WO2003027353A1 - Verfahren zur herstellung einer metallschicht auf einem trägerkörper und trägerkörper mit einer metallschicht - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer metallschicht auf einem trägerkörper und trägerkörper mit einer metallschicht Download PDF

Info

Publication number
WO2003027353A1
WO2003027353A1 PCT/DE2002/003201 DE0203201W WO03027353A1 WO 2003027353 A1 WO2003027353 A1 WO 2003027353A1 DE 0203201 W DE0203201 W DE 0203201W WO 03027353 A1 WO03027353 A1 WO 03027353A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
carrier body
conductive particles
layer
adhesive layer
particles
Prior art date
Application number
PCT/DE2002/003201
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Harald Gundlach
Andreas MÜLLER-HIPPER
Ewald Simmerlein-Erlbacher
Original Assignee
Infineon Technologies Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies Ag filed Critical Infineon Technologies Ag
Publication of WO2003027353A1 publication Critical patent/WO2003027353A1/de
Priority to US10/916,321 priority Critical patent/US6984446B2/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/245Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques
    • H05K3/246Reinforcing conductive paste, ink or powder patterns by other methods, e.g. by plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1803Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
    • C23C18/1813Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by radiant energy
    • C23C18/1817Heat
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1803Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
    • C23C18/1824Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by chemical pretreatment
    • C23C18/1837Multistep pretreatment
    • C23C18/1841Multistep pretreatment with use of metal first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1851Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
    • C23C18/1862Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by radiant energy
    • C23C18/1865Heat
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1851Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
    • C23C18/1872Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
    • C23C18/1886Multistep pretreatment
    • C23C18/1889Multistep pretreatment with use of metal first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2026Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by radiant energy
    • C23C18/2033Heat
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2046Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
    • C23C18/2073Multistep pretreatment
    • C23C18/208Multistep pretreatment with use of metal first
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • C25D5/56Electroplating of non-metallic surfaces of plastics
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/102Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by bonding of conductive powder, i.e. metallic powder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24893Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles

Definitions

  • the invention relates to a method for producing a metal layer on a support body, wherein the metal layer can be produced either in a structured form or over the entire surface. Furthermore, the invention relates to a carrier body with a structured or all-over metal layer.
  • An aluminum foil with a thickness of 25 to 50 ⁇ m is laminated onto both sides of a carrier body which consists of a non-conductive material and has a thickness of approximately 30 to 50 ⁇ m. So at first there is one Laminate before, which has a full-surface metallization on the two main sides of the support body.
  • an etch resist lacquer is applied to the sides of the aluminum layers facing away from the main surfaces of the carrier body, which is then exposed to the photolithography. With the subsequent etching step, those areas of the full-surface aluminum layers are etched away that are not required for a conductor run. After the etching resist varnish remaining on the structured metallization has been removed, the desired conductor structure is finished.
  • the metal particles are applied thermally and / or statically and / or magnetically and / or by means of an adhesive layer to the carrier body.
  • the conductive particles can consist, for example, of metal, preferably of copper, iron, nickel, gold, silver, aluminum, brass or an alloy, of graphite or of conductive polymer particles.
  • the particles are preferably in powder form.
  • the carrier body is preferably made of plastic, the surface of the carrier body having adhesive properties.
  • the adhesive properties of the surface of the carrier body made of plastic can be activated, for example, by softening the same.
  • the surface can be softened, for example, by means of thermal radiation, by means of ultrasound or by means of a solvent.
  • the surface of the carrier body can be treated beforehand with a solvent.
  • the conductive particles can also be pretreated with a solvent before they are applied to the carrier body. It is also conceivable to apply the conductive particles to the carrier body together with a solvent.
  • the particles must be applied in such a way that they also cover the entire surface of the support body. Those particles which, when applied to the surface, cannot come into contact with the carrier body itself but, for example, meet other - non-adhesive particles - will not adhere to the carrier body due to the lack of adhesive force.
  • These conductive particles can be reused after removal. The removal can be done for example by suction or by means of gravity.
  • the plastic carrier body covered with the conductive particles is subsequently calendered.
  • the adhesive layer should be chosen such that it is adapted to both the material properties of the carrier body and the conductive particles.
  • the adhesive layer can therefore - also to adapt to mechanical requirements - be made up of two or more layers lying on top of one another, which can consist of different materials.
  • the metal layer only forms in the metallization bath where conductive particles are applied to the carrier body or the adhesive layer.
  • This enables simple structuring of the metal layer, since the fixing of the conductive particles can be used to control the locations at which the metal layer is to be formed.
  • this knowledge requires that the conductive particles should be closely adjacent to one another, that is, if possible, be in electrical contact with one another. If there are gaps between the conductive particles when they are applied, this is harmless as long as the gaps do not exceed a predetermined size, for example the average diameter of a particle. Ideally, however, the conductive particles are applied in such a way that the particles are in contact with one another.
  • the method according to the invention has the advantage that it can be carried out in a simple manner with a relatively small expenditure on equipment.
  • Carrier bodies of any size can be easily provided with a desired metal layer that is safe on the Carrier body is fixed. It is thus readily possible to apply one or more conductive metal layers, optionally made of different materials, to the carrier body.
  • Structurally flat metal layers can be used, for example, in motor vehicle rims or in elements which are used to shield electromagnetic radiation. Structured metal layers are used, for example, in electrical or electronic circuits, such as antenna coils for chip card inlays.
  • Further advantages of the method according to the invention are low costs due to an additive method and at the same time high working speeds. The process can be used with only a small amount of chemicals and is therefore environmentally friendly. Due to the intimate adhesion between the metal layer and the carrier body, extremely high levels of reliability can be achieved. In addition, it is possible to use existing production systems, particularly with regard to galvanization.
  • the invention further proposes a carrier body with a metal layer applied to a surface of the carrier body, in which conductive particles are provided between the metal layer and the surface of the carrier body, the conductive particles being arranged directly on the carrier body, ie without a carrier material embedding them are.
  • an adhesive layer is arranged on the surface of the carrier body, on which the conductive particles are attached by means of adhesion.
  • the particle layer formed by the conductive particles can have any desired height.
  • a particle layer with a thickness of less than 5 ⁇ m is sufficient to be able to form a metal layer of any desired thickness on the carrier body.
  • the smaller the thickness of the particle layer the smaller the thickness of the entire carrier body with the metal layer applied thereon.
  • the carrier body can have any surface shape. In many cases, the carrier body will have a planar surface. However, it is also easily possible to produce the metal layer on a curved or completely three-dimensional surface.
  • the carrier body has a particle layer formed by conductive particles on each of two opposite surfaces, on each of which a metal layer is arranged and in the area of which an opening is provided through the carrier body, at least the walls the opening is lined with a conductive layer which is in electrical contact with the metal layers on the surfaces of the carrier body and the conductive layer is formed in the same process step as the metal layers during electroplating.
  • FIG. 1 shows in section a section of a carrier body 10, on the surface 12 of which an adhesive layer 14 has been applied in a first method step.
  • conductive particles 16 were applied closely to one another on the optionally structured adhesive layer 14.
  • the conductive particles 16 have a round cross section.
  • the cross section of the conductive particles could be of any design.
  • the conductive particles 16, which consist for example of copper, iron, Nikkei, gold, silver, aluminum, brass, or any other alloy, are fixed to the adhesive layer 14.
  • the conductive particles could also be graphites or polymers which are in powder form and are applied, for example, by means of inflation, spraying, spraying, rolling or brushing.
  • the conductive particles 16 are fixed to the adhesive layer 14, for example, by applying the particles 16 during a phase in which the adhesive layer 14 has not yet hardened. Another possibility is to first harden the lacquer layer 14 arranged on the surface 12 of the carrier body 10 and at a later time by means of a suitable solvent, by means of ultrasound or by means of thermal radiation. softening, after which the conductive particles are applied closely side by side. After the softened adhesive layer 14 has hardened, the particles 16 are then fixed to the adhesive layer 14, wherein, as can be seen from FIG. 1, they are pressed slightly into the latter.
  • this can be done by inflating, spraying, spraying, rolling up or brushing on. It is also conceivable to provide the metal particles with a solvent before they are applied to the surface of the carrier body. After the softening zone 20 has solidified, the conductive particles 16 are fixed on the surface 12 of the carrier body 10.
  • Structuring of the metal layer 18 is possible in the second embodiment in that the surface of the carrier body is softened in accordance with the desired structure. In the non-softened areas of the surface there is no adhesion between the conductive particles 16 and the surface 12 of the carrier body 10, so that no metal layer is formed at these points in the subsequent metallization bath.
  • a structuring could also take place in that the entire carrier body is charged with metal particles and then the desired structures are generated with ultrasound, thermal energy or the like by fusing the conductive particles with the adhesive layer or the carrier body. The superfluous particles can then be washed off or suctioned off, for example.
  • the carrier body prepared according to FIG. 1 or 2, that is to say provided with the conductive particles 16, is then introduced into a metallization bath in order to produce the metal layer 18 chemically and / or galvanically on the closely spaced conductive particles 16.
  • the metal layer 18 is, for example, a copper, aluminum or chrome layer.
  • the metal layer 18 can of course also consist of any other desired metal, such as copper, silver or the like.
  • FIG. 3 shows a third exemplary embodiment, in which, in addition to the surface 12, the opposite surface 12a of the carrier body 10 is also provided with an adhesive layer 14a, on which conductive particles 16a are arranged. Furthermore, the carrier body has an opening 20 which extends completely through it. The opening 20 is also provided in the adhesive layers 14 and 14a.
  • the metal layer 18 or 18a is formed not only in the area of the conductive particles 16, but also in the interior of the opening 20. At least the walls of the opening 20 are lined with a conductive layer 22. In the present exemplary embodiment, an area 24 remains which is not filled by the conductive layer 22. The size D of the area 24 or whether the area 24 is present is determined by the diameter D of the opening 20.
  • the electrical connection of the metal layers 18 and 18a by means of the conductive layer 22 is ensured in any case if the thickness of the carrier body 10 is not larger than 100 ⁇ m. If the wall of the opening is provided with an adhesion promoter and thus with metal particles, the thickness of the carrier body does not matter. In the case of a stamping process which takes place after the metal particles have been applied, the metal particles are drawn into the opening, as a result of which an electrical connection is formed between the metal layers 18, 18a during electroplating.
  • the exemplary embodiment shown in FIG. 3 can be used advantageously in the manufacture of antenna coils for contactless chip cards, since there is regularly a need for two-sided metallization of the carrier body.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

