WO2004098024A1

WO2004098024A1 - ボイスコイルモータ用永久磁石部材及びボイスコイルモータ

Info

Publication number: WO2004098024A1
Application number: PCT/JP2004/004615
Authority: WO
Inventors: Takeshi Sakamoto; Tomomi Yamamoto; Tatsuhiro Iwai; Yasuyuki Nakayama
Original assignee: Tdk Corporation
Priority date: 2003-03-31
Filing date: 2004-03-31
Publication date: 2004-11-11
Also published as: US7859140B2; JP2004304968A; US20060202564A1; CN1768464A; US7619329B2; CN100355184C; US20090289508A1

Abstract

　本発明のボイスコイルモータ（ＶＣＭ）用永久磁石部材１０は、短周縁１１と、この短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁１２と、短周縁１１及び長周縁１２を結ぶ一対の側周縁１３，１４とを有し、扇型の平面形状を有する磁石素体１と、この磁石素体の表面に被覆された耐食皮膜（Ｎｉめっき膜２）とを備えるものである。このＶＣＭ用永久磁石部材１０においては、その厚さの最大値と最小値の差が１０～１５０μｍとなっている。

Description

糸田 »

ボイスコィルモータ用永久磁石部材及ぴボイスコイルモータ

技術分野

【0 0 0 1】本発明は、ボイスコイルモータ、及び、ボイスコイルモータに用いられる永久磁石部材に関するものである。

背景技術

【0 0 0 2】コンピュータのデータ記憶手段として普及しているハードデイスクドライブ（以下、「H D D」という）は、単数又は複数の磁気ディスクを同軸上に配置し、これをスピンドルモータで駆動する構造を有している。 HD Dにおけるデータの読み出し及び書き込みは、磁気ディスクに対向して設けられた磁気へッドにより行われる。この磁気ヘッドは、ァクチユエータにより駆動される。このァクチユエータとしては、一般的にはスィング動作型のボイスコイルモータ（以下、「V CM」という）が用いられる。

【0 0 0 3】ここで、 V CMの一般的な構成及ぴ動作について、図 Ίを参照して説明する。図示されるように、 V CMは、互いに対向して上下に配置された一対のヨーク 1 5と、一対のヨーク 1 5間に位置しており、下方のヨーク 1 5に接着された永久磁石部材 1 0と、上方のヨーク 1 5.と永久磁石部材 1 0との間に形成された磁気空隙内に配置された扇型のコイル 1 6を有しており、軸 1 8を中心にして回動可能に設けられたへッドキヤリッジ 1 7とから構成されている。【0 0 0 4】この V CMにおいて、コイル 1 6に所定の電流が通電されると、フレミングの左手の法則にしたがってコイル 1 6に矢印 A方向への駆動力が発生し、これにともなつてへッドキヤリッジ 1 7が軸 1 8を中心にして矢印 B方向に回動する。このような V CMの動作によって、ヘッドキャリッジ 1 7の先端部に ' 搭載された磁気ヘッド 1 9力コイル 1 6に発生した駆動力と逆方向である矢印 C方向に移動する。これにより磁気ディスク 2 0に対する磁気ヘッド 1 9の位置決めを行うことができる。【0 0 0 5】上述した V CMに用いられる永久磁石部材 1 0としては、優れた磁気特性が得られることから、 R— T一 B系の希土類永久磁石材料（Rは Yを含む希土類元素の 1種又は 2種以上、 Tは、 F e、又は、 F e及び C oを必須成分として含む 1種又は 2種以上の遷移金属元素を示す）を含むものが用いられている。この希土類永久磁石材料は、主たる構成元素である Rや F eが極めて酸化されやすく、耐食性が低いものである。このため、永久磁石部材 1 0として用いる場合には、通常、上記希土類永久磁石材料からなる磁石素体の表面を耐食被膜によって被覆する。このような耐食被膜としては、耐食性、信頼度、清浄度等に優れる N i又は N i合金めつきが多く採用されている。一方、ヨーク 1 5としては、表面に無電解 N iめっきが施された珪素鋼板が多く用いられている。

【0 0 0 6】ところで、近年の情報処理の高速化に対応するために、データ記憶手段である H D Dには更なる高速駆動が求められている。そのためには、磁気ディスク 2 0の高速回転化や、これに対応するための V C Mの高速駆動が必要となる。従来の V CMにおいては、上述の如く、永久磁石部材 1 0はヨーク 1 5に固定された状態で用いられるが、この永久磁石部材 1 0の固定は、接着剤層を介して行われることが一般的である。そして、高速駆動を行う際の V CMの耐久性を十分に確保するためには、永久磁石部材 1 0とヨーク 1 5とは強固に接着されていることが望ましい。，【0 0 0 7】特開 2 0 0 2— 1 5 8 1 0 5号公報には、永久磁石部材における N iめっき膜の表面に、特定組成の処理液を用いてリン酸塩処理を行う方法が開示されている。この方法においては、 N iめっき膜上に所望の厚さのリン酸塩被膜が形成される。このような磁石によれば、 N iめっき膜に対して反応不活性な接着剤の硬化不良を効果的に解消することができる。これにより、接着剤による接着強度のばらつきを小さくすることができ、しかも従来に比して大きな接着強度を得ることができるようになる。その結果、接着作業の更なる効率化を実現できるようになる。発明の開示

【0 0 0 8】このように、上記従来のように N iめっき膜表面に特定組成の処理液を用いてリン酸塩処理を行った永久磁石部材によれば、接着剤により当該磁石の接着を行う際の接着強度を改善することができる。しかし、近年では、永久磁石部材として、特に V CMに用いる場合に、ヨーク等への優れた接着性を発揮し得るものが求められている。

【0 0 0 9】そこで、本発明は、 V CMに用いる永久磁石部材であって、上記従来技術とは異なる手法によってヨークへの接着性を改善した V C M用永久磁石部材を提供することを目的とする。本発明はまた、このような永久磁石部材を備える V C Mを提供することを目的とする。

【0 0 1 0】上記目的を達成するために、本発明者らは、 V C M用の永久磁石部材のヨークに対する接着面の形状と、永久磁石部材とヨークとの接着強度の関連について検討を行った。その結果、永久磁石部材が、その厚さの最大値及ぴ最小値を有しており、しかも、この最大値と最小値の差が所定の範囲にある場合に、ヨークに対する優れた接着性が得られることを見出した。これは、この V CM用の永久磁石部材におけるヨークに対する接着面に、両者を接着するための接着剤を保持するのに有益な空間が形成されるためであると考えられる。

