WO2004090087A1 - 石鹸の成形型 - Google Patents

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WO2004090087A1
WO2004090087A1 PCT/JP2004/004807 JP2004004807W WO2004090087A1 WO 2004090087 A1 WO2004090087 A1 WO 2004090087A1 JP 2004004807 W JP2004004807 W JP 2004004807W WO 2004090087 A1 WO2004090087 A1 WO 2004090087A1
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surface roughness
mold
split
concave portion
stone
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PCT/JP2004/004807
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French (fr)
Inventor
Takashi Nakano
Shinji Kodama
Original Assignee
Kao Corporation
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D13/00Making of soap or soap solutions in general; Apparatus therefor
    • C11D13/14Shaping
    • C11D13/16Shaping in moulds

Definitions

  • the present invention relates to lithographic molds. Background art
  • the present applicant has previously proposed a method for producing an aerated stone test excellent in surface finish without causing defects such as surface stripping during demolding (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-122) No. 159 9).
  • the molten stone filled in the mold is cooled and solidified until its surface temperature becomes 5 to 30 ° C., and the solidified stone is cooled by a surface temperature lower than the surface temperature at the end of cooling by 2 ° C. Demold after raising the temperature to ⁇ 15 ° C higher.
  • a mold having an inner surface roughness R a force of SO.1 to 3 ⁇ is used.
  • the present invention provides a stone mold in which a pair of molds is assembled and in which a molding cavity is formed.
  • the surface area of the concave portion forming the cavity in one split mold is made larger than the surface area of the concave portion forming the cavity in each of the other split molds, and the surface area of the concave portion in one split mold is set.
  • the ratio of the surface area of the concave portion in each of the other split dies to 52:48 to 66:34, respectively.
  • the present invention also relates to a stone forming die in which a pair of split dies is assembled and a molding cavity is formed therein, wherein the surface roughness R of the concave portion forming the cavity in the single split die is set.
  • a was made larger than the surface roughness Ra of the recess forming the cavity in each of the other split dies, and the difference in the surface roughness Ra was set to 0.1 to 30 / ⁇ . It provides lithographic molds. Further, according to the present invention, the molten stone ⁇ is injected under pressure into the cavity of the mold, and the molten stone ⁇ is cooled and solidified in a compressed state, and then the mold is opened to take out the solidified stone. It is intended to provide a method for producing stone. BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
  • FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of the stone mold of the present invention.
  • 2 (a) to 2 (d) are schematic views showing a method for producing an aerated stone test using the mold shown in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a perspective view (corresponding to FIG. 1) showing another embodiment of the lithographic mold of the present invention. Detailed description of the invention
  • the present invention relates to a molding die in which a molded stone is always held at a specific split mold when the mold is opened.
  • the stone forming die shown in Fig. 1 is composed of two split dies consisting of a first split die 1A and a second split die 1B.
  • Each split mold is in the form of a rectangular block made of a rigid body such as a metal, and has concave portions 11A and 11B formed at the center thereof.
  • Each recess 11 A, 1 IB has a shape that matches the shape of the lithology to be manufactured when the first split mold 1 A and the second split mold 1 B are abutted on their parting surfaces PL.
  • Each split mold is formed so that cavities (not shown) are formed.
  • the recesses 11A and 11B have asymmetric shapes. Specifically, the concave portion 11A of the first split mold 1A is larger than the concave portion 11B of the second split mold 1B. Further, each of the recesses 11A and 11B has a shape having no undercut portion.
  • a nozzle insertion hole 2B penetrating the second split mold 1B in the thickness direction thereof is formed in the outer edge of the concave portion 11B. The diameter of the nozzle insertion hole 2B gradually expands toward the rear side of the second split mold 1B.
  • the first split mold 1A has a semi-cylindrical gate 2A formed by recessing a part of the parting surface PL.
  • the gate 2A allows the end face E of the first split mold 1A to communicate with the recess 11A.
  • a biston P having a complementary shape to the gate 2A is inserted.
  • the piston P is made of a material such as metal or plastic, and is slidable in the gate 2A.
  • the concave portion 11A of the first split mold 1A and the concave portion 11B of the second split mold 1B have an asymmetric shape, and the shape of the first split die 1A is The recess 11A is larger than the recess 11B of the second split mold 1B. As a result, the surface area of the recess 11A of the first split mold 1A is larger than the surface area of the recess 11B of the second split mold 1B.
  • the present inventors have found that even if the difference between the surface areas of the two concave portions 11A and 11B is not excessive, the stone texture is reliably retained on the first split mold 1A side. It turned out. Separately, the larger the surface area of the recess 11A of the first split mold 1A than the surface area of the recess 11B of the second split mold 1B, the more the first split mold 1A
  • the shape of the concave portion 11A of A and the shape of the concave portion 11B of the second split mold 1B are greatly different, and the external shape of the formed stone is greatly asymmetric. As a result, the aesthetic appearance of the stone may decrease. Also, molding may be difficult. In addition, the production of each split mold becomes complicated.
  • the ratio of the surface area of the concave portion 11A in the first split mold 1A to the surface area of the concave portion 11B in the second split mold 1B is 52:48 to 66: 3 4, preferably 5 2: 48 to 57: 4 3
  • the first split mold 1A can always hold the stone without significantly changing the shapes of the recesses 11A and 1IB, that is, without excessively asymmetrical the outer shape of the formed stone. There was found. In order to more securely hold the stone on the first split mold 1A side, the surface roughness Ra of the concave portion 11B of the second split mold 1B is reduced by the concave portion of the first split mold 1A.
  • the inventors have found that it is advantageous to make the surface roughness Ra larger than 11 A.
  • the surface roughness Ra of the concave portion is reduced, stone texture is maintained on the split mold side, Conversely, when the surface roughness Ra of the concave portion is increased, the stone effect is maintained on the split mold side by the anchor effect.
  • split molds that maintain lithography depending on the magnitude of the surface roughness Ra vary.
  • the surface roughness Ra of the recess 11A in the first split mold 1A and the surface roughness Ra of the recess 11B in the second split mold 1B The difference between the two is preferably 0:! To 30 / im, and more preferably 0.2 to 20 / im, so that the surface roughness of the first split mold 1A with low surface roughness Ra can be measured. Was found to be more reliably retained.
  • the molding of the present embodiment is performed.
  • the inner surfaces of the recesses 11A and 11B in each split mold 1A and IB are mirror-finished, and each inner surface is made to have the same low surface roughness area.
  • the bottom surface of the concave portion 11B in the second split mold 1B is roughened after mirror finishing to form a region with high surface roughness.
  • As the rough surface processing for example, sand plaster processing is used.
  • the region of high surface roughness formed in the concave portion 11B of the second split mold 1B is located on the bottom surface of the concave portion 11B.
  • the area with high surface roughness is the concave part that is almost parallel to the parting 1 Formed on the bottom of IB.
  • the substantially parallel surface means that the bottom surface of the concave portion 11B does not need to be a flat surface, but may be a curved surface having a shape peculiar to lithology.
  • the area of high surface roughness in the concave portion 11B of the second split mold 18 is set to the entire area of the concave portion 11B. Preferably, it accounts for at least 30%, especially at least 50%. Most preferably, the entire recess 11B of the second split mold 1B is a region having a high surface roughness.
  • the area of high surface roughness in the recess 11B of the second split mold 1B is determined by the surface roughness Ra force. It is preferably from 0.2 to 30 xm, particularly preferably from 0.4 to 20 jum.
  • the surface roughness Ra of the low surface roughness region of the concave portion 11B in the second split mold 1B and the surface roughness Ra of the concave portion 11A in the first split mold 1A are both 0.:! ⁇ 30 ⁇ , particularly preferably 0.1 ⁇ 20 / ⁇ .