Die Erfindung beschreibt ein Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Trägerkörper, bei dem in einem ersten Schritt auf eine Oberfläche des Trägerkörpers (10) leitfähige Partikel (16) aufgebracht werden, so dass diese an dem Trägerköper fixiert sind und in einem zweiten Schritt der Trägerkörper mit den Partikeln in eine Metallisierungsbad unter Ausbildung der Metallschicht (18) chemisch und/oder galvanisch metallisiert wird. Die leitfähigen Partikel werden dabei freiliegend, das heisst ohne ein diese einbettendes Einbettungsmaterial, auf dem Trägerkörper angeordnet. Das erfindungsgemässe Verfahren ermöglicht sowohl die Herstellung ganzflächiger Metallschichten als auch strukturierter Metallschichten.

Description

Beschreibung
Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Trägerkörper und Trägerkörper mit einer Metallschicht
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Tragerkorper, wobei die Metallschicht entweder in strukturierter Form oder ganzflächig erzeugt werden kann. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Trägerkörper mit einer strukturierten oder ganzflächigen Metallschicht.
Zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Tr gerkorper sind aus dem Stand der Technik diverse Verfahren bekannt . Viele dieser Vorschläge beschäftigen sich damit, auf welche Weise strukturierte Metallschichten, zum Beispiel in Form von Antennen- oder Flachspulen hergestellt werden können. Unter dem Begriff der „strukturierten Metallisierung" sollen nachfolgend alle denkbar möglichen Verläufe von Leiterzügen verstanden werden. Die genannten Antennenspulen finden beispielsweise Einsatz in sogenannten Kontaktlos-Chipkarten oder RFID-Tags. Verwendet werden derartige Antennen, die nicht ausschließlich einen spulenfδrmigen Verlauf aufzuweisen brauchen (zum Beispiel Dipol-Antennen) , auch in Sicherungsetiketten im Kaufhaus; Eine strukturierte Metallisierung kann nach obiger Definition ferner jedes Leiterzuglayout sein, welches beispielsweise zur Verbindung mehrerer elektronischer Bauelemente auf einer Leiterplatte benötigt wird.
Ein bekanntes Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht auf einem Tragerkorper, wie es bei der Fertigung einer Antennenspule für eine Kontaktlos-Chipkarte durchgeführt wird, soll nachfolgend kurz beschrieben werden.
Auf einen Trägerkörper, der aus einem nicht-leitenden Material besteht, und eine Dicke von zirka 30 bis 50 μm aufweist, werden beidseitig jeweils eine Aluminium-Folie mit einer Stärke von 25 bis 50 μm auflaminiert . Zunächst liegt also ein Laminat vor, welches eine vollflächige Metallisierung auf den beiden Hauptseiten des Trägerkörpers aufweist. Zur Herstellung der strukturierten Metallisierung wird auf die von den Hauptflächen des Trägerkörpers abgewandten Seiten der Aluminiumschichten ein Atzresistlack aufgebracht, der anschließend photolithografisch belichtet wird. Mit dem nachfolgenden Ätzschritt werden diejenigen Bereiche der ganzflächigen Aluminiumschichten weggeätzt, die für eine Leiterzugführung nicht benötigt werden. Nach dem Entfernen des auf der strukturierten Metallisierung verbliebenen Ätzresistlacks ist die gewünschte Leiterstruktur fertiggestellt. Das beschriebene Verfahren, das sich eines substraktiven Prinzips bedient, weist den Nachteil auf, daß nur geringe Durchsatzraten erzielbar sind, ein hoher Chemikalienverbrauch notwendig ist und große Teile der eingesetzten Rohmaterialien (Aluminium-Schicht) aufgrund des substraktiven Verfahrens verschwendet werden. Ein derartiges Verfahren ist beispielsweise aus der DE 196 29 269 AI bekannt.
Ein alternatives Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht besteht darin, Leitpasten, die mit leitfähigen Metallpartikeln versehen sind, bereits in strukturierter Form auf einen Trägerkörper aufzubringen. Das Aufbringen kann dabei durch einen Druckvorgang erfolgen. Beispiele hierfür sind in WO 99/65002, DE 198 41 804 oder WO 97 21118 angegeben.
Leitpasten weisen den Nachteil auf, daß diese einen hohen elektrischen Widerstand aufweisen. Darüber hinaus sind diese in der Regel sehr teuer, da die leitfähigen Partikel üblicherweise aus Silber bestehen und der Anteil des Silbers an der Leitpaste über 90 % beträgt. Aufgrund des hohen elektrischen Widerstandes ist es darüber hinaus notwendig, eine galvanische Verstärkung vorzunehmen, so daß sich auf der Leitpaste eine leitfähige Schicht, zum Beispiel aus Kupfer, bildet, die später die eigentliche elektrische Funktion übernimmt. Die in der Leitpaste befindlichen leitfähigen Partikel dienen folglich lediglich dazu, durch einen Galvanisiervorgang das Aufwachsen der Metallschicht zu ermöglichen. Neben den hohen Kosten macht sich zusätzlich die hohe Dicke von > 50 μm der Leitpaste bemerkbar, wodurch sich die Dicke des Aufbaus, bestehend aus Tragerkorper und Metallschicht, erhöht.
Ein anderes Verfahren ist in der DE 198 10 809 Cl angegeben. Dort wird auf der Oberseite einer Trägerfolie eine Metallpulverschicht aufgebracht und die mit dem Metallpulver bedeckte Oberseite der Trägerfolie anschließend mittels elektromagnetischer Strahlung an den Stellen mittels einer Abbildungseinheit belichtet, die den Leiterbahnen der vorgegebenen Leiterstruktur entsprechen. Dabei wird das Metallpulver in den von der elektromagnetischen Strahlung belichteten Bereichen aufgeschmolzen, so daß sich das aufgeschmolzene Metallpulver mit der Trägerfolie fest verbindet. Anschließend wird die Trägerfolie um eine Umlenkrolle geführt, so daß die Oberseite der Trägerfolie nach unten orientiert ist, wobei das nicht mit der Trägerfolie verbundene Metallpulver sich aufgrund der Schwerkraftwirkung von dieser ablöst, so daß lediglich die strukturierte Metallschicht auf der Trägerfolie verbleibt. Das sich ablösende Metallpulver wird aufgefangen und zur Wiederverwendung zurückgegeben. Es dürfte unwahrscheinlich sein, daß sich all das nicht aufgeschmolzene Metallpulver aufgrund der Schwerkraftwirkung von der Oberseite ablöst, so daß ein Nacharbeiten notwendig ist.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht deshalb darin, ein Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Trägerkörper anzugeben, mit welchem es vergleichsweise einfach und preisgünstig möglich ist, auf einem Trägerkörper eine Metallschicht mit niedrigem elektrischen Widerstand herzustellen. Das Verfahren soll darüber hinaus ebenfalls eine kostengünstige Erstellung strukturierter Metallschichten erlauben. Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, einen Trägerkörper mit einer Metallschicht anzugeben, der einen niedrigen elektrischen Widerstand aufweist und preisgünstig zu fertigen ist.
Diese Aufgaben werden mit dem Verfahren gemäß Anspruch 1 sowie mit dem Trägerkörper gemäß Anspruch 16 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich jeweils aus den abhängigen Ansprüchen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Trägerkörper sieht vor,
- auf eine Oberfläche des Trägerkδrpers leitfähige Partikel aufzubringen, so daß diese an dem Trägerkörper fixiert sind, und
- den Trägerkörper mit den Partikeln in einem Metallisierungsbad unter Ausbildung der Metallschicht chemisch und/oder galvanisch zu metallisieren.
Der Schritt des Aufbringens der leitfähigen Partikel auf eine Oberfläche des Körpers erfolgt dabei nicht unter Zuhilfenahme einer Einbettungsmasse, die die leitfähigen Partikel umgeben, wie dies beispielsweise bei den Leitpasten der Fall ist. Vielmehr werden die leitfähigen Partikel "freiliegend", also ohne ein diese umgebende Einbettungsmaterial, auf die Oberfläche des Trägerkörpers aufgebracht. Das Aufbringen kann dabei beispielsweise durch Aufblasen, Aufspritzen, Aufsprühen, Aufrollen oder Aufpinseln erfolgen. Selbstverständlich sind auch andere Möglichkeiten denkbar, mit denen sichergestellt ist, daß die "freiliegenden" Metallpartikel derart auf die Oberfläche des Trägerkörpers aufgebracht werden, so daß diese an dem Trägerkörper fixiert sind.
