WO2004059635A1 - 光磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

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    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • G11B11/10586—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the selection of the material
    • G11B11/10589—Details

Definitions

  • the present invention relates to an information rewritable magneto-optical recording medium and a method for manufacturing the same.
  • An example of a method for recording information on a magneto-optical recording medium is a magnetic field modulation method.
  • a recording target portion of the magneto-optical recording medium is irradiated with laser light, and a magnetic field corresponding to the written information is applied.
  • the magneto-optical recording medium has a structure capable of efficiently using a magnetic field.
  • a magneto-optical recording medium suitable for the magnetic field modulation method has a soft magnetic layer.
  • a magneto-optical recording medium is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H03-105574.
  • the magneto-optical recording medium described in the above publication has a structure in which a soft magnetic layer, a group forming layer, a magneto-optical recording layer, and a protective layer are sequentially laminated on an aluminum substrate.
  • the magneto-optical recording layer is a layer whose magnetization direction is perpendicular to this layer. Recording of information is performed by controlling the direction of magnetization of the magneto-optical recording layer by irradiating a laser beam and applying a magnetic field.
  • the soft magnetic layer is made of, for example, a Ni-Fe alloy, and has a magnetization direction parallel to the soft magnetic layer, unlike the magneto-optical recording layer. This soft magnetic layer is formed on the substrate by sputtering.
  • a magnetic field generated by a magnetic head disposed opposite to the protective layer passes through the protective layer, the magneto-optical recording layer, and the group forming layer, and then forms the soft magnetic layer.
  • the light travels in the layer in a direction parallel to this layer, and passes through the group forming layer, the magneto-optical recording layer, and the protective layer again, and returns to the magnetic head.
  • the magnetic field effectively acts on the recording target portion, which is suitable for recording information.
  • the substrate is made of aluminum for reasons such as enhancing the adhesion between the substrate and the soft magnetic layer.
  • aluminum is a relatively expensive material. For this reason, the manufacturing cost of the magneto-optical recording medium has been expensive. Also, since the soft magnetic layer was formed by sputtering, the operation and maintenance costs of the equipment were high, and the adhesion rate of the material of the soft magnetic layer to the substrate was not necessarily good, and the efficiency was low. It was bad.
  • An object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium capable of solving or reducing the above-mentioned problems and a method for manufacturing the same.
  • a magneto-optical recording medium provided by the first aspect of the present invention is a magneto-optical recording medium in which a soft magnetic layer, a group forming layer, and a magneto-optical recording layer are sequentially laminated on a substrate,
  • the substrate is made of resin, and at least a portion of the surface of the bracket substrate that is in contact with the soft magnetic layer has a surface roughness of 4 nm or more.
  • the soft magnetic layer, the group forming layer, and the magneto-optical recording layer are respectively provided on both surfaces of the substrate.
  • the entire surface of the substrate is covered with the soft magnetic layer.
  • the area of the soft magnetic layer is not less than the area of the recording surface and not more than 85% of the surface area of the substrate.
  • the magneto-optical recording medium provided by the second aspect of the present invention is a magneto-optical recording medium in which a soft magnetic layer and a magneto-optical recording layer are sequentially laminated on a substrate, wherein the substrate is a resin A plurality of groups are formed on at least a portion of the surface of the bracket substrate that contacts the soft magnetic layer, and the surface roughness of the portion is 2 nm or more.
  • the plurality of groups are formed on both surfaces of the substrate, and the soft magnetic layer and the magneto-optical recording layer are respectively provided on both surfaces of the substrate.
  • the method for manufacturing a magneto-optical recording medium is directed to a magneto-optical recording medium in which a soft magnetic layer, a group forming layer, and a magneto-optical recording layer are sequentially laminated on a substrate.
  • a manufacturing method comprising: a first step of resin-molding the substrate so that the surface roughness is 4 nm or more; and a second step of forming the soft magnetic layer by an electroless plating method. It is characterized by doing.
  • the first step is performed using a stamper adjusted to have a surface roughness of 4 nm or more.
  • the method for manufacturing a magneto-optical recording medium is a method for manufacturing a magneto-optical recording medium, comprising: laminating a soft magnetic layer and a magneto-optical recording layer on a substrate in order; A method for manufacturing a magneto-optical recording medium, wherein a plurality of groups are formed in a portion in contact with the soft magnetic layer, wherein a first step of resin-forming the substrate so that the surface roughness is 2 nm or more. And a second step of forming the soft magnetic layer by an electroless plating method.
  • the first step is performed using a stamper adjusted to have a surface roughness of 2 nm or more.
  • FIG. 1 is a sectional view showing an example of the magneto-optical recording medium according to the present invention.
  • FIG. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating steps of a method for manufacturing the magneto-optical recording medium shown in FIG.
  • 3A and 3B are cross-sectional views illustrating steps of a method for manufacturing the magneto-optical recording medium shown in FIG.
  • FIG. 4 is a sectional view showing another example of the magneto-optical recording medium according to the present invention.
  • FIG. 1 shows an embodiment of a magneto-optical recording medium according to the present invention.
