WO2004034448A1

WO2004034448A1 - 露光装置、露光システム、レシピ生成システムおよびデバイス製造方法

Info

Publication number: WO2004034448A1
Application number: PCT/JP2003/012913
Authority: WO
Inventors: Hiroyuki Suzuki; Mitsuhiro Nakai; Akira Hiraoka
Original assignee: Nikon Corporation; Nikon Systems Inc.
Priority date: 2002-10-09
Filing date: 2003-10-08
Publication date: 2004-04-22
Also published as: AU2003277497A1; AU2003277497A8

Abstract

このレシピ生成システムは、露光装置のレシピデータを作成するシステムであって、レチクル設計情報データを上位のシステムからオンラインによって取得する上位システム連携手段と、前記レチクル設計情報システムに基づいてレシピデータを生成するレシピ生成手段とを備える。

Description

露光装置、露光システム、レシピ生成システムおよびデバイス製造方法技術分野

本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に係り、特に、露光装置を制御するためのレシピデータを容易に生成することができる露光装置、露光システム、レシピ生成システムおよび該露光装置を用いて露光を行うデバイス製造方法に関する。明

背景技術書

従来、半導体素子又は液晶表示素子等をフォトリソグラフイエ程で製造する際に、フォトマスク又はレチクルのパターンを、投影光学系を介して表面にフォトレジスト等の感光剤が塗布されたウェハ又はガラスプレート等の基板上に転写する投影露光装置が用いられている。投影露光装置としては、特開 2 0 0 2— 1 9 8 2 9 9号公報等に開示されているように、例えばステップ ·アンド ·リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、ステップ 'アンド ·スキャン方式の走查型投影露光装置 (いわゆるスキャニング ·ステツパ) 等がある。この種の露光装置では、レシピデ一夕と呼ばれるプロセスプログラムに基づいて露光動作が制御される。このレシピデ一夕の作成は、露光装置に接続された端末から作業者が紙に印刷された指示書に従って手入力することにより行われているのが一般的である。

しかしながら、従来のレシピデータ作成方法にあっては、作業者が指示書に記載されている内容を正確に読み取り、作業者の知識と経験に基づいてレシビデ一夕作成を行う必要があり、作業者め負担も多大なものとなっている。特に、近年の露光装置は高機能化しているため、レシピデータの生成も複雑化しており、入力ミスや作成ミスが起きやすいため、容易にレシビデ一夕を作成することが望まれている。また、設計データの伝達に紙媒体を使用しているため、情報伝達が円滑でなく、伝達時の間違いも発生し易い。これは、結果的に露光装置で製造されるデバイスの品質低下を招いてしまい、生産性が悪化する場合があり、情報伝達も迅速に、かつ正確に行うことが望まれている。

また、近年ではデバイス製造分野は少量多品種化の傾向にあり、このため、デバイス製造工程の中でレシビデ一夕の作成が占める割合が増加している。よって、レシピデ一夕の作成に要する作業時間を短縮することが、デバイス製造工程全体を短縮することにも繋がるため、過去に比してより一層、現在のデバイス製造分野ではレシビデ一夕の作成に要する作業時間の短縮が望まれている。発明の開示

本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたもので、露光装置を制御するためのレシピデータを容易に生成することができる露光装置、露光システム、レシピ生成システムおよび該露光装置を用いて露光を行うデバイス製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第 1の態様は、露光装置（1 4 0 ) のレシビデ一夕を生成するレシピ生成システム（1 0 1 ) であって、マスク設計情報データを上位のシステム（1 3 0 ) からオンライン（例えば、ネッ卜ヮ一ク 1 5 0 ) によって取得する上位システム連携手段（1 0 5 ) と、前記マスク設計情報データに基づいて、レシピデ一夕を生成するレシピ生成手段（1 0 7 ) とを備える。

前記レシピ生成手段（1 0 7 ) は、既存のレシピデ一夕に対して、必要部分を前記マスク設計情報デー夕に基づくデ一夕で置き換えることにより新たなレシピデータを生成させてもよい。

また、前記レシピデ一夕は、マスクデータ、ウェハマップデ一夕、露光条件デ —夕およびショットマップデ一夕からなることが好ましい。

また、前記マスク設計情報データに基づいて、対象となる露光装置に適したゥェハマップデー夕を生成するマツプ配置手段をさらに備えてもよい。

また、露光装置（1 4 0 ) の各々に特有の定型デ一夕を記憶する定型データ記憶手段をさらに備え、前記レシピ生成手段は、前記定型データ記憶手段（1 1 9 ) から読み出した定型デ一夕と前記マスク設計情報データとを結合させてレシビデ一夕を生成させてもよい。また、前記定型デ一夕記憶手段（119) に記憶されている定型データを編集する定型データ編集手段（112) をさらに備えてもよい。

また、生成された前記レシピデ一夕を蓄積するレシピデータベース（117) をさらに備え、生成されたレシピデ一夕は、一元管理されてもよい。

また、前記レシピデータベースに蓄積されているレシビデ一夕を編集するレシピ編集手段（108) をさらに備えてもよい。

また、前記レシピデータベース（117) に蓄積されているレシビデ一夕を、指示に応じて所定の露光装置（140) に対してオンラインで配布するレシピ配布手段（110) をさらに備えてもよい。

また、前記レシピデータベース（117) に蓄積されているレシピデ一夕を、配布先の露光装置（140) のタイプに応じてレシピデータタイプの変換を行うレシピ変換手段（111) をさらに備えてもよい。

また、前記レシピデータベースに蓄積されるレシビデ一夕の最小単位は、マスクデータ、ウェハマップデ一夕、露光条件データおよびショットマップデータのいずれかであることが好ましい。

また、前記レシピ編集手段（108) によって編集されたレシピデ一夕の編集履歴を記憶する編集履歴記憶手段（121) と、前記編集履歴に基づいてレシピデータの世代管理を行う履歴管理手段（109) とをさらに備えてもよい。

本発明の第 2の態様は、露光装置（140) のレシビデ一夕を生成するレシピ生成プログラムであって、マスク設計情報デ一夕を上位のシステム（130) からオンライン（ネッ卜ワーク 150)によって取得する上位システム連携処理（ステツプ S 1〜S 8) と、前記マスク設計情報データに基づいてレシピデ一夕を生成するレシピ生成処理（ステップ S 21〜S 29)とをコンピュータに行わせる。前記レシピ生成処理は、既存のレシピデータに対して、必要部分を前記マスク設計情報データに基づくデータで置き換える（ステップ S 23， S 26, S 27) ことにより新たなレシピデータを生成させてもよい。

また、前記レシピ生成処理は、マスクデータ、ウェハマップデータ、露光条件データおよびショットマップデ一夕からなるレシピデ一夕を生成させてもよい。また、前記マスク設計情報デ一夕に基づいて、対象となる露光装置（140) に適したウェハマップデータを生成するマップ配置処理（ステップ S 11〜S 1 3) を、さらにコンピュータに行わせてもよい。

また、前記レシピ生成処理は、露光装置（140) の各々に特有の定型データを読み出し、この定型データと前記マスク設計情報データとを結合させて（ステップ S 22〜S 23) レシピデ一夕を生成させてもよい。

また、記憶されている前記定型データを編集する定型データ編集処理（ステツプ351〜356) を、さらにコンピュータに行わせてもよい。

また、生成された前記レシピデ一夕を蓄積するレシピデータベース（117) に蓄え、生成されたレシピデータを一元管理する処理をコンピュータに行わせてもよい。

また、前記レシピデ一夕ベースに蓄積されているレシピデータを編集するレシピ編集処理（ステップ S 31〜S 38) を、さらにコンピュータに行わせてもよい。

また、前記レシピデ一夕ベースに蓄積されているレシピデータを指示に応じて所定の露光装置（140) に対してオンラインで配布するレシピ配布処理（ステップ S 41, S 42, S 43, S 45) を、さらにコンピュータに行わせてもよい。

また、前記レシピデ一夕ベースに蓄積されているレシピデータを配布先の露光装置（140) のタイプに応じてレシピデ一夕タイプの変換を行うレシピ変換処理（ステップ S 44) を、さらにコンピュータに行わせてもよい。

また、前記レシピデ一夕べ一スに蓄積されるレシピデ一夕の最小単位は、マスクデータ、ウェハマップデ一夕、露光条件データおよびショットマップデ一夕のいずれかであり、前記レシピ編集処理は、この最小単位で編集処理を行うことが好ましい。

また、前記レシピ編集処理によつて編集されたレシピデータの編集履歴を記憶する編集履歴記憶処理と、前記編集履歴に基づいてレシピデ一夕の世代管理を行う履歴管理処理とを、さらにコンピュータに行わせてもよい。

本発明の第 3の態様は、デバイス製造方法であって、上記のレシピ生成システムによって生成されたレシピデータに基づいて制御される露光装置を用いて露光を行う。

本発明の第 4の態様は、上記のレシピ生成プログラムによって生成されたレシビデ一夕に基づいて制御される露光装置（1 4 0 ) を用いて露光を行う。

本発明の第 5の態様は、マスク（レチクル R) 上の所定パターンを物体上に転写する露光装置（1 4 0 ) であって、第 1フォーマットで規定される制御情報に基づいて所定動作部を制御する制御手段（主制御装置 5 0 ) を含み、前記制御手段は、前記第 1フォーマットとは異なる第 2フォーマツトで規定される前記マスクに関するマスク情報を記憶する記憶手段と情報伝達可能に接続された生成手段

( 1 0 7， 1 1 1 ) が、前記記憶手段に記憶された前記第 2フォーマットのマスク情報を第 1フォーマツトに変換して生成する第 1フォーマツトの制御情報に従つて、前記所定動作部を制御し、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写する。

また、所定の照明条件の下で前記マスクを露光ビームで照明する照明手段（1 2 ) を備え、前記制御手段（主制御装置 5 0 ) は、前記生成手段が前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を第 1フォ一マツトに変換することで生成する第 1フォ一マツトの制御情報に従って、前記照明条件を変化させてもよい。

また、前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源（1 4 ) と、前記照明ビ一ムによって照明されるマスク状の照明領域を規定する規定手段（3 O A) とを備え、前記制御手段（主制御装置 5 0 ) は、前記生成手段が生成する第 1フォーマツトの制御情報に従って、前記規定手段を制御させてもよい。

また、前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源（1 4 ) と、前記照明ビームの光路上で前記マスクと光学的フーリエ変換の関係にある前記光路に垂直な瞳面上での前記照明ビームの光量分布を変化させる光量分布変更手段とを備え、前記制御手段（主制御手段 5 0 ) は、前記制御手段が生成する第 1フォーマツトの制御手段に従って、前記光量分布変更手段を制御させてもよい。

また、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段（P L) を備え、前記制御手段（主制御装置 5 0 ) は、前記生成手段が生成する第 1フォ一マツトの制御情報に従って、前記投影手段による投影条件を制御させてもよい。また、前記投影手段（P L) は、複数の光学素子（レンズエレメント）を備え、光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧に基づいて決定される所定の光学特性を有する投影光学系を含み、前記制御手段 (主制御装置 5 0 ) は、前記生成手段が生成する第 1フォーマットの制御情報に従って、前記投影光学系の光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧を制御させてもよい。

また、前記第 2フォーマットで規定される前記マスク情報は、前記マスク（レチクル R) 上の所定パターンに含まれるマークパターンに関する情報を含み、前記露光装置（1 4 0 ) は、さらに、前記物体上に形成された前記マークパターンを検出することによつて前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段（A L G) を備え、前記制御手段（主制御装置 5 0 ) は、前記生成手段が生成する第 1フォーマツトの制御情報に従って、前記検出手段による前記物体上のマ一クを検出する際の検出条件を制御させてもよい。

また、前記制御手段（主制御手段 5 0 ) は、前記マスク情報に含まれる前記マークパターンに関する情報である、前記所定パターン内での前記マークパターンの位置、または、マークパターンの形状に関する情報に従って、前記検出条件を制御させてもよい。

また、前記検出手段は、前記マークに対して所定波長の検出ビームを照射することにより、前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段であり、前記露光装置（1 4 0 ) は、さらに、前記検出手段によって検出された前記マスクと前記物体との相対位置情報に基づいて、前記マスクと前記物体との相対位置関係を制御する駆動手段（5 6 R) を含み、前記制御手段（主制御装置 5 0 )は、前記生成手段によって生成された前記第 1フォーマツ卜の制御情報に従って、前記検出ビームの波長、または、前記駆動手段を制御させてもよい。

本発明の第 6の態様は、デバイス製造方法であって、上記の露光装置を用いて、マスク上に形成されたデバイスパターンを物体上に転写する工程を含む。

本発明の第 7の態様は、デバイスであって、上記のデバイス製造方法で製造される。

本発明の第 8の態様は、第 1フォーマットに従って規定される制御情報に基づいて制御される露光装置（1 4 0 ) を含み、マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光システムであって、前記マスクに関するマスク情報を、前記第 1フォ一マットとは異なる第 2フォーマツトで蓄積する記憶手段と、前記記憶手段と情報通信可能に接続（ネットワーク 5 0 ) され、前記記憶手段より前記マスク情報を獲得する獲得手段と、前記獲得手段と情報通信可能に接続され、前記獲得手段によって前記記憶手段より獲得された第 2フォーマツ卜のマスク情報を、前記第 1フォーマットに従った制御情報に変換（レシピ変換部 1 1 1 ) し、前記露光装置を制御するための制御情報を生成する生成手段とを備え、前記露光装置は、前記生成手段によって生成された第 1フォーマツトの制御情報に応じて、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写する。

前記露光装置（1 4 0 ) は、前記マスクを照明するための照明手段（1 2 ) を含み、前記生成手段は、前記マスク情報に基づいて、前記照明手段による照明条件を制御するための制御情報を生成させてもよい。

また、前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源（1 4 ) と、前記照明ビームによって照明されるマスク上の照明領域を規定する規定手段（3 O A) とを備え、前記生成手段が前記マスク情報に基づいて生成する前記照明手段を制御するための制御情報は、前記規定手段を制御するための制御情報を含んでもよい。

また、前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源と、前記照明ビームの光路上で前記マスクと光学的フーリエ変換の関係にある瞳面上での前記照明ビームの光量分布を変化させる光量分布変更手段とを備え、前記生成手段が前記マスク情報に基づいて生成する前記露光装置（1 4 0 ) の照明手段を制御するための制御手段（主制御手段 5 0 ) は、前記光量分布変更手段を制御するための制御情報を含んでもよい。

また、前記露光装置（1 4 0 ) は、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段（P L) を備え、前記生成手段が、前記マスク情報に基づいて、前記露光装置の投影手段による投影条件を制御するための制御情報を生成させてもよい。

また、前記投影手段（P L ) は、複数の光学素子（レンズエレメント）を備え、さらに、光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧に基づいて決定される所定の光学特性を有する投影光学系を含み、前記生成手段は、前記マスク情報に基づいて、前記投影光学系の光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧を制御するための制御情報を生成させてもよい。

