WO2002058095A1 - Plasma display panel and its manufacturing method - Google Patents

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WO2002058095A1
WO2002058095A1 PCT/JP2002/000170 JP0200170W WO02058095A1 WO 2002058095 A1 WO2002058095 A1 WO 2002058095A1 JP 0200170 W JP0200170 W JP 0200170W WO 02058095 A1 WO02058095 A1 WO 02058095A1
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WO
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phosphor
plasma display
display panel
film
phosphor film
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Application number
PCT/JP2002/000170
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English (en)
French (fr)
Inventor
Kanako Miyashita
Hiroyuki Kado
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/10AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
    • H01J11/12AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J11/42Fluorescent layers

Definitions

  • Plasma display panel and method of manufacturing the same
  • the present invention relates to a plasma display panel and a method for manufacturing the same.
  • Plasma display panels can be broadly divided into direct current (DC) and alternating current (AC) types.
  • DC direct current
  • AC alternating current
  • the AC type which is suitable for upsizing, is the mainstream.
  • FIG. 16 is a perspective view (partially sectional view) showing an example of an AC type PDP.
  • a plurality of display electrodes 62 are arranged in a stripe shape.
  • a dielectric layer 63 is formed so as to cover the entire surface. Further, a dielectric protection film 64 is formed on the surface of the dielectric layer 63.
  • a plurality of address electrodes 72 are arranged in a stripe shape.
  • the arrangement direction of the address electrode 72 is a direction intersecting the display electrode 62 when the front glass substrate 61 and the rear glass substrate 71 are arranged to face each other.
  • a dielectric layer 73 is formed so as to cover the entire surface. Further, on the surface of the dielectric layer 73, a plurality of partition walls 75 are protruded in parallel with the address electrodes 72 and toward the front glass substrate 61.
  • a phosphor layer 76 is provided on a side surface of a groove formed by the adjacent partition wall 75, the partition wall 75, and the dielectric layer 73.
  • a red phosphor layer 76R, a green phosphor layer 76G, and a blue phosphor layer 76B are provided for each groove portion partitioned by the partition wall 75.
  • the phosphor layer 76 is a layer composed of a group of phosphor particles formed by a thick film forming method such as a screen printing method, a jet-jet method, or a photoresist film method.
  • the AC PDP having the above structure basically has the same light emission principle as a fluorescent lamp, and the ultraviolet light emitted from the discharge gas accompanying the discharge inside the discharge space 77 excites the phosphor layer 76. It emits light and is converted into visible light.
  • the phosphor layers 76 R, 76 G, and 76 B of the respective colors used in the AC type PDP use phosphor materials having different conversion efficiencies into visible light. Therefore, when displaying an image on the panel, the color balance is generally adjusted by adjusting the luminance of each of the phosphor layers 76R, 76G, and 76B. Specifically, the luminance of the other phosphor layers is reduced at a ratio determined for each color, based on the phosphor layer of the color with the lowest luminance.
  • the cell size in PDPs is also required.
  • the radiation efficiency of ultraviolet rays decreases as the volume of the discharge space 77 decreases. It is necessary to improve the luminous efficiency of the device.
  • a number of cells 64 0 X 480 is 43mmx l. 2 9 mm, 1 cell equivalent Rino area 0.
  • cell pitch is 40-inch class .0. In 5 5 mm 2 luminance of about It is 250 cd / m 2 (for example, Functional Materials February 1996 V 0 1.16, No. 2, page 7).
  • the number of pixels is 1920 x 1125, and the cell pitch in the 42-inch class is 0.15 mm x 0.48 mm, which is The area is 0.02 2m m 2 .
  • the present invention has been made to solve the above problems, and provides a plasma display panel which can be operated with high luminous efficiency even when having a fine cell structure, and a method for manufacturing the same. Its purpose is to:
  • the present invention provides a PDP in which a plurality of light emitting cells are formed in a gap between a front panel and a rear panel which are arranged to face each other. It is characterized by having a phosphor film.
  • the crystalline phosphor film is superior in the visible light conversion ratio to the phosphor layer composed of the phosphor particle group, it can operate with high luminous efficiency.
  • the region where the crystalline phosphor film is formed is desirably at least a portion corresponding to a light emitting cell in the front panel.
  • a crystalline phosphor film composed of a thin-film crystal is formed at least in a part of the front panel corresponding to the light emitting cells, and therefore, a part of the ultraviolet light generated in the light emitting cells is reduced. Instead of being absorbed by the front panel, it is converted to visible light and emitted outside the panel.
  • the phosphor layer composed of the conventional phosphor particles has a low visible light transmittance
  • forming the phosphor layer on the front panel side blocks much of the visible light generated in the light emitting cell.
  • the crystalline phosphor film is formed of a thin film crystal having a high visible light transmittance, even if it is formed on the front panel side, the visible light generated in the light emitting cell is hardly blocked. . Therefore, the above PDP has excellent luminous efficiency as compared with the conventional PDP, and is suitable for employing a fine cell structure.
  • the thin film crystal referred to here is a thin film of a single solid solution, whose crystal lattice image can be confirmed by transmission electron microscope (TEM) and measured by X-ray diffraction method. Refers to a crystalline thin film from which a sharp peak can be obtained.
  • TEM transmission electron microscope
  • the visible light transmittance of the crystalline phosphor film is at least 85%. This is because even if a crystalline phosphor film is formed on the front panel, if the visible light transmittance is less than 85%, the visible light blocked by the crystalline phosphor film becomes large. This is because the overall luminous efficiency of the panel is reduced.
  • the visible light transmittance refers to the visible light transmittance of the phosphor film formed of the thin film crystal formed on the front panel. Specifically, it is the transmittance at the emission wavelength of the phosphor itself. In addition, it refers to the transmittance of the phosphor itself, and does not include the transmittance of other substrates or dielectric layers.
  • the present invention relates to a method for forming a crystalline phosphor film on one or two light emitting cell groups of red, green, and blue light emitting cell groups, specifically, a blue light emitting cell group and a green light emitting cell group.
  • a sufficient effect can be obtained if it is formed in at least one of the corresponding portions.
  • it is effective to form a crystalline phosphor film at a corresponding portion of the blue light emitting cell group.
  • the effect can also be obtained by selecting and forming a light emitting cell group of a specific color, or by limiting the region to be formed according to the luminance of the light emitting cell group.
  • the phosphor material used to form the crystalline phosphor film and the phosphor material used to form the phosphor layer composed of the phosphor particle group may be the same or different materials. May be.
  • display electrode The inter-discharge occurs near the surface of the front panel, and is within a few meters. Here, a large amount of ionized gas is present, and the front panel surface is subject to many bombardment of electrons and ions.
  • a phosphor layer is formed only on the back panel away from the discharge region, and therefore, an ultraviolet-excited phosphor material has been used.
  • the portion of the front panel on which the crystalline phosphor film is formed may be on the surface of the protective film or may be between the dielectric layer and the protective film.
  • the crystalline phosphor film is formed on the surface of the protective film, it is desirable to provide a notch in a corresponding portion of the display electrode.
  • the property of the protective film having a high secondary electron emission coefficient can be effectively used in the discharge during panel driving.
  • the notch is formed in the phosphor film provided on the surface of the protective film.
  • the discharge voltage is slightly increased because the discharge is hindered by the phosphor film. To prevent this, it is effective to form the phosphor film formed on the front panel between the dielectric layer and the protective film. In this way, the discharge is not hindered and the surface area of the phosphor film can be increased, so that a PDP with higher luminance can be obtained.
  • the crystalline phosphor film does not directly face the discharge space, it is necessary to use the same ultraviolet-excited phosphor material as before.
  • At least one of the back panel and the partition may be provided with a phosphor layer composed of phosphor particles.
  • the PDP has an excellent luminous efficiency as compared with a conventional PDP. If the phosphor layer is not formed on the back panel, use the dielectric layer on the back panel. It is desirable to form a region having a function of reflecting visible light to the front panel side from the viewpoint of improving luminous efficiency.
  • the crystalline phosphor film and the phosphor layer composed of the phosphor particle group are formed of phosphor materials having different compositions.
  • the crystalline phosphor film is formed from a collision excitation type phosphor material.
  • the number of steps in manufacturing can be reduced, and the cost is excellent.
  • the back panel is formed by forming a plurality of electrodes and a dielectric layer on a back substrate, and the dielectric layer is a phosphor layer comprising a crystalline phosphor film or a phosphor particle group therebetween. It may face the internal space of the light emitting cell without any of the above.
  • the surface may face the inner space of the light emitting cell, or a phosphor layer made of a phosphor particle group may be formed on a portion of the partition wall corresponding to the light emitting cell.
  • a phosphor film made of a thin film crystal may be formed.
  • the back panel has a region having a visible light reflectance of at least 85% or more.
  • the location where the region having the visible light reflectance in the rear panel is formed may be on the surface of the dielectric layer or may be within the layer.
  • the PDP has an address electrode on the front panel and a display electrode on the back panel.
  • the present invention relates to a PDP in which a plurality of light emitting cells are formed in a gap between a front panel and a rear panel which are arranged to face each other, wherein the rear panel has an electrode, and the rear panel has an electrode. And a crystal phosphor film made of a thin film crystal is provided through a region having a function of reflecting visible light to the front panel side.
  • the crystalline phosphor film made of the thin film crystal is formed on the surface of the region having the function of reflecting visible light on the rear panel, the luminous efficiency is further improved.
  • the area having the function of reflecting the visible light is used.
  • the unevenness is provided on the side of the crystalline phosphor film to be formed, the effective surface area of the crystalline phosphor film can be increased, which is effective. It is preferable that the unevenness has, for example, a stepped surface and a structure having a plurality of protrusions.
  • the effective surface area due to the unevenness is more preferably at least 5 times the area of the smooth surface.
  • the present invention relates to a method of manufacturing a PDP having a phosphor film forming step of forming a phosphor film made of a thin film crystal on at least one of a front panel and a back panel. It is characterized in that a vacuum film forming process under a reduced pressure atmosphere is used for forming the film.
  • a phosphor film composed of a thin-film crystal can be easily formed on at least one of the front panel and the rear panel, so that a PDP having a higher luminous efficiency than a conventional PDP can be manufactured. You can do it.
  • Specific examples of the vacuum film forming process include a vapor deposition method typified by a vacuum evaporation method, a sputtering method, and a CVD method. It is desirable that oxygen is injected into the reduced-pressure atmosphere in the vacuum film-forming process or that the material has a reducing property, depending on the material composition of the phosphor to be formed.
  • the step of forming the front panel includes the step of forming the front panel, the step of forming the front panel includes the substep of forming a protective film, and the substep of forming the protective film and the phosphor film forming step.
  • the process be performed continuously without intervening other processes between the steps.
  • both films can be formed integrally without lowering the temperature of the substrate, the crystallinity of the film on the outermost surface side facing the discharge space can be improved.
  • the phosphor film forming step it is desirable to heat a region of the substrate where the phosphor film is to be formed. This is the essence of the vacuum deposition process. This is because, if the degree of hum of the substrate is increased by heating, the crystallinity of the thin film crystal of the phosphor film can be increased.
  • the present invention relates to a method for manufacturing a PDP, comprising: a first step of forming a first phosphor layer on a front panel; and a second step of forming a second phosphor layer on a back panel.
  • One of the first step and the second step is a step of forming a crystalline phosphor film composed of a thin film crystal, and the other step is a step of forming a phosphor layer composed of a phosphor particle group. It is characterized by being a step.
  • the present invention also includes a PDP manufactured using the above-described manufacturing method and a PDP display device including a PDP having a driving circuit for driving the PDP.
  • FIG. 1 is a perspective view (partially sectional view) showing an AC-type PDP according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a sectional view taken along the line X--X in FIG.
