WO2004055227A2 - Verfahren und vorrichtung zum cvd-beschichten von werkstücken - Google Patents

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WO2004055227A2
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    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45557—Pulsed pressure or control pressure

Definitions

  • the invention relates to a method for CVD coating of workpieces according to the preamble of patent claim 1. Furthermore, the invention relates to a corresponding device according to the preamble of patent claim 10.
  • CVD Chemical Vapor Deposition
  • alitation a surface protection process in which aluminum is introduced into the surface of metallic components.
  • the actual coating of the workpieces takes place in these coating boxes.
  • the coating boxes have a small volume compared to the actual coating room, so that a uniform coating-active atmosphere can be generated within the coating boxes.
  • the use of such coating boxes in the coating room is disadvantageous.
  • the coating boxes take up a lot of space within the coating room, which means that the coating room cannot be used efficiently.
  • the Coating boxes in relation to the workpieces to be coated have a relatively large mass, which results in long heating-up times until a process temperature or coating temperature is reached and also long cooling-down times. Accordingly, if coating boxes are used, this results in a long coating process. This also limits the efficiency of the coating method or the device for coating.
  • coating boxes are expensive and have to be replaced from time to time. This entails cost disadvantages.
  • the present invention addresses the problem of creating a new method for CVD coating and a new device for CVD coating.
  • workpieces to be coated are arranged in a coating room, coating granules being arranged in the vicinity of the workpieces to be coated.
  • the coating room is heated to the process temperature together with the workpieces to be coated and together with the coating granulate.
  • a reactive process gas is passed directly onto the coating granulate (in), whereby the coating gas is generated in this way.
  • workpieces to be coated are positioned in a plurality of levels arranged one above the other in the coating space, coating granules being arranged in the area of each level immediately below the workpieces to be coated.
  • the process gas is introduced into the coating granulate at each level. This ensures optimized utilization of the coating room while at the same time ensuring a uniform, highly coating-active atmosphere in the entire coating room.
  • a process pressure is preferably pulsed during a holding time by lowering the process pressure by removing the coating gas and then generating new coating gas. This enables interior coatings to be implemented.
  • FIG. 1 shows a device according to the invention for CVD coating of workpieces to be coated.
  • FIG. 2 shows an enlarged detail of the device according to the invention according to FIG. 1.
  • the device according to FIGS. 1 and 2 is preferably used for the alitation of turbine parts, such as compressor blades.
  • a coating space 10 which is also referred to as a coating furnace or retort furnace.
  • Several workpieces 1 1 to be coated are arranged within the coating space.
  • the workpieces 11 to be coated are positioned in the coating space 10 in a plurality of levels 12 arranged one above the other. 1, the workpieces 11 are positioned in a total of four superposed planes 12, a total of eight workpieces 11 being shown for each plane 12.
  • a support frame 13 is positioned in the area of each level 12 and preferably extends over the entire width of the coating space 10.
  • the support frames 13 accordingly extend in the horizontal direction of the coating space 10.
  • a tube 14 extends in the vertical direction of the coating space 10. In the area of each level 12, the tube 14 has a branch 15.
  • Receiving devices 16 for coating granules 17 are arranged on the support frames 13.
  • the receiving devices 16 have a receiving trough 18 for the coating granulate 17, the receiving trough 18 being delimited at the top by a grate 19.
  • the workpieces 11 to be coated rest on the grate 19 of each receiving device 16. Accordingly, 1 coating granulate 17 is arranged in the region of each level 12 directly below the workpieces to be coated.
  • the vertically extending pipe 14 is used to guide process gas.
  • process gas is introduced in a lower section 20 of the tube 14 and moved upwards in the vertical direction.
  • part of the process gas moved through the pipe 14 is branched or deflected in the direction of the receiving devices 16.
  • process gas can pass uniformly in the direction of all the receiving devices 16 arranged in the coating space 10 and thus ultimately the coating granulate 17 located there. If the process gas at a If the predetermined process temperature or coating temperature reaches the coating granulate 17, the coating gas is generated which ultimately ensures the coating of the workpieces 11 to be coated.
  • the receiving devices 16 can accordingly also be referred to as devices for generating the coating gas or as coating gas generators.
