GEÄNDERTE ANSPRÜCHE und ERKLÄRUNG[beim Internationalen Büro am 30. August 2004 (30.08.04) eingegangen ursprüngliche Ansprüche 1-27 durch geänderte Ansprüche 1-31 ersetzt]Neue Ansprüche
1. Anordnung zum Beugen von Lichtwellen an einer Beugungsstruktur mit mindestens einer Beugungselektrode zum Ausbilden eines elektrischen Feldes beim Anlegen einer elektrischen Betriebsgröße an die mindestens eine Beugungselektrode und einem Fluidvolumen, das benachbart zu der mindestens einen Beugungselektrode in einem Einfallsbereich von einfallenden Lichtwellen angeordnet ist, so daß das elektrische Feld zumindest teilweise in das Fluidvolumen hinein wirken kann, wobei das Fluidvolumen Partikel umfaßt, die als Reaktion auf das Ausbilden des elektrischen Feldes mit Hilfe der mindestens einen Beugungselektrode in dem Fluidvolumen verlagert werden, so daß in dem Fluidvolumen ein von dem elektrischen Feld abhängiger Konzentrationsgradient der Partikel gebildet ist, dadurch g ekennz eichnet, daß mittels des Konzentrationsgradienten in dem Fluidvolumen eine zusätzliche Beugungsstruktur (68) separiert von der mindestens einen Beugungselektrode gebildet ist.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennz eichnet, daß der Konzentrationsgradient mittels Dielektrophorese gebildet ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch g ekennz ei chnet, daß mehrere Beugungselektroden vorgesehen sind, bei denen sich Abstände zwischen benachbarten Beugungselektroden unterscheiden, so daß eine asymmetrische Beugungsstruktur gebildet ist.
4. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß die mindestens eine Beugungselektrode aus einem lichtdurchlässigen Material ist.
5. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß das Fluidvolumen ein strömendes Volumen ist.
6. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel in dem Fluidvolumen Biomoleküle sind.
7. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennz ei chnet durch eine Detektionseinrichtung (7) zum Erfassen gebeugter Lichtwellen, die an der Beugungsstruktur gebeugt wurden.
8. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß eine Ausdehnung der mindestens einen Beugungselektrode in einer Richtung, die im wesentlichen quer zu einer Einfallsrichtung der einfallenden Lichtwellen auf die Beugungsstruktur verläuft, klein im Vergleich zur Wellenlänge der einfallenden Lichtwellen ist, so daß eine Beugung an der Beugungsstruktur im wesentlichen erst als Reaktion auf den Konzentrationsgradienten der Partikel nach dem Ausbilden des elektrischen Feldes auftritt.
9. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz eichnet, daß die Beugungsstruktur eine in Reflexion betreibbare Beugungsstruktur ist.
10. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß die Beugungsstruktur eine in Transmission betreibbare Beugungsstruktur ist.
11. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennz ei chnet durch eine kammförmige Beugungselektrode (80).
12. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß auf einer Oberfläche der mindestens einen Beugungselektrode eine Schicht aus einem lichtemittierenden Material aufgebracht ist.
13. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet , daß die mehreren Beugungselektroden (90) matrixartig angeordnet sind.
14. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß der mindestens einen Beugungselektrode gegenüberliegend zumindest eine weitere Beugungselektrode (9) vorgesehen ist, wobei die mindestens eine Beugungselektrode und die zumindest eine weitere Beugungselektrode hinsichtlich der einfallenden Lichtwellen auf Lücke versetzt sind, so daß ein zumindest teilweiser Durchgang der einfallenden Lichtwellen durch die Beugungsstruktur mit Hilfe einer Änderung der Beugungseigenschaften der Beugungsstruktur schaltbar ist.
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15. Anordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennz ei chnet, daß die Beugungsstruktur in einem Lichtweg eines optischen Geräts zum Regeln einer Ausbreitung der einfallenden Lichtwellen entlang des Lichtwegs angeordnet sind.
16. Verfahren zum Regeln einer Ausbreitung von Lichtwellen mit Hilfe des Beugens einfallender Lichtwellen an einer Beugungsstruktur mit mindestens einer Beugungselektrode und einem Fluidvolumen, das banachbart zu der mindestens einen Beugungselektrode in einem Einfallsbereich der einfallenden Lichtwellen angeordnet ist, bei dem:
- die einfallenden Lichtwellen auf die Beugungsstruktur einfallen;
- die zumindest eine Beugungselektrode zum Ausbilden eines elektrischen Feldes mit einer elektrischen Betriebsgröße beaufschlagt wird, so daß das elektrische Feld zumindest teilweise in das Fluidvolumen hinein wirkt;
- in dem Fluidvolumen Partikel als Reaktion auf das Ausbilden des elektrischen Felds verlagert werden, um in dem Fluidvolumen einen von dem elektrischen Feld abhängigen Konzentrationsgradienten der Partikel zu bilden, so daß Beugungseigenschaften der Gesamtbeugungsstruktur verändert werden, wobei beim Bilden des Konzentrationsgradienten der Partikel separiert von der zumindest einen Beugungselektrode eine zusätzliche Beugungsstruktur (68) gebildet wird; und
- die einfallenden Lichtwellen an der Beugungsstruktur gemäß den veränderten Beugungseigenschaften gebeugt werden, so daß gebeugte Lichtwellen gebildet werden.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Konzentrationsgradient mittels Dielektrophorese gebildet wird.