Um eine ausreichende Haftung der leitfähigen Partikel auf der Oberfläche des Trägerkörpers zu erzielen, können die Metall- partikel thermisch und/oder statisch und/oder magnetisch und/oder mittels einer Haftschicht auf den Trägerkörper aufgebracht werden. Die leitfähigen Partikel können beispielsweise aus Metall, vorzugsweise aus Kupfer, Eisen, Nickel, Gold, Silber, Aluminium, Messing oder einer Legierung, aus Graphiten oder aus leitfähigen Polymerpartikeln bestehen. Die Parikel liegen bevorzugt in Pulverform vor.
In einer ersten Variante besteht der Tragerkorper vorzugsweise aus Kunststoff, wobei die Oberfläche des Trägerkörpers ad- häsive Eigenschaften aufweist. Die Aktivierung der adhäsiven Eigenschaften der Oberfläche des aus Kunststoff bestehenden Trägerkörpers kann beispielsweise durch Erweichen desselben erfolgen. Das Erweichen der Oberfläche kann beispielsweise mittels thermischer Strahlung, mittels Ultraschall oder mittels eines Lösungsmittels erfolgen. Die Oberfläche des Trägerkörpers kann hierzu vorab mit einem Lösungsmittel behandelt sein. Alternativ oder zusätzlich können die leitfähigen Partikel auch mit einem Lösungsmittel vorbehandelt werden, bevor sie auf den Tragerkorper aufgebracht werden. Denkbar ist auch, die leitfähigen Partikel gemeinsam mit einem Lösungsmittel auf den Trägerkörper aufzubringen.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, den aus einem Kunststoff bestehenden Trägerkörper aus einem Extruder auszugeben und die Oberfläche des Trägerkörpers nach dem Austritt aus dem Extruder mit den leitfähigen Partikeln zu bedecken. Nach dem Ausgeben des Kunststoffes aus dem Extruder befindet sich der Kunststoff in einem noch nicht ausgehärteten Zustand. Werden die leitfähigen Partikel auf die Oberfläche des Trägerkörpers geblasen oder geschleudert, aufgesprüht, aufgerollt oder aufgepinselt, so können die leitfähigen Partikel zum Teil in die Oberfläche des Trägerkörpers eindringen, wodurch eine derartige Haftung der Partikel auf dem Trägerkörper erreicht wird, daß diese nach dem Aushärten des Trägerkörpers nicht mehr von diesem ohne weitere Einwirkung mechanischer Kräfte abgelöst werden können. Soll eine ganzflächige Metallisierung der Oberfläche des Trägerkörpers erfolgen, so muß das Aufbringen der Partikel derart erfolgen, daß diese auch die gesamte Oberfläche des Trägerkörpers bedecken. Diejenigen Partikel, die beim Aufbringen auf die Oberfläche nicht mit dem Trägerkörpers selbst in Kontakt treten können, sondern beispielsweise auf andere - nicht-adhäsive Partikel - treffen, werden aufgrund der fehlenden Adhäsivkraft auf dem Trägerkörper nicht haften bleiben. Diese leitfähigen Partikel können nach einem Entfernen wieder verwendet werden. Das Entfernen kann beispielsweise durch Absaugen oder mittels Schwerkraftwirkung erfolgen.
Gemäß der ersten Variante ist in einer weiteren Ausgestaltung vorgesehen, den mit den leitfähigen Partikeln bedeckten Kunststoff-Trägerkörper anschließend zu kalandrieren.
In einer anderen Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, auf der Oberfläche des Trägerkörpers eine Haftschicht mit adhäsiven Eigenschaften aufzubringen, auf der die leitfähigen Partikel fixiert werden. Die HaftSchicht wird folglich auf die Oberfläche des Trägerkörpers aufgebracht, bevor die leitfähigen Partikel auf die Haftschicht aufgebracht werden und an dieser fixiert sind.
Die Haftschicht sollte dabei derart gewählt sein, daß sie sowohl an die Materialeigenschaften des Trägerkörpers als auch der leitfähigen Partikel angepaßt ist. Die Haftschicht kann deshalb - auch zur Anpassung an mechanische Anforderungen - aus zwei oder mehreren aufeinander liegenden Schichten, die aus unterschiedlichen Materialien bestehen können, aufgebaut sein. Wenn im folgenden von der Haftschicht die Rede ist, ist darunter sowohl eine einschichtige als auch eine mehrschichtige Haftschicht zu verstehen.
Das Vorsehen der Haftschicht auf der Oberfläche des Trägerkörpers weist den Vorteil auf, daß der Trägerkörper aus einem beliebigen Material bestehen kann. Gemäß der Erfindung kann der Trägerkörper aus einem Metall, aus einer Keramik, aus einem Holz, aus einem Stein, aus einem Textil oder ebenfalls wie bei der ersten Variante aus einem Kunststoff bestehen. Die Aufzählung der Materialien des Trägerkδrpers darf keinesfalls als abschließend betrachtet werden, da das erfindungsgemäße Verfahren auf jedem beliebigen Material angewendet werden kann. Als Haftschicht kann ein Kleber, ein Lack, ein Anlegeöl oder auch jedes beliebige andere Material verwendet werden, dessen adhäsive Eigenschaften ausreichend sind, um die durch Aufblasen, Aufspritzen, Aufsprühen, Aufrollen oder Aufpinseln erfolgende Aufbringung und Haftung der leitfähigen Partikel sicherzustellen. Die Aufbringung der Haftschicht kann durch Druck, zum Beispiel Schablonendruck, Siebdruck, Hochdruck, Tiefdruck, Flachdruck oder Tintenstrahldruck, durch Sprühen, eventuell unter Zuhilfenahme von Schablonen, oder durch einen Plotter geschehen.
Bereits aus dieser Aufzählung wird ersichtlich, daß sich das beschriebene Verfahren nicht nur zur Herstellung einer ganzflächigen Metallschicht eignet, sondern das ebenfalls die Herstellung strukturierter Metallschichten auf einfachste Weise möglich ist. Die galvanische Verstärkung, das heißt die Ausbildung der Metallschicht in einem Metallisierungsbad findet nur an denjenigen Stellen statt, an denen leitfähige Partikel auf der Oberfläche des Trägerkδrpers angeordnet sind. Wird die Haftschicht nun in bereits strukturierter Form auf die Oberfläche des Trägerkörpers aufgebracht, so werden die leitfähigen Partikel eben nur an den Stellen fixiert, an denen die Haftschicht aufgebracht ist. An den Stellen, an denen leitfähigen Partikel direkt auf die (keine adhäsiven Eigenschaften aufweisende) Oberfläche des Trägerkörpers treffen, bleiben diese nicht haften. Entsprechend findet an diesen Stellen auch keine Ausbildung der Metallschicht statt.
Wie bei der ersten Variante ist es auch bei der Verwendung einer Haftschicht denkbar, die adhäsiven Eigenschaften dieser Haftschicht erst durch Erweichen der von dem Trägerkörper abgewandten Oberfläche zu aktivieren. Die Aktivierung kann entsprechend durch thermische Strahlung, durch Ultraschall oder durch ein Lösungsmittel erfolgen. Die Aufbringung der leitfähigen Partikel kann dann gemeinsam mit dem Lösungsmittel auf die Haftschicht erfolgen. Natürlich ist es auch bei dieser Variante denkbar, die leitfähigen Partikel mit einem Lösungsmittel vorzubehandeln, bevor sie auf den Trägerkörper aufgebracht wird.
Eine Aktivierung der adhäsiven Eigenschaften der Haftschicht erübrigt sich, wenn die auf der Oberfläche des Trägerkörpers aufgebrachte Haftschicht noch nicht ausgehärtet ist und währenddessen die leitfähigen Partikel eng nebeneinanderliegend auf die Haftschicht aufgebracht werden. Die Fixierung der leitfähigen Partikel ist dann nach dem Aushärten der Haft- schicht sichergestellt. Die Haftschicht könnte auch langzeit- adhäsive Eigenschaften aufweisen oder aus einem dauerelastischen, nicht aushärtendem Material, zum Beispiel Buthyl, bestehen.
Zweckmäßig ist es, wenn die leitfähigen Partikel an die herzustellende Metallschicht chemisch beziehungsweise chemo- physikalisch angepaßt sind.
Das Erweichen der Haftschicht weist den Vorteil auf, daß eine gute Verankerung zwischen dieser und den leitfähigen Partikeln möglich ist. Die Verankerung kann noch dadurch unterstützt werden, daß auf die leitfähigen Partikel nach dem Aufbringen auf den Trägerkörper beziehungsweise die Haftschicht Druck ausgeübt wird. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, daß der Druck mechanisch zum Beispiel über eine Rolle ausgeübt wird.
Das Aufbringen der leitfähigen Partikel, insbesondere wenn es sich um Metallpartikel handelt, erfolgt vorzugsweise oxidfrei unter einer oxidationsverhindernden Umgebung. Es hat sich je- doch herausgestellt, daß Metallpartikel beim Aufbringen auf die Haftschicht oder die Oberfläche des Trägerkörpers häufig bereits oxidiert sind. Mit dem nachfolgenden Metallisierungsbad und der chemischen und/oder galvanischen Metallisierung unter Ausbildung der Metallschicht verschwindet die Oxidation an den Metallpartikeln jedoch wieder, so daß eine Metallschicht mit darunterliegenden oxidfreien Metallpartikeln entsteht .