  • the surface roughness Ra of the low surface roughness region of the concave portion 11 1 in the second split mold 1 ⁇ and the surface roughness Ra of the concave portion 11 1A in the first split mold 1A are not necessarily required. It does not need to be the same value. However, considering the manufacturing cost of each split mold 1A and IB, it is normal to apply the same mirror finish to each split mold 1A and IB. Is almost the same as mentioned above.
  • the surface roughness Ra of the high surface roughness area in the concave portion 11B of the second split mold 1B and the second The ratio (the former / the latter) of the concave part 11A in the split mold 1A to the surface roughness Ra of the former should be 1.003 to 300, especially 1.01 to: 100. Is preferred. 04 004807
  • the surface roughness Ra is measured according to JISB 0601.
  • a surface roughness measuring device SURFC0M590A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. can be used.
  • a method for producing stone stones using the mold shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. 2 taking the production of an aerated stone as an example.
  • the mold shown in Fig. 1 is used by being attached to the manufacturing equipment shown in Fig. 2.
  • This manufacturing apparatus is equipped with a mold unit 4A and a molten stone tester 3A.
  • the molding die is mounted on a base plate 40 of a mold unit 4A as shown in FIG. 2 (a).
  • a support plate 41 of the first split mold 1A and a support plate 42 of the second split mold 1B are erected.
  • a cylinder 44 having a bistone 43 is attached on the inner surface of the support plate 41.
  • the cylinder 44 is mounted so that the bistone 43 slides in a direction perpendicular to the support plate 41.
  • the tip of the screw 43 is fixed to the back of the first split mold 1A. Therefore, the first split mold 1A is a movable type that can move in the horizontal direction. Further, the first split mold 1A is fixed with its gate 2A side facing downward.
  • An L-shaped cylinder holding plate 45 is attached to the lower part of the back of the first split mold 1A.
  • a cylinder 47 having a piston 46 is attached to a horizontal portion of the cylinder holding plate 45.
  • the cylinder 47 is mounted such that the piston 46 slides vertically.
  • the tip of the piston 46 is connected to the piston P provided in the first split mold 1A.
  • the second split mold IB is supported by the support plate 4 2 with the concave portion 1 18 facing the concave portion 11 A of the first split mold 1 and the nozzle insertion hole 2 B oriented in the horizontal direction. Attached to.
  • the second split mold 1B is a fixed mold. On the back side of the second split mold 1B, an injection device 3A for molten stone is mounted.
  • the injection device 3 A is arranged in the dispensing nozzle 31, the switching valve 32, the cylinder 33, and the cylinder 33. Equipped with a piston 34.
  • the injection nozzle 31 has a shape that matches the shape of the nozzle insertion hole 2B formed in the second split mold 1B, and is inserted into the nozzle insertion hole 2B. I have.
  • a gate pin 35 is slidably inserted into the inside of the ejection nozzle 31, and is melted from the ejection nozzle 31 into the cavity by pushing in and ejecting the bow I. It controls the injection of the eyelid.
  • the switching valve 32 selectively connects the cylinder 33 to one of a circulation path 36 and a discharge nozzle 31 passing through a storage tank (not shown). In the state shown in FIG.
  • the cylinder 33 and the discharge nozzle 31 are in communication, and the communication between the cylinder 33 and the circulation path 36 is shut off.
  • the cylinder 44 of the mold unit 4A is operated to extrude the bistone 43, and the first split is performed.
  • the mold 1A and the second split mold 1B are closed.
  • water is circulated in the cooling water circulation path described above.
  • the cylinder 47 is operated to draw the piston 46, whereby a part of the piston P connected to the piston 46 is pulled out from the first split mold 1A. deep.
  • the piston 34 is pushed in, and in this state, the switching valve 32 is operated to make the cylinder 33 communicate with the circulation path 36. Then, the bistone 34 is pulled out and a predetermined amount of molten stone ⁇ is fed into the cylinder 33.
  • the molten stone ⁇ is stored in a storage tank (not shown) and circulates in a circulation path 36 passing through the storage tank. Then, the circulating molten stone is sent into the cylinder 33 by the flow path switching by the switching valve 32. By circulating the molten stone, the separation of bubbles and liquid during the molten stone is effectively prevented.
  • Examples of the method for preparing a molten stone test containing a myriad of bubbles dispersed therein include, for example, JP-A No. 11-43699, filed from the applicant of the present invention, column 2, line 15 to column 5, You can use the method described in column 1 line. You.
  • gases can be used for foaming the molten stone.
  • an inert gas especially a non-oxidizing inert gas such as nitrogen gas, the components of the compound deteriorate due to the heating of the molten stone, and are generated by oxidative decomposition. Unpleasant odors can be effectively prevented.
  • the switching valve 32 is operated to cut off the communication between the cylinder 33 and the circulation path 36 as shown in FIG.
  • each of the split dies 1 A and 1 B is cooled to a predetermined temperature by the circulation of the cooling water, thereby promoting the cooling and solidification of the molten stone in the cavity 11 C.
  • the cylinder 43 is operated to draw in the piston 43 as shown in FIG. 2 (d).
  • the split molds 1A and 1B are opened, and then the stone 5 containing the bubbles in the cavity is taken out by a predetermined gripping means (not shown).
  • Stone 5 is always kept on the first split mold 1A side. Therefore, the lithology 5 can be taken out by the gripping means only on the first split mold 1A side, so that it is easy to take out and productivity is improved.
  • the manufacturing equipment is not contaminated by debris generated from the dropped stone.
  • each split mold 1A and 1B have asymmetrical shapes, but these recesses do not have undercuts. There is no need to remove. There is no particular limitation on when the mold is opened after cooling and solidification of the molten stone, but it is much earlier than when the mold is opened after the inside of the stone has solidified, for example, the surface layer of the stone. It is better to open the mold in the unsolidified state, although the part is solidified, but the stone work is surely held on the first split mold 1A side.
  • FIG. 3 the same members as those in FIG.
  • the molding die of the embodiment shown in FIG. 3 has almost the same configuration as the molding die shown in FIG. The difference between the two is that, in the mold of the embodiment, the concave portions 11A and 11B have substantially the same shape that is substantially symmetric.
  • the inner surfaces of the concave portions 11A and 11B of each split mold 1A and IB are mirror-finished to form regions with low surface roughness.
  • the bottom surface of the concave portion 11A is roughened after mirror finishing to form a region with high surface roughness.
  • Is the surface roughness R a of the recess 1 1 A in the first split mold 1 A are set larger Ri by surface roughness R a of the recess 1 IB in the second split mold IB.
  • the recess 11A of the first split mold 1A has a high surface roughness area and a low surface roughness area, while the recess 11B of the second split mold 1B has a low surface roughness. There is only a surface roughness area.
  • the surface roughness Ra of the low surface roughness region in the concave portion 11A of the first split mold 1A is substantially equal to the surface roughness Ra of the concave portion 11B of the second split mold 1B. It is about the same.
  • the molten stone By making the surface roughness Ra of the recess 11A in the first split mold 1A larger than the surface roughness Ra of the recess 11B in the second split mold 1B, the molten stone ⁇ The present inventors have studied that when the mold is opened after filling into the cavity and cooling and solidifying, the stone texture is always retained on the second split mold 1 B side having a low surface roughness Ra. It turned out. When the surface roughness Ra of the concave portion is reduced, the stone is retained on the split mold side. Conversely, when the surface roughness Ra of the concave portion is increased, the stone is retained on the split mold side by the anchor effect. As described above. In other words, split molds that maintain lithography according to the magnitude of the surface roughness R a vary.