18. Verfahren nach Anspruch 16 oder 17, dadurch g ekennz ei chnet, daß das Fluidvolumen von einem strömenden Volumen gebildet wird.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch g ekennz ei chnet, daß mit Hilfe des Ausbildens des elektrischen Feldes eine asymmetrische Verteilung der Partikel in dem Fluidvolumen geschaffen wird.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 19, dadurch gekennz eichnet, daß zum Bilden des Konzentrationsgradienten der Partikel mit Hilfe des elektrischen Feldes eine Temperaturerhöhung in dem Fluidvolumen induziert wird.
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21. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 20, dadurch g ekennz ei chnet, daß zum Bilden des Konzentrationsgradienten der Partikel mit Hilfe des elektrischen Feldes ein Phasenübergang in dem Fluidvolumen induziert wird.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 21 , dadurch g ekennz ei chnet, daß zum Bilden des Konzentrationsgradienten der Partikel mit Hilfe des elektrischen Feldes der Partikel eine elektrochemische Umsetzung in dem Fluidvolumen induziert wird.
23. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 22, dadurch gek ennz ei chnet, daß eine Ausdehnung , der mindestens einen Beugungselektrode in einer Richtung, die im wesentlichen quer zur Einfallsrichtung der einfallenden Lichtwellen verläuft, klein im Vergleich zur Wellenlänge der einfallenden Lichtwellen ist, so daß die einfallenden Lichtwellen im wesentlichen erst als Reaktion auf den Konzentrationsgradienten der Partikel nach dem Ausbilden des elektrischen Feldes an der Beugungsstruktur gebeugt werden.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 23, dadurch g ekennz eichnet, daß die einfallenden Lichtwellen an der Beugungsstruktur reflektiert werden.
25. Verfaliren nach einem der Ansprüche 16 bis 24, dadurch gekennz eichnet, daß die einfallenden Lichtwellen durch die Beugungsstruktur transmittieren.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 25, dadurch g ekennz eichnet, daß der mindestens einen Beugungselektrode gegenüberliegend zumindest eine weitere Beugungselektrode (9) angeordnet wird, wobei die mindestens eine Beugungselektrode und die zumindest eine weitere Beugungselektrode (9) hinsichtlich der einfallenden Lichtwellen auf Lücke versetzt werden, so daß ein zumindest teilweiser Durchgang der einfallenden Lichtwellen durch die Beugimgsstruktur mit Hilfe einer Änderung der Beugungseigenschaften der Beugungsstruktur geschalten wird.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 26, dadurch gekennz ei chnet, daß die Beugungsstruktur in einem Lichtweg eines optischen Geräts angeordnet sind, so daß eine Ausbreitung der einfallenden Lichtwellen entlang des Lichtwegs geregelt wird.
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28. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 27, dadurch gekennz ei chnet, daß die gebeugten Lichtwellen detektiert werden, um Eigenschaften des Fluidvolumens und/oder der Partikel in dem Fluidvolumen zu analysieren.
29. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 28, dadurch gekennz ei chnet, daß von einem lichtemittierenden Material auf einer Oberfläche der mindestens einen Beugungselektrode Licht emittiert wird.
30. Verfahren zum Herstellen einer Beugungsstruktur für einfallende Lichtwellen, wobei die Beugungsstruktur mindestens eine Beugungselektrode und ein Fluidvolumen umfaßt, das benachbart zu der mindestens einen Beugungselektrode in einem Einfallsbe- reich der einfallenden Lichtwellen angeordnet ist, wobei bei dem Verfahren die zumindest eine Beugungselektrode zum Ausbilden eines elektrischen Feldes mit einer elektrischen Betriebsgröße beaufschlagt wird, so daß das elektrische Feld zumindest teilweise in das Fluidvolumen hinein wirkt, und in dem Fluidvolumen Partikel als Reaktion auf das Ausbilden des elektrischen Felds verlagert werden, um in dem Fluidvolumen einen von dem elektrischen Feld abhängigen Konzentrationsgradienten der Partikel zu bilden, wobei beim Bilden des Konzentrationsgradienten der Partikel separiert von der zumindest einen Beugungselektrode eine zusätzliche Beugungsstruktur (68) gebildet wird.
31. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennz eichnet, daß der Konzentrationsgradient mittels Dielektrophorese gebildet wird
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