【0 0 1 1】本発明は上記知見に基づいてなされたものであり、短周縁と、この短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁と、短周縁及び長周縁を結ぶ一対の側周縁とを有しており、扇型の平面形状を有する磁石素体と、磁石素体の表面に被覆された耐食皮 J3莫とを備えた V CM用永久磁石部材であって、当該 V CM用永久磁石部材の厚さの最大値と最小値の差が 1 0〜1 5 Ο μ πιである V C M用永久磁石部材を提供する。

【0 0 1 2】このように、上記 V CM用永久磁石部材は、その厚さに最大値と最小値とを有している。このため、 V CM用永久磁石部材は、接着剤層を介して V CMにおけるヨークに接着される際に、その接着面に接着剤を保持しておける空間を有するようになる。よって、かかる V CM用永久磁石部材をヨークに接着させる場合には、従来のように平らな面同士の接着を行った場合に比して、より多量の接着剤が両者の間に介在された状態となる。その結果、 V CM用永久磁石部材は、ヨークに対して強固に接着されるようになる。

【0 0 1 3】上記 V CM用永久磁石部材においては、上述した最大値及ぴ最小値は、以下に示すようにして存在していると好ましい。すなわち、短周縁、長周縁及ぴ側周縁からなる周縁部に沿つて厚さの最大値が存在し、この周縁部に囲まれた領域に厚さの最小値が存在すると好ましい。

【0 0 1 4】こうすれば、 V CM用永久磁石部材は、上述した周縁部に沿った領域が、周縁部に囲まれた領域を基準として突出した形状を有するものとなる。このような形状を有する V CM用永久磁石部材によれば、ヨークに接着させる際に、上記周縁部に囲まれた領域に形成された空間に接着剤を保持することができる。このため、 V CM用磁石部材とヨークとの間に、より多量の接着剤を保持することが可能となり、両者の接着強度が一層向上する。

【0 0 1 5】上述した V CM用永久磁石部材の形状は、以下に示す態様で形成されるものである。すなわち、まず、耐食皮膜は、短周縁、長周縁及び側周縁からなる周縁部に沿つて厚さの最大値が存在し、この周縁部に囲まれた領域に厚さの最小値が存在するものであるとよい。かかる態様は、換言すれば、周縁部における耐食皮膜の厚さが他の領域に比べて厚くなつている状態であるということができる。

【0 0 1 6】この場合、磁石素体は、その厚さが略均一であるか、または、周縁部における厚さが他の領域に比べて薄くなっていてもよい。磁石素体がこのような形状であっても、耐食被膜は上述したように形成されているため、 V C M用永久磁石部材は、その周縁部が突出した形状を有するものとなる。

【0 0 1 7】一方、磁石素体は、その周縁部の厚さが他の領域に比べて厚くなつているものであってもよい。この場合、耐食皮膜は、その厚さが略均一であることが好ましい。このような V CM用永久磁石部材も、その周縁部が突出した形状を有するものとなる。

【0 0 1 8】また、本発明の V C M用永久磁石部材は、その厚さが 5 mm以下であり、耐食皮膜は、 N i又は N i合金からなる電気めつき膜から構成されるものであり、且つ、耐食被膜の膜厚は、 5〜6 0 mの範囲にあるものであるとより好ましい。かかる構成を有する V CM用永久磁石部材は、一般的な V CMに対して良好に適用でき、汎用性が高いものとなる。

【0 0 1 9】本発明はまた、上記本発明の V CM用永久磁石部材を備えて好適な V C Mを提供する。すなわち、本発明の V CMは、所定の間隔を隔てて対向配置される一対のヨークと、一対のヨーク間において接着剤層を介してヨークの各々に接着される永久磁石部材と、所定の軸を中心にして回動自在に設けられた回動部材に搭載され、永久磁石部材と前記ヨークとから形成される磁気空隙内に配設されるコイルとを備え、永久磁石部材のヨークとの接着面は、その周縁部が当該周縁部に囲まれる領域よりも 5〜7 5 の範囲で突出していることを特徴とする。 '

【0 0 2 0】このような構成を有する V CMにおいては、永久磁石部材におけるヨークとの接着面が上述した形状を有していることから、永久磁石部材とョ一クとの間に空間が形成されている。そして、永久磁石部材とヨークとを接着している接着剤層は、この空間を満たすように形成されている。よって、上記構成を有する V CMにおいては、従来のように永久磁石部材どヨークとを平らな面で接着させた場合に比して、より多量の接着剤が両者の間に保持された状態となる。その結果、 V CMは、永久磁石部材とヨークとが強固に接着されたものとなる。

【0 0 2 1】上述の如く、本発明の V CM用永久磁石部材は、ヨークに対して接着を行う面に、接着剤を保持できるような所定の空間を有するものである。このような観点からは、本発明の V CM用永久磁石部材は、磁石素体とこの磁石素体の表面上に形成された耐食被膜とを備えており、互いに対向する第 1の面及び第 2の面を有する平板状のボイスコイルモータ用永久磁石部材であって、第 1の面及び第 2の面のうち少なくとも一方の面には凹部が形成されており、この凹部における最深部と接平面との間の距離が 5〜 7 5 μ mとなっていることを特徴とするものであってもよい。

【0 0 2 2】かかる形状を有する V CM用永久磁石部材によっても、ヨークとの接着部位に、上述した V CM用磁石部材を用いた場合と同様の空間を形成することができる。

【0 0 2 3】また、このように特定される V C M用永久磁石部材も、上述したものと同様の形状を有していると好ましい。すなわち、当該ボイスコイルモータ用永久磁石部材は、短周縁と、短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁と、短周縁及び長周縁を結ぶ一対の側周縁とを有しており、且つ、扇型の平面形状を有していると好ましレ、。さらに、第 1の面と第 2の面との距離が 5 mm以下であり、且つ、耐食被膜の膜厚が 5〜 6 0 μ mであるとより好ましい。

図面の簡単な説明

【0 0 2 4】図 1は、実施形態に係る V C M用永久磁石部材を示す平面図である。

図 2は、図 1に示した V C M用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 1 の形態を示す図である。

図 3は、図 1に示した V C M用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 2 の形態を示す図である。

図 4は、図 1に示した V C M用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 3 の形態を示す図である。

図 5は、実施形態の V CMを示す斜視図である。

図 6は、図 5に示した V C Mにおける、 V CM用永久磁石部材とヨークとの接着部分の断面構造を模式的に示す図である。

図 7は、従来の V CMを示す斜視図である。発明を実施するための最良の形態

【0 0 2 5】以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

【0 0 2 6】実施形態の V CM用永久磁石部材は、磁石素体と、この磁石素体の表面を被覆するように設けられた耐食被膜としての N i又は N i合金めつき

(以下、これらをまとめて「N iめっき」とレヽう）とを備えている。

【0 0 2 7】図 1は、実施形態に係る V CM用永久磁石部材を示す平面図である。また、図 2〜図 4は、図 1に示した V CM用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 1〜第 3の形態を示す図である。 V C M用永久磁石部材 1 0は、短周縁 1 1、短周縁 1 1に所定間隔を隔てて対向している長周縁 1 2、並びに、短周縁 1 1と長周縁 1 2とを結ぶ側周縁 1 3及び側周縁 1 4を有している。また、この V CM用永久磁石部材 1 0は、これらの短周縁 1 1、長周縁 1 2及び側周縁 1 3 , 1 4からなる周縁部 3 0の上下に、上面 3 2 (第 1の面）及ぴ底面 3 3 (第 2の面）を有する平板状の形状となっている。さらに、この V CM用永久磁石部材 1 0は、扇型の平面形状を有している。