Die leitfähigen Partikel, die beispielsweise in Pulverform vorliegen, können auch in einem flüchtenden Stoff (zum Beispiel Wasser oder Lösungsmittel) gelöst sein, der nachträglich, das heißt nach dem Aufbringen auf den Trägerkörper oder die Haftschicht, entfernbar ist.
Wie bereits weiter oben dargelegt, bildet sich die Metallschicht in dem Metallisierungsbad nur dort aus, wo leitfähige Partikel auf dem Trägerkörper beziehungsweise der Haftschicht aufgebracht sind. Dies ermöglicht eine einfache Strukturierung der Metallschicht, da durch die Fixierung der leitfähigen Partikel gesteuert werden kann, an welchen Stellen sich die Metallschicht ausbilden soll. Andererseits bedingt diese Erkenntnis, daß die leitfähigen Partikel eng nebeneinanderliegend, das heißt nach Möglichkeit in elektrischem Kontakt zueinander beabstandet sein sollten. Entstehen beim Aufbringen der leitfähigen Partikel Lücken zwischen diesen, so ist dies unschädlich, solange die Lücken ein vorgegebene Größe, zum Beispiel den mittleren Durchmesser eines Partikels, nicht überschreiten. Idealerweise erfolgt das Aufbringen der leitfähigen Partikel jedoch derart, daß die Partikel in Kontakt zueinander stehen.
Das erfindungsgemäße Verfahren weist den Vorteil auf, daß dieses mit einem verhältnismäßig kleinen apparativen Aufwand auf einfache Weise durchführbar ist. Dabei können Trägerkörper mit beliebig großen Abmessungen problemlos mit einer gewünschten Metallschicht versehen werden, die sicher an dem Trägerkörper fixiert ist. So ist es ohne weiteres möglich, auf dem Trägerkörper eine oder mehrere leitfähige Metallschichten, gegebenenfalls aus verschiedenen Materialien, aufzubringen. Strukturlos flächige Metallschichten können beispielsweise bei Kraftfahrzeugfelgen oder bei Elementen, die zur Abschirmung von elektromagnetischer Strahlung dienen, zur Anwendung gelangen. Strukturierte Metallschichten kommen beispielsweise bei elektrischen oder elektronischen Schaltungen, wie zum Beispiel Antennenspulen für Chipkarteninlays, zur Anwendung. Weitere Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens sind niedrige Kosten aufgrund eines additiven Verfahrens bei gleichzeitig hohen Arbeitsgeschwindigkeiten. Das Verfahren läßt sich mit einem nur geringen Chemikalien-Einsatz anwenden und ist deshalb umweltfreundlich. Aufgrund der innigen Haftung zwischen der Metallschicht und dem Trägerkörper lassen sich außerordentlich hohe Zuverlässigkeiten erzielen. Darüber hinaus ist die Nutzung bereits bestehender Fertigungsanlagen, insbesondere was die Galvanisierung angeht, möglich.
Die Erfindung schlägt weiterhin einen Tragerkorper mit einer auf einer Oberfläche des Trägerkörpers aufgebrachten Metallschicht vor, bei dem zwischen der Metallschicht und der Oberfläche des Trägerkδrpers leitfähige Partikel vorgesehen sind, wobei die leitfähigen Partikel direkt, das heißt ohne ein diese einbettendes Trägermaterial, auf dem Trägerkörper angeordnet sind.
Der Trägerkörper zeichnet sich dadurch aus, daß er eine im Vergleich zu konventionell hergestellten Trägerkörpern geringe Höhe aufweist. Er ist dabei für all diejenigen Anwendungen geeignet, die mit einer nur geringen Höhe auskommen müssen, wie dies beispielsweise bei der Fertigung von Antennen für Chipkarten der Fall ist. Aufgrund bestehender ISO-Normen ist die Höhe, das heißt die Dicke derartiger Chipkarten auf 700 μm begrenzt . Die Verwendung eines erfindungsgemäßen Trägerkörpers erlaubt es nun, daß die Deckschichten einer Chipkarte stärker ausgeführt werden können, wodurch die Stabilität und damit auch die Zuverlässigkeit der Chipkarte erhöht werden kann. Dünnere strukturierte Schichten erleichtern auch das gleichzeitige Pressen mehrerer Chipkarten übereinander, da die Schichten weniger dick auftragen.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung des Trägerkörpers ist auf der Oberfläche des Trägerkδrpers eine Haftschicht angeordnet, auf der die leitfähigen Partikel über Adhäsion befestigt sind.
In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung sind die leitfähigen Partikel zumindest teilweise in der Oberfläche des Trägerkörpers oder in der Haftschicht eingedrückt . Es ist dabei nicht notwendig, daß die leitfähigen Partikel gleich tief eingedrückt sind oder gleichförmig hinsichtlich ihrer Oberfläche ausgebildet sind.
In einer bevorzugten Ausgestaltung sind die leitfähigen Partikel plättchenförmig ausgebildet. Eine derartige Form erlaubt es, die leitfähigen Partikel zur Bildung einer Partikelschicht schuppenförmig auf dem Trägerkörper anzuordnen. Es ist deshalb auf einfache Weise sichergestellt, daß die leitfähigen Partikel eng nebeneinanderliegend, daß heißt in unmittelbarem Kontakt zueinander gelegen sind. Wie weiter oben bereits ausgeführt, ist dies Voraussetzung dafür, daß eine gleichförmige Metallschicht auf dem Trägerkörper ausgebildet wird.
Prinzipiell kann die durch die leitfähige Partikel gebildete Partikelschicht jede beliebige Höhe aufweisen. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß eine Partikelschicht mit einer Dicke von weniger als 5 μm ausreichend ist, um eine an sich beliebig dicke Metallschicht auf dem Trägerkörper ausbilden zu können. Je geringer die Dicke der Partikelschicht ist, desto geringer kann die Dicke des gesamten Trägerkörpers mit der darauf aufgebrachten Metallschicht ausgeführt sein. Der Trägerkörper kann erfindungsgemäß jede beliebige Oberflächenform aufweisen. Vielfach wird der Trägerkörper eine plan- are Oberfläche aufweisen. Es ist jedoch auch ohne weiteres möglich, die Metallschicht auf einer gekrümmten oder vollständig dreidimensionalen Oberfläche zu erzeugen.
In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, daß der Trägerkörper auf zwei gegenüberliegenden Oberflächen jeweils eine durch leitfähige Partikel gebildete Partikel- schicht aufweist, auf denen jeweils eine Metallschicht angeordnet ist und in deren Bereich eine durch den Trägerkörper durchgehende Öffnung vorgesehen ist, wobei zumindest die Wandungen der Öffnung mit einer leitfähigen Schicht ausgekleidet sind, die mit den Metallschichten auf den Oberflächen des Trägerkδrpers in elektrischem Kontakt steht und die leitfähige Schicht im gleichen Verfahrensschritt wie die Metallschichten beim Galvanisieren gebildet ist.
Mit anderen Worten, es wird ein Trägerkörper vorgeschlagen, der auf den beiden gegenüberliegenden Oberflächen eine Metallschicht aufweist, welche durch eine Durchkontaktierung elektrisch miteinander verbunden sind. Die Herstellung des elektrischen Kontaktes der Durchkontaktierung läßt sich auf einfache Weise in einem Schritt zusammen mit der Herstellung der Metallschichten auf den Oberflächen in dem Metallisierungsbad erzeugen. Der solchermaßen hergestellte Trägerkörper ist deshalb äußerst einfach und kostengünstig herstellbar, wobei er gleichzeitig aufgrund der durchgehenden Metallstruktur eine hohe Zuverlässigkeit gegen mechanische Belastungen aufweist .
Weitere Einzelheiten, Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung dreier in der Zeichnung stark vergrößert und nicht maßstabsgerecht gezeichneter Ausbildungen abschnittsweise dargestellter Tragerkorper, die jeweils mit einer Metallschicht versehen sind. Es zeigen: Figur 1 eine erste Ausbildung, bei welcher der Trägerkörper mit einer Haftschicht versehen ist, auf der leitfähige Partikel aufgebracht sind,
Figur 2 eine zweite Ausführungsform, bei der auf einen Tragerkorper aus Kunststoff leitfähige Partikel direkt aufgebracht sind und
Figur 3 eine dritte Ausführungsform, bei der der Trägerkörper zweiseitig metallisiert ist.
Figur 1 zeigt in einer Schnittdarstellung abschnittweise einen Trägerkörper 10, auf dessen Oberfläche 12 in einem ersten Verfahrensschritt eine Haftschicht 14 aufgebracht worden ist . Auf die gegebenenfalls strukturierte Haftschicht 14 wurden in einem darauffolgenden zweiten Verfahrensschritt leitfähige Partikel 16 eng nebeneinanderliegend aufgebracht. Die leitfähigen Partikel 16 weisen im vorliegenden Ausführungsbeispiel einen runden Querschnitt auf. Der Querschnitt der leitfähigen Partikel könnte jedoch beliebig ausgebildet sein. Die leitfähigen Partikel 16, die beispielsweise aus Kupfer, Eisen, Nikkei, Gold, Silber, Aluminium, Messing, oder einer beliebigen anderen Legierung bestehen, sind an der Haftschicht 14 fixiert. Bei den leitfähigen Partikeln könnte es sich auch um Graphite oder um Polymere handeln, die in Pulverform vorliegen und beispielsweise mittels Aufblasen, Aufspritzen, Aufsprühen, Aufrollen oder Aufpinseln aufgebracht sind.