  • the surface roughness Ra of the recess 11A in the first split mold 1A (that is, the surface roughness Ra of the high surface roughness region) and the second split
  • the difference from the surface roughness Ra of the concave portion 11B in the mold 1B was set to 0.1 to 30 / m, preferably 0.2 to 20 ⁇ . It was found that the stone split was always maintained on the side of the split mold 1 B.
  • the region of high surface roughness formed in the concave portion 11A of the first split mold 1A is located on the bottom surface of the concave portion 11A.
  • the region with high surface roughness is formed on the bottom surface of the concave portion 11A which is a surface substantially parallel to the parting surface PL of the mold.
  • the first split mold 1A The release of the stone is facilitated, and the stone test is more reliably held on the second split mold 1B side.
  • the definition of the substantially parallel plane is as described above.
  • the area of high surface roughness in the recess 11A of the first split mold 1A is set to the entire area of the recess 11A. Preferably, it accounts for at least 30%, especially at least 50%. Most preferably, the entire recess 11A of the first split mold 1A has a high surface roughness.
  • the area of high surface roughness in the concave portion 11A of the first split mold 1A has a surface roughness Ra It is preferably 0.2 to 30 xm, particularly preferably 0.4 to 20 ⁇ .
  • the surface roughness Ra of the low surface roughness region of the recess 11A in the first split mold 1A and the surface roughness Ra of the recess 11B in the second split mold 1B are both 0. :! ⁇ 30 ⁇ , particularly preferably 0:: ⁇ 2.
  • the surface roughness Ra of the low surface roughness region of the recess 11A in the first split mold 1A and the surface roughness Ra of the recess 11B in the second split mold 1B are not necessarily required. It does not need to be the same value.
  • the surface roughness Ra of the high surface roughness region in the recess 11A of the first split mold 1A and the second The ratio (the former to the latter) of the concave portion 11B in the split mold 1B to the surface roughness Ra is preferably from 2 to 300, particularly preferably from 4 to 200.
  • the present invention is not limited to the above embodiment.
  • a forming die may be composed of three or more split dies depending on the shape of the stone.
  • the surface area of the concave portion in one of the plurality of split dies is larger than the surface area of the concave portion in each of the remaining split dies.
  • the surface roughness of at least a part of the concave portion of one split die is increased, and the surface roughness of the concave portion of each of the remaining split dies is lowered.
  • the surface roughness of the concave portion in each of the remaining split dies is approximately the same.
  • a region having a high surface roughness is formed on the bottom surface of the concave portion of the second split mold 1B.
  • this region is not essential for the embodiment, and The recesses 118 and 118 of A and 18 may have the same low surface roughness. Further, in the embodiment shown in FIGS.
  • the high surface roughness area is formed on the bottom of the concave portion which is a plane substantially parallel to the parting surface PL, but the high surface roughness area is formed.
  • the location is not limited to this, and may be another area in the concave portion, for example, a plane substantially perpendicular to the parting plane PL.
  • a plurality of regions having high surface roughness may be discontinuously formed on the bottom surface instead of forming the region having high surface roughness on the entire bottom surface.
  • the recesses 118, 11B of each split mold 1A, 18 have a reliable holding of stone (first split mold side) and a reliable release of stone (second mold).
  • each split mold is provided for the purpose of securely retaining the stonework (second split mold side) and reliably releasing the stonework (first split mold side).
  • a slit or a small hole for sucking and blowing air may be formed in the air hole.
  • the molding die of the present invention was used for the production of a bubbled stone which is an example of compression molding.However, the molding die of the present invention may be used for the production of a normal stoneless stone. You can also.
  • the molds of the present invention are particularly suitable for compression molding, such as in the production of aerated sinkstones after cooling.
  • the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the scope of the present invention is not limited to such embodiments. Unless otherwise specified, “parts” means “parts by weight”.
  • the molding die shown in Fig. 1 Using the molding die shown in Fig. 1, this was attached to the production equipment shown in Fig. 2 to produce a bubbled stone.
  • the ratio of the surface area of the concave portion in the first split mold to the surface area of the concave portion in the second split mold was 53:47.
  • the concave portion of each split mold was mirror-finished to form a low surface roughness region having a surface roughness Ra of 0.463 x m.
  • the bottom surface of the concave portion was subjected to a surface roughening treatment with a sandblaster to form a high surface roughness region having a surface roughness Ra of 18.9.33 m.
  • the region of high surface roughness in the concave portion of the second split mold occupied 48% of the entire area of the concave portion.
  • the ratio of the surface area of the concave portion in the first split die to the surface area of the concave portion in the second split die was 57:43.
  • the concave portion of each split mold was mirror-finished to form a low surface roughness region having a surface roughness Ra of 0.263 ⁇ m.
  • the bottom surface of the concave portion was roughened by a sandblaster to form a region with a high surface roughness Ra of 0.463 ⁇ m. Except for this, an aerated stone was manufactured in the same manner as in Example 11-11. After performing molding five times, it was confirmed that the stone was retained on the first split mold side in all five times.
  • the ratio of the surface area of the concave portion in the first split mold to the surface area of the concave portion in the second split die was 66:34.
  • the concave portion of each split mold was mirror-finished to form a low surface roughness region having a surface roughness Ra of 0.263 ⁇ m.
  • the bottom surface of the concave portion was subjected to a surface roughening treatment with a sandblaster to form a region having a high surface roughness Ra of 18.93 ⁇ m. Except for this, the bubbled stone was manufactured in the same manner as in Example 1-1. After performing the molding five times, it was confirmed that the stone test was maintained on the first split mold side in all five times. (Example 14 to 14)
  • Example 1 In Examples 11 to 13, foamed stones were produced in the same manner as in Examples 11 to 11 except that a region having a high surface roughness was not formed in the second split mold. When molding was performed five times for each of the examples, it was confirmed that stone lithography was maintained on the first split mold side for each of the five times in each of the examples.
  • each split mold was mirror-finished to form a region with a low surface roughness having a surface roughness Ra of 0.263 ⁇ .
  • the bottom surface of the concave portion was roughened by a sand blaster to form a region with a high surface roughness Ra of 0.463 / im.
  • the bubbled stone was manufactured in the same manner as in Example 2_1. After performing the molding five times, it was confirmed that the stone test was maintained on the second split mold side in all five times.
  • each split mold was mirror-finished to form a region with a low surface roughness of surface roughness Ra of 0.263 / xm.
  • the bottom surface of the concave portion was subjected to a surface roughening treatment using a sand blaster to form a region having a high surface roughness Ra of 18.893 / m.
  • an aerated stone test was manufactured in the same manner as in Example 2-1. After performing the molding five times, it was confirmed that the stone test was maintained on the second split mold side in all five times.
  • Example 1 except that the concave portion of the first split mold and the concave portion of the second split mold are symmetrical and have the same surface area, and that the second split mold does not have a high surface roughness area.
  • a bubbled stone test was manufactured in the same manner as in 1-1. As a result of performing the molding 10 times, the number of times the stone test was maintained on the first split mold side was 4 times, and the number of the second split mold side was 6 times.
  • the mold of the present invention when the mold is opened, the molded stone is always held at a specific split mold. Therefore, the production of stone can be performed stably and with high productivity by using the mold of the present invention.
  • the mold of the invention is particularly suitable for compression molding, such as in the production of aerated stones.

