WO2001094337A1 - Procede de preparation de derives optiquement actifs d'acide 2-[6-(hydroxy-methyl)-1,3-dioxan-4-yl] acetique - Google Patents

Procede de preparation de derives optiquement actifs d'acide 2-[6-(hydroxy-methyl)-1,3-dioxan-4-yl] acetique Download PDF

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WO2001094337A1
WO2001094337A1 PCT/JP2001/004729 JP0104729W WO0194337A1 WO 2001094337 A1 WO2001094337 A1 WO 2001094337A1 JP 0104729 W JP0104729 W JP 0104729W WO 0194337 A1 WO0194337 A1 WO 0194337A1
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PCT/JP2001/004729
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Akira Nishiyama
Miho Horikawa
Yoshihiko Yasohara
Noboru Ueyama
Kenji Inoue
Original Assignee
Kaneka Corporation
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D319/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D319/04—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes
    • C07D319/06—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12P—FERMENTATION OR ENZYME-USING PROCESSES TO SYNTHESISE A DESIRED CHEMICAL COMPOUND OR COMPOSITION OR TO SEPARATE OPTICAL ISOMERS FROM A RACEMIC MIXTURE
    • C12P17/00—Preparation of heterocyclic carbon compounds with only O, N, S, Se or Te as ring hetero atoms
    • C12P17/02—Oxygen as only ring hetero atoms
    • C12P17/06—Oxygen as only ring hetero atoms containing a six-membered hetero ring, e.g. fluorescein
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12P—FERMENTATION OR ENZYME-USING PROCESSES TO SYNTHESISE A DESIRED CHEMICAL COMPOUND OR COMPOSITION OR TO SEPARATE OPTICAL ISOMERS FROM A RACEMIC MIXTURE
    • C12P7/00—Preparation of oxygen-containing organic compounds
    • C12P7/40—Preparation of oxygen-containing organic compounds containing a carboxyl group including Peroxycarboxylic acids
    • C12P7/42—Hydroxy-carboxylic acids

Definitions

  • the present invention relates to an optically active 2- [6- (hydroxymethyl) -1,3-dioxane-14-yl] acetic acid derivative useful as a pharmaceutical intermediate, particularly as an HMG-CoA reductase inhibitor intermediate It concerns the manufacturing method.
  • an object of the present invention is to provide the following formula (I) useful as a pharmaceutical intermediate:
  • R 1 represents any of hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • R 2 , R 3 is their respective independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a.
  • R 2, R 3 either the Ariru group or Ararukiru group with carbon number 7-1 2 6-12 carbon atoms May be combined with each other to form a ring.
  • R 1 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms
  • R 2 and R 3 each independently represent any of hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring.
  • R 1 is the same as above.
  • R 4 represents any of hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • R 1 represents any of hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • R 4 represents hydrogen Represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • the present invention is constituted by five non-ultra-low-temperature reactions of (1) force and (5).
  • a dihydroxyoxohexanoic acid derivative having a (5S) configuration represented by (IV) is produced.
  • the self-condensation of the enolate mainly proceeds, resulting in a significant reduction in the conversion of the target reaction.
  • the self-condensation of enolate acetate can be controlled to a minimum, and the desired reaction can be performed at a high yield.
  • (S) -hydroxy-1-y-butyrolataton used in the step (1) can be mass-produced by a known method (for example, SYNTHET IC COMMUN I CAT ION, 1986, 16, 183.).
  • R 1 is hydrogen, carbon number An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. Specifically, hydrogen, methyl, ethyl, i-propyl, tert Examples thereof include a monobutyl group, an n-octyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a p-methoxyphenyl group, and a ⁇ -ditobenzyl group, and preferably a tert-butyl group.
  • X 1 represents a hydrogen atom or a halogen atom, specifically, hydrogen, chlorine, bromine, iodine and the like, and preferably hydrogen, bromine and the like.
  • the amount of the esterhenol acetate derivative to be used is 1 to 10 molar equivalents, preferably 1 to 5 molar equivalents, based on (S) -hydroxy-1- ⁇ -butyl lactone.
  • an enolate is prepared by reacting either a base or a zero-valent metal on the acetate derivative.
  • a base is used for preparing the enolate
  • a zero-valent metal is used for preparing the enolate.
  • Bases used in the preparation of the enolate include, for example, lithium amides such as lithium amide, lithium diisopropylamide, lithium dicyclohexylamide, and lithium hexamethyldisilazide, or magnesium chloride diisopropylamide and magnesium bromide.
  • Magnesium amides such as diisopropylamide, magnesium iodide propylamide, magnesium dicyclohexyl amide, etc .; sodium amides such as sodium amide and sodium diisopropylamide; or potassium amide and potassium diisopropylamide power Riumuami de alcohol such, or methyl lithium, eta _ heptyl lithium, full Eninorerichiumu alkyllithium such t Ert- butyl lithium or the like, there have Grignard reagents, such as methionolemagnesium bromide, phenolemagnesium chloride, iso-propylmagnesium chloride, tert-butylmagnesium chloride, or sodium methoxide, magnesium methoxide And metal alkoxides such as potassium tert-butoxide and the like, or metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride and calcium hydride.
  • metal hydride Maga ' ⁇ , And lithium amides or Grignard reagents.
  • These bases are used alone or in combination.
  • lithium amides / metal hydrides are effective when combined with magnesium-containing bases such as Grignard reagents and magnesium amides.
  • the magnesium-containing base may be formed in a system using a base and a magnesium compound such as magnesium chloride or magnesium bromide.
  • R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or a silyl group.
  • X 2 represents a halogen atom, preferably chlorine, bromine, iodine and the like, and more preferably chlorine.
  • the magnesium amide can be prepared from a secondary amine, which is inexpensive and easily available, and a Grignard (Grignard) reagent by a known method (for example, published in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-523420). Alternatively, it can be prepared from lithium amide and magnesium halide by a known method (for example, J. Org. Chem. 1991, 56, 5978-5980).
  • the Grignard (Grignard) reagent has the following formula (IX):
  • R 7 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • a reel group or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, n-octyl Group, phenyl group, naphthyl group, ⁇ -methoxyphenyl group, -nitrobenzyl group, etc., preferably methyl group, ethyl group, i-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, etc. Is raised.
  • X 3 represents a halogen atom, preferably chlorine, bromine, iodine or the like, and more preferably chlorine.
  • Lithium amide has the general formula (X):
  • R 8 and R 9 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or a silyl group.
  • a nitrobenzyl group a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a phenyldimethylsilyl group, and the like, and preferably, an isopropyi / re group.
  • the amount of the base used in the step (1) is from 1 molar equivalent to 20 molar equivalents, preferably from 2 molar equivalents to 8 molar equivalents, relative to (S) —] 3-hydroxy-1-y_butylolatatone.
  • the zero-valent metal that can be used in the preparation of the enolate in the step (1) is zinc, magnesium, tin, or the like, and is preferably zinc or magnesium.
  • the amount of the zero-valent metal used is from 1 molar equivalent to 20 molar equivalents, preferably from 2 molar equivalents to 8 molar equivalents, based on (S)-
  • Examples of the solvent that can be used in the step (1) include an aprotic organic solvent.
  • Examples of the organic solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, n-hexane, and cyclohexane; getyl ether, tetrahydrofuran, (4) Ether solvents such as mono-dioxane, methinole t-ptynole ether, dimethoxetane, ethylene glycol dimethyl ether; halogen solvents such as methylene chloride, chloroform, 1,1,1-trichloroethane; dimethylformamide, N-methyl Aprotic polar solvents such as tylpyrrolidone and hexamethylphosphoric triamide; The above solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • solvents examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, n-hexane, and cyclohexane; dimethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl t-butyl ether, dimethoxetane, and diethylene glycol.
  • hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, n-hexane, and cyclohexane
  • dimethyl ether tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl t-butyl ether, dimethoxetane, and diethylene glycol.
  • ether solvents such as / resinmethinole ether
  • polyether solvents such as dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether.
  • the polyester-based solvent may be used as a sole solvent, but it may be used as an additive in other reaction solvents in an amount of 1 to 10 molar equivalents relative to (S) -hydroxy_y-petit mouth ratataton. Only a small amount may be added.
  • the reaction temperature in the step (1) is preferably from 130 ° C to 100 ° C, more preferably from 110 ° C to 60 ° C.
  • the order of mixing the reactants is arbitrary, but it is preferable that (S) - ⁇ -hydroxy- ⁇ -butyl lactone is preliminarily treated with a base, more preferably with a base and a magnesium compound.
  • a base include metal hydrides and lithium amides.
  • Preferred examples of the magnesium compound include magnesium chloride, magnesium bromide, magnesium sulfate and the like.
  • the base may also serve as a magnesium compound.
  • magnesium-containing bases examples include Grignard reagents such as methylmagnesium bromide, iso-propylmagnesium chloride, fenium / lemagnesium chloride, tert-peptinolemagnesium chloride, and magnesium chloride disopropyl acetate.
  • magnesium amides such as magnesium chloride.
  • it is tert-butylmagnesium chloride.
  • the amount of base used in the pretreatment is (S) -J3-hydroxy- ⁇ -petit mouth ratato
  • the amount is from 0.01 molar equivalent to 3 molar equivalents, preferably from 0.5 molar equivalent to 1.5 molar equivalents, based on the total amount of the monomer.
  • the amount of the magnesium compound used in the pretreatment is 0.01 to 3 molar equivalents, preferably 0.5 to 1.5 molar equivalents, based on (S) —] 3-hydroxy-y-butyrolactone. It is.
  • the amount of the magnesium-containing base to be used in the pretreatment is 0.01 to 3 molar equivalents, preferably 0.5 to 1.5 molar equivalents, based on (S) -hydroxy- ⁇ _petit mouth ratatone. It is a requisite.
  • the treatment may be performed on a mixed solution of (S) -hydroxy- ⁇ -petit mouth latatotone and an acetate derivative.
  • lithium amide such as lithium amide, lithium disopropyl amide, lithium dicyclohexyl amide, lithium hexamethinoresyl silazide or magnesium amide such as diisopropyl magnesium chloride, diisopropyl magnesium bromide, diisopropyl magnesium magnesium, etc.
  • the reaction is preferably carried out by dropwise addition of a base or a solution of the base.
  • the amount of the base to be used after the pretreatment is from 1 molar equivalent to 20 molar equivalents, preferably from 2 molar equivalents to 8 molar equivalents, based on (S) —; 3-hydroxy- ⁇ _petit mouth ratataton. .
  • step (1) 3-hydroxy- ⁇ -petit mouth lactone is pretreated with a base and a magnesium compound, and then the base is allowed to act in the presence of an acetate derivative. By doing so, it can be suitably implemented. Also, (S)
  • 3-Hydroxy ⁇ -petit mouth ratataton may be pre-treated with a base and reacted with an enolate prepared by allowing a zero-valent metal to act on an acetate derivative.
  • the post-treatment in the step (1) may be a general post-treatment for obtaining a product from the reaction solution.
  • a reaction solution after completion of the reaction is mixed with a common inorganic or organic acid, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, citric acid, etc., and a common extraction solvent such as ethyl acetate, getyl ether, Perform extraction using methylene chloride, toluene, hexane, etc.
  • reaction solvent and the extraction solvent are distilled off from the obtained extract by an operation such as heating under reduced pressure to obtain the desired product.
  • the target product thus obtained is crystallized Purification may be performed by a general method such as purification, fractional distillation, or column chromatography to further increase the purity, but the compound can be used in the next step without isolation.
  • the dihydroxyoxohexanoic acid derivative represented by the formula (IV) is treated with an Asinoleich agent in the presence of a base to give the following formula (V);
  • R 4 represents any one of hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • Methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, tert-butyl, n-octyl, phenyl, naphthyl, p-methoxyphenyl, p-nitrobenzyl A methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a tert-butyl group, and a phenyl group, and more preferably a phenyl group.
  • Q represents a leaving group, specifically, a halogen atom such as chlorine, bromine, or iodine; or an alkoxy group such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarponinoleoxy, or tert-butoxycarbonyloxy.
  • a halogen atom such as chlorine, bromine, or iodine
  • an alkoxy group such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarponinoleoxy, or tert-butoxycarbonyloxy.
  • the amount of the acylating agent to be used is preferably 0.5 to 2 molar equivalents, more preferably 0.8 to 1.5 molar equivalents, based on the dihydroxyoxohexanoic acid derivative.
  • Bases that can be used in step (2) include, for example, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, lithium hydroxide, barium hydroxide, water
  • An inorganic base such as magnesium oxide, or an amine such as ammonia, triethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, diisopropylethylamine, N, N-dimethylaminopyridine, etc. is preferable, and triethylamine or pyridine is preferable.
  • the amount of the base used is preferably 1 to 10 molar equivalents, more preferably 1 to 3 molar equivalents, based on the dihydroxyoxohexanoic acid derivative.
  • the reaction solvent that can be used in step (2) includes, for example, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and cyclohexane; dimethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl tert-butynoleatenore, and dimethoxetane.
  • hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and cyclohexane
  • dimethyl ether tetrahydrofuran
  • 1,4-dioxane 1,4-dioxane
  • methyl tert-butynoleatenore methyl tert-butynoleatenore
  • dimethoxetane dimethoxetane
  • Ethanol solvents such as: Ethyl acetate, ester solvents such as butyl acetate; Ketone solvents such as acetone and methylethyl ketone; Halogen solvents such as methylene chloride, chloroform, 1,1,1-trichloroethane; dimethylformamide Nitrogen-containing solvents such as amide, acetamide, formamide, and acetonitrile; and aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, N-methylvinylidone, and hexamethylphosphoric acid triamide. It is.
  • the above organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the reaction temperature in step (2) is from 130 ° C to 80 ° C, preferably from 110 ° C to 40 ° C.
  • the post-treatment of step (2) ′ may be a general post-treatment for obtaining a product from the reaction solution.
  • a product from the reaction solution For example, water is added to the reaction solution after the completion of the reaction, and extraction is performed using a common extraction solvent, for example, ethyl acetate, getyl ether, methylene chloride, toluene, hexane and the like.