  • FIG. 3 is a configuration diagram showing a PDP display device including the PDP of FIG. 1 and a drive circuit.
  • FIG. 4 is a configuration diagram showing an EB vapor deposition apparatus for forming a first phosphor film.
  • FIG. 5 is a configuration diagram showing the electron gun in FIG.
  • FIG. 6 is a graph showing the relationship between substrate temperature and diffraction intensity by X-ray diffraction.
  • Figure 7 Shows the path of ultraviolet light incident on the phosphor layer composed of phosphor particles It is a schematic diagram.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing the path of ultraviolet light incident on the phosphor film of the thin film crystal.
  • FIG. 9 is a schematic view showing a sample for phosphor evaluation.
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the thickness of a phosphor film made of a thin film crystal and luminance.
  • FIG. 11 is a sectional view taken along the line Y--Y in FIG.
  • Fig. 12 Relationship between film thickness and relative luminance.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view showing a part of an AC-type PDP according to Embodiment 2.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing a front panel in which a first phosphor film is provided between a dielectric layer and a dielectric protection film.
  • FIG. 15 is a sectional view showing a part of the AC PDP according to the third embodiment.
  • Fig. 16 is a perspective view (partial sectional view) showing a conventional AC type PDP. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIG. 1 is a diagram showing a part of the AC PDP 1 extracted.
  • a front panel 10 and a rear panel 20 are arranged to face each other with a space therebetween, and the space between the panels is divided into a plurality of discharge spaces 40 by partition walls 30. It has a partitioned structure.
  • the front panel 10 has a plurality of display electrodes 12 arranged in a stripe shape on one main surface (the lower side in the figure) of the front glass substrate 11, and a first dielectric layer 13 on the surface. And a dielectric protection film 14 which is sequentially laminated.
  • the rear panel 20 has a plurality of address electrodes 22 arranged in a stripe shape on the surface of the rear glass substrate 21 on the side facing the front panel 10, and a second electrode is provided so as to cover the surface.
  • the dielectric layer 23 is formed.
  • the partition wall 30 is actually provided so as to protrude above the second dielectric layer 23 of the rear panel 20, and is arranged in parallel with the address electrode 22 and adjacent to the address electrode 22. It is arranged in an area between the address electrode 22 and the address electrode 22.
  • the front panel 10 and the rear panel 20 are arranged so that the display electrode 12 and the address electrode 22 provided respectively intersect and face each other, and the periphery of the panel is sealed with an airtight seal layer. Have been.
  • the discharge space 40 is filled with a discharge gas (eg, a Ne—Xe-based gas, a He—Xe-based gas).
  • a discharge gas eg, a Ne—Xe-based gas, a He—Xe-based gas.
  • each portion where the display electrode 12 and the address electrode 22 intersect between the two glass substrates 11 and 21 corresponds to a light emitting cell.
  • a first phosphor film 31 is formed on a corresponding portion of the light emitting cell on the surface of the dielectric protection film 14, and a first phosphor film 31 is formed on the surface of the partition wall 30 and the second dielectric layer 23.
  • the second phosphor layer 32 is formed.
  • the second phosphor layer 32 is a phosphor layer formed by using a screen printing method, and is a thick film composed of a single crystal powder phosphor particle group. It is a phosphor layer. This layer has a thickness of about 10 layers of phosphor particles.
  • the first phosphor film 31 formed on the front panel 10 is a phosphor film made of a thin film crystal formed by using an electron beam (hereinafter referred to as “EB”) vapor deposition method described later. is there.
  • a thin film may include one composed of a group of amorphous particles.
  • TEM transmission electron microscope
  • X-ray diffraction A crystalline thin film consisting of a single solid solution, which gives a sharp peak (peak with a half-value width of several degrees or less by the -2 method) measured by the method.
  • the thickness of the first phosphor film 31 is such that when the first phosphor film 31 is irradiated with ultraviolet light, sufficient emission luminance can be obtained and visible light transmittance is ensured. It is set to the possible range. Specifically, the film thickness is in the range of 1 to 6 m, and preferably around 2 m. This will be explained later.
  • composition of the phosphor material constituting the second phosphor layer 32 is an ultraviolet excitation type as described below.
  • the phosphor material constituting the first phosphor film 31 is of a collision excitation type, for example, as shown below.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line XX in FIG.
  • the first phosphor film 31 is not formed on the entire surface between the partition walls 30 on the surface of the dielectric protection film 14. In a region corresponding to the display electrode 12 on the surface of the dielectric protective film 14, the first phosphor film 31 is cut out.
  • the cutout portion (notch portion 31a) is provided to expose the dielectric protection film 14 in the region where the display electrode 12 is formed to the discharge space 40. In the discharge during tunnel driving, the property of the dielectric protective film 14 having a high secondary electron emission coefficient can be effectively used.
  • the AC type PDP 1 is connected with drivers 141, 142, 143 and a drive circuit 140.
  • scanning electrode 12a half of every other electrode (hereinafter referred to as “scanning electrode 12a”) are connected to the scan driver 141. I have.
  • the remaining display electrodes 1 2 not connected to the scan driver 141 (hereinafter, referred to as “sustain electrodes 12 b”) are connected to the sustain driver 142.
  • All the address electrodes 22 are connected to the data dryno 143.
  • the drive circuit 140 is connected to the three drivers 141, 142, and 143.
  • a PDP display device including the AC type PDP 1 is configured.
  • a voltage is applied between the scanning electrode 12a corresponding to the cell to be turned on and the address electrode 22, thereby causing an address discharge.
  • a sustain discharge is generated by applying a pulse voltage between the scan electrode 12a and the sustain electrode 12b.
  • Ultraviolet rays are emitted from the discharge gas with the discharge, and the emitted ultraviolet rays are converted into visible light by the first phosphor film 31 and the second phosphor layer 32. In this way, in the AC PDP 1, the cell is turned on, and an image is displayed.
  • the display electrode 12 is formed by applying an electrode paste containing Ag on the main surface of the front glass substrate 11 using a screen printing method and sintering the paste.
  • the formation pattern of the display electrodes 12 is a stripe shape parallel to each other.
  • the first dielectric layer 13 is formed by screen printing a paste containing dielectric glass particles over the entire surface of the front glass substrate 11 on which the display electrodes 12 are formed. It is formed by coating and sintering. The thickness of the first dielectric layer 13 is about 20 ⁇ m.
  • the dielectric protection film 14 is formed by covering the surface of the first dielectric layer 13 with a thin film of MgO using a sputtering method or the like.
  • the first phosphor film 31 is formed by using the EB vapor deposition method, and a detailed forming method will be described later.
  • the method of forming the address electrode 22 and the second dielectric layer 23 on the back panel 20 is basically the same as that of the front panel 10 described above.
  • the partition wall 30 is formed by applying a glass paste for the partition wall on the surface of the second dielectric layer 23 by a screen printing method, and then firing it.
  • Each phosphor paste having the above composition is applied by a screen printing method to a groove portion formed by the partition wall 30 and the second dielectric layer 23, and is fired to form the second phosphor layer. 32 are formed.
  • the formation region of the second phosphor layer 32 is formed not only on the bottom surface of the groove, that is, on the surface of the second dielectric layer 23, but also on the wall surface of the partition wall 30.
  • the front panel 10 and the rear panel 20 manufactured as described above are formed by applying sealing glass (frit glass) to a portion to be joined and calcining to form a sealing glass layer. Thereafter, the display electrodes 12 and the address electrodes 22 are overlapped so as to face each other at right angles, and both panels 10 and 20 are heated to soften the sealing glass layer, thereby performing sealing.
  • sealing glass fluor glass
  • a discharge gas is sealed at a predetermined pressure.
  • the AC gas PDP 1 is completed by closing the discharge gas filling hole.
  • a method for forming the first phosphor film 31, which is a characteristic part of the AC PDP 1, will be described with reference to FIGS.
  • an EB vapor deposition apparatus as shown in FIG. 4 is used.
  • the EB vapor deposition apparatus 90 emits a hearth 93 containing a vapor deposition raw material 92 and an electron beam 94 in a vacuum chamber 91 that evacuates the inside.
  • a transport path for transporting the glass substrate 98 on which the first phosphor film 31 is to be formed is provided above these main components ⁇ , and is fixed in the direction of the arrow in the figure. It has a structure in which a thin-film phosphor is deposited on the lower surface of a glass substrate 98 passing at a high speed. Further, a heater (not shown) is attached above the transport path, so that the glass substrate 98 can be heated by this heat radiation.
  • the electron gun 95 has a structure as shown in FIG.
  • the electron gun 95 includes a filament 101 as a heat generation source, and a cathode 102 and an anode 103 as a pair of electrodes.
  • the electron beam 94 is emitted from the heated filament 101, accelerated by the force source 102 and the anode 103, and emitted toward the focusing coil 96.
  • an anti-adhesion plate 100 is provided in the apparatus so that the vapor 99 of the phosphor material 92 does not adhere to the devices in the transport path.
  • the first phosphor film 31 is formed using the above-described vapor deposition apparatus 90 as follows.
  • the phosphor material 92 having the above composition of the color to be formed is set on the heart 93.
  • the phosphor material is previously processed into a pellet.
  • the hearth 93 is irradiated with an electron beam 94, and the phosphor material 92 is heated to about 2000 ° C. and evaporated.
  • the steam 99 rising from the hearth 93 rises above the apparatus, and the glass substrate 9 in the transport path 9 8. Apply to the exposed surface.
  • a mask is provided in advance in a region where the first phosphor film 31 is not formed.
  • the intensity of the electron beam 94 to be irradiated and the transport speed of the glass substrate 98 are set such that the growth rate of the first phosphor film 31 is about 2.0 (nm / s).
  • the intensity of the electron beam 94 is set by the current value while keeping the voltage value between the force source 102 and the anode 103 constant.
  • the first phosphor film 31 In forming the first phosphor film 31, an EB vapor deposition method is used, but a vapor phase growth method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or a CVD method may be used. However, when forming the first phosphor film 31 on the surface of the dielectric protective film 14, the front panel 10 is not exposed to the air after the dielectric protective film 14 is formed. It is desirable to form a phosphor film while maintaining the above conditions. Furthermore, if the dielectric protective film 14 and the first phosphor film 31 are formed while maintaining the temperature of the glass substrate, the first phosphor film 31 having good crystallinity can be obtained. Can be formed.
  • the reason why the collision excitation type phosphor material is used for forming the first phosphor film 31 is that the phosphor film is formed on the outermost surface of the front panel 10 near the discharge region as described above.
  • the conventional phosphor emits light due to the characteristic of emitting light by the energy of the collision of electrons and ions. This is because it is more suitable than the excitation type phosphor material.
  • an ultraviolet excitation type phosphor material may be used. 4-5. Substrate temperature and crystallinity of phosphor film
  • FIG. 6 is a graph showing the relationship between the temperature of the glass substrate when forming the first phosphor film 31 and the peak intensity of the (111) orientation by X-ray diffraction.
  • the diffraction intensity increases as the substrate temperature increases. This indicates that when the phosphor is formed, the higher the temperature of the substrate, the higher the crystallinity of the obtained phosphor film. Therefore, in order to form a phosphor film with high crystallinity, it is desirable to heat the glass substrate within a range that does not adversely affect the glass substrate and the components formed thereon. 5. Consideration on the first phosphor film 3 1
  • FIG. 7 is a diagram showing a traveling path of ultraviolet light incident on the surface of a phosphor layer composed of a group of phosphor particles formed by using a thick film forming method.
  • FIG. 4 is a diagram showing a traveling path of ultraviolet light incident on the surface of a phosphor film made of a thin film crystal.
  • a dead layer is formed on the outermost surface of the phosphor particles.