  • the device according to the invention is accordingly used in such a way that the workpieces 11 to be coated are positioned in the area of the planes 12 on the gratings 19 of the receiving devices 16. As a result, the workpieces 1 1 to be coated are arranged in the coating space. Coating granules 17 are arranged in the coating space 10 in the immediate vicinity of the workpieces to be coated, namely below the grids 19. With the aid of a heating device or heating device (not shown), the coating space 10 and thus the workpieces 11 arranged in the coating space 10 and the coating granulate 17 arranged in the coating space 10 are heated to a predetermined process temperature or coating temperature.
  • process gas is introduced into the coating space 10 via the pipe 14. Via the branches 15, the process gas reaches uniformly in the direction of all levels 12 and thus ultimately evenly directly on the coating granules 17 arranged in the area of the levels 12 running one above the other. As a result, the coating gas is generated uniformly in the entire coating space 10. A uniform coating-active atmosphere is established in the entire coating room 10.
  • the heating of the coating space 10 and thus the heating of the workpieces 11 to be coated and of the coating granulate 17 takes place under a hydrogen atmosphere or an argon atmosphere.
  • the halide gas is directed in the direction of the coating granulate 17.
  • the process parameters are then kept constant during a holding time of the process.
  • the actual coating of the workpieces 1 1 to be coated takes place during this holding time.
  • the coating process can be ended by flushing the coating space 10 with hydrogen.
  • a vacuum is preferably generated in the coating space 10 after the process temperature or coating temperature has been reached and before the process gas formed as halide gas is introduced by pumping off the atmosphere prevailing during heating. Only after the vacuum has been created is the halide gas introduced into the coating space 10.
  • a pump device not shown, is then assigned to the device according to the invention.
  • the method according to the invention can also be used for internal coating of the workpieces to be coated.
  • the coating process is temporarily pulsed during the holding time.
  • the process pressure is reduced by withdrawing or lowering the coating gas generated in the coating space 10.
  • new coating gas is generated by again introducing halide gas onto the coating granulate 17 until the Process pressure is restored.
  • the extracted coating gas is therefore replaced by new coating gas.
  • the coating room 10 can be used efficiently.
  • a double to three times the number of workpieces 11 to be coated can be arranged in the coating space 10.
  • the elimination of the coating boxes significantly reduces the process time of the method according to the invention, since the reduced mass in the coating space 10 reduces the heating-up and cooling-down times.
  • the coating process can be precisely controlled.
  • the method according to the invention and the device according to the invention are particularly suitable for the alitation of turbine parts such as so-called HPT blades.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur CVD-Beschichtung eines Werkstücks. Bei Verfahren zum CVD-Beschichten, insbesondere zum Alitieren, mindestens eines Werkstücks wird ein Beschichtungsgas erzeugt, welches der Beschichtung des oder jeden Werkstücks dient. Erfindungsgemäss werden zu beschichtende Werkstücke in einem Beschichtungsraum angeordnet, wobei in Nähe der zu beschichtenden Werkstücke Beschichtungsgranulat angeordnet wird. Der Beschichtungsraum wird zusammen mit den zu beschichtenden Werkstücken und zusammen mit dem Beschichtungsgranulat auf Prozesstemperatur erhitzt. Nach dem Erreichen der Prozesstemperatur wird ein Prozessgas auf das Beschichtungsgranulat eingeleitet, wobei hierdurch das Beschichtungsgas erzeugt wird.

Description

Verfahren und Vorrichtung zum CVD-Beschichten von Werkstücken
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum CVD-Beschichten von Werkstücken gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Des weitem betrifft die Erfindung eine entsprechende Vorrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 10.
Aus dem Stand der Technik sind zahlreiche Verfahren zur Beschichtung von Werkstücken bekannt. Beim sogenannten CVD (Chemical-Vapour-Deposition) Beschichten handelt es sich um ein Beschichtungsverfahren, welches auf der chemischen Reaktion von Gasen beruht. CVD-Beschichten wird auch beim sogenannten Alitieren eingesetzt, einem Oberflächenschutzverfahren, bei welchem in die Oberfläche von metallischen Bauteilen Aluminium eingebracht wird.