また、前記マスク情報は、前記マスク上の所定パターンに含まれるマークバタ —ンに関する情報を含み、前記露光装置（1 4 0 ) は、前記物体上に形成された前記マークパターンを検出することにより、前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段（A L G) を備え、前記生成手段は、前記マークパターンに関する情報を含むマスク情報に基づいて、前記検出手段による前記物体上のマークを検出する際の検出条件を制御するための制御情報を生成させでもよい。また、前記マスク情報に含まれる前記マークパターンに関する情報は、前記所定パターン内での前記マークパターンの位置、または、マークパターンの形状に関する情報を含んでもよい。

また、前記検出手段 (A L G) は、前記マークに対して所定波長の検出ビームを照射することにより、前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段であり、さらに、前記露光装置（1 4 0 ) は、前記検出手段によって検出された前記マスクと前記物体との相対位置情報に基づいて、前記マスクと前記物体との相対位置関係を制御する駆動手段（5 6 R) を含み、前記生成手段は、前記マークパターンに関する情報を含むマスク情報に基づいて、前記検出ビームの波長を制御するための制御情報、または、前記駆動手段を制御するための制御情報を生成させてもよい。

本発明の第 9の態様は、デバイス製造方法であって、上記の露光システムを用いて、前記マスク上に形成されたデバイスパターンを物体上に転写する工程を含む。

本発明の第 1 0の態様は、デバイスであって、上記のデバイス製造方法で製造される。本発明の第 1 1の態様は、デバイス製造工場であって、上記の露光システムと、デバイス製造用基板に所定処理を施す処理手段とを備える。

本発明の第 1 2の態様は、上記の露光システムであって、前記露光装置（1 4 0 ) と、前記記憶手段と、前記獲得手段と、前記生成手段とのうちの少なくとも 1つは、所定地域に設立された第 1工場（1 7 0 ) に配置され、前記第 1工場に配置される 1つを除く手段は、前記第 1工場から離れた地域に設立された第 2ェ場（1 9 0 ) に配置され、さらに、前記第 1工場に配置された手段と、前記第 2 工場に配置された手段との間で情報伝達を行う情報伝達装置（ルー夕 1 5 1， 1 5 3，公衆網 1 6 0 ) を有する。

本発明の第 1 3の態様は、マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光装置（1 4 0 ) の製造方法であって、前記第 1フォーマットで規定される制御情報に基づいて所定動作部を制御する制御手段（主制御装置 5 0 ) を設け、前記第 1 フォーマットとは異なる第 2フォーマツトで規定される前記マスク情報を記憶する記憶手段と前記制御手段とを情報伝達可能に接続（ネットワーク 1 5 0 ) し、前記制御手段が、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を第 1フォーマツトに変換して生成する第 1フォーマツトの制御情報に従って、前記所定動作部を制御し、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写するように構成する。

さらに、マスクを照明するための照明手段（1 2 ) を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマツトの前記制御情報に従って、前記制御手段（主制御装置 5 0 ) が、前記照明手段で前記マスクを照明する際の照明条件を制御するように構成してもよい。

さらに、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段（P U を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツ卜のマスク情報を変換して生成された第 1フォ一マットの前記制御情報に従って、前記制御情報が、前記投影手段で前記パターンを前記物体上へ投影する際の投影条件を制御するように構成してもよい。

さらに、前記物体上に形成されたマークパターンを検出することによって、前記マスクと前記物体との相対位置関係を検出する検出手段（AL G) を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御手段（主制御手段 5 0 ) が、前記検出手段が前記マークパターンを検出する際の検出を制御するように構成する。

本発明の第 1 4の態様は、マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光システムの製造方法であって、第 1フォーマツトに従って規定される制御情報に基づいて制御される露光装置（1 4 0 )を設け、前記マスクに関するマスク情報を、前記第 1フォーマットとは異なる第 2フォーマットで蓄積する記憶手段を設け、前記記憶手段より前記マスク情報を獲得する獲得手段を前記記憶装置と情報通信可能に接続し、前記獲得手段によつて前記記憶手段より獲得された第 2フォーマットのマスク情報を、前記第 1フォーマットに従った制御情報に変換し、前記露光装置を制御するための制御情報を生成する生成手段（1 0 1 ) を前記獲得手段と情報通信可能に接続（ネットワーク 1 5 0 ) し、前記露光装置が、前記生成手段によって生成された第 1フォーマツトの制御情報に応じて、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写するように構成する。

さらに、前記マスクを照明するための照明手段（1 2 ) を設け、前記生成手段が、前記マスク情報に基づいて、前記露光装置（1 4 0 ) の照明手段による照明条件を制御するための制御情報を生成するように構成してもよい。

さらに、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段（P L) を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォ一マツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御手段（主制御手段 5 0 ) が、前記投影手段で前記パターンを前記物体上へ投影する際の投影条件を制御するように構成してもよい。

また、前記物体上に形成されたマークパターンを検出することによって、前記マスクと前記物体との相対位置関係を検出する検出手段（A L G) を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1 フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御情報が、前記検出手段が前記マ —クパターンを検出する際の検出条件を制御するように構成してもよい。

本発明の第 1 5の態様は、第 1部分命令と第 2部分命令とを含む命令セットに基づいて制御される露光装置（140) を含み、マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光システムであって、前記第 1部分命令と前記第 2部分命令とのうちの少なくとも一方を、命令セットに含まれない部分命令のままの状態で記憶する記憶手段（119， 120) と、前記記憶手段から前記部分命令とを読み出し、読み出された前記部分命令を用いて、前記命令セットを生成する生成手段とを備える。

また、前記部分命令は、複数の命令を含んでもよい。

また、前記記憶手段は、部分命令と共に、複数の部分命令で構成された命令セットを部分命令の 1つとして記憶してもよい。

また、前記記憶手段は、 1つの命令だけで構成される部分命令を記憶してもよい。

また、前記生成手段（107) は、前記記憶手段（119， 120) から読み出される複数の部分命令のみで、前記命令セットを生成してもよい。

また、前記生成手段は、命令セットを構成する部分命令の少なくとも一部を入力するための入力手段（103) を備え、前記記憶手段から読み出される部分命令と、前記入力手段から入力された部分命令の少なくとも一部とを用いて前記命令セットを生成する。

さらに、生成済みの命令セットから、少なくとも 1つの部分命令を取り出し、前記記憶手段（119, 120) に記憶させる取出手段（112， 113) を有してもよい。

また、前記取出手段は、前記命令セットから、物体の形状に関係した部分命令を取り出してもよい。

また、前記露光装置（140) は、前記物体上に形成されたマークを用いて前記マスクと前記物体とを位置合わせする位置合わせ手段（56R) を含み、前記取出手段は、前記命令セットから、前記物体上に形成された前記マークに関係する部分命令を取り出してもよい。

また、前記取出手段は、前記命令セットから、前記マスクの反射率に関係する部分命令を取り出してもよい。

本発明の第 16の態様は、デバイス製造方法であって、上記の露光システムを用いて、デバイスパターンを物体上に転写する工程を含む。

本発明の第 17の態様は、デバイスであって、上記のデバイス製造方法で製造される。

本発明の第 18の態様は、デバィス製造工場であつて、上記の露光システムと、デバイス製造用基板に所定処理を施す処理装置とを備える。

本発明の第 19の態様は、上記の露光システムであって、前記露光装置（14 0) と、前記記憶手段と、前記生成手段とのうち少なくとも 1つは、所定地域に設立された第 1工場（170) に配置され、前記第 1工場に配置される 1つを除く手段は、前記第 1工場から離れた地域に設立された第 2工場（190) に配置され、さらに、前記第 1工場に配置された手段と、前記第 2工場に配置された手段との間で情報伝達を行う情報伝達装置（ルータ 151， 153, 公衆網 160) を有する。

本発明の第 20の態様は、第 1部分命令と第 2部分命令とを含む命令セッ卜に従って作動する露光装置（140) を含み、マスク上の所定パターンを物体上に転写するための露光システムを制御するプログラムであって、前記第 1部分命令と前記第 2部分命令のうちの少なくとも一方を、命令セットに含まれない部分命令のままの状態で記憶手段（119， 120) に記憶させるステップと、前記記憶手段から読み出された前記部分命令を用いて、前記命令セットを生成するステップとを含む。

前記部分命令として、複数の命令を含む部分命令を前記記憶手段（119， 1 20) に記憶させてもよい。

また、前記部分命令として、 1つの命令だけで構成される部分命令を前記記憶手段（119， 120) に記憶させてもよい。

また、前記記憶手段（119， 120) から読み出される複数の部分命令のみで、前記命令セットを生成させてもよい。

また、前記記憶手段（119， 120) から読み出される部分命令と、前記入力手段から入力された部分命令の少なくとも一部とを用いて前記命令セットを生成する。

さらに、生成済みの命令セットから、少なくとも 1つの部分命令を取り出し、前記記憶手段（1 1 9， 1 2 0 ) に記憶させるステップを含む。図面の簡単な説明

図 1は、本発明の一実施形態の構成を示すブロック図である。

図 2は、図 1に示す上位システム連携部 1 0 5の動作を示すフロ一チャートである。

図 3は、図 1に示す上位システム定義データベース 1 1 5のテーブル構造を示す説明図である。

図 4は、図 1に示すレチクル情報データベース 1 1 6のテーブル構造を示す説明図である。

図 5は、図 1に示すマップ配置部 1 0 6の動作を示すフローチャートである。図 6は、図 1に示すマップ配置部 1 0 6の出力結果を示す説明図である。図 7は、図 1に示すレシピ生成部 1 0 7の動作を示すフローチャートである。図 8は、図 1に示すレシピデータベース 1 1 7のテ一ブル構造を示す説明図である。

図 9は、図 1に示すレシピ編集部 1 0 8の動作を示すフローチャートである。図 1 0は、図 1に示す編集履歴管理部 1 0 9の動作を示す説明図である。図 1 1は、図 1にレシピ配布部 1 1 0及びレシピ変換部 1 1 1の動作を示すフローチャー卜である。

図 1 2は、図 1に示す機種変換データべ一ス 1 1 8のテーブル構造を示す説明図である。

図 1 3は、図 1に示す定型データ編集部 1 1 2の動作を示すフローチャートである。

図 1 4は、図 1に示す定型データベース 1 1 9のテーブル構造を示す説明図である。

図 1 5は、図 1に示すパーツデ一夕編集部 1 1 3の動作を示すフローチャートである。

図 1 6 A〜図 1 6 Dは、図 1に示すパーツデータベース 1 2 0のテーブル構造を示す説明図である。図 1 7は、図 1に示すレチクル設計 C ADシステム 1 3 0から出力されるデ一夕を示す説明図である。

図 1 8は、図 1に示す露光装置 1 4 0へ送信するレシピデータを示す説明図である。

図 1 9は、半導体製造を行う工場内に備えられた各装置の構成を示すブロック図である。

図 2 0は、図 1に示す露光装置 1 4 0の概略構成を示す図である。

図 2 1は、図 2 0に示すウェハステージ近傍を拡大し、 Zチルトステージの駆動装置とともに示す図である。

図 2 2は、図 2 0に示す空間像計測装置の内部構成を示す図である。

図 2 3は、図 2 0に示す主制御装置 5 0の像面計測時の主要な制御アルゴリズムを簡略化して示すフローチャートである。

図 2 4は、本発明に係るデバイス製造方法の実施形態を説明するためのフロ一チヤ一卜である。

図 2 5は、図 2 4に示すステップ S 2 0 4の詳細を示すフローチャートである。発明を実施するための最良の形態

以下、本発明の一実施形態によるレシピ生成システムを図面を参照して説明する。

図 1は、同実施形態の構成を示すブロック図である。この図において、符号 1 0 1は、露光装置を制御するためのレシピデータ（本明細書では、露光装置を制御するプログラムの集合をレシビデ一夕と称する）を生成するレシピ生成システムである。符号 1 3 0は、レチクルの設計を行うレチクル設計 C ADシステムである。レチクル設計 C ADシステム 1 3 0は、このシステムを用いて設計されたレチクルのデ一夕を記憶保持可能であり、また、この記憶保持しているレチクルデ一夕を所定のフォーマツトでレシピ生成システム 1 0 1に対して出力可能である。符号 1 4 0は、レシピ生成システム 1 0 1で生成されたレシピの基づいて、レチクル上に形成されたデバイスパターンを半導体ウェハ上に転写するための露光動作を実行する露光装置である。露光装置 1 4 0は、露光動作を実行するため、後述のように複数の動作部と、各動作部を制御する主制御装置 5 0とを備えている。主制御装置 5 0は、レシピ生成システム 1 0 1で生成されたレシピを実行可能であり、レシピに従って各動作部を制御する。レシピ生成システム 1 0 1、レチクル設計 C ADシステム 1 3 0及び露光装置 1 4 0は、パス型の L AN等で構成されるネットワーク 1 5 0によって情報の授受が可能である。図 1では、レチクル設計 C AD 1 3 0と露光装置 1 4 0を 1台ずつ図示したが、ネットワーク 1 5 0に対してそれぞれ 2台以上接続されていてもよい。

符号 1 0 2は、ネットワーク 1 5 0を介して、パケットの授受を行う通信部である。符号 1 0 3は、キーボードやマウス等で構成される入力部であり、符号 1 0 4は、ディスプレイやプリンタ等で構成される出力部である。符号 1 0 5は、レチクル設計を行う上位のシステムと連携するために上位システムから受け取つたレチクル設計情報を内部データに変換する上位システム連携部である。上位システムとは、レチクルの設計情報を生成するシステムのことであり、ここではレチクル設計 C AD 1 3 0が上位システムとなる。符号 1 0 6は、レチクル設計 C AD 1 3 0から送信されるレチクル設計情報に基づいて、ウェハ上の最適化配置を行うマップ配置部である。符号 1 0 7は、レチクル設計情報に基づいてレシピデータを生成するレシピ生成部である。符号 1 0 8は、レシピ生成部 1 0 7で生成したレシピデ一夕に対して、修正や追加等の編集を行うレシピ編集部である。符号 1 0 9は、レシピ編集部 1 0 8においてレシピデータの編集が行われた際の編集履歴を管理する編集履歴管理部である。符号 1 1 0は、レシピデ一夕をネットワーク 1 5 0を介して露光装置 1 4 0へ配布するレシピ配布部である。符号 1 1 1は、露光装置 1 4 0のタイプ（型式）に応じて、レシピデータをタイプ毎に変換するレシピ変換部である。ここでいうタイプ（型式）とは、露光装置 1 4 0 の主制御装置 5 0が実行可能なレシピのフォーマットのことである。つまり、露光装置 1 4 0では、製造の年代や製造元等の違いにより実行可能なレシピのフォ一マットが異なる、という事情があるため、レシピ自動生成システム 1 0 1では、これら複数のレシピフォーマットに対応するため、レシピデータをレシピ変換部 1 1 1で対象とする露光装置 1 4 0が実行可能なレシピのフォーマツトに変換する。符号 1 1 2は、レシピデータの定型データ作成、編集を行う定型デ一夕編集部である。ここでいう定型データとは、レシピの雛形データのことである。符号 1 1 3は、レシピデ一夕を構成するパーツデ一夕作成、編集を行うパーツデ一夕編集部である。ここでいうパーツデータとは、既に作成されたレシピデータから他のレシピデ一夕において流用することができる部分を切り出したデ一夕のことである。