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Abstract

一組の割型1A,1Bを組み付けてなり、内部に成形用のキャビティ1Cが形成される石鹸の成形型を開示する。一の割型1Aにおける前記キャビティを形成する凹部11Aの表面積を、他の各割型1Bにおける前記キャビティを形成する凹部11Bの表面積よりもそれぞれ大きくし、一の割型1Aにおける凹部11Aの表面積と、他の各割型1Bにおける凹部11Bの表面積との比をそれぞれ52:48~66:34とした。また、一の割型1Aにおけるキャビティを形成する凹部11Aの表面粗さRaを、他の各割型1Bにおけるキャビティを形成する凹部11Bの表面粗さRaよりもそれぞれ大きくし、それらの表面粗さRaの差をそれぞれ0.1~30μmとした。

Description

明 石鹼の成形型 技術分野
本発明は石験の成形型に関する。 背景技術
本出願人は先に、 脱型時に表面剥糸田離等の欠損が生じることなく、 表面 の仕上がり性に優れた気泡入り石験を製造する方法を提案した (特開 2 0 0 2 — 1 2 1 5 9 9号公報参照) 。 この方法においては、 成形型に充 填した溶融石鹼をその表面温度が 5〜 3 0 °Cになるまで冷却固化させ、 固化した石鹼を、 表面温度が冷却終了時の表面温度より も 2 ~ 1 5 °C高 い温度に昇温させた後に脱型する。 その際、 成形型と して内面の表面粗 さ R a力 S O . 1 〜 3 θ ί πιのものを用いる。 前記の製造方法によれば、 通常の石鹼より も欠損が生じやすい気泡入 り石験であっても首尾良く脱型することができる。 しかし成形型の型開 時に、 固化した石験が割型に保持されず落下しやすく なつてしまう。 落 下すると、 石験は容易に破損してしまい、 これが原因で装置が汚染され てしまう。 従って、 石験の割型への保持は確実に行う必要がある。 また、 落下しないまでも、 型開時に石鹼が保持される割型がまちまちとなりや すい。 その結果、 取り出し装置による石験の取り出し工程が煩雑になり やすく、 それが原因で生産性が低下してしまう。 そこで、 割型の凹部に異なる離型性を有するコーティングを施し、 割 型への石験の付着性に差が生じるようにすることが提案されている (特 表 2 0 0 1 — 5 2 5 8 8 1参照) 。 しかし、 このような割型を用いると、 成形を重ねるにつれコーティングが剥離していき、 付着性に差が生じな 4 004807
く なつてしまう。 従って、 定期的に割型にコーティングを施す必要があ り、 作業が煩雑になると ともに、 製造経費も高くなつてしまう。 発明の開示
本発明は、 一組の割型を組み付けてなり、 内部に成形用のキヤビティ が形成される石鹼の成形型を提供するものである。 この成形型において は、 一の割型における前記キヤビティを形成する凹部の表面積を、 他の 各割型における前記キヤビティを形成する凹部の表面積より もそれぞれ 大きく し、 一の割型における前記凹部の表面積と、 他の各割型における 前記凹部の表面積との比をそれぞれ 5 2 : 4 8〜 6 6 : 3 4 と してある。 また本発明は、 一組の割型を組み付けてなり、 内部に成形用のキヤビ ティが形成される石鹼の成形型において、 一の割型における前記キヤビ ティを形成する凹部の表面粗さ R aを、 他の各割型における前記キヤビ ティを形成する凹部の表面粗さ R a より もそれぞれ大きく し、 それらの 表面粗さ R aの差をそれぞれ 0 . 1 〜 3 0 /ί πιと した石験の成形型を提 供するものである。 更に本発明は、 前記の成形型のキヤビティ内に溶融石鹼を加圧注入 し、 該溶融石鹼を圧縮状態下に冷却固化させた後、 該成形型を 開して 固化した石験を取り出す石鹼の製造方法を提供するものである。 図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明の石験の成形型の一実施形態を示す斜視図である。 図 2 ( a ) 〜図 2 ( d ) はそれぞれ、 図 1 に示す成形型を用いた気泡 入り石験の製造方法を示す模式図である。
図 3は、 本発明の石験の成形型の別の実施形態を示す斜視図 (図 1相 当図) である。 発明の詳細な説明
本発明は、 型開時に、 成形された石鹼が常に特定の割型に保持される 成形型に関するものである。 以下本発明を、 その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説 明する。 図 1 に示す石鹼の成形型は、 第 1の割型 1 A及ぴ第 2の割型 1 Bからなる 2個の割型で一組をなしている。 各割型は金属等の剛体から なる矩形ブロック状の形態をしており、 それぞれの中央部に凹部 1 1 A 及ぴ 1 1 Bが形成されている。 各凹部 1 1 A, 1 I Bは、 第 1 の割型 1 Aと第 2の割型 1 Bとをそれらのパーティング面 P Lで突き合わせたと き、 製造すべき石験の形状に合致した形状のキヤビティ (図示せず) が 形成されるように、 各割型に形成されている。 また凹部 1 1 A, 1 1 B は非対称な形状をしている。 具体的には第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bよ り も、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aの方が大きくなつている。 更に凹部 1 1 A , 1 1 Bは何れもアンダー力ッ ト部分が存在しない形状となって レヽる。 第 2の割型 1 Bには、 該第 2の割型 1 Bをその厚さ方向に貫通するノ ズル揷入孔 2 Bが、 凹部 1 1 Bの外縁部に穿設されている。 ノズル挿入 孔 2 Bは、 その径が、 第 2の割型 1 Bの背面側に向かうに連れ漸次拡開 している。 一方、 第 1の割型 1 Aには、 そのパーティング面 P Lの一部 が凹設されて形成された半円柱形状のゲート 2 Aが形成されている。 ゲ ート 2 Aは第 1の割型 1 Aの端面 Eと凹部 1 1 Aとを連通させている。 ゲート 2 Aには、 該ゲート 2 Aと相補形状をなすビス トン Pが嵌挿され ている。 ピス トン Pは金属又はプラスチック等の材質からなり、 ゲー ト 2 A内を摺動可能になされている。 ノズル揷入孔 2 Bとゲー ト 2 Aと は、 第 1 の割型 1 Aと第 2の割型 1 Bとをそれらのパーティング面 P L で突き合わせたときに、 ノズル揷入孔 2 Bからゲー ト 2 Aを経てキヤビ ティへと達する連通路が形成されるような位置にそれぞれ形成されてい る。 図示していないが、 第 2の割型 I Bのパーティング面 P Lにはエア ベン トが設けられている。 また、 図示していないが、 両割型 1 A , 1 B を構成するブロ ックには冷却水の循環路が設けられている。 先に述べたよ うに、 第 1の割型 1 Aの凹部 1 1 Aと第 2の割型 1 Bの 凹部 1 1 Bの凹部とは非対称形状となっており、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aは、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bより も大きくなつている。 その 結果、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aの表面積が、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bの表面積より も大きくなつている。 第 1の割型 1 Aの回部 1 1 Aの表面積を、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bの表面積より も大きくすることで、 溶融石鹼をキヤビティ内に充填し 冷却固化させた後に成形型を型開するときに、 凹部の表面積の大きな第 1の割型 1 A側に石験が常に保持されることが本発明者らの検討の結果 判明した。 第 1の割型 1 Aの凹部 1 1 Aの表面積を、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bの表面積より も大きくすればするほど、 第 1の割型 1 A側に石験が保 持されやすい。 