Even though.
  • printing may be performed using different types of conductive paste so that the main components of one conductive film and another conductive film are different.
  • the unfired ceramic body on which the conductive film is printed and another unfired ceramic body are laminated so as to cover the printed conductive film.
  • the obtained laminated body is fired to form an electrode having a plate-shaped ceramic body serving as a dielectric and a conductive film provided without overlapping each other inside the ceramic body. can do.
  • An electrode serving as a counter electrode is arranged on the electrode thus obtained, and the plasma generating electrode of the present embodiment is formed.
  • the electrode serving as the counter electrode an electrode obtained by the above-described manufacturing method may be used, or an electrode having another conventionally known configuration may be used.
  • the plasma generating electrode 21 of the present embodiment includes at least a pair of electrodes 25 arranged in opposite directions, and generates a plasma by applying a voltage between them. And at least one electrode 25a of a pair of electrodes 25 is disposed inside a plate-shaped ceramic body 22 serving as a dielectric and a ceramic body 22.
  • a plurality of through holes having a cross-sectional shape cut in a plane perpendicular to the thickness direction penetrating in the film thickness direction and having a shape partially including an arc are formed so as to have two or more different distributed IJ patterns.
  • the plasma generating electrode 21 of the present embodiment has a plurality of conductive patterns 23 in two or more different arrangement patterns on one conductive film 23, instead of one electrode having a plurality of conductive films.
  • the through holes 24a and 24b are formed.
  • the plasma generation electrode 21 of the present embodiment since plasma in different states can be simultaneously generated between one electrode 25, for example, exhaust gas discharged from an automobile engine is processed. At this time, the soot is oxidized by the plasma generated in the region where the through holes 24a are formed in one arrangement pattern, and the nitrogen is oxidized by the plasma generated in the region where the through holes 24b are formed in the other arrangement pattern.
  • Objects, such as N ⁇ It is possible to perform the treatment, and it is possible to obtain the same operation and effect as the plasma generating electrode of the first invention.
  • the conductive film 23 constituting the plasma generating electrode 21 of the present embodiment has a cross-section partially cut along a plane perpendicular to the film thickness direction that penetrates in the film thickness direction and partially includes an arc. Except for the configuration in which the plurality of through holes 24a and 24b having different shapes are formed so as to have two or more different arrangement patterns, the configuration is the same as that of the conductive film described in the first embodiment of the first invention. Can be suitably used. 9 and 10 show the through-holes 24a and 24b having a circular cross-section when cut along a plane perpendicular to the film thickness direction, but the present invention is not limited to this.
  • the method of forming the through holes 24a and 24b is the same as that described in the first embodiment of the present invention, except that the through holes 24a and 24b are formed in two or more different arrangement patterns. Can be formed. Further, as the ceramic body 22 forming the plasma generating electrode 21 of the present embodiment, a ceramic body having the same structure as the ceramic body described in the first embodiment of the first invention can be suitably used.
  • FIG. 10 shows two arrangement patterns in which the through holes 24a and 24b having different diameters are arranged at different intervals from each other.
  • the illustration is not limited to such an arrangement pattern, the diameter of the through-holes may be the same, and the arrangement pattern may be changed by changing the interval between the through-holes.
  • the number of arrangement patterns is not limited to two as long as it is two or more.
  • a plasma generator 10 of the present embodiment is characterized by including the above-described plasma generation electrode of the first or second invention.
  • the plasma generator 10 of the present embodiment is configured so that a fluid to be processed such as exhaust gas can pass between the plasma generation electrode 31 and a pair of electrodes 35 constituting the plasma generation electrode 10.
  • a case body 11 housed therein.
  • the case body 11 has an inflow port 12 into which the fluid to be processed flows, and a processing fluid in which the inflowing fluid passes between the electrodes 35 and is processed. And an outlet 13 for outflow.
  • the plasma generation device 10 of the present embodiment includes the above-described plasma generation electrode 31 of the first or second invention, by applying a voltage between the pair of electrodes 35, the conductivity is increased. Different arrangements of through-holes in the membrane can generate plasma in different states simultaneously.
  • FIGS. 11 (a) and 11 (b) in the plasma generating apparatus 10 of the present embodiment, a state in which a plurality of plasma generating electrodes 31 having a pair of electrodes 35 are stacked is shown.
  • the case is preferably installed inside the body 11.
  • 11 (a) and 11 (b) show a state in which five plasma generating electrodes 31 each composed of a pair of electrodes 5 are stacked for explanation. The number of layers is not limited to this.
  • the plasma generating electrode 31 may have a configuration including a plurality of electrodes.
  • the spacer 14 for forming a predetermined gap is provided between the pair of electrodes 35 constituting the plasma generating electrode 31 and between the respective plasma generating electrodes 31.
  • the plasma generator 10 configured as described above can be used, for example, installed in an exhaust system of an automobile, and generates exhaust gas discharged from an engine or the like between the pair of electrodes 5. By passing through the plasma, harmful substances such as soot and nitrogen oxides contained in the exhaust gas can be reacted and discharged to the outside as harmless gas.
  • the plasma generating electrodes 31 be configured so that plasma can be generated also between the stacked plasma generating electrodes 31.
  • one electrode 35a of the electrode 35 constituting one plasma generation electrode 31a is connected to another adjacent plasma generation electrode 31b that not only generates a discharge between the electrode 35b and the electrode 35b disposed opposite to the electrode 35a.
  • the plasma generator of the present embodiment may further include a power supply for applying a voltage to the plasma generation electrode.
  • a power supply for applying a voltage to the plasma generation electrode.
  • the power source a conventionally known power source can be used as long as it can supply electricity that can effectively generate plasma.
  • the plasma generator of the present embodiment may have a configuration in which a current is supplied from an external power supply instead of the configuration including the power supply as described above.
  • the current supplied to the plasma generation electrode used in the present embodiment can be appropriately selected and determined depending on the intensity of the plasma to be generated.
  • the DC current supplied to the plasma generation electrode is lkV or more
  • the peak voltage is lkV or more
  • the number of pulses per second is 100.
  • the pulse current is a pulse current of at least (100 Hz or more), an AC current of a peak voltage of at least lkV and a frequency power of at least (100 Hz), or a current obtained by superposing any two of these. With this configuration, plasma can be generated efficiently.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram schematically showing the exhaust gas purification device of the present embodiment.
  • an exhaust gas purifying apparatus 41 of the present embodiment includes a plasma generator 10 according to the third embodiment of the present invention and a catalyst 44, and the plasma generator 10 and the catalyst Reference numeral 44 denotes an exhaust gas purifying device 41 provided inside the exhaust system of the internal combustion engine.
  • the plasma generator 10 is disposed on the exhaust gas generation side (upstream side) of the exhaust system, and the catalyst 44 is disposed on the exhaust side (downstream side). Are connected via a pipe.
  • the exhaust gas purification device 41 of the present embodiment is, for example, a device that purifies NO in exhaust gas under an oxygen-excess atmosphere.
  • the plasma generated by the plasma generator reforms NO so that it can be easily purified by the downstream catalyst 44, or reforms HC (hide port carbon) in exhaust gas so that it easily reacts with NO.
  • N ⁇ is purified by the catalyst 44.
  • the plasma generator 10 used in the exhaust gas purifying apparatus 41 of the present embodiment is provided with a plasma generated in the exhaust gas by combustion in an oxygen-excess atmosphere such as lean burn, a gasoline direct injection engine, or a diesel engine. Is converted from NO to NO. Also,
  • the plasma generator 10 generates active species from HC or the like in the exhaust gas, and a device configured similarly to the plasma generator 10 shown in FIG. [0070]
  • the catalyst 44 is provided on the downstream side of the plasma generator 10 in the exhaust system as a catalyst unit 45 including a catalyst member including a support in which a plurality of pores through which exhaust gas flows are formed. Is established.