符号 1 1 4は、各種のデ一夕の入出力を行うデータベースアクセス部である。符号 1 1 5は、上位システム連携部 1 0 5が、通信部 1 0 2を介してレチクル設計 C ADシステム 1 3 0から受信したレチクル設計情報を、上位システム連携部

1 0 5がレシピ生成システム 1 0 1内で処理可能な内部データのフォーマツトに変換する際に参照する上位システム定義データベースである。上位システム定義データベース 1 1 5には、上位システムのタイプとレシピ生成システム 1 0 1内で処理可能な内部データとを対応付けた変換テーブルが、上位システムのタイプ毎に記憶されている。符号 1 1 6は、上位システムから受け取ったレチクル設計情報を内部デ一夕に変換して記憶したレチクル情報デ一夕ベースである。符号 1

1 7は、レシピ生成部 1 0 7において生成されたレシピデータを記憶するレシピデータベースである。符号 1 1 8は、レシピ変換部 1 1 1が、露光装置のタイプ毎にレシピデータを変換する際に参照する機種変換テーブルが記憶された機種変換デ一夕ベースである。符号 1 1 9は、定型データ編集部 1 1 2において作成、編集された定型データが記憶される定型データベースである。符号 1 2 0は、パ —ッデ一夕編集部 1 1 3において作成、編集されたパーツデータを記憶するパーッデータべ—スである。符号 1 ₂ 1は、編集履歴管理部 1 0 9が管理する編集履歴デ一夕を記憶する編集履歴データベースである。

なお、以上の説明では、「定型デ一夕」と「パーツデ一夕」とを分けて考え、定型データベースとパーツデータベース 1 2 0とを別々に設ける構成を採用したが、本発明ではこのような構成に限定されるものではない。すなわち、以上の説明では、レシピを構成する上で必要な複数のパーツが一通り揃っている「雛形」を「定型データ」として「パーツデータ」と区別しているが、複数のパーツを組み合わせて 1つのレシビデ一夕を生成する処理において、「定型データ」も組み合わされるパーツの 1つである、と捉えることも可能であり、その場合、「定型データ」も敢えて「パーツデータ」と区別する必要はなく、定型データベース 1 19とパーツデ一夕べ一ス 120とを別々に設ける必要もない。

ここで、図 20〜 23を参照して、図 1に示す露光装置 140の構成と動作を簡単に説明する。

図 20には、一実施形態に係る露光装置 140の概略的な構成が示されている。この露光装置 140は、ステップ 'アンド ·スキャン方式の走査型投影露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング ·ステツパである。

また、この露光装置 140は、レシピ生成システム 101によって生成されたレシピに従って、後述する各構成部分を制御する主制御装置 50を有する。主制御装置 50は、前記ネットワーク 150に接続され、レシピ生成システム 101 で生成されたレシピを受信するための接続部（不図示）を備えている。

この露光装置 140は、光源 14及び照明光学系 12を含む照明系、マスクとしてのレチクル Rを保持するレチクルステージ RST、投影光学系 PL、基板としてのウェハ Wを保持して XY平面内を自在に移動可能な基板ステ一ジとしてのウェハステージ WST、及びこれらを制御する制御系等を備えている。また、図示は省略されているが、上記各構成部分のうち、光源及び制御系以外の部分は、実際には、内部の温度、圧力等の環境条件が高精度に維持された不図示の環境制御チャンバ（エンバイロンメンタル ·チャンバ）内に収容されている。

光源 14として、ここでは、一例として、 Kr Fエキシマレ一ザ光（波長 24 8 nm) 又は Ar Fエキシマレーザ光（波長 193nm) を出力するエキシマレ一ザ光源が用いられるものとする。この光源 14は、実際には、上記環境制御チヤンバが設置されるクリーンルームとは別のクリーン度の低いサービスルーム等に設置され、不図示の送光光学系を介して環境制御チャンバ内部の照明光学系 1 2に接続されている。光源 14は、ワークステーション（又はマイクロコンピュ一夕）から成る主制御装置 50によってそのレーザ発光のオン ·オフや、中心波長、スペクトル半値幅、繰り返し周波数などが制御される。

照明光学系 12は、ビーム整形光学系 18、オプティカルインテグレー夕（ホモジナイザー）としてのフライアイレンズ 22、照明系開口絞り板 24、リレー光学系 28A， 28B、固定レチクルブラインド 30A、可動レチクルブラインド 3 0 B、ミラ一 M、及びコンデンサレンズ 3 2等を備えている。なお、ォプテイカルインテグレ一夕として、ロッド型（内面反射型）インテグレー夕等を用いても良い。

ビーム整形光学系 1 8内には、光源 1 4でパルス発光されたレーザビーム L B の断面形状を、該レーザビーム L Bの光路後方に設けられたフライアイレンズ 2 2に効率良く入射するように整形するための、例えぱシリンダレンズやビームェキスパンダ（いずれも図示省略）等が含まれている。

フライアイレンズ 2 2は、ビーム整形光学系 1 8から出たレ一ザビーム L Bの光路上に配置され、レチクル Rを均一な照度分布で照明するために多数の点光源 (光源像）からなる面光源、即ち 2次光源を形成する。この 2次光源から射出されるレーザビームを本明細書においては、「照明光 I L」とも呼ぶものとする。フライアイレンズ 2 2の射出側焦点面の近傍には、円板状部材から成る照明系開口絞り板 2 4が配置されている。この照明系開口絞り板 2 4には、等角度間隔で、例えば通常の円形開口より成る開口絞り、輪帯照明用の開口絞り及び変形光源法用の開口絞り等が配置されている。この照明系開口絞り板 2 4は、主制御装置 5 0により制御されるモ一夕等の駆動装置 4 0により回転されるようになっており、これにより、いずれかの開口絞りが照明光 I Lの光路上に選択的に設定される。なお、開口絞りの選択は、露光に使用するレチクル上のデバイスパターンに応じて選択することが好ましい。つまり、レチクル上のデバイスパターンの線幅や、主に周期的パターンで構成されたものか、孤立パターンで構成されたものか、といった違いにより、開口絞りを使い分けることが好ましく、レシピ生成システム 1 0 1は、レチクル C ADシステム 1 3 0から出力されるレチクル設計デ一夕に含まれる線幅データや、周期パターンか孤立パターンか、といった情報を用いてレシピを生成し、主制御装置 5 0は、この生成されたレシピに従って駆動装置 4 0を制御して開口絞りを設定する。

照明系開口絞り板 2 4から出た照明光 I Lの光路上に、反射率が小さく透過率の大きなビームスプリツ夕 2 6が配置され、更にこの後方の光路上に、レチクルブラインド 3 0 A， 3 0 Bを介在させてリレー光学系（2 8 A， 2 8 B) が配置されている。固定レチクルブラインド 3 0 Aは、レチクル Rのパターン面に対する共役面から僅かにデフォーカスした面に配置され、レチクル R上の照明領域 I A Rを規定する矩形開口が形成されている。また、この固定レチクルブラインド 3 O Aの近傍に走査方向（ここでは X軸方向とする）及び非走査方向（Y軸方向）にそれぞれ対応する方向の位置及び幅が可変の開口部を有する可動レチクルブラインド 3 0 Bが配置され、走査露光の開始時及び終了時にその可動レチクルブラインド 3 0 Bを介して照明領域 I A Rを更に制限することによって、不要な部分の露光が防止されるようになっている。また、本実施形態では、可動レチクルブラインド 3 0 Bは、後述する空間像計測の際の照明領域の設定にも用いられる。

一方、照明光学系 1 2内のビームスプリッタ 2 6で反射された照明光 I Lの光路上には、集光レンズ 4 4、及び遠紫外域で感度が良く、且つ光源 1 4のパルス発光を検出するために高い応答周波数を有する P I N型フォトダイオード等の受光素子から成るインテグレ一夕センサ 4 6が配置されている。

このようにして構成された照明系の作用を簡単に説明すると、光源 1 4からパルス発光されたレーザビーム L Bは、ビーム整形光学系 1 8に入射して、ここで後方のフライアイレンズ 2 2に効率よく入射するようにその断面形状が整形された後、フライアイレンズ 2 2に入射する。これにより、フライアイレンズ 2 2の射出側焦点面（照明光学系 1 2の瞳面）に 2次光源が形成される。この 2次光源から射出された照明光 I Lは、照明系開口絞り板 2 4上のいずれかの開口絞りを通過した後、透過率が大きく反射率が小さなビームスプリッタ 2 6に至る。このビ一ムスプリッ夕 2 6を透過した照明光 I Lは、第 1リレーレンズ 2 8 Aを経て固定レチクルブラインド 3 O Aの矩形の開口部及び可動レチクルブラインド 3 0 Bを通過した後、第 2リレーレンズ 2 8 Bを通過してミラー Mによって光路が垂直下方に折り曲げられた後、コンデンサレンズ 3 2を経て、レチクルステ一ジ R S T上に保持されたレチクル R上の照明領域 I A Rを均一な照度分布で照明する。一方、ビームスプリツ夕 2 6で反射された照明光 I Lは、集光レンズ 4 4を介してインテグレー夕センサ 4 6で受光され、インテグレー夕センサ 4 6の光電変換信号が、不図示のピークホールド回路及び AZD変換器を有する信号処理装置 8 0を介して主制御装置 5 0に供給される。レチクルステージ R ST上には、レチクルが、例えば真空吸着（又は静電吸着）により固定されている。レチクルステージ RSTは、ここでは、リニアモ一夕等を含むレチクルステージ駆動系 56Rにより、投影光学系 PLの光軸 AXに垂直な XY平面内で 2次元的に（X軸方向及びこれに直交する Y軸方向及び XY 平面に直交する Z軸回りの回転方向（0 z方向）に）微少駆動可能であるとともに、レチクルベース RB S上を Y軸方向に指定された走査速度で移動可能となつている。このレチクルステージ RSでは、レチクル Rの全面が少なくとも投影光学系 P Lの光軸 A Xを横切ることができるだけの Y軸方向の移動ストロークを有している。

レチクルステージ RST上には、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という） 54 Rからのレーザビームを反射する移動鏡 52 Rが固定されており、レチクルステージ RSTの XY面内の位置はレチクル干渉計 54 Rによって、例えば 0. 5〜1 nm程度の分解能で常時検出される。ここで、実際には、レチクルステージ RST上には走査露光時の走査方向（Y軸方向）に直交する反射面を有する移動鏡と非走査方向（X軸方向）に直交する反射面を有する移動鏡とが設けられ、レチクル干渉計 54Rは Y軸方向に少なくとも 2軸、 X軸方向に少なくとも 1軸設けられているが、図 20では、これらが代表的に移動鏡 52 R、レチクル干渉計 54 Rとして示されている。

レチクル干渉計 54 Rからのレチクルステージ RSTの位置情報は、テーブル制御系としてのステージ制御装置 70、及びこれを介して主制御装置 50に送られるようになっている。ステージ制御装置 70は、主制御装置 50の指示に応じてレチクルステージ駆動系 56 Rを介してレチクルステージ R S Tの移動を制御する。

投影光学系 PLは、レチクルステージ RSTの図 20における下方に配置され、その光軸 AXの方向が Z軸方向とされ、ここでは両側テレセントリックな縮小系であり、光軸 AX方向に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレメントから成る屈折光学系が使用されている。この投影光学系 PLの投影倍率は、例えば 1ノ4、 1/5等となっている。このため、照明光学系 12からの照明光 I L によってレチクル R上のスリット状照明領域 I ARが照明されると、このレチクル Rを通過した照明光 I Lにより、投影光学系 P Lを介してそのスリツト状照明領域 I AR内のレチクル Rの回路パターンの縮小像（部分倒立像）が表面にフォトレジストが塗布されたウェハ W上の照明領域 I ARと共役な露光領域 I Aに形成される。

投影光学系 P Lを構成する複数のレンズェレメントのうち、その一部の複数枚のレンズエレメントは、不図示の駆動素子（例えばピエゾ素子など）によって光軸 AX方向及び XY面に対する傾斜方向に微小駆動可能に構成されている。各駆動素子の駆動電圧（駆動素子の駆動量）が主制御装置 5 0からの指令に応じて結像特性補正コントローラ 7 8により制御され、これによつて、投影光学系 P Lの結像特性、例えば、像面湾曲、ディストーション、倍率等が補正されるようになつている。すなわち、本実施形態では、上記の駆動可能なレンズエレメントを駆動する駆動素子及びこの駆動量を制御する結像特性補正コントローラ 7 8によつて、結像特性補正装置が構成されている。

なお、投影光学系 P Lの結像特性を変化させる方法として、投影光学系 P Lを構成するレンズエレメントの一部を駆動することの他に、投影光学系 P Lを構成する複数のレンズエレメント間の空間の気圧を制御することによって、投影光学系 P Lの結像特性を変化させることも可能であり、結像特性補正コントローラによって、投影光学系 P Lを構成する複数のレンズエレメント間の空間の気圧を制御するように構成しても良い。

また、照明光 I Lが投影光学系 P Lへ照射されることにより、照明光 I Lのェネルギ一によつて投影光学系 P Lの結像特性が変化する場合がある。投影光学系 P Lへ照射される照明光 I Lのエネルギーはレチクルの光透過率（レチクル上に照射される照明光に対する、レチクルを通過する照明光の割合）に対応するため、レシピ生成システム 1 0 1は、レチクル C ADシステム 1 3 0から出力されるレチクル設計データに含まれるレチクルの光透過率ひ \°ターン存在率）の情報を用いてレシピを生成し、主制御装置 5 0は、レシピ生成システム 1 0 1で生成されたレシピに従って、結像特性補正コントローラ 7 8を制御する。

ウェハステージ WS Tは、 X Yステージ 4 2と、該 X Yステージ 4 2上に搭載された基板テーブルとしての Zチルトステ一ジ 3 8とを含んで構成されている。 XYステージ 4 2は、ウェハベース 1 6の上面の上方に不図示のエアべアリングによって、例えば数 m程度のクリアランスを介して浮上支持され、ウェハステ一ジ駆動部 5 6 Wを構成する不図示のリニアモー夕等によって走査方向である Y軸方向（図 2 0における紙面内左右方向）及びこれに直交する X軸方向（図 2 0における紙面直交方向）に 2次元駆動可能に構成されている。この XYステージ 4 2上に Zチルトステージ 3 8が搭載され、該 Zチルトステージ 3 8上にゥェハホルダ 2 5が載置されている。このウェハホルダ 2 5によって、ウェハ Wが真空吸着等により保持されている。