  • the magneto-optical disk D 1 of the present embodiment has a soft magnetic layer 2, a group forming layer 3, a magneto-optical recording layer 4, and a protective layer 5 on the upper surface 1 a and the lower surface 1 b of the substrate 1.
  • Each has a structure sequentially laminated.
  • the structure on the upper surface 1 a side of the substrate 1 and the structure on the lower surface 1 b side of the substrate 1 are symmetrical to each other with the substrate 1 interposed therebetween.
  • the substrate 1 is made of, for example, polycarbonate and has a donut disk shape.
  • the upper and lower surfaces la and lb of the substrate 1 have a surface roughness of, for example, 5 nm. “Roughness” means “arithmetic mean height” defined by the Japanese Industrial Standards (JIS) in 2001.
  • the soft magnetic layer 2 is made of a high magnetic permeability material whose magnetization changes greatly with a weak magnetic field, and is made of, for example, an Fe—Co—Ni alloy.
  • the magnetization direction of the soft magnetic layer 2 is parallel to this layer, and the soft magnetic layer 2 helps the magnetic field generated by the magnetic head or the like to efficiently act on the recording target portion of the magneto-optical recording layer 4.
  • the soft magnetic layer 2 covers the entire surface of the substrate 1 and is formed on the outer and inner peripheral surfaces of the substrate 1 in addition to the upper and lower surfaces la and lb of the substrate 1. .
  • the group forming layer 3 is made of, for example, an ultraviolet curable resin.
  • a plurality of groups 31 and a plurality of lands 32 extending in the circumferential direction are formed alternately in the radial direction.
  • group and “land” are concepts that do not include the magneto-optical recording layer 4.
  • the width of the group 31 is, for example, 0.5 / im, and the width of the land 32 is, for example, 0.25 tm.
  • the depth of the group 31 is, for example, 40 nm.
  • the magneto-optical recording layer 4 has a large coercive force and is a layer on which information is recorded.
  • the magneto-optical recording layer 4 has a structure in which a dielectric layer, a reflective layer, and the like are combined with a perpendicular magnetization layer whose magnetization direction is perpendicular to the layer.
  • a dielectric layer, a reflective layer, and the like are combined with a perpendicular magnetization layer whose magnetization direction is perpendicular to the layer.
  • an AgPdCuSi layer, a SiN It has a multi-layered structure including layers, an AgPdCuSi layer, a GdFeCo layer, a TbFeCo layer, and a SiN layer. Such a multilayer structure is suitable for properly recording and reproducing information.
  • the magneto-optical recording layer 4 is formed on the upper and lower surfaces la and 1 b of the substrate 1, and information is recorded on the magneto-optical recording layer 4 on the group 31 and the land 32. And the amount of information Quantification is being pursued.
  • the protective layer 5 is made of, for example, a transparent ultraviolet curable resin.
  • the protective layer 5 plays a role of preventing wear and corrosion of the magneto-optical recording layer 4 and the like.
  • the thickness of the substrate 1 and each of the layers 2 to 5 are, for example, 1.2 mm for the substrate 1, 0.8 ⁇ m for the soft magnetic layer 2, 10 ⁇ m for the group forming layer 3, and 125 ⁇ m for the magneto-optical recording layer 4. nm, and the protective layer 5 is 15.
  • the thickness of the magneto-optical recording layer 4 is, for example, 10 nm for the AgPdCuSi layer, 5 nm for the SiN layer, 30 nm for the AgPdCuSi layer, and 30 nm for GdFe.
  • the Co layer is 5 nm
  • the TbFeCo layer is 25 nm
  • the SiN layer is 50 nm.
  • the substrate 1 is resin-molded by an injection molding method.
  • a pair of stampers 6 made of nickel are used.
  • the stamper 6 is subjected to an etching process in which argon ions collide with the surface under conditions of a gas pressure of 1.5 Pa and an RF power of 1 kW for about 10 minutes so that the surface roughness becomes 5 nm. It is formed in.
  • the pair of stampers 6 is attached to the mold 7, the molten polycarbonate is filled between the pair of stampers 6, and then cured to form the substrate 1.
  • the soft magnetic layer 2 is formed on the entire surface of the substrate 1.
  • This step is performed by an electroless plating method. For example, after sequentially immersing the substrate 1 in an aqueous solution of tin chloride and an aqueous solution of palladium chloride, as shown in FIG. 2B, an electroless plating solution containing an Fe salt, a Ni salt, a Co salt, and a reducing agent. By immersing in L for about 20 minutes, the soft magnetic layer 2 can be formed to the above-described thickness.
  • a group forming layer 3 is formed on the soft magnetic layer 2 laminated on the upper and lower surfaces la and lb of the substrate 1.
  • a pair of transparent stampers 8 made of, for example, quartz glass are used.
  • predetermined convex patterns corresponding to the plurality of groups 31 and the plurality of lands 32 are formed.
  • a silane coupling agent is applied to the soft magnetic layer 2 so that the surface of the soft magnetic layer 2 has adhesiveness, and an unhardened ultraviolet ray is cured on the soft magnetic layer 2.