  • a common extraction solvent for example, ethyl acetate, getyl ether, methylene chloride, toluene, hexane and the like.
  • the target product thus obtained is likely to contain various impurities due to various decompositions and side reactions in the production process.
  • the dihydroxyoxohexanoic acid diacid derivative represented by the formula (1) tends to be produced as a large amount as an impurity, and in order to obtain a high-quality target product, these impurities are required. Need to be removed. Generally, it is difficult to remove impurities with similar structures (related substances), and in order to remove these impurities and obtain a high-quality target product, excellent purification and isolation methods are required. The present inventors have found that the above impurities can be efficiently removed by crystallization under the following conditions.
  • an aliphatic hydrocarbon-based solvent is preferred.
  • Aliphatic hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms such as chlorohexane, methylcyclohexane, heptane, cycloheptane, octane, isooctane, nonane, decane, pendecane, dodecane, and the like, may be mentioned.
  • pentane, hexane, methylcyclohexane, heptane, octane or isooctane is preferred. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a solvent having a relatively low boiling point is preferable in consideration of drying of the solvent from the wet crystals and recovery and reuse (distillation and recovery) of the solvent.
  • a solvent is generally 1 atm or less. Having a boiling point of about 100 ° C. or less.
  • Specific examples include aliphatic hydrocarbon solvents having 5 to 8 carbon atoms, such as pentane, hexane, methinoresic hexane, heptane, octane, and isooctane. From the viewpoint, hexane, meth / resin hexane and the like are more preferable.
  • the above-mentioned aliphatic hydrocarbon-based solvent When the above-mentioned aliphatic hydrocarbon-based solvent is used, stabilization of the above-mentioned compound, assurance of a high yield, and high refining effect, that is, effective removal of various impurities, particularly, the above-mentioned compound (XII) can be achieved.
  • the amount of the above-mentioned aliphatic hydrocarbon-based solvent to be used is preferably such that the fluidity of the obtained product can be maintained at the end of the operation for crystallization of the above-mentioned compound (V). About 5 to 20 times the weight, and sometimes more.
  • a crystallization method such as 7th-order crystallization or concentrated crystallization, or a combination of these crystallization methods can be used.
  • the concentrated crystallization may be a crystallization method in which a solution composed of a solvent other than the aliphatic hydrocarbon solvent is replaced with a solution composed of the aliphatic hydrocarbon solvent. At the time of crystallization, a seed crystal may be added.
  • an auxiliary solvent for improving at least one of them can be further used.
  • the auxiliary solvent may be added to the aliphatic hydrocarbon-based solvent as needed.
  • the compound (V) is dissolved in the auxiliary solvent in advance, and the aliphatic hydrocarbon-based solvent is added. You can also do it.
  • the auxiliary solvent is more effective when a preferable amount set according to the characteristics of the auxiliary solvent is used in combination with the aliphatic hydrocarbon-based solvent, based on the intended effect and the like.
  • the appropriate amount of the auxiliary solvent can be determined by simple experiments. From the viewpoint of the yield and purification effect, the amount of the auxiliary solvent used is such that when the operation for crystallization of the compound (V) is completed, the auxiliary solvent and the aliphatic hydrocarbon solvent are used.
  • Weight ratio auxiliary solvent Z aliphatic hydrocarbon-based solvent
  • the purification and isolation method of the present invention can be carried out at around room temperature. If necessary, heating or cooling can be performed, for example, at about 60 ° C or lower, usually at 130 ° C to 50 ° C.
  • the thus obtained conjugation product (V) can be subjected to solid-liquid separation, and if necessary, further washed with a cake and dried.
  • the method of solid-liquid separation is not particularly limited, and examples thereof include pressure filtration, vacuum filtration, and centrifugation.
  • As the drying method for example, it is preferable to dry under reduced pressure (vacuum drying) at about 60 ° C. or less to avoid thermal decomposition and melting.
  • a dihydroxyoxohexanoic acid monoacyl derivative having a (5S) configuration shown in the following formula is reduced using a microorganism to give the following formula (VI);
  • a monohydroxytrihydroxyhexanoate derivative having the (3R, 5S) configuration shown in (1) is produced.
  • a hydride reducing agent such as sodium borohydride or the like is used under ultra-low temperature conditions in the presence of alkyl porane.
  • a reduction method is used (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-262537).
  • the present inventors have developed a reduction method using a microorganism in order to stereoselectively reduce dihydroxyoxohexanoic acid derivatives at low cost at non-ultra-low temperature.
  • the microorganism used in the step (3) for reducing the monohydroxyl dihydroxyoxohexanoate derivative and converting it into the monohydroxyl trihydroxyhexanoate derivative can be found by the method described below.
  • yeast for example, glucose 3.
  • yeast extract 0.3% yeast extract, potassium dihydrogen phosphate 0.1.3% ammonium dihydrogen phosphate, 0.08% magnesium sulfate heptahydrate, 0.008% zinc sulfate heptahydrate 0.007%, iron sulfate A-medium 5m1 (pH 7.0) consisting of heptahydrate 0.009%, copper sulfate pentahydrate 0.0005%, manganese sulfate tetrahydrate 0.001%, sodium chloride 0.011% 0) into a large test tube, sterilize, inoculate yeast, and culture with shaking at 27 ° C for 2-3 days.
  • microorganism used is a bacterium
  • a B medium (pH 7.0) composed of 1.5% glycerin, 1.0% pro-extract, and 0.5% yeast extract
  • a C medium (pH 6.0) consisting of glucose 5% and corn steep liquor 5% is used.
  • actinomycetes for example, the composition of Difco's triptyxyprous 3% and soluble starch 1% is used.
  • Microorganisms can be cultured using the same D medium ( ⁇ 7.2), and microorganisms having the desired ability can be found by the same operation as described above.
  • Microorganisms that can be used in the present invention include the genus Ashby (As hb Va), the genus Potrioascus (Bo trvoascus), the genus Brettanomyces (Bretta nomyce), the genus Candida, and the genus Cisteromyces (Citermyces).
  • Maranga (S acchar omy copsisma 1 anga) I FO 1710, Sanoturnosporadispora I FO 0035, Sizoblast spolin • Kono palm ( S c_ hi z_o b 1_ astosporionkobayasii) IFO 1644, Schizosaccharomyces pombe (S chizosaccharom V cesp omb e) IFO 0347, Schizosaccharomyces-Pombe (S chizosacchar omY ces jp omb e) IFO 0362, Schneommai Seth ⁇ Osidentites ⁇ Barch Occidentalis (Schwa nn iomvcesoccidentalisva r.
  • Oc_c ⁇ d_e nt_a 1 is) IFO 1840, Sporidioboras John Sony o 1 usiohnsonii) I FO 6903, Sporopolomyces '' No Laroseus (_Sr> orobo 1 omy ces ar ar _a roseus) IFO 0471, Sporopolomyces sasolemo-color (S porobol omy ce _s_ sal mo nicolor) I FO 1038, Torulaspora delbrueckii IFO 0381, Tonolous psis, Methanolic bessens (To rulousis me thano 1 eveseens), Toslelopsis.
  • IFO 1 295 Proteus 'Inconstances I FO 1 293 1, Proteus' Mirabilis (P roteusmirabi 1 is) I FO 384 9, Proteus ⁇ Proteusrettgeri I FO 1350 1, Proteus'Proteusvulgaris' I FO 3 167s Schau 'Sturity (P rovidenciastuartii) I FO 12930, Pseudo Monas aeruginosa 100 seud omo nsputida) IF ⁇ 14164, Pseudomonas-stout jelly (P sed omo nasstutzeri) IFO 13596, Rhodococcus.
  • Lasithikas (As pergi 1 1 usparasiti c_us_) I FO 4403, Aspergillus, Foesis (A spergi 1 1 usphoenicis) I FO 6670, Plissoschiamisu funoreva (B yssoch 1 amy sfu 1 va) I FO 6307, Ch'a et om idi um fimeti I FO 30419, Chaetosartorvastroma toides I FO 9652, Cladosporium 'Resinaje-F.
  • Betulina (Lenzitesbetu 1 ina) I FO 8715, Macroforma Komeine a c_r o O_h omaco mm e l_i na e_) IO 9569, Monascus purpureus I FO 5965, Monoretierrera Lina (Mo rtierellaisabellin _a_) I FO 7829, Paescilomyces' varioti (Paeci 1 omy cesvarioti) HUT 4028, Penicillium chermesinum (Penici 1 1 i um che rme si num) IFO 5800, Henicillium, Chrysogenum 1 1 i um chrysoge num) I FO 4640, Penicillium esipansum (P enici 1 1 i um _e_ xpans um) I FO 5854, ⁇ -serial li-rashi- ⁇ um (P
  • Plesurotusostreatus, Pleiatus Toss-Polygens (PI eurotusporrigens), Scobrariopsis' Scopuvicaus 1 is) IFO 4843, Sefizophyllum-Comumiune (Sehizophyllum um co mmune) IFO 6503, Sehizophy 11 umco mm une IFO 6504, Sporo trichum aurantia cam ( S porotric hum aurantiac um) IFO 9381, Zygor hync hus mo elleri HUT 1305, Microtetraspora; Rosecrobiosporaracea (Mi crotetrasporaroseovio lacea) I FO 14098, Streptomyces' ⁇ Noreboradiris (S trept omv cesachromogenessubsp. ⁇ ubradiris) IFO 14000, Streptomyces sp. v cess p.), and Streptomyces-Aureus
  • microorganisms can generally be obtained from stocks that are easily available or purchased. It can also be separated from nature. In addition, by mutating these microorganisms, strains having more advantageous properties for this reaction can be obtained. In addition, those derived from these microorganisms by recombinant DNA, genetic engineering such as cell fusion, or biotechnological techniques may be used. Examples of such microorganisms include Escherichia 'coli HB101 (pNTCRG) FERM BP-6898 (see International Application No. PCT / JP 00-08321) into which a reductase gene derived from Candida magnolia I FO 0705 has been introduced. it can.
  • any nutrient source that these microorganisms can utilize can be used.
  • sugars such as glucose, sucrose, maltose, etc.
  • organic acids such as lactic acid, acetic acid, citric acid and propionic acid
  • alcohols such as ethanol and glycerin
  • hydrocarbons such as paraffin
  • oils such as soybean oil and rapeseed oil.
  • a carbon source such as a mixture thereof, or a nitrogen source such as ammonium sulfate, ammonium phosphate, urea, yeast extract, meat extract, peptone, corn steep liquor and the like can be mixed.
  • other nutrients such as inorganic salts and vitamins may be appropriately mixed.
  • Culturing of microorganisms can be generally carried out under general conditions, for example, ⁇ > ⁇ 4.0 to 9.5, temperature range 20 ° C to 45 ° C, aerobically 10 to 9 ° C. Incubate for 6 hours.
  • a culture of the microorganism can usually be used for the reaction as it is, but a concentrate of the culture can also be used.
  • components in the culture solution adversely affect the reaction, it is preferable to use cells or a cell processed product obtained by treating the culture solution by centrifugation or the like.
  • the treated cells of the above microorganisms are not particularly limited, and include, for example, dried cells obtained by dehydration with acetone or diphosphorus pentoxide or drying using a desiccator or an electric fan, treated with a surfactant, lytic enzyme Examples include a processed product, an immobilized cell, or a cell-free extract prepared by disrupting the cell. Further, an enzyme that catalyzes an asymmetric reduction reaction may be purified from the culture and used.
  • the substrate dihydroxyoxohexanoate derivative as a substrate may be added all at once at the beginning of the reaction, or may be added in portions as the reaction progresses.
  • the temperature during the reaction is usually from 10 to 60 ° C, preferably from 20 to 40 ° C, and the pH during the reaction is from 2.5 to 9, preferably from 5 to 9. .
  • the concentration of the microorganism in the reaction solution may be appropriately determined according to the ability to reduce these substrates. Further, the substrate concentration in the reaction solution is preferably from 0.01 to 50% (W / V), and more preferably from 0.1 to 30%.
  • the reaction is usually carried out with shaking or aeration and stirring.
  • the reaction time is appropriately determined depending on the substrate concentration, the concentration of the microorganism, and other reaction conditions. Usually, it is preferable to set each condition so that the reaction is completed in 2 to 168 hours.
  • an energy source such as glucose or ethanol at a ratio of 1 to 30% to the reaction solution since excellent results can be obtained.
  • coenzymes such as reduced nicotinamide and adenine dinucleotide (NADH) and reduced nicotinamide 'adenine dinucleotide phosphate (NADPH), which are generally required for reduction reactions by biological methods, Can be promoted. Specifically, these may be added directly to the reaction solution, or the reaction system for producing NADH and NADPH may be added to the reaction solution together with the oxidized coenzyme.
  • a reaction system in which formate dehydrogenase reduces NAD to NADH when producing carbon dioxide and water from formic acid or a reaction system in which dalcose dehydrogenase produces dalconolactone from glucose converts NAD or NADP to NADH.
  • a reaction system for reducing each to NADPH can be used. It is also effective to add a surfactant such as Triton (manufactured by Nakarai Tester), Span (manufactured by Kanto Chemical Co.), or Tween (manufactured by Nakarai Tester) to the reaction solution.
  • Triton manufactured by Nakarai Tester
  • Span manufactured by Kanto Chemical Co.
  • Tween manufactured by Nakarai Tester
  • an organic solvent insoluble in water such as ethyl ethyl sulphate, butyl acetate, isopropyl ether and toluene is added to the reaction mixture. May be added.
  • a water-soluble organic solvent such as methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, and dimethinoresnorreoxide can be added.
  • the trihydroxyhexanoic acid monoasinole derivative generated by the reduction reaction is collected directly from the reaction solution, or after separating cells and the like, extracting with a solvent such as ethyl acetate or toluene, and removing the solvent. Furthermore, a high-purity monohydroxytrihydroxyhexanoate derivative can be obtained by recrystallization or silica gel column chromatography.