Zチルトステージ 3 8は、図 2 1に示されるように、 3つの Z位置駆動部 2 7 A, 2 7 B , 2 7 C (但し、紙面奥側の Z位置駆動部 2 7 Cは不図示）によって XYステージ 4 2上に 3点で支持されている。これらの Z位置駆動部 2 7 A〜2 7 Cは、 Zチルトステージ 3 8下面のそれぞれの支持点を投影光学系 P Lの光軸方向（Z方向）に独立して駆動する 3つのァクチユエ一夕（例えばボイスコイルモータなど） 2 1 A、 2 1 B、 2 1 C (但し、図 2 1における紙面奥側のァクチユエ一夕 2 1 Cは不図示）と、 Zチルトステージ 3 8の Z位置駆動部 2 7 A， 2 7 B， 2 7 Cによる各支持点のァクチユエ一夕 2 1 A、 2 1 B、 2 1 にょる∑ 軸方向の駆動量（基準位置からの変位）を検出するセンサとしてのエンコーダ 2 3 A〜2 3 C (伹し、図 2 1における紙面奥側のエンコーダ 2 3 Cは不図示）とを含んで構成されている。ここで、エンコーダ 2 3 A〜2 3 Cとしては、例えば光学式又は静電容量式等のリニアエンコーダが使用されている。本実施形態では、上記ァクチユエ一夕 2 1 A、 2 1 B、 2 1 Cによって Zチルトステージ 3 8を、光軸 AX方向（Z軸方向）及び光軸に直交する面（XY面）に対する傾斜方向、すなわち X軸回りの回転方向である θ X方向、 Y軸回りの回転方向である 0 y方向に駆動する駆動装置が構成されている。また、エンコーダ 2 3 A〜2 3 Cで計測される Zチルトステージ 3 8の Z位置駆動部 2 7 A， 2 7 B， 2 7 Cによる各支持点の Z軸方向の駆動量（基準点からの変位量）は、ステージ制御装置 7 0及びこれを介して主制御装置 5 0に供給され、主制御装置 5 0では、 Zチルトステージ 3 8の Z軸方向の位置及びレべリング量（0 X回転量、 0 y回転量）を算出するようになつている。なお、図 2 0では、 XYステージ 4 2を駆動するリニアモータ等、及び Z位置駆動部 2 7 A〜2 7 C (ァクチユエ一夕 2 1 A〜2 1 C及びエンコーダ 2 3 A〜2 3 C) を含めてウェハステージ駆動系 5 6 Wとして示されている。

Zチルドステージ 3 8上には、ウェハホルダ 2 5が載置され、このウェハホルダ 2 5によってウェハ Wが真空吸着（又は静電吸着）によって保持されている。

Zチルトステージ 3 8上には、ウェハレーザ干渉計（以下、「ウェハ干渉計」という） 5 4Wからのレーザビームを反射する移動鏡 5 2 Wが固定され、外部に配置されたウェハ干渉計 5 4 Wにより、 Zチルトステージ 3 8 (ウェハステージ W S T) の XY面内の位置が例えば 0 . 5〜1 nm程度の分解能で常時検出されている。

ここで、実際には、 Zチルトステージ 3 8上には、走査露光時の走査方向である Y軸方向に直交する反射面を有する移動鏡と非走査方向である X軸方向に直交する反射面を有する移動鏡とが設けられ、これに対応してウェハ干渉計も X軸方向、 Y軸方向にそれぞれ複数軸設けられ、 Zチルトステージ 3 8の 4自由度方向

(X軸方向、 Y軸方向、 0 x方向、 0 y方向）の位置が計測可能となっているが、図 2 0では、これらが代表的に移動鏡 5 2 W、ウェハ干渉計 5 4 Wとして示されている。ウェハステージ WS Tの位置情報（又は速度情報）は、ステージ制御装置 7 0、及びこれを介して主制御装置 5 0に供給されるようになっている。ステ —ジ制御装置 7 0は、主制御装置 5 0の指示に応じてウェハステージ駆動系 5 6 Wを介してウェハステージ WS Tの XY面内の位置を制御する。

また、 Zチルトステージ 3 8の内部には、投影光学系 P Lの光学特性の計測に用いられる空間像計測装置 5 9を構成する光学系の一部が配置されている。ここで、この空間像計測装置 5 9の構成について詳述する。この空間像計測装置 5 9 は、図 2 2に示されるように、 Zチルトステージ 3 8に設けられたステージ側構成部分、すなわちパターン形成部材としてのスリット板 9 0、レンズ 8 4、 8 6 から成るリレー光学系、光路折り曲げ用のミラー 8 8、送光レンズ 8 7と、ゥェハステージ WS T外部に設けられたステージ外構成部分、すなわちミラー 9 6、受光レンズ 8 9、光電変換素子としての光センサ 2 4等とを備えている。

これを更に詳述すると、スリット板 9 0は、図 2 2に示されるように、ウェハステージ WS Tの一端部上面に設けられた上部が開口した突設部 5 8に対し、その開口を塞ぐ状態で上方から嵌め込まれている。このスリット板 9 0は、平面視長方形の受光ガラス 8 2の上面に遮光膜を兼ねる反射膜 8 3が形成され、その反射膜 8 3の一部に計測用パターンとしての所定幅 2 Dのスリツト状の開口パターン（以下、「スリット」と呼ぶ） 2 2がパ夕一ンニングされて形成されている。受光ガラス 8 2の素材としては、ここでは、 K r Fエキシマレ一ザ光、あるいは A r Fエキシマレーザ光の透過性の良い、合成石英、あるいはホタル石などが用いられる。

スリット 2 2下方の Zチルトステージ 3 8内部には、スリット 2 2を介して鉛直下向きに入射した照明光束（像光束）の光路を水平に折り曲げるミラ一 8 8を介在させてレンズ 8 4， 8 6から成るリレ一光学系（8 4、 8 6 ) が配置され、このリレー光学系（8 4、 8 6 ) の光路後方のウェハステージ WS Tの + Y側の側壁に、リレー光学系（8 4、 8 6 ) によって所定光路長分だけリレーされた照明光束をウェハステージ WS Tの外部に送光する送光レンズ 8 7が固定されている。

送光レンズ 8 7によって、ウェハステージ WS Tの外部に送り出される照明光束の光路上には、 X軸方向に所定長さを有するミラ一 9 6が傾斜角 4 5 ° で斜設されている。このミラー 9 6によって、ウェハステージ WS Tの外部に送り出された照明光束の光路が鉛直上方に向けて 9 0。折り曲げられるようになつている。この折り曲げられた光路上に送光レンズ 8 7に比べて大径の受光レンズ 8 9が配置されている。この受光レンズ 8 9の上方には、光センサ 2 4が配置されている。これら受光レンズ 8 9及び光センサ 2 4は、所定の位置関係を保ってケース 9 2 内に収納され、該ケース 9 2は取付け部材 9 3を介してベース 1 6の上面に植設された支柱 9 7の上端部近傍に固定されている。

光センサ 2 4としては、微弱な光を精度良く検出することが可能な光電変換素子（受光素子)、例えばフォト ·マルチプライヤ ·チューブ（P MT、光電子増倍管）などが用いられる。光センサ 2 4からの光電変換信号 Pは、図 2 0の信号処理装置 8 0を介して主制御装置 5 0に送られるようになつている。なお、信号処理装置 8 0は、例えば増幅器、サンプルホルダ、 AZDコンバータ（通常 1 6ビットの分解能のものが用いられる）などを含んで構成することができる。

なお、前述の如く、スリット 2 2は反射膜 8 3に形成されているが、以下においては、便宜上スリツト板 9 0にスリット 2 2が形成されているものとして説明を行う。

上述のようにして構成された空間像計測装置 5 9によると、レチクル Rに形成された計測マークの投影光学系 P Lを介しての投影像（空間像）の計測の際に、投影光学系 P Lを透過してきた照明光 I Lによって空間像計測装置 5 9を構成するスリット板 9 0が照明されると、そのスリット板 9 0上のスリット 2 2を透過した照明光 I Lがレンズ 8 4、ミラ一 8 8及びレンズ 8 6、送光レンズ 8 7を介してウェハステージ WS Tの外部に導き出される。そして、そのウェハステージ WS Tの外部に導き出された光は、ミラ一 9 6によって光路が鉛直上方に折り曲げられ、受光レンズ 8 9を介して光センサ 2 4によって受光され、該光センサ 2 4からその受光量に応じた光電変換信号（光量信号） Pが信号処理装置 8 0を介して主制御装置 5 0に出力される。

本実施形態の場合、計測マ一クの投影像（空間像）の計測はスリットスキャン方式により行われるので、その際には、送光レンズ 8 7が、受光レンズ 8 9及び光センサ 2 4に対して移動することになる。そこで、空間像計測装置 5 9では、所定の範囲内で移動する送光レンズ 8 7を介した光がすべて受光レンズ 8 9に入射するように、各レンズ、及びミラー 9 6の大きさが設定されている。

このように、空間像計測装置 5 9では、スリット板 9 0、レンズ 8 4、 8 6、ミラ一 8 8、及び送光レンズ 8 7により、スリット 2 2を介した光をウェハステ —ジ WS T外に導出する光導出部が構成され、受光レンズ 8 9及び光センサ 2 4 によって、ウェハステージ WS T外へ導出された光を受光する受光部が構成されている。この場合、これら光導出部と受光部とは、機械的に分離されている。そして、空間像計測に際してのみ、光導出部と受光部とは、ミラー 9 6を介して光学的に接続される。

すなわち、空間像計測装置 5 9では、光センサ 2 4がウェハステージ WS丁の外部の所定位置に設けられているため、光センサ 2 4の発熱に起因するレーザ干渉計 5 4Wの計測精度等に悪影響を可能な範囲で抑制するようにしている。また、ウェハステージ WS Tの外部と内部とをライトガイド等により接続していないので、ウェハステージ WS Tの外部と内部とがライトガイドにより接続された場合のようにウェハステージ WS Tの駆動精度が悪影響を受けることがない。

勿論、熱の影響等を無視、あるいは排除できるような場合には、光センサ 2 4 をウェハステージ WS Tの内部に設けても良い。

図 2 0に戻り、投影光学系 P Lの側面には、ウェハ W上のァライメントマーク (位置合わせマーク）を検出するマーク検出系としてのオファクシス ·ァライメン卜系 A L Gが設けられている。本実施形態では、このァライメント系 A L Gとして、ァライメントマークを照明する照明装置と照明されたァライメントマークの画像を検出する画像センサを備えた画像処理方式のァライメントセンサ、いわゆる F I A (Field Image Alignment) 系が用いられている。このァライメント系 A L Gの検出信号は、主制御装置 5 0に供給されるようになっている。

また、ァライメント系 A L Gは、ァライメントマークを照明する照明光の光量や波長、画像センサからの出力信号のゲインなどを変更して検出条件を変更することが可能である。レシピ生成システム 1 0 1は、レチクル C ADシステム 1 3 0から出力されるレチクル設計デ一夕に含まれるマークパターン情報（デバイスパターンに対するマークの位置、マークパターンの形状、等）を用いてレシピを生成し、主制御装置 5 0は、レシピ生成システム 1 0 1で生成されたレシピに従つて、ァライメントマークを照明する照明光の光量や波長、画像センサからの出力信号のゲイン等を制御する。

更に、本実施形態の露光装置 1 4 0では、図 2 0に示されるように、主制御装置 5 0によってオンオフが制御される光源を有し、投影光学系 P Lの結像面に向けて多数のピンホール又はスリットの像を形成するための結像光束を、光軸 AX に対して斜め方向より照射する照射系 6 0 aと、それらの結像光束のウェハ W表面での反射光束を受光する受光系 6 0 bとから成る斜入射光式の多点焦点位置検出系が設けられている。なお、本実施形態の焦点位置検出系（6 0 a、 6 0 b ) と同様の多点焦点位置検出系の詳細な構成は、例えば特開平 6— 2 8 3 4 0 3号公報等に開示されている。

主制御装置 5 0では、走査露光時等に、受光系 6 O bからの焦点ずれ信号（デフォーカス信号)、例えば S力一ブ信号に基づいて焦点ずれが零となるように、ゥェハステージ駆動部 5 6 Wを介して Zチルトステージ 3 8の Z軸方向への移動、及び 2次元的に傾斜（すなわち、 0 x， 0 y方向の回転）を制御する、すなわち多点焦点位置検出系（6 0 a、 6 0 b ) を用いて Zチルトステージ 3 8の移動を制御することにより、照明光 I Lの照射領域（照明領域 I A Rと結像関係）内で投影光学系 P Lの結像面とゥェハ Wの表面とを実質的に合致させるオートフォーカス（自動焦点合わせ）及びオートレべリングを実行する。

また、 .前述した不図示の環境制御チャンバ内の投影光学系 P L近傍には、大気圧変動や、温度変動を検知する環境センサ 8 1が設けられている。この環境センサ 8 1による計測結果は主制御装置 5 0に供給されている。なお、環境センサ 8

1及び主制御装置 5 0により算出装置が構成されている。

次に、図 2を参照して、上位システム連携部 1 0 5が、レチクル設計 C AD 1

3 0から送信されたレチクル設計情報を内部デ一夕に変換する動作を説明する。まず、上位システム連携部 1 0 5は、レチクル設計 C ADシステム 1 3 0から送信されたレチクル設計情報を受信し、内部に保持する。次に、上位システム連携部 1 0 5は、内部に保持したレチクル設計情報の中からヘッダ情報を読み込む (ステップ S 1 )。ここで読み込むヘッダ情報には、少なくとも上位システムの夕ィプを識別することができる情報、製造仕様書番号等のレチクル設計情報を識別する情報、レチクル設計情報の作成者名、作成日等が含まれる。ここでいう「上位システムのタイプ」とは、例えば、現状においてレチクル設計 C AD 1 3 0を提供するメーカーは複数存在しており、メーカー毎に、レチクル設計 C AD 1 3

0内部のデータのフォーマット、すなわち、レシピ生成システム 1 0 1がレチクル設計 C AD 1 3 0から読込んだデータのフォーマツ卜（並びや使用されるコード体系など）が異なる、といった状況が発生し得る。このような状況に対応するため、上位システム連携部 1 0 5は、レチクル設計 C AD 1 3 0から読み込まれるレチクル設計情報のヘッダに情報を解析して、レチクル設計 C AD 1 3 0の夕イブを識別する機能を有する。次に、上位システム連携部 1 0 5は、読み込んだヘッダ情報に基づいて、上位システム定義データベース 1 1 5内の定義データを特定する（ステップ S 2 )。上位システム定義データベース 1 1 5内には、予め複数の上位システム毎に変換テーブルである定義データが記憶されているため、レチクル設計情報を送信した上位システム（ここでは、レチクル設計 C ADシステム 1 3 0 ) に合致した定義データを選択して特定する必要があり、この動作によつて定義データを特定する。