Die Fixierung der leitfähigen Partikel 16 an der Haftschicht 14 erfolgt beispielsweise dadurch, daß das Aufbringen der Partikel 16 während einer Phase erfolgt, in der die Haft- schicht 14 noch nicht ausgehärtet ist. Eine andere Möglichkeit besteht darin, die auf der Oberfläche 12 des Trägerkörpers 10 angeordnete Lackschicht 14 zunächst auszuhärten und zu einem späteren Zeitpunkt mittels eines geeigneten Lösungsmittels, mittels Ultraschall oder mittels thermischer Strah- lung zu erweichen, wonach dann die leitfähigen Partikel eng nebeneinanderliegend aufgebracht werden. Nach dem Aushärten der erweichten Haftschicht 14 sind die Partikel 16 dann an der Haftschicht 14 fixiert, wobei sie, wie aus Figur 1 ersichtlich, in diese leicht hineingedrückt sind.
Der Trägerkörper 10 mit den an der Haftschicht 14 fixierten Partikeln 16 wird sodann in ein Metallisierungsbad eingebracht, wobei sich an den eng nebeneinanderliegenden Partikeln 16 chemisch und/oder galvanisch eine Metallschicht 18 ausbildet. Die Metallschicht 18 geht dabei eine feste Verbindung mit den leitfähigen Partikeln 16 ein, so daß sich ein an seiner Oberfläche 12 mit einer Metallschicht 18 ausgebildeter Gegenstand mit einem Trägerkörper 10 aus jedem beliebigen Material ergibt. Der Trägerkörper 10 kann beispielsweise aus Metall, Glas, Holz, Kunststoff, Stein oder Textil bestehen. Der Trägerkörper muß auch nicht, wie dies die Figur 1 suggeriert, eine planare Oberfläche aufweisen. Der Trägerkörper 10 kann jede beliebige, dreidimensionale Gestalt aufweisen.
Die Metallschicht 18 bildet sich nur an denjenigen Stellen aus, an denen die leitfähigen Partikel 16 angeordnet sind. Dadurch, daß die leitfähigen Partikel 16 über eine Adhäsiv- kraft mit dem Trägerkörper 10 beziehungsweise der Haftschicht 14 verbunden sind, läßt sich auf einfache Weise eine Strukturierung der Metallschicht 18 realisieren. Werden Bereiche des Trägerkörpers 10 nicht mit einer haftenden Oberfläche versehen, so bleiben beim Auftragen der leitfähigen Partikel 16 dort auch keine Partikel hängen. An diesen Stellen bildet sich deshalb auch keine Metallschicht 18 aus.
Aus diesem Grunde ist andererseits dafür Sorge zu tragen, daß die leitfähigen Partikel 16 eng nebeneinanderliegend auf der Haftschicht 14 angeordnet sind. Geringere Lücken zwischen einzelnen leitfähigen Partikeln sind dabei unschädlich. Größere Lücken (zum Beispiel größer als der mittlere Durchmesser der leitfähigen Partikel) sollten jedoch vermieden werden, um eine homogene, ebene Metallschicht 18 zu erhalten.
Figur 2 zeigt eine zweite Ausführungsform der Erfindung, bei der die leitfähigen Partikel 16 direkt auf die Oberfläche 12 eines Trägerkδrpers 10 aufgebracht sind. Die Oberfläche 12 des Trägerkörpers 10 muß zu diesem Zweck adhäsive Eigenschaften aufweisen. Dies ist regelmäßig nur dann der Fall, wenn der Trägerkörper 10 aus einem Kunststoff besteht. Zur Ausbildung der Metallschicht 18, die wie im vorangegangenen Beispiel auf den leitfähigen Partikeln 16 gelegen ist, wird in einem ersten Verfahrensschritt der Trägerkörper 10 an seiner Oberfläche 12 erweicht. Das Erweichen der Oberfläche 12 des Trägerkörpers 10 kann dabei durch thermische Strahlung, Ultraschall oder ein Lösungsmittel erfolgen. Die entsprechende Erweichungszone ist mit der Bezugsziffer 20 bezeichnet. Der erweichte Bereich des Trägerkörpers ist durch die dünnen strichlierten Linien 22 gegen den übrigen Trägerkδper 10 abgegrenzt . Auf die erweichte Oberfläche 12 des Trägerkörpers werden eng nebeneinanderliegend die Metallpartikel 16 aufgebracht. Dies kann, wie beim ersten Ausführungsbeispiel, durch Aufblasen, Aufspritzen, Aufsprühen, Aufrollen oder Aufpinseln erfolgen. Denkbar ist auch, die Metallpartikel vor dem Aufbringen auf die Oberfläche des Trägerkörpers mit einem Lösungsmittel zu versehen. Nach der Verfestigung der Erweichungszone 20 sind die leitfähigen Partikel 16 an der Oberfläche 12 des Trägerkörpers 10 fixiert.
Eine Strukturierung der Metallschicht 18 wird bei der zweiten Ausführungsform dadurch möglich, daß das Erweichen der Oberfläche des Trägerkörpers entsprechend der gewünschten Struktur erfolgt . In den nicht erweichten Bereichen der Oberfläche findet dann keine Haftung zwischen den leitfähigen Partikeln 16 und der Oberfläche 12 des Trägerkörpers 10 statt, so daß bei dem anschließenden Metallisierungsbad an diesen Stellen sich auch keine Metallschicht ausbildet. Eine Strukuturierung könnte auch dadurch erfolgen, daß der gesamte Trägerkörper mit Metallpartikeln beaufschlagt wird und anschließend mit Ultraschall, thermischer Energie oder ähnlichem die gewünschten Strukturen erzeugt werden, indem die leitfähigen Partikel mit der Haftschicht oder der Trägerkörper verschmolzen werden. Die überflüssigen Partikel können dann zum Beispiel abgewaschen oder abgesaugt werden.
Die Haftung der leitfähigen Partikel 16 an der Oberfläche des Trägerkörpers beziehungsweise der Haftschicht kann dadurch verbessert werden, daß nach dem Aufbringen mechanischer Druck auf die Partikel 16 ausgeübt wird, wodurch diese teilweise in die Oberfläche des Trägerkörpers eingedrückt werden.
Der gemäß Figur 1 oder 2 vorbereitete, das heißt mit den leitfähigen Partikeln 16 versehene Trägerkörper wird dann in ein Metallisierungsbad eingebracht, um an den eng nebeneinander vorgesehenen leitfähigen Partikeln 16 chemisch und/oder galvanisch die Metallschicht 18 herzustellen. Je nach Metallisierungsbad handelt es sich bei der Metallschicht 18 beispielsweise um eine Kupfer- ,Aluminium- oder Chromschicht. Die Metallschicht 18 kann selbstverständlich auch aus jedem anderen gewünschten Metall, wie Kupfer, Silber oder ähnlichem bestehen.
Figur 3 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel, bei dem zusätzlich zu der Oberfläche 12 auch die gegenüberliegende Oberfläche 12a des Trägerkörpers 10 mit einer Haftschicht 14a versehen ist, auf welcher leitfähige Partikel 16a angeordnet sind. Weiterhin weist der Trägerkörper eine Öffnung 20 auf, die durch diesen vollständig hindurch geht. Die Öffnung 20 ist ebenfalls in den Haftschichten 14 beziehungsweise 14a vorgesehen.
Beim Galvanisieren des Trägerkörpers 10 mit den darauf befindlichen leitfähigen Partikeln 16, 16a entsteht nicht nur im Bereich der leitfähigen Partikel 16 die Metallschicht 18 beziehungsweise 18a, sondern auch im Inneren der Öffnung 20. Zumindest die Wände der Öffnung 20 sind mit einer leitfähigen Schicht 22 ausgekleidet. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel verbleibt ein Bereich 24, der nicht durch die leitfähige Schicht 22 ausgefüllt ist. Wie groß der Bereich 24 beziehungsweise ob der Bereich 24 überhaupt vorhanden ist, bemißt sich nach dem Durchmesser D der Öffnung 20. Die elektrische Verbindung der Metallschichten 18 und 18a mittels der leitfähigen Schicht 22 ist in jedem Fall dann sichergestellt, wenn die Dicke des Trägerkδrpers 10 nicht größer als 100 μm ist. Wenn die Wandung der Öffnung mit einem Haftvermittler und somit mit Metallpartikeln versehen ist, spielt die Dicke des Trägerkörpers keine Rolle. Bei einem Stanzvorgang, der nach dem Aufbringen der Metallpartikel erfolgt, werden die Metall- partikel nämlich in die Öffnung gezogen, wodurch beim Galvanisieren eine elektrische Verbindung zwischen den Metallschichten 18, 18a gebildet wird.
Das in Figur 3 gezeigte Ausführungsbeispiel kann in vorteilhafter Weise bei der Herstellung von Antennenspulen für Kontaktlos-Chipkarten verwendet werden, da dort regelmäßig eine zweiseitige Metallisierung des Trägerkörpers notwendig ist.
Bezugszeichenliste
10 Tragerkorper
12, 12a Oberfläche
14, 14a Haftschicht
16, 16a Partikel
18, 18a Metallschicht
20 Öffnung
22 leitfähige Schicht
24 Ausnehmung
D Durchmesser der Öffnung