Beim CVD-Beschichten ist zur Gewährleistung eines optimalen Beschichtungsergebnisses die Erzeugung einer gleichmäßigen beschichtungsaktiven Atmosphäre in einem sogenannten Beschichtungsraum, in welchem zu beschichtende Werkstücke angeordnet werden, erforderlich. Um in großen Beschichtungsräumen, auch Beschichtungsöfen genannt, für alle zu beschichtenden Werkstücke eine gleichmäßige beschichtungsaktive Atmosphäre zu gewährleisten, werden nach dem nach dem Stand der Technik die zu beschichtenden Werkstücke im Beschichtungsraum in sogenannten Beschichtungskästen angeordnet.
In diesen Beschichtungskästen findet die eigentliche Beschichtung der Werkstücke statt. Die Beschichtungskästen verfügen im Vergleich zum eigentlichen Beschichtungsraum über ein kleines Volumen, so dass innerhalb der Beschichtungskästen eine gleichmäßige beschichtungsaktive Atmosphäre erzeugt werden kann. Die Verwendung solcher Beschichtungskästen im Beschichtungsraum ist jedoch nachteilig. Die Beschichtungskästen verbrauchen nämlich innerhalb des Beschichtungsraums viel Platz, wodurch sich der Beschichtungsraum nicht effizient ausnutzen lässt. Darüber hinaus verfügen die Beschichtungskästen im Verhältnis zu den zu beschichtenden Werkstücken über eine relativ große Masse, wodurch sich lange Aufheizzeiten bis zum Erreichen einer Prozesstemperatur bzw. Beschichtungstemperatur und ebenso lange Rückkühlzeiten ergeben. Werden demnach Beschichtungskästen verwendet, so ergibt sich hierdurch ein langer Beschichtungsprozess. Auch hierdurch wird die Effizienz des Beschichtungsverfahrens bzw. der Vorrichtung zum Beschichten beschränkt. Ferner sind Beschichtungskästen teuer und müssen von Zeit zu Zeit erneuert werden. Dies bringt Kostennachteile mit sich.
Will man nach dem Stand der Technik auf Beschichtungskästen verzichten, so war es bislang erforderlich, Beschichtungsräume mit einem geringen Volumen zu verwenden. Bei derartigen kleinen Beschichtungsräumen kann zwar auf Beschichtungskästen verzichtet werden, andererseits können jedoch nur eine begrenzte Anzahl von zu beschichtenden Werkstücken innerhalb des Beschichtungsraums angeordnet werden. Auch dies ist unter Effizienzgesichtspunkten von Nachteil.
Hiervon ausgehend liegt der vorliegenden Erfindung das Problem zu Grunde, ein neuartiges Verfahren zum CVD-Beschichten und eine neuartige Vorrichtung zum CVD-Beschichten zu schaffen.
Dieses Problem wird dadurch gelöst, dass das Eingangs genannte Verfahren durch die Merkmale des kennzeichnenden Teils des Patentanspruchs 1 weitergebildet ist. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist durch die Merkmale des Patentanspruchs 1 1 gekennzeichnet.
Erfindungsgemäß werden zu beschichtende Werkstücke in einem Beschichtungsraum angeordnet, wobei in Nähe der zu beschichtenden Werkstücke Beschichtungsgranulat angeordnet wird. Der Beschichtungsraum wird zusammen mit den zu beschichtenden Werkstücken und zusammen mit dem Beschichtungsgranulat auf Prozesstemperatur erhitzt. Nach dem Erreichen der Prozesstemperatur wird ein reaktives Prozessgas direkt auf das Beschichtungsgranulat (ein)geleitet, wobei hierdurch das Beschichtungsgas erzeugt wird. Hierdurch lässt sich im gesamten Beschichtungsraum eine gleichmäßige sowie hoch- beschichtungsaktive Atmosphäre erzeugen. Auf Beschichtungskästen kann verzichtet werden, wodurch einerseits der Beschichtungsraum gut ausgenutzt wird und sich andererseits ein positives dynamisches Verhalten des Beschichtungsprozesses ergibt. Auch ergibt sich eine erhebliche Kostenreduzierung.
Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung werden im Beschichtungsraum zu beschichtende Werkstücke in mehreren übereinander angeordneten Ebenen positioniert, wobei im Bereich jeder Ebene unmittelbar unterhalb der zu beschichtenden Werkstücke Beschichtungsgranulat angeordnet wird. Das Prozessgas wird im Bereich jeder Ebene auf das Beschichtungsgranulat eingeleitet. Dies sorgt für eine optimierte Ausnutzung des Beschichtungsraums bei gleichzeitiger Gewährleistung einer gleichmäßigen, hoch- beschichtungsaktiven Atmosphäre im gesamten Beschichtungsraum.
Vorzugsweise wird während einer Haltezeit ein Verfahrensdruck gepulst, indem der Verfahrensdruck durch Entziehen des Beschichtungsgases abgesenkt und anschließend neues Beschichtungsgas erzeugt wird. Hierdurch lassen sich Innenbeschichtungen realisieren.
Bevorzugte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Unteransprüchen und der nachfolgenden Beschreibung.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird, ohne hierauf beschränkt zu sein, an Hand der Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 : eine stark schematisierte Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur CVD-Beschichtung eines Werkstücks zur Verdeutlichung des erfindungsgemäßen Verfahrens, und
Fig.2: ein Detail der Vorrichtung gemäß Fig. 1.
Fig. 1 zeigt eine erfindungsgemäße Vorrichtung zum CVD-Beschichten von zu beschichtenden Werkstücken. Fig. 2 zeigt ein vergrößertes Detail der erfindungsgemäßen Vorrichtung gemäß Fig. 1. Die erfindungsgemäße Vorrichtung gemäß Fig. 1 und 2 wird vorzugsweise zum Alitieren von Turbinenteilen, wie z.B. Verdichterschaufeln, verwendet.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung gemäß Fig. 1 und 2 umfasst einen Beschichtungsraum 10, der auch als Beschichtungsofen oder Retortenofen bezeichnet wird. Innerhalb des Beschichtungsraums sind mehrere zu beschichtenden Werkstücke 1 1 angeordnet. Die zu beschichtenden Werkstücke 1 1 sind im Beschichtungsraum 10 in mehreren, übereinander angeordneten Ebenen 12 positioniert. Gemäß Fig. 1 sind die Werkstücke 1 1 in insgesamt vier übereinander angeordneten Ebenen 12 positioniert, wobei für jede Ebene 12 insgesamt acht Werkstücke 1 1 dargestellt sind.
Im Bereich jeder Ebene 12 ist ein Auflagegestell 13 positioniert, das sich vorzugsweise über die gesamte Breite des Beschichtungsraums 10 erstreckt. Die Auflagegestelle 13 erstrecken sich demnach in horizontaler Richtung des Beschichtungsraumes 10. Zwischen den übereinander angeordneten Auflagegestellen 13 erstreckt sich in vertikaler Richtung des Beschichtungsraums 10 ein Rohr 14. Im Bereich einer jeden Ebene 12 verfügt das Rohr 14 über eine Abzweigung 15.
Auf den Auflagegestellen 13 sind Aufnahmeeinrichtungen 16 für Beschichtungsgranulat 17 angeordnet. Die Aufnahmeeinrichtungen 16 verfügen über eine Aufnahmewanne 18 für das Beschichtungsgranulat 17, wobei die Aufnahmewanne 18 nach oben von einem Rost 19 begrenzt wird. Auf dem Rost 19 einer jeden Aufnahmeeinrichtung 16 liegen die zu beschichtenden Werkstücke 1 1 auf. Demnach ist im Bereich einer jeden Ebene 12 unmittelbar unterhalb der zu beschichtenden Werkstücke 1 1 Beschichtungsgranulat 17 angeordnet.
Das vertikal verlaufende Rohr 14 dient der Führung von Prozessgas. Im Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 und 2 wird in einem unteren Abschnitt 20 des Rohrs 14 Prozessgas eingeleitet und in vertikaler Richtung nach oben bewegt. Im Bereich der Abzweigungen 15 wird ein Teil des durch das Rohr 14 bewegten Prozessgases in Richtung auf die Aufnahmeinrichtungen 16 abgezweigt bzw. abgelenkt. Hierdurch kann Prozessgas gleichmäßig in Richtung auf alle im Beschichtungsraum 10 angeordneten Aufnahmeeinrichtungen 16 und damit letztendlich auf das dort befindliche Beschichtungsgranulat 17 gelangen. Wenn das Prozessgas bei einer vorbestimmten Prozesstemperatur bzw. Beschichtungstemperatur auf das Beschichtungsgranulat 17 gelangt, wird hierbei das Beschichtungsgas erzeugt, welches letztendlich für die Beschichtung der zu beschichtenden Werkstücke 1 1 sorgt. Die Aufnahmeeinrichtungen 16 können demnach auch als Einrichtungen zum Erzeugen des Beschichtungsgases bzw. als Beschichtungsgas-Generatoren bezeichnet werden.