  • a trihydroxyhexanoic acid mono-acyl derivative having a (3R, 5S) configuration shown in the following formula is treated with an acetal-forming reactant in the presence of an acid catalyst to obtain the following formula (VII);
  • examples of the acetal-forming reactant that can be used include ketones, aldehydes, alkoxyalkanes, and alkoxyalkenes.
  • Specific examples of the above ketones, aldehydes, alkoxyalkanes, and alkoxyalkenes include, for example, acetone, cyclohexanone, formaldehyde, benzaldehyde, dimethoxymethane, 2,2-dimethoxypropane, and 2-methoxypropene.
  • 1,1-dimethoxycyclohexane Preferred are acetone, 2-methoxypropene, 2,2-dimethoxypropane and the like, and more preferred is 2,2-dimethoxypropane.
  • the amount of the acetal forming reactant to be used is preferably 1 to 10 molar equivalents, more preferably 1 to 5 molar equivalents, based on the trihydroxyhexanoate monoacyl derivative.
  • an acetal-forming reactant can be used as a reaction solvent.
  • an acid catalyst that can be used is a Lewis acid or Bronsted acid.
  • Lewis acids and Bronsted acids include Lewis acids such as aluminum trichloride, boron trifluoride and tin tetrachloride; carboxylic acids such as oxalic acid, formic acid, acetic acid, benzoic acid and trifluoroacetic acid Methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid,! ) Sulfonic acids such as monotoluenesulfonic acid and camphorsulfonic acid; inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and boric acid.
  • the amount of the acid catalyst to be used is preferably 0.001 to 0.5 mole equivalent, more preferably 0.005 to 0.1 mole, relative to the monohydroxytrihydroxyhexanoate derivative. Is equivalent.
  • R 10 represents a lower alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, which is different from R 1. )
  • Analogous compounds of acid derivatives are by-produced. For example, when 2,2-dimethoxypropane is used as an acetal forming reactant, by-product methanol participates in the reaction, and in the above formula (XIII), methyl oxalyl acetate in which R 1 D is a methyl group is used. By-produce.
  • reaction conditions such as the reaction temperature, reaction time, and the amount of the reagent are properly set and controlled. I needed to.
  • the present inventors carried out an acetal formation reaction using an amine salt composed of an acid and an amine as a catalyst, thereby reducing the above-mentioned impurities (XIII), (XV), and a trace amount in which the structure could not be specified without lowering the yield.
  • the acid any of the above-mentioned acids can be used, and preferably, hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-tonolenesulfonic acid and the like are exemplified. It is possible.
  • the amount of the acid used is preferably 0.01 to 0.5 molar equivalent, more preferably 0.05 to 0.1 molar equivalent, based on the trihydroxyhexanoate monoacyl derivative. is there.
  • amine examples include ammonia; primary amines such as methylamine, ethylamine, butylamine, and aniline; secondary amines such as getylamine, diisopropylamine, diphenyl / reamine, piperidine, and morpholine; and triethylamine, triptych.
  • primary amines such as methylamine, ethylamine, butylamine, and aniline
  • secondary amines such as getylamine, diisopropylamine, diphenyl / reamine, piperidine, and morpholine
  • triethylamine triptych.
  • the amount of the amine to be used is preferably 1 to 10 molar equivalents, more preferably 1 to 3 molar equivalents to the acid.
  • an amine salt prepared separately from an acid and an amine and isolated can also be used as a catalyst.
  • the amine salt include pyridinium hydrochloride, pyridinium hydrobromide, pyridinium sulfate, pyridinium trifluoroacetate, pyridinium methanesulfonate, pyridinium p-toluenesulfonate, triethylammonium hydrochloride, and sulfuric acid.
  • the amount of the amine salt to be used is preferably 0.01 to 0.5 mole equivalent, more preferably 0.005 to 0.1 mole equivalent, based on the trihydroxyhexanoate derivative. Is equivalent.
  • organic solvents can be used as a reaction solvent.
  • the organic solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and cyclohexane; ethers such as diethylenoate / re, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl t-butynole ether, and dimethoxetane; Ester solvents, such as ethyl acetate and butyl acetate; Ketone solvents, such as acetone and methyl ethyl ketone; Halogen solvents, such as methylene chloride, phospholipid, 1,1,1-trichloroethane, and the like; Nitrogen-containing solvents such as formamide, acetoamide, formamide, and acetonitrile; and aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, and hexamethylphosphoric
  • organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Preferred are toluene, acetone, ethyl acetate, methylene chloride, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, dimethylformamide, acetonitrile and the like, and more preferred is aceton.
  • the reaction temperature in step (4) is from 120 ° C to 100 ° C, preferably from 0 ° C to 50 ° C.
  • the post-treatment in the step (4) may be a general post-treatment for obtaining a product from the reaction solution.
  • a product from the reaction solution For example, water is added to the reaction solution after the completion of the reaction, and extraction is performed using a common extraction solvent, for example, ethyl acetate, getyl ether, methylene chloride, toluene, hexane and the like.
  • a common extraction solvent for example, ethyl acetate, getyl ether, methylene chloride, toluene, hexane and the like.
  • the target product thus obtained is likely to contain various impurities due to various decompositions and side reactions in the production process.
  • R 2 , R 3 , and R 4 are the same as above.
  • R 1 Q represents a lower alkyl group, and c is different from R 1.
  • Related compounds of an acyloxymethinoresoxalyl acetic acid derivative represented by Groups are different), the following formula (XIV):
  • an aliphatic hydrocarbon-based solvent is preferable.
  • pentane, petroleum ether, neopentane, hexane, hexagonal hexane, methylcyclohexane, Aliphatic hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms such as heptane, heptane heptane, octane, isooctane, nonane, decane, pendecane, dodecane and the like can be mentioned.
  • pentane, hexane, methylcyclohexane, heptane, octane or isooctane is preferred. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a solvent having a relatively low boiling point is preferable in consideration of drying of the solvent from the wet crystals and recovery and reuse (distillation and recovery) of the solvent.
  • a solvent is generally 1 atm or less. Having a boiling point of about 10 ° C. or less.
  • Specific examples include aliphatic hydrocarbon solvents having 5 to 8 carbon atoms, such as pentane, hexane, methynolecyclohexane, heptane, octane, and isooctane. And hexane, methylcyclohexane and the like are more preferred.
  • the above compound is stabilized, a high yield is ensured, and a high refining effect is obtained, that is, various impurities, particularly the above compounds (XIII), (XIV), (XV), and (VI ) Is achieved.
  • the amount of the aliphatic hydrocarbon-based solvent to be used is preferably such that the fluidity of the obtained product can be maintained at the end of the operation for crystallizing the compound (VII). ), About 5 to 20 times the weight, and sometimes more.
  • a crystallization method such as cooling crystallization or concentration crystallization, or a combination of these crystallization methods can be used.
  • the concentrated crystallization may be a crystallization method in which a solution composed of a solvent other than the aliphatic hydrocarbon-based solvent is replaced with a solution composed of the above-described aliphatic hydrocarbon-based solvent. At the time of crystallization, seed crystals may be added.
  • the solubility, yield, treatment concentration, purification effect (impurity removal effect), and physical properties of the obtained crystal of the compound (VII) Auxiliary solvents for improving at least one of them can additionally be used.
  • the auxiliary solvent is, if necessary, an aliphatic hydrocarbon.
  • the compound (VII) may be dissolved in an auxiliary solvent in advance, and then added to the aliphatic hydrocarbon solvent.
  • the auxiliary solvent is not particularly limited and includes, for example, acetone, methylethyl ketone, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, ethyl acetate, isopropyl acetate, tert-butyl acetate, ethanol, isopropanol, tolylene, benzene, xylene, and Examples include benzene, shiridani methylene, chloropho / rem, 1,2-dichloroethane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, ethyl acetate, toluene, methinolate tert-butyl ether, methylene chloride, etc. can increase the solubility and improve the processing effects such as the processing concentration and the purification effect.
  • the auxiliary solvent is more effective when a preferable amount set according to the characteristics of the auxiliary solvent is used in combination with the aliphatic hydrocarbon-based solvent, based on the intended effect and the like.
  • the appropriate amount of the auxiliary solvent can be determined by simple experiments. From the viewpoint of yield and purification effect, the amount of the auxiliary solvent used depends on the amount of the auxiliary solvent and the aliphatic hydrocarbon system when the operation for crystallizing the compound (VII) is completed.
  • the amount by weight of the solvent (auxiliary solvent) is preferably 11 or less. More preferably, an amount of 0.5 or less is used.
  • the purification and isolation method of the present invention can be carried out at around room temperature. If necessary, heating or cooling can be performed, for example, at about 60 ° C. or less, usually at 50 ° C. to 130 ° C.
  • the compound (VII) thus obtained can be subjected to solid-liquid separation, and, if necessary, further washed with a cake and dried.
  • the method of solid-liquid separation is not particularly limited, and examples thereof include pressure filtration, vacuum filtration, and centrifugation.
  • As the drying method for example, it is preferable to dry under reduced pressure (vacuum drying) at about 60 ° C. or less to avoid thermal decomposition and melting.
  • R 2 and R 3 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethynole group, a tert-butyl group, a hexynole group, a phenyl group, a benzinole group, a p-methoxybenzyl group, or the like. Is mentioned. Preferably, it is a methyl group.
  • R 2 and R 3 may combine with each other to form a ring.
  • R 2 and R 3 may form a ring to form a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a benzocyclo Examples include a pentane ring and the like, which form a spiro structure with a 1,3-dioxane ring.
  • the base that can be used in the solvolysis in step (5) is an inorganic or organic base, for example, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, or hydroxide.
  • sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, or hydroxide Lithium, barium hydroxide, magnesium hydroxide, sodium acetate, potassium acetate, ammonia, triethylamine, pyridine, piperidine, N, N-dimethylamino pyridine, and the like, preferably potassium carbonate.
  • the amount of the base used in this case is from 0.01 to 5 equivalents, preferably from 0.01 to 1.0 equivalent, based on the acyloxymethyldioxanyl acetic acid derivative.
  • the reaction is carried out in water or a protic organic solvent or a mixed solvent of water or a protic organic solvent and an aprotic organic solvent in order to carry out solvolysis.
  • the protonic organic solvent include alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, butanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, and methoxyethanol; and amine-based solvents such as getylamine, pyrrolidine, and piperidine.
  • non-protonic organic solvent examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and cyclohexane; dimethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methinolate, t-butyl ether, and dimethoxetane.
  • Ether solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; halogen solvents such as methylene chloride, chloroform, 1,1,1-trichloroethane; dimethyl Nitrogen-containing solvents such as formamide and acetonitrile; and aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, N-methinolepyrrolidone, and hexamethyl phosphate triamide.
  • Preferable examples include water, methanol, ethanol and the like.
  • the reaction temperature in the step (5) is from -20 ° C to 100 ° C, preferably from 10 ° C to 50 ° C.
  • the post-treatment after completion of the reaction may be a general post-treatment for obtaining a product from the reaction solution.
  • a product from the reaction solution For example, water is added to the reaction solution after the completion of the reaction, and an extraction operation is performed using a common extraction solvent, for example, ethyl acetate, getyl ether, methylene chloride, toluene, hexane, and the like.
  • the reaction solvent and the extraction solvent are distilled off by means of heating under reduced pressure, etc. to obtain the desired product.
  • the reaction solvent is immediately distilled off by means of heating under reduced pressure, etc.
  • the target product thus obtained may be further purified by a general technique such as crystallization purification, fractional distillation, column chromatography, etc. to further increase the purity. Best form of
  • the aqueous layer was further extracted three times with 5 OmL of ethyl acetate, and the organic layers were combined, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure.
  • the yield is 71 ° /. I got it.
  • diisopropylamine 3.90 g (38.5 mmo 1) was added to 22.9 mL (35 mmo 1) of hexane solution of n-butyllithium (1.5 mol ZL) at 5 ° C with stirring.
  • a solution consisting of 3 mL of tetrahydrofuran was added dropwise and stirred for 1 hour to prepare a lithium diisopropylamide solution.
  • the previously prepared lithium diisopropylamide solution was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred at 5 to 20 ° C for 16 hours.
  • 30 mL of 3N hydrochloric acid and 30 ml of ethyl acetate were stirred and mixed, and the above reaction solution was poured into the mixture. After standing, the organic layer was separated, washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure.
  • the mixture was further stirred at 65 ° C for 30 minutes, the reaction solution was cooled to room temperature, and 50 mL of water was added. Adjust the pH of the reaction solution to 6.8 with 20% NaOH aqueous solution, The precipitated solid was separated by filtration, and the filtrate was extracted three times with 10 OmL of ethyl acetate. The organic layers were combined, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a yellow oil.
  • the previously prepared lithium diisopropylamide solution was added dropwise over 3 hours, and the mixture was further stirred at 5 to 20 ° C for 16 hours.
  • 25.05 g of acetic acid, 75 mL of water, and 15 Oml of ethyl acetate were stirred and mixed, and the above reaction solution was poured into the mixture. After standing, the aqueous layer was separated, and the aqueous layer was further extracted twice with 150 mL of ethyl acetate.
  • the mixture was extracted with 150 mL of ethyl acetate, and the organic layer was washed twice with 30 mL of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and 30 mL of water, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 18.12 g of a yellow oil.
  • the oil containing tert-butyl (5S) -6-benzoyloxy-5-hydroxy-3-oxohexanoate produced in Example 6 was subjected to high performance liquid chromatography (the conditions described in Example 6). According to analysis, purity: 48.2% by weight (58.1 area%), content of tert-butyl (5S) -5,6-dibenzyloxy-3-oxohexanoate as impurities: 4. The content was 8% by weight (6.5 area%).
  • the oil containing tert-butyl (5S) -6-benzoyloxy-5-hydroxy-13-oxohexanoate prepared in Example 7 was subjected to high performance liquid chromatography (the conditions described in Example 6). Purity: 45.0% by weight (47.2 area%), content of tert-butyl (5S) -5,6-dibenzyloxy-13-oxohexanoate as impurities: 4 .7% by weight (4.9 area%).