しかし、 両凹部 1 1 A, 1 1 Bの表面積の差が過大でな くても、 第 1の割型 1 A側に石験が確実に保持されることが本発明者ら の検討によつて判明した。 これとは別に、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 A の表面積を、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bの表面積よ り も大きくすれば するほど、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aの形状と第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bの形状が大きく異なってしまい、 成形された石験の外形が大きく 非対称になってしまう。 その結果、石鹼の美観が低下するおそれがある。 また成形を行い難くなる場合もある。 しかも、 各割型の製造も複雑にな る。 そこで本発明においては、 第 1の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表 面積と、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面積との比を 5 2 : 4 8〜 6 6 : 3 4、 好ましくは 5 2 : 4 8〜 5 7 : 4 3 とすることで、 各 凹部 1 1 A, 1 I Bの形状を大きく異ならせることなく、 即ち成形され た石鹼の外形を過度に非対称とすることなく、 第 1 の割型 1 A側に石鹼 を常に保持させ得ることが判明した。 第 1の割型 1 A側に石鹼を一層確実に保持させるために、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R aを、 第 1 の割型 1 Aにおける凹 部 1 1 Aの表面粗さ R a より も大きくすることが有利であることが本発 明者らの検討によ り判明した。 先に述べた特開 2 0 0 2— 1 2 1 5 9 9 号公報に記載されているよ うに、 凹部の表面粗さ R a を低下させるとそ の割型側に石験が保持され、 逆に凹部の表面粗さ R a を大きくするとァ ンカー効果によってその割型側に石験が保持される。 つまり表面粗さ R aの大小によって石験が保持される割型がまちまちとなってしまう。 本 発明者らが鋭意検討した結果、 第 1の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表 面粗さ R a と、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R a との 差を好ましくは 0. :!〜 3 0 /im、 更に好ましく は 0. 2〜 2 0 /imと するこ とで、 表面粗さ R aの低い第 1 の割型 1 A側に石験が一層確実に 保持されることが判明した。 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R aを、 第 1 の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面粗さ R a より も大きくするために、 本実施 形態の成形型においては、 各割型 1 A, I Bにおける凹部 1 1 A, 1 1 Bの内面をそれぞれ鏡面加工して、 各内面を同程度の低表面粗さの領域 となし、 これと共に一方の割型である第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの底面を、 鏡面加工後に粗面加工して高表面粗さの領域となしてい る。 粗面加工と しては例えばサンドプラスター加工などが用いられる。 図 1 に示されるように、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bに形成される高 表面粗さの領域は、 該凹部 1 1 Bの底面に位置している。 つまり高表面 粗さの領域は、 成形型のパーティング面 P Lとほぼ平行な面である凹部 1 I Bの底面に形成されている。 これによつて、 第 2の割型 I Bからの 石験の離型が容易となり、 第 1の割型 1 A側に石験が一層確実に保持さ れる。 ほぼ平行な面とは、 凹部 1 1 Bの底面が平坦面であることを要せ ず、 石験に特有の形状である曲面となっていてもよいことを意味する。 第 1の割型 1 A側に石鹼を一層確実に保持させるために、 第 2の割型 1 8の凹部 1 1 Bにおける高表面粗さの領域は、 該凹部 1 1 Bの全面積 の 3 0 %以上、 特に 5 0 %以上を占めることが好ましい。 最も好ましく は、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bはその全域が高表面粗さの領域となつ ている。 また、 第 1の割型 1 A側に石験を一層確実に保持させるために、 第 2 の割型 1 Bの凹部 1 1 Bにおける高表面粗さの領域は、 その表面粗さ R a力 0. 2〜 3 0 xm、 特に 0. 4〜 2 0 ju mであることが好ましい。 一方、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの低表面粗さの領域の表面粗 さ R a及ぴ第 1 の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面粗さ R aは何れも 0. :!〜 3 0 μιη、 特に 0. 1〜 2 0 /·ίΐηであることが好ましい。 なお、 第 2の割型 1 Βにおける凹部 1 1 Βの低表面粗さの領域の表面粗さ R a と、 第 1 の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面粗さ R a とは必ずしも同 じ値であることを要しない。 しかし、 各割型 1 A, I Bの製造経費等を 考慮すると各割型 1 A, I Bには同様の鏡面加工を施すことが通常であ ることから、 結果的に両者の表面粗さ R aは先に述べた通りほぼ同程度 となる。 更に、 第 1 の割型 1 A側に石鹼を一層確実に保持させるために、 第 2 の割型 1 Bの凹部 1 1 Bにおける高表面粗さの領域の表面粗さ R a と、 第 1の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面粗さ R a との比 (前者/後 者) は 1. 0 0 3〜 3 0 0、 特に 1. 0 1〜 : 1 0 0であることが好まし レヽ。 04 004807
表面粗さ R aは J I S B 0 6 0 1 に従い測定される。 測定装置と し ては例えば (株) 東京精密製の表面粗さ測定機 SURFC0M590Aを用いるこ とができる。 次に図 1 に示す成形型を用いた石験の製造方法を、 気泡入り石鹼の製 造を例にと り図 2を参照しながら説明する。 図 1 に示す成形型は図 2に 示す製造装置に取り付けられて使用される。 この製造装置は金型ュニッ ト 4 Aと、溶融石験の注入装置 3 Aとを備えている。成形型は、図 2 ( a ) に示すように、 金型ュニッ ト 4 Aのベースプレート 4 0上に取り付けら れる。 ベースプレート 4 0上には第 1 の割型 1 Aの支持板 4 1及び第 2 の割型 1 Bの支持板 4 2がそれぞれ立設されている。 支持板 4 1 の内面 には、 ビス トン 4 3を備えたシリ ンダ 4 4が取り付けられている。 シリ ンダ 4 4は、 ビス トン 4 3が支持板 4 1 と直交する方向に摺動するよう に取り付けられている。 ビス ト ン 4 3の先端は第 1 の割型 1 Aの背面に 固定されている。 従って、 第 1 の割型 1 Aは水平方向に移動可能な移動 型となっている。 また第 1 の割型 1 Aは、 そのゲー ト 2 A側を下方に向 けた状態で固定されている。 第 1 の割型 1 Aの背面部における下方部に は、 L字形をしたシリ ンダ保持板 4 5が取り付けられている。 シリンダ 保持板 4 5における水平部には、 ビス ト ン 4 6を備えたシリンダ 4 7が 取り付けられている。 シリ ンダ 4 7は、 ビス ト ン 4 6が上下方向に摺動 するように取り付けられている。 