【0 0 2 8】上記構成を有する V CM用永久磁石部材 1 0は、好ましくはその厚さが 5 mm以下となっている。ここで、 V CM用永久磁石部材 1 0の厚さとは、上面 3 2と底面 3 3との間の距離をいい、図 2〜図 4において tで表される距離である。この厚さ tは、図示されるように、磁石素体 1の厚さ t lと、耐食被膜である N iめっき膜 2の厚さ t 2との合計の厚さを示している。この V CM用永久磁石部材 1 0の厚さ tは、適宜、 3 mm以下又は 2 mm以下であってもよい。

【0 0 2 9】また、 V CM用永久磁石部材 1 0は、扁平率が 1 0 0以上となるような薄型の永久磁石部材であり、上述の如く、平板状の形状を有している。ここで、扁平率とは、 V CM用永久磁石部材 1 0を平面部の面積（平面視した面積）を、 V CM用永久磁石部材 1 0の厚さ tで割った値で定義される。

【0 0 3 0】ここで、図 5及び図 6を参照して、実施形態に係る V CMについて説明する。図 5は、実施形態の V C Mを示す斜視図である。また、図 6は、 V CM用永久磁石部材 1 0とヨーク 1 1 5との接着部分の断面構造を模式的に示す図である。

【0 0 3 1】 V C M 1 0 0は、互いに対向する一対のヨーク 1 1 5と、一対のヨーク 1 1 5間に配置され、各ヨーク 1 1 5にそれぞれ接着された V CM用永久磁石部材 1 0と、この一対の V CM用永久磁石部材 1 0間に位置するコイル 1 1 6が搭載され、軸 1 1 8を中心にして回動可能に設けられたへッドキヤリッジ 1 1 7 (回動部材）とを備えている。このヘッドキャリッジ 1 1 7におけるコイル 1 1 6は、ヨーク 1 1 5及び V CM用永久磁石部材 1 0により形成された磁気空隙内に配設されている。また、 V CM用永久磁石部材 1 0は、接着面 1 2 4においてヨーク 1 1 5に接触した状態となっている。

【0 0 3 2】また、この V CM 1 0 0における V C M用永久磁石部材 1 0は、接着剤層 1 2 2を介してヨーク 1 1 5に接着されている（図 6参照）。さらに、へッドキヤリッジ 1 1 7におけるコイル 1 1 6に対して反対側の端部には、デイスク 1 2 0へのデータの記録又はディスク 1 2 0からのデータの読み出しを行うための磁気へッド 1 1 9が設けられている。

【0 0 3 3】そして、 V CM 1 0 0は、図 7を参照して上述したのと同様に動作する。すなわち、コイル 1 1 6に所定の電流が通電されると、コィノレ 1 6に矢印 A方向への駆動力が発生し、これにともなつてへッドキヤリッジ 1 1 7力軸 1 1 8を中心にして矢印 B方向に回動する。このような V CMの動作によって、へッドキヤリッジ 1 1 7の先端部に搭載された磁気へッド 1 1 9が矢印 C方向に移動する。これにより、これにより磁気ディスク 1 2 0に対する磁気ヘッド 1 1 , 9の位置決めを行うことができる。

【0 0 3 4】以下、再び図 1〜図 4を参照して、 V CM用永久磁石部材 1 0について説明する。 V CM用永久磁石部材 1 0は、その厚さ tが均一ではなく、厚さ tの最大値と最小値とを有している。この V C M用永久磁石部材 1 0は、上述の如く、 VCM1 00において、接着剤層 1 22を介してヨーク 1 15に接着、固定される。

【0035】本発明者らが詳細な検討を行ったところ、 V CM用永久磁石部材 10は、上述した厚さ tの最大値（t ma X ) と最小値（tm i n) との差（ t ma x— tm i n) 力 10〜： 1 50 mの範囲である場合に、ヨーク 1 1 5に対して高い接着強度が得られることが判明した。これは、以下に示す理由に基づくものと考えられる。

【0036】 V CM用永久磁石部材 10は、このような厚さ tの最大値と最小値とを有していることから、上面 32又は底面 33の少なくとも一方に、他方の面側に窪む凹部 36が形成された形状を有している。このため、この VCM用永久磁石部材 1 0とヨーク 1 1 5との接着部分には、上述した凹部 36に基づく空間が形成されている。これらの接着は、接着剤層 1 22を介して行われていることから、この空間には、接着剤層 122を構成する接着剤が保持された状態となつている。そして、このように、かかる空間に接着剤が保持された結果、上述したような高い接着強度が発現しているものと考えられる。

【0037】ここで、 t m a X— t m i nの値が 10 μ m未満であると、十分な接着強度の向上効果が得られない傾向にある。一方、 tma x— tm i nが 1 50 / mを超えると、空間に保持される接着剤の量が多くなりすぎて、接着剤の乾燥、固化までの時間が長時間となり、このため接着強度が不十分となる傾向にある。したがって、 V CM用永久磁石部材 10においては、 tma x— tm i'n の値は 1 0〜 150 mに設定される。この値は、 30〜 100 μιηであるとより好ましく、 40〜70 μπιであるとより好ましレヽ。

【0038】 V CM用永久磁石部材 10における、厚さの最大値及び最小値は、当該 V CM用永久磁石部材 10の周縁部 30が他の部分よりも厚くなるようにして設けられているとより好適である。このように周縁部 30の厚さ tが厚くされると、 V CM用永久磁石部材 10の上面 32及び底面 33は、クレーター状の凹部 3 6を有するようになり、この凹部 3 6において有効に接着剤を保持することができるようになる。

【0 0 3 9】なお、この最大値と最小値の差の値は、 V CM用永久磁石素体 1 0の厚さを基準にして設定しているため 1 0〜1 5 0 At mとされているが、上述したような凹部 3 6を有効に形成する観点からは、必ずしもこのような基準に基づく値でなくてもよレ、。