次に、上位システム連携部 1 0 5は、内部に保持した設計情報データを 1行読み込み（ステップ S 3 )、読み込んだ設計情報データに対応する変換式を検索するために、定義データ内をサーチする（ステップ S 4 )。そして、上位システム連携部 1 0 5は、該当するデータが見つかつたか否かを判定する（ステップ S 5 )。この判定の結果、該当するデータが見つからない場合はエラ一出力を出力部 1 0 4 へ行うともに、この読み込んだ 1行のデータをスキップする（ステップ S 6 )。一方、該当するデ一夕が見つかった場合、上位システム連携部 1 0 5は、読み込んだ 1行の設計情報デ一夕を内部データに変換する（ステップ S 7 )。そして、設計情報データが終了するまでステップ S 3〜S 7の処理を繰り返し行い（ステップ S 8 )、設計情報データを内部データに変換して、この結果をレチクル情報データベース 1 1 6に記憶する。

ここで、図 3を参照して、上位システム定義データベース 1 1 5とレチクル情報データべ一ス 1 1 6のテーブル構造を説明する。

図 3は、上位システム定義データベース 1 1 5のテーブル構造を示す説明図である。この図に示すように、上位システム定義デ一夕べ一ス 1 1 5は、「パラメ一夕名」、「書式」、「内部パラメ一夕名」、「変換式」のフィールドを有している。図 3の例では、レチクル設計情報データの（"Wafer一 Diameter」というパラメータは、実数の 8けたで表現

されており、これを内部パラメ一夕「Wafer一 size」というパラメータに変換し、変換するときの変換式は、パラメ一夕の数値を 1倍（X I . 0 ) することを意味している。

図 1 7にレチクル設計情報データの一例を示す。

図 1 7に示す「Wafer— Diameter： =200000.0」は、ウェハの直径が 200000.0 mであることを意味している。このレチクル設計情報データを、図 3に示す変換テ一ブルを参照して、変換すると、パラメータ名が「Wafer size」となり、パラメ一夕値が「200000.0」となる。この変換結果は、レチクル情報データベース 1 1 6に記憶される。図 4にレチクル情報データベース 1 1 6のテーブル構造を示す。この図に示すように、レチクル情報データベース 1 1 6は、内部のパラメ一夕名とパラメ一夕値とからなる。図 2に示す動作のように、図 1 7に示すレチクル設計情報データを 1行ずつ読み込み、図 3に示す変換テーブルを参照して、内部パラメータに変換し、その結果を図 4に示すレチクル情報データベース 1 1 6に書き込むことを繰り返し実行することによって、レチクル情報データベース 1 1 6には、レチクル設計 C ADシステム 1 3 0から送信されたレチクル設計情報データから変換されたレチクル情報デー夕が記憶される。

なお、以上の説明では、上位システム連携部 1 0 5がレチクル設計情報データを 1行ずつ内部データに変換する例を示したが、レチクル設計情報デ一夕を内部データに変換する方法は、これに限られるものではない。例えば、レチクル設計情報データをファイル単位で読込み、読込んだファイルを翻訳ソフトを用いて一括した内部デ一タフアイルに変換することも可能である。

次に、図 5、 6を参照して、マップ配置部 1 0 6がマップ配置を最適化する動作を説明する。なお、「最適化」にはいくつかの観点があり、例えば、ウェハ上のショッ卜数が最も多くなる配列を最適とする観点、スループッ卜が最も高くなる配列を最適とする観点、露光精度が最も高くなる配列を最適とする観点等がある。いずれの観点を採用するか、あるいは、複数の観点を同時に満たす最善値を最適とするかは、ユーザーが目的に応じて判断し任意に選択できる。

最適化の動作の説明に戻る。まず、マップ配置部 1 0 6は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたマップ情報データを読み込む（ステップ S 1 1 ) ₀そして、マップ配置部 1 0 6は、入力部 1 0 3からの指示に基づき配置の最適化を行う（ステップ S 1 2 )。そして、マップ配置状況を出力部 1 0 4へ表示する。図 6に、配置の最適化を施した結果を画像（符号 G) で出力部 1 0 4に表示した例を示す。

次に、図 7、 8を参照して、レシピ生成部 1 0 7がレチクル情報データベース 1 1 6に記憶されているデータからレシピデ一夕を生成する動作を説明する。まず、レシピ生成部 1 0 7は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたレチクル情報データをレチクル情報データベース 1 1 6から読み込む（ステップ S 2 1 )。続いて、レシピ生成部 1 0 7は、入力部 1 0 3より作業者によって選択された定型データを定型データベース 1 1 9から読み込む（ステップ S 2 2 )。このとき、定型デ一タベース 1 1 9には、後述する定型データ編集部 1 1 2によって予め定型データが記憶されているものとする。

次に、レシピ生成部 1 0 7は、読み込んだ定型データ上に、読み込んだレチクル情報データを上書きしてレシビデ一夕を生成する（ステップ S 2 3 )。読み込まれた定型データは、標準的なレシピデータで構成された雛形データであり、この雛形データに対して、読み込んだレチクル情報データに該当する部分をこのレチクル情報データで上書きすることにより、読み込んだレチクル情報デ一夕が反映されたレシピデータが生成されることとなる。続いて、レシピ生成部 1 0 7は、定型データにレチクル情報デ一夕を上書きして生成したレシピデータを出力部 1

0 4へ表示する（ステップ S 2 4 ) とともに、レシピ生成作業をさらに続けるか否かのメッセ一ジを出力部 1 0 4へ表示する。

これを受けて、作業者は、出力部 1 0 4に表示されたレシピデータを目視で確認し、さらに作業を続ける必要がなければ、入力部 1 0 3から「終了」を指定する。一方、さらに作業を続ける場合、作業者は、入力部 1 0 3から「入力」または「パ一ッデ一夕上書き」のいずれかを選択して指定する。これを受けて、レシピ生成部 1 0 7は、指定された状態を判定する（ステップ S 2 5 )。この判定の結果「終了」が指定された場合、レシピ生成処理を終了し、ここで生成したレシピデータをレシピデータベース 1 1 7へ登録する（ステップ S 2 9 )。

また、「パーツデ一夕上書き」が指定された場合、レシピ生成部 1 0 7は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたパーツデータをパーツデータベース 1

2 0から読み込み、レシビデ一夕上に上書きする（ステップ S 2 6 )。このとき、パーツデータベース 1 2 0には、後述するパーツデータ編集部 1 1 3によって予めパーツデータが複数記憶されているものとする。また、「入力」が指定された場合、レシピ生成部 1 0 7は、入力部 1 0 3から作業者によって入力されたデ一夕をレシビデ一夕上に上書きする（ステップ S 2 7 )。次に、レシピ生成部 1 0 7は、パーツデータまたは入力デ一タによって上書きされたレシピデータを出力部 1 0 4に表示する（ステップ S 2 8 )。作業者は、表示されたレシビデ一夕を目視で確認し、この確認結果に基づきステップ S 2 5〜 S 2 8の動作を繰り返し実行する。

ここで、図 8を参照して、レシピ生成部 1 0 7によってレシピデータベース 1 1 7に登録されるレシピデータのデータ構造を説明する。レシピデータベース 1 1 7は「パラメ一夕名」と「パラメ一夕値」のフィールドを有し、レシピデータを特定するための「ヘッダ情報」、レチクルに関するデータである「レチクルデー夕」、ウェハに関するデ一夕である「ウェハデータ」、露光条件などの露光に関するデ一夕ある「露光デ一夕」、ショットマップに関するデ一夕である「ショットマップデータ」から構成される。

さらに、「レチクルデータ」は、「レチクル名☆」、「レチクル露光領域サイズ☆」、「レチクル異物検査領域サイズ」、「レチクルァライメントマーク座標☆」、「レチクルパターン補正値☆」の各パラメ一夕名を有するパラメ一夕値からなる。

また、「ウェハデータ」は、「ウェハサイズ☆」、「ウェハ外形形状☆」、「ノッチ ZO Fタイプと方向☆」、「O F長☆」、「ステップピッチ☆」、「ウェハマップセンタシフト☆」、「サ一チアライメントマーク座標☆」、「ファインァライメントマ一ク座標☆」、「サ一チアライメントマークタイプ☆」、「ファインァライメントマ一クタイプ☆」、「サーチァライメント計測条件」、「サーチァライメント補正値」、「サーチァライメント許容値」、「ファインァライメント計測条件」、「ファインァライメント補正値」、「ファインァライメント許容値」、「ウェハローテーション」、「ウェハ直交度」、「ウェハスケーリング」、「ウェハオフセット」の各パラメ一夕名を有するパラメータ値からなる。

また、「露光データ」は、「露光方式」、「露光量」、「露光時フォーカスオフセット」、「フォーカス条件」、「レべリング条件」、「結像条件」、「テスト露光条件」の各パラメ一夕名を有するパラメータ値からなる。

また、「ショットマップデータ」は、「露光ショットマップデータ☆」、「ァライメントシヨットマップデ一夕☆」、「ショットローテーション」、「ショット直交度」、「ショットスケーリング」、「ショットオフセット」の各パラメータ名を有するパラメ一夕値からなる。

上記した各パラメ一夕名の後に付与されている「☆」は、上位システムから受け渡されるか、受け渡されたデータに基づいてデータ加工することにより得られるパラメータを表している。したがって、「☆」が付与されていないパラメ一夕は、定型データ、パーツデータ、入力部からの入力データに基づいて生成されるものである。

このように、上位システムからオンラインで受け渡されるパラメ一夕を流用するとともに、予め用意しておいた定型データ及びパーツデータを利用してレシピデータを生成するようにしたため、容易にレシピデ一夕を生成でき、入力間違い等にミスを低減することができる。

次に、図 9を参照して、レシピ編集部 1 0 8がレシピデ一夕ベース 1 1 7に記憶されているレシピデータの編集を行う動作を説明する。まず、レシピ編集部 1 0 8は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたレシピデータをレシビデ一夕ベース 1 1 7から読み込む（ステップ S 3 1 )。続いてレシピ編集部 1 0 8は、編集機能を選択するように出力部 1 0 4へ指示を表示し、これに対して、作業者は、「入力」、「パ一ッデータ上書き」、「削除」のいずれかを選択して、入力部 1 0 3から指定する。これを受けて、レシピ編集部 1 0 8は、選択された機能を判定する（ステップ S 3 2 )。

この判定の結果「入力」が指定された場合、レシピ編集部 1 0 8は、入力部 1 0 3より作業者によって入力されたデータを読み込んだレシピデータ上に上書きする (ステップ S 3 3 )。また、「パーツデータ上書き」が指定された場合、レシピ編集部 1 0 8は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたパーツデ一夕を読み込み、先に読み込んだレシピデータ上に上書きする（ステップ S 3 4 )。また、「削除」が指定された場合、読み込んだレシピデータ全体を削除する（ステップ S 3 5 ) ₀

次に、レシピ編集部 1 0 8は、編集後のレシピデ一夕を出力部 1 0 4へ表示する（ステップ S 3 6 )。作業者は、この表示されたレシビデ一夕を目視で確認し、編集作業を終了するか否かを判断し、終了するか否かを入力部 1 0 3より指定する。レシピ編集部 1 0 8は、ここで指定された内容を判定する（ステップ S 3 7 )。この判定の結果、終了しないのであれば、ステップ S 3 2に戻り、ステップ S 3 3〜3 6の処理を繰り返し実行する。一方、終了する場合はここで編集されたデ一夕を編集履歴管理部 1 0 9へ渡す（ステップ S 3 8 )。そして、レシピ編集部 1 0 8は、編集後のレシピデータをレシピデ一夕ベースに再登録する。

次に、編集履歴管理部 1 0 9は、レシピ編集部 1 0 8から渡された編集デ一夕を受取り、編集前のレシピデ一夕と編集後のレシピデ一夕との差分をレシビデ一夕を特定する情報とともに編集履歴データベース 1 2 1へ記憶する。編集履歴管理部 1 0 9は、編集履歴データベース 1 2 1を参照して、レシピデ一夕の世代管理を行う。編集履歴管理部 1 0 9は、入力部 1 0 3からの指示に基づき、要求されたレシビデ一夕の復元を行う。この動作を図 1 0を参照して説明する。

図 1 0は、レシピデータの世代を示す図である。

この例では、レシピ 1からレシピ 2、レシピ 3が生成され、また、.レシピ 2からレシピ 2 1とレシピ 2 2が生成され、さらに、レシピ 2 1からレシピ 5が生成され、レシピ 3からレシピ 4が生成されたことを示している。通常、末端のレシピデータ（この例では、レシピ 5、レシピ 2 2、レシピ 4 ) のみが保存されることが多いが、以前のレシピデ一夕に遡つて露光装置の動作確認をしたい場合などに、編集履歴管理部 1 0 9は、編集履歴データベース 1 2 1に記憶されている編集履歴に基づいて、レシピ 4からレシピ 3を復元して、レシピデータベースへ登録する。

次に、図 1 1を参照して、レシピ配布部 1 1 0及びレシピ変換部 1 1 1が露光装置 1 4 0のタイプ毎にレシピデータの機種変換を行い、オンラインでレシビデ一夕を配布する動作を説明する。まず、レシピ配布部 1 1 0は、入力部 1 0 3より作業者が選択したレシピデ一夕をレシピデータベース 1 1 7から選択し（ステップ S 4 1 )、この選択したレシピデータを読み込む（ステップ S 4 2 )。続いて、レシピ配布部 1 1 0は、入力部 1 0 3より作業者が選択した露光装置を選択して特定する（ステップ S 4 3 )。そして、レシピ配布部 1 1 0は、読み込んだレシピデ一夕と選択された露光装置の名称をレシピ変換部 1 1 1へ渡す。

これを受けて、レシピ変換部 1 1 1は、機種変換データベース 1 1 8に記憶されている機種変換データを参照してレシピデ一夕を露光装置のタイプに合致したデータに変換する（ステップ S 4 4 )。

ここで、前提となる露光装置の「型式（タイプ）と号機」の概念について説明しておく。今、 2つの露光装置が例えばソフトウェアも含めて全く同じ設計図に従って製造されたものである場合、 2つの露光装置の「型式」または「機種」は同じであるという。また、露光装置は複数の部位で構成されており、 2つの露光装置は、ある部位については同じ設計図に従って製造されており、別の部位は異なる設計図に従って製造される、という状況もあり得る。この場合、レシピ生成システムでは、レシピデ一夕と関連する部位が同じ設計図に従って製造されている場合は、 2つの露光装置は「同じ型式」であり、レシピデータと関連する部位が異なる設計図に従って製造されている場合には、 2つの露光装置は「異なる型式」とする。

また、 2つの露光装置が同じ「型式」であっても、 2つの露光装置は異なる「号機」である。これは、露光装置が超精密加工を目的とする装置であるがゆえに、例え同じ設計図に従って製造しょうとも、超精密加工で要求される精度からすると、完全に 2つの露光装置間の誤差を無くすことは、現状では不可能である。このため、露光装置の管理においては、露光装置の「型式」を管理するとともに、