ピス ト ン 4 6 の先端は、 第 1 の割型 1 Aに備えられたビス ト ン Pに接続されている。 第 2の割型 I Bは、 その凹部 1 1 8が第 1 の割型 1 の凹部 1 1 Aと 対向するよ うに且つノズル揷入孔 2 Bを水平方向に向けた状態で、 支持 板 4 2に取り付けられている。 図 2 ( a ) から明らかなように、 第 2 の 割型 1 Bは固定型となっている。 第 2 の割型 1 Bの背面側には、 溶融石 験の注入装置 3 Aが取り付けられている。 注入装置 3 Aは、 注出ノ ズル 3 1、 切り替えバルブ 3 2、 シリ ンダ 3 3、 及びシリ ンダ 3 3内に配さ れたピス ト ン 3 4を備えている。 注出ノズル 3 1は、 第 2 の割型 1 Bに 穿設されたノズル揷入孔 2 Bの形状と合致した形状をしており、 該ノズ ル揷入孔 2 B内に揷入されている。 注出ノズル 3 1 の内部にはゲー トピ ン 3 5が摺動自在に揷入されており、 グー ト ビン 3 5の押し込み及び弓 I き出しによって、 注出ノ ズル 3 1からキヤビティへの溶融石瞼の注入を 制御している。 切り替えバルブ 3 2は、 シリ ンダ 3 3を、 図示しない貯 蔵タンク内を経由する循環路 3 6及び注出ノズル 3 1 の何れかに一方に 択一的に連通させるものである。 図 2 ( a ) に示す状態では、 シリ ンダ 3 3 と注出ノズル 3 1 とが連通しており、 シリ ンダ 3 3 と循環路 3 6 と の連通は遮断されている。 図 2に示す製造装置を用いた気泡入り石験の製造方法について説明す ると、 先ず金型ュニッ ト 4 Aのシリ ンダ 4 4を動作させてビス トン 4 3 を押し出して、 第 1 の割型 1 Aと第 2 の割型 1 Bとを型閉する。 両割型 には、 前述した冷却水の循環路に水を循環させておく。 また、 シリ ンダ 4 7を動作させてピス ト ン 4 6を引き込み、 これによつて該ピス トン 4 6に接続されているピス ト ン Pの一部を第 1 の割型 1 Aから引き出して おく。 一方、 注入装置 3 Aにおいては、 ピス ト ン 3 4を押し込んだ状態 にしておき、 この状態下に切り替えバルブ 3 2を操作して、 シリ ンダ 3 3 と循環路 3 6 とを連通させる。 そしてビス トン 3 4を引き出してシリ ンダ 3 3内に所定量の溶融石鹼を送り込む。 溶融石鹼は、 図示しない貯 蔵タンクに貯えられており、 該貯蔵タンク内を経由する循環路 3 6内を 循環している。 そして、 切り替えバルブ 3 2による流路切り替えによつ て、 循環している溶融石験がシリ ンダ 3 3内に送り込まれる。 溶融石験 を循環させておく ことで、 溶融石験中の気泡と液体分との分離が効果的 に防止される。 無数の気泡を分散含有する溶融石験の調製方法と して は、 例えば本出願人の先に出願に係る特開平 1 1 - 4 3 6 9 9号公報の 第 2欄 1 5行〜第 5欄 1行に記載されている方法を用いることができ る。 溶融石鹼の発泡には各種気体を用いることができる。 特に不活性気 体、 と りわけ窒素ガス等の非酸化性の不活性ガスを用いることで、 溶融 石験の加熱に起因してその配合成分が劣化なレ、し酸化分解することで発 生する異臭等を、 効果的に防止することができる。 次いで切り替えバルブ 3 2を操作して、 図 2 ( a ) に示すよ うに、 シ リ ンダ 3 3 と循環路 3 6 との連通を遮断し且つシリ ンダ 3 3 と注出ノス' ノレ 3 1 とを連通させる。 ゲー ト ビン 3 5は引き出された状態にしてお く。 引き続き、 ピス ト ン 3 4を押し込んで、 シリ ンダ 3 3内の溶融石鹼 4を押し出す。 これによつて溶融石験 4は注出ノズル 3 1及ぴゲート 2 A (図 1参照) を通じてキヤビティ 1 1 C内に加圧注入される。 この加 圧注入によって、 キヤビティ 1 1 C内の溶融石鹼は所定の体積まで圧縮 される。 所定体積の溶融石験の加圧注入が完了したら、 図 2 ( b ) に示すよう にゲー トピン 3 5を押し込んで注出ノズル 3 1 とキヤビティ 1 1 じとの 連通を遮断する。 更に、 シリンダ 4 7を動作させてピス トン 4 6を押し 出し、 該ピス ト ン 4 6に接続されているピス ト ン Pをゲート 2 A (図 1 参照) 内に押し込む。 これによつて、 ゲー ト 2 A内に残存している溶融 石験をキヤビティ 1 1 C内に注入する。 次に金型ユニッ ト 4 Aを後退 (図中、 右側に移動) させ、 図 2 ( c ) に示すよ うに注入装置 3 Aを第 2の割型 1 Bから取り外し、 キヤビティ 1 1 C内の溶融石鹼を圧縮状態下に冷却固化させる。 前述の通り各割型 1 A , 1 Bは冷却水の循環によって所定温度に冷却されており、 これに よってキヤビティ 1 1 C内の溶融石験の冷却固化が促進される。 溶融石 漦は加圧注入され圧縮されているので、 その冷却固化に際しての収縮や ひけの発生が防止される。 溶融石鹼が固化したら、 図 2 ( d ) に示すように、 シリ ンダ 4 4を動 作させてピス トン 4 3を引き込む。 これによつて両割型 1 A , 1 Bを型 開し、 次いでキヤビティ内の気泡入り石鹼 5を所定の把持手段 (図示せ ず) によって取り出す。 この場合、 石験 5は常に第 1 の割型 1 A側に保 持される。 従って、 把持手段による石験 5の取り出しは常に第 1 の割型 1 A側に対して行えばよいので、 取り出しが容易となり生産性が向上す る。 しかも型開に際して石験の落下も起こらないので、 落下した石鹼か ら生じた破片等によつて製造装置が汚染されることもない。 また各割型 1 A , 1 Bの凹部 1 1 A, 1 1 Bは非対称の異形状となっているが、 こ れらの凹部にはアンダーカッ ト部が存在しないので、 型開時にいわゆる 無理抜きを行う必要はない。 溶融石鹼の冷却固化後に成形型を型開する時期に特に制限はないが、 石験の内部までが固化してから型開するよ り も、 もっと早い段階、 例え ば石鹼の表層部は固化しているが內部は未固化の状態で型開する方が、 石験は確実に第 1 の割型 1 A側に保持される。 次に、 本発明の別の実施形態について図 3を参照しながら説明する。 この実施形態に関し、 特に説明しない点については、 先の実施形態に関 して詳述した説明が適宜適用される。 また、 図 3において、 図 1 と同じ 部材に同じ符号を付してある。 図 3に示す実施形態の成形型は、 図 1 に 示す成形型とほぼ同様に構成されている。 両者が異なる点は、 実施形態 の成形型においては、 凹部 1 1 A, 1 1 Bがほぼ対称な同形状をしてい る点である。 各割型 1 A, I Bにおける凹部 1 1 A, 1 1 Bの内面はそれぞれ鏡面 加工されて低表面粗さの領域となっている。 但し、 一方の割型である第 1の割型 1 Aにおいては、 その凹部 1 1 Aの底面が、 鏡面加工後に粗面 加工されて高表面粗さの領域となっている。 即ち本実施形態において は、 第 1 の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面粗さ R aを、 第 2の割型 I Bにおける凹部 1 I Bの表面粗さ R a よ り も大きく してある。 更に、 第 1の割型 1 Aの凹部 1 1 Aには、 高表面粗さの領域と低表面 粗さの領域とがあり、 一方第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bには低表面粗さ の領域のみがある。 そして、 第 1の割型 1 Aの凹部 1 1 Aにおける低表 面粗さの領域の表面粗さ R aは、 第 2の割型 1 Bの凹部 1 1 Bの表面粗 さ R a とほぼ同程度となっている。 第 1の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面粗さ R aを、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R a よ り も大きくすることで、 溶融石 鹼をキヤビティ内に充填し冷却固化させた後に成形型を型開するとき に、 表面粗さ R aの低い第 2の割型 1 B側に石験が常に保持されること が本発明者らの検討の結果判明した。 