Zum CVD-Beschichten der Werkstücke 1 1 wird demnach mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung so vorgegangen, dass im Bereich der Ebenen 12 auf den Rosten 19 der Aufnahmeeinrichtungen 16 die zu beschichtenden Werkstücke 1 1 positioniert werden. Hierdurch werden die zu beschichtenden Werkstücke 1 1 in dem Beschichtungsraum angeordnet. In unmittelbarer Nähe zu den zu beschichtenden Werkstücken, nämlich unterhalb der Roste 19, wird Beschichtungsgranulat 17 im Beschichtungsraum 10 angeordnet. Mithilfe einer nicht-dargestellten Heizeinrichtung bzw. Erhitzungseinrichtung wird der Beschichtungsraum 10 und damit die im Beschichtungsraum 10 angeordneten Werkstücke 1 1 sowie das im Beschichtungsraum 10 angeordnete Beschichtungsgranulat 17 auf eine vorbestimmte Prozesstemperatur bzw. Beschichtungstemperatur erhitzt. Nach dem Erreichen dieser Prozesstemperatur wird über das Rohr 14 Prozessgas in den Beschichtungsraum 10 eingeleitet. Über die Abzweigungen 15 gelangt das Prozessgas gleichmäßig in Richtung auf alle Ebenen 12 und damit letztendlich gleichmäßig direkt auf das im Bereich der übereinander verlaufenden Ebenen 12 angeordnete Beschichtungsgranulat 17. Hierdurch wird im gesamten Beschichtungsraum 10 gleichmäßig das Beschichtungsgas erzeugt. Im gesamten Beschichtungsraum 10 stellt sich eine gleichmäßige beschichtungsaktive Atmosphäre ein.
Es liegt demnach im Sinne der hier vorliegenden Erfindung, zuerst die zu beschichtende Werkstücke 1 1 sowie das Beschichtungsgranulat 17 im Beschichtungsraum 10 auf Prozesstemperatur zu erhitzen. Erst nach dem Erhitzen auf Prozesstemperatur wird das Prozessgas in Richtung auf das Beschichtungsgranulat geleitet. Als Beschichtungsgas wird ein Halogenid-Gas verwendet. Durch die Verwendung der oben beschriebenen Aufnahmeeinrichtungen 16, die mit Beschichtungsgranulat 17 gefüllt sind, werden demnach Einrichtungen zum Erzeugen des Beschichtungsgases bereitgestellt, die innerhalb des Beschichtungsraums 10 in der Nähe der zu beschichtenden Werkstücke 1 1 angeordnet sind. Bei den mit Beschichtungsgranulat 17 gefüllten Aufnahmeeinrichtungen 16 handelt es sich demnach um interne Beschichtungsgas-Generatoren. Diese können leicht in den unterschiedlichen Ebenen 12 des Beschichtungsraums 10 installiert werden. Auf Beschichtungskästen, die nach dem Stand der Technik bei großen Beschichtungsräumen erforderlich sind, kann gänzlich verzichtet werden. Hierdurch ergibt sich ein positives, dynamisches Verhalten des erfindungsgemäßen Verfahren, da sich die Aufheizzeit und Rückkühlzeit durch das Wegfallen der Beschichtungskästen verringert. Auch ergeben sich Kostenvorteile.
An dieser Stelle soll darauf hingewiesen werden, dass das Aufheizen des Beschichtungsraums 10 und damit das Aufheizen der zu beschichtenden Werkstücke 1 1 sowie des Beschichtungsgranulat 17 unter einer Wasserstoffatmosphäre bzw. einer Argonatmosphäre erfolgt. Sobald dann die Beschichtungstemperatur bzw. Prozesstemperatur erreicht ist, wird das Halogenid-Gas in Richtung auf das Beschichtungsgranulat 17 geleitet. Während einer Haltezeit des Verfahrens werden dann die Verfahrensparameter konstant gehalten. Während dieser Haltezeit erfolgt die eigentliche Beschichtung der zu beschichtenden Werkstücke 1 1. Durch Spülen des Beschichtungsraums 10 mit Wasserstoff kann der Beschichtungsvorgang beendet werden.