「型式」とは別に、各露光装置毎に誤差情報ゃクセなどを管理することが行われている。これが、「号機」と呼ばれる概念である。

以上を踏まえて、図 1 2を参照して、機種変換デ一夕ベース 1 1 8のテーブル構造を説明する。機種変換データベース 1 1 8は、対象となる露光装置の「型式」、対象露光装置のネットワーク 1 5 0上の「ネットワークアドレス」及び変換テーブルを含む機種変換データを「露光装置名」毎に記憶している。露光装置名は、露光装置を一意に特定することができる識別名であり、前述した「号機」に相当するものである。型式（タイプ）は、前述の通りである。ネットワークアドレスは、露光装置名と対になるものであり、ネットワーク 1 5 0上で特定の号機を一意に指定することができる。'変換テーブルは、レシピデータベース 1 1 7内で用いられるパラメ一夕の「パラメ一夕名」と「書式」が関係付けられて記憶されている。書式とは、レシピデータを「型式」「機種」「号機」に関して変換する場合の機種毎の表現方法である。「型式の変換」とは、一般のソフトウェアでバイナリ形式や J I Sといった複数のデータ形式が存在するのと同様に、露光装置のソフトウエアでも、製造メ一カーやパージヨンの違いによって、一工場内にある露光装置であっても、互いにデータ形式が異なるといった状況が発生し得る。変換テ一ブルは、このような装置間のデータ形式の違いに対応するように、レシピデ一夕ベース 1 1 7中に記憶されているレシピデータのデータ形式と、レシピデータの配布先となる露光装置のソフトウェアで使用されているデータ形式とを対応付ける情報を記憶している。次に「機種の変換」とは、前述した型式（種類）の違いに対応するものである。すなわち、レシピデータベース 1 1 7のレシピデ一夕を作成した際に想定されていた対象露光装置（装置 A) と、配布先の対象露光装置（装置 B) との型式が異なる場合、レシビデ一夕中に装置 Aでは必要であるが装置 Bでは不要となるデー夕が存在したり、設定値を対象装置に合わせて変更する必要が生じる。変換テーブルは、このような型式の違いに対応するように、レシピデ一夕べ一ス中に記憶されているレシピデータが想定する対象露光装置と、配布先の対象露光装置との型式の違いに応じてレシピデータを変換するための情報を記憶している。次に「号機の変換」とは、前述した号機の違いに対応するものである。すなわち、元々露光装置 Aを対象に想定して作成されたレシピデ一夕ベースのレシピデータを、装置 Aとは異なる装置 Bへ配布する場合、装置 Aと装置 Bとでは誤差やクセが異なることを考慮する必要がある。変換テーブルは、このような号機の違いに対応するように、レシピデータベースのレシピデ一夕を号機毎に変換するための情報を記憶している。レシピ変換部 1 1 1は、図 8に示すレシピデータを上から順に 1行ずつ読み出し、該当するパラメータ名を図 1 2に示す変換テーブルから探し出し、該当する書式で変換を行うという動作をレシピデータの最後のパラメータまで実行することによりレシピデータを露光装置の夕イブに合致したデータに変換する。図 1 8にこの変換によって得られるレシビデ一夕の構成を示す。変換されたレシピデータは、「ヘッダ情報」、「レチクルデ一夕」、「ウェハデータ」、「露光データ」、「ショットマップデータ」からなり、露光装置の型式毎に異なる書式で表現される。

続いて、レシピ変換部 1 1 1は、変換によって得られたレシビデ一夕をレシピ配布部 1 1 0へ返す。これを受けて、レシピ配布部 1 1 0は、選択された露光装置のネットワークアドレスを機種変換データベース 1 1 8より読み出す。そして、レシピ配布部 1 1 0は、通信部 1 0 2を介して、得られたネットワークアドレスに対して、機種変換によって得られたレシビデ一夕を送信する（ステップ S 4 5 )。

このように、選択された露光装置に合致した書式で表現されたレシピデー夕に変換し、この変換されたレシピデ一夕をオンラインで露光装置 1 4 0に対して送信するようにしたため、変換ミスや送信ミスを減らすことが可能となる。

次に、図 1 3を参照して、定型デ一夕編集部 1 1 2が定型データの作成、編集を行う動作を説明する。

まず、定型デ一夕編集部 1 1 2は、編集機能を選択するように出力部 1 0 4へ指示を表示し、これに対して、作業者は、「入力」、「修正」、「削除」のいずれかを選択して、入力部 1 0 3から指定する。これを受けて、定型データ編集部 1 1 2 は、選択された機能を判定する（ステップ S 5 1 )。

この判定の結果「入力」が指定された場合、定型データ編集部 1 1 2は、入力部 1 0 3より作業者によって入力されたパラメ一夕名とパラメータ値を入力する (ステップ S 5 2 )。また、「修正」が指定された場合、定型データ編集部 1 1 2 は、入力部 1 0 3より作業者によって選択された定型データを読み出す（ステツプ S 5 3 )。そして、読み出された定型データに対して、入力部 1 0 3からの指示に基づいて修正を加える（ステップ S 5 4 )。続いて、定型データ編集部 1 1 2は、入力された定型データまたは修正が加えられた定型データを定型データベース 1 1 9へ登録する（ステップ S 5 5 )。ここで作成、編集された定型データは、前述したレシピデ一夕生成時に利用される。一方、「削除」が指定された場合、、定型デ一夕編集部 1 1 2は、入力部 1 0 3より作業者によって選択された定型デ一夕を定型デ一夕ベース 1 1 9上から削除する（ステップ S 5 6 )。

ここで、図 1 4を参照して定型データベース 1 1 9のテーブル構造を説明する。定型データベース 1 1 9は、「パラメータ名」と「初期値」のフィールドを有し、入力された順にパラメ一夕名と初期値が記憶される。定型データは、雛形データであるため必ずしも全てのパラメータ名について初期値を入力する必要はなく、作業者が必要に応じて任意に入力すればよい。また、パラメータ名のみを入力し、初期値は「空白」にしておき、レシピデータ生成時にレチクル情報データによつて置き換えてもよいし、改めて入力するようにしてもよい。

次に、図 1 5を参照して、パーツデータ編集部 1 1 3がパ一ッデ一夕の作成、編集を行う動作を説明する。

まず、パーツデータ編集部 1 1 3は、編集機能を選択するように出力部 1 0 4 へ指示を表示し、これに対して、作業者は、「入力」、「修正」、「切り出し」、「削除」のいずれかを選択して、入力部 1 0 3から指定する。これを受けて、パーツデー夕編集部 1 1 3は、選択された機能を判定する（ステップ S 6 1 )。

この判定の結果「入力」が指定された場合、パーツデータ編集部 1 1 3は、入力部 1 0 3より作業者によって入力されたパーツデータを入力する（ステップ S 6 2 )。また、「修正」が指定された場合、パ一ッデ一夕編集部 1 1 3は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたパ一ッデ一夕を読み出す（ステップ S 6 3 )。そして、読み出されたパーツデータに対して、入力部 1 0 3からの指示に基づいて修正を加える（ステップ S 6 4 )。また、「切り出し」が指定された場合、パーッデータ編集部 1 1 3は、入力部 1 0 3より作業者によって選択されたレシピデ一夕をレシビデ一夕ベース 1 1 7より読み込む（ステップ S 6 5 )。そして、読み出されたレシピデータから必要部分を切り出してパーツデータとする（ステップ S 6 6 )。続いて、パーツデータ編集部 1 1 3は、入力されたパーツデータ、修正が加えられたパーツデータまたはレシピデータから切り出されたパーツデータをパーツデータべ—ス 1 ₂ 0へ登録する（ステップ s 6 7 )。ここで作成、編集されたパーツデ一タは、前述したレシピデー夕生成時に利用される。

一方、「削除」が指定された場合、パーツデータ編集部 1 1 3は、入力部 1 0 3 より作業者によって選択されたパーツデ一夕をパーツデータベース 1 2 0上から削除する（ステップ S 6 8 )。

ここで、図 1 6を参照してパーツデータベース 1 2 0のテ一ブル構造を説明する。

パーツデータベース 1 2 0は、「パラメ一夕名」と「初期値」のフィールドを有している点は定型デ一夕ベースと共通しているが、パーツデータは、レシビデ一夕を構成する「レチクルデータ」（図 1 6 A)、「ウェハデータ」（図 1 6 B)、「露光データ」（図 1 6 C)、「ショットマップデ一夕」 (図 1 6 D) の 4つのデータ群毎に記憶されている点が異なり、パーツデ一タベース 1 2 0に対する入出力は、このデータ群の単位で行われる。定型デ一夕がレシビデ一夕生成時の雛形データとして用いられるのに対して、パーツデータは、レチクルの条件が同じ時などにレチクルデータのみを以前に作成したデータに置き換える場合などに利用される。また、以上で説明した構成では、定型データ上に、レチクルデータ情報やパーッデ一夕を上書きすることで、レシピデータを生成する例を示したが、本発明は、このような構成に限定されるものではなく、パーツデータを寄せ集めてパーツデ一夕を作成することや、パーツデータを寄せ集めたものに作業者による手入力情報を加えてレシピデ一夕を完成させることも本発明の範囲に含まれる。

また、以上では、レシビデ一夕が「レチクルデ一夕」「ウェハデータ」「露光デ一夕」「ショットマップデータ」から構成され、レシピデータも「レチクルデータ」「ウェハデータ」「露光デ一夕」「ショットマップデータ」のデ一夕群の単位に分類される例を示したが、データの分類方法は、これに限定されるものではない。例えば、「ウェハデータ」としてはウェハ形状に関する情報が含まれており、ショットマップはウェハ形状にも関係するものであるため「ショットマップ」に関係するデ一タを「ウェハデータ」に含めて 1つのパーツとすることも可能である。あるいは、「ウェハデータ」中のウェハ形状に関係する情報としてはウェハが円形ウェハか、矩形ウェハか、ウェハ方向認識のためにオリエンテーションフラットが形成されているか、ノツチが形成されているか、及び、ウェハのサイズなどが含まれる。これら、複数種類の情報を、「ウェハ形状データ」として 1つパーツとすることも、それぞれを別パーツとすることも可能である。要は、レシピ生成の実状に鑑みて、レシピデ一夕作成の旅に繰り返し入力するような部分をパーツデ一夕として蓄積すればよい。

次に、前述のようにして構成された本実施形態の露光装置における露光工程の動作について説明する。

この露光工程は、レシピ生成システム 1 0 1で生成されたレシピに従って主制御装置 5 0が露光装置の各構成部分を制御することにより実行される。

まず、不図示のレチクル搬送系によりレチクル Rが搬送され、ローデイングポジシヨンにあるレチクルステージ R S Tに吸着保持される。次いで、主制御装置 50の指示の下、ステージ制御装置 70によりゥェ八ステージ WST及びレチクルステージ RSTの位置が制御され、主制御装置 50により、レチクル R上に形成された不図示のレチクルァライメントマークの投影像（空間像）が空間像計測装置 59を用いて計測され、レチクルパターン像の投影位置が求められる。すなわち、レチクルァライメントが行われる。

次に、ステージ制御装置 70により、主制御装置 50からの指示に応じて空間像計測装置 59を構成するスリット板 90がァライメント系 AL Gの直下へ位置するように、ウェハステージ WSTが移動され、ァライメント系 ALGによって空間像計測装置 59の位置基準となるスリット 22が検出される。主制御装置 5 0では、このァライメント系 ALGの検出信号及びそのときのウェハ干渉計 54 Wの計測値、並びに先に求めたレチクルパターン像の投影位置に基づいて、レチクル Rのパターン像の投影位置とァライメント系 ALGとの相対位置、すなわちァライメント系 ALGのべ一スライン量を求める。

かかるベースライン計測が終了すると、主制御装置 50により、例えば特開昭 61 -44 29号公報などに詳細に開示される EGA (ェンハンスト ·グロ一ノレ'ァライメント）等のウェハァライメントが行われ、ウェハ W上の全てのシヨット領域の位置が求められる。なお、このウェハァライメントに際して、ゥ工ハ W上の複数のショット領域のうちの予め定められた所定のサンプルショットのウェハァライメントマークがァライメント系 ALGを用いて計測される。

次いで、主制御装置 50では、先に求めたウェハ W上の各ショット領域の位置情報及びベースライン量に基づいて、ステージ制御装置 70を介して干渉計 54 W、 54 Rから送られる位置情報をモニタしつつ、ステージ制御装置 70に指示を出す。そして、ステージ制御装置 70は、ウェハステージ WSTを第 1ショット領域の走査開始位置に位置決めするとともに、レチクルステージ R S Tを走査開始位置に位置決めして、その第 1ショット領域の露光のための両ステージ RS T, WSTの移動（走査）を開始する。

そして、ステージ制御装置 70では、両ステージ RST、 WSTがそれぞれの目標走査速度に達すると、照明光 I Lによってレチクル Rのパターン領域が照明され始め、走査露光が開始される。ステージ制御装置 7 0では、特に上記の走査露光時にレチクルステージ R S T の Y軸方向の移動速度 V rとウェハステージ WS Tの X軸方向の移動速度 Vwとが投影光学系 P Lの投影倍率に応じた速度比に維持されるように、レチクルステージ R S T及びウェハステージ WS Tを同期制御する。

そして、レチクル Rのパターン領域の異なる領域が紫外パルス光で逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウェハ W上の第 1シヨット領域の走査露光が終了する。これにより、レチクル Rの回路パターンが投影光学系 P Lを介して第 1ショット領域に縮小転写される。

こうして第 1ショット領域の走査露光が終了すると、主制御装置 5 0の指示の下、ステージ制御装置 7 0によって、ウェハステージ WS Tを第 2ショット領域の走査開始位置へ移動させるショット間のステッピング動作を行う。そして、その第 2ショット領域の走査露光を上述と同様にして行う。以後、第 3ショット領域以降も同様の動作を行う。

このようにして、ショット間のステツピング動作とショットの走査露光動作とが繰り返され、ステップアンドスキャン方式でウェハ W上の全てのショット領域にレチクル Rのパターンが転写される。

ここで、上記の走査露光中に、前述した多点焦点位置検出系（6 0 a、 6 0 b ) の出力に基づくォ一トフォ一カス、オートレべリングが主制御装置 5 0により実行される。

ところで、走査露光中に、レチクル Rのパターンがウェハ W上のショット領域に精度良く転写されるためには、上記のオートフォーカス、ォ一トレべリングが精度良く行われ、ウェハ Wの露光領域が投影光学系 P Lの結像面に実質的に一致した状態で露光が行われる必要がある。そのためには、投影光学系 P Lのべストフォーカス位置（最良結像位置)、最良結像面の像面形状が精度良く計測されていること、及びべストフォーカス位置の計測結果に基づいて多点焦点位置検出系（ 6 0 a、 6 0 b ) のキャリブレーションが行われていることが必要となる。本実施形態では、主制御装置 5 0が、ベストフォーカス位置の計測結果に基づいて、例えば多点焦点位置検出系（6 0 a、 6 0 b ) の検出オフセットを設定するか、受光系 6 0 b内の図示しない平行平板の反射光束の光軸に対する傾きを制御して多点焦点位置検出系（60 a、 60b) の原点（検出基準点）の再設定を行うことにより、キャリブレーションを行うようになっている。これに限らず、検出信号に電気的オフセッ卜を与えることにより、キャリブレーションを行うことも可能である。