  • the catalyst member has a support and a catalyst layer formed so as to cover an inner wall surface surrounding a plurality of pores of the support.
  • the catalyst layer is generally produced by impregnating a support with a catalyst in the form of a slurry (catalyst slurry) as described later, and is therefore sometimes referred to as a "posh coat (layer)".
  • the shape of the support is not particularly limited in the present invention as long as the support has a space through which the exhaust gas flows.
  • a honeycomb-like one having a plurality of pores is used. ing.
  • the support is preferably formed from a material having heat resistance.
  • a material having heat resistance examples include porous (ceramic) such as cordierite, mullite, silicon carbide (SiC) and silicon nitride (SiN), and metal (eg, stainless steel).
  • the catalyst layer is made of a porous carrier, and one or more selected from Pt, Pd, Rh, Au, Ag, Cu, Fe, Ni, Ir, Ga and the like supported on the surface of the porous carrier.
  • the main part is the combination of A plurality of continuous pores continuous with the pores of the support are formed inside the catalyst layer.
  • the porous carrier can be formed by appropriately selecting and using, for example, alumina, zeolite, silica, titania, zirconia, silica alumina, ceria, and the like.
  • a catalyst that promotes the decomposition reaction of NO is used as the catalyst 44.
  • a plasma generator having the configuration shown in Fig. 11 (a) was manufactured, and the exhaust gas was processed using this plasma generator.
  • the soot, nitrogen monoxide (NO), And the amount of hydrocarbons (HC) and the presence of aldehydes were measured.
  • the plasma generating electrode used in the plasma generating apparatus of this example was manufactured as follows. First, a tungsten paste was applied to an unfired alumina tape substrate with a thickness of 0.5 mm after firing, using a tungsten paste.
  • the second conductive film was screen-printed so as to have a thickness of 10 ⁇ .
  • the first conductive film was arranged in series with the exhaust gas inlet side, and the second conductive film was arranged in series with the exhaust gas outlet side.
  • a plate-shaped ceramic body serving as a dielectric and first and second different types of two different wiring patterns disposed inside the ceramic body are provided.
  • An electrode having the above conductive film was prepared. Ten pieces of these electrodes were produced, and they were stacked at 1 mm intervals so that each of them was sequentially arranged to face each other to produce a plasma generating electrode.
  • the conductive films constituting each electrode were alternately connected, and one was connected to a pulse power supply using an SI thyristor, and the other was connected to the ground side.
  • the conductive film having a wiring pattern having a diameter of 2 mm and an interval of 8 mm was 25 mJ
  • the conductive film having a diameter of 5 mm and a distance of 6 mm was an energy force of 10 mJ per pulse. It was thrown in.
  • the difference in input energy is considered to be the difference in capacitance due to the difference in the wiring pattern of the conductive film.
  • the amount of energy input was different, and the power S was uniform and a good discharge state was obtained.
  • the number of pulses of the first conductive film was 100 times / second, and the number of pulses of the second conductive film was 1000 times Z seconds. Then, the same measurement was performed by applying a pulse current of 5 kV. Table 1 shows the measurement results. (Example 3)
  • a pulse current of 8 kV was applied to a plasma generator configured in the same manner as the plasma generator of Example 1 so that the number of pulses of the first conductive film was 100 times / second.
  • the same measurement was performed by supplying a pulse current of 4 kV so that the number of pulses was 1000 times / second. Table 1 shows the measurement results.
  • the plasma generating device configured in the same manner as the plasma generating device of Example 1 was used. The same measurement was performed by applying a pulse current of 8 kV so that the number of pulses was 100 times Z seconds. Table 1 shows the measurement results.
  • the plasma generating device was configured in the same manner as the plasma generating device of Example 1 except that the electrode was used. The same measurement was performed by applying a pulse current of 4 kV so that the number of pulses was 1000 times / second. Table 1 shows the measurement results.
  • An exhaust gas purifying device was manufactured by disposing a catalyst on the downstream side of the plasma generating device of Example 1, and its NO purifying performance was evaluated.
  • the catalyst is a catalyst obtained by impregnating a commercially available ⁇ -A1 ⁇ with 5% by mass of Pt on a cordierite ceramic honeycomb.
  • the honeycomb catalyst has a cylindrical shape with a diameter of 105.7 mm and a length of 11.3 mm, a thickness of 400 senoles, and a partition wall (rib thickness) of 4 mils (approximately 0.1 mm).
  • the plasma generation conditions and gas conditions are the same as in Example 1.
  • An exhaust gas purifying device was manufactured by disposing a catalyst similar to the catalyst used in Example 4 downstream of the plasma generating device of Comparative Example 1, and the NO purifying performance was evaluated.
  • the plasma generation conditions and gas conditions are the same as in Comparative Example 1.
  • the plasma generating electrode and the plasma generating apparatus of the present invention can simultaneously generate plasma in different states, they can be suitably used, for example, in a purifying apparatus for purifying exhaust gas containing a plurality of substances. Can be. Further, since the exhaust gas purifying apparatus of the present invention includes the above-described plasma generator and a catalyst, it can be suitably used, for example, as a purifying apparatus for purifying exhaust gas discharged from an engine of an automobile or the like. Can be.