  • the efficiency of transmitting the energy to the emission center is low. Therefore, the conversion efficiency to visible light is low. Above all, ultraviolet light incident on the thick part of the dead layer hardly contributes to light emission.
  • the first phosphor film 31 made of a thin film crystal although a dead layer may be formed in the initial growth layer, it is formed on the outermost surface of the film. It is hard to be done.
  • the first phosphor film 31 made of a thin film crystal has a higher conversion efficiency to visible light than the second phosphor layer 32 made of the phosphor particle group. Further, the thin-film crystal is a single solid solution and is hardly scattered, and therefore has a very high visible light transmittance.
  • FIG. 9 shows an evaluation sample prepared for examining the relationship between the thickness of the first phosphor film 31 and the emission luminance.
  • FIG. 10 shows an excimer of 147 nm in this sample.
  • 4 is a graph showing the results of measuring the emission luminance obtained when irradiating a lamp.
  • the relative luminance referred to here is a relative value assuming that the emission luminance of a phosphor layer composed of a conventional phosphor particle group is 100.
  • the sample used had a visible light reflecting layer 112 formed on the surface of a glass substrate 113, and a phosphor film 111 formed of a thin film crystal formed thereon. is there.
  • the relative luminance of the phosphor film 111 increases in proportion to the film thickness up to a thickness of 2 m, but becomes saturated when the thickness is 2 or more.
  • the relative luminance of the phosphor layer 111 in the saturated state is about 120, which indicates that the luminance is about 20% better than that of the phosphor layer composed of the phosphor particles.
  • the thickness of the phosphor film 11 1 can be compatible with obtaining sufficient light emission luminance and securing visible light transmittance when the first phosphor film 31 is irradiated with ultraviolet light.
  • Around 2 m is optimal.
  • the visible light transmittance is as high as 97% when the film thickness is 2 m.
  • the ultraviolet light emitted from the discharge gas travels in all directions of the discharge space 40.
  • the arrow U 1 pointing toward the first phosphor film 31 and the arrow pointing to the second phosphor layer 3 2 The one that moves towards is indicated by the arrow U2.
  • the arrow V 1 indicates visible light that is converted from the ultraviolet light of the arrow U 1 by the first phosphor film 31 and passes through the front panel 10, and the arrow V 2 indicates the second fluorescent light.
  • the ultraviolet light indicated by the arrow U 2 is converted by the body layer 32 to show visible light passing through the front panel 10.
  • the visible light indicated by the arrows V1 and V2 actually contributes to the luminous efficiency of the AC PDP1.
  • the ultraviolet light indicated by arrow U1 is absorbed by the front panel without being converted into visible light by the phosphor layer.
  • the ultraviolet light indicated by the arrow U1 is converted into visible light indicated by the arrow V1 by the first phosphor film 31 and then emitted to the outside of the panel.
  • the first phosphor film 31 has a high visible light transmittance as described above, it is possible to efficiently emit the light emitted by the ultraviolet light of the arrow U2 as the arrow V2 to the outside, thereby achieving high luminous efficiency. Have.
  • the AC type PDP 1 by forming the first phosphor film 31 on the front panel 10, the ultraviolet light generated by the discharge can be efficiently converted into visible light, and the converted visible light can be efficiently converted. Can be efficiently released to the outside. Therefore, the AC PDP 1 has higher luminous efficiency than the conventional AC PDP.
  • FIG. 12 is a graph showing the relationship between the thickness of the first phosphor film 31 formed on the front panel and the relative luminance of the panel in the blue phosphor film.
  • the relative luminance is a relative value when the luminance of a conventional AC PDP having a phosphor layer composed of phosphor particle groups only on the back panel is 100.
  • the visible light transmittance of the front panel decreases as the film thickness increases.
  • the visible light transmittance of about 97% at a film thickness of 2 m is about 97% at a film thickness of 6 m. Down to 85%.
  • the relative luminance of the entire panel calculated from the visible light transmittance and the relative luminance of the first phosphor film is indicated by a circle in the figure.
  • the relative luminance of the entire panel has a peak value when the film thickness is about 2 m, and gradually decreases as the film thickness increases.
  • the relative luminance when the film thickness is 2 m is as follows.
  • the visible light emission rate is the ratio of visible light that is actually emitted from the front panel to the outside of the visible light that can be converted from ultraviolet light.
  • the AC type PDP 1 having the first phosphor film 31 with a thickness of 2 m on the front panel 10 has a visible light emission rate about 40% higher than that of the conventional AC type PDP.
  • the luminous efficiency is also about 40% higher.
  • the first phosphor film 31 is provided on the front panel 10 in all the red, green, and blue cells.
  • the first phosphor film 3 is not necessarily provided for all the color cells. It is not necessary to form one.
  • the AC type PDP 1 by providing the first phosphor film 31 on the front panel 10 side of the light emitting cell of a specific color, the luminance of the color is improved and the panel is displayed in white. The color temperature at the time can be increased.
  • the first phosphor film 31 on the front panel may be generally formed only of a blue cell using a phosphor having a low visible light conversion rate.
  • the present inventor confirmed that the color temperature of white when the light emitting cells of each color were turned on under the same conditions on the AC PDP was confirmed. Oh, it was 1000 OK. This is 6000 K in the conventional AC PDP, which was lit under the same conditions, but it is close to the optimal color temperature of 11,000 K as the panel characteristics, and it is possible to suppress the decrease in brightness due to color temperature correction. It became.
  • the composition and characteristics of the phosphor used for the phosphor film of each color are taken into consideration so that the panel brightness and the overall color temperature become appropriate. It is necessary to set.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view of the AC type PDP 2 showing only a portion corresponding to one light emitting cell.
  • the only phosphor film (layer) formed in the AC type PDP 2 is the first phosphor film 31 formed on the surface of the front panel 10. That is, no phosphor film (layer) is formed on the back panel 20 and the partition 30.
  • the AC PDP 2 has the same structure as the AC PDP 1, and is manufactured using the same method.
  • the first phosphor film 31 has the notch 31a in the same manner as the AC type PDP 1.
  • the AC type PDP 2 can obtain sufficiently high luminance without forming a phosphor layer composed of a conventional phosphor particle group on the surface of the back panel 20 or the partition 30. This can be realized because, as described above, the phosphor film made of the thin film crystal has a higher luminous efficiency than the phosphor layer made of the phosphor particles.
  • this AC type PDP 2 can manufacture a panel without applying or firing a phosphor on the rear panel 20 after the partition wall 30 is provided on the surface. It has an advantage in manufacturing cost.
  • the first phosphor film 31 is formed on the outermost surface of the front panel 10, that is, on the surface of the dielectric protection film 14 facing the discharge space 40, as shown in FIG. As described above, the first phosphor film 31 may be provided between the first dielectric layer 13 and the dielectric protection film 14.
  • the dielectric protective film 14 having excellent secondary electron emission characteristics is exposed to the discharge space 40, so that the first phosphor film 31 has a notch at a portion corresponding to the display electrode 12. The discharge is not hindered even if 31a is not formed.
  • the visible light reflectance (the ratio of visible light reflected to the visible light input to the rear panel) is 85% or more.
  • the AC type PDP 3 is similar to the AC type PDP 2 in that the first phosphor film 31 is formed only on the front panel 10. 0, an address electrode 22 and a second dielectric layer 23 are formed, and a display electrode 12, a first dielectric layer 13, and a dielectric protection film 14 are formed on a rear panel 20. .
  • the address electrode 22 and the second dielectric layer 23 are formed of a material having high visible light transmittance so as not to hinder transmission of visible light. Specifically, a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) or SnO 2 is used for the address electrode 22, and the second dielectric layer 23 mainly contains lead oxide. Lead glass is used.
  • the address electrode 22 is formed in the short side direction of the panel, and a smaller current flows than the display electrode 12. Therefore, even if the electric resistance is large, the data driver 1 is not used. 43 The voltage drop at the end of the electrode opposite to the side connected to 3 is small. Therefore, even if the address electrode 22 is formed only of ITO, the address discharge is not substantially affected, and the first electrode formed on the surface of the second dielectric layer 23 is not affected. Since the phosphor film 31 does not have the display electrode 12 inside the front panel 10, the notch 31a as described above is not formed. That is, the first phosphor film 31 is formed over the entire area where visible light is transmitted.
  • the display electrode 12 formed on the front panel 10 has a bus electrode made of a metal material provided on a transparent electrode in order to reduce electric resistance. As a result, part of the visible light generated in the light emitting cell was blocked.
  • the AC type PDP 3 since the display electrode 12 is formed on the rear panel 20, visible light exiting from the front panel to the outside of the panel is not blocked by the display electrode 12. Therefore, the AC type PDP 3 is advantageous for improving brightness and luminous efficiency.
  • the display electrode 12 and the dielectric protection film 14 are formed on a glass substrate different from the first phosphor film 31, the first phosphor film 31 There is no need to provide a notch, so a large surface area can be secured.
  • the dielectric protection film 14 is formed so as to directly face the discharge space 40, the discharge characteristics are not sacrificed and the brightness is maintained. Is high. For example, in a 4-inch class NTSC panel, the display electrodes occupy nearly 70% of the total cell area.
  • the AC type PD When the structure of P3 is adopted, the light emission luminance is about three times as large as that of the AC type PDPs 1 and 2 because there is no notch compared to the case where the display electrode is formed on the front panel. Will be.
  • the first phosphor film 31 of the front panel 10 is formed between the first dielectric layer 13 and the dielectric protection film 14, and the cutout portion 31a is formed.
  • the AC PDP according to the present embodiment is advantageous because the front panel 10 is not provided with an electrode made of a metal material that blocks visible light.
  • the luminous efficiency of the entire panel can be improved, and high luminous brightness can be secured as described above.
  • the rear panel 20 Neither the first phosphor film 31 nor the second phosphor layer 32 was formed on the surface of the substrate and on the surface of the partition wall 30. It is effective to form a phosphor. However, in the case where the first phosphor film 31 or the second phosphor layer 32 is formed on the back panel 20 in the third embodiment, it is desirable to form the notch 31a.
  • the AC PDP 4 according to the fourth embodiment will be described.
  • the difference between the AC PDP 4 and the conventional AC PDP is that the back panel, on which a phosphor layer composed of a group of phosphor particles is conventionally formed, is formed of a thin-film phosphor film.
  • the area where the phosphor film having high luminous efficiency is formed is wider than the AC-type PDPs 2 and 3, so that the luminous efficiency of the panel is excellent.
  • the effective surface area of the first phosphor film 31 can be increased. So effective.
  • the visible light reflecting layer is the same as that of the second embodiment.
  • the visible light reflectance (the ratio of the reflected visible light to the visible light input to the rear panel) is 85% 1 ⁇ higher.
  • the unevenness can be made larger than the area of the smooth surface by, for example, making the surface of the visible light reflecting layer step-like or forming a plurality of protrusions.
  • the AC PDP obtained by combining the rear panel 20 of the AC PDP 4 and the front panel 10 of the AC PDP 1 has further improved luminance and exhibits excellent panel characteristics.
  • the formation location of the display electrode 12 is not limited to the front panel 10 alone, and may be formed on the rear panel 20 side as in the third embodiment.
  • an AC-type PDP has been described as an example.
  • similar effects can be obtained when the above-described structure is applied to not only the AC-type PDP but also the DC-type PDP. Can be done. Industrial applicability
  • the PDP and the method of manufacturing the same according to the present invention are effective for realizing a display device such as a computer and a television, particularly, a display device with high detail and high brightness.