  • Distribute resin a predetermined distance from the soft magnetic layer 2 is set.
  • a pair of transparent stampers 8 are put on the ultraviolet curing resin. Ultraviolet light is irradiated from the transparent stamper 8 side to cure the ultraviolet curable resin.
  • the transparent stamper 8 is removed as shown in FIG. 3B. By performing such a procedure, the group formation layer 3 can be formed.
  • the magneto-optical recording layer 4 is formed on the group forming layer 3.
  • the magneto-optical recording layer 4 can be formed by sequentially laminating a plurality of layers constituting the magneto-optical recording layer 4 by, for example, sputtering.
  • a protective layer 5 is formed on the magneto-optical recording layer 4.
  • the protective layer 5 can be formed by applying an uncured ultraviolet curable resin to the magneto-optical recording layer 4 by, for example, a spin coating method, and then irradiating ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin.
  • the magneto-optical disk D1 can be obtained through the series of operation steps described above.
  • the adhesion to the soft magnetic layer 2 is not originally good. However, since the surface roughness of the substrate 1 is 5 nm, a part of the soft magnetic layer 2 enters into the minute concave portion of the substrate 1 and the contact area between the substrate 1 and the soft magnetic layer 2 increases. ing. Thus, the adhesion between the substrate 1 and the soft magnetic layer 2 is good.
  • the present inventors made a plurality of polycarbonate substrates with various surface roughnesses and conducted an experiment to examine the degree of adhesion between the substrate and the soft magnetic layer. It was confirmed that the substrate and the soft magnetic layer properly adhered to each other when the thickness was 4 nm or more.
  • the substrate 1 is made of a resin, the material cost of the substrate 1 is lower than that of the conventional technology using, for example, a glass or aluminum substrate, and the manufacturing cost can be reduced.
  • the manufacturing equipment can be simplified and the run-down cost can be reduced as compared with the case where the soft magnetic layer 2 is formed by, for example, sputtering. .
  • the material adhesion rate of the soft magnetic layer 2 to the substrate 1 is poor. This has also helped to reduce manufacturing costs.
  • the present inventors have confirmed that a magneto-optical disk having a double-sided structure as described above will be described below. That is, the present inventors prepared the first to fifth samples described below in which the coverage ratio of the soft magnetic layer on the polycarbonate substrate was changed, in a high-temperature and high-humidity environment of 80 ° C. and 85% RH. A durability test was carried out after leaving the apparatus for 00 hours. In this inspection, the substrate absorbs moisture, and the surface of the soft magnetic layer swells due to the accumulation of moisture between the substrate and the soft magnetic layer having low water permeability, thereby forming a substantially hemispherical convex portion. Defects can be found.
  • the first sample has the above-mentioned coverage of 100% because the entire surface of the substrate is covered with the soft magnetic layer, similarly to the magneto-optical disk D1.
  • the second and third samples are obtained by laminating soft magnetic layers only on the upper and lower surfaces of the substrate except for the outer and inner peripheral surfaces of the substrate, for example, so that the above-mentioned coverage is 9%.
  • the soft magnetic layers were laminated only on the upper and lower surfaces of the substrate except for the outer peripheral edge portion and the inner peripheral edge portion, so that the above coverage was 85% and 80%, respectively. %.
  • Table 1 in the first, fourth, and fifth samples, the above-mentioned protrusions were not found.
  • the above-mentioned protrusions were scattered. From the inspection results, to prevent the above-mentioned defects, the entire surface of the substrate is covered with a soft magnetic layer, or the area of the soft magnetic layer (the contact area between the substrate and the soft magnetic layer) is determined by the surface area of the substrate. Of less than 85% of Was. Even when the area of the soft magnetic layer is set to 85% or less of the surface area of the substrate, the soft magnetic layer is useful for efficiently recording information. It is desirable that the area be equal to or larger than the area of the recording target portion of the layer.
  • FIG. 4 the same or similar elements as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the above embodiment.
  • the magneto-optical disk D2 of the present embodiment is different from the above embodiment in the shape of the substrate 1.
  • the magneto-optical disk D2 is not provided with a layer corresponding to the group forming layer 3 of the above embodiment.
  • the surface roughness of the bottom surface 1 1 1 and the side wall surface 1 1 2 of the group 11 is, for example, 2 nm.
  • the surface roughness of the flat surface 121 constituting the land 12 is, for example, 2 nm.
  • the substrate 1 is formed by an injection molding method using a pair of nickel stampers.
  • a predetermined concavo-convex pattern corresponding to the plurality of groups 11 and the plurality of lands 12 is formed on the pair of stampers.
  • the surface roughness of these pair of stampers becomes 2 nm by applying an etching process in which argon ions collide with the surface under conditions of 1.5 Pa gas pressure and 1 kW RF power for about 5 minutes. It was formed as follows. The surface roughness is adjusted by the etching time, and the surface roughness can be reduced by shortening the etching time.
  • the substrate 1 can be formed by attaching the pair of stampers to a mold, filling the pair of stampers with molten polycarbonate, and then curing the polycarbonate.