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Abstract

 本発明のプラズマ発生電極1は、一対の電極5のうちの少なくとも一方の電極5aが、誘電体となる板状のセラミック体2と、セラミック体2の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔4が所定の配列パターンとなるように複数形成された、複数の導電膜3とを有し、少なくとも一の導電膜3aに形成された貫通孔4aの配列パターンが、他の導電膜3bに形成された貫通孔4bの配列パターンとは異なるように構成され、一対の電極5間に電圧を印加することにより、導電膜3の異なる貫通孔4の配列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能であることから、異なる状態のプラズマを同時に発生させることができる。

Description

明 細 書
プラズマ発生電極及びプラズマ発生装置、並びに排気ガス浄化装置 技術分野
[0001] 本発明は、プラズマ発生電極及びプラズマ発生装置、並びに排気ガス浄化装置に 関する。さらに詳しくは、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能なブラ ズマ発生電極及びプラズマ発生装置に関する。また、排気ガスを良好に浄化するこ とが可能な排気ガス浄化装置に関する。
背景技術
[0002] 二枚の電極間に誘電体を配置し高電圧の交流、あるいは周期パルス電圧をかける ことにより、無声放電が発生し、これによりできるプラズマ場では活性種、ラジカル、ィ オンが生成され、気体の反応、分解を促進することが知られており、これをエンジン排 気ガスや各種の焼却炉排気ガスに含まれる有害成分の除去に利用できることが知ら れている。
[0003] 例えば、エンジン排気ガスや各種の焼却炉排気ガスを、プラズマ場内を通過させる ことによって、このエンジン排気ガスや各種の焼却炉排気ガス中に含まれる、例えば 、 NO、カーボン微粒子、 HC、 CO等を酸化して処理するプラズマ排ガス処理システ ムが開示されている(例えば、特開 2001—164925号公報参照)。
発明の開示
[0004] し力しながら、排気ガスには複数種類の物質が含まれている力 各物質毎に処理 に適するプラズマの強度が異なるために、所定の物質を処理することを目的としたプ ラズマ発生電極では他の物質を処理することができず、複数の物質を含む排気ガス を処理する際には、複数のプラズマ発生電極が必要になるという問題があった。また 、複数の物質を一種類のプラズマで処理する場合には、高強度のプラズマを発生さ せなければならず、消費電力が増大するという問題があった。また、プラズマ発生電 極を通過したガスをさらに処理する SCR等の排気ガス浄化装置に用いられる NO還 元触媒は、排気ガスに含まれる燃料 (炭化水素)を用いて二酸化窒素 (NO )を酸素 と窒素に還元するものであるが、高強度のプラズマによって炭化水素が酸化してしま うために、 ΝΟχ還元触媒の能力が低下するという問題があった。
[0005] 本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、異なる状態のプラズマを同 時に発生させることが可能なプラズマ発生電極及びプラズマ発生装置を提供する。 また、上述したプラズマ発生装置と、触媒とを備え、排気ガスを良好に浄化することが 可能な排気ガス浄化装置を提供する。
[0006] 上述の目的を達成するため、本発明は、以下のプラズマ発生電極及びプラズマ発 生装置、並びに排気ガス浄化装置を提供するものである。
[0007] [1] 対向配置された少なくとも一対の電極を備え、これらの間に電圧を印加すること によってプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極であって、前記一対の 電極のうちの少なくとも一方が、誘電体となる板状のセラミック体と、前記セラミック体 の内部に互いに重なることなく配設された、その膜厚方向に貫通した前記膜厚方向 に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔が 所定の配列パターンとなるように複数形成された、複数の導電膜とを有し、少なくとも 一の前記導電膜に形成された前記貫通孔の配列パターンが、他の前記導電膜に形 成された前記貫通孔の配列パターンとは異なるように構成され、前記一対の電極間 に電圧を印加することにより、前記導電膜の異なる前記貫通孔の配列パターンによつ て、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能なプラズマ発生電極(以下
、「第一の発明」ということがある)。
[0008] [2] 対向配置された少なくとも一対の電極を備え、これらの間に電圧を印加すること によってプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極であって、前記一対の 電極のうちの少なくとも一方が、誘電体となる板状のセラミック体と、前記セラミック体 の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した前記膜厚方向に垂直な方向の平面 で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔がニ以上の異なる配列パ ターンとなるように複数形成された、少なくとも一の導電膜とを有し、前記一対の電極 間に電圧を印加することにより、前記導電膜の異なる前記貫通孔の配列パターンに よって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能なプラズマ発生電極 ( 以下、「第二の発明」ということがある)。
[0009] [3] 前記貫通孔の前記膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が円 形である前記 [1]又は [2]に記載のプラズマ発生電極。
[0010] [4] 少なくとも一の前記導電膜が、他の前記導電膜とは異なる金属を主成分とする ものである前記 [1]一 [3]のレ、ずれかに記載のプラズマ発生電極。
[0011] [5] 前記導電膜の主成分力 S、タングステン、モリブデン、マンガン、クロム、チタン、 ジノレコニゥム、ニッケル、鉄、銀、銅、白金、及びパラジウムからなる群から選ばれる少 なくとも一種の金属である前記 [1]一 [4]のレ、ずれかに記載のプラズマ発生電極。
[0012] [6] 前記導電膜が、前記セラミック体にスクリーン印刷、カレンダーロール、スプレー
、化学蒸着、又は物理蒸着されて配設されたものである前記 [1]一 [5]のいずれかに 記載のプラズマ発生電極。
[0013] [7] 前記 [1]一 [6]のいずれかに記載のプラズマ発生電極を備えたプラズマ発生 装置 (以下、「第三の発明」ということがある)。
[0014] [8] 前記 [7]に記載のプラズマ発生装置と、触媒とを備え、前記プラズマ発生装置 と前記触媒とが、内燃機関の排気系の内部に配設された排気ガス浄化装置 (以下、「 第四の発明」ということがある)。
図面の簡単な説明
[0015] [図 1]図 1は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態を模式的 に示す斜視図である。
[図 2]図 2は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態における 、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との一例を模式的に示す平面図である
[図 3]図 3は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の他の実施の形態を模式的 に示す斜視図である。
[図 4]図 4は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態における 、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との他の例を模式的に示す平面図で ある。
[図 5]図 5は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態における 、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との他の例を模式的に示す平面図で ある。 [図 6]図 6は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態における 、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との他の例を模式的に示す平面図で ある。