本実施形態では、上記の投影光学系 PLの像面形状の計測（ベストフォーカス位置の計測を含む）に、空間像計測装置 59が用いられる。以下、この像面形状の計測について説明するが、それに先立って、空間像計測装置 59を用いた空間像計測について説明する。

図 22には、空間像計測装置 59を用いて、レチクル Rに形成された計測マ一ク PMyの空間像が計測されている最中の状態が示されている。レチクル Rとしては、空間像計測専用のもの、あるいはデバイスの製造に用いられるデバイスレチクルに専用の計測用マークを形成したものなどが用いられる。これらのレチクルの代わりに、レチクルステージ RSTにレチクルと同材質のガラス素材から成る固定のマーク板（レチクルフイデュ一シャルマーク板とも呼ばれる）を設け、このマーク板に計測用マ一ク（計測マーク）を形成したものを用いても良い。ここで、レチクル Rには、所定の箇所に Y軸方向に周期性を有するライン部の幅とスペース部の幅の比（デューティ比）が 1 ： 1のラインアンドスペース（L /S) マ一クから成る計測マーク PMyと X軸方向に周期性を有するデューティ比が 1 ： 1の LZSマークから成る計測マーク PMxが相互に近接して形成されているものとする。これら計測マーク PMy， PMxは同一線幅のラインパターンから成る。また、空間像計測装置 59を構成するスリット板 90には、 Y軸方向に伸びる所定幅のスリットと、 X軸方向に伸びる所定幅のスリットとが、所定の位置関係で形成されているものとする。

例えば、計測マーク PMyの空間像の計測にあたり、主制御装置 50により、図 20に示される可動レチクルブラインド 30Bが不図示のブラインド駆動装置を介して駆動され、照明光 I Lの照明領域が計測マーク PM部分を含む所定領域に制限される（図 22参照)。この状態で、主制御装置 50により光源 14の発光が開始され、照明光 I Lが計測マーク PMyに照射されると、計測マーク PMy によって回折、散乱した光（照明光 I L) は投影光学系 PLにより屈折され、該投影光学系 PLの像面に計測マーク PMyの空間像（投影像）が形成される。このとき、ウェハステージ WSTは、スリット板 90上のスリットの + Y側（又は一 Y側）に計測マーク PMyの空間像 PMy' が形成される位置に設定されているものとする。

そして、主制御装置 50の指示の下、ステージ制御装置 70により、ウェハステージ WSTが +Y方向に駆動されると、スリットが空間像 PMy' に対して Y 軸方向に走査される。この走査中に、スリットを通過する光（照明光 I L) がゥェハステージ WS T内の受光光学系、ウェハステージ WS T外部の反射ミラー 9 6及び受光レンズ 89を介して光センサ 24で受光され、その光電変換信号 Pが図 20に示される信号処理装置 80に供給される。信号処理装置 80では、その光電変換信号に所定の処理を施して、空間像 PMy' に対応する光強度信号を主制御装置 50に供給する。なお、この際、信号処理装置 80では、光源 14からの照明光 I Lの発光強度のばらつきによる影響を抑えるために、図 20に示されるインテグレ一夕センサ 46の信号により光センサ 24からの信号を規格化した信号を主制御装置 50に供給するようになっている。

計測マーク PMxの空間像を計測する場合には、ウェハステージ WSTを、スリット板 90上のスリット 22 Xの + X側（又は— X側）に計測マーク PMxの空間像が形成される位置に設定して、上記と同様のスリツトスキヤン方式による計測を行うことにより、計測マーク PMxの空間像に対応する光電変換信号（光強度信号）を得ることができる。図 23に主制御装置 50の像面計測時の主要な制御動作をフローチャート（ステップ S 102〜S 130) で簡単に示す。次に、図 19を参照して、他の実施形態を説明する。

図 19は、半導体製造を行う工場内に備えられた各装置の構成を示すブロック図である。

この図において、符号 170は、図 1に示す各装置が備えられた半導体製造ェ場であり、ル一夕 151を介して、ネットヮ一ク 150が公衆網 160に接続される。符号 180は、レチクル設計を主に行う工場であり、レチクル設計 CAD システム 131、 132がネットワーク 154に接続される。また、ネットヮーク 154は、ルータ 152を介して公衆網 160に接続される。符号 190は、半導体製造を主に行う工場であり、 3台の露光装置 1 4 1、 1 4 2、 1 4 3がネットワーク 1 5 5で接続され、さらにこのネットワーク 1 5 5は、ル一夕 1 5 3 を介して公衆網 1 6 0に接続される。

図 1 9を参照して、半導体製造時の情報の授受を説明する。

まず、レチクル設計 C ADシステム 1 3 1、 1 3 2において、レチクル設計作業が行われ、設計作業が終了した時点で、レチクル設計情報を公衆網 1 6 0を経由してレシピ生成システム 1 0 1へ転送する。レシピ生成システム 1 0 1においては、前述した動作によってレシピデ一夕生成が行われる。そして、公衆網 1 6 0を経由して、生成されたレシビデ一夕が各露光装置 1 4 1、 1 4 2、 1 4 3へ配布される。

このように、各工場間をネットワークで接続し、レチクル設計情報やレシピデ一夕をオンラインで転送するようにしたため、遠隔地にある複数の工場が連携して半導体製造を行うことができる。また、指示書等の紙による情報伝達媒体を無くすことができ、正確なデータを授受することが可能となるため、迅速に製造ェ程を実行することができる。さらに、情報伝達をオンラインで行うようにしたため、入力ミスや変換ミス等の間違いを低減することが可能となる。

《デバイス製造方法》

次に、上述した露光装置をリソグラフイエ程で使用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。

図 2 4には、デバイス（I Cや L S I等の半導体チップ、液晶パネル、 C C D、薄膜磁気へッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートが示されている。园 2 4に示されるように、まず、ステップ S 2 0 1 (設計ステップ）において、デバイスの機能 ·性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップ S 2 0 2 (レチクル製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。一方、ステップ S 2 0 3 (ウェハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウェハを製造する。

次に、ステップ S 2 0 4 (ウェハ処理ステップ）において、ステップ S 2 0 1 〜ステップ S 2 0 3で用意したレチクルとウェハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウェハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ S 2 0 5 (デバイス組立てステップ）において、ステップ S 2 0 4で処理されたウェハを用いてデバイス組立てを行う。このステップ S 2 0 5には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。

最後に、ステップ S 2 0 6 (検査ステップ）において、ステップ S 2 0 5で作成されたデバイスの動作確認テスト、耐久テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。

また、図 2 5には、半導体デバイスにおける、上記ステップ S 2 0 4の詳細なフロー例が示されている。

図 2 5において、ステップ S 2 1 1 (酸化ステップ）においては、ウェハの表面を酸化させる。ステップ S 2 1 2 (C V Dステップ）においては、ウェハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ S 2 1 3 (電極形成ステップ）においては、ゥェハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ S 2 1 4 (イオン打ち込みステツプ）においては、ウェハにイオンを打ち込む。以上のステップ S 2 1 1〜ステツプ S 2 1 4それぞれは、ウェハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。

ウェハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ S 2 1 5 (レジスト形成ステップ）において、ウェハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ S 2 1 6 (露光ステップ）において、上で説明したリソグラフイシステム（露光装置）及び露光方法によってレチクルの回路パターンをウェハに転写する。次に、ステップ S 2 1 8 (エッチングステップ) において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ S 2 1 9 (レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となつたレジストを取り除く。

これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ゥェハ上に多重に回路パターンが形成される。

以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップ S 2 1 6 ) において上記実施形態の露光装置が用いられるので、精度良くレチクルのパターンをウェハ上に転写することができる。この結果、高集積度のデバィスの生産性（歩留まりを含む）を向上させることが可能になる。

なお、レシピ生成システム 1 0 1が有する機能を実現するための構成要素は、各露光装置 1 4 0、 1 4 1、 1 4 2、 1 4 3にそれぞれ備えられていてもよい。また、基幹装置となる露光装置 1 4 0のみにレシピ生成システム 1 0 1が有する機能を実現するための構成要素が備えられており、露光装置 1 4 0が 3台の露光装置 1 4 1、 1 4 2、 1 4 3にレシピデータを配布するようにしてもよい。なお、図 1における処理部の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することによりレシピ生成処理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、 O Sや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。また、「コンピュータシステム」は、 WWWシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、 R OM、 C D— R OM等の可搬媒体、コンビユータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットヮークゃ電話回線等の通信回線を介してプログラムが送信された場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリ（R AM) のように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。

また、上記プログラムは、このプログラムを記憶装置等に格納したコンピュータシステムから、伝送媒体を介して、あるいは、伝送媒体中の伝送波により他のコンピュータシステムに伝送されてもよい。ここで、プログラムを伝送する「伝送媒体」は、インターネット等のネットワーク（通信網）や電話回線等の通信回線（通信線）のように情報を伝送する機能を有する媒体のことをいう。また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良い。さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル（差分プログラム）であっても良い。産業上の利用の可能性

本発明のレシピ生成システムによれば、露光装置のレシピデ一夕を生成するであって、マスク設計情報データを上位のシステムからオンラインによって取得する上位システム連携手段と、前記マスク設計情報データに基づいて、レシピデ一夕を生成するレシピ生成手段とを備えるので、従来の紙媒体による指示書に基づく手入力から、ネットワークを使用してレチクル設計情報デ一夕を受信するようにしたため、ヒューマンファクタを排除し、正確なレシピデ一夕生成を行うことが可能になるという効果を有する。

また、同時にレシピデータ生成の作業工数を大幅に削減することができる。また、正確なレシピデータを使用して露光装置を制御することによりデバイス製造を行うようにしたため、生産性の向上を図ることができるという効果を有する。

Claims

請求の範囲

1 . 露光装置のレシピデータを生成するレシピ生成システムであって、

マスク設計情報データを上位のシステムからオンラインによって取得する上位システム連携手段と、

前記マスク設計情報データに基づいて、レシビデ一夕を生成するレシピ生成手段とを備える。

2 . 請求項 1記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピ生成手段は、既存のレシピデータに対して、必要部分を前記マスク設計情報データに基づくデ一夕で置き換えることにより新たなレシピデ一夕を生成する。

3 . 請求項 1記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピデータは、マスクデータ、ウェハマップデータ、露光条件データおよびショットマップデータからなる。

4. 請求項 1記載のレシピ生成システムであって、

前記マスク設計情報データに基づいて、対象となる露光装置に適したウェハマップデ一タを生成するマツプ配置手段をさらに備える。

5 . 請求項 1記載のレシピ生成システムであって、

露光装置の各々に特有の定型データを記憶する定型データ記憶手段をさらに備え、

前記レシピ生成手段は、前記定型データ記憶手段から読み出した定型データと前記マスク設計情報データとを結合させてレシビデ一夕を生成する。

6 . 請求項 5記載のレシピ生成システムであって、

前記定型データ記憶手段に記憶されている定型データを編集する定型データ編集手段をさらに備える

7 . 請求項 1記載のレシピ生成システムであって、

生成された前記レシピデータを蓄積するレシピデ一夕ベースをさらに備え、生成されたレシピデ一夕は、一元管理される。

8 . 請求項 7記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピデ一夕ベースに蓄積されているレシビデ一夕を編集するレシピ編集手段をさらに備える。

9 . 請求項 7記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピデータベースに蓄積されているレシピデータを、指示に応じて所定の露光装置に対してオンラインで配布するレシピ配布手段をさらに備える。

1 0 . 請求項 9記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピデータベースに蓄積されているレシピデ一夕を、配布先の露光装置のタイプに応じてレシビデ一夕タイプの変換を行うレシピ変換手段をさらに備える。

1 1 . 請求項 7記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピデ一夕べ一スに蓄積されるレシピデータの最小単位は、マスクデータ、ウェハマップデ一夕、露光条件データおよびショットマップデータのいずれかである。

1 2 . 請求項 8記載のレシピ生成システムであって、

前記レシピ編集手段によつて編集されたレシピデ一夕の編集履歴を記憶する編集履歴記憶手段と、

前記編集履歴に基づいてレシピデータの世代管理を行う履歴管理手段とをさらに備える。 ,1 3 . 露光装置のレシピデ一夕を生成するレシピ生成プログラムであって、マスク設計情報データを上位のシステムからオンラインによって取得する上位システム連携処理と、

前記マスク設計情報データに基づいてレシピデ一夕を生成するレシピ生成処理とをコンピュータに行わせる。

1 4. 請求項 1 3記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピ生成処理は、既存のレシピデ一夕に対して、必要部分を前記マスク設計情報データに基づくデ一夕で置き換えることにより新たなレシビデ一夕を生成する。

1 5 . 請求項 1 3記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピ生成処理は、マスクデータ、ウェハマップデータ、露光条件デ一タおよびショットマップデータからなるレシビデ一夕を生成する。

1 6 . 請求項 1 3記載のレシピ生成プログラムであって、

前記マスク設計情報データに基づいて、対象となる露光装置に適したウェハマップデ一夕を生成するマツプ配置処理を、さらにコンピュータに行わせる。

1 7 . 請求項 1 3記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピ生成処理は、露光装置の各々に特有の定型データを読み出し、この定型データと前記マスク設計情報デ一夕とを結合させてレシピデータを生成する。

1 8 . 請求項 1 7記載のレシピ生成プログラムであって、

記憶されている前記定型データを編集する定型データ編集処理を、さらにコンピュ一夕に行わせる。

1 9 . 請求項 1 3記載のレシピ生成プログラムであって、生成された前記レシピデータを蓄積するレシビデ一夕ベースに蓄え、生成されたレシピデータを一元管理する処理をコンピュータに行わせる。

2 0 . 請求項 1 9記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピデ一夕ベースに蓄積されているレシピデータを編集するレシピ編集処理を、さらにコンビュ一夕に行わせる。

2 1 . 請求項 1 9記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピデータベースに蓄積されているレシピデータを指示に応じて所定の露光装置に対してオンラインで配布するレシピ配布処理を、さらにコンピュータに行わせる。

2 2 . 請求項 2 1記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピデータベースに蓄積されているレシピデ一夕を配布先の露光装置のタイプに応じてレシピデータタイプの変換を行うレシピ変換処理を、さらにコンピュー夕に行わせる。

2 3 . 請求項 1 9記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピデ一夕ベースに蓄積されるレシピデータの最小単位は、マスクデー夕、ウェハマップデータ、露光条件データおよびショットマップデータのいずれかであり、

前記レシピ編集処理は、この最小単位で編集処理を行う。

2 4. 請求項 2 0記載のレシピ生成プログラムであって、

前記レシピ編集処理によつて編集されたレシビデ一夕の編集履歴を記憶する編集履歴記憶処理と、

前記編集履歴に基づいてレシピデータの世代管理を行う履歴管理処理とを、さらにコンピュータに行わせる。

2 5 . デバイス製造方法であって、

請求項 1記載のレシピ生成システムによつて生成されたレシピデ一夕に基づいて制御される露光装置を用いて露光を行う。

2 6 . デバイス製造方法であって、

請求項 1 3記載のレシピ生成プログラムによって生成されたレシピデ一夕に基づいて制御される露光装置を用いて露光を行う。

2 7 . マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光装置であって、

第 1フォーマツトで規定される制御情報に基づいて所定動作部を制御する制御手段を含み、

前記制御手段は、前記第 1フォーマットとは異なる第 2フォ一マツトで規定される前記マスクに関するマスク情報を記憶する記憶手段と情報伝達可能に接続された生成手段が、前記記憶手段に記憶された前記第 2フォーマツトのマスク情報を第 1フォーマツトに変換して生成する第 1フォ一マツトの制御情報に従って、前記所定動作部を制御し、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写する。