In dem Fall, in dem der Beschichtungsraum 10 vakuumtauglich ausgestaltet ist, wird vorzugsweise nach dem Erreichen der Prozesstemperatur bzw. Beschichtungstemperatur und vor dem Einleiten des als Halogenid-Gas ausgebildeten Prozessgases im Beschichtungsraum 10 durch Abpumpen der beim Aufheizen vorherrschenden Atmosphäre ein Vakuum erzeugt. Erst nach dem Erzeugen des Vakuums wird dann das Halogenid-Gas in den Beschichtungsraum 10 eingeleitet. Hierzu ist dann der erfindungsgemäßen Vorrichtung eine nicht-dargestellte Pumpeinrichtung zugeordnet.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich auch Innenbeschichtung der zu beschichtenden Werkstücke realisieren. Hierzu wird während der Haltezeit der Beschichtungsvorgang zwischenzeitlich druckgepulst. Hierbei wird der Verfahrensdruck durch Entziehen bzw. Absenken des im Beschichtungsraum 10 erzeugten Beschichtungsgases abgesenkt. Anschließend wird neues Beschichtungsgas erzeugt, indem hierzu erneut Halogenid-Gas auf das Beschichtungsgranulat 17 eingeleitet wird, bis der Verfahrensdruck wieder hergestellt ist. Das entzogene Beschichtungsgas wird demnach durch neues Beschichtungsgas ersetzt.
- Das erfindungsgemäße Verfahren sowie die erfindungsgemäße Vorrichtung erlauben gegenüber dem Stand der Technik die Realisierung einer Vielzahl von Vorteilen:
- Durch den Wegfall von Beschichtungskästen lässt sich der Beschichtungsraum 10 effizient ausnutzen. Es können eine doppelte bis dreifache Anzahl von zu beschichtenden Werkstücken 1 1 im Beschichtungsraum 10 angeordnet werden.
- Weiterhin wird durch den Wegfall der Beschichtungskästen die Prozesszeit des erfindungsgemäßen Verfahrens deutlich reduziert, da sich durch die verringerte Masse im Beschichtungsraum 10 die Aufheizzeit sowie Rückkühlzeit verringert.
- Weiterhin verringern sich durch den Wegfall der Beschichtungskästen die Betriebskosten.
- Durch die Erfindung kann im gesamten Beschichtungsraum 10 eine gleichmäßige Verteilung des Beschichtungsgases und damit eine gleichmäßige beschichtungsaktive Atmosphäre erzeugt werden. Auch in großen Beschichtungsräumen lässt sich nun eine hocheffiziente CVD-Beschichtung realisieren.
- Bedingt dadurch, dass das Prozessgas erst nach dem Aufheizen der Werkstücke 1 1 und des Beschichtungsgranulats 17 in Richtung auf das Beschichtungsgranulat 17 geleitet wird, lässt sich der Beschichtungsprozess genau steuern.