[図 7]図 7は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態における 、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との他の例を模式的に示す平面図で ある。
[図 8]図 8は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態における 、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との他の例を模式的に示す平面図で ある。
[図 9]図 9は、本発明(第二の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態を模式的 に示す斜視図である。
[図 10]図 10は、本発明(第二の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態におけ る、一方の電極を構成するセラミック体と導電膜との一例を模式的に示す平面図であ る。
[図 11(a)]図 11 (a)は、本発明(第三の発明)のプラズマ発生装置の一の実施の形態 を被処理流体の流れ方向を含む平面で切断した断面図である。
[図 11(b)]図 11 (b)は、図 11 (a)の A— A線における断面図である。
[図 12]図 12は、本発明(第四の発明)の排気ガス浄化装置の一の実施の形態を模式 的に示す説明図である。
発明を実施するための最良の形態
[0016] 以下、図面を参照して、本発明のプラズマ発生電極及びプラズマ発生装置、並び に排気ガス浄化装置の実施の形態について詳細に説明する。
[0017] 図 1は、本発明(第一の発明)のプラズマ発生電極の一の実施の形態を模式的に 示す斜視図であり、図 2は、プラズマ発生電極の一方の電極を構成するセラミック体と 導電膜とを模式的に示す平面図である。図 1及び図 2に示すように、本実施の形態の プラズマ発生電極 1は、対向配置された少なくとも一対の電極 5を備え、これらの間に 電圧を印加することによってプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極 1で あって、一対の電極 5のうちの少なくとも一方の電極 5aが、誘電体となる板状のセラミ ック体 2と、セラミック体 2の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に 垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔 4が所 定の配列パターンとなるように複数形成された、複数の導電膜 3とを有し、少なくとも 一の導電膜 3aに形成された貫通孔 4aの配列パターンが、他の導電膜 3bに形成され た貫通孔 4bの配列パターンとは異なるように構成され、一対の電極 5間に電圧を印 加することにより、導電膜 3の異なる貫通孔 4の配列パターンによって、異なる状態の プラズマを同時に発生させることが可能なものである。なお、本実施の形態において は、他方の電極 5bの構成は特に限定されることはなぐ図 1に示すように、従来公知 の金属電極を用いてもよいが、図 3に示すように、プラズマ発生電極 1を構成する他 方の電極 5bが、一の電極 5aと同様に、異なる配列パターンの貫通孔がそれぞれ形 成された複数の導電膜を有するものであることが好ましい。このように構成する場合 には、一の電極 5aと他の電極 5bとには、それぞれに電流を供給するための接続部 分力 互いに逆方向になるように形成されてレ、ることが好ましレ、。
[0018] また、図 1に示したプラズマ発生電極 1においては、二枚の電極 5が対向配置され た状態を示しているが、電極 5の枚数はこれに限定されることはなぐ例えば、図示は 省略するが、三枚以上の電極を平行に対向配置させ、隣接する相互の電極が、それ ぞれ一対の電極となるように構成してもよレ、。
[0019] なお、図 1及び図 2においては、膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の 形状が円形である貫通孔 4を示している力 これに限定されることはなぐその一部に 円弧を含む形状、例えば、楕円形や、多角形の頂点が円弧状に丸められた形状等 であってもよい。
[0020] 本実施の形態のプラズマ発生電極 1は、誘電体となる板状のセラミック体 2と、セラミ ック体 2の内部に互いに重なることなく配設された複数の導電膜 3とを有するバリア放 電型の電極 5である。このプラズマ発生電極 1は、例えば、一対の電極 5間に生じた プラズマ内に排気ガス等の被処理流体を通過させて処理する排気ガス処理装置や 浄化装置、又は、空気等に含まれる酸素を反応させてオゾンを精製するォゾナイザ に好適に用いることができる。
[0021] また、それぞれの配列パターンを構成する貫通孔 4を一部に円弧を含む形状とする ことで、この貫通孔 4が放電の起点となって貫通孔 4の外周上に均等に放電を起こさ せること力 Sできるとともに、複数の貫通孔 4が、所定の配列パターンで各導電膜 3全体 に形成されてレ、ることから、電極 5全体としては安定かつ均一なプラズマを発生させる こと力 Sできる。貫通孔 4の形状が円でなぐ多角形等の場合には、多角形の頂点に相 当する部位に放電が集中して、均一なプラズマを発生させることができない。
[0022] ここで、本実施の形態のプラズマ発生電極 1において、異なる状態のプラズマを同 時に発生させることができる原理にっレ、て簡単に説明する。一の導電膜 3aに形成し た貫通孔 4aの配列パターンを、他の導電膜 3bに形成した貫通孔 4bの配列パターン と異なるような構成とすることによって、一の導電膜 3aと他の導電膜 3bとの静電容量 を異なるものとすること力 Sできる。静電容量が異なるためにそれぞれ導電膜 3a, 3bに は異なる状態の放電が起こり、その結果として、異なる状態のプラズマを発生させるこ とができる。また、各導電膜 3における配列パターンが異なるということは、各導電膜 3 の単位面積当たりの貫通孔 4の外周の長さが異なることがあり、これが各導電膜 3で の放電を異ならせる原因ともなる。
[0023] 本実施の形態においては、各導電膜 3に形成する貫通孔 4の配列パターンについ ては、所定の強度のプラズマを発生させることができるように構成されていることが好 ましい。電極 5間に発生するプラズマの強度は、導電膜 3の材質や静電容量、電極 5 に印加する電圧、電極 5a, 5b間の距離等によって決定されるものであり、各導電膜 3 の静電容量を貫通孔 4の配列パターンにって異ならせることにより、各導電膜 3上に 発生するプラズマの強度を調整することができる。
[0024] また、本実施の形態においては、少なくとも一の導電膜 3aが、他の導電膜 3bとは 異なる金属を主成分とするものであってもよレ、。このように構成することによって、一の 導電膜 3aと他の導電膜 3bの静電容量を、材料の点からも調整することが可能となり 、それぞれの導電膜 3a, 3bに、所望の強度のプラズマを発生させることが容易となる
[0025] なお、本実施の形態のプラズマ発生電極 1においては、一の導電膜 3aと他の導電 膜 3bとには、同一の電源から電気を供給してもよぐまた、それぞれに異なる電源か ら電気を供給してもよい。 [0026] 図 2においては、一方の電極 5aが二つの導電膜 3a, 3bを有し、直径の大きさが異 なる貫通孔 4a, 4bが互いに異なる間隔となるように形成されて構成されたものが示さ れているが、貫通孔 4a, 4bの配列パターンはこれに限定されることはなぐ例えば、 図 4に示すように、貫通孔 4a, 4bの直径は同一とし、これらの間隔を変えることによつ て配列パターンが異なるように構成されたものであってもよい。また、それぞれの導電 膜 3a, 3bの配置位置や大きさ及び導電膜 3a, 3bの数等についても限定されること はなぐ例えば、図 5—図 8に示すように、それぞれの導電膜 3c, 3d, 3eに所定の配 列パターンで貫通孔 4c, 4d, 4eが形成されたものであってもよい。
[0027] 上述したように、本実施の形態のプラズマ発生電極 1においては、一対の電極 5間 に異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能なことから、例えば、 自動車 のエンジン等の内燃機関力 排出される排気ガスを処理 (浄化)する際に、一の導電 膜 3aによって発生するプラズマによって煤を酸化処理し、他の導電膜 3bによって発 生するプラズマによって一酸化窒素(NO)を酸化処理することが可能となる。