  • the soft magnetic layer 2, the magneto-optical recording layer 4, and the protective layer 5, which are sequentially laminated on the substrate 1, are formed by the same working steps as in the above embodiment. Thus, the magneto-optical disk D2 can be obtained.
  • the surface roughness of the substrate 1 is, for example, 2 nm.
  • the present inventors found that, in the case of the structure of the magneto-optical disk D2, if the surface roughness of the substrate 1 was 2 nm or more, the substrate 1 and the soft magnetic layer 2 were appropriate. Since it is confirmed that the substrate 1 is made of resin, the adhesion between the substrate 1 and the soft magnetic layer 2 is also high in the magneto-optical disk D2. Compared with the case of the magneto-optical disk D 1, even if the surface roughness of the substrate 1 is small, the proper adhesion between the substrate 1 and the soft magnetic layer 2 is caused by the group 1 1 and the land 1 2 on the surface of the substrate 1.
  • each part of the magneto-optical recording medium according to the present invention can be variously changed in design.
  • the specific configuration of each operation step in the method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention can be variously changed.
  • the structure is not limited to the double-sided structure in which each layer is laminated on the upper and lower surfaces of the substrate. Good. In the case of such a structure, only the surface roughness of one side of the substrate needs to be adjusted. In the latter case, groups and lands may be formed on only one side of the substrate.
  • the substrate may not be formed of polycarbonate, but may be formed of another resin such as epoxy.
  • the recording of information is not limited to being performed on the magneto-optical recording layer on the group and the land, but may be performed on only one of them.

Abstract

光磁気記録媒体（Ｄ１）は、基板（１）上に、軟磁性層（２）、グルーブ形成層（３）、および光磁気記録層（４）が順次積層された構造を有している。基板（１）は、樹脂製であり、かつこの基板（１）の表面のうち少なくとも軟磁性層（２）と接触する部分の表面粗さは４ｎｍ以上とされている。このことにより、基板（１）と軟磁性層（２）との密着性を高めることが可能となる。また、基板（１）を樹脂製とすることにより、製造コストを廉価に抑えることも可能となる。

Description

糸田 » 光磁気記録媒体およびその製造方法 技術分野
本発明は、 情報の書き換えが可能な光磁気記録媒体およびその製造方法に関す る。 背景技術
光磁気記録媒体に対する情報の記録方式の一例としては、 磁界変調方式がある。 この磁界変調方式によって情報の記録を行なう場合には、 光磁気記録媒体の記録 対象部分にレーザ光を照射し、 書き込み情報に対応した磁界を印加する。 この方 式においては、 光磁気記録媒体が磁界を効率的に利用可能な構造を有しているこ とが好ましい。
そこで、 磁界変調方式に好適な光磁気記録媒体としては、 軟磁性層を有するも のがある。 このような光磁気記録媒体は.、 たとえば特開平 0 3— 1 0 5 7 4 1号 公報に記載されている。 上記公報に記載の光磁気記録媒体は、 アルミニウム製の 基板上に、 軟磁性層、 グループ形成層、 光磁気記録層、 および保護層が順次積層 された構造を有している。 上記光磁気記録層は、 磁化方向がこの層に垂直となつ ている層である。 情報の記録は、 レーザ光の照射および磁界の印加により、 上記 光磁気記録層の磁化の方向を制御することによって行なわれる。 上記軟磁性層は、 たとえば N i - F e合金製であり、 上記光磁気記録層とは異なり、 磁化方向がこ の軟磁性層に平行となっている。 この軟磁性層は、 スパッタリングにより上記基 板上に形成される。