Description

W 夸
プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 技術分野
本発明は、 プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関す る。 背景技術
プラズマディ スプレイパネル (以下、 「P D P」 という) は、 直流 ( D C ) 型と交流 (A C ) 型に大きく分けられるが、 現在では大型化に適 した A C型が主流となっている。
図 1 6は、 A C型 P D Pの一例を示す斜視図 (一部断面図) である。 図 1 6に示すように、 前面ガラス基板 6 1の表面上には、 複数の表示 電極 6 2がス トライプ状に配設されている。 表示電極 6 2が配設された 面の上には、 全体を覆うように誘電体層 6 3が形成されている。 さらに 、 誘電体層 6 3の面上には、 誘電体保護膜 6 4が形成されている。
一方、 背面ガラス基板 7 1の上記前面ガラス基板 6 1 と対向する面に は、 複数のアドレス電極 7 2がス トライプ状に配設されている。 ァドレ ス電極 7 2の配設方向は、 前面ガラス基板 6 1 と背面ガラス基板 7 1 と を対向配置する際に、 表示電極 6 2と交差する方向である。 アドレス電 極 7 2が配設された面の上には、 全体を覆うように誘電体層 7 3が形成 されている。 さらに、 誘電体層 7 3の面上には、 ア ドレス電極 7 2と平 行に、 且つ前面ガラス基板 6 1の方に向けて、 複数の隔壁 7 5が突設さ れている。
隣り合う隔壁 7 5と隔壁 7 5および誘電体層 7 3とで形成される溝部 分の側面には、 蛍光体層 7 6が配設されている。 蛍光体層 7 6は、 隔壁 7 5で仕切られる溝部分毎に、 赤色蛍光体層 7 6 R、 緑色蛍光体層 7 6 G、 青色蛍光体層 7 6 Bが配設されている。 これら蛍光体層 7 6は、 ス ク リーン印刷法ゃィンクジェッ ト法、 フォ ト レジス ト フ ィルム法などの 厚膜形成法を用いて形成された蛍光体粒子群からなる層である。 このような構造を有する前面ガラス基板 6 1 と背面ガラス基板 7 1 と を対向配置した際に、 上記溝部分と誘電体保護膜 64とで形成される放 電空間 77には、 放電ガスが封入されている。
以上の構造を有する AC型 P D Pは、 基本的に蛍光灯と同様の発光原 理を有し、 放電空間 77の内部における放電に伴い放電ガスから放出さ れた紫外線が蛍光体層 7 6を励起発光させ、 可視光に変換される。
ただし、 上記 AC型 P D Pに用いる各色の蛍光体層 7 6 R、 7 6 G、 76 Bには、 それぞれに異なる可視光への変換効率を有する蛍光体材料 が用いられている。 そのため、 パネルにおいて画像を表示させる際には 、 一般に各蛍光体層 76 R、 7 6 G、 76 Bの輝度を調整することによ つて、 色バランスの調整がなされている。 具体的には、 輝度の最も低い 色の蛍光体層を基準にして、 他の蛍光体層の輝度を色毎に決められた比 率で低下させている。
ところで、 高品位ディ スプレイへの要求が高まるのに伴い、 P D Pに おいても、 セルの微細化が求められている。 セルを微細化した場合、 放 電空間 77の体積の減少に伴って紫外線の放射効率が低下するので、 微 細なセル構造を有する P D Pを実現するためには、 従来よりもさらにセ ル単位での発光効率を向上させる必要がある。
例えば、 従来の NTS Cでは、 セル数が 64 0 X 480であり、 40 インチクラスではセルピッチが 0. 43mmx l . 2 9 mm, 1セル当 りの面積が.0. 5 5mm2で輝度が約 2 5 0 c d/m2である (例えば 、 機能材料 1 99 6年 2月号 V 0 1. 1 6、 N o. 2、 ページ 7)。 これに対して、 フルスペックのハイビジョンテレビの画素レベルでは 、 画素数が 1 9 20 x 1 1 2 5となり、 4 2インチクラスでのセルピッ チは 0. 1 5mmx 0. 48mmで、 1セル当りの面積が 0. 07 2m m2となる。 このようなスペックのハイビジョンテレビ用の PD Pを従 来の構造で作製した場合、 1セル当りの面積の減少に伴い、 紫外線の放 射効率が、 NT S Cの場合に比べて 1ノア〜 1 Z8程度の 0. 1 5 1 m ZW〜0. 1 7 1 m/W程度まで低下する。 よって、 パネルの発光効率 も、 低くなる。 発明の開示
本発明は、 以上のような課題を解決しょうとなされたものであって、 微細なセル構造を有する場合にも高い発光効率で動作させることが出来 るプラズマディ スプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目 的とする。
この目的を達成するために、 本発明は、 対向配置された前面パネルと 背面パネルとの間隙に、 複数の発光セルが形成されてなる P D Pにおい て、 少なく とも一部領域に薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜を備えること を特徴とする。
この P D Pでは、 結晶蛍光体膜が蛍光体粒子群からなる蛍光体層より も可視光変換率で優れるので、 高い発光効率で動作可能である。
上記結晶蛍光体膜が形成される領域は、 前面パネルにおける少なく と も一部の発光セル相当部位であることが望ましい。
従来の P D Pでは、 前面パネルに蛍光体層が形成されていなかったた め、 紫外線の一部が利用されずに前面パネルに吸収されていた。
これに対して、 上記 P D Pでは、 薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜が前 面パネルの少なく とも一部の発光セル相当部位に形成されているので、 この発光セル内で生じた紫外線の一部がそのまま前面パネルに吸収され ることなく、 可視光に変換されてパネル外部に放出される。
また、 従来の蛍光体粒子群からなる蛍光体層は、 可視光透過率が低い ので、 これを前面パネル側に形成すると、 発光セル内で生じた可視光の 多くを遮ってしまうのに対して、 上記結晶蛍光体膜では、 高い可視光透 過率を有する薄膜結晶から形成されているので、 これを前面パネル側に 形成しても、 発光セル内で生じた可視光をほとんど遮ることがない。 従って、 上記 P D Pでは、 従来の P D Pに比べて発光効率に優れ、 微 細なセル構造を採用する際にも適している。
なお、 一般に薄膜という用語を用いる場合、 結晶性の薄膜以外にもァ モルファスゃ粒子群からなる薄膜を含むが、 ここで云う薄膜結晶とは、 単一固溶体の薄膜であって、 透過型電子顕微鏡 (T E M) で結晶格子像 が確認出来るとともに、 X線回折法による測定で鋭いピークが得られる ような結晶性の薄膜を指している。
上記 P D Pでは、 結晶蛍光体膜の可視光透過率が少なく とも 8 5 %と なるような材料を選択したり、 膜厚を設定したりすることが望ましい。 これは、 前面パネルに转晶蛍光体膜を形成する場合であっても、 可視光 透過率が 8 5 %未満であると、 結晶蛍光体膜によって遮られてしまう可 視光が大きくなってしまい、 総合的に見てパネルの発光効率が低下する ためである。
なお、 この可視光透過率とは、 前面パネルに形成された薄膜結晶から なる蛍光体膜の可視光の透過率を指している。 具体的には、 当該蛍光体 自身の発光波長における透過率である。 また、 蛍光体自身の透過率を指 し、 その他基板や誘電体層の透過率は含めない。
また、 上記 P D Pでは、 必ずしも前面パネルの全域に結晶蛍光体膜を 形成する必要はない。 例えば、 本発明は、 結晶蛍光体膜を、 赤色および 緑色および青色の発光セル群の内の一つまたは二つの発光セル群、 具体 的には、 青色発光セル群および緑色発光セル群の内の少なく とも一方の 相当部位に形成すれば、 十分効果が得られる。 これは、 通常、 パネルの 色バランスをとる際にこれらの色に合わせて赤色の輝度を低下させるこ とが必要であり、 上記 2色の輝度が向上できれば、 パネル全体としての 発光効率を向上させることが出来るためである。 特に、 青色の発光セル 群の相当箇所に結晶蛍光体膜を形成することが効果的である。
また、 特定の色の発光セル群を選択して形成するほか、 形成する領域 を発光セル群の輝度に応じて制限することなどによっても効果が得られ る。
上記結晶蛍光体膜を形成するのに用いる蛍光体材料と、 蛍光体粒子群 からなる蛍光体層を形成するのに用いる蛍光体材料とは、 同じ材料であ つても良いし、 異なる材料であっても良い。 P D Pにおいて、 表示電極 間での放電は、 前面パネルの表面近傍で生じ、 数 mの領域である。 こ こでは、 多量の電離気体が存在し、 前面パネル表面は電子やイオンの衝 撃を多く受ける。 従来の P D Pでは、 放電領域から離れた背面パネルの みに蛍光体層が形成されるため、 紫外線励起型の蛍光体材料が用いられ てきた。
これに対して、 上記のように、 放電領域の近傍である前面パネルの最 表面に蛍光体膜が形成される場合には、 紫外線励起型のみでなく、 電子 やイオンが衝突する際の衝突エネルギーによって蛍光体が励起されて発 光する衝突励起型の蛍光体材料を用いることが出来る。
前面パネルにおいて、 上記結晶蛍光体膜を形成する前面パネルの部位 は、 保護膜の面上であっても良いし、 誘電体層と保護膜との層間であつ ても良い。 この内、 結晶蛍光体膜を保護膜の面上に形成する場合には、 表示電極の相当部位に切欠部を設けておく ことが望ましい。 これによつ て、 上記 P D Pでは、 パネル駆動時の放電において、 保護膜の二次電子 放出係数が高い性質が有効に利用できる。
また、 上記 P D Pでは、 保護膜の表面に設けた蛍光体膜に切欠部を設 けたが、 保護膜の表面全体に蛍光体膜を形成しても同様の効果が得られ る。 ただし、 蛍光体膜により放電が妨げられるために、 放電電圧が多少 高くなる。 これを防ぐためには、 前面パネルに形成する蛍光体膜を誘電 体層と保護膜との間に形成することが有効である。 このようにすれば、 放電が妨げられない上に、 蛍光体膜の表面積を大きく とることが可能と なり、 より輝度の高い P D Pを得ることが出来る。 ただし、 この場合に は、 結晶蛍光体膜が放電空間に直接面しないため、 この材料としては従 来と同様の紫外線励起型の蛍光体材料を用いることが必要である。 また、 上記 P D Pでは、 背面パネルおよび隔壁の少なく とも一方に蛍 光体粒子群からなる蛍光体層を備えていても良い。 たとえ、 背面パネル および隔壁の一方に蛍光体粒子群からなる蛍光体層を備えていない場合 にも、 上記 P D Pは、 従来の P D Pに比べて、 優れた発光 ¾率を有する 。 背面パネルに蛍光体層を形成しない場合には、 背面パネルの誘電体層 の面上に、 可視光を前面パネルの側に反射する機能を有する領域形成し ておく ことが、 発光効率の向上という面から望ましい。
上記結晶蛍光体膜と蛍光体粒子群からなる蛍光体層とは、 異なる組成 の蛍光体材料から形成されていることが望ましい。 特に、 結晶蛍光体膜 が衝突励起型の蛍光体材料から形成されていることが、 望ましい。 また 、 この場合には、 背面パネルや隔壁に蛍光体層を備えないので、 製造時 における工程数を減らすことができ、 コス ト面で優れる。
また、 上記 P D Pでは、 背面パネルが、 背面基板上に複数の電極と、 誘電体層とが形成されてなり、 誘電体層が、 間に結晶蛍光体膜あるいは 蛍光体粒子群からなる蛍光体層の何れも介することなく、 発光セルの内 部空間に面していても良い。 同様に、 背面パネル上に形成されている隔 壁において、 その表面が発光セルの内部空間に面していても良いし、 隔 壁の発光セル相当部位に蛍光体粒子群からなる蛍光体層あるいは薄膜結 晶からなる蛍光体膜が形成されていても良い。
背面パネルにおける発光セル相当部位に蛍光体層が形成されていない 場合には、 背面パネルが少なく とも 8 5 %以上の可視光反射率を有する 領域を形成しておく ことが望ましい。 背面パネルにおける上記可視光反 射率を有する領域を形成する箇所は、 誘電体層の面上であっても良いし 、 その層内であっても良い。