  • tert-butyl (5S) -6-benzoy / reoxy_5-hydroxy-3-oxohexanoate crystal is obtained. 6.68 g was obtained (crystallization recovery 77%). Analysis of the crystals showed a purity of 95.8% by weight (94.9 area%) and a tert-butyl (5S) -5,6-dibenzyloxy_3-oxohexanoate content: 1.6% by weight (1%). 6 area%).
  • the microorganisms shown in Table 4 were cultured in the same manner as in Example 11 using 5 ml of the C medium.
  • the cells were collected by centrifugation from 5 ml of this culture solution, and 0.05% of (5S) -6-benzoyl-1-hydroxy-5-hydroxy-3-oxohexanoic acid tert-butyl ester and 8% of gnorecose were added.
  • the suspension was suspended in 0.5 ml of a 100 mM phosphate buffer (pH 6.5) containing the same, and the reaction was carried out in the same manner. Table 4 shows the results.
  • Example 17 2-((4R, 6S) -2,2-Dimethyl-6-benzoyloxymethyl-13-dioxane-14-yl tert-butyl acetate Prepared in Example 15 (5 S) - 6- Benzoiruokishi one 3, tert hexanoic acid 5- dihydro carboxymethyl Puchinore 108 mg (90. 2 wt 0/0, 0.
  • Example 15 (5S) -6-benzoyloxy-3,5-dihydroxyhexanoic acid tert-butynole 108 mg (90.2% by weight, 0.3 mmo 1), 2,2-dimethyl To a solution consisting of 62.4 mg (0.6 mm o 1) of toxicpropane and 5 mL of acetone, 5.7 mg (0.03 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 14.Omg (0 15 mm o 1) and stirred at 40 ° C for 16 hours.
  • Example 23 2- (4R, 6S) -2,2-Dimethyl-1-6-benzoyloxymethyl-13-dioxane-14-yl] tert-butyl acetate
  • Example 15 (5S) -6-benzoyloxy-1,3,5-dihydroxyhexanoic acid tert-butynole 108 mg (90.2% by weight, 0.3 mmol 1), 2,2-dimethoxypropane prepared in Example 5
  • Example 1 5 (5 S) - 6- Benzoiruokishi one 3, tert hexanoic acid 5- dihydro carboxymethyl Puchinore 1 08mg (90. 2 wt 0/0, 0. 3 mm o 1), 2, 2-Dimethoxypropane 62.4 mg (0.6 mmo 1) and 5 mL of acetone, 1.5 mg (0.15 mmo 1) sulfuric acid and 11.9 mg (0.15 mmo 1) pyridine The mixture was stirred at 40 ° C for 16 hours.
  • the present invention has the above-mentioned constitution, and is useful as a pharmaceutical intermediate, particularly an HMG-CoA reductase inhibitor intermediate.
  • 2- [6- (hydroxymethyl) 1-1,3-dioxane-1-41 The acetic acid derivative can be produced from inexpensive and readily available raw materials without using special equipment such as low-temperature reaction equipment.

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Description

明細書
光学活性 2— [6— （ヒドロキシメチル） 一 1， 3—ジォキサン— 4一ィル] 酢酸誘導体の製造法 技術分野
本発明は、 医薬品中間体、 特には HMG— C o A還元酵素阻害剤中間体として 有用な光学活性 2— [6- (ヒドロキシメチル） ー1， 3—ジォキサン一 4ーィ ル] 酢酸誘導体の製造法に関するものである。 背景技術
従来、 2— [6- (ヒ ドロキシメチル) — 1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢 酸誘導体の製造法として、 以下の様な方法が知られている。
(1) 3—ヒ ドロキシー γ—プチロラク トンを出発物質とし、 3， 5—ジヒ ドロ キシへキサン酸エステル誘導体を経由して 3， 5, 6—トリヒドロキシへキサン 酸エステノレ誘導体を合成する方法 （特開平 4一 173767号公報） 。
(2) 3， 4ージヒドロキシプチル-トリルのァセトニドを出発物質とし、 3, 5—ジヒ ドロキシへキサン酸エステノレ誘導体を経由して 3， 5, 6—トリヒドロ キシへキサン酸エステル誘導体を合成する方法 （特開平 2— 262537号公報
) 0
(3) 4一クロローァセト酢酸エステルをべンジロキシ化した後、 還元、 増炭等 の工程を経て 3， 5， 6—トリヒドロキシへキサン酸エステル誘導体に変換する 方法 （特開平 6— 65226号公報） 。
(4) 4一クロ口 _ 3—ヒドロキシ酪酸エステルを出発物質とし、 増炭、 還元等 の工程を経て 3， 5, 6—トリヒドロキシへキサン酸エステル誘導体を合成する 方法 （U S特許 5278313号） 。
(5) リンゴ酸を出発物質とし、 2， 4ージヒドロキシアジピン酸誘導体を経由 して 3， 5, 6—トリヒドロキシへキサン酸エステル誘導体を合成する方法 （特 開平 4_ 69355号公報） 。
しかしこれらの方法は、 その製造工程の一部に一 80°C付近の超低温反応や （ 1、 2、 4、 5) 、 100 k g/cm2もの高圧水素化反応 （3) を含んでおり 特別な反応設備を必要としている。 また随所に高価な原料を使用しているなど、 工業的な生産を行う上で効率的な方法ではない。 発明の要約
上記に鑑み、 本発明の目的は、 医薬品中間体として有用な下記式 （I) ；
Figure imgf000004_0001
(式中、 R1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6~12のァリー ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 それ ぞれ独立して、 水素、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリール 基又は炭素数 7〜 1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 互いに 結合して環を形成していてもよい。 ) に示される光学活性 2— [6- (ヒドロキ シメチル） 一 1, 3—ジォキサン一 4—ィル] 酢酸誘導体を、 超低温反応設備な どの特別な設備を使わず、 安価な原料から簡便に製造できる方法を提供すること にある。
本発明者らは、 上記現状に鑑み鋭意検討を行った結果、 低温反応設備などの特 別な設備を使わず、 安価で入手容易な原料から、 下記式 （I) ；
Figure imgf000004_0002
(I)
(式中、 R1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリー ル基又は炭素数 7〜12のァラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 それ ぞれ独立して、 水素、 炭素数 1〜 12のアルキル基、 炭素数 6〜 12のァリール 基又は炭素数 7〜 1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 互いに 結合して環を形成していてもよい。 ) に示される光学活性 2— [6— (ヒドロキ シメチル） 一 1, 3—ジォキサン一 4—ィル] 酢酸誘導体の簡便な製造法を開発 するに至った。
すなわち、 本発明は、
(1) 下記式 (I I) ；
X1CH2C02R1
(Π)
(式中、 R1は上記に同じ。 X1は、 水素またはハロゲン原子を表す。 ） で表さ れる酢酸エステル誘導体に対し、 塩基または 0価の金属のいずれかを作用させて 調製されるエノラートを、 下記式 （I I I) ；
Figure imgf000005_0001
で表される （S) — ]3—ヒドロキシ _γ—プチ口ラタトンに、 一 30°C以上の温 度で反応させ、 下記式 (IV) ；
Figure imgf000005_0002
(IV)
(式中、 R1は上記に同じ） で表される化合物を製造し、
(2) 更にこの化合物を塩基存在下、 ァシル化剤で処理することにより、 下記式 (V) ；
Figure imgf000006_0001
(式中、 R1は上記に同じ。 R4は、 水素、 炭素数 1〜 12のアルキル基、 炭素 数 6〜12のァリール基又は炭素数 7〜12のァラルキル基のいずれかを表す。 ) で表される化合物を製造し、
(3) 更にこの化合物を微生物を用いて還元することにより、 下記式 （V I) ；
Figure imgf000006_0002
(式中、 R R4は上記に同じ） で表される化合物を製造し、
(4) 更にこの化合物を酸触媒存在下、 ァセタール形成反応剤で処理すること より、 下記式 （V I I) ；
Figure imgf000006_0003
(式中、 R R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表される化合物を製造し、 (5) 更にこの化合物を塩基存在下に加溶媒分解することからなる、 一般式 （I
)
Figure imgf000007_0001
(I)
(式中、 R2、 R3は上記に同じ。 ） で表される光学活性 2— [6- (ヒ ド 口キシメチル) _1， 3—ジォキサン一 4—ィル] 酢酸誘導体の製造法である。 また本発明は、 不純物が混入している下記式 (V) ；
Figure imgf000007_0002
(式中、 R1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリー ル基又は炭素数 7〜12のァラルキル基のいずれかを表す。 R4は、 水素、 炭素 数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリール基又は炭素数 7〜12のァ ラルキル基のいずれかを表す。 ） で表される化合物から、 脂肪族炭化水素系溶剤 を用いて、 上記式 (V) で表される化合物に混入している不純物を除去し、 上記 式 （V) で表される化合物を結晶として取得する単離精製法である。
また本発明は、 下記式 （V) ；
Figure imgf000007_0003
(式中、 R R4は上記に同じ。 ） で表される化合物を微生物を用いて還元す る、 下記式 （V I) ；
Figure imgf000008_0001
(式中、 R R4は上記に同じ） で表される化合物の製造法である t
また本発明は、 下記式 （V I) ；
Figure imgf000008_0002
(式中、 R R4は上記に同じ） で表される化合物を酸とアミンからなるァ ン塩を触媒に用いて、 ァセタール形成反応剤で処理する、 下記式 （V I I) ；
Figure imgf000008_0003
(式中、 R R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表される化合物の製造法であ る。
更に本発明は、 下記式 （V I) ；
OH OH
C02R1 (式中、 R R4は上記に同じ） で表される化合物を酸触媒存在下、 ァセタ' ル形成反応剤で処理することにより、 下記式 (V I I) ；
Figure imgf000009_0001
(式中、 I 1、 R2、 R R4は上記に同じ。 ） で表される化合物に変換し、 更 に不純物が混入している上記式 （V I I) で表される化合物から、 脂肪族炭化水 素系溶剤を用いて、 上記式 （V I I) で表される化合物に混入している不純物を 除去し、 上記式 (V I I) で表される化合物を結晶として取得する単離精製法で ある。 発明の詳細な開示
以下に、 本発明を詳述する。
本発明は下記反応式に示されるように、 （1) 力 ら (5) の 5工程の非超低温 反応から成立する。
Figure imgf000010_0001
以下、 本発明を工程ごとに順をおつて詳述する t 工程 (1)
本工程において、 下記式 （I I) ；
Figure imgf000011_0001
(II) で表される酢酸ェステル誘導体に対し、 塩基または 0価の金属のいずれかを作用 させて調製されるエノラートを、 下記化合物 (I I I) ；
Figure imgf000011_0002
(ΙΠ)
で表される （S) — ]3—ヒドロキシー γ—ブチロラタトンに一 30°C以上の温度 で反応させ、 下記式 （I V) ；
Figure imgf000011_0003
(IV) で表される （5 S) 体の立体配置を有するジヒドロキシォキソへキサン酸誘導体 を製造する。
一般に、 酢酸エステル等のエノラートが関与する反応を、 一 30°C以上といつ た非超低温反応で行うと、 エノラートの自己縮合が主に進行し、 目的反応の変換 率を著しく低下させる結果となる。 し力、し、 本発明者らにより開発された下記の 方法によると、 酢酸エノラートの自己縮合を最小限に制御でき、 目的反応を高収 率で実行することが可能となつた。
工程 （1) で用いられる （S) — ーヒ ドロキシ一 y—ブチロラタトンは公知 の方法 （例えば、 SYNTHET I C COMMUN I CAT I ON、 1 986、 16, 183. ) により大量生産が可能である。
工程 （1) で用いられる酢酸エステル誘導体において、 R1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリール基、 炭素数 7〜1 2のァラル キル基であり、 具体的には、 水素、 メチル基、 ェチル基、 i—プロピル基、 t e r t一ブチル基、 n—ォクチル基、 フエニル基、 ナフチル基、 p—メ トキシフエ ニル基、 ρ—二ト口べンジル基などがあげられ、 好ましくは t e r t—プチル基 があげられる。 また、 X 1は、 水素またはハロゲン原子を表し、 具体的には、 水 素、 塩素、 臭素、 ヨウ素などがあげられ、 好ましくは水素、 臭素などがあげられ る。
酢酸エステノレ誘導体の使用量は、 （S ) — —ヒドロキシ一 γ—プチ口ラクト ンに対し、 1モル当量から 1 0モル当量であり、 好ましくは 1モル当量から 5モ ル当量である。
工程 （1 ) では、 酢酸エステル誘導体に対し、 塩基または 0価の金属のいずれ かを作用させてエノラートを調製する。 一般に、 酢酸エステルの X 1が水素であ るとき、 エノラート調製に塩基が用いられ、 X 1がハロゲン原子のとき、 ェノラ 一ト調製に 0価の金属が用いられる。