【0 0 4 0】例えば、上述したように周縁部 3 0が他の領域よりも突出している場合には、この周縁部 3 0が他の領域に対して十分に突出していれば、周縁部 3 0に囲まれた領域 1 2 6に形成される空間に接着剤を良好に保持することができる。この場合、 t m a Xの部分の t m i nの部分に対する突出量（すなわち、周縁部 3 0の他の領域に対する突出量）は、 t m a X— t m i nの値の 1 Z 2であればよい。つまり、 V C M用永久磁石部材 1 0の、ヨーク 1 1 5との接着面 1 2 4における周縁部 3 0は、その他の領域に対して 5〜7 5 μ πιの範囲で突出していればよい。このような突出量を示す値としては、周縁部 3 0が突出されることによって上面 3 2又は底面 3 3に形成された凹部 3 6における最深部と接平面 Ρとの間の距離 t 3を採用することができる。

【0 0 4 1】 V C M用永久磁石部材 1 0において t m a X— t m i nの値を 1

0〜1 5 0 mとするための手法としては、以下に示す 3つの手法が挙げられる。すなわち、第 1の手法においては、磁石素体 1の厚さ t 1を均一とし、 N iめつき膜 2の厚さ t 2を変動させる。また、第 2の手法においては、磁石素体の厚さ t 1及び N iめっき膜 2の厚さ t 2の両方を変動させる。さらに、第 3の手法においては、磁石素体 t 1の厚さを変動させ、且つ N iめっき膜 2の厚さ t 2を均一にする。

【0 0 4 2】以下、それぞれの手法について説明する。なお、以下に説明するいずれの手法においても、 V CM用永久磁石部材 1 0の上面 3 2又は底面 3 3にクレーター状の凹部 3 6が形成されている。【0 0 4 3】まず、第 1の手法を説明する。図 2は、図 1に示した V C M用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 1の形態を示す図であり、第 1の手法が適用された V C M用永久磁石部材 1 0を示すものである。

【0 0 4 4】図 2に示すように、第 1の手法が適用された V CM用永久磁石部材 1 0は、磁石素体 1の厚さ t 1が均一となっている。一方、 N iめっき膜 2の厚さ t 2は、短周縁 1 1及び長周縁 1 2に沿った領域が厚くなるように形成されている。このため、かかる V CM用永久磁石部材 1◦の厚さ tは、短周縁 1 1及び長周縁 1 2に沿った領域において最大値となっている。また、この厚さ tは、短周縁 1 1及び長周縁 1 2の間に存在する V CM用永久磁石部材 1 0の中心部 c において最小値となっている。

【0 0 4 5】ここで、第 1の手法における N iめっき膜 2を形成させる方法について説明する。 N iめっき膜 2は、電気めつきにより形成することができる。この電気めつきの際には、 V CM永久磁石部材 1 0における周縁部 3 0には多方向から電界が印加される。このため、この部分の電流密度が大きくなる。一方、上面 3 2及ぴ底面 3 3には、垂直方向からの電界しか印加されないため、上述した部分に比して相対的に電流密度が小さくなる。

【0 0 4 6】よって、このような電流密度の差を利用すれば、図 2に示すように短周縁 1 1に沿った領域の膜厚 t 2を、中心部 cにおける膜厚 t 2よりも厚くすることが可能となる。周縁部 3 0のなかでも、図 1において一点鎖線で囲まれた領域、すなわち、短周縁 1 1と側周縁 1 3との交点部分、短周縁 1 1と側周縁 1 4との交点部分、長周縁 1 2と側周縁 1 3との交点部分、長周縁 1 2と側周縁 1 4との交点部分における電流密度が高く、この領域の N iめっき膜 1 2の厚さ t 2が厚くなりやすい。

【0 0 4 7】さらに、これらのなかでも、交点部分の角度が鋭角となる長周縁 1 2と側周縁 1 3との交点部分及び長周縁 1 2と側周縁 1 4との交点部分の電流密度が高いため、当該領域の N iめっき膜の厚さ t 2が最大値となりやすい。【0 0 4 8】次に、第 2の手法を説明する。図 3は、図 1に示した V C M用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 2の形態を示す図であり、第 2の手法が適用された V CM用永久磁石部材 1 0を示すものである。

【0 0 4 9】図 3に示すように、第 2の手法が適用された V CM用永久磁石部材 1 0においては、磁石素体 1の厚さ t 1及び N iめっき膜 2の厚さ t 2の両方が変動している。すなわち、磁石素体 1の厚さ t lは、周縁部 3 0 (図 3における短周縁 1 1及び長周縁 1 2 ) の近傍領域が薄くされている。一方、 N iめっき膜 2の厚さ t 2は、短周縁 1 1及び長周縁 1 2に沿った領域が厚くされている。

【0 0 5 0】この短周縁 1 1及び長周縁 1 2に沿った領域の N iめっき膜 2の厚さ t 2は、磁石素体 1の周縁部 3 0が薄くされた厚さよりも大きく設定されている。このため、 V CM用永久磁石部材 1 0は、周縁部 3 0が厚くなつており、その結果、上面 3 2及ぴ底面 3 3には、クレーター状の凹部 3 6が形成されている。

【0 0 5 1】このように、第 2の手法が適用された V CM用永久磁石部材 1 0 においても、周縁部 3 0の厚さ tが最大値を示し、短周縁 1 1及ぴ長周縁 1 2の間に存在する中心部 cの厚さ tが最小値を示している。

【0 0 5 2】第 2の手法における、磁石素体 1及び N iめっき膜 2の上述した形状は、以下に示すようにして形成することができる。すなわち、まず磁石素体 1における周縁部 3 0の近傍領域の厚さ tを薄くする方法としては、磁石素体 1 にバレル研磨を施すか、又は、 N iめっき膜 2を形成する前に酸によるエツチング処理を施す等の方法が採用できる。

【0 0 5 3】これらの方法においては、いずれも周縁部 3 0の近傍領域が薄くなるように適宜条件を設定する。例えば、エッチング処理を施す場合には、エツチング処理の時間を調整する等の方法がある。このように磁石素体 1における周縁部 3 0の近傍領域の厚さ t 1を薄くする際には、当該領域が他の領域に比べて 2 0〜1 0 0 /z m程度薄くなるようにするとよレヽ。なお、 N iめっき膜 2は、上記第 1の手法において行つたのと同様にして形成させることができる。

【0 0 5 4】次に、第 3の手法を説明する。図 4は、図 1に示した V CM用永久磁石部材の A— A線に沿う断面構造の第 3の形態を示す図であり、第 3の手法が適用された V CM用永久磁石部材 1 0を示すものである。

【0 0 5 5】図 4に示すように、第 3の手法が適用された V C M用永久磁石部材 1 0においては、 N iめっき膜 2の厚さ t 2が均一となっている。一方、磁石素体 1は、短周縁 1 1及ぴ長周縁 1 2に沿った領域が厚くなつている。このため、この V C M用永久磁石部材 1 0においても、周縁部 3 0の厚さ tが最大値を示し、短周縁 1 1及び長周縁 1 2の間に存在する中心部 cの厚さ tが最小値を示している。