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht (18) auf einem Trägerkörper (10) , bei dem
- auf eine Oberfläche des Trägerkörpers (10) leitfähige Partikel (16) aufgebracht werden, so daß diese an dem Trägerkörper (10) fixiert sind,
- der Trägerkörper (10) mit den Partikeln in einem Metallisierungsbad unter Ausbildung der Metallschicht (18) chemisch und/oder galvanisch metallisiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Tragerkorper aus Kunststoff besteht und die Oberfläche (12) des Trägerkörpers (10) adhesive Eigenschaften aufweist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 , bei dem die adhesiven Eigenschaften der Oberfläche (12) des Trägerkörpers durch Erweichen aktiviert werden.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der aus einem Kunststoff bestehende Tragerkorper (10) aus einem Extruder ausgegeben wird, und die Oberfläche (12) des Trägerkörpers (10) nach dem Austritt aus dem Extruder mit den leitfähigen Partikeln (16) bedeckt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei dem der mit den leitfähigen Partikeln (16) bedeckte Kunststoff- Trägerkörper (10) anschließend kalandriert wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem auf der Oberfläche des Trägerkörpers (10) eine Haftschicht (14) mit adhesiven Eigenschaften aufgebracht wird, auf der die leitfähigen Partikel (16) fixiert werden.
7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem das Aufbringen der Partikel (18) erfolgt, solange die Haftschicht (14) noch nicht ausgehärtet ist und die Fixierung der Partikel (18) durch das Aushärten der Haftschicht (14) erfolgt .
8. Verfahren nach Anspruch 6 , bei dem die adhesiven Eigenschaften der Haftschicht (14) durch Erweichen der von dem Trägerkörper (10) abgewandten Oberfläche (12) aktiviert werden.
9. Verfahren nach Anspruch 3 oder 8 , bei dem das Erweichen durch thermische Strahlung, Ultraschall oder ein Lösungsmittel erfolgt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, bei dem bei dem die leitfähigen Partikel (16) gemeinsam mit einem Lösungsmittel auf den Trägerkörper (10) oder die Haftschicht (14) aufgebracht werden.
11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, bei dem die leitfähigen Partikel mit einem Lösungsmittel vorbehandelt werden bevor sie auf den Trägerkörper (10) aufgebracht werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, bei dem ein Tragerkorper (10) aus Metall, Kunststoff, Keramik, Holz, Stein oder Textil verwendet wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, bei dem das Aufbringen der Haftschicht (14) auf die Oberfläche (12) des Trägerkδrpers (10) oder das Erweichen der Haftschicht
(12) auf der Oberfläche (12) des Trägerkδrpers (10) oder der Oberfläche des Trägerkδrpers (10) ganzflächig oder in strukturierter Form erfolgt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, bei dem das Aufbringen der leitfähigen Partikel durch Aufblasen, Aufspritzen, Aufsprühen, Aufrollen oder Aufpinseln erfolgt.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 14, bei dem auf die leitfähigen Partikel (16) nach dem Aufbringen auf den Tragerkorper (10) Druck ausgeübt wird zur Verstärkung der Haftung an dem Trägerkörper (10) .
16. Tragerkorper mit einer auf einer Oberfläche des Trägerkörpers (10) aufgebrachten Metallschicht (18) , bei dem zwischen der Metallschicht und der Oberfläche der Trägerkörpers (10) leitfähige Partikel (16) vorgesehen sind, wobei die leitfähigen Partikel (16) direkt, das heißt ohne ein diese einbettendes Trägermaterial, auf dem Trägerkörper (10) angeordnet sind.
17. Trägerkörper nach Anspruch 17, bei dem auf der Oberfläche des Trägerkörpers (10) eine Haftschicht (14) angeordnet ist, auf der die leitfähigen Partikel (16) über Adhesion befestigt sind.
18. Trägerkörper nach Anspruch 16 oder 17, bei dem die leitfähigen Partikel (16) zumindest teilweise in der Oberfläche des Trägerkörpers (10) oder in der Haftschicht (14) eingedrückt sind.
19. Trägerkörper nach einem der Ansprüche 16 bis 18, bei dem die leitfähigen Partikel (16) plättchenfδrmig ausgebildet sind.
20. Trägerkörper nach Anspruch 19, bei dem die leitfähigen Partikel (16) schuppenförmig auf dem Trägerkörper (10) angeordnet sind und eine Partikelschicht bilden.
21. Trägerkörper nach einem der Ansprüche 16 bis 20, bei dem die durch die leitfähigen Partikel (16) gebildete Partikelschicht eine Dicke von weniger als 5 μm aufweist.
22. Trägerkörper nach einem der Ansprüche 16 bis 21, bei dem der Trägerkörper eine planare, gekrümmte oder vollständig dreidimensionale Oberfläche aufweist.
23. Trägerkörper nach einem der Ansprüche 16 bis 22, bei dem der Tragerkorper (10) auf zwei gegenüberliegenden Oberflächen
(12, 12a) jeweils eine durch leitfähige Partikel (16, 16a) gebildete Partikelschicht aufweist, auf denen jeweils eine Metallschicht (18, 18a) angeordnet ist und in deren Bereich eine durch den Trägerkörper (10) durchgehende Öffnung (20) vorgesehen ist, wobei zumindest die Wandungen der Öffnung
(20) mit einer leitfähigen Schicht (22) ausgekleidet sind, die mit den Metallschichten (18, 18a) auf den Oberflächen
(12, 12a) des Trägerkörpers (10) in elektrischen Kontakt steht und die leitfähige Schicht (22) im gleichen Verfahrensschritt wie die Metallschichten (18, 18a) beim Galvanisieren gebildet ist .
PCT/DE2002/003201 2001-09-17 2002-08-30 Verfahren zur herstellung einer metallschicht auf einem trägerkörper und trägerkörper mit einer metallschicht WO2003027353A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/916,321 US6984446B2 (en) 2001-09-17 2004-08-11 Process for producing a metal layer on a substrate body, and substrate body having a metal layer