エノラート調製時に用いられる塩基として、 例えば、 リチウムアミド、 リチウ ムジイソプロピルアミ ド、 リチウムジシクロへキシルアミ ド、 リチウムへキサメ チルジシラジド等のリチウムアミド類、 あるいは、 塩化マグネシウムジイソプロ ピルァミ ド、 臭化マグネシゥムジイソプロピルァミ ド、 ヨウ化マグネシゥムジィ ソプロピルアミ ド、 塩化マグネシゥムジシクロへキシルァミ ド等のマグネシウム アミ ド類、 あるいは、 ナトリウムアミド、 ナトリウムジイソプロピルアミド等の ナトリウムアミド類、 あるいは、 カリウムアミ ド、 カリウムジイソプロピルアミ ド等の力リウムアミ ド類、 あるいは、 メチルリチウム、 η _プチルリチウム、 フ ェニノレリチウム、 t e r t—ブチルリチウム等のアルキルリチウム類、 あるいは、 メチノレマグネシウムブロミ ド、 フエ-ノレマグネシウムクロライド、 i s o _プロ ピルマグネシゥムクロリ ド、 t e r t—プチルマグネシゥムクロリ ド等のグリニ ヤール （G r i g n a r d ) 試薬類、 あるいは、 ナトリゥムメ トキシド、 マグネ シゥムェトキシド、 カリウム t e r t—ブトキシド等の金属アルコキシド、 ある いは、 水素化リチウム、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 水素化カルシウム 等の金属水素化物が挙げられる。 好ましくは、 金属水素化物、 マガ' ^、、ノ /、マ ド類、 リチウムアミド類あるいはグリニャール （Gr i g n a r d) 試薬等であ る。 尚、 これらの塩基は単独もしくは組み合わせて使用する。 例えば、 リチウム アミド類ゃ金属水素化物は、 グリニャール試薬やマグネシウムアミド類等のマグ ネシゥム含有塩基と組み合わせると効果的である。 また、 マグネシウム含有塩基 は、 塩基と、 塩化マグネシウム、 臭化マグネシウム等のマグネシウム化合物を用 いて系中で生成させてもよい。
マグネシウムアミドは一般式 (V I I I) ；
Figure imgf000013_0001
( πΐ)
で表される。 ここで R5、 R6は、 それぞれ独立して、 炭素数 1〜12のアルキ ル基、 炭素数 6~12のァリール基、 炭素数 7〜12のァラルキル基、 または、 シリル基のいずれかを表し、 具体的には、 メチル基、 ェチル基、 i一プロピル基、 t e r t一ブチル基、 シクロへキシル基、 n—ォクチル基、 フエ-ル基、 ナフチ ル基、 ρ—メ トキシフエニル基、 ρ—二トロべンジル基、 トリメチルシリル基、 トリエチルシリル基、 フエ二ルジメチルシリル基などがあげられ、 好ましくはィ ソプロピル基があげられる。 また X2はハロゲン原子を表し、 好ましくは、 塩素、 臭素、 ヨウ素などがあげられ、 より好ましくは塩素である。
尚、 マグネシウムアミドは、 安価で入手容易な第 2級ァミンとグリニャール （ Gr i g n a r d) 試薬とから公知の方法 （例えば特開平 8— 523420号公 報） により調製できる。 あるいは、 リチウムアミドとマグネシウムハロゲン化物 とから公知の方法 （例えば、 J. O r g. C h em. 1991, 56， 5978 -5980) により調製できる。
グリニャール （G r i g n a r d) 試薬は、 下記式 （I X) ；
R7 Mg— X3
(IX)
で表される。 ここで R 7は、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァ リール基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基等であり、 具体的には、 メチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 i一プロピル基、 n—プチル基、 t e r t—ブチル 基、 n—ォクチル基、 フエニル基、 ナフチル基、 ρ—メ トキシフエ二ノレ基、 - ニトロべンジル基などがあげられ、 好ましくはメチル基、 ェチル基、 i—プロピ ル基、 n—プチル基、 t e r t—ブチル基などがあげられる。 また X 3はハロゲ ン原子を表し、 好ましくは、 塩素、 臭素、 ヨウ素などがあげられ、 より好ましく は塩素である。
リチウムアミ ドは一般式 （X) ；
Figure imgf000014_0001
( X )
で表される。 こ .で R 8、 R 9は、 それぞれ独立して、 炭素数 1〜1 2のアルキ ル基、 炭素数 6 1 2のァリール基、 炭素数 7〜1 2のァラルキル基、 または、 シリル基のいずれかを表し、 具体的には、 メチル基、 ェチル基、 i一プロピル基、 t e r t一ブチル基、 シクロへキシル基、 n—ォクチル基、 フエニル基、 ナフチ ル基、 p—メ トキシフエエル基、 p—二トロべンジル基、 トリメチルシリル基、 トリェチルシリル基、 フェ二ルジメチルシリル基などがあげられ、 好ましくはィ ソプロピ /レ基があげられる。
工程 （1 ) における塩基の使用量は、 （S ) — ]3—ヒドロキシ一 y _プチロラ タトンに対し、 1モル当量から 2 0モル当量であり、 好ましくは 2モル当量から 8モル当量である。
工程 （1 ) のエノラート調製時に使用できる 0価の金属は、 亜鉛、 マグネシゥ ム、 スズ等であり、 好ましくは、 亜鉛、 マグネシウムである。 ここで、 0価の金 属の使用量は、 （S ) —|3—ヒドロキシー 一ブチロラタトンに対し、 1モル当 量から 2 0モル当量であり、 好ましくは 2モル当量から 8モル当量である。
工程 （1 ) で使用できる溶媒としては、 例えば、 非プロトン性の有機溶媒が挙 げられる。 上記有機溶媒として、 例えばベンゼン、 トルエン、 n—へキサン、 シ ク口へキサン等の炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 テトラヒドロフラン、 1， 4一ジォキサン、 メチノレ t—プチノレエーテル、 ジメ トキシェタン、 エチレングリ コールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；塩化メチレン、 クロロホルム、 1， 1 , 1ートリクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ジメチルホルムアミ ド、 N—メ チルピロリ ドン、 へキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が 挙げられる。 上記溶媒は、 単独で用いてもよく、 2種以上を併用してもよい。 上 記溶媒においては、 ベンゼン、 トルエン、 n—へキサン、 シク口へキサン等の炭 化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン、 1， 4一ジォキサン、 メチル t一ブチルエーテル、 ジメ トキシェタン、 ジエチレングリコー/レジメチノレ エーテル等のエーテル系溶媒等が好ましく、 より好ましくは、 ジメトキシェタン、 ジエチレングリコールジメチルエーテル等のポリエーテル系溶媒である。 ポリエ 一テル系溶媒は、 単独溶媒として使用してもよいが、 他の反応溶媒中にこれらを 添加物として （S ) —ヒドロキシ _ y—プチ口ラタトンに対し 1モル当量か ら 1 0モル当量程度添加するだけでもよい。
工程 （ 1 ) の反応温度は、 好ましくは一 3 0 °Cから 1 0 0 °C、 より好ましくは _ 1 0 °Cから 6 0 °Cである。
工程 （1 ) において、 反応剤の混合順序は任意であるが、 好ましくは、 （S ) 一 β—ヒドロキシ一 γ—プチ口ラク トンを塩基で、 より好ましくは塩基及びマグ ネシゥム化合物で予め処理するとよい。 塩基として好ましくは、 金属水素化物、 リチウムアミド類等が挙げられる。 マグネシウム化合物として好ましくは、 塩化 マグネシウム、 臭化マグネシウム、 硫酸マグネシゥム等が挙げられる。 マグネシ ゥム含有塩基を用いて、 塩基とマグネシウム化合物を兼ねてもよい。 マグネシゥ ム含有塩基として、 例えばメチルマグネシウムブロミ ド、 i s o—プロピルマグ ネシゥムクロリ ド、 フエ二/レマグネシウムクロリ ド、 t e r t一プチノレマグネシ ゥムクロリ ド等のグリニャール （G r i g n a r d ) 試薬、 あるいは塩化マグネ マグネシウムジィソプロピルァミ ド、 塩化マグネシゥムジシク口へキシルァミド 等のマグネシウムアミドが挙げられる。 好ましくは、 t e r t一プチルマグネシ ゥムクロリ ドである。
前処理における塩基の使用量は、 （S ) — J3ーヒドロキシー γ—プチ口ラタト ンに対し、 0 . 0 1モル当量から 3モル当量であり、 好ましくは 0 . 5モル当量 から 1 . 5モル当量である。
前処理におけるマグネシウム化合物の使用量は、 （S ) — ]3—ヒドロキシー y —ブチロラクトンに対し、 0 . 0 1モル当量から 3モル当量であり、 好ましくは 0 . 5モル当量から 1 . 5モル当量である。
前処理におけるマグネシウム含有塩基の使用量は、 （S ) —ヒドロキシー γ _プチ口ラタトンに対し、 0 . 0 1モル当量から 3モル当量であり、 好ましく は 0 . 5モゾレ当量から 1 . 5モ/レ当量である。
( S ) — ーヒ ドロキシ一 γ—プチ口ラタ トンを予め塩基で処理する際に、 （ S ) —ヒドロキシ一 γ _プチ口ラタトンと酢酸エステル誘導体の混合溶液に 対して処理を行ってもよい。 前処理の後、 さらにリチウムアミ ド、 リチウムジィ ソプロピルアミ ド、 リチウムジシクロへキシルアミ ド、 リチウムへキサメチノレジ シラジド等のリチウムアミドあるいは塩ィ匕ジイソプロピルマグネシウム、 臭化ジ イソプロピルマグネシゥム等のマグネシゥムアミド等の塩基、 若しくは塩基の溶 液を滴下して反応を行うとよい。
前処理の後に作用させる塩基の使用量は、 （S ) — ;3—ヒドロキシー γ _プチ 口ラタトンに対し、 1モル当量から 2 0モル当量であり、 好ましくは 2モル当量 から 8モル当量である。
このように工程 （1 ) において、 （S ) — ]3—ヒドロキシー γ—プチ口ラク ト ンを、 塩基及ぴマグネシウム化合物で前処理した後、 引き続き、 酢酸エステル誘 導体の共存下、 塩基を作用させることにより、 好適に実施できる。 また、 （S )
— 3—ヒドロキシー γ—プチ口ラタトンを、 塩基で予め処理し、 酢酸エステル誘 導体に対し、 0価の金属を作用させて調製されるエノラートと反応させてもよい。 工程 （1 ) の後処理は、 反応液から生成物を取得するための一般的な後処理を 行えばよい。 例えば、 反応終了後の反応液と、 一般的な無機または有機酸、 例え ば塩酸、 硫酸、 硝酸、 酢酸、 クェン酸等を混合し、 一般的な抽出溶媒、 例えば酢 酸ェチル、 ジェチルエーテル、 塩化メチレン、 トルエン、 へキサン等を用いて抽 出操作を行う。 得られた抽出液から、 減圧加熱等の操作により反応溶媒及び抽出 溶媒を留去すると、 目的物が得られる。 このようにして得られる目的物は、 晶析 精製、 分別蒸留、 カラムクロマトグラフィー等一般的な手法により精製を行い、 さらに純度を高めてもよいが、 単離することなく次工程に用いることもできる。 工程 （2)
本工程において、 工程 (1) で得られた下記式 （I V) ；
Figure imgf000017_0001
(IV) で表されるジヒドロキシォキソへキサン酸誘導体を塩基共存下、 アシノレイヒ剤で処 理することにより、 下記式 （V) ；
Figure imgf000017_0002
で表されるジヒドロキシォキソへキサン酸モノァシル誘導体を製造する。
工程 (2) において、 使用できるァシルイ匕剤としては、 下記式 （X I)
Figure imgf000017_0003
(XI) または下記式 （XV I)
Figure imgf000017_0004
(XVI) で表される化合物のいずれも使用できる。 ここで、 R 4は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリール基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル 基のいずれかを表し、 具体的には、 水素、 メチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 i 一プロピル基、 n—ブチル基、 t e r t—ブチル基、 n—ォクチル基、 フエ二 ル基、 ナフチル基、 p—メ トキシフエニル基、 p—二トロベンジル基等であり、 好ましくは、 メチル基、 ェチル基、 i一プロピル基、 t e r t—ブチル基、 フエ -ル基であり、 更に好ましくはフエニル基である。
また、 Qは脱離基を表し、 具体的には、 塩素、 臭素、 ヨウ素等のハロゲン原子 ；メ トキシカルボニルォキシ基、 エトキシカルポニノレオキシ基、 t e r t—ブト キシカルボニルォキシ基等のァルコキシカルポニルォキシ基；シァノ基；イミダ ゾリ ド基等が挙げられ、 好ましくは塩素である。
ァシル化剤の使用量は、 ジヒドロキシォキソへキサン酸誘導体に対し、 好まし くは 0 . 5〜2モル当量、 より好ましくは 0 . 8〜1 . 5モル当量である。
工程 ( 2 ) に使用できる塩基は、 例えば、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム、 炭 酸水素ナトリウム、 炭酸水素力リウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リウム、 水 酸化カルシウム、 水酸化リチウム、 水酸化バリウム、 水酸化マグネシウム等の無 機塩基、 あるいはアンモニア、 トリエチルァミン、 ピリジン、 N—メチルモルホ リン、 ジイソプロピルェチルァミン、 N , N—ジメチルァミノピリジン等のアミ ンが挙げられ、 好ましくはトリェチルァミン又はピリジンが挙げられる。 ここで、 塩基の使用量は、 ジヒドロキシォキソへキサン酸誘導体に対し、 好ましくは 1〜 1 0モル当量、 より好ましくは 1〜3モル当量である。
工程 （2 ) に使用できる反応溶媒は、 例えば、 ベンゼン、 トルエン、 シクロへ キサン等の炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 テトラヒドロフラン、 1， 4— ジォキサン、 メチル t e r tーブチノレエーテノレ、 ジメ トキシェタン等のエーテノレ 系溶媒；酢酸ェチル、 酢酸プチル等のエステル系溶媒；アセトン、 メチルェチル ケトン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、 クロ口ホルム、 1， 1， 1 _トリクロ ロェタン等のハロゲン系溶媒；ジメチルホルムアミ ド、 ァセトアミド、 ホルムァ ミ ド、 ァセトニトリル等の含窒素系溶媒；ジメチルスルホキシド、 N—メチルビ 口リ ドン、 へキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げら れる。 上記有機溶媒は、 単独で用いてもよく、 2種以上を併用してもよい。 好ま しくは、 ト ェン、 酢酸ェチル、 アセトン、 塩化メチレン、 メチル t e r t—プ チルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジメチルホルムァミド、 ァセトニトリル等 である。
工程 （2 ) の反応温度は、 一 3 0 °Cから 8 0 °C、 好ましくは一 1 0 °Cから 4 0 °Cである。
工程 （2 ) 'の後処理は、 反応液から生成物を取得するための一般的な後処理を 行えばよい。 例えば、 反応終了後の反応液に水を加え、 一般的な抽出溶媒、 例え ば酢酸ェチル、 ジェチルエーテル、 塩化メチレン、 トルエン、 へキサン等を用い て抽出操作を行う。 得られた抽出液から、 減圧加熱等の操作により反応溶媒及び 抽出溶媒を留去すると、 目的物が得られる。
このようにして得られる目的物は、 製造過程における各種分解や副反応のため に、 各種不純物を含有しやすい。 とりわけ、 下記一般式 （X I I ) ；
Figure imgf000019_0001