[0028] ここで、本実施の形態のプラズマ発生電極 1を、排気ガス処理装置や浄化装置等 に用いた際の、一対の電極の配置の方法や、排気ガスを処理する過程等について 説明する。図 2及び図 4に示す一方の電極 5aを備えたプラズマ発生電極を排気ガス 処理装置に用い、矢印 Aの方向に向って排気ガスを通過させるような構成とした場合 、二つの導電膜 3a, 3bに発生した異なる状態のプラズマを連続して通過させることが 可能となり、排気ガスに含まれる複数の物質を有効に処理することができる。また、図 5—図 8に示す電極 5aは、特に、煤を含む排気ガスの処理に好適に用いることができ るように構成されてレ、る。具体的には、例えば、図 5及び図 6に示した一方の電極 5a を備えたプラズマ発生電極を用いた場合には、導電膜 3dに、煤を有効に酸化処理 することができるような酸化力の強いプラズマを発生させ、一方、導電膜 3eに、煤以 外の NOや C〇等の比較的酸化し易い物質を酸化処理するための酸化力の弱いプラ ズマを発生させる。このような電極 5aに、矢印 Aの方向力、ら排気ガスを通過させた場 合、まず、導電膜 3cによって発生したプラズマで処理すべき物質の中で比較的に質 量の大きい煤を引き寄せて、排気ガスの流れの中に煤の片寄りを形成させる。この後 に、導電膜 3dにて発生させたプラズマで、煤をまとめて酸化処理するとともに、煤以 外の NOや CO等は導電膜 3d及び導電膜 3eのいずれかで発生したプラズマで酸化 処理する。このように構成することによって、一対の電極 5 (図 1参照)間に、排気ガス の流れ方向に平行な方向に、酸化力の弱レ、プラズマのみで構成された領域を形成 することができるため、排気ガスに含まれる燃料 (炭化水素)が完全に酸化されていな い状態、即ち、炭化水素をアルデヒド等に変化させた状態で排出することが可能とな る。このため、 N〇還元触媒等を併用した排気ガス処理を行う場合には、その効率を 向上させることができる。
[0029] また、図 7及び図 8に示した電極 5aを備えたプラズマ発生電極を用いた場合には、 まず、例えば、プラズマを通過させる前の排気ガスに旋回流を起こし、遠心力によつ て排気ガスの流れの中に煤の片寄りを形成させる。そして、煤に片寄りを持たせた排 気ガスが通過する領域、即ち、導電膜 3cに酸化力の強いプラズマを発生させ、その 他の領域、即ち、導電膜 3dに酸化力の弱いプラズマを発生させるように構成し、煤に 片寄りを持たせた排気ガスを通過させることで、図 5及び図 6に示した電極 5aを用い た場合と同様の作用効果を得ることができる。
[0030] 本実施の形態に用いられる導電膜 3は、セラミック体 2の厚さの 0. 1— 10%に相当 する厚さであることが好ましい。このように構成することによって、誘電体となるセラミツ ク体 2の表面に均一な放電を起こすことができる。具体的な導電膜 3の厚さとしては、 プラズマ発生電極 1の小型化及び一対の電極 5間を通過させる排気ガス等の被処理 流体の抵抗を低減させる等の理由から、 5— 50 μ ΐη程度であることが好ましい。導電 膜 3の厚さが 5 μ m未満であると、導電膜 3を印刷等によって形成する場合に信頼性 が劣ることがあり、また、形成された導電膜 3の抵抗が高くなることがあるために、ブラ ズマ発生効率が低下する恐れがある。導電膜 3の厚さが 50 x mを超えると、導電膜 3 の抵抗は小さくなるが、セラミック体 2の表面の凹凸に影響を及ぼし、その表面が平 坦となるように加工しなければならないことがある。
[0031] また、本実施の形態においては、一の電極 5aを構成する導電膜 3が、セラミック体 2 の両表面からの距離が、ほぼ等しくなるように、セラミック体 2の内部に配設されてい ることが好ましい。このように構成することによって、複数枚の電極を連続的に対向配 置されてプラズマを発生させたとしても、 P 接する電極間に等しい強度のプラズマを 発生させることができる。セラミック体 2の両表面からの距離が異なるように配設された 場合には、一の電極 5aの互いの表面における静電容量が変わり、互いの表面での 放電特性が異なる恐れがある。
[0032] また、本実施の形態に用いられる導電膜 3は、導電性に優れた金属を主成分とする ことが好ましぐ例えば、導電膜 3の主成分としては、タングステン、モリブデン、マン ガン、クロム、チタン、ジルコニウム、ニッケル、鉄、銀、銅、白金、及びパラジウムから なる群から選ばれる少なくとも一種の金属を好適例として挙げることができる。なお、 本実施の形態において、主成分とは、成分の 60質量%以上を占めるものをいう。な お、導電膜 3が、上述した群のうち二種類以上の金属を主成分として含む場合には、 それら金属の総和力 成分の 60質量%以上を占めるものとする。
[0033] この導電膜 3をセラミック体 2の内部に配設する方法としては、例えば、粉末プレス 成形したプレス成形体に、金属板や金属箔等の導電膜 3を埋設して配設する方法等 を挙げることができる。具体的には、粉末プレスによってセラミック体となるプレス成形 体を成形する際に、そのプレス成形体の互いの表面からの距離 (厚さ方向の距離)が 等しくなるように、上述した金属を主成分とする金属板又は金属箔を坦設する。坦設 した金属箔等がセラミックスの焼成収縮で変形したり、切断する恐れがあるために、 平面方向の物質移動を抑制するように焼成することが好ましい。このように構成するこ とによって、プレス成形体の厚さ方向にプレス圧力を負荷して焼成することができる。
[0034] また、この導電膜 3は、セラミック体 2に塗工されて配設されたものであってもよい。
具体的な塗工の方法としては、例えば、スクリーン印刷、カレンダーロール、ディップ コート、化学蒸着、及び物理蒸着等を好適例として挙げることができる。このような方 法によれば、塗工後の表面の平滑性に優れ、かつ厚さの薄い導電膜 3を容易に形成 すること力 Sできる。前述した方法のうち、化学蒸着及び物理蒸着は、多少コスト高にな る場合があるが、より厚さの薄い導電膜を容易に配設することができるとともに、より小 さな直径で、かつ隣接する中心間の距離がより小さい貫通孔を容易に形成すること ができる。
[0035] 導電膜 3をセラミック体 2に塗工する際には、導電膜 3の主成分として挙げた金属の 粉末と、有機バインダーと、テルピネオール等の溶剤とを混合して導体ペーストを形 成し、上述した方法でセラミック体 2に塗工することで形成することができる。また、セ ラミック体 2との密着性及び焼結性を向上させるベぐ必要に応じて上述した導体べ 一ストに添加剤を加えてもよい。
[0036] 導電膜 3の金属成分にセラミック体 2と同じ成分を添加することにより、導電膜 3とセ ラミック体 2との密着性を良くすることが可能となる。また、金属成分に添加するセラミ ック体成分にガラス成分をカ卩えることもできる。ガラス成分の添カ卩により、導電膜 3の焼 結性を向上し、密着性に加え緻密性が向上する。金属成分以外のセラミック体 2の成 分及び/又はガラス成分の総和は、 30質量%以下が好ましい。 30質量%を超えると 、抵抗値が下がり、導電膜 3としての機能が得られないことがある。
[0037] また、本実施の形態におけるセラミック体 2は、上述したように誘電体としての機能を 有するものであり、導電膜 3がセラミック体 2に挟持された状態で用いられることにより 、導電膜 3単独で放電を行う場合と比較して、スパーク等の片寄った放電を減少させ 、小さな放電を複数の箇所で生じさせることが可能となる。このような複数の小さな放 電は、スパーク等の放電に比して流れる電流が少ないために、消費電力を削減する ことができ、さらに、誘電体が存在することにより、電極 5間に流れる電流が制限され て、温度上昇を伴わない消費エネルギーの少ないノンサーマルプラズマを発生させ ること力 Sできる。
[0038] 本実施の形態に用いられるセラミック体 2は、誘電率の高い材料を主成分とすること が好ましぐ例えば、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素、チタン-バリゥ ム系酸化物、マグネシウム一カルシウム一チタン系酸化物、ノくリウムーチタン一亜鉛系 酸化物、窒化珪素、窒化アルミニウム等を好適に用いることができる。耐熱衝撃性に も優れた材料を主成分とすることによって、プラズマ発生電極 1を高温条件下におい ても運用することが可能となる。