また、 上記 P D Pでは、 前面パネルにアドレス電極を有するとともに 、 背面パネルに表示電極を有するものも望ましい。
さらに、 本発明は、 対向配置された前面パネルと背面パネルとの間隙 に、 複数の発光セルが形成されてなる P D Pにおいて、 背面パネルが電 極を有しており、 背面パネルにおける前記電極上に、 可視光を前記前面 パネルの側に反射する機能を有する領域を介して、 薄膜結晶からなる結 晶蛍光体膜を備えていることを特徴とする。
上記 P D Pでは、 背面パネルの可視光を反射する機能を有する領域の 面上に薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜を形成しているので、 より発光効 率が向上する。 この場合、 上記可視光を反射する機能を有する領域にお ける結晶蛍光体膜の側に凹凸を設けておけば、 結晶蛍光体膜の実効表面 積を広くすることができ、 効果的である。 この凹凸は、 例えば表面を階 段状、 複数の突起を有する構造などが好ましい。 この凹凸による実効表 面積は、 その平滑面の面積の 5倍以上であることがより好ましい。
本発明は、 前面パネルおよび背面パネルの内の少なく とも一方に、 薄 膜結晶からなる蛍光体膜を形成する蛍光体膜形成ステツプを有する P D Pの製造方法において、 蛍光体膜形成ステツプでの蛍光体膜の形成に、 減圧雰囲気下における真空製膜プロセスを用いることを特徴とする。
この製造方法では、 前面パネルおよび背面パネルの内の少なく とも一 方に薄膜結晶からなる蛍光体膜を容易に形成することが出来るので、 従 来の P D Pに比べて、 発光効率の高い P D Pを製造することが出来る。 具体的な真空製膜プロセスとしては、 真空蒸着法やスパッ夕リ ング法 や C V D法などに代表される気相成長法があげられる。 この真空製膜プ ロセスでの減圧雰囲気には、 形成する蛍光体の材料組成によって、 酸素 を注入したり、 還元性を有するようにしたりすることが望ましい。 上記 P D Pの製造方法では、 前面パネルを形成するステツプを有し、 前面パネルを形成するステツプが、 保護膜を形成するサブステツプを有 し、 保護膜を形成するサブステップと蛍光体膜形成ステップとが、 その ステツプ間に他の工程を介することなく連続して実施されることが望ま しい。 このような製造方法では、 基板の温度を低下させることなく両方 の膜を一貫形成出来るので、 放電空間に面する最表面側の膜の結晶性が 良好なものとすることが出来る。
特に、 上記製造方法では、 ステップ間で前面パネルを大気に曝すこと がないように維持することが結晶性を良好に膜を形成できるという点か ら望ましい。
また、 上記製造方法では、 真空装置を個別に備えずに済むので、 設備 費用を抑えることが出来る。
上記蛍光体膜形成ステップでは、 基板の蛍光体膜を形成しょうとする 領域を加熱しておく ことが望ましい。 これは、 真空製膜プロセスにおい て、 加熱により基板の瘟度を上昇させておけば、 蛍光体膜の薄膜結晶に おける結晶性を高めることができるためである。
さらに、 本発明は、 前面パネルに第 1の蛍光体層を形成する第 1 のス テツプと、 背面パネルに第 2の蛍光体層を形成する第 2のステップとを 備える P D Pの製造方法において、 第 1 のステツプおよび第 2のステツ プの内、 一方のステップが、 薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜を形成する ステップであり、 他方のステップが、 蛍光体粒子群からなる蛍光体層を 形成するステツプであることを特徴とする。
この方法では、 従来の P D Pに比べて、 色バランスを崩すことなく、 発光効率に優れた P D Pを製造することが出来る。
本発明は、 上記製造方法を用いて製造された P D Pや、 P D Pにこれ を駆動するための駆動回路を備える P D P表示装置も、 その範囲に含む ものである。
なお、 本願明細書に添付の図面ならびに以下に記載の実施の形態は、 本発明の一例として挙げたに過ぎない。 本発明は、 これら図面および実 施の形態に限定されることを意図しない。 図面の簡単な説明
図 1 ; 実施の形態 1 に係る A C型 P D Pを示す斜視図 (一部断面図) である。
図 2 ; 図 1 における X— X矢視断面図である。
図 3 ; 図 1 の P D Pと駆動回路とからなる P D P表示装置を示す構成 図である。
図 4 ; 第 1の蛍光体膜を形成するための E B蒸着装置を示す構成図で ある。
図 5 ; 図 4における電子銃を示す構成図である。
図 6 ; X線回折による基板温度と回折強度との関係を示すグラフであ る。
図 7 ; 蛍光体粒子群からなる蛍光体層に入射する紫外線の経路を示す 模式図である。
図 8 ; 薄膜結晶の蛍光体膜に入射する紫外線の経路を示す模式図であ る。
図 9 ; 蛍光体評価用のサンプルを示す概略図である。
図 1 0 ; 薄膜結晶からなる蛍光体膜の膜厚と輝度との関係を示すダラ フである。
図 1 1 ; 図 1 における Y— Y矢視断面図である。
図 1 2 ; 膜厚と相対輝度の関係図である。
図 1 3 ; 実施の形態 2に係る AC型 P DPの一部分を示す断面図であ る。
図 1 4 ; 誘電体層と誘電体保護膜との間に第 1の蛍光体膜が揷設され た前面パネルを示す断面図である。
図 1 5 ; 実施の形態 3に係る AC型 P D Pの一部分を示す断面図であ る。
図 1 6 ; 従来の AC型 P DPを示す斜視図 (一部断面図) である。 発明を実施するための最良の形態
(実施の形態 1 )
1. パネルの全体構成
実施の形態 1 に係る AC型 P DPの全体構成について、 図 1を用いて 説明する。 図 1は、 AC型 PDP 1の一部分を抜き出して示した図であ る。
図 1に示すように、 AC型 PD P 1は、 前面パネル 1 0と背面パネル 20とが間隔.をあけて対向配置され、 パネル間の空間が隔壁 30によつ て複数の放電空間 40に仕切られた構造を有する。
前面パネル 1 0は、 前面ガラス基板 1 1の一方の主表面上 (図では下 側) に複数の表示電極 1 2がス トライプ状に配設され、 その表面に第 1 の誘電体層 1 3および誘電体保護膜 1 4が順に積層された構造を有して いる。 背面パネル 2 0は、 上記前面パネル 1 0と対向する側の背面ガラス基 板 2 1の面上に、 複数のァドレス電極 2 2がス トライプ状に配設され、 その表面を覆うように第 2の誘電体層 2 3が形成されてなる。
また、 隔壁 3 0は、 実際には背面パネル 2 0の第 2の誘電体層 2 3の 上に突設されているものであって、 アドレス電極 2 2と平行に、 且つ、 隣り合うアドレス電極 2 2とアドレス電極 2 2との間の領域に配置され ている。
前面パネル 1 0と背面パネル 2 0とは、 それぞれに配設された表示電 極 1 2とアドレス電極 2 2とが交差して対向するように配置され、 パネ ル周囲が気密シール層で封着されている。
放電空間 4 0の内部には、 放電ガス (N e— X e系ガス、 H e— X e 系ガスなど) が封入されている。
上記 A C型 P D P 1では、 両ガラス基板 1 1、 2 1間における表示電 極 1 2とアドレス電極 2 2とが交差する各々の部分が、 発光セルに相当 することになる。
誘電体保護膜 1 4の面上における発光セルの相当部位には、 第 1の蛍 光体膜 3 1が形成されており、 隔壁 3 0および第 2の誘電体層 2 3の面 上には、 第 2の蛍光体層 3 2が形成されている。
これら蛍光体層 3 1、 3 2の内、 第 2の蛍光体層 3 2は、 スクリーン 印刷法を用いて形成された蛍光体層であって、 単結晶粉末の蛍光体粒子 群からなる厚膜蛍光体層である。 この層は、 蛍光体粒子が概ね 1 0層程 度積層された厚さとなっている。
一方、 前面パネル 1 0に形成されている第 1の蛍光体膜 3 1は、 後述 する電子ビーム (以下、 「E B」 という) 蒸着法を用いて形成された、 薄膜結晶からなる蛍光体膜である。 ただし、 一般に薄膜には、 ァモルフ ァスゃ粒子群からなるものも含むことがあるが、 ここで云う薄膜結晶と は、 透過型電子顕微鏡 (T E M) で結晶格子像が確認出来るとともに、 X線回折法による測定で鋭いピーク ( — 2 法で半値幅が数度以下の ピーク) が得られるような、 単一固溶体からなる結晶質の薄膜を示す。 また、 第 1の蛍光体膜 3 1の膜厚は、 当該第 1の蛍光体膜 31に紫外 線を照射した際に十分な発光輝度が得られることと可視光透過率を確保 することが両立可能な範囲に設定されている。 具体的に、 膜厚は、 1〜 6 mの範囲内であり、 望ましくは 2 m付近である。 この点について は、 後で説明する。
第 2の蛍光体層 32を構成する蛍光体材料の組成は、 以下に示すよう な紫外線励起型のものである。
赤色蛍光体 : (Y, G d) B03 : E u
緑色蛍光体: Z n2S i 04 : Mn
青色蛍光体 : B aMgA l 1 ()017 : Eu
—方、 第 1の蛍光体膜 31を構成する蛍光体材料は、 衝突励起型のも のであって、 例えば以下に示すようなものである。
赤色蛍光体 S n O 2 : E u
緑色蛍光体 Z n 0 : Z n
青色蛍光体 Z n S : A g
2. 第 1の蛍光体膜 3 1の形状
次に、 第 1の蛍光体膜 31の形状について、 図 2を用いて説明する。 図 2は、 上記図 1における X— X矢視断面図である。
図 2に示すように、 第 1の蛍光体膜 31は、 誘電体保護膜 14の面上 における隔壁 30と隔壁 30との間の全面に形成されているのではない 。 誘電体保護膜 14の面上における表示電極 12に対応した領域では、 第 1の蛍光体膜 31は、 切り欠かれている。 この切り欠かれた部分 (切 欠部 3 1 a) は、 表示電極 12が形成された領域の誘電体保護膜 14を 放電空間 40に対して露出させるために設けられているものであり、 パ ネル駆動時の放電において、 誘電体保護膜 14の二次電子放出係数が高 い性質が有効に利用できる。
3. パネルと駆動回路との接続
上記 AC型 P DP 1と駆動回路との接続について、 図 3を用いて説明 する。 図 3に示すように、 A C型 P D P 1には、 各ドライバ 141、 142 、 143および駆動回路 140が接続されている。
AC型 P D P 1に形成された複数の表示電極 1 2の内、 一本おきに配 されている半数の電極 (以下、 「走査電極 1 2 a」 という) は、 スキヤ ンドライバ 141に接続されている。 スキャンドライバ 141に接続さ れていない残りの表示電極 1 2 (以下、 「維持電極 1 2 b」 という) は 、 サスティ ンドライバ 142に接続されている。
また、 全てのァドレス電極 22は、 データ ドライノ 143に接続され ている。
駆動回路 140は、 上記 3つの ドライバ 141、 142、 143に接 続されている。 このようにして、 AC型 PDP 1を備える PDP表示装 置が構成されている。
この P D P表示装置では、 点灯させようとするセルに対応する走査電 極 1 2 aとアドレス電極 22の間に電圧が印加されて、 ァ ドレス放電を 生じる。 アドレス放電の後に、 走査電極 12 aと維持電極 12 bとの間 には、 パルス電圧が印加されることによって、 維持放電が発生する。 そ して、 この放電に伴って放電ガスから紫外線が放出され、 放出された紫 外線は、 上記第 1の蛍光体膜 31および第 2の蛍光体層 32で可視光に 変換される。 このようにして、 AC型 PDP 1では、 セルが点灯し、 画 像が表示される。
4. A C型 P D P 1の製造方法
次に、 上記構造の AC型 P D P 1の製造方法について説明する。 . 4— 1. 前面パネル 10の製造方法 .