【0 0 5 6】このように N iめっき膜 2の厚さ t 2を均一にするためには、電気めつき時の電流密度を低く制御すればよい。また、上述した形状の磁石素体 1 は、その中心部 cの近傍領域の厚さ t 1が薄くなるような条件でバレル研磨又はエッチングを行うことによって形成することができる。

【 0 0 5 7】好適な実施形態に係る V CM用永久磁石部材としては、上述したような態様のものが挙げられるが、いずれの態様の V CM用永久磁石部材 1 0においても、 N iめっき膜 2は、その厚さ t 2が 5〜6 0 i mであると好ましレ、。

【0 0 5 8】 N iめっき膜 2の厚さが 5 / m未満であると、磁石素体 1に対して鏡面研磨を行ったとしても、 N iめっき膜 2にピンホールが形成されやすい傾向にある。 N iめっき膜 2にこのようなピンホールが形成されると、この部分をもとに磁石素体 1の腐食が進行してしまうおそれがある。一方、 t 2が厚くなると、 V CM用永久磁石部材 1 0における磁石素体の体積が相対的に小さくなつてしまい、これにより V CM用永久磁石部材 1 0の磁気特性が低下する傾向にある。かかる不都合を回避するためには、 t 2は 6 0 μ πι以下とすることが好ましい。【0 0 5 9】十分な耐食性及び磁気特性を得る観点からは、 N iめっき膜 2の厚さ t 2は、 1 0〜3 0 μ ιηとすることがより好ましい。また、この厚さ t 2は、上述したように、 V CM用永久磁石部材 10において一定ではなく変動することも多レ、。なお、このように厚さ t 2が変動する場合であっても、全ての領域における t 2が上述した厚さの範囲となることが望ましい。このような N iめっき膜 2としては、ラックめつき又はバレルめつきが適宜選択される。

【0060】なお、 VCM用永久磁石部材 10に形成させる N iめっき膜としては、様々な種類の N iめっき膜を適用でき、いずれの N iめっき膜であっても接着"生が大幅に変化することはない。そこで、磁石素体 1と N iめっき膜 2との接着強度を向上させるために、磁石素体 1と N iめっき膜 2との間に、両者の界面にかかる応力を低減させることができる下地層（図示せず）を設けてもよい。この下地層は、 Cuを主成分として含有するものであると好ましい。

【0061】このような下地層を設けることで、接着後の V CM用永久磁石部材 1 0に過重がかかった場合に、例えば Cuからなる柔らかい下地層によって、磁石素体 1と N iめっき膜 2との間に生じる応力が一箇所に集中するのが抑制される。これによつて、磁石素体 1と N iめっき膜 2との接着強度が高められる。このような下地層の厚さは特に制限されないが、 5〜1 0 μπιであると好ましレ、。なお、本発明の VCM用永久磁石部材においては、このような下地層は、耐食被膜の概念に含まれる。，【0062】次に、 V CM永久磁石部材 1 0における磁石素体 1について説明する。

'【0063】実施形態に係る磁石素体 1は、 R (Rは、 Yを含む希土類元素の

—種又は 2種以上を示す）、 TM (TMは、 F e、又は、 F e及び Coを必須成分として含む 1種又は 2種以上の遷移金属元素を示す）、及び、 Bを含む R— TM— B系希土類磁石である。

【0064】希土類元素 Rとしては、 Nd、 P r、 Ho及び Tbのうちの少なくとも 1種、またこれらに加えて、 L a、 Sm、 C e、 Gd、 E r、 Eu、 Pm、

Tm、 Yb、 Yのうち 1種以上を含むものが好ましい。なお、 Rとして 2種以上の元素を含有している場合、その原料としては、ミッシュメタル等の混合物を用いることもできる。

【0 0 6 5】磁石素体 1においては、 Rの含有量は、 5 . 5〜3 0原子％でぁると好ましい。 Rの含有量が少なすぎると、すなわち 5 . 5原子％未満であると、磁石の結晶構造が α鉄とほぼ同じ立方晶組織となり、高い保持力（以下、保持力を「i H c」という）が得られ難くなる傾向にある。一方、 Rの含有量が多すぎると、すなわち、 3 0原子％を超えると、 Rリツチな非磁性相が過度に多くなり、残留磁束密度（以下、「： B r」という）が小さくなる傾向にある。

【0 0 6 6】また、 TMの含有量は、 4 2〜 9 0原子％であると好ましい。 T Mの含有量が少なすぎると（4 2原子％未満であると）、 B rが低下する傾向にある。一方、多すぎると（9 0原子％を超えると）、 i H eが低下する傾向にある。また、 TMとして、 F eのほかに C oを含有させてもよい。こうすれば、磁気特性を低下させることなく温度特性を改善することができる。この場合、 F eに対する C oの置換量は、 5 0 %以下とすることが好ましい。 C oの置換量が 5 0 % を超えると、磁気特性が劣化する場合がある。

【0 0 6 7】さらに、 Bの含有量は、 2〜 2 8原子％であると好ましい。 Bの含有量が少なすぎると（2原子％未満であると）、磁石の結晶構造が菱面体構造となり、 i H cが不十分となる傾向にある。一方、多すぎると（2 8原子％を超えると）、 Bリッチな非磁性相が過度に多くなり、 B rが低下する傾向にある。【0 0 6 8】磁石素体 1を構成する R— TM—B系希土類磁石においては、上述した R、 TM及ぴ Bのほかに、不可避的不純物として、 N i、 S i、 A l、 C u、 C a等を、全体の 3原子％以下の量となる範囲で含有していてもよい。

【0 0 6 9】また、 Bの一部を、 C、 P、 S及ぴ C uのうちの一種以上の元素で置換することもできる。これにより、磁石素体の製造が容易となり、生産性が向上するほか、製造コストの低減も図れるようになる。この場合、置換量は全体の 4原子％以下であることが好ましい。また、 i H cの向上、並びに生産性の向上及び製造コストの低減等を図る観点から、 A 1、 T i、 V、 C r、 Mn、 B i、 Nb、 T a、 Mo、 W、 S b、 G e、 Sn、 Z r、 N i、 S i、 H f 等の元素を一種以上添加してもよい。これらの添加量も、磁気特性に影響を及ぼさない範囲であると好ましく、構成原子総量に対して 10原子％以下とすることが好ましい。【0070】上述した構成を有する磁石素体 1は、実質的に正方晶系の結晶構造の主相を有するものである。この主相の粒径は、 1〜100//m程度であると好ましい。そして、この磁石素体 1は、体積比で 1〜 50 %の非磁性相を含有している。