[0039] また、セラミック体 2の厚さについては、特に限定されることはなレ、が、 0. 1一 3mm であることが好ましレ、。セラミック体 2の厚さが 0. 1mm未満であると、電極 5の電気絶 縁性を確保することができないことがある。また、セラミック体 2の厚さが 3mmを超える と、排ガス浄化システムとして省スペース化の妨げになるとともに、電極間距離が長く なることによる負荷電圧の増大につながり効率が低下することがある。 [0040] 本実施の形態に用いられるセラミック体 2は、セラミック基板用のセラミックグリーンシ ートを好適に用いることができる。このセラミックグリーンシートは、グリーンシート製作 用のスラリー又はペーストを、ドクターブレード法、カレンダ一法、印刷法、リバース口 ールコータ法等の従来公知の手法に従って、所定の厚さとなるように成形して形成す ること力 Sできる。このようにして形成されたセラミックグリーンシートは、切断、切肖 lj、打 ち抜き、連通孔の形成等の加工を施したり、複数枚のグリーンシートを積層した状態 で熱圧着等によって一体的な積層物として用いてもよい。
[0041] 上述したグリーンシート製作用のスラリー又はペーストは、所定のセラミック粉末に 適当なバインダ、焼結助剤、可塑剤、分散剤、有機溶媒等を配合して調製したものを 好適に用いることができ、例えば、このセラミック粉末としては、アルミナ、ムライト、セ ラミックガラス、ジルコ二ァ、コージヱライト、窒化珪素、窒化アルミニウム、及びガラス 等の粉末を好適例として挙げることができる。また、焼結助剤としては、酸化ケィ素、 酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化チタン、酸化ジノレコニゥム等を好適例として 挙げること力 Sできる。なお、焼結助剤は、セラミック粉末 100質量部に対して、 3— 10 質量部加えることが好ましい。可塑剤、分散剤及び有機溶媒については、従来公知 の方法に用いられている可塑剤、分散剤及び有機溶媒を好適に用いることができる
[0042] 本実施の形態に用いられるセラミック体 2は、押出成形で作製したセラミックシートを 好適に用いることもできる。例えば、前述したセラミック粉末とメチルセルロース等の成 形助剤や界面活性剤等を添加して調製した混練物を、所定の金型を通して押出され た板状セラミック成形体を用いることもできる。
[0043] また、本実施の形態においては、セラミック体 2の気孔率力 0. 1一 35%であること が好ましぐさらに 0. 1 10%であることが好ましい。このように構成することによって 、セラミック体 2を備えた電極 5aと、対向配置された他方の電極 5bとの間に効率よく プラズマを発生させることが可能となり、省エネルギー化を実現することができる。
[0044] また、一対の電極 5間の距離は、その間に有効にプラズマを発生させることが可能 な距離とすることが好ましぐ電極に印加する電圧等によっても異なる力 例えば、 0. 1一 5mmとすることが好ましレ、。 [0045] 以下、本実施の形態のプラズマ発生電極の製造方法について具体的に説明する。
[0046] まず、上述したセラミック体となるセラミックグリーンシートを成形する。例えば、アル ミナ、ムライト、セラミックガラス、及びガラス群から選ばれる少なくとも一種の材料に、 上述した焼結助剤や、プチラール系樹脂やセルロース系樹脂等のバインダ、 DOP や DBP等の可塑剤、トルエンやブタジエン等の有機溶媒等をカ卩え、アルミナ製ポット 及びアルミナ玉石を用いて十分に混合してグリーンシート製作用のスラリーを作製す る。また、これらの材料を、モノボールによりボールミル混合して作製してもよい。
[0047] 次に、得られたグリーンシート製作用のスラリーを、減圧下で攪拌して脱泡し、さら に所定の粘度となるように調整する。このように調整したグリーンシート製作用のスラリ 一をドクターブレード法等のテープ成形法によってテープ状に成形して未焼成セラミ ック体を形成する。
[0048] 一方、得られた未焼成セラミック体の一方の表面に配設する導電膜を形成するため の導体ペーストを形成する。この導体ペーストは、例えば、銀粉末にバインダ及びテ ルピネオール等の溶剤をカ卩え、トリロールミルを用いて十分に混鍊して形成すること ができる。
[0049] このようにして形成した導体ペーストを、未焼成セラミック体の表面にスクリーン印刷 等を用いて印刷して、複数の導電膜を形成する。その際、導電膜に複数の貫通孔を 、それぞれ異なる配列パターンとなるように印刷する。また、導電膜を未焼成セラミツ ク体で挟持して電極を形成した後に、電極の外部からそれぞれの導電膜に電気を供 給することができるように、それぞれの導電膜が未焼成セラミック体の外周部にまで延 設するように印刷することが好ましレ、。
[0050] 導体ペーストを印刷して導電膜を形成する際には、貫通孔の配列パターンが異な るそれぞれの導電膜を、同時に印刷して形成してもよいし、別々に印刷して形成して もよレ、。また、一の導電膜と他の導電膜との主成分が異なるように、導体ペーストの種 類を異ならせて印刷を行ってもよい。
[0051] 次に、導電膜を印刷した未焼成セラミック体と、他の未焼成セラミック体とを、印刷し た導電膜を覆うようにして積層する。未焼成セラミック体を積層する際には、温度: 10 0°C、圧力: lOMPaで押圧しながら積層することが好ましい。 [0052] 次に、得られた積層体を焼成して、誘電体となる板状のセラミック体と、このセラミツ ク体の内部に互いに重なることなく配設された導電膜とを有する電極を形成すること ができる。
[0053] このようにして得られた電極に、対向電極となる電極を配置し、本実施の形態のプ ラズマ発生電極を形成する。この対向電極となる電極は、上述した製造方法によって 得られた電極を用いてもよぐまた、従来公知の他の構成の電極を用いてもよい。
[0054] 次に、本発明(第二の発明)のプラズマ発生電極の実施の形態について具体的に 説明する。図 9及び図 10に示すように、本実施の形態のプラズマ発生電極 21は、対 向配置された少なくとも一対の電極 25を備え、これらの間に電圧を印加することによ つてプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極 21であって、一対の電極 2 5のうちの少なくとも一方の電極 25aが、誘電体となる板状のセラミック体 22と、セラミ ック体 22の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した膜厚方向に垂直な方向の 平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔がニ以上の異なる配 歹 IJパターンとなるように複数形成された導電膜 23とを有し、複数の貫通孔 24がニ以 上の異なる配列パターンとなるように形成された少なくとも一の導電膜 23とを有し、一 対の電極 25間に電圧を印加することにより、導電膜 23の異なる貫通孔 24a, 24bの 配列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能である
[0055] 本実施の形態のプラズマ発生電極 21は、第一の発明のように、一方の電極が複数 の導電膜を有するのではなぐ一つの導電膜 23に二以上の異なる配列パターンで 複数の貫通孔 24a, 24bが形成されたものである。このように貫通孔 24a, 24bの配 列パターンが異なるような構成とすることによって、それぞれの配列パターンで異なる 放電が起こり、その結果として、異なる状態のプラズマを発生させることができる。
[0056] 本実施の形態のプラズマ発生電極 21においては、一つの電極 25間に異なる状態 のプラズマを同時に発生させることが可能なことから、例えば、 自動車のエンジンから 排出される排気ガスを処理する際に、一の配列パターンで貫通孔 24aが形成された 領域で発生させたプラズマによって煤を酸化処理し、他の配列パターンで貫通孔 24 bが形成された領域で発生させたプラズマによって窒素酸化物、例えば、 N〇を酸ィ匕 処理することが可能となり、第一の発明のプラズマ発生電極と同様の作用効果を得る こと力 Sできる。
[0057] 本実施の形態のプラズマ発生電極 21を構成する導電膜 23は、膜厚方向に貫通し た前記膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む 形状の複数の貫通孔 24a, 24bが二以上の異なる配列パターンとなるように形成され ている以外の構成については、第一の発明の一の実施の形態で説明した導電膜と 同様に構成されたものを好適に用いることができる。なお、図 9及び図 10においては 、膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が円形である貫通孔 24a, 2 4bを示しているが、これに限定されることはなぐ楕円形や、多角形の頂点が円弧状 に丸められた形状等であってもよレ、。また、その形成方法についても、貫通孔 24a, 2 4bを二以上の異なる配列パターンとなるように形成する以外は、第一の発明の一の 実施の形態において説明した方法と同様の方法を用いて形成することができる。また 、本実施の形態のプラズマ発生電極 21を構成するセラミック体 22についても、第一 の発明の一の実施の形態で説明したセラミック体と同様に構成されたものを好適に 用いることができる。