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10145750.2 2001-09-17
DE10145750A DE10145750A1 (de) 2001-09-17 2001-09-17 Verfahren zur Herstellung einer Metallschicht auf einem Trägerkörper und Trägerkörper mit einer Metallschicht

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US10/916,321 Continuation US6984446B2 (en) 2001-09-17 2004-08-11 Process for producing a metal layer on a substrate body, and substrate body having a metal layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2003027353A1 true WO2003027353A1 (de) 2003-04-03

Family

ID=7699293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/DE2002/003201 WO2003027353A1 (de) 2001-09-17 2002-08-30 Verfahren zur herstellung einer metallschicht auf einem trägerkörper und trägerkörper mit einer metallschicht

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6984446B2 (de)
DE (1) DE10145750A1 (de)
WO (1) WO2003027353A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2995703A1 (de) * 2014-09-09 2016-03-16 Christian-Albrechts-Universität zu Kiel Verfahren zur Herstellung von Flächenableitelektroden und Halbzeug zur Durchführung des Verfahrens

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10238284B4 (de) * 2002-08-21 2004-11-18 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen einer schaumförmigen Metallstruktur, Metallschaum sowie Anordnung aus einem Trägersubstrat und einem Metallschaum
DE10254927B4 (de) * 2002-11-25 2012-11-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung von leitfähigen Strukturen auf einem Träger und Verwendung des Verfahrens
US7284704B2 (en) * 2004-06-28 2007-10-23 International Barcode Corporation Combined electromagnetic and optical communication system
US7549591B2 (en) * 2004-06-28 2009-06-23 International Barcode Corporation Combined multi-frequency electromagnetic and optical communication system
DE102005038392B4 (de) * 2005-08-09 2008-07-10 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zum Herstellen von Muster bildenden Kupferstrukturen auf einem Trägersubstrat
DE102006044323A1 (de) * 2006-09-18 2008-03-27 Holtmann & Stierle Chemie Gmbh Schutzüberzug für Windrad-Flügel
DE102006060801B4 (de) * 2006-12-22 2009-03-19 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung eines Chipkartenmoduls und Chipkartenmodul
DE102008036101A1 (de) 2008-08-04 2010-02-11 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Textiles Material und Verfahren zu dessen Herstellung
US8912047B2 (en) * 2011-05-18 2014-12-16 Infineon Technologies Ag Method for producing a metal layer on a substrate and device
CN104487609A (zh) * 2012-04-01 2015-04-01 盖尔创尼克斯有限公司 用于打印及镀覆工序的印制方法
WO2015183304A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 Uab Rekin International Chrome-free adhesion pre-treatment for plastics
JP6265163B2 (ja) * 2015-04-02 2018-01-24 トヨタ自動車株式会社 配線パターンの形成方法および配線パターン形成用のエッチング処理装置
KR102421771B1 (ko) * 2015-07-06 2022-07-18 삼성디스플레이 주식회사 이방성 도전 필름 및 그 제조방법
CN106793534A (zh) * 2015-11-20 2017-05-31 富泰华工业(深圳)有限公司 电路板钢网印刷方法
DE102016007732B4 (de) * 2016-06-23 2023-10-12 Audi Ag Galvanisierter Kunststoff
DE102017130940B4 (de) * 2017-12-21 2019-07-04 Infineon Technologies Ag Chipkartenkörper, Chipkarte und Verfahren zum Herstellen eines Chipkartenkörpers