(R \ R 4は上記に同じ。 ） で表されるジヒドロキシォキソへキサン酸ジァシ ル誘導体を不純物として多量に副生する傾向があり、 高品質の目的物を得るため には、 これらの不純物を除去する必要がある。 一般に、 構造の類似した不純物 （ 類縁物質） の除去は難しく、 これらの不純物を除去して高品質の目的物を得るた めには、 優れた精製、 単離方法が必要である。 本発明者らは、 以下に示すような 条件で晶析を行うことにより、 上記不純物を効率よく除去できることを見いだし た。
本工程において使用される晶析溶媒としては、 脂肪族炭化水素系溶剤が好まし く、 具体的には、 例えばペンタン、 石油エーテル、 ネオペンタン、 へキサン、 シ クロへキサン、 メチルシク口へキサン、 ヘプタン、 シクロヘプタン、 オクタン、 ィソオクタン、 ノナン、 デカン、 ゥンデカン、 ドデカン等の炭素数 5〜 2 0の脂 肪族炭化水素が挙げられる。 このうち、 ペンタン、 へキサン、 メチルシクロへキ サン、 ヘプタン、 オクタン又はイソオクタンが好ましい。 これらは単独で用いて もよく、 2種以上併用してもよい。
なかでも、 湿結晶からの溶剤の乾燥や溶剤の回収再利用 （蒸留回収） 等の点を 考慮すると、 比較的沸点の低い溶剤が好ましく、 このような溶剤としては、 一般 には、 1気圧以下で沸点が約 1 0 0 °C以下のものが挙げられる。 具体的には、 例 えばペンタン、 へキサン、 メチノレシク口へキサン、 ヘプタン、 オクタン、 イソォ クタン等の炭素数 5〜 8の脂肪族炭化水素系溶剤が挙げられ、 溶剤コストや取り 扱い性の総合的観点からへキサン、 メチ /レシク口へキサン等がより好ましい。 上記脂肪族炭化水素系溶剤を使用すると、 上記化合物の安定化、 高い収量の確 保、 高い精製効果、 即ち、 各種不純物、 とりわけ上記化合物 （X I I ) の効果的 な除去が達成される。 上記脂肪族炭化水素系溶剤の使用量は、 上記化合物 （V) の結晶化のための操作終了時において、 取得物の流動性が維持できる量であるの が好ましく、 例えば、 上記化合物 （V) に対し、 約 5〜 2 0倍重量、 場合によつ てはそれ以上である。
本発明において、 上記化合物 (V) の結晶化の際には、 7令却晶析、 濃縮晶析等 の晶析方法、 又は、 これらの晶析方法を組み合わせて用いることが出来る。 なお、 上記濃縮晶析は、 脂肪族炭化水素系溶剤以外の他の溶剤からなる溶液を上記の脂 肪族炭化水素系溶剤からなる溶液に置換していく晶析法であってもよい。 また、 結晶化に際しては、 種晶を添加してもよい。
本発明において、 結晶化に際しては上記脂肪族炭化水素系溶剤の他に、 上記化 合物 （V) の溶解度、 収量、 処理濃度、 精製効果 (不純物除去効果) 、 及ぴ、 得 られる結晶の物性のうち、 少なくとも 1つを改善するための補助的な溶剤を更に 用いることができる。 上記補助的な溶剤は、 必要に応じて、 上記脂肪族炭化水素 系溶剤に添加してもよく、 予め補助的溶剤に上記化合物 （V) を溶解させ、 上記 脂肪族炭化水素系溶剤を添加して行うこともできる。
上記補助的な溶剤としては、 特に限定されず、 例えばアセトン、 メチルェチル ケトン、 テトラヒドロフラン、 メチノレ t e r t一プチルエーテノレ、 酢酸ェチノレ、 酢酸イソプロピル、 酢酸 t e r tーブチル、 エタノール、 イソプロパノール、 ト ルェン、 ベンゼン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 塩ィ匕メチレン、 クロロホゾレム、 1， 2—ジクロロェタン等が挙げられる。 これらは単独で用いてもよく、 2種以 上併用してもよい。 なかでも、 酢酸ェチル、 トルエン、 メチル t e r t—ブチル エーテル、 塩ィヒメチレン等は、 溶解度を高め、 処理濃度や精製効果等の処理効果 を改善することが出来る。
上記補助的な溶剤は、 目的とする効果等をもとに、 補助的な溶剤の特性に従つ て設定した好ましい量を上記脂肪族炭化水素系溶剤と併用するとより効果的であ る。 上記補助的な溶剤の適切な使用量は、 簡単な実験により設定できる。 上記補 助的な溶剤の使用量は、 収量や精製効果の観点から、 上記化合物 （V) の結晶化 のための操作が終了した時点において、 上記補助的な溶剤と上記脂肪族炭化水素 系溶剤の重量比 （補助的な溶剤 Z脂肪族炭化水素系溶剤） 力 1以下となる量が 好ましい。 より好ましくは、 0 . 5以下となる量が用いられる。
本発明の精製、 単離方法は、 室温付近で実施することができる。 必要に応じて、 加温又は冷却をすることができ、 例えば、 約 6 0 °C以下、 通常は一 3 0 °C〜 5 0 °Cで行う。
このようにして得られた上記匕合物 （V) は、 固液分離を行い、 必要に応じて、 更にケーキ洗浄し、 乾燥することもできる。 上記固液分離の方法としては特に限 定されず、 例えば、 加圧濾過、 減圧濾過、 遠心分離等の方法が挙げられる。 上記 乾燥の方法としては、 例えば、 熱分解や溶融を避けて約 6 0 °C以下で、 減圧乾燥 (真空乾燥） するのが好ましい。 工程 （3 )
本工程において、 工程 ( 2 ) で得られた下記式 (V) ；
Figure imgf000021_0001
に示される （5 S) 体の立体配置を有するジヒドロキシォキソへキサン酸モノア シル誘導体を微生物を用いて還元することにより、 下記式 (V I) ；
Figure imgf000022_0001
に示される （3R， 5 S) 体の立体配置を有するトリヒドロキシへキサン酸モノ ァシル誘導体を製造する。
一般に上記のようなジヒドロキシォキソへキサン酸モノァシル誘導体のカルボ 二ル基を高立体選択的に還元する場合、 超低温条件下、 アルキルポランの存在下 に水素化ホウ素ナトリウム等のヒ ドリ ド還元剤で還元する方法が用いられる （例 えば、 特開平 2-262537号公報） 。
本発明者らは、 ジヒドロキシォキソへキサン酸モノァシル誘導体を安価に非超 低温下で立体選択的に還元するべく、 微生物を用いた還元法を開発した。
工程 (3) で用いられる、 ジヒドロキシォキソへキサン酸モノァシル誘導体を 還元して、 トリヒドロキシへキサン酸モノァシル誘導体に変換する微生物は、 以 下に説明する方法によって見い出すことができる。 酵母菌の場合であれば、 例え ば、 グルコース 3。に 酵母エキス 0. 3 %、 リン酸ニ水素力リウム 0. リ ン酸水素ニァンモユウム 1. 3 %、 硫酸マグネシウム 7水和物 0. 08 %、 硫酸 亜鉛 7水和物 0. 007%、 硫酸鉄 7水和物 0. 009%、 硫酸銅 5水和物 0. 0005 %、 硫酸マンガン 4水和物 0. 001%、 塩化ナトリウム 0. 01 %の 糸且成からなる A培地 5m 1 (pH7. 0) を大型試験管に入れ殺菌後、 酵母菌を 植え、 27°Cで 2〜3日間振とう培養する。 その後、 菌体を遠心分離によって集 め、 （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ _ 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r t -プチルエステルを 0. 01〜 1 %およびグルコース 8 %を含んだリン 酸緩衝液 0. 5mlに懸濁し、 大型試験管中で 1〜3日間 27°Cで振とうする。 目的とする還元能力の判別は、 振とう培養後の反応液を酢酸ェチルで抽出し、 有 機相を高速液体クロマトクロマトグラフィー 〔カラム：野村化学製 Do V e 1 o s i l ODS-HG-3 (4. 6 mm x 1 50 mm) 、 溶離液： 0. 1%トリ フルォロ酢酸 Zァセトニトリノレ = 6Z4、 流速： 0. 8ml /m i n、 検出： 2 10 n m、 カラム温度：室温、 溶出時間： （ 3 S , 5 S) 一 6—ベンゾィルォキ シー 3， 5—ジヒ ドロキシへキサン酸 t e r t—プチノレエステ 7レ ； 10. 1分、 (3R, 5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒ ドロキシへキサン酸 t e r t一プチルエステル； 11. 0分、 （5 S) —6—べンゾイノレオキシ一 5—ヒ ドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r t一ブチルエステル； 16. 7分、 なお この条件は例示である〕 により分析する。 さらに、 用いる微生物が細菌の場合に は、 例えば、 グリセリン 1. 5%、 プロエキス 1. 0%、 酵母エキス 0. 5%の 組成からなる B培地 （pH7. 0) を、 かびの場合には、 例えば、 グルコース 5 %、 コーンスチープリカー 5%からなる C培地 （pH6. 0) を、 放線菌の場合 には、 例えば、 D i f c o社製トリプテイクソィプロス 3 %、 可溶性澱粉 1 %の 組成からなる D培地 （ρΗ7· 2) を、 それぞれ用いて微生物を培養し、 上記と 同様の操作により目的の能力を有する微生物を見い出すことができる。
本発明に使用しうる微生物としては、 ァシュべィ (As hb V a) 属、 ポトリオ ァスカス (Bo t r v o a s c u s) 属、 ブレタノマイセス (B r e t t a nomy c e ） 属、 キャンディダ (C a n d i d a) 属、 シテロマイセス (C i t e r omv c e ） 属、 クラビスポラ (C 1 a V i s p o r a) 属、 タリプトコッカス (Cr yp t o c o c c u _s _) 属、 ァノ リオマイセス (D e b a r y omv c e s) 属、 アツケラ （P e k k e r a .) 属、 ディポタ、、スカス （D ip o d a s c u s) 属、 ガラクトマイセス （ Ga l a c t omv c e s) 属、 ケォトリカム (Ge o t r i c h um) 属、 ハンセニ ノ'スホフ (Ha n s e n i a s p o r a .) 属、 ハンセヌラ （ a s e n u 1 a_) 属、 ホ ノレモ カス (Ho rmo a s c u s .) 属、 ヒポピキア (Hv p h o p i_c h i a) 属、 イツサチェンキア (I s s a t c h enk i a 属、 ク /レイべロマイセス (K 1 u v v e r o m V c e ） 属、 コマガタエラ （K o_m a g_ a a e 1 1 ） 属、 リポマイセス (L i p omv c e s) 属、 シェニコウイァ (MR†. s c hn i k ow i a 属、 ナカザ ヮェ (Na k a z awa e a) 属、 ォガタエア ( Q g a t a e a J 属、 ノ キソレン （£_ a c h v s o 1 e n) 属、 ピキア (P i c h i a) 属、 口ドトルーラ (Rh o d o t o r u 1 a 属、 d卜/ ヽ-] J T~ ク厶 ( R h o d s p o r_ i d i urn) 属、 サッカロマイ セス (S a c c h a r omy c e s.) 属、 サッカロマイコデス a c c h a r omv c o d e s) 属、 サッカロマイコプシス (S a c c h a r omv c o p s i s ) 属、 サタ 一ノスポフ （S a t u r n o s p o r a) 偶、 ンソフスス トスホリン し S c h i z o b 1 a s t o s p o r i o n ) 属、 シゾサッカロマイセス （S c h l— z o s_a c c _h_a r_o my c e s .) 属、 シュヮニォマイセス （ c h w a n n i omy c e s ) 属、 スホジァ ィォホフス （S o r i d i o b o 1 u s ) 属、 スポロボロマイセス （S j) o r o D o 1 o m V c e s j ¾、 卜ノレフス ヽフ (.T o r u l a s n o r a _) 属、 トルロプシス Q r u I o p s 1 s―) 属、 卜リコスポロン （T r i c h o s o— o r o n.) 属、 トリゴノ プシス （T r i g o n o p s i _s_) 属、 ウイロプシス (W i 1 1 o p s i s ) 属、 ャマ ダジーマ (Y ama d a z v m a ) 属、 チゴサッカロマイセス (Z y g o s a c c h a r omv c e s ) 属、 ァシディフイリゥム (A c i d i p h i 1 i u m) 属、 ァェロバ クタ1 ~ (A e r o b a c t e r ) 属、 ァノレ力リケ ス (― A l e a l i g e n e s -) 属、 アースロバクタ一 (A r t h r o b a c t e r) 属、 ァウレオノくクテリゥム (Au r e o b a c t e r i urn) 属、 バチラス (B a c i l l u s ) 属、 プレビバタテリゥム （ B r e v i b a c t e r i urn) fe、 ブッティォゥキシラ (B u t t i a u x e l l a) 属、 セデシァ （C e d e c e a) 属、 セルロモナス （C e l l u l omo n a s ) 属、 シトロパクター (C i t r o b a c t e r) 属、 クロストリディゥム (C 1 o s t r i d i urn) 属、 コマモナス (C omamo n a s ) 属、 コリネバクテリゥム (C o r y n e b a c t e r i um) 属、 ェンテロノくクタ一 (E n t e r o b a c t e r) 属、 エア ウイニァ (E r w i n i a) 属、 ェシエリチア (E s c h e r i c h i a) 属、 フラポ ノ クァリゥム （F l a v o b a c t e r i umj 属、 クレプシエラ （K 1 e b s― l e l l a 属、 ノレテオコッカス (L u t e o c o c c u s ) 属、 ミクロノくクテリゥム (M i e r o b a c t e r i um) 属、 ミクロコッカス (M i c r o c o c c u s) 属、 才クロ ノ クトラム (O c h r o b a c t r um) 属、 プロテウス (P r o t e u s ) 属、 プロ ビアンシァ (P r o v i d e n c i a) 属、 シユードモナス (P s e u d omo n a s ) 属、 ロドコッカス (Rh o d o c o c c u s ) 属、 サ /レシナ (S a r c i n a) 属、 セ ラチア ( S e r r a t i a 1 属、 スフインゴバタテリゥム (S p h i n e o b a c t e r i um) 属、 ッカムレラ (T s u k amu r e 1 1 a) 属、 アブシディア (Ab s i d i a) 属、 アクレモニゥム (A c r emo n i um) ¾、 ァェグリ^ "タ （A e g e r i t a) 属、 ァグロサイべ (Ag r o c v b e) 属、 アミロステレゥム (Amv 1 o s t e r e u m) 属、 ァスペルギノレス (A s p e r g i 1 1 u s) 属、 プリッソシラミス (B s s o c h l amy s) 属、 チヤエトミディゥム (C h a e t om i d i u m) 属、 チヤエトサノレトーリャ (Ch a e t o s a r t o r v a) 属、 クラドスポリゥム (C 1 a d^_s p o r i _u m) 属、 コブリヌス （— C— o r i n u s ) 脾、 ク U二へリス (C r i n i p e 1 1 i s ) 属、 エンドファラグミァ (En d o p h r a gm i a) 属、 フラボ ラス (F I a V o 1 u s) 属、 フォミ トプシス (F om i t o p s i s) 属、 フサリゥ ム (F u s a r i um) 属、 ガノダーマ (G a n o d e r m a ) 属、 グロメレーラ （ 1 ome r e 1 1 a) 属、 ラエティポラス (L a e t i p o r u s ) 属、 レンティヌス (L e n t i n u s ) 属、 レンジテイス (L e n z i t e s ) 属、 マクロフォーマ (M a c r o p h oma) 属、 モナスカス (M o n a s c u s ) 属、 モノレティエレーラ （M o r t i e r e 1 1 a) 属、 パェシロマイセス (P a e c i 1 omv c e s ) 飄、 ぺニ シリウム ( P e n i c i 1 1 i u m) 属、 フィァロフオーラ (Ph i a l o p h o r a) 属、 フオリオタ (Ph o 1 i o t a) 属、 プレゥ口トス (P 1 e u r o t u s) 属、 ス コブラリオプシス (S c o p u l a r i o p s i s) 属、 セフィゾフィラム (S e h i z o p h v 1 1 um) 属、 スポロトリカム (S p o r o t r i c hum) 属、 ジゴリュ ンアイス （Z no r Ιιγ η c hu s) 属、 ミクロアトラス^ラ （M i c r o t e t r a s p o r a) 属、 及びス トレプトマイセス (S t r e p t omv c e s) 属に属する微 生物が使用しうるが、 具体的には例えば、 ァシュべィ · ゴシツビ (A s h b V a g o s s v p i i ) I FO 0 5 6 0、 ポトリオアスカス■シナエデンドルス （ B o t r V o a s c u s s y n n a e d e n d r u s ) I F O 1 6 04、 プ レタノマイセス ·クスターシアヌス (B r e t t a n omy c e s c u s t e r s i a n u s ) I FO 1 5 8 5、 キャンディダ 'アルボレア (C a n d i d _a_ a r b o r e a ) I AM 4 1 4 7、 キャンディダ' ·カテヌラータ (C a n d i d a c a t e n u l a t a) I FO 0 74 5、 キャンディダ 'フエ-一 力 (C a n d i d a f e n n i c a ) CB S 6 0 2 8、 キャンディダ'ガラ クタ (C a n d i d a g a 1 a c t a) I FO 1 0 0 3 1、 キヤンディダ · ノヽェム口- (C a n d i d a h a e mu 1 o n i i ) I F O 1 000 1、 キ ヤンディダ■マグノリエ （C a n d i d a ma g n o l i a e) I FO 0 7 05、 キャンディダ ·ムサェ (C a n d i d a mu s a e) I FO 1 5 8 2、 キャンディタ、、 .