[0058] また、貫通孔 24a, 24bの配列パターンについては、図 10においては、直径の大き さが異なる貫通孔 24a, 24bが互いに異なる間隔で配列した二つの配列パターンを 示している力 S、このような配列パターンに限定されることはなぐ図示は省略するが、 貫通孔の直径は同一とし、これらの間隔を変えることで配列パターンを異なるように 構成してもよい。また、配列パターンは二以上であればよぐ二つに限定されることは ない。
[0059] 次に、本発明(第三の発明)のプラズマ発生装置の実施の形態について説明する。
図 11 (a)及び図 11 (b)に示すように、本実施の形態のプラズマ発生装置 10は、上述 した第一又は第二の発明のプラズマ発生電極を備えてなることを特徴とする。具体的 には、本実施の形態のプラズマ発生装置 10は、プラズマ発生電極 31と、プラズマ発 生電極 10を構成する一対の電極 35間を排気ガス等の被処理流体が通過可能な状 態で収納したケース体 11とを備えている。このケース体 11は、被処理流体が流入す る流入口 12と、流入した被処理流体が電極 35間を通過して処理された処理流体を 流出する流出口 13とを有している。
[0060] 本実施の形態のプラズマ発生装置 10は、上述した第一又第二の発明のプラズマ 発生電極 31を備えてなることから、一対の電極 35間に電圧を印加することにより、導 電膜の異なる貫通孔の配列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生 させること力できる。
[0061] 図 11 (a)及び図 11 (b)に示すように、本実施の形態のプラズマ発生装置 10におい ては、一対の電極 35を備えたプラズマ発生電極 31が複数積層された状態でケース 体 11の内部に設置されていることが好ましレ、。なお、図 11 (a)及び図 11 (b)におい ては、説明上、一対の電極 5から構成されたプラズマ発生電極 31が五個積層された 状態を示しているが、プラズマ発生電極 31を積層する数はこれに限定されることはな レ、。また、プラズマ発生電極 31が複数の電極を備えた構成のものであってもよレ、。な お、プラズマ発生電極 31を構成する一対の電極 35間と、各プラズマ発生電極 31間 とには、所定の隙間を形成するためのスぺーサー 14が配設されている。
[0062] このように構成されたプラズマ発生装置 10は、例えば、 自動車の排気系中に設置 して用いることができ、エンジン等から排出された排気ガスを、一対の電極 5間に発生 させたプラズマの中を通過させることにより、排気ガスに含まれる煤や窒素酸化物等 の有害物質を反応させて無害な気体として外部に排出することができる。
[0063] 複数のプラズマ発生電極 31を積層する際には、積層したプラズマ発生電極 31の 相互間にも、プラズマを発生させることができるように構成することが好ましい。具体 的には、例えば、一のプラズマ発生電極 31aを構成する電極 35の一方の電極 35aが 、対向配置された電極 35bとの間に放電を生ずるだけでなぐ隣接する他のプラズマ 発生電極 31bを構成する電極 35bとの間にも放電を起こすことが可能な構成とし、積 層したプラズマ発生電極 31の相互間にもプラズマを発生させることができるような構 成とすることが好ましい。
[0064] また、図示は省略するが、本実施の形態のプラズマ発生装置においては、プラズマ 発生電極に電圧を印加するための電源をさらに備えていてもよい。この電源につい ては、プラズマを有効に発生させることができるような電気を供給することができるもの であれば従来公知の電源を用いることができる。 [0065] また、本実施の形態のプラズマ発生装置においては、上述したように電源を備えた 構成とせずに、外部の電源から電流を供給するような構成としてもょレ、。
[0066] 本実施の形態に用いられるプラズマ発生電極に供給する電流については、発生さ せるプラズマの強度によって適宜選択して決定することができる。例えば、プラズマ発 生装置を自動車の排気系中に設置する場合には、プラズマ発生電極に供給する電 流力 電圧が lkV以上の直流電流、ピーク電圧が lkV以上かつ 1秒あたりのパルス 数が 100以上(100Hz以上)であるパルス電流、ピーク電圧が lkV以上かつ周波数 力 以上(100Hz以上)である交流電流、又はこれらのいずれか二つを重畳して なる電流であることが好ましい。このように構成することによって、効率よくプラズマを 発生させることができる。
[0067] 次に、本発明(第四の発明)の排気ガス浄化装置の一の実施の形態について具体 的に説明する。図 12は、本実施の形態の排気ガス浄化装置を模式的に示す説明図 である。図 12に示すように、本実施の形態の排気ガス浄化装置 41は、上述した第三 の発明の実施の形態であるプラズマ発生装置 10と、触媒 44とを備え、このプラズマ 発生装置 10と触媒 44とが、内燃機関の排気系の内部に配設された排気ガス浄化装 置 41である。なお、プラズマ発生装置 10は、排気系の排気ガス発生側(上流側)に 配設され、触媒 44は、その排気側(下流側)に配設されており、プラズマ発生装置 10 と触媒 44とは配管 42を介して接続されている。
[0068] 本実施の形態の排気ガス浄化装置 41は、例えば、酸素過剰雰囲気下における排 気ガス中の NOを浄化する装置である。即ち、プラズマ発生装置で発生したプラズマ によって、 NOを下流側の触媒 44で浄化しやすいように改質、又は NOと反応しや すいように排気ガス中の HC (ハイド口カーボン)等を改質して、触媒 44によって N〇 を浄化する。
[0069] 本実施の形態の排気ガス浄化装置 41に用いられるプラズマ発生装置 10は、ブラ ズマにより、リーンバーン、ガソリン直噴エンジン又はディーゼルエンジン等の酸素過 剰雰囲気下での燃焼による排気ガス中の NOを NOに変換するものである。また、プ
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ラズマ発生装置 10は、排気ガス中の HC等から活性種を生成するものであり、図 11 ( a)に示したプラズマ発生装置 10と同様に構成されたものを好適に用いることができる [0070] 触媒 44は、その内部に排気ガスが流通する複数の細孔が形成された支持体を含 む触媒部材を備えた触媒ユニット 45として、排気系におけるプラズマ発生装置 10の 下流側に配設されている。触媒部材は、支持体と、支持体の複数の細孔を取り囲む 内壁面を覆うように形成された触媒層を有してレ、る。
[0071] 触媒層は、一般に、後記するように支持体をスラリー状の触媒 (触媒スラリー)に含 浸して製造されるため、「ゥォッシュコート (層)」と呼ばれることもある。
[0072] 支持体の形状は、排気ガスが流通する空間を有していれば本発明では特に制限さ れず、本実施の形態では、複数の細孔が形成されたハニカム状のものを使用してい る。
[0073] 支持体は、耐熱性を有する材料から形成されることが好ましい。このような材料とし ては、例えば、コージヱライト、ムライト、シリコンカーバイド(SiC)、シリコンナイトライド (Si N )等の多孔質 (セラミック)や、メタル (例えば、ステンレス)等が挙げられる。
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[0074] 触媒層は、多孔質担体と、多孔質担体の表面に担持した Pt、 Pd、 Rh、 Au、 Ag、 C u、 Fe、 Ni、 Ir、 Ga等から選択される一種又は二種以上の組合せを主要部として形 成されている。触媒層の内部には支持体の細孔に連続する複数の連続細孔が形成 されている。
[0075] 多孔質担体は、例えば、アルミナ、ゼォライト、シリカ、チタニア、ジルコニァ、シリカ アルミナ、セリア等から適宜選択して使用し、形成することができる。なお、触媒 44は 、 NOの分解反応を促進する触媒を用いる。
[0076] 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定 されるものではない。
[0077] (実施例 1)