表示電極 12は、 上述のように、 前面ガラス基板 1 1の主表面上に A gを含む電極用ペース トをスク リーン印刷法を用いて塗布し、 焼結する ことによって形成される。 表示電極 12の 成パターンは、 互いに平行 なス トライプ状とする。
第 1の誘電体層.13は、 表示電極 12が形成された前面ガラス基板 1 1の面全体に誘電体ガラス粒子を含むペース トをスク リ一ン印刷法を用 いて塗布し、 焼結することにより形成される。 第 1の誘電体層 1 3の厚 みは、 20〃 m程度である。
誘電体保護膜 14は、 スパッタリング法などを用いて、 第 1の誘電体 層 13の表面上を Mg 0の薄膜で覆うことにより形成される。
第 1の蛍光体膜 31は、 EB蒸着法を用いて形成されるが、 詳細な形 成方法については、 後述する。
4-2. 背面パネル 20の製造方法
背面パネル 20におけるァドレス電極 22およぴ第 2の誘電体層 23 の形成方法は、 基本的に上述の前面パネル 1 0の場合と同様である。 隔壁 30は、 第 2の誘電体層 23の面上に隔壁用のガラスペース トを スクリーン印刷法で塗布した後に、 焼成することにより形成される。 隔 壁 30と第 2の誘電体層 23とで形成される溝部分には、 上記組成を有 する各蛍光体ペース トがスクリーン印刷法により塗布され, 焼成される ことにより第 2の蛍光体層 32が形成される。 第 2の蛍光体層 32の形 成領域は, 溝部分の底面、 つまり第 2の誘電体層 23の面上だけではな く、 隔壁 30の壁面にも形成されている。
4-3. 前面パネル 10と背面パネル 20との封着
以上のように製造された前面パネル 1 0と背面パネル 20とは、 接合 しょうとする部分に封着用のガラス (フリ ッ トガラス) を塗布し、 仮焼 成して封着ガラス層を形成して後、 表示電極 1 2とアドレス電極 22と が直交して対向するように重ね合わせて、 両パネル 10、 20を加熱し て封着ガラス層を軟化させて封着がなされる。
封着によって形成された放電空間 40は、 高真空状態 (例えば、 1. 0 1 0~4P a) まで排気がなされた後、 放電ガスが所定圧力で封入 される。 そして、 放電ガスの封入孔が塞がれることによって、 AC型 P D P 1が完成する。
4-4. 第 1の蛍光体膜 31の形成方法
AC型 PDP 1の特徴部分である第 1の蛍光体膜 31の形成方法につ いて、 図 4および図 5を用いて説明する。 第 1の蛍光体膜 3 1の形成には、 上述の第 2の蛍光体層 3 2を形成す る場合とは異なり、 図 4に示すような E B蒸着装置が用いられる。
図 4に示すように、 E B蒸着装置 9 0は、 内部を真空状態にする真空 チャ ンバ一 9 1の中に、 蒸着原料 9 2を収容するハース 9 3と、 電子ビ ーム 9 4を出射する電子銃 9 5と、 出射された電子ビーム 9 4を集束 - 偏向する集束コィル 9 6と偏向コイル 9 7とを備えている。
これら主要構成部 φ上方には、 第 1の蛍光体膜 3 1の形成対象となる ガラス基板 9 8が搬送される搬送路 (不図示) が備えられており、 図中 の矢印の方向に一定速度で通過するガラス基板 9 8の下側表面に薄膜結 晶の蛍光体が被着される構造となっている。 また、 搬送路の上方には、 ヒー夕 (不図示) が取り付けられており、 この熱輻射によってガラス基 板 9 8が加熱できるようになっている。
この Ε Β蒸着装置 9 0の構成要素の中で、 電子銃 9 5は、 図 5に示す ような構造を有している。
図 5に示すように、 電子銃 9 5は、 熱発生源であるフイラメント 1 0 1 と、 一対の電極であるカソード 1 0 2およびアノード 1 0 3とを備え る。 電子ビーム 9 4は、 加熱されたフイ ラメント 1 0 1から出射され、 力ソード 1 0 2およびアノード 1 0 3で加速されて集束コィル 9 6に向 けて放出される。
図 4において、 装置内には、 蛍光体材料 9 2の蒸気 9 9が搬送路の機 器などに被着しないように防着板 1 0 0が設けられている。
第 1 の蛍光体膜 3 1の形成は、 上記 Ε Β蒸着装置 9 0を用いて以下の ようにして行う。
先ず、 形成しょうとする色の上記組成を有する蛍光体材料 9 2をハー ス 9 3にセッ トする。 蛍光体材料は、 前もってペレツ ト状に加工されて いる。
次に、 このハース 9 3に向けて電子ビーム 9 4を照射し、 蛍光体材料 9 2を約 2 0 0 0 °C程度まで加熱して蒸発させる。 ハース 9 3から上が つた蒸気 9 9は、 装置の上方に上昇してゆき、 搬送路中のガラス基板 9 8の露出された面に被着する。 ガラス基板 9 8には、 予め第 1の蛍光体 膜 3 1 を形成しない領域にマスクが設けられている。
照射する電子ビーム 9 4の強度およびガラス基板 9 8の搬送速度は、 第 1 の蛍光体膜 3 1の成長レートが約 2 . 0 ( n m/ s ) になるように 設定する。 電子ビーム 9 4の強度は、 力ソー ド 1 0 2 とアノー ド 1 0 3 との間の電圧値を一定に保った状態で、 電流値により設定される。
なお、 上記第 1の蛍光体膜 3 1 の形成にあっては、 E B蒸着法を用い たが、 例えば真空蒸着法やスパッタ リ ング法、 C V D法などの気相成長 法を用いてもよい。 ただし、 誘電体保護膜 1 4の面上に第 1の蛍光体膜 3 1 を形成するに当っては、 誘電体保護膜 1 4を形成した後、 前面パネ ル 1 0を大気に曝さない状態を維持して蛍光体膜を形成することが望ま しい。 さらに、 ガラス基板の温度も保ったまま、 誘電体保護膜 1 4およ ぴ第 1の蛍光体膜 3 1を形成するようにすれば、 良好な結晶性を有する 第 1 の蛍光体膜 3 1を形成することが出来る。
また、 上述の形成方法では、 第 1の蛍光体膜 3 1 を形成する際に、 用 いる材料毎に雰囲気を最適化することが望ましい。 例えば、 S n 0 2 : E uなどの材料を用いて蛍光体層を形成する際には、 成長段階における 酸素欠陥の発生を抑制するために、 酸素を含む雰囲気とすることが必要 である。 Z n O : Z.nなどの材料を用いる際には、 還元性の雰囲気とす ることが望ましい。
また、 Z n S : A gでは、 酸化性も還元性も示さない減圧雰囲気とす ることが望ましい。
ここで、 第 1 の蛍光体膜 3 1の形成に衝突励起型の蛍光体材料を用い たのは、 上述のように放電領域の近傍である前面パネル 1 0の最表面に 蛍光体膜を形成する場合に、 電子やイオンが衝突する際のエネルギーに よって発光するという特性から、 放電領域近傍である前面パネル 1 0の 最表面に第 1の蛍光体膜 3 1 を形成する場合、 従来の紫外線励起型の蛍 光体材料よりも適しているためである。 ただし、 第 1の蛍光体膜 3 1の 形成には、 紫外線励起型の蛍光体材料を用いてもかまわない。 4 - 5 . 基板温度と蛍光体膜の結晶性
上記第 1の蛍光体膜 3 1を形成する際に、 ガラス基板を加熱する理由 について、 図 6を用いて説明する。 図 6は、 第 1の蛍光体膜 3 1 を形成 する際のガラス基板の温度と X線回折による ( 1 1 1 ) 配向のピーク強 度との関係を示すグラフである。
図 6に示すように、 回折強度は、 基板温度の上昇に伴い上昇していく 。 これは、 蛍光体を形成する際に、 基板の温度が高いほど得られる蛍光 体膜の結晶性が高いことを示している。 よって、 結晶性の高い蛍光体膜 を形成するには、 ガラス基板やその上に形成されている構成要素に悪影 響を及ぼさない範囲で、 ガラス基板を加熱しておく ことが望ましい。 5 . 第 1の蛍光体膜 3 1 についての考察
5— 1 . 薄膜結晶からなることの優位性
以上のような第 1の蛍光体膜 3 1は、 薄膜結晶からなるので、 優れた 可視光透過率を有し、 且つ紫外線から可視光への変換効率も高い。 以下 では、 これら第 1の蛍光体膜 3 1の優位性について、 図 7、 8の両図を 用いて説明する。 図 7は、 厚膜形成法を用いて形成された蛍光体粒子群 からなる蛍光体層の表面に入射する紫外線の進行経路を示す図であり、 図 8は、 真空製膜プロセスを経て形成された薄膜結晶からなる蛍光体膜 の表面に入射する紫外線の進行経路を示す図である。
図 7に示すように、 厚膜形成法を用いて形成された蛍光体層では、 蛍 光体粒子の最表面にデツ ドレイヤーが形成される。 このデッ ドレイヤー の部位では、 紫外線を吸収しても発光中心にそのエネルギーを伝搬する 効率が低い。 そのため、 可視光への変換効率が低い。 中でも、 デッ ドレ ィヤーの厚い部分に入射された紫外線は、 ほとんど発光に寄与しない。 これに対して、 図 8に示すように、 薄膜結晶からなる第 1の蛍光体膜 3 1では、 成長初期の層にデッ ドレイヤーが形成されることがあるもの の、 膜の最表面には形成されにくい。 よって、 薄膜結晶からなる第 1の 蛍光体膜 3 1 は、 上記蛍光体粒子群からなる第 2の蛍光体層 3 2に比べ て可視光への変換効率が高い。 また、 薄膜結晶は、 単一固溶体であり、 散乱され難いため、 可視光透 過率が非常に高い。
5 - 2 . 第 1 の蛍光体膜 3 1の膜厚についての考察
次に、 上述の第 1の蛍光体膜 3 1の厚みの設定について図 9、 1 0を 用いて説明する。 図 9は、 第 1の蛍光体膜 3 1の膜厚と発光輝度との関 係を調べるために作製した評価用のサンプルであり、 図 1 0は、 このサ ンプルに 1 4 7 n mのエキシマランプを照射した際に得られる発光輝度 を測定した結果を示すグラフである。 ここで云う相対輝度とは、 従来の 蛍光体粒子群からなる蛍光体層の発光輝度を 1 0 0として相対的に示す ものである。
図 9に示すように、 用いるサンプルは、 ガラス基板 1 1 3の面上に可 視光反射層 1 1 2を形成し、 その上に薄膜結晶からなる蛍光体膜 1 1 1 を形成したものである。
図 1 0に示すように、 蛍光体膜 1 1 1の相対輝度は、 膜厚が 2 mま での範囲では膜厚に比例して高くなるが、 2 以上では飽和状態とな る。 飽和状態における蛍光体層 1 1 1の相対輝度は、 約 1 2 0であり、 蛍光体粒子群からなる蛍光体層よりも輝度が約 2 0 %優れることが分か る。
従って、 蛍光体膜 1 1 1の膜厚は、 当該第 1の蛍光体膜 3 1に紫外線 を照射した際に十分な発光輝度が得られることと可視光透過率を確保す ることが両立可能な 2 m付近が最適である。 例えば、 上記組成の蛍光 体材料で薄膜結晶からなる青色の蛍光体膜を形成すると、 膜厚が 2 m のときに、 9 7 %と非常に高い可視光透過率を有する。
5 - 3 . A C型 P D P 1 において発光効率が向上するメ力ニズム 次に、 上記 A C型 P D P 1 において発光効率が向上するメカニズムに ついて、 図 1 1 を用いて説明する。
A C型 P D P 1 において、 放電ガスから放出された紫外線は、 放電空 間 4 0の全方向に向けて進行する。 図 1 1では.、 便宜上、 第 1の蛍光体 膜 3 1の方に向かって進行するものを矢印 U 1、 '第 2の蛍光体層 3 2の 方に向かって進行するものを矢印 U 2で示している。
図 1 1おいて、 矢印 V 1は、 第 1の蛍光体膜 3 1で矢印 U 1の紫外線 が変換されて前面パネル 1 0を通過する可視光を示し、 矢印 V 2は、 第 2の蛍光体層 3 2で矢印 U 2の紫外線が変換されて前面パネル 1 0を通 過する可視光を示している。 この矢印 V 1 と矢印 V 2の可視光が、 実際 に A C型 P D P 1の発光効率に寄与するものである。