上記従来の光磁気記録媒体においては、 たとえば上記保護層に対向配置された 磁気ヘッドにより発生された磁界は、 上記保護層、 上記光磁気記録層および上記 グループ形成層を透過した後、 上記軟磁性層中をこの層と平行な方向に進行し、 再度上記グループ形成層、 上記光磁気記録層および上記保護層を透過して上記磁 気ヘッドに戻ることとなる。 このように磁界が閉ループを描くことによって、 上 記磁界が記録対象部分に効率よく作用することとなり、 情報の記録を行なうのに 好適となる。
しかしながら、 上記従来技術においては、 上記基板と上記軟磁性層との密着性 を高めるなどの理由により、 上記基板はアルミニウム製とされていた。 一方、 ァ ルミ二ゥムは比較的高価な材料である。 このため、 上記光磁気記録媒体の製造コ ストは高価となっていた。 また、 上記軟磁性層の形成はスパッタリングにより行 なっていたため、 その設備の運転や維持管理コストが高く、 上記基板に対する上 記軟磁性層の材料の付着率も必ずしもよいとはいえず、 効率も悪いものとなって いた。
発明の開示
本発明の目的は、 上記した問題点を解消または軽減することが可能な光磁気記 録媒体およびその製造方法を提供することにある。
本発明の第 1の側面によって提供される光磁気記録媒体は、 基板上に、 軟磁性 層と、 グループ形成層と、 光磁気記録層と、 が順次積層された光磁気記録媒体で あって、 上記基板は、 樹脂製であり、 かっこの基板の表面のうち少なくとも上記 軟磁性層と接触する部分の表面粗さは 4 n m以上とされていることを特徴として いる。
好ましくは、 上記軟磁性層、 上記グループ形成層および上記光磁気記録層は、 それぞれ上記基板の両面に設けられている。
好ましくは、 上記基板の表面全体が、 上記軟磁性層によって被覆されている。 好ましくは、 上記軟磁性層の面積は、 記録面の面積以上であり、 かつ上記基板 の表面積の 8 5 %以下の範囲内とされている。
本発明の第 2の側面によって提供される光磁気記録媒体は、 基板上に、 軟磁性 層と、 光磁気記録層と、 が順次積層された光磁気記録媒体であって、 上記基板は、 樹脂製であり、 かっこの基板の表面のうち少なくとも上記軟磁性層と接触する部 分には複数のグループが形成されているとともに、 その部分の表面粗さが 2 n m 以上とされていることを特徴としている。
好ましくは、 上記複数のグループが上記基板の両面に形成されているとともに、 上記軟磁性層および上記光磁気記録層がそれぞれ上記基板の両面に設けられてい る。 '
本発明の第 3の側面によって提供される光磁気記録媒体の製造方法は、 基板上 に、 軟磁性層と、 グループ形成層と、 光磁気記録層と、 が順次積層された光磁気 記録媒体の製造方法であって、 表面粗さが 4 n m以上となるように上記基板を榭 脂成形する第 1の工程と、 上記軟磁性層を無電解メツキ法により形成する第 2の 工程と、 を有していることを特徴としている。
好ましくは、 上記第 1の工程は、 表面粗さが 4 n m以上となるように調整され たスタンパを用いて行なう。
本発明の第 4の側面によって提供される光磁気記録媒体の製造方法は、 基板上 に、 軟磁性層と、 光磁気記録層と、 が順次積層されており、 上記基板の表面のう ち少なくとも上記軟磁性層と接触する部分に複数のグループが形成されている光 磁気記録媒体の製造方法であって、 表面粗さが 2 n m以上となるように上記基板 を樹脂成形する第 1の工程と、 上記軟磁性層を無電解メツキ法により形成する第 2の工程と、 を有していることを特徴としている。
好ましくは、 上記第 1の工程は、 表面粗さが 2 n m以上となるように調整され たスタンパを用いて行なう。
本発明の特徴および利点は、 以下に述べる発明の実施の形態の説明からより明 らかになるであろう。
図面の簡単な説明
図 1は、 本発明に係る光磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
図 2 A、 図 2 Bは、 図 1に示す光磁気記録媒体の製造方法の工程を説明する断 面図である。
図 3 A、 図 3 Bは、 図 1に示す光磁気記録媒体の製造方法の工程を説明する断 面図である。
図 4は、 本発明に係る光磁気記録媒体の他の例を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の好ましい実施の形態について、 図面を参照しつつ具体的に説明 する。 図 1は、 本発明に係る光磁気記録媒体の一実施形態を示している。 本実施形態 の光磁気ディスク D 1は、 基板 1の上面 1 aおよぴ下面 1 bに、 軟磁性層 2と、 グループ形成層 3と、 光磁気記録層 4と、 保護層 5と、 がそれぞれ順次積層され た構造を有している。 この光磁気ディスク D 1は、 基板 1の上面 1 a側の構造と 基板 1の下面 1 b側の構造とが基板 1を挟んで互いに対称である。
基板 1は、 たとえばポリカーボネート製であり、 ドーナツ円板状を有している, この基板 1の上下面 l a, l b 、 その表面粗さがたとえば 5 nmとされている, 本明細書でいう 「表面粗さ」 は、 2001年度の日本工業規格 （J I S) で定義 されている 「算術平均高さ」 のことを意味する。