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3574068A (en) * 1965-11-23 1971-04-06 M & T Chemicals Inc Process for preparing a metal plate receptive to a decorative metal deposit
GB2087654A (en) * 1980-11-13 1982-05-26 Standard Telephones Cables Ltd Printed Circuit Boards
US4411980A (en) * 1981-09-21 1983-10-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the preparation of flexible circuits
DE19833593A1 (de) * 1998-07-25 2000-01-27 Daimler Chrysler Ag Verfahren zur selektiven Metallisierung

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR608161A (fr) 1926-04-24 1926-07-22 Procédé d'obtention de plaques d'ébonite pour postes de t. s. f., munies du réseau de connexions
US2897409A (en) * 1954-10-06 1959-07-28 Sprague Electric Co Plating process
GB1095117A (en) * 1963-12-26 1967-12-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of making printed circuit board
DE1981080U (de) * 1966-10-07 1968-03-14 Herborn Zweigniederlassung Der Doppelspulapparat.
US3506482A (en) * 1967-04-25 1970-04-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of making printed circuits
US4454168A (en) * 1982-09-29 1984-06-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Printed circuits prepared from metallized photoadhesive layers
US4560445A (en) * 1984-12-24 1985-12-24 Polyonics Corporation Continuous process for fabricating metallic patterns on a thin film substrate
WO1992019092A1 (de) * 1991-04-22 1992-10-29 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zur selektiven beschichtung von nichtleitern mit kohlenstoff-partikeln und die verwendung von kupferhaltigen lösungen im verfahren
US5181851A (en) 1991-05-22 1993-01-26 Aai Corporation Flashover simulation for firefighter training
NL9200835A (nl) 1992-05-11 1993-12-01 Nedap Nv Flexibele spoelconstructie in identificatiekaart.
US6171468B1 (en) * 1993-05-17 2001-01-09 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
US5421989A (en) * 1993-08-31 1995-06-06 Atotech Deutschland Gmbh Process for the metallization of nonconductive substrates with elimination of electroless metallization
BE1007610A3 (nl) 1993-10-11 1995-08-22 Philips Electronics Nv Werkwijze voor het stroomloos aanbrengen van een metaalpatroon op een elektrisch isolerend substraat.
US5536386A (en) * 1995-02-10 1996-07-16 Macdermid, Incorporated Process for preparing a non-conductive substrate for electroplating
AU7689596A (en) * 1995-12-05 1997-06-27 Michel Bisson Contactless electronic transponder with printed loop antenna circuit
DE19629269A1 (de) * 1996-07-19 1998-01-29 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils, insbesondere zur Herstellung einer Induktionsspule für Chipkarten
DE19639646A1 (de) 1996-09-26 1998-04-02 Siemens Ag Trägerband und Verfahren zum Herstellen eines solchen Trägerbandes
DE19639232A1 (de) 1996-09-24 1998-03-26 Linde Ag Verfahren zum flußmittelfreien Metallisieren von Werkstücken, insbesondere Leiterplatten
WO1998020371A1 (de) * 1996-11-04 1998-05-14 Meto International Gmbh Sicherungselement für die elektronische artikelüberwachung
DE19753619A1 (de) 1997-10-29 1999-05-06 Meto International Gmbh Identifizierungselement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19806360A1 (de) * 1997-03-13 1998-09-17 Juergen Otto Prof Dr Besenhard Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden einer Metallschicht mit glatter Oberfläche auf einem Substrat unter Verwendung einer Graphitdispersion
US6107920A (en) * 1998-06-09 2000-08-22 Motorola, Inc. Radio frequency identification tag having an article integrated antenna
DE19841804A1 (de) * 1998-09-12 2000-03-16 Bayer Ag Leiterbahnen aus Polyalkylendioxythiophen
US6320556B1 (en) 2000-01-19 2001-11-20 Moore North America, Inc. RFID foil or film antennas
DE10145749A1 (de) * 2001-09-17 2003-04-24 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht auf einem Trägerkörper und Trägerkörper mit einer strukturierten Metallschicht

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3574068A (en) * 1965-11-23 1971-04-06 M & T Chemicals Inc Process for preparing a metal plate receptive to a decorative metal deposit
GB2087654A (en) * 1980-11-13 1982-05-26 Standard Telephones Cables Ltd Printed Circuit Boards
US4411980A (en) * 1981-09-21 1983-10-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the preparation of flexible circuits
DE19833593A1 (de) * 1998-07-25 2000-01-27 Daimler Chrysler Ag Verfahren zur selektiven Metallisierung

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"ADDITIVE PLATING FOR THERMOPLASTIC CARRIERS", RESEARCH DISCLOSURE, KENNETH MASON PUBLICATIONS, HAMPSHIRE, GB, no. 314, 1 June 1990 (1990-06-01), pages 459, XP000132303, ISSN: 0374-4353 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2995703A1 (de) * 2014-09-09 2016-03-16 Christian-Albrechts-Universität zu Kiel Verfahren zur Herstellung von Flächenableitelektroden und Halbzeug zur Durchführung des Verfahrens
WO2016037610A1 (de) * 2014-09-09 2016-03-17 Christian-Albrechts-Universität Zu Kiel Verfahren zur herstellung von flächenableitelektroden und halbzeug zur durchführung des verfahrens
US10177367B2 (en) 2014-09-09 2019-01-08 Christian-Albrechts-Universitaet Zu Kiel Method for producing surface discharge electrodes and semifinished product for carrying out the method

Also Published As

Publication number Publication date
DE10145750A1 (de) 2003-04-24
US20050052326A1 (en) 2005-03-10
US6984446B2 (en) 2006-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2003027353A1 (de) Verfahren zur herstellung einer metallschicht auf einem trägerkörper und trägerkörper mit einer metallschicht
DE69531373T2 (de) Induktivität und zugehöriges Herstellungsverfahren
EP0385995B1 (de) PRäGEFOLIE, INSBESONDERE HEISSPRäGEFOLIE, ZUR ERZEUGUNG VON LEITERBAHNEN AUF EINEM SUBSTRAT
EP3700308A1 (de) Verfahren zur herstellung einer spule und elektronisches gerät
DE3700910A1 (de) Verfahren zum aufbau elektrischer schaltungen auf einer grundplatte
WO2003028416A1 (de) Verfahren zur herstellung einer strukturierten metallschicht auf einem trägerkörper und trägerkörper mit einer strukturierten metallschicht
DE2453788A1 (de) Verfahren zur herstellung von schaltplatten mit gedruckten schaltungen
DE102007030414B4 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitfähigen Struktur
DE3700912C2 (de)
DE102012105765A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer dreidimensionalen Leiterbahnstruktur sowie eine nach diesem Verfahren hergestellte Leiterbahnstruktur
WO2002056657A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum anbringen von leiterdrähten auf oder in einer trageschicht
EP1703781B1 (de) Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Verbindungselementes, sowie Verbindungselement
DE1665374B1 (de) Basismaterial aus isolierstoff zum herstellen gedruckter leiterplatten
WO2010142274A2 (de) Siebdruckform
DE10254927B4 (de) Verfahren zur Herstellung von leitfähigen Strukturen auf einem Träger und Verwendung des Verfahrens
DE10205592B4 (de) Verfahren zum Herstellen eines Halbzeugs für Leiterplatten
DE19753149C2 (de) Verfahren zum Herstellen eines Keramik-Metall-Substrates
DE3914727A1 (de) Mehrlagen-leiterplatten fuer feinleiter und verfahren zu ihrer herstellung
DE112005001894T5 (de) Verfahren und Vorrichtungen zum Prägen von Substanzen
DE4240569A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer haftfesten Kunststoff-Metall-Verbindung
DE102006016276B3 (de) Verfahren zum Aufbringen von Lotpartikeln auf Kontaktflächen sowie hierfür geeignete Lotpartikel und Bauteile mit Kontaktflächen
WO2005107348A1 (de) Verfahren zur herstellung von durchkontaktierungen bei leiterplattengebilden
DE1615997C (de) Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen
DE10065540A1 (de) Leiterbahn und Verfahren zur Herstellung
WO2002093258A1 (de) Verfahren zur herstellung von prägewerkzeugen

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BR CA CN IL IN JP KR MX RU UA

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE SK TR

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10916321

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: JP