- Auf die Verwendung eines nach dem Stand der Technik erforderlichen kristallinen Aktivators kann vollständig verzichtet werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren sowie die erfindungsgemäße Vorrichtung eignen sich besonders zum Alitieren von Turbinenteilen wie sogenannten HPT-Blades.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zum CVD-Beschichten, insbesondere zum Alitieren, mindestens eines Werkstücks, wobei ein Beschichtungsgas erzeugt wird, welches der Beschichtung des oder jeden Werkstücks dient, dadurch gekennzeichnet, dass a) zu beschichtende Werkstücke (1 1) in einem Beschichtungsraum (10) angeordnet werden, b) in Nähe der zu beschichtenden Werkstücke (1 1) Beschichtungsgranulat (17) angeordnet wird, c) der Beschichtungsraum (10) zusammen mit den zu beschichtenden Werkstücken (1 1) und zusammen mit dem Beschichtungsgranulat (17) auf Prozesstemperatur erhitzt wird, d) nach dem Erreichen der Prozesstemperatur ein Prozessgas auf das Beschichtungsgranulat (17) eingeleitet wird, wobei hierdurch das Beschichtungsgas erzeugt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zu beschichtende Werkstücke (1 1) im Beschichtungsraum (10) in mehreren übereinander angeordneten Ebenen (12) positioniert werden, wobei im Bereich jeder Ebene (12) unmittelbar unterhalb der zu beschichtende Werkstücke (1 1) Beschichtungsgranulat angeordnet (17) wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Prozessgas im Bereich jeder Ebene ( 12) auf das Beschichtungsgranulat ( 17) eingeleitet wird.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Einleiten des Prozessgases auf das Beschichtungsgranulat (17) und damit nach dem Erzeugen des Beschichtungsgases während einer Haltezeit des Verfahrens die eigentliche Beschichtung der Werkstücke (1 1) erfolgt.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass als Prozessgas ein Halogenid-Gas verwendet wird.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Einleiten des Prozessgases im Beschichtungsraum (10) ein Vakuum erzeugt wird.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass während der Haltezeit Verfahrensparameter konstant gehalten werden.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass während der Haltezeit ein Verfahrensdruck gepulst wird, indem der Verfahrensdruck durch Entziehen des Beschichtungsgases abgesenkt und anschließend neues Beschichtungsgas erzeugt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass hierzu nach dem Absenken des Verfahrensdrucks erneut Prozessgas auf das Beschichtungsgranulat (17) eingeleitet wird, bis der Verfahrensdruck wiederhergestellt ist.
10. Verfahren nach Anspruch 8 und 9, für das Abscheiden von Innenbeschichtungen auf Hohlkörpern, dadurch gekennzeichnet, dass das Pulsen des Verfahrensdruckes durch Entziehen des Beschichtungsgases sowie durch erneutes Einleiten von Prozessgas auf das Beschichtungsgranulat (17) einmalig oder zyklisch durchgeführt wird.
1 1. Vorrichtung zum CVD-Beschichten, insbesondere zum Alitieren, mit einem Beschichtungsraum (10) in welchem mindestens ein zu beschichtendes Werkstück (1 1) angeordnet ist, mit einer Einrichtung zum Erzeugen von Beschichtungsgas, welches der Beschichtung des oder jeden Werkstücks (1 1) dient, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zum Erzeugen des Beschichtungsgases innerhalb des Beschichtungsraums (10) in der Nähe der zu beschichtenden Werkstücke (1 1) angeordnet ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 1 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zum Erzeugen des Beschichtungsgases mehrere, in übereinander verlaufenden Ebenen (12) angeordnete Aufnahmeeinrichtungen (16) für Beschichtungsgranulat (17) aufweist, wobei im Bereich jeder mit Beschichtungsgranulat (17) befüllten Aufnahmeeinrichtungen (16) unmittelbar oberhalb derselben zu beschichtenden Werkstücke (1 1) positionierbar sind.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die
Aufnahmeeinrichtungen ( 16) eine Aufnahmewanne ( 18) für das Beschichtungsgranulat (17) und einen die Aufnahmewanne (18) nach oben begrenzenden Rost (19) aufweisen, wobei auf dem Rost (19) die zu beschichtenden Werkstücke (1 1) positionierbar sind.
14. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich jeder Aufnahmeeinrichtung (16) für Beschichtungsgranulat (17) eine Einleiteinrichtung für Prozessgas angeordnet ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die
Einleiteinrichtung für Prozessgas als Abzweigung (18) von einem vertikal im Beschichtungsraum (10) verlaufenden Rohr (14) ausgebildet ist und in die entsprechende Aufnahmeeinrichtung (16) für Beschichtungsgranulat (17) hineinragt.
16. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 1 bis 15, gekennzeichnet durch eine Erhitzungseinrichtung zum Erhitzen des Beschichtungsraums (10) sowie der im Beschichtungsraum (10) angeordneten, zu beschichtenden Werkstücke (1 1) auf Prozesstemperatur.
7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 11 bis 16, gekennzeichnet durch eine Pumpeneinrichtung zum Erzeugen eine Vakuums im Beschichtungsraum (10) und/oder zum Pulsen des Verfahrensdrucks.
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