軟磁性層 2は、 弱い磁界で磁化が大きく変化する高透磁率材料からなっており たとえば F e— C o— N i合金製である。 軟磁性層 2の磁化方向はこの層に平行 であり、 軟磁性層 2は磁気へッドなどによって発生された磁界を光磁気記録層 4 の記録対象部分に効率よく作用させるのに役立つ。 本実施形態においては、 軟磁 性層 2は、 基板 1の表面全体を覆っており、 基板 1の上下面 l a， l bに加え、 基板 1の外周面上および内周面上にも形成されている。
グループ形成層 3は、 たとえば紫外線硬化樹脂からなる。 このグルーブ形成層 3の上面おょぴ下面には、 円周方向に延びる複数のグループ 3 1と複数のランド 32とが半径方向に交互に並んで形成されている。 本明細書でいう 「グループ」 および 「ランド」 は、 いずれも光磁気記録層 4を含まない概念である。 グループ 3 1の幅は、 たとえば 0. 5 /imであり、 ランド 32の幅は、 たとえば 0. 25 tmである。 また、 グループ 3 1の深さは、 たとえば 40 n mである。
光磁気記録層 4は、 大きな保磁力を有しており、 情報を記録する対象となる層 である。 この光磁気記録層 4は、 磁化方向が層に対して垂直な垂直磁化層に誘電 体層や反射層などを組み合わせた構造を有しており、 たとえば Ag P d Cu S i 層、 S i N層、 Ag P dCu S i層、 G d F e C o層、 Tb F e C o層、 および S i N層からなる多層構造とされている。 このような多層構造は、 情報の記録 . 再生を適正に行なうのに好適となる。 本実施形態においては、 光磁気記録層 4が 基板 1の上下面 l a, 1 bに形成されているとともに、 グループ 3 1上およびラ ンド 32上の光磁気記録層 4に情報が記録されるようになつており、 情報の大容 量化が図られている。
保護層 5は、 たとえば透明な紫外線硬化樹脂製である。 この保護層 5は、 光磁 気記録層 4の摩耗や腐食を防止するなどの役割を果たすものである。
上記した基板 1および各層 2〜5の厚みは、 たとえば基板 1が 1. 2mm、 軟 磁性層 2が 0. 8 μ m、 グループ形成層 3が 1 0 μ m、 光磁気記録層 4が 1 25 nm、 保護層 5が 1 5 とされている。 なお、 光磁気記録層 4の厚みの内訳は、 たとえば A g P d C u S i層が 10 nm、 S i N層が 5 nm、 Ag P d Cu S i 層が 30 nm、 G d F e C o層が 5 nm、 T b F e C o層が 25 n m、 および S i N層が 50 nmとされている。
次に、 光磁気ディスク D 1の製造方法の一例について説明する。
まず、 基板 1を射出成形法により樹脂成形する。 この工程では、 図 2 Aに示さ れているように、 たとえばニッケル製の一対のスタンパ 6を用いる。 スタンパ 6 は、 たとえばガス圧 1. 5 P a、 RF電力 1 kWの条件下でアルゴンイオンを表 面に衝突させるエッチング処理を 1 0分間程度施すことにより、 その表面粗さが 5 nmとなるように形成されたものである。 一対のスタンパ 6を金型 7に取り付 けて、 これら一対のスタンパ 6の間に溶融したポリカーボネートを充填し、 その 後硬化させることにより基板 1を成形することができる。
次に、 基板 1の表面全体に軟磁性層 2を形成する。 この工程は、 無電解メツキ 法により行なう。 たとえば、 塩化スズ水溶液および塩化パラジウム水溶液に基板 1を順次浸漬させた後、 図 2 Bに示されているように、 F e塩， N i塩， C o塩 および還元剤を含む無電解メツキ液 Lに 20分間程度浸漬させることにより、 軟 磁性層 2を上記した厚みに形成することができる。
次に、 基板 1の上下面 l a, l bに積層された軟磁性層 2上にグループ形成層 3を形成する。 この工程においては、 図 3 Aに示されているように、 たとえば石 英ガラスからなる一対の透明スタンパ 8を用いる。 透明スタンパ 8には、 複数の グループ 3 1および複数ランド 32に対応した所定の回凸パターンが形成されて いる。 グループ形成層 3を形成するには、 軟磁性層 2の表面に接着性をもたせる ために、 軟磁性層 2にシランカップリング剤を塗布し、 この軟磁性層 2上に未硬 化の紫外線硬化樹脂を配する。 次いで、 軟磁性層 2と所定の間隔を隔てるように して一対の透明スタンパ 8を上記紫外線硬化樹脂上に被せる。 透明スタンパ 8側 から紫外線を照射して、 上記紫外線硬化樹脂を硬化させる。 その後、 図 3 Bに示 されているように、 透明スタンパ 8を取り外す。 このような手順を踏むことによ り、 グループ形成層 3を形成することができる。
次に、 光磁気記録層 4をグループ形成層 3上に形成する。 光磁気記録層 4を構 成する複数の層をたとえばスパッタリングによって順次積層していくことにより、 光磁気記録層 4を形成することができる。 続いて、 この光磁気記録層 4上に保護 層 5を形成する。 未硬化の紫外線硬化樹脂をたとえばスピンコート法によって光 磁気記録層 4上に塗布し、 その後紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化さ せることにより、 保護層 5を形成することができる。 上記した一連の作業工程に より、 光磁気ディスク D 1を得ることができる。
基板 1は、 樹脂製であるため、 本来的には、 軟磁性層 2との密着性は良好では ない。 しかしながら、 基板 1の表面粗さは 5 n mであるため、 軟磁性層 2の一部 が基板 1の微小な凹部に入り込んだ状態となり、 基板 1と軟磁性層 2との接触面 積は大きくなつている。 このことにより、 基板 1と軟磁性層 2との密着性は良好 なものとなっている。 本発明者らは、 表面粗さを種々の粗さにしたポリカーボネ 一ト製の複数の基板を作製し、 基板と軟磁性層との密着具合を調べる実験をした ところ、 基板の表面粗さが 4 n m以上であれば基板と軟磁性層とが適正に密着す ることが確認された。