上記従来の A C型 P D Pでは、 矢印 U 1で示す紫外線が蛍光体層によ つて可視光に変換されることなく前面パネルに吸収されてしまう。
これに対して, A C型 P D P 1では、 矢印 U 1の紫外線が第 1の蛍光 体膜 3 1 によって、 矢印 V 1の可視光に変換されて後、 パネルの外部に 放出される。
さらに、 第 1 の蛍光体膜 3 1は、 上述のように、 可視光透過率が高い ので、 '矢印 U 2の紫外線による発光が矢印 V 2として無駄なく外部に放 出でき、 高い発光効率を有する。
以上のように、 A C型 P D P 1では、 前面パネル 1 0に第 1の蛍光体 膜 3 1 を形成することによって、 放電によって生じた紫外線を効率よく 可視光に変換できるとともに、 変換された可視光を効率よく外部に放出 することが出来る。 よって、 この A C型 P D P 1 は、 従来の A C型 P D Pに比べて発光効率が高い。
5 - 4 . 青色蛍光体層の一例
八 型? 0 1 における発光効率が、 従来の A C型 P D Pに対して優 位性を示す具体例について、 図 1 2を用いて説明する。 図 1 2は、 青色 の蛍光体膜において、 前面パネルに形成する第 1 の蛍光体膜 3 1 の膜厚 と、 パネルの相対輝度との関係を示すグラフである。 図中において、 相 対輝度とは、 蛍光体粒子群からなる蛍光体層を背面パネルのみに備える 従来の A C型 P D Pの輝度を 1 0 0としたときの相対値である。
図 1 2に示すように、 前面パネル (第 1の蛍光体膜) の可視光透過率 は、 膜厚が増していくのに従って、 低下してく る。 例えば、 膜厚が 2〃 mのときに約 9 7 %である可視光透過率は、 膜厚が 6 mのときには約 85 %まで低下する。
この可視光透過率と第 1の蛍光体膜の相対輝度とから算出されるパネ ル全体としての相対輝度は、 図中の丸印で示されている。 図 1 2からも 分かるように、 パネル全体としての相対輝度は、 膜厚が約 2 mのとき にピーク値を有し、 膜厚が増すに従って徐々に低下している。 膜厚が 2 mのときの相対輝度は、 以下の通りとなる。
第 1の蛍光体膜 3 1を前面パネルに備える AC型 P D P 1では、 前面 パネルの可視光透過率が 97 %、 U 1 / (U 1 +U 2) が 30%である と仮定すれば、 可視光放出率が、 97 % X 70 %+ 30 %= 97. 9 % となる。
なお、 可視光放出率とは、 紫外線から変換されうる可視光の内、 実際 に前面パネルから外部に放出される可視光の比率である。
これに対して、 前面パネルに蛍光体層を備えない従来の AC型 P D P では、 前面パネルの可視光透過率が 1 00 %、 U 2が 70%であると仮 定すれば、 可視光放出率が、 1 00 % X 70 %= 70 %となる。
従って、 前面パネル 1 0に膜厚 2 mの第 1の蛍光体膜 3 1を備える AC型 P DP 1 は、 従来の AC型 P D Pに比べて、 可視光放出率が約 4 0%高く .、 発光効率も同様に約 40%高い。
6. 実施の形態 1の変形例
上記 AC型 P D P Iでは、 赤色、 緑色、 青色の全てのセルにおいて、 前面パネル 1 0に第 1の蛍光体膜 3 1を有するものとしたが、 必ずしも 全色のセルついて第 1の蛍光体膜 3 1を形成する必要はない。 例えば、 上記 AC型 PD P 1では、 特定の色の発光セルの前面パネル 1 0側に第 1の蛍光体膜 3 1を設けることによって、 その色の輝度を向上させ、 ノ ネルを白表示させるときの色温度を高くすることも出来る。
例えば、 前面パネルにおいて第 1の蛍光体膜 3 1を形成するのは、 一 般的に可視光変換率の低い蛍光体を用いる青色のセルだけであっても良 い。 図には示していないが, これについて本発明者が AC型 PDPに各 色の発光セルを同一条件で点灯させた際の白色の色温度を確認したとこ ろ、 1000 OKであった。 これは、 同一の条件で点灯させた上記従来 の AC型 PDPでは、 6000 Kであったが、 パネル特性として最適な 色温度 1 1 000 Kに近く、 色温度補正による輝度低下を抑えることが 可能となった。
ただし、 第 1の蛍光体膜 31の形成にあっては、 各色の蛍光体膜に用 いる蛍光体の組成および特性を考慮した上で、 パネルの輝度および全体 として適当な色温度となるように設定することが必要である。
また、 上記では、 AC型 PDPを一例に、 薄膜結晶からなる蛍光体膜 の形成方法およびこれを有する P D Pの優位性について説明してきたが 、 D C型 P D Pにも適用可能である。
(実施の形態 2)
実施の形態 2に係る AC型 P D P 2について、 図 1 3を用いて説明す る。 図 1 3は、 1つの発光セルに相当する部分のみを示す AC型 P D P 2の断面図である。
図 1 3に示すように、 A C型 P D P 2において形成されている蛍光体 膜 (層) は、 前面パネル 1 0の表面上に形成された第 1の蛍光体膜 3 1 だけである。 つまり、 背面パネル 20および隔壁 30には、 蛍光体膜 ( 層) が形成されていない。
AC型 PDP 2は、 この点を除いて、 上記 AC型 P D P 1と同様の構 造を有し、 同様の方法を用いて製造される。
なお、 図示はしていないが、 第 1の蛍光体膜 31が切欠部 31 aを有 している点も上記 AC型 P D P 1と同様である。
この AC型 PDP 2は、 従来の蛍光体粒子群からなる蛍光体層を背面 パネル 20や隔壁 30の面上に形成しなくても、 十分に高い輝度が得ら れる。 これは、 上述のように、 薄膜結晶からなる蛍光体膜が、 蛍光体粒 子群からなる蛍光体層に比べて高い発光効率を有することから実現出来 るものである。
また、 この AC型 PDP 2は、 表面上に隔壁 30を突設した後の背面 パネル 20に蛍光体の塗布や焼成をすることなくパネルを製造出来るの で、 製造コス ト面で優位性を有する。
なお、 上記実施の形態 1、 2では、 第 1の蛍光体膜 31を前面パネル 10の最表面、 つまり放電空間 40に面する誘電体保護膜 14の面上に 形成したが、 図 14に示すように、 第 1の蛍光体膜 31を第 1の誘電体 層 1 3と誘電体保護膜 14の間に揷設しても良い。
このようにすれば、 二次電子放出特性に優れた誘電体保護膜 14が放 電空間 40に露出されるので、 第 1の蛍光体膜 31には、 表示電極 12 に対応する部分に切欠部 31 aを形成しなくても放電が妨げられること がない。
従って、 第 1の蛍光体膜 31に切欠部 3 1 aを形成する必要がなくな り、 第 1の蛍光体膜 31の表面積が増大される。 これによつて、 AC型 PDPでは、 より高輝度が実現される。
なお、 上記 AC型 PDP 2では、 背面パネル 20の第 2の誘電体層 2 3の面上に何も形成しなかったが、 面上に可視光を前面パネル 1 0の方 に反射するような可視光反射層を形成するか、 あるいは第 2の誘電体層 23に T i O2を混入するなどにより、 可視光を反射させる機能を持た せることで、 前面パネル 10での発光が背面パネル 20側に無駄に放出 されることなく前面パネル 10側に取り出すことが可能となるので、 ノ、 ° ネルの発光輝度がその分向上する。 可視光反射層が形成された背面パネ ル 20では、 可視光反射率 (背面パネルに入力された可視光の内、 反射 される可視光の割合) が 85%以上となっている。
(実施の形態 3)
実施の形態 3に係る AC型 PDP 3について、 図 15を用いて説明す る。
図 1 5に示すように、 AC型 PDP 3と上記 AC型 P DP 2とは、 第 1の蛍光体膜 3 1が前面パネル 10のみに形成されている点では同様で あるが, 前面パネル 1 0にアドレス電極 22および第 2の誘電体層 23 が形成され、 背面パネル 20に表示電極 1 2、 第 1の誘電体層 1 3およ ぴ誘電体保護膜 14が形成されている点で異なる。 この構造を採用するにあたって、 ァドレス電極 2 2および第 2の誘電 体層 2 3は、 可視光の透過を妨げないように可視光透過率の高い材料か ら形成されている。 具体的に、 ァ ドレス電極 2 2には、 I T O ( I n d i u m T i n O x i d e ) や S n O 2などの透明電極を用い、 第 2 の誘電体層 2 3には、 酸化鉛を主成分とする鉛ガラスを用いる。 ここで 、 ア ドレス電極 2 2は、 パネルの短辺方向に形成されているとともに、 表示電極 1 2に比べて小さな電流しか流されることがないので、 電気抵 杭が大きくても上記データ ドライバ 1 4 3に接続された側とは反対側の 電極端部における電圧降下が小さい。 従って、 ア ドレス電極 2 2を I T Oだけで形成しても、 実質的にア ドレス放電が影響を受けることがない また、 第 2の誘電体層 2 3の表面上に形成されている第 1の蛍光体膜 3 1 は、 前面パネル 1 0の内部に表示電極 1 2を有していないので、 上 述のような切欠部 3 1 aが形成されていない。 つまり、 第 1の蛍光体膜 3 1 は、 可視光が透過する全域に形成されている。
従来、 前面パネル 1 0に形成されている表示電極 1 2は、 電気抵抗を 小さくするために透明電極上に金属材料からなるバス電極を併設してい る。 これにより、 発光セル内で発生した可視光の一部が遮られていた。 これに対して、 上記 A C型 P D P 3では、 表示電極 1 2が背面パネル 2 0に形成されているので、 前面パネルからパネル外部に出て行く可視 光が表示電極 1 2によって遮られない。 よって、 A C型 P D P 3は、 輝 度向上および発光効率の向上に有利である。
また、 上記 A C型 P D P 3では、 表示電極 1 2および誘電体保護膜 1 4が第 1の蛍光体膜 3 1 と別のガラス基板に形成されているため、 第 1 の蛍光体膜 3 1 に切欠部を設ける必要がないので大きな表面積を確保出 来る上、 誘電体保護膜 1 4が直接放電空間 4 0に面するように形成され ているので、 放電特性が犠牲にならずに、 且つ輝度が高い。 例えば、 4 ィンチクラスの N T S Cパネルでは、 全セル面積に対して 7 0 %近い 面積を表示電極が占めている。 これより、 このパネルに上記 A C型 P D P 3の構造を採用した場合には、 上述の AC型 PDP 1、 2のように前 面パネルに表示電極を構成する場合に比べて、 切欠部がないため約 3倍 の発光輝度が得られることになる。
また、 上述の A C型 P D P 1、 2で、 前面パネル 1 0の第 1の蛍光体 膜 31を第 1の誘電体層 13と誘電体保護膜 14との間に形成し、 切欠 部 31 aを設けない構造の場合と比較しても、 本実施の形態における A C型 PDPでは、 前面パネル 1 0に可視光を遮る金属材料の電極が形成 されないので、 有利である。
よって、 この AC型 PDP3では、 パネル全体としての発光効率が向 上可能であるとともに、 上述と同様に、 高い発光輝度が確保可能である なお、 上記の実施の形態 2、 3では、 背面パネル 20の面上並びに隔 壁 30の面上に第 1の蛍光体膜 31および第 2の蛍光体層 32の何れも 形成しなかったが、 パネルの発光効率をより高める場合には、 この部位 にも蛍光体を形成することが有効である。 ただし、 実施の形態 3で背面 パネル 20に第 1の蛍光体膜 31あるいは第 2の蛍光体層 32を形成す る場合には、 上記切欠部 31 aを形成しておく ことが望ましい。
(実施の形態 4)
実施の形態 4に係る AC型 P D P 4について、 説明する。
なお、 AC型 PDP4は、 従来の AC型 P D Pと類似の構造を有する ので、 図示を省略し、 その相違点のみを説明する。