図 11 (a)に示すような構成のプラズマ発生装置を製造し、このプラズマ発生装置を 用いて排気ガスの処理を行レ、、処理後のガスに含まれる煤、一酸化窒素(NO)、及 び炭化水素(HC)の量と、アルデヒドの有無を測定した。本実施例のプラズマ発生装 置に用いられるプラズマ発生電極は、以下のようにして作製した。まず、焼成後の厚 さが 0. 5mmとなる未焼成のアルミナテープ基板に、タングステンペーストを用いて、 直径 2mm、隣接相互の間隔が 8mmとなるような配列パターンで貫通孔が形成され た第一の導電膜と、直径 5mm、隣接相互の間隔が 6mmとなるような配列パターンで 貫通孔が形成された第二の導電膜とを、その厚さが 10 μ ΐηとなるようにスクリーン印 刷した。この際、第一の導電膜が排気ガスの入口側に、第二の導電膜が排気ガスの 出口側に、それぞれ直列に配置されるような構成とした。次に、同じ素材のアルミナ テープと積層した後に焼成して、誘電体となる板状のセラミック体と、セラミック体の内 部に配設された、二種類の異なる配線パターンの第一及び第二の導電膜とを有する 電極を作製した。この電極を 10枚作製し、それぞれが順番に対向配置するように、 1 mm間隔で積層してプラズマ発生電極を製造した。各電極を構成する導電膜を交互 に結線して、片方を、 SIサイリスタを用いたパルス電源に、もう片方を接地側に接続し た。
[0078] それぞれの導電膜に 5kVのパルス電流を通電したところ、直径 2mm、間隔 8mm の配線パターン導電膜は 25mJ、直径 5mm、間隔 6mmの配線パターンの導電膜は 、 10mJのエネルギー力 1パルス当たりに投入された。投入されるエネルギーの違い は、導電膜の配線パターンの違いによる静電容量の差であると考えられる。投入され るエネルギー量は異なる力 S、ともに均一で良好な放電状態が得られた。
[0079] このプラズマ発生装置に、エンジンから排出される排気ガス状態を模擬した排気ガ スを通気した。この排気ガスとしては、酸素 10体積0 /0、 CO 10体積0 /0、プロピレン 20
OppmC、 NOガス 200ppm、残りが窒素となるように混合された混合ガスに、煤を 10 00mg/hrで混合したものを用いた。プラズマを通過したガスに含まれる各成分の濃 度を測定した。測定結果を表 1に示す。
[0080] [表 1]
Figure imgf000021_0001
(実施例 2)
実施例 1のプラズマ発生装置と同様に構成されたプラズマ発生装置に、第一の導 電膜のノ ルス数が 100回/秒、第二の導電膜のパルス数が 1000回 Z秒となるよう に、 5kVのパルス電流を通電して同様の測定を行った。測定結果を表 1に示す。 [0082] (実施例 3)
実施例 1のプラズマ発生装置と同様に構成されたプラズマ発生装置に、第一の導 電膜のノ ルス数が 100回/秒となるように 8kVのパルス電流を通電し、第二の導電 膜のパルス数が 1000回/秒となるように 4kVのパルス電流を通電して同様の測定を 行った。測定結果を表 1に示す。
[0083] (比較例 1)
各電極を構成する導電膜が、第一の導電膜しか形成されてレ、なレ、電極を用いた以 外は、実施例 1のプラズマ発生装置と同様に構成されたプラズマ発生装置に、パル ス数が 100回 Z秒となるように 8kVのパルス電流を通電して同様の測定を行った。測 定結果を表 1に示す。
[0084] (比較例 2)
各電極を構成する導電膜が、第二の導電膜しか形成されてレ、なレ、電極を用いた以 外は、実施例 1のプラズマ発生装置と同様に構成されたプラズマ発生装置に、パル ス数が 1000回/秒となるように 4kVのパルス電流を通電して同様の測定を行った。 測定結果を表 1に示す。
[0085] 表 1に示すように、実施例 1一 3のプラズマ発生装置は、煤及び NOが有効に酸化 処理されているとともに、 NO還元触媒の能力を向上させることが可能なアルデヒドが 生成されていた。比較例 1のプラズマ発生装置は、 NOの処理能力が低ぐまた、比 較例 2のプラズマ発生装置は、煤の処理能力が低ぐ両者を有効に処理することがで きるものではなかった。
[0086] (実施例 4)
実施例 1のプラズマ発生装置の下流側に触媒を配置して排気ガス浄化装置を製造 し、その NO浄化性能を評価した。触媒は、市販の Ί -A1 Οに Ptを 5質量%含浸し た触媒粉末をコージヱライト製セラミックスハニカムに担持したものである。ハニカム触 媒のサイズは、直径 105. 7mm、長さ 1 14. 3mmの筒状で、 400セノレ、セルを区画 する隔壁の厚さ(リブ厚)が 4ミル(約 0. 1mm)である。プラズマの発生条件及びガス 条件は、実施例 1と同じである。
[0087] その結果、 200ppmの N〇がプラズマ発生装置及び触媒を通過した後には NOと して 1 lOppmまで低減してレ、た。
[0088] (比較例 3)
比較例 1のプラズマ発生装置の下流側に実施例 4に用いた触媒と同様の触媒を配 置して排気ガス浄化装置を製造し、その NO浄化性能を評価した。プラズマ発生条 件及びガス条件は、比較例 1と同じである。
[0089] その結果、 200ppmの N〇がプラズマ発生装置及び触媒を通過した後には NOと して 170ppmまでしか低減していなかった。
産業上の利用可能性
[0090] 本発明のプラズマ発生電極及びプラズマ発生装置は、異なる状態のプラズマを同 時に発生させることができることから、例えば、複数の物質を含む排気ガスを浄化す る浄化装置等に好適に用いることができる。また、本発明の排気ガス浄化装置は、上 述したプラズマ発生装置と、触媒とを備えていることから、例えば、自動車のエンジン 等から排出される排気ガスを浄化する浄化装置として好適に用いることができる。

Claims

請求の範囲
[1] 対向配置された少なくとも一対の電極を備え、これらの間に電圧を印加することによ つてプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極であって、
前記一対の電極のうちの少なくとも一方が、誘電体となる板状のセラミック体と、前 記セラミック体の内部に互いに重なることなく配設された、その膜厚方向に貫通した 前記膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形 状の貫通孔が所定の配列パターンとなるように複数形成された、複数の導電膜とを 有し、少なくとも一の前記導電膜に形成された前記貫通孔の配列パターンが、他の 前記導電膜に形成された前記貫通孔の配列パターンとは異なるように構成され、前 記一対の電極間に電圧を印加することにより、前記導電膜の異なる前記貫通孔の配 列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能なプラズ マ発生電極。
[2] 対向配置された少なくとも一対の電極を備え、これらの間に電圧を印加することによ つてプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極であって、
前記一対の電極のうちの少なくとも一方が、誘電体となる板状のセラミック体と、前 記セラミック体の内部に配設された、その膜厚方向に貫通した前記膜厚方向に垂直 な方向の平面で切断した断面の形状が一部に円弧を含む形状の貫通孔がニ以上 の異なる配列パターンとなるように複数形成された、少なくとも一の導電膜とを有し、 前記一対の電極間に電圧を印加することにより、前記導電膜の異なる前記貫通孔の 配列パターンによって、異なる状態のプラズマを同時に発生させることが可能なブラ ズマ発生電極。
[3] 前記貫通孔の前記膜厚方向に垂直な方向の平面で切断した断面の形状が円形で ある請求項 1又は 2に記載のプラズマ発生電極。
[4] 少なくとも一の前記導電膜が、他の前記導電膜とは異なる金属を主成分とするもの である請求項 1一 3のいずれかに記載のプラズマ発生電極。
[5] 前記導電膜の主成分が、タングステン、モリブデン、マンガン、クロム、チタン、ジノレ コユウム、ニッケル、鉄、銀、銅、白金、及びパラジウムからなる群から選ばれる少なく とも一種の金属である請求項 1一 4のいずれかに記載のプラズマ発生電極。
[6] 前記導電膜が、前記セラミック体にスクリーン印刷、カレンダーロール、スプレー、化 学蒸着、又は物理蒸着されて配設されたものである請求項 1一 5のいずれかに記載 のプラズマ発生電極。
[7] 請求項 1一 6のいずれかに記載のプラズマ発生電極を備えたプラズマ発生装置。
[8] 請求項 7に記載のプラズマ発生装置と、触媒とを備え、前記プラズマ発生装置と前 記触媒とが、内燃機関の排気系の内部に配設された排気ガス浄化装置。
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