2 8 . 請求項 2 7記載の露光装置であって、

所定の照明条件の下で前記マスクを露光ビームで照明する照明手段を備え、前記制御手段は、前記生成手段が前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を第 1フォーマツ卜に変換することで生成する第 1フォーマツ卜の制御情報に従って、前記照明条件を変化させる。

2 9 . 請求項 2 8記載の露光装置であって、

前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源と、前記照明ビームによって照明されるマスク状の照明領域を規定する規定手段とを備え、

前記制御手段は、前記生成手段が生成する第 1フォーマットの制御情報に従つて、前記規定手段を制御する。

3 0 . 請求項 2 8記載の露光装置であって、

前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源と、前記照明ビームの光路上で前記マスクと光学的フ一リエ変換の関係にある前記光路に垂直な瞳面上での前記照明ビームの光量分布を変化させる光量分布変更手段とを備え、

前記制御手段は、前記制御手段が生成する第 1フォーマツ卜の制御手段に従つて、前記光量分布変更手段を制御する。

3 1 . 請求項 2 7記載の露光装置であって、

前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段を備え、前記制御手段は、前記生成手段が生成する第 1フォーマツトの制御情報に従つて、前記投影手段による投影条件を制御する。

3 2 . 請求項 3 1記載の露光装置であって、

前記投影手段は、複数の光学素子を備え、

光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧に基づいて決定される所定の光学特性を有する投影光学系を含み、

前記制御手段は、前記生成手段が生成する第 1フォーマツトの制御情報に従つて、前記投影光学系の光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧を制御する。

3 3 . 請求項 2 7記載の露光装置であって、

前記第 2フォーマツトで規定される前記マスク情報は、前記マスク上の所定パターンに含まれるマークパターンに関する情報を含み、

前記露光装置は、さらに、前記物体上に形成された前記マークパターンを検出することによって前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段を備え、

前記制御手段は、前記生成手段が生成する第 1フォーマツトの制御情報に従つて、前記検出手段による前記物体上のマークを検出する際の検出条件を制御する

3 4. 請求項 3 3記載の露光装置であって、

前記制御手段は、前記マスク情報に含まれる前記マークパターンに関する情報である、前記所定パターン内での前記マークパターンの位置、または、マ一クパターンの形状に関する情報に従って、前記検出条件を制御する。

3 5 . 請求項 3 3記載の露光装置であって、

前記検出手段は、前記マークに対して所定波長の検出ビームを照射することにより、前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段であり、前記露光装置は、さらに、前記検出手段によって検出された前記マスクと前記物体との相対位置情報に基づいて、前記マスクと前記物体との相対位置関係を制御する駆動手段を含み、

前記制御手段は、前記生成手段によって生成された前記第 1フォーマツトの制御情報に従って、前記検出ビームの波長、または、前記駆動手段を制御する。

3 6 . デバイス製造方法であって、

請求項 2 7記載の露光装置を用いて、マスク上に形成されたデバイスパターンを物体上に転写する工程を含む。

3 7 . デバイスであって、

請求項 3 6記載のデバイス製造方法で製造される。

3 8 . 第 1フォーマツトに従って規定される制御情報に基づいて制御される露光装置を含み、マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光システムであって、前記マスクに関するマスク情報を、前記第 1フォーマットとは異なる第 2フォ一マツトで蓄積する記憶手段と、

前記記憶手段と情報通信可能に接続され、前記記憶手段より前記マスク情報を獲得する獲得手段と、前記獲得手段と情報通信可能に接続され、前記獲得手段によつて前記記憶手段より獲得された第 2フォーマットのマスク情報を、前記第 1フォーマットに従つた制御情報に変換し、前記露光装置を制御するための制御情報を生成する生成手段とを備え、

前記露光装置は、前記生成手段によって生成された第 1フォ一マツトの制御情報に応じて、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写する。

3 9 . 請求項 3 8記載の露光システムであって、

前記露光装置は、前記マスクを照明するための照明手段を含み、

前記生成手段は、前記マスク情報に基づいて、前記照明手段による照明条件を制御するための制御情報を生成する。

4 0 . 請求項 3 9記載の露光システムであって、

前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源と、前記照明ピ一ムによって照明されるマスク上の照明領域を規定する規定手段とを備え、

前記生成手段が前記マスク情報に基づいて生成する前記照明手段を制御するための制御情報は、前記規定手段を制御するための制御情報を含む。

4 1 . 請求項 3 9記載の露光システムであって、

前記照明手段は、前記マスクを照明するための照明ビームを発生する光源と、前記照明ビームの光路上で前記マスクと光学的フーリエ変換の関係にある瞳面上での前記照明ビームの光量分布を変化させる光量分布変更手段と ¾備え、前記生成手段が前記マスク情報に基づいて生成する前記露光装置の照明手段を制御するための制御手段は、前記光量分布変更手段を制御するための制御情報を含む。

4 2 . 請求項 3 8記載の露光システムであって、

前記露光装置は、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段を備え、

前記生成手段が、前記マスク情報に基づいて、前記露光装置の投影手段による投影条件を制御するための制御情報を生成する。

4 3 . 請求項 4 2記載の露光システムであって、

前記投影手段は、複数の光学素子を備え、さらに、光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧に基づいて決定される所定の光学特性を有する投影光学系を含み、

前記生成手段は、前記マスク情報に基づいて、前記投影光学系の光学素子間の相対位置関係、または、前記光学素子の間に形成される空間の気圧を制御するための制御情報を生成する。

4 4. 請求項 3 8記載の露光システムであって、

前記マスク情報は、前記マスク上の所定パターンに含まれるマークパターンに関する情報を含み、

前記露光装置は、前記物体上に形成された前記マークパターンを検出することにより、前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段を備え、前記生成手段は、前記マークパターンに関する情報を含むマスク情報に基づいて、前記検出手段による前記物体上のマークを検出する際の検出条件を制御するための制御情報を生成する。

4 5 . 請求項 4 4記載の露光システムであって、

前記マスク情報に含まれる前記マークパターンに関する情報は、前記所定パタ —ン内での前記マークパターンの位置、または、マークパターンの形状に関する情報を含む。

4 6 . 請求項 4 4記載の露光システムであって、

前記検出手段は、前記マークに対して所定波長の検出ビームを照射することにより、前記マスクと前記物体との相対位置情報を検出する検出手段であり、さらに、前記露光装置は、前記検出手段によって検出された前記マスクと前記物体との相対位置情報に基づいて、前記マスクと前記物体との相対位置関係を制御する駆動手段を含み、

前記生成手段は、前記マークパターンに関する情報を含むマスク情報に基づいて、前記検出ビームの波長を制御するための制御情報、または、前記駆動手段を制御するための制御情報を生成する。

4 7 . デバイス製造方法であって、

請求項 3 8記載の露光システムを用いて、前記マスク上に形成されたデバイスパ夕一ンを物体上に転写する工程を含む。

4 8 . デバイスであって、

請求項 4 7記載のデバイス製造方法で製造される。

4 9 . デバイス製造工場であって、

請求項 3 8記載の露光システムと、

デパイス製造用基板に所定処理を施す処理手段とを備える。

5 0 . 請求項 3 8記載の露光システムであって、

前記露光装置と、前記記憶手段と、前記獲得手段と、前記生成手段とのうちの少なくとも 1つは、所定地域に設立された第 1工場に配置され、

前記第 1工場に配置される 1つを除く手段は、前記第 1工場から離れた地域に設立された第 2工場に配置され、

さらに、前記第 1工場に配置された手段と、前記第 2工場に配置された手段との間で情報伝達を行う情報伝達装置を有する。

5 1 ·マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光装置の製造方法であって、前記第 1フォーマツトで規定される制御情報に基づいて所定動作部を制御する制御手段を設け、前記第 1フォーマットとは異なる第 2フォーマツトで規定される前記マスク情報を記憶する記憶手段と前記制御手段とを情報伝達可能に接続し、

前記制御手段が、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を第 1フォーマツトに変換して生成する第 1フォーマツ卜の制御情報に従って、前記所定動作部を制御し、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写するように構成する。

5 2 . 請求項 5 1記載の露光装置の製造方法において、

さらに、マスクを照明するための照明手段を設け、

前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御手段が、前記照明手段で前記マスクを照明する際の照明条件を制御するように構成する。

5 3 . 請求項 5 1記載の露光装置の製造方法において、

さらに、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御情報が、前記投影手段で前記パターンを前記物体上へ投影する際の投影条件を制御するように構成する。

5 4. 請求項 5 1記載の露光装置の製造方法において、

さらに、前記物体上に形成されたマークパターンを検出することによって、前記マスクと前記物体との相対位置関係を検出する検出手段を設け、

前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御手段が、前記検出手段が前記マークパターンを検出する際の検出を制御するように構成する。

5 5 . マスク上の所定パターンを物体上に転琴する露光システムの製造方法であつて、

第 1フォーマツトに従って規定される制御情報に基づいて制御される露光装置を設け、

前記マスクに関するマスク情報を、前記第 1フォーマットとは異なる第 2フォ —マツトで蓄積する記憶手段を設け、

前記記憶手段より前記マスク情報を獲得する獲得手段を前記記憶装置と情報通信可能に接続し、

前記獲得手段によつて前記記憶手段より獲得された第 2フォーマットのマスク情報を、前記第 1フォーマットに従った制御情報に変換し、前記露光装置を制御するための制御情報を生成する生成手段を前記獲得手段と情報通信可能に接続し、前記露光装置が、前記生成手段によって生成された第 1フォーマツトの制御情報に応じて、前記マスク上の所定パターンを前記物体上に転写するように構成する。

5 6 . 請求項 5 5記載の露光システムの製造方法であって、

さらに、前記マスクを照明するための照明手段を設け、

前記生成手段が、前記マスク情報に基づいて、前記露光装置の照明手段による照明条件を制御するための制御情報を生成するように構成する。

5 7 . 請求項 5 5記載の露光システムの製造方法であって、

さらに、前記マスクのパターンを前記物体上へ投影するための投影手段を設け、前記記憶手段に記憶された第 2フォーマツトのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御手段が、前記投影手段で前記パターンを前記物体上へ投影する際の投影条件を制御するように構成する。

5 8 . 請求項 5 5記載の露光システムの製造方法であって、

前記物体上に形成されたマークパターンを検出することによって、前記マスクと前記物体との相対位置関係を検出する検出手段を設け、

前記記憶手段に記憶された第 2フォーマットのマスク情報を変換して生成された第 1フォーマットの前記制御情報に従って、前記制御情報が、前記検出手段が前記マークパターンを検出する際の検出条件を制御するように構成する。

5 9 . 第 1部分命令と第 2部分命令とを含む命令セットに基づいて制御される露光装置を含み、マスク上の所定パターンを物体上に転写する露光システムであつて、

前記第 1部分命令と前記第 2部分命令とのうちの少なくとも一方を、命令セットに含まれない部分命令のままの状態で記憶する記憶手段と、

前記記憶手段から前記部分命令とを読み出し、読み出された前記部分命令を用いて、前記命令セットを生成する生成手段とを備える。

6 0 . 請求項 5 9記載の露光システムであって、

前記部分命令は、複数の命令を含む。

6 1 . 請求項 6 0記載の露光システムであって、

前記記憶手段は、部分命令と共に、複数の部分命令で構成された命令セットを部分命令の 1つとして記憶する。

6 2 . 請求項 5 9記載の露光システムであって、

前記記憶手段は、 1つの命令だけで構成される部分命令を記憶する。

6 3 . 請求項 5 9記載の露光システムであって、

前記生成手段は、前記記憶手段から読み出される複数の部分命令のみで、前記命令セットを生成する。

6 4. 請求項 5 9記載の露光システムであって、

前記生成手段は、命令セットを構成する部分命令の少なくとも一部を入力するための入力手段を備え、

前記記憶手段から読み出される部分命令と、前記入力手段から入力された部分命令の少なくとも一部とを用いて前記命令セットを生成する。

6 5 . 請求項 5 9記載の露光システムであって、

さらに、生成済みの命令セットから、少なくとも 1つの部分命令を取り出し、前記記憶手段に記憶させる取出手段を有する。

6 6 . 請求項 6 5記載の露光システムであって、

前記取出手段は、前記命令セットから、物体の形状に関係した部分命令を取り出す。

6 7 . 請求項 6 5記載の露光システムであって、

前記露光装置は、前記物体上に形成されたマークを用いて前記マスクと前記物体とを位置合わせする位置合わせ手段を含み、

前記取出手段は、前記命令セットから、前記物体上に形成された前記マークに関係する部分命令を取り出す。

6 8 . 請求項 6 5記載の露光システムであって、

前記取出手段は、前記命令セットから、前記マスクの反射率に関係する部分命令を取り出す。

6 9 . デバイス製造方法であって、

請求項 5 9記載の露光システムを用いて、デバイスパターンを物体上に転写する工程を含む。

7 0 . デパイスであって、

請求項 6 9記載のデバイス製造方法で製造される

7 1 . デバイス製造工場であって、

請求項 5 9記載の露光システムと、

デバイス製造用基板に所定処理を施す処理装置とを備える

7 2 . 請求項 5 9記載の露光システムであって、

前記露光装置と、前記記憶手段と、前記生成手段とのうち少なくとも 1つは、所定地域に設立された第 1工場に配置され、

7 3 . 第 1部分命令と第 2部分命令とを含む命令セットに従って作動する露光装置を含み、マスク上の所定パターンを物体上に転写するための露光システムを制御するプログラムであって、

前記第 1部分命令と前記第 2部分命令のうちの少なくとも一方を、命令セットに含まれない部分命令のままの状態で記憶手段に記憶させるステップと、前記記憶手段から読み出された前記部分命令を用いて、前記命令セッ卜を生成するステップとを含む。

7 4. 請求項 7 3記載のプログラムであって、

前記部分命令として、複数の命令を含む部分命令を前記記憶手段に記憶させる。

7 5 . 請求項 7 3記載のプログラムであって、

前記部分命令として、 1つの命令だけで構成される部分命令を前記記憶手段に記憶させる。

7 6 . 請求項 7 3記載のプログラムであって、

前記記憶手段から読み出される複数の部分命令のみで、前記命令セットを生成する。

7 7 . 請求項 7 3記載のプログラムであって、

7 8 . 請求項 7 3記載のプログラムであって、

さらに、生成済みの命令セットから、少なくとも 1つの部分命令を取り出し，前記記憶手段に記憶させるステップを含む。