【007 1】次いで、好適な実施形態に係る V CM用永久磁石部材 1の製造方法について説明する。

【0072】 VCM用永久磁石部材 1の製造においては、まず、磁石素体 1を製造する。磁石素体 1は、粉末治金法によって好適に製造される。このような粉末治金法による磁石素体 1の製造は、以下に示すようにして実施することができる。

【0073】すなわち、まず、所望の組成を有する合金を、鏡造法ゃストリップキャスト法等の公知の合金製造プロセスにより作製する。次に、得られた合金を、ジョークラッシャー、ブラウンミル、スタンプミル等の粗粉砕機を用いて 1 0〜10 Ο μπιの粒径となるように粗粉砕した後、更にジェットミル、アトライター等の微粉砕機により 0. 5〜 5 μ mの粒径となるように微粉砕する。

【0074】 + こうして得られた粉末を、好ましくは磁場のなかで圧力を加えて成形する。成形時の磁場強度は、 955〜 1 353 k A/m (1 2. 0〜 1 7. O kOe) であると好ましい。また、成形圧力は 0. 5〜5 トン/ cm²程度であると好ましい。次いで、得られた成型体を、 1000〜1 200°Cで 0. 5〜 10時間焼結した後、急冷して焼結体を得る。この焼結時の雰囲気は、 Arガス等の不活性ガスであることが好ましい。

【0075】さらに、この焼結体に、好ましくは不活性ガス雰囲気中、 500 〜9 0 0 °Cで 1〜5時間の熱処理（時効処理）を行い、磁石素体 1を得る。この時効処理は、 2段階に分けて行ってもよい。時効処理を 2段に分けて行う場合には、 8 0 0 °C近傍、及ぴ 6 0 0 °C近傍で、所定時間保持することが有効である。特に、焼結後に 8 0 0 °C近傍での熱処理を行うと、磁石素体 1の保磁力が増大する傾向にあるため、混合法においては特に有効である。なお、保磁力は、 6 0 0 °C 近傍の熱処理で大きく増加する傾向にあることから、時効処理を 1段で行う場合には、時効処理は 6 0 0 °C近傍で行うことが好ましい。こうして得られた磁石素体 1は、 Rは N dである場合に特に優れた磁気特性を有するものとなる。ただしこの場合、 C軸と垂直な方向に負の膨張係数を有することが知られている。【0 0 7 6】このようにして磁石素体 1を形成した後、 N iめっき膜 2を形成させる前に、磁石素体 1の表面に所定の処理を施すことが好ましい。具体的には、磁石素体 1の表面を脱脂処理した後、酸による化学エッチング等を施し、磁石素体 1の表面を清浄化するための前処理を行う。なお、この前処理は任意の処理であり、必ずしも実施する必要はないが、かかる前処理によって、磁石素体 1の表面の汚れを除去することができ、これにより良好に N iめっき膜 2を形成できるようになる。なお、脱脂処理の前には、磁石素体 1に表面のバリ等を除去するためのバレル研磨を行ってもよい。

【0 0 7 7】上述した脱脂処理においては、通常の鉄鋼等に使用される脱脂液を特に制限なく用いることができる。このような脱脂液としては、一般に N a O Hを主成分として含んでおり、更に任意の添加剤を含有しているものが用いられる。

【0 0 7 8】また、化学エッチングにおいて使用する酸としては、硝酸を用いることが好ましい。一般の鋼材に対してめつき処理を行う際、前処理の化学エツチングにおいては、塩酸、硫酸等の非酸化性の酸が用いられることが多い。ところが、磁石素体 1のように希土類元素を含有するものに対してこれらの酸化性の酸を用いて処理を行うと、この酸によって発生する水素が磁石素体 1の表面に吸蔵されてしまう場合がある。こうなると、かかる吸蔵部位が脆弱化して多量の粉状の未溶解物が発生するおそれがある。このような粉状の未溶解物は、表面処理後にも磁石素体 1の表面に残存してこの表面を粗くしてしまい、これが当該表面上に形成される N iめっき膜 2の欠陥や密着不良を引き起こす原因となる。このため、希土類元素を含有している磁石素体 1に対しては、上述した非酸化性の酸はエッチング用の処理液には含有させないことが望ましい。

【0 0 7 9】よって、磁石素体 1に対する化学エッチングには、水素の発生が少ない酸化性の酸である硝酸を用いることが好ましい。また化学エッチングに際しては、このような硝酸に加えてアルドン酸又はその塩を含有させることが好ましい。アルドン酸又はその塩は、磁石素体 1の表面に目視で確認できないような微小な凹凸を形成する作用を有している。磁石素体 1にこのような凹凸が多数形成されていると、 N iめっき膜 2形成後の V CM用永久磁石部材 1 0も、その表面に同様の凹凸を有するようになる。

【0 0 8 0】そして、表面にこのような凹凸が形成された V CM用永久磁石部材 1 0は、接着剤層 1 2 2に対する密着性に極めて優れるものとなる。その結果、 V C M用永久磁石部材 1 0とヨーク 1 1 5との接着性が更に良好となる。なお、このような磁石素体 1の表面に微小な凹凸を形成させる作用は、アルドン酸又はその塩に特異的であり、他の有機酸、例えばクェン酸、酒石酸等では実現されない。

【0 0 8 1】上述した前処理による磁石素体 1表面の溶解量は、好ましくは表面から 5 μ ηι以上、より好ましくは 1 0〜1 5 μ πιの磁石素体が除去される程度の量とする。この溶解量が少なすぎると、磁石素体 1の表面を加工することにより形成された変質層や酸化層を十分に除去することができず、この上に形成させる N iめっき膜 2が良好に形成され難くなる傾向にある。こうなると、 V CM用永久磁石部材 1 0の耐食性が著しく悪化するおそれがある。

【0 0 8 2】また、前処理に用いる処理液中の硝酸濃度は、好ましくは 1規定以下、より好ましくは 0 . 5規定以下である。この硝酸濃度が高すぎると（1規定を超えると）、磁石素体 1の溶解速度が過度に速くなり、溶解量の制御が困難となる傾向にある。こうなると、特にバレル処理のような大量処理を行う際に、個々の磁石素体に対する溶解量のばらつきが大きくなり、製品の寸法精度を維持し難くなる。一方、硝酸濃度が低すぎると、溶解量が不十分となる傾向にある。したがって、硝酸濃度は 1規定以下とすることが好ましく、 0 . 5〜0 . 0 5規定とすることがより好ましい。なお、処理終了時において、処理液に対して溶解されている F eの量は、 1〜： 1 0 g / L程度とする。