ニトラトフイラ (C a n d i d a n i t r a t o r> h i 1 a)
1 FO 1 0004、 キャンディダ■パラプシロシス (C a n d i d a p a r a ΐ> s i 1 o s i s) I FO 05 8 5、 キャンディダ■パラルゴーサ (C a n d i d a p a r a r u g o s a) I FO 0966、 キャンディダ 'ステラー タ (C a n d i d a s t e 1 l a t a) I FO 070 1、 シテロマイセス . マトリアンシス (C i t e r omy c e s_ m a t r i t e n^s i s_) I F O
06 5 1、 クラビスポラ 'ノレシタユエ (C l a v i s p o r a 1 u s i t a n
1 a e) I FO 1 0 1 9、 タリプトコッカス 'ラウレンティ (C r v p t o c o c c s 1 a r e n t i i ) I F O 060 9、 デバリオマイセス 'カー ソ-ィ (D e b a r y o m v c e s c a r s o n i i一) I F O 0 79 5、 ァ ノ リォマイセス ·ハンセニイ ·ノ ー · ファブリィ (D e b a r y omy c e s h a n s e n i i v a r . f a b r y i ) I F O 07 94、 デバリォマイ セス -ノヽンセニイ - - ノヽンセ-ィ (D e b a r y omy c e s h a n s e n i i v a r . h a n s e n i i ) I F O 0032、 デノ リオマイセス - ノヽンセニイ ■バー · /ヽンセ；^ィ (D e b a r y o my c e s h a n s e n i i v a r . h a n s e n i i ) I FO 004 7、 デバリオマイセス ·ノヽンセニ ィ ·ノ 1 ~ · ノヽンセニイ (D e b a r v omv c e s h a n s e n i i v a r . h a n s e n i i ) I FO 00 1 8、 デバリォマイセス■クロエッケリ (D e b a r y o m y c e s一 k l_o e c k e r i ) 、 デノ リオマイセス ·マラマ (D e b a r y omy c e s ma r a m a ) I F O 0668、 テノ リォマィセス •シュ' ~ドポリモープス (D e b a r V omy c e s jp s e u d o p o l v m
0 r p h u s ) I FO 1 026、 デバリオマイセス · ロバートシー （D e b a r y omy c e s r o b e r t s i a e ) I F O 1 277、 デノ リォマイセ ス ' スピーシズ (D e b a r V omy c e s s p . ) I FO 00 25、 デッ ケラ ■ァノマーラ (D e k k e r a a n o m a 1 a) I FO 06 27、 ディ ポダスカス ·ァーミラリー (D i p o d a o u s a r m i 1 1 a r i a e_)
1 FO 0 1 0 2、 ディボダスカス 'ォべテンシス (D i p o d a s c u s o_ v e t e n s i sj I FO 1 20 1、 ディボダスカス 'テトラス一マ （D i 0 d a s c u s t e t r a s p e rma) CBS 765. 70、 ガラクトマ イセス . レシ一 (Ga l a c t omy c e s r e e s s i i ) CBS 179. 60、 ゲォトリカム .キャンディダム (Ge o t r i c hum c a n d i d u m) CBS 187. 67、 ゲォトリカム ' フエルメンタンス (G e o t r i c hum f e rme n t a n s) I FO 1 199、 ゲォトリカム -フラグラン ス （Ge o t r i c hum f r a g r a n s) CBS 164. 32、 ゲォト リカム .ロウビエリ (Ge o t r i c hum 1 o u b i e r i ) CB S 25 2. 61、 ノヽンセニァスポラ ■ギノレモンディ (Ha n s e n ! a s τ> o r a _g_ u i 1 1 i e r mo n d i i ) I AM 4972、 ハンセヌラ ■ メタノローサ （ Ha n s e n u l a me t h a n o l o s a) 、 ノヽンセヌラ .ポリモーファ (Ha n s e n u l a p o l ymo r p h a) D L 1 AKU 4752、 ホル モアスカス ■ フィレントムス (Ho r m o a s c u s_ p h i 1 e n t omu s ) I FO 1847、 ホルモアスカス ■ブラティポデイス (Ho rmo a s c u _s_ p l a t y p o d i s) I FO 1471、 ヒポピキア 'バートニイ (Hy p h ο τ> i c h i a b u r t o n i i ) I FO 0844、 イツサチェンキア -才リエンタリス (I s s a t c h e n k i a o r i e n t a 1 i s ) I F O
1279、 ィッサチェンキア ·テリコーラ ( I s s a t c h e nk i a t e r r i c o 1 a) I F O 0933、 タノレイべロマイセス · ラクテイス (K 1 u v v e r omy c e s 1 a c t i s ) I F O 1012、 クノレイべロマイセス ' マノレキアヌス (K 1 u y V e r o m y c e s m a r x i a n u s) I F O 0 541、 タノレイべロマイセス ·マノレキアヌス (K l uv v e r omv c e s ni a r x i a n u s ) I FO 0288、 クゾレイべロマイセス ■ ポリスポラス （K 1 u y V e r o m v c e s Ό o 1 v s p o r u s ) I F O 0996、 クルイ ベロマイセス -サーモトレランス (K l uy v e r omy c e s _ h e r m o. t o 1 e r a n s ) I FO 0662、 コマガタエラ ■パストリス (Koma g a t a e 1 1 a p a s t o r i s ) I FO 1013、 リポマイセス .スター ケリ (L i p omv c e s s t a r k e y i ) I F O 0678、 シェニコゥ ィァ · ビクスピダータ (Me t s c h n i k o w i a b i c u s p i d a t a ) I FO 1408、 シェェコウイァ ■プノレセリーマ （Me t s c h n i k o w i a lD u l c h e r r i ma) I FO 0 5 6 1、 ナカザヮェ■ホノレスティ （
Na k a z aw a e a h o 1 s t i i ) I FO 0980、 ォガタエア - ミヌ 一タ ·ノ 一 . ミヌータ (Q g a t a e a m i n u t a v a r . m i n_u t a I FO 0 9 75、 ォガタエア ' ピニ （O g a t a e a p i n i ) I FO 1 342、 ォガタエア ·ポリモーファ (O g a t a e a p o l ymo r p h a ) I FO 07 9 9、 ォガタエア■ポリモーファ (Q g a t a e a τ» o 1 ym o r ΐ> h a) I FO 1 47 5、 ォガタエア■ ウィッカーミ (O g a t a e a w i c k e r h a m i i ) I FO 1 70 6、 ノヽ0キソレン■タンノフィラス a c h y s o l e n t a n n o p h i 1 s ) I F O 1 00 7、 ピキア -力 ナデンシス (P i c h i a c a n a d e n s i s ) I FO 0976、 ピキア -ファリノーサ (P i c h i a f a r i n o s a) I AM 436 9、 ピキア 'ジヤンディニー (P i c h a j a n d i n i i ) I FO 0 98 7、 ピキア •サイ トイ (P i c h i a s a i t o i ) I AM 4945、 ピキア■ トレタ ナ (P i c h i a t o 1 e t a n a ) I FO 0 9 50、 ピキア . トリアング ラリス (P i c h i a t r i a n g u l a r i s) I FO 0836、 ピキア • ウィッカーミ (P i c h i a w i c k e r h am i i ) I F〇 1 27 8、 口 ドトノレーラ ■グラミニス (Rh o d o t o r u l a g r a m i n i s ) I F
0 0 1 90、 ロドトノレーラ · ミヌータ (Rh o d o t o r u l a m i n u t a I FO 0 3 8 7、 ロドトルーラ · ミヌータ (Rh o d o t o r u l a m i n u t a) I FO 07 1 5、 ロ ドスポリディウム■ディオボバタム (R h o d s p o r i d i urn d i o b o v a t um) I F O 068 8、 口ドスポリ ディゥム · トスレロイデス (Rh o d s p o r i d i um t o r u 1 o i d e s ) I FO 04 1 3、 サッカロマイセス ·バヤヌス （S a c c h a r omv c e _s_ b a v a n u s ) I FO 02 5 1、 サッカロマイセス 'ノヽ0ストリアヌス （ ^ a c c h a r omy c_e_s_ p a s t o r i a n u s) I F O 1 26 5、 サ ッカロマイセス .ノヽ0ス ト リアヌス (S a c c h a r o m v c e s p a s t o r
1 a n u s) ATCC 9080、 サッカロマイセス 'ロセィ (S a c c h a r omy c e s r o s e i ) I FO 0 2 5 2、 サッカロマイセス■サケ (S a c c h a r omv c e s s a k e) 、 サッカロマイセス ■ スティネリ (S a c c h a r omy c e s s t e i n e r i ) I AM 4608、 サッカロマイセ ス - ゥニスポラス (S a c c a r omy c e s u n i s p o r u s ) I F〇 0215、 サッカロマイコデス 'ノレドウイギー (S a c c h a r omy c o d e 1 u d w i g i i ) I FO 0339、 サッカロマイコプシス 'カプスラリ ス (S a c c h a r o nvy c o JJ s i s_ c a p s u 1 a r i s ) I F O 06 72、 サッカ口マイコプシス .マランガ (S a c c h a r omy c o p s i s m a 1 a n g a) I FO 1710、 サターノスポラ ·デイスボーラ (S a t u r n o s p o r a d i s p o r a ) I FO 0035、 シゾブラストスポリン • コノ ヤシ ( S c_ h i z_o b 1_ a s t o s p o r i o n k o b a y a s i i) I F O 1644、 シゾサッカロマイセス · ポンべ (S c h i z o s a c c h a r o m V c e s p omb e ) I F O 0347、 シゾサッカロマイセス -ポン ベ (S c h i z o s a c c h a r omY c e s jp omb e) I F O 0362、 シュヮニォマイセス ■オシデンタイス ■バー■オシデンタリス (S c hwa nn i o m v c e s o c c i d e n t a l i s v a r . o c _c ι d_e n t_a 1 i s ) I FO 1840、 スポリディオボラス ·ジョンソニー (S p o r i d i o b o 1 u s i o h n s o n i i ) I FO 6903、 スポロポロマイセス ' ノ ラロセウス (_Sr> o r o b o 1 omy c e s 卫 a r _a r o s e u s ) I F O 0471、 スポロポロマイセス ·サゾレモ-カラー (S p o r o b o l omy c e _s_ s a l mo n i c o l o r) I FO 1038、 トルラスポラ ·デルブルエ ッキー (T o r u l a s p o r a d e l b r u e c k i i ) I F O 0381、 トノレ口プシス ， メタノーレべッセンス (To r u l o u s i s me t h a n o 1 e v e s e e n s ) 、 トスレロプシス .才スベニス (To r u l o p s i s _o_ s b o e n i s) I FO 0646、 トルロプシス ·スピーシズ (T o r u 1 o Ό s i s s p. ) 、 トル口プンス ■ ゥへ, (To r u_l o p s i s u v a e ) I FO 0649、 トリコスポロン 'プノレランス (T r i c h o s t> o r o n P u 1 1 u 1 a n s) 、 トリコスポロン .スピーシズ (T r i c h o s p o r o n_ s p. ) トリゴノプシス 'バリアビリス (T r i g o n o p s i s v a r i a b i 1 i s) I FO 067 1、 ウイロプシス 'サターヌス 'バー 'マラ キ1 ~ (W i l l o_g s i s s a t u r nu s v a r . m r a k i i ) I F O 0895、 ウイロプシス ·サターヌス ■バー ·サターヌス (W i 1 1 o p s i s _s a t_u r_n u s_ _y a_r . s a t u r n u_s ) I F O 0992、 ャ マダジーマ ·ファリノーサ (Yama d a z yma f a r i n o s a ) I F〇 0459、 ヤマダジーマ 'ファリノーサ (Yama d a z yma f a r i n o s a) I FO 0602、 ヤマダジーマ 'ハプロフイラ (Yama d a z yma h a p 1 o p h i 1 a) I FO 0947、 チゴサッカロマイセス■ナ-ゥェン シス ( Z v_g o s a c c h a r omy c e s n a n i we n s i s) I O