凹部の表面粗さ R a を低下させるとその割型側に石鹼が保持され、 逆 に凹部の表面粗さ R aを大きくするとアンカー効果によってその割型側 に石鹼が保持されることは先に述べた通りである。 つま り表面粗さ R a の大小によって石験が保持される割型がまちまちとなってしま う。 本発 明者らが鋭意検討した結果、 第 1の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの表面 粗さ R a (つまり高表面粗さの領域の表面粗さ R a ) と、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R a との差を 0. 1 ~ 3 0 / m、 好ま しくは 0. 2〜 2 0 μπιとすることで、 表面粗さ R aの低い第 2の割型 1 B側に石験が常に保持されることが判明した。 図 1 に示されるよ うに、 第 1の割型 1 Aの凹部 1 1 Aに形成される高 表面粗さの領域は、 該凹部 1 1 Aの底面に位置している。 つまり高表面 粗さの領域は、 成形型のパーティング面 P Lとほぼ平行な面である凹部 1 1 Aの底面に形成されている。 これによつて、 第 1の割型 1 Aからの 石鹼の離型が容易となり、 第 2の割型 1 B側に石験が一層確実に保持さ れる。 ほぼ平行な面の定義は先に述べた通りである。 第 2の割型 1 B側に石鹼を一層確実に保持させるために、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aにおける高表面粗さの領域は、 該凹部 1 1 Aの全面積 の 3 0 %以上、 特に 5 0 %以上を占めることが好ましい。 最も好ま しく は、 第 1の割型 1 Aの凹部 1 1 Aはその全域が高表面粗さの領域となつ ている。 また、 第 2の割型 1 B側に石験を一層確実に保持させるために、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aにおける高表面粗さの領域は、 その表面粗さ R aカ 0. 2〜 3 0 xm、 特に 0. 4〜 2 0 μηιであることが好ましレヽ。 一方、 第 1 の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの低表面粗さの領域の表面粗 さ R a及び第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R aは何れも 0. :!〜 3 0 μπι、 特に 0. :!〜 2 であることが好ましい。 なお、 第 1の割型 1 Aにおける凹部 1 1 Aの低表面粗さの領域の表面粗さ R a と、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R a とは必ずしも同 じ値であることを要しない。 更に、 第 2の割型 1 B側に石験を一層確実に保持させるために、 第 1 の割型 1 Aの凹部 1 1 Aにおける高表面粗さの領域の表面粗さ R a と、 第 2の割型 1 Bにおける凹部 1 1 Bの表面粗さ R a との比 (前者ノ後 者) は 2〜 3 0 0、 特に 4〜 2 0 0であることが好ましい。 本実施形態の成形型を用い、 これを図 2に示す製造装置に取り付けて 石鹼を製造すると、 成形型内で石験が成形された後に两割型 1 A, 1 B を型開すると、 石鹼 5は常に第 2の割型 1 B側に保持される。 本発明は前記実施形態に制限されない。 例えば前記実施形態において は 2個の割型で一組をなす成形型を用いたが、 割型の数はこれに限られ ず石饞の形状によっては 3個以上の割型から成形型を構成してもよい。 その場合には、 複数の割型のうち、 一の割型における凹部の表面積を、 残りの各割型における凹部の表面積よ り もそれぞれ大きくすることが好 ましい。 これに代えて、 複数の割型のうち、 一の割型における凹部の少 なく とも一部の表面粗さを高く し、 且つ残りの各割型における凹部の表 面粗さをそれより も低く し、 しかも残りの各割型における凹部の表面粗 さをそれぞれ同程度とすることも好ましい。 また図 1 に示す実施形態においては第 2の割型 1 B の凹部底面に高表 面粗さの領域を形成したが、 該領域は同実施形態に必須のものではな く、 各割型 1 A , 1 8の凹部 1 1 八, 1 1 Bは同程度の低表面粗さにし ておいてもよい。 また図 1及ぴ図 3に示す実施形態においては、 高表面粗さの領域は、 パーティング面 P Lとほぼ平行な面である凹部底面に形成されていた が、 高表面粗さの領域の形成箇所はこれに限られず凹部における他の領 域、 例えばパーティング面 P Lとほぼ直角な面であってもよい。 更に凹 部底面に形成する場合は、 底面の全域に高表面粗さの領域を形成するこ とに代えて、 該底面に不連続に高表面粗さの領域を複数箇所形成しても よい。 また、 各割型 1 A, 1 8の凹部 1 1 八, 1 1 Bには、 石鹼の確実な保 持 (第 1 の割型側) 及ぴ石鹼の確実な離型 (第 2 の割型側) を目的と し て、 空気の吸引用及び吹き出し用のス リ ッ トゃ小孔を形成してもよい。 同様に図 3に示す実施形態においても、 石験の確実な保持 (第 2の割型 側) 及び石験の確実な離型 (第 1 の割型側) を目的と して、 各割型に空 気の吸引用及び吹き出し用のス リ ッ トゃ小孔を形成してもよい。 また前記実施形態においては、 圧縮成形の一例である気泡入り石験の 製造に本発明の成形型を用いたが、 本発明の成形型は気泡を含まない通 常の石験の製造に用いることもできる。 尤も、 本発明の成形型は、 冷却 後のヒケの大きい気泡入り石験の製造のような圧縮成形に特に適してい る。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。 しかしながら本発明 の範囲はかかる実施例に制限されるものではない。 特に断らない限り 「部」 は 「重量部」 を意味する。
〔実施例 1 一 1〕
図 1 に示す成形型を用い、 これを図 2に示す製造装置に取り付けて気 泡入り石鹼を製造した。 第 1の割型における凹部の表面積と第 2の割型 における凹部の表面積との比は 5 3 : 4 7であった。 各割型の凹部を鏡 面加工して表面粗さ R aが 0 . 4 6 3 x mの低表面粗さの領域を形成し た。 但し第 2の割型においては、 凹部の底面をサンドブラスタ一による 粗面化処理して表面粗さ R aが 1 8 . 9 3 ^ mの高表面粗さの領域を形 成した。 第 2の割型の凹部における高表面粗さの領域は、 該凹部の全面 積の 4 8 %を占めていた。 以下に示す配合成分を用いて、 前述した特開平 1 1 一 4 3 6 9 9号公 報に記載の方法に従い無数の気泡が分散含有された溶融石鹼を調製し " た。 発泡には窒素ガスを用いた。
ラウリ ン酸 N a 3 0部
ココイルイセチオン酸 N a 2部
ラウロイノレ乳酸 N a 5部
ポリオキシエチレンモノラウレー ト 2部
ラウリ ン酸 5部
グリセリ ン 2 0部 塩化ナト リ ウム 1 . 5部
香料 1 . 5部
水 3 2部 調製された溶融石鹼を用い、 図 2 ( a ) 〜図 2 ( d ) に示す工程に従 い気泡入り石鹼を製造した。 溶融石鹼の温度は 6 4 °Cと した。 各割型は 5〜 1 5 °Cの冷却水で冷却しておいた。 溶融石験の冷却時間は 1分と し た。 冷却後に成形型を型開し、 どちらの割型に石験が保持されているか を観察した。 5回の成形を行ったところ、 5回とも第 1 の割型側に石験 が保持されたことを確認した。 〔実施例 1 一 2〕
第 1 の割型における凹部の表面積と第 2の割型における凹部の表面積 との比を 5 7 : 4 3 と した。 また、 各割型の凹部を鏡面加工して表面粗 さ R aが 0 . 2 6 3 μ mの低表面粗さの領域を形成した。 但し第 2の割 型においては、 凹部の底面をサンドブラスタ一による粗面化処理して表 面粗さ R aが 0 . 4 6 3 μ mの高表面粗さの領域を形成した。 これ以外 は実施例 1 一 1 と同様にして気泡入り石鹼を製造した。 5回の成形を行 つたところ、 5回とも第 1 の割型側に石鹼が保持されたことを確認し た。