【0 0 8 3】上述したような前処理を行った後、磁石素体 1には、更に超音波を使用した洗浄を行うことが好ましい。このような超音波洗浄によって、磁石素体 1に残存した少量の未溶解物、残留酸成分をほぼ完全に除去することができる。かかる超音波洗浄は、磁石素体 1の表面に鲭を発生するおそれがある塩素イオンが極めて少ないイオン交換水を用いて行うことが好ましい。なお、この超音波洗浄の前後、及ぴ、前処理の前後には、同様のイオン交換水を用いた水洗を必要に応じて行ってもよレ、。

【0 0 8 4】その後、上述した前処理が施された磁石素体 1の表面上に、電気めっき法により N iめっき膜 2を形成させる。このような電気めつき法により N iめっき膜 2を形成することによって、高性能な耐食被膜である N iめっき膜 2 を、低コストで形成することができる。この電気めつきに用いるめっき浴としては、塩化 N iを含有しないワット浴、スルファミン酸浴、ほうブツイ匕浴、臭化 N i浴等が挙げられる。

【0 0 8 5】なお、本発明による V CM用永久磁石部材及ぴこれを備える V C Mは、上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態の V CM 1 0 0は、一対のョーク 1 1 5の両方に V CM用永久磁石部材 1ひが接着されたものであつたが、図 7に示した V CMと同様、いずれか一方のヨーク 1 1 5にのみ V CM用永久磁石部材 1 0が接着されたものであってもよい。ただし、 VCMから発生する振動を効果的に低減する観点からは、両方のヨーク 1 1 5に VCM用永久磁石部材 1 0 が接着されていることが好ましい。

[実施例]

【0086】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

(V CM用永久磁石部材の製造）

【0087】まず、 1 3. 8原子％Nd— l. 2原子％0 ー77. 1原子⁰ /₀ F e - 1. 1原子⁰ /₀ C o— 6. 8原子％ Bの組成を有する合金鎵塊を得た。この铸塊に対して、室温にて水素を吸蔵させた後に A r雰囲気中で 600°Cxl時間の脱水素を行う、水素粉碎処理を行った。次に、ジョークラッシャーを用いて水素粉砕された合金を粗粉砕した後、ジェットミルにより微粉碎を行い、これにより平均粒径 3. 5 mの微粉末を得た。

【0088】得られた微粉末を、 1 1 94 k A/m (1 5 kO e) の磁場中、 1. 2 トンノ cm²の圧力で成型して成型体を得た。次いで、この成型体を、 Ar 雰囲気中、 1 100°Cで 2時間焼結して焼結磁石を得た。…さらに、この焼結磁石に、 800°CX 1時間と 550°CX 2. 5時間（ともに A r雰囲気中）の 2段階の時効処理を施した。

【0089】その後、焼結磁石を図 1に示す形状に切り出し、磁石素体 1を得た。なお、磁石素体 1の切り出しに'際しては、平面部面積（磁石素体 1を平面視した面積）を 28 Omm²と一定にし、それぞれ厚さの異なる 4種類の磁石素体を切り出した。具体的には、それぞれの厚さを、表 1に示すように、 1. 370m m (No. 1)、 1. 460 mm (No. 2)、 1. 410mm (No. 3) 及ぴ 1. 300mm (No. 5) とした。なお、これらの磁石素体 1はいずれも扁平率が 100以上である。

【0090】またこれと並行して、切り出された磁石素体 1に対してバレル研磨を施した後にエッチング処理を施すことによって、磁石中央部の厚さが 1. 4 70 mmであり、鋭角端部の厚さが 1. 300 mmである磁石素体 1 (No. 4) を得た。なお、これらの磁石素体 1に対しては、バレル研磨により周縁部を R = 0. 5 mmに面取りした後、アル力リ性脱脂液に浸漬し、さらに 30 °Cの 3 %硝酸水溶液で 10分間エツチング処理を施した。

【009 1】それから、得られた No. l〜No. 5の磁石素体 1に対して、バレル研磨、脱脂、エッチングの各工程を行った後、ワット浴を用いて、バレル法による N i電気めつきを施し、磁石素体 1の表面上にそれぞれ N iめっき膜 2 を形成させた。これにより No. ：!〜 No. 5の各磁石部材 1に対応する No. l〜No. 5の各 V CM用永久磁石部材 10 (VCM磁石）を得た。

【0092】なお、各磁石素体 1に対して形成された N iめっき膜 2の中央部 (図 2〜図 4における cで示される領域）の厚さ t 2、及ぴ、鋭角端部（図 1に示される長端縁 1 2と側端縁 1 3との交点、及び、長短縁 1 2と側端縁 14との交点）の厚さ t 2は、表 1に示す通りである。また、各 VCM用永久磁石部材 1 0の N iめっき膜 2は、電気めつきの電流密度及びめつき時間を、それぞれ表 2 に示すように設定して形成されたものである。

(V CM用永久磁石部材の厚さ及び磁束の測定）

【0093】上述のようにして得られた N o. l〜No. 5の VCM用永久磁石部材 10の中央部の厚さ及び鋭角端部における厚さ（磁石素体の厚さ t 1 +N iめっき膜 2の厚さ t 2) をそれぞれ測定し、これらの値に基づいて厚さ比率、厚さの最大値一最小値（表 1中、 ma x— m i n) を算出した。また、各 VCM 用永久磁石部材 10の磁束（/ WbT) を測定した。これらの結果をまとめて表 1に示した。なお、厚さ比率とは、 No. 5の VCM用永久磁石部材における磁石素体 1の厚さを基準値とし、 N 0. l〜No. 4の各 VCM用永久磁石部材における磁石素体 1の厚さの、上記基準値に対する比率をそれぞれ算出して得られた値である。磁石素体厚さ (mm) めっき厚さ（ju m) VGM磁石

t

No

中央部

中央部鋭角端部

鋭角端部中央部鋭角端部厚さ比率

1 1.370 1 I 0 I ϋ 1 Ann 10

2 1.460 15 15 1.500 1.123 0

3 1.410 15 35 1.440 1.500 1.085 60

4 1.470 1.300 15 100 1.500 1.130 0

5 1.300 15 100 1.330 1.000 17

C

平均陰極めつ去時間

No 電流密度

(h)

(A/dm²)

1 0.03 50

2 0.03 50

3 0.1 1.7

4 0.3 5

5 0.3 5

【0094】得られた VCM用永久磁石部材 10は、周縁部 30が、この周縁部 30に囲まれた領域に対して突出していた。また、表 1に示されるように、鋭角端部の厚さが 1. 500mmで最大値（ma x) となり、中央部 c (図 2〜図 4参照）の厚さが最小値（m i n) となった。

【0095】なお、これらの VCM用永久磁石部材 10は、 VCMに搭載される関係上、その大きさ、特に厚さに制限がある。したがって、より高い磁気特性を確保する観点からは、 V CM用永久磁石部材 1 0は、 VCMに搭載可能となる厚さの範囲内でできるだけ厚く設計することが重要となる。