A C型 P D P 4が従来の AC型 P D Pと異なる点は、 従来蛍光体粒子 群からなる蛍光体層が形成されていた背面パネルに、 薄膜結晶の蛍光体 膜で構成されている点である。
このような構造を有する AC型 PDP4では、 発光効率の高い蛍光体 膜の形成されている領域が上記 AC型 PDP 2、 3より広いため、 パネ ルの発光効率の点で優れる。
さらに、 可視光反射層における第 1の蛍光体膜 31の内側に凹凸を設 けておけば、 第 1の蛍光体膜 31の実効表面積を広くすることが出来る ので効果的である。
なお、 可視光反射層は、 上記実施の形態 2のものと同様のものである このように、 可視光を反射させる機能を持つ AC型 PDP4では、 前 面パネル 10での発光が背面パネル 20側に無駄に放出されることなく 前面パネル 1 0側に取り出すことが可能となるので、 パネルの発光輝度 がその分向上する。 可視光反射層が形成された背面パネル 20では、 可 視光反射率 (背面パネルに入力された可視光の内、 反射される可視光の 割合) が 85 %1 ^上となる。
この凹凸は、 例えば可視光反射層の表面を階段状にしたり、 複数の突 起などを形成したりすることで、 平滑面の面積より広くすることが可能 である。
なお、 AC型 P D P 4の背面パネル 20と、 上記 AC型 PDP 1の前 面パネル 10との組み合わせにより得られる AC型 PDPは、 さらなる 輝度向上が得られ、 優れたパネル特性を示す。
また、 表示電極 12の形成箇所については、 前面パネル 10のみに限 定されるものではなく、 上記実施の形態 3のように背面パネル 20側に 形成されているものであっても良い。
以上の実施の形態 1〜4では、 AC型 PDPを一例に説明をしてきた が、. A C型 P DPに限らず DC型 P DPに上記構造を適用した場合にも 、 同様の効果を得ることが出来る。 産業上の利用の可能性
本発明にかかる PD Pおよびその製造方法は、 コンピュータやテレビ 等のディスプレイ装置、 特に高詳細 · 高輝度のディ スプレイ装置を実現 するのに有効である。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 対向配置された前面パネルと背面パネルとの間隙に、 複数の発光セルが形 成されてなるプラズマディスプレイパネルにおいて、
少なくとも一部領域には、 薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜が形成されている ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 前記結晶蛍光体膜が形成されているのは、 前記前面パネルにおける少なく とも一部の発光セル相当部位である
ことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記結晶蛍光体膜は、 可視光透過率が少なくとも 8 5 %となるような膜厚 を有する
ことを特徴とする請求の範囲第 2項に記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 前記複数の発光セルは、 赤色発光セル群および緑色発光セル群および青色 発光セル群から構成されており、
前記結晶蛍光体膜は、 前記三つの発光セル群の内、 一つまたは二つの発光セル 群相当部位に形成されている
ことを特徴とする請求の範囲第 3項に記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 前記結晶蛍光体膜が形成されている前面パネル部位は、 緑色発光セル群と 青色発光セル群の相当 位である ' ことを特徴とする請求の範囲第 4項に記載のプラズマディスプレイパネル。
6. 前記結晶蛍光体膜が形成されている前面パネル部位は、 青色発光セル群の 相当部位である
ことを特徴とする請求の範囲第 4項に記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 前記前面パネルは、 前面基板上に複数の電極が配され、 前記電極が配され た前面基板上に誘電体層と保護膜とが積層されてなり、
前記結晶蛍光体膜は、 前記保護膜の面上、 または前記誘電体層と保護膜との層 間に形成されている
ことを特徴とする請求の範囲第 3項に記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 前記結晶蛍光体膜は、 前記保護膜の面上に形成されており、 前記電極の相 当部位に切欠部を有する
ことを特徴とする請求の範囲第 7項に記載のプラズマディスプレイパネル。
9. 前記背面パネル上に形成された隔壁およぴ背面パネルの少なくとも一方に おける前記発光セル相当部位には、 蛍光体粒子群からなる蛍光体層が形成されて いる
ことを特徴とする請求の範囲第 2項に記載のプラズマディスプレイパネル。
1 0. 前記結晶蛍光体膜と蛍光体粒子群からなる蛍光体層とは、 異なる組成の 蛍光体材料から形成されている
ことを特徴とする請求の範囲第 9項に記載のプラズマディスプレイパネル。
1 1 . 前記結晶蛍光体膜の形成に用いる材料は、 衝突励起型の蛍光体材料であ る
ことを特徴とする請求の範囲第 1 0項に記載のプラズマディスプレイパネル。
1 2. 前記背面パネルは、 背面基板上に複数の電極が配され、 前記電極が配さ れた背面基板上に誘電体層が形成されてなり、
前記誘電体層は、 間に前記結晶蛍光体膜あるいは蛍光体粒子群からなる蛍光体 層の何れをも介することなく、 前記発光セルの内部空間に面する
ことを特徴とする請求の範囲第 2項に記載のブラズマディスプレイパネル。
1 3. 前記背面パネル上に形成された隔壁は、 間に前記結晶蛍光体膜あるいは 蛍光体粒子群からなる蛍光体層の何れをも介することなく、 前記発光セルの内部 空間に面する
ことを特徴とする請求の範囲第 1 2項に記載のプラズマディスプレイパネル。
1 4. 前記背面パネル上に形成された隔壁の前記発光セル相当部位には、 蛍光 体粒子群からなる蛍光体層あるいは薄膜結晶からなる蛍光体膜が形成されている ことを特徴とする請求の範囲第 1 2項に記載のプラズマディスプレイパネル。
1 5. 前記背面パネルは、 少なくとも 8 5 %の可視光反射率を有する
ことを特徴とする請求の範囲第 1 2項から第 1 4項の何れかに記載のプラズマ ディスプレイパネル。
1 6. 前記誘電体層の面上、 あるいは、 層内には、 可視光反射の機能を有する 領域が形成されている
ことを特徴とする請求の範囲第 1 2項から第 1 5項に記載のプラズマディスプ レイパネル。
1 7. 前記前面パネルがァドレス電極を有し、 且つ前記背面パネルが表示電極 を有している
ことを特徴とする請求の範囲第 2項に記載のプラズマディスプレイパネル。
1 8. 対向配置された前面パネルと背面パネ との間隙に、 複数の発光セルが 形成されてなるプラズマディスプレイパネルにおいて、 - 前記背面パネルは、 電極を有しており、
前記背面パネルにおける前記電極上には、 可視光を前記前面パネル側に反射す る機能を有する領域を介して、 薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜が形成されている ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
1 9. 前記可視光反射層における前記結晶蛍光体膜が形成されている側の面に は、 実効表面積を広げるように凹凸が形成されている
ことを特徴とする請求の範囲第 1 8項に記載のプラズマディスプレイパネル。
2 0. 前面パネルおよび背面パネルの内の少なくとも一方に、 薄膜結晶からな る蛍光体膜を形成する蛍光体膜形成ステップを有するプラズマディスプレイパネ ルの製造方法において、
前記蛍光体膜形成ステップでは、 前記蛍光体膜が、 減圧雰囲気下での真空製膜 プロセスを経て形成される
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2 1 . 前記蛍光体膜形成ステップにおいて、 前記蛍光体膜を形成するのは、 前 記前面パネルである
ことを特徴とする請求の範囲第 2 0項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。
2 2. 前記蛍光体膜形成ステップでは、 気相成長法を用いて前記薄膜結晶を成 長させ、 前記蛍光体膜を形成する
ことを特徴とする請求の範囲第 2 1項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。
2 3. 前記蛍光体膜形成ステップで用いられるのは、 真空蒸着法およびスパッ タリング ¾および C V D法の中から選ばれる 1の方法であ'る
ことを特徴とする請求の範囲第 2 2項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。
2 4. 前記蛍光体膜形成ステップは、 酸素を含む減圧雰囲気下で実施される ことを特徴とする請求の範囲第 2 2項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。
2 5. 前記蛍光体膜形成ステップは、 還元性の減圧雰囲気下で実施される ことを特徴とする請求の範囲第 2 2項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。
2 6. 当該プラズマディスプレイパネルの製造方法は、 前面パネルを形成する ステップを有し、
前記前面パネルを形成するステップは、 保護膜を形成するサブステップを有し 前記保護膜を形成するサブステップと蛍光体膜形成ステップとは、 ステップ間 に他の工程を介することなく連続して実施される
ことを特徴とする請求の範囲第 2 0項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。 7. 前記蛍光体膜形成ステップと前記保護膜を形成するサブステップとは、 前記前面パネルを大気に曝すことがないような状態を維持して実施される ことを特徴とする請求の範囲第 2 6項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。
2 8. 前記蛍光体膜形成ステップの前記真空製膜プロセスにおいて、 少なくと も蛍光体膜を形成しょうとする領域を加熱する
ことを特徴とする請求の範囲第 2 0項に記載のプラズマディスプレイパネルの 製造方法。 ' '
2 9. 前面パネルに第 1の蛍光体層を形成する第 1のステップと、 背面パネル に第 2の蛍光体層を形成する第 2のステップとを備えるプラズマディスプレイパ ネルの製造方法において、
前記第 1のステツプおよぴ第 2のステップの内、
一方のステップは、 薄膜結晶からなる結晶蛍光体膜を形成するステップであ り、
他方のステップは、 蛍光体粒子群からなる蛍光体層を形成するステップであ る
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
3 0. 請求の範囲第 2 0項から請求の範囲第 2 9項の何れかに記載のプラズマ ディスプレイパネルの製造方法を用いて作製されたプラズマディスプレイパネル
3 1 . 請求の範囲第 3 0項の特徴を有するプラズマディスプレイパネルと、 こ れを駆動するための駆動回路とを備えるプラズマディスプレイパネル表示装置。
3 2. 請求の範囲第 1項から請求の範囲第 1 9項の何れかに記載のプラズマデ ィスプレイパネルと、 これを駆動するための駆動回路とを備えるプラズマディス プレイパネル表示装置。
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