基板 1は樹脂製であるため、 たとえばガラス製やアルミニウム製の基板を用い ていた従来技術よりも基板 1の材料費は廉価となり、 製造コス トの低減が可能と なる。
また、 軟磁性層 2は、 無電解メツキ法により形成されているため、 軟磁性層 2 をたとえばスパッタリングにより形成する場合よりも、 製造設備を簡易化し、 ラ ンユングコス トを低減させることも可能である。 基板 1に対する軟磁性層 2の材 料の付着率が悪いといった不具合もない。 このことも、 製造コス トの低減を図る ことに役立っている。
一方、 本発明者らは、 上記したような両面構造の光磁気ディスクについて、 次 に述べることを確認している。 すなわち、 本発明者らは、 ポリカーボネート製の基板に対する軟磁性層の被覆 率を変えた後述の第 1ないし第 5のサンプルを、 8 0 °C、 8 5 % R Hの高温高湿 環境下に 1 0 0 0時間放置した耐久性の検査を行なった。 この検査では、 基板が 水分を吸収し、 この基板と透水性の低い軟磁性層との間に水分が溜まることによ り軟磁性層の表面が膨らみ、 略半球状の凸部が形成される欠陥を発見することが できる。
本発明者らが行なった検査の結果は、 表 1に示す通りである。 表 1
Figure imgf000009_0001
ここで、 第 1のサンプルとは、 光磁気ディスグ D 1と同様に基板の表面全体が 軟磁性層によって覆われることにより、 上記被覆率が 1 0 0 %とされたものであ る。 第 2および第 3のサンプルとは、 たとえば基板の外周面および内周面を除き、 基板の上下面のみに軟磁性層を積層することにより、 上記被覆率がそれぞれ 9
5 %および 9 0 %とされたものである。 第 4および第 5のサンプルは、 基板の上 下面の外周側縁部分および内周側縁部分を除く部分のみに軟磁性層を積層するこ とにより、 上記被覆率がそれぞれ 8 5 %および 8 0 %とされたものである。 .表 1 に示されているように、 第 1、 第 4および第 5のサンプルにおいては、 上記凸部 は発見されなかった。 これに対し、 第 3および第 4のサンプルにおいては、 上記 凸部が散見された。 この検査結果より、 上記した欠陥を防止するには、 基板の表 面全体を軟磁性層で被覆するか、 または軟磁性層の面積 （基板と軟磁性層との接 触面積） を基板の表面積の 8 5 %以下とするのが好適であるということが判明し た。 軟磁性層の面積を基板の表面積の 8 5 %以下とする場合であっても、 軟磁性 層は情報の記録を効率よく行なうのに役立つものであるため、 軟磁性層の面積を 光磁気記録層の記録対象部分の面積以上とすることが望ましい。
次に、 本発明に係る光磁気記録媒体の他の実施形態について、 図 4を参照しつ つ説明する。 なお、 図 4においては、 上記実施形態と同一または類似の要素には、 上記実施形態と同一の符号を付している。 本実施形態の光磁気ディスク D 2は、 基板 1の形状が上記実施形態とは異なっている。
基板 1の上面 1 aおよび下面 1 bには、 円周方向に延びる複数のグループ 1 1 および複数のランド 1 2が半径方向に交互に並んで直接形成されている。 このた め、 光磁気ディスク D 2においては、 上記実施形態のグループ形成層 3に相当す る層は設けられていない。 グループ 1 1の底面 1 1 1および側壁面 1 1 2の表面 粗さは、 たとえば 2 n mである。 ランド 1 2を構成する平坦面 1 2 1の表面粗さ も、 たとえば 2 n mである。
次に、 光磁気ディスク D 2の製造方法の一例について説明する。
基板 1は、 ニッケル製の一対のスタンパを用いた射出成形法により成形する。 上記一対のスタンパには、 複数のグループ 1 1および複数のランド 1 2に対応し た所定の凹凸パターンが形成されている。 これら一対のスタンパは、 ガス圧 1 . 5 P a、 R F電力 1 k Wの条件下でアルゴンイオンを表面に衝突させるエツチン グ処理を 5分間程度施すことにより、 その表面粗さが 2 n mとなるように形成さ れたものである。 表面粗さは上記ェッチング処理時間によつて調整されるもので あり、 上記エッチング処理時間を短くすれば表面粗さを小さくすることができる。 上記一対のスタンパを金型に取り付けて、 これら一対のスタンパの間に溶融した ポリカーボネートを充填し、 その後硬化させることにより基板 1を成形すること ができる。 基板 1上に順次積層される軟磁性層 2、 光磁気記録層 4、 および保護 層 5は、 上記実施形態と同様な作業工程により形成する。 このようにして、 光磁 気ディスク D 2を得ることができる。
光磁気ディスク D 2においては、 基板 1の表面粗さはたとえば 2 n mとされて いる。 本発明者らは、 上記と同様な実験において、 光磁気ディスク D 2の構造の 場合には、 基板 1の表面粗さが 2 n m以上であれば基板 1と軟磁性層 2とが適正 に密着することを確認しているため、 光磁気デイスク D 2においても基板 1が榭 脂製ではあるものの基板 1と軟磁性層 2との密着性は高いものとなっている。 光 磁気ディスク D 1の場合と比較して、 基板 1の表面粗さが小さくても基板 1と軟 磁性層 2とが適正に密着するのは、 基板 1の表面にグループ 1 1およびランド 1 2が形成されていることにより、 基板 1と軟磁性層 2との接触面積が大きくなつ たことに加え、 いわゆるアンカ効果を得ることができたためであると考えられる, 本発明は、 上述した実施形態の内容に限定されるものではない。 本発明に係る 光磁気記録媒体の各部の具体的な構成は、 種々に設計変更自在である。 同様に、 本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法における各作業工程の具体的な構成も 種々に変更自在である。