【0096】表 1に示されるように、 N o . ：!〜 No. 4の VCM用永久磁石部材によれば、 No. 5の VCM用永久磁石部材ょりも大きな磁束が得られた。このことから、同様の厚さ tを有する V CM用永久磁石部材 10であれば、磁石素体 1の厚さ t 1が厚いほど高い磁気特性が得られることが確認された。ただし、 N iめっき膜 2の厚さが薄くなりすぎると、 VCM用永久磁石部材 10の十分な耐食性が得られ難くなることから、 N iめっき膜 2の厚さの最小値は 5 μπι以上とすることが好ましい。特に、本実施例のように 1 5 imの N iめっき膜 2を有する V CM用永久磁石部材 10は、優れた耐食性を有していたことから、 N iめつき膜 2の厚さは 1 5 im以上とすることが好ましい。

(接着強度の評価）

【0097】次に、 No. l〜No. 5の V CM用永久磁石部材 10を用いて接着試験を行い、 V CMの回動部材であるヨーク 1 1 5に対する接着強度の評価を行った。まず、各 V CM用永久磁石部材 10を、ヨーク 1 1 5に、嫌気性ァクリル接着剤（日本ロックタイト（株）製ロックタイト 638UV) を用いてそれぞれ接着して、圧着体を得た。

【0098】なお、ヨーク 1 15としては、素体が珪素鋼板から形成され、その表面に無電解 N iめっきが施されたものを用いた。また、接着は、各 VCM用永久磁石部材 1 0の平面部（上面 32又は底面 33) に、上記接着剤を 0. 00 8〜0. O l O g塗布した後、この面をヨーク 1 1 5に圧着させ、得られた圧着体を予め 1 00°Cに昇温しておいた乾燥機内で 30分保持して行った。

【0099】各 V CM用永久磁石部材を備える圧着体を用いて、室温下、 5m mZ分の速度で圧縮せん断試験を行い、各圧着体のせん断強度（k g f /c m²) を測定した。得られた結果をまとめて表 1に示した。

【0100】表 1より、せん断強度は、 V CM用永久磁石部材 10の厚さの最大値一最小値（表 1中、 ma x— m i n) によって変動することが確認された。具体的には、 V CM用永久磁石部材 10の厚さの最大値一最小値が 0 mであつた場合（No. 2及び No. 4) に比べて、この値が 60 μηι (No. 3)、 10 0 (No. 1) と大きくなるにつれてせん断強度が向上した。これは、完全な平面同士で接着を行う場合よりも、接着面に接着剤を保持できるような空間を有している場合のほうが大きな接着強度が得られることを示している。

【0101】しかし、最大値一最小値の値が 1 70 / m (No. 5) と更に大きくなると、逆にせん断強度が低下した。この原因としては、接着剤を保持する空間が大きすぎると、接着剤が磁石素体 1に過剰に塗布されてしまい、これにより接着剤に含まれる有機溶媒の揮発が困難となることが考えられる。その結果、接着剤の固化が不十分となって、接着強度（せん断強度）の低下が生じたものと考えられる。

産業上の利用可能性以上説明したように、本発明によれば、ボイスコイルモータ（V CM) に用いる永久磁石部材であって、ヨークへの接着性が改善された V CM用永久磁石部材を提供することが可能となる。また、 'このような V CM用永久磁石部材を備えており、更なる高速駆動への対応も可能な V C Mを提供することが可能となる。

Claims

言青求の範囲

1 . 短周縁と、前記短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁と、前記短周縁及び前記長周縁を結ぶ一対の側周縁とを有し、扇型の平面形状を有する磁石素体と、

前記磁石素体の表面に被覆された耐食皮膜と、を備えたボイスコイルモータ用永久磁石部材であって、

当該ボイスコイルモータ用永久磁石部材の厚さの最大値と最小値の差が、 1 0 〜1 5 である、ボイスコイルモータ用永久磁石部材。

2 . 前記短周縁、前記長周縁及び前記側周縁からなる周縁部に沿って厚さの最大値が存在し、前記周縁部に囲まれた領域に厚さの最小値が存在する、請求項 1記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。

3 . 前記耐食皮膜は、前記短周縁、前記長周縁及び前記側周縁からなる周縁部に沿って厚さの最大値が存在し、前記周縁部に囲まれた領域に厚さの最小値が存在する、請求項 1記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。

4 . 前記周縁部における耐食皮膜の厚さが他の領域に比べて厚くなっている、請求項 2又は 3記載のボイスコィルモータ用永久磁石部材。

5 . 前記磁石素体は、その厚さが略均一であるか、又は、前記周縁部における厚さが他の領域に比べて薄くなっている、請求項 4記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。

6 . 前記磁石素体は、前記周縁部の厚さが他の領域に比べて厚くなつており、且つ、前記耐食皮膜は、その厚さが略均一である、請求項 2記載のボイスコィルモ一タ用永久磁石部材。

7 . 当該ボイスコイルモータ用永久磁石部材は、その厚さが 5 mm以下であり、

前記耐食皮膜は、 N i又は N i合金からなる電気めつき膜から構成されるものであり、且つ、前記耐食被膜の膜厚は、 5〜6 0 μ πιの範囲にある、請求項 1〜6のいずれかに記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。

8 . 所定の間隔を隔てて対向配置される一対のヨークと、

一対の前記ヨーク間において、接着剤層を介して前記ヨークの各々に接着される永久磁石部材と、

所定の軸を中心にして回動自在に設けられた回動部材に搭載された、前記永久磁石部材と前記ヨークとから形成される磁気空隙内に配設されるコイルと、を備え、

前記永久磁石部材の前記ヨークとの接着面は、その周縁部が当該周縁部に囲まれる領域よりも 5〜7 5 mの範囲で突出していることを特徴とするボイスコィノレモータ。

9 . 磁石素体と、該磁石素体の表面上に形成された耐食被膜と、を備え、互いに対向する第 1の面及ぴ第 2の面を有する平板状のボイスコイルモータ用永久磁石部材であって、

前記第 1の面及び前記第 2の面のうち少なくとも一方の面には凹部が形成されており、

前記凹部における最深部と接平面との間の距離が、 5〜7 5 μ πιである、ボイスコィルモータ用永久磁石部材。

1 0 . 当該ボイスコイルモータ用永久磁石部材は、短周縁と、前記短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁と、前記短周縁及び前記長周縁を結ぶ一対の側周縁と、を有しており、且つ、扇型の平面形状を有するものである、請求項 9記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。

1 1 . 前記第 1の面と前記第 2の面との距離は、 5 mm以下であり、且つ、前記耐食被膜の膜厚は、 5〜6 0 μ ηιである、請求項 9又は 1 0記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。