〔実施例 1 _ 3〕
第 1 の割型における凹部の表面積と第 2の割型における凹部の表面積 との比を 6 6 : 3 4 と した。 各割型の凹部を鏡面加工して表面粗さ R a が 0 . 2 6 3 μ mの低表面粗さの領域を形成した。 但し第 2の割型にお いては、 凹部の底面をサンドブラスタ一による粗面化処理して表面粗さ R aが 1 8 . 9 3 μ mの高表面粗さの領域を形成した。 これ以外は実施 例 1 _ 1 と同様にして気泡入り石鹼を製造した。 5回の成形を行ったと ころ、 5回とも第 1の割型側に石験が保持されたことを確認した。 〔実施例 1 一 4〜 1 一 6〕
実施例 1 — :!〜 1 一 3において第 2の割型に高表面粗さの領域を形成 しない以外は実施例 1 一 1〜 1 一 3 とそれぞれ同様にして気泡入り石鹼 を製造した。 各実施例についてそれぞれ 5回の成形を行ったところ、 各 実施例の何れにおいても、 5回とも第 1の割型側に石験が保持されたこ とを確認した。
〔実施例 2 — 1〕
図 3に示す成形型を用い、 これを図 2に示す製 装置に取り付けて気 泡入り石鹼を製造した。 各割型の 部を鏡面加工して表面粗さ R aが 0 . 4 6 3 μ mの低表面粗さの領域を形成した。 但し第 1 の割型におい ては、 凹部の底面をサン ドプラスターによる粗面化処理して表面粗さ R aが 1 8 . 9 3 μ πιの高表面粗さの領域を形成した。 第 1 の割型の凹部 における高表面粗さの領域は、 該凹部の全面積の 4 8 %を占めていた。 以下に示す配合成分を用いて、 前述した特開平 1 1 — 4 3 6 9 9号公 報に記載の方法に従い無数の気泡が分散含有された溶融石鹼を調製し た。 発泡には窒素ガスを用いた。
ラウリ ン酸 N a 3 0部
ココイルイセチオン酸 N a 2部
ラウロイル乳酸 N a 5部
ポリオキシエチレンモノラウレー ト 2部
ラウリ ン酸 5部
グリセ リ ン 2 0部
塩化ナ トリ ウム 1 . 5部
香料 1 . 5部
水 3 2部 調製された溶融石鹼を用い、 図 2 ( a ) 〜図 2 ( d ) に示す工程に従 い気泡入り石鹼を製造した。 溶融石験の温度は 6 4 °Cと した。 各割型は 5〜 1 5 °Cの冷却水で冷却しておいた。 溶融石鹼の冷却時間は 1分と し た。 冷却後に成形型を型開し、 どちらの割型に石験が保持されているか を観察した。 5回の成形を行ったところ、 5回とも第 2の割型側に石験 が保持されたことを確認した。
〔実施例 2 - 2 ]
各割型の凹部を鏡面加工して表面粗さ R aが 0 . 2 6 3 μ πιの低表面 粗さの領域を形成した。 但し第 1 の割型においては、 凹部の底面をサン ドブラスタ一による粗面化処理して表面粗さ R aが 0 . 4 6 3 /i mの高 表面粗さの領域を形成した。 これ以外は実施例 2 _ 1 と同様にして気泡 入り石鹼を製造した。 5回の成形を行ったところ、 5回とも第 2の割型 側に石験が保持されたことを確認した。
〔実施例 2 — 3〕
各割型の凹部を鏡面加工して表面粗さ R aが 0 . 2 6 3 /x mの低表面 粗さの領域を形成した。 但し第 1の割型においては、 凹部の底面をサン ドブラスタ一による粗面化処理して表面粗さ R aが 1 8 . 9 3 / mの高 表面粗さの領域を形成した。 これ以外は実施例 2 — 1 と同様にして気泡 入り石験を製造した。 5回の成形を行ったところ、 5回とも第 2の割型 側に石験が保持されたことを確認した。 〔比較例 1〕
第 1の割型における凹部と第 2の割型における凹部とを対称形の同形 にしてそれらの表面積を同じにし、 且つ第 2の割型に高表面粗さの領域 を形成しない以外は実施例 1 — 1 と同様にして気泡入り石験を製造し た。 1 0回の成形を行ったところ、 第 1の割型側に石験が保持された回 数が 4回、 第 2の割型側が 6回であった。 産業上の利用可能性
本発明の成形型によれば、 型開時に、 成形された石験が常に特定の割 型に保持される。 従って本発明の成形型を用いれば石鹼の製造を安定的 に且つ生産性良く行う ことができる。 本発明の成形型は、 気泡入り石験 の製造のような圧縮成形に特に適している。

Claims

si 求 の 範 囲
1 . 一組の割型を組み付けてなり 、 内部に成形用のキヤ ビティが形成さ れる石験の成形型において、 一の割型における前記キヤビティを形成す る凹部の表面積を、 他の各割型における前記キヤビティを形成する凹部 の表面積より もそれぞれ大きく し、 一の割型における前記凹部の表面積 と、 他の各割型における前記凹部の表面積との比をそれぞれ 5 2 : 4 8 〜 6 6 : 3 4 と した石験の成形型。
2 . 2個の割型で一組をなす請求の範囲第 1項記載の石験の成形型。
3 . 他の各割型における前記キヤビティを形成する凹部の表面粗さ R a を、 一の割型における前記キヤビティを形成する凹部の表面粗さ R a よ り も大きく し、 それらの表面粗さ R aの差を 0 . l 〜 3 0 x mと した請 求の範囲第 1項記載の石鹼の成形型。
4 . 他の各割型における前記キヤビティを形成する凹部には高表面粗さ の領域と低表面粗さの領域とがあり、 該低表面粗さの領域における表面 粗さ R aが、 一の割型における前記キヤビティを形成する凹部の表面粗 さ R a とほぼ同程度となっている請求の範囲第 3項記載の石験の成形 型。
5 . 前記凹部に、 成形型のパーティング面とほぼ平行な面が形成されて おり、 該面に前記高表面粗さの領域が形成されている請求の範囲第 4項 記載の石験の成形型。
6 .他の各割型における前記高表面粗さの領域が、凹部の全面積の 3 0 % 以上を占めている請求の範囲第 4項記载の石験の成形型。
7. 他の各割型における前記高表面粗さの領域の表面粗さ R aが 0. 2
〜 3 O ^ mであり、 前記低表面粗さの領域の表面粗さ R a及び一の各割 型における凹部の表面粗さ R aが何れも 0. 1 〜 3 0 i mである請求の 範囲第 4項記載の石鹼の成形型。
8. 一組の割型を組み付けてなり、 内部に成形用のキャビティが形成さ れる石験の成形型において、 —の割型における前記キヤビティを形成す る凹部の表面粗さ R a を、 他の各割型における前記キヤ ビティを形成す る凹部の表面粗さ R a より もそれぞれ大きく し、 それらの表面粗さ R a の差それぞれを 0. 1 〜 3 0 mと した石鹼の成形型。
9. 一の割型における前記キヤビティを形成する凹部には高表面粗さの 領域と低表面粗さの領域とがあり、 該低表面粗さの領域における表面粗 さ R aが、 他の各割型における前記キヤビティを形成する凹部の表面粗 さ R a とほぼ同程度となっている請求の範囲第 8項記載の石鹼の成形
1 0. 前記凹部に、 成形型のパーティング面とほぼ平行な面が形成され ており、 該面に前記高表面粗さの領域が形成されている請求の範囲第 9 項記載の石鹼の成形型。
1 1.一の割型における前記高表面粗さの領域が、凹部の全面積の 3 0 % 以上を占めている請求の範囲第 9項記載の石験の成形型。
1 2. —の割型における前記高表面粗さの領域の表面粗さ R aが 0. 2 〜 3 Ο μ πιであり、 前記低表面粗さの領域の表面粗さ R a及ぴ他の各割 型における凹部の表面粗さ R aが何れも 0. 1 〜 3 0 μ πιである請求の 範囲第 9項記載の石験の成形型。
1 3 . 2個の割型で一組をなし、 それぞれの割型における凹部がほぼ対 称な同形状をしている請求の範囲第 8項記載の石験の成形型。
1 4 . 請求項 1又は 8記載の成形型のキャ ビティ内に溶融石鹼を加圧注 入し、 該溶融'石鹼を圧縮状態下に冷却固化させた後、 該成形型を型開し て固化した右鹼を取り出す石鹼の製造方法。
1 5 . 前記溶融石鹼が、 無数の気泡を分散含有するものである請求の範 囲第 1 4項記載の石験の製造方法。
1 6 . 前記石験の表層部は固化しているが、 内部は未固化の状態で前記 成形型を型開する請求の範囲第 1 4項記載の石験の製造方法。
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