たとえば、 上記した 2つの光磁気ディスクのいずれ場合も、 基板の上下面に各 層がそれぞれ積層された両面構造に限定されず、 基板の片面のみに各層が積層さ れた片面構造であってもよい。 このような構造の場合には、 基板の片面の表面粗 さのみを調整すればよい。 後者の光磁気ディスクについては、 グループやランド も基板の片面のみに形成すればよい。 基板は、 ポリカーボネートから成形される ものでなくてもよく、 エポキシなどの他の樹脂から成形されるものであってもよ い。 また、 情報の記録は、 グループ上およびランド上の光磁気記録層に対して行 なわれることに限定されず、 それらの一方に対してのみ行なわれてもよい。

Claims

請 求 の 範 固
1 . 基板上に、 軟磁性層と、 グループ形成層と、 光磁気記録層と、 が順次積層さ れた光磁気記録媒体であって、
上記基板は、 樹脂製であり、 かっこの基板の表面のうち少なくとも上記軟磁性 層と接触する部分の表面粗さは 4 n m以上とされていることを特徴とする、 光磁 気記録媒体。
2 . 上記軟磁性層、 上記グループ形成層および上記光磁気記録層は、 それぞれ上 記基板の両面に設けられている、 請求項 1に記載の光磁気記録媒体。
3 . 上記基板の表面全体が、 上記軟磁性層によって被覆されている、 請求項 1に 記載の光磁気記録媒体。
4 . 上記軟磁性層の面積は、 記録面の面積以上であり、 かつ上記基板の表面積の 8 5 %以下の範囲内とされている、 請求項 1に記載の光磁気記録媒体。
5 . 基板上に、 軟磁性層と、 光磁気記録層と、 が順次積層された光磁気記録媒体 であって、
上記基板は、 樹脂製であり、 かっこの基板の表面のうち少なくとも上記軟磁性 層と接触する部分には複数のグループが形成されているとともに、 その部分の表 面粗さが 2 n m以上とされていることを特徴とする、 光磁気記録媒体。
6 . 上記複数のグループが上記基板の両面に形成されているとともに、 上記軟磁 性層および上記光磁気記録層がそれぞれ上記基板の両面に設けられている、 請求 項 5に記載の光磁気記録媒体。
7 . 基板上に、 軟磁性層と、 グループ形成層と、 光磁気記録層と、 が順次積層さ れた光磁気記録媒体の製造方法であって、 表面粗さが 4 n m以上となるように上記基板を樹脂成形する第 1の工程と、 上記軟磁性層を無電解メツキ法により形成する第 2の工程と、 を有しているこ とを特徴とする、 光磁気記録媒体の製造方法。
8 . 上記第 1の工程は、 表面粗さが 4 n m以上となるように調整されたスタンパ を用いて行なう、 請求項 7に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
9 . 基板上に、 軟磁性層と、 光磁気記録層と、 が順次積層されており、 上記基板 の表面のうち少なくとも上記軟磁性層と接触する部分に複数のグループが形成さ れている光磁気記録媒体の製造方法であって、
表面粗さが 2 n m以上となるように上記基板を樹脂成形する第 1の工程と、 上記軟磁性層を無電解メツキ法により形成する第 2の工程と、 を有しているこ とを特徴とする、 光磁気記録媒体の製造方法。
10. 上記第 1の工程は、 表面粗さが 2 n m以上となるように調整されたスタン パを用いて行なう、 請求項 9に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63302444A (ja) * 1987-06-01 1988-12-09 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光磁気記録媒体
JPH03137837A (ja) * 1989-10-21 1991-06-12 Sony Corp 光磁気記録媒体
JPH03141055A (ja) * 1989-10-26 1991-06-17 Sony Corp 光磁気記録媒体の製造方法
JPH03268249A (ja) * 1990-03-16 1991-11-28 Ricoh Co Ltd 光磁気記録媒体
JPH0453046A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Sharp Corp 光磁気記録再生装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63302444A (ja) * 1987-06-01 1988-12-09 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光磁気記録媒体
JPH03137837A (ja) * 1989-10-21 1991-06-12 Sony Corp 光磁気記録媒体
JPH03141055A (ja) * 1989-10-26 1991-06-17 Sony Corp 光磁気記録媒体の製造方法
JPH03268249A (ja) * 1990-03-16 1991-11-28 Ricoh Co Ltd 光磁気記録媒体
JPH0453046A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Sharp Corp 光磁気記録再生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2007119306A1 (ja) * 2006-03-13 2009-08-27 コニカミノルタオプト株式会社 磁気記録媒体用基板、その製造方法、及び磁気記録媒体

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