0524、 チゴサッカロマイセス - スピーシズ (Zy g o s a c c h a r omy c e s s p. ) I FO 0522、 ァシディフィリウム .クリプタム (Ac i d i p h i 1 i um c r y p t um) I F O 14242、 ァェロノ クタ一. クラカェ (Ae r o b a c t e r c l o a c a e) I AM 1 221、 アル力 リゲネス .キシロソキシダンス (A l c a l i g e n e s x y 1 o s o x i d a n s) I FO 13495、 アル力リゲネス ·キシロソキシダンス■サブスピ ーシズ■ "二トリフイカンス [A 1 c a l i g e n e s x v 1 o s o x i d a n s s u b s p . d e_n i t r i f i c a n s) I F O 1 2669、 ァノレ 力リゲネス ·キシロソキシダンス ·サブスピーシス、■デニトリフイカンス (A 1 c a l l g e n e s xy l o s o x i d a n s s u b s υ . d e n i t r
1 f i c a n s ) ATCC 1 51 73、 アースロバクタ一 ·グロビフォーミス (Ar t h r o b a c t e r g l o b i f o rm i s) ATCC 8010、 アースロバクタ一 ·プロトフォーミエ (Ar t h r o b a c t e r p r o t o 3 h o r m i a e) I FO 121 28、 ァゥレオパクテリゥム ·エステラロマ ティカム (A u r e o b a c t e r i um e s t e r a r o m a t i c u m) I FO 3752、 バチラス ·バディウス (B a c i l l u s b a d i u s ) I AM 1 1059、 バチラス 'スファエリカス (B a c i 1 1 u s s ΐ> h a e r i c u s) I FO 3525、 プレビバクテリウム■ァニモニァゲネス （旦 r e v i b a c t e r i um a mm o m i a g e n e s ) I F O 12071、 ブッティォゥキシラ .ァグレスティス (Bu t t i a ux e l l a a g r e s t i s ) J CM 1090、 セデシァ ·ダビシェ (C e d e c e a d a v i s i a e) J CM 1685、 セノレロモナス -スピーシズ （C e 1 1 u l_omo n a s s p. ) J CM 2 4 7 1、 セルロモナス■ターパタ (C e 1 1 u 1 om o n a s t u r b a t a ) I F O 1 5 0 1 5、 シトロノ クタ一-フレゥンデ ィ (C i t r o b a c t e r f r e u n d i i ) I F〇 1 2 6 8 1、 クロス トリディウム .シリンドロスポラム (C 1 o s t r i d i um c y 1 i n d r o s τ> o r um) I FO 1 3 6 9 5、 コマモナス .テストステロニイ (C om a m o n a s t e s t o s t e r o n i ) I F O 1 2 04 7、 コリネノ クテ リウム■ トフンドフィリヮム (C o r y n e b a c t e j i um _a c e c t o a c i d o p h i l um) AT CC 2 1 4 7 6、 コリネバタテリゥム 'ァ ンモニァゲネス (C o r y n e b a c t e_r i um _a mm_o n i a g_e n e _s ) I FO 1 20 7 2、 コリネパクテリゥム .グルタミカム (C o r y n e b a c t e r i um g l u t a m i c um) ATCC 2 1 2 6 9、 コリネバクテ リウム ·グノレタミカス (C o r y n e b a c t e r i um g 1 u t a m i_c_u_ _s_) ATCC 1 3 2 8 7、 ェンテロパクター■エアロゲネス (E n t e r o b a c t e r a e r o g e n e s ) I FO 1 3 5 34、 ェンテロノ クタ一-ク ローカェ (E n t e r o b a c t e r c l o a c e) I F O 1 2 9 3 5、 エアウイユア ·カロトボーラ ·サブスピーシズ ·カロトボーラ (E r w i n i a c a r o t o v o r a u b s υ ._ c a r o t o v o r a I F O 3 8 3 0、 ェシェリチア · コリ (E s c h e r i c h i a c o 1 i ) I FO 1 2 7 3 4、 フラボバタテリゥム■ フラヴヱセウス (F l a v o b a c t e r i um f l a v e s c e u s ) 、 クレブシエラ ·プランティコーラ (K l e b s i e 1 1 a p 1 a n t i c o 1 a) I F O 3 3 1 7、 ノレテオコッカス 'ジャポユタ ス (L u t e o c o c c u s i a JD o n i c u s ) I F O 1 24 2 2、 ミク ロノくクテリゥム ·ァノレポレツセンス (M i c r o b a c t e r i um a r b o r e s c e n s ) I FO 3 7 5 0、 ミクロコッカス -フラブス (M i c r o c o c c u s f 1 a v u s ) 、 ミクロコッカス -スレテゥス (M i c r o c o c c u s 1 u t e u s) I FO 1 3 8 6 7、 オタロバク トラム .スピーシズ （ c h r o b a c t r um s p . ) I F O 1 2 9 5 0、 プロテウス 'インコン スタンス (P r o t e u s i n c o n s t a n s) I FO 1 2 9 3 1、 プロ テウス ' ミラビリス （P r o t e u s m i r a b i 1 i s ) I FO 3 84 9、 プロテウス■ レトゲリ (P r o t e u s r e t t g e r i ) I FO 1350 1、 プロテウス 'ブノレガリス (P r o t e u s v u l g a r i s) I FO 3 167s プロビデンシァ 'ストゥァリティ (P r o v i d e n c i a s t u a r t i i ) I FO 12930、 シユードモナス ·ァエルギノーサ (P s e u d o m o n a s a e r u g i n o s a I AM 1007、 シユードモナス■プ アイタ (P s e u d omo n s p u t i d a ) I F Ο 14164、 シュ一 ドモナス -ストウトゼリ (P s e d omo n a s s t u t z e r i ) I F O 13596、 ロドコッカス .ェクイ (Rh o d o c o c c u s e q u i ) J C M 1313、 サノレシナ■ルテア (S a r c i n a 1 u t e a) 、 セラチア · プリムティカム (S e r r a t i a p l ymu t h i c um) I FO 305 5、 セラチア■プロテアマクランス ·サブスピーシズ ·プロテアマクランス (S_ e r r a t i a p r o t e ama c u l a n s s ub s p. p r o t e a ma c u 1 a n s ) I FO 12979、 スフインゴバクテリウム■スピリティ ホフム p h i 11 g o b a c t e r i u m s p_i r i__t i v o r u m) J C M 1277、 ッカムレラ 'パゥロメタポラム (T s uk amu r e l l a a u r ome t a b o l um) I F O 12160、 アブシディァ ·オノレチディ ス (Ab s i d i a o r c h i d i s ) HUT 1036、 アクレモユウム - バシリス フム (A c r emo n i um b a c i 1 1 i s p o r um) I F O 9387、 ァエゲリータ ■キャンディダ （A e g e r i t a C a n d i d a) I FO 6988、 ァグロサイべ.シリンドラセァ (Ag r o c v b e c y 1 i n d r a c e a) I FO 30299、 アミロステレゥム 'ァレオラータム （ Amy 1 o s t e r e um a r e o l a t um) I FO 9221、 ァスペル ギゾレス .ノヽ。ラシティカス (As p e r g i 1 1 u s p a r a s i t i c_u s_) I FO 4403、 ァスペルギルス ，フォェ-シス (A s p e r g i 1 1 u s p h o e n i c i s ) I FO 6670、 プリッソシラミス ·フノレバ (B y s s o c h 1 amy s f u 1 v a) I FO 6307、 チヤエトミディゥム 'フィ メティ (C h_a e t om i d i um f i m e t i ) I FO 30419、 チヤ ェトサノレトーリャ · ス トロマトイデス (Ch a e t o s a r t o r v a s t r oma t o i d e s) I FO 9652、 クラドスポリゥム ' レシナェ -エフ · アベラネゥム (C I a d o s p o r i um r e s ί n a e F . a v e 1 1 a n e u m) I FO 6367、 コプリヌス -シネレウス (C o p r i n u s c i n e r e u s ) TD— 822、 コプリヌス 'ラゴプス (C o p r i n u s 1 a g o τ. u s ) I FO 9533、 コプリヌス 'スピーシズ （C o r i n u _s_ s p. ) 、 タリ-ペリス - スティピタリア (C r i n i p e 1 1 i s s t i p i t a r i a) I FO 30259、 エンドファラダミア ·アルタナータ （ En d o p h r a gm i a a l t e r n a t a) I FO 30204、 フラポ ラス■ァノレキユラリス (F 1 a V o 1 u s a r c u l a r i u s) 、 フォミ ト プシス ■ プノ一タティス (F om i t o p s i s p ub e r t a t i s) 、 フ サリウム .メリスモイデス (F u s a r i um me r i s m o i d e s) I F O 30040、 ガノダーマ■ノレシダム (Ga n o d e rma l u c i d um ) I FO 3 1 863、 グロメレーラ ■シンダラータ (G l ome r e 1 1 a c i n g u 1 a t a ) I FO 5257、 ラエティポラス ·スノレフレウス (L a e t i p o r u s s u l p hu r e u s) 、 レンティヌス · レヒアウス (L e n t i n u s 1 e ΐ> i d e u s ) 、 レンジテイス .ベツリーナ (L e n z i t e s b e t u 1 i n a) I FO 8715、 マクロフォーマ · コメイナェ a c_r o O_h o m a c o mm e l_i n a e_) I O 9569、 モナス力ス · パープレウス (Mo n a s c u s p u r p u r e u s) I FO 5965、 モ ノレティェレーラ ■ィサべリーナ (Mo r t i e r e l l a i s a b e l l i n _a_) I FO 7829、 パェシロマイセス ' ヴァリオティ (P a e c i 1 omy c e s v a r i o t i ) HUT 4028、 ぺニシリゥム ·チェルメシナム ( P e n i c i 1 1 i um c h e rme s i num) I F O 5800、 へニシ リウム，クリソゲナム (P e n i c i 1 1 i um c h r y s o g e num) I FO 4640、 ぺニシリゥム ·ェクシパンサム (P e n i c i 1 1 i um _e_ x p a n s um) I FO 5854、 ぺ-シリゥム · リラシ-ゥム （P e n i c i 1 1 i um 1 i 1 a c i n i um) I FO 31914、 フィァロフオーラ 'フアスティギアタ (Ph i a l o p o r a f a s t i g i a t a) I F O 6850、 フオリオタ .ァゥリヴエラ (P h o 1 i o t a a u r i v e 1 l a ) I FO 30265、 フオリオタ ' リモネーラ （Ph o l i o t a 1 i m o n e 1 1 a) I FO 31868、 プレゥ口トス · ドライヌス (P 1 e u r o t u s d r v i n u s ) 、 プレゥ口 トス .ォストレアトス (P l e u r o t u s o s t r e a t u s ) 、 プレゥ口 トス -ポリゲンス (P I e u r o t u s p o r r i g e n s ) 、 スコブラリオプシス 'ブレビカウリス (S c o p u 1 a r i o p s i s b r e v i c a u 1 i s ) I F O 4843、 セフィゾフィラム - コミユーネ (S e h i_z o phy l l um c o mm u n e ) I F O 6503、 セフィゾフィフム · コミュ一ネ (S e h i z o p h y 1 1 u m c o mm u n e ) I FO 6504、 スポロ トリカム .ァウランティアカム （S p o r o t r i c hum a u r a n t i a c um) I F O 9381、 ジゴリユンタス -モェ レーリ ( Z y g o r hy n c hu s mo e l l e r i) HU T 1305、 ミ クロテトラスポラ .ロセォビオラセァ (Mi c r o t e t r a s p o r a r o s e o v i o l a c e a) I FO 14098、 ストレプトマイセス ' クロモゲ ネス ·サブスピーンズ■ノレボラディリス (S t r e p t omv c e s a c h r o m o g e n e s s u b s p . 丄 u b r a d i r i s ) I F O 14000、 ストレプトマイセス ·スピーシズ (S t r e p t omv c e s s p. ) 、 及ぴ ストレプトマイセス -ァウレウス (S t r e ΐ> t omv c e s a u r e u s) N I HJ 122などを用いることができる。
これら微生物は一般に、 入手または購入が容易な保存株から得ることができる。 また、 自然界から分離することもできる。 なお、 これらの微生物に変異を生じさ せてより本反応に有利な性質を有する菌株を得ることもできる。 また、 これら微 生物から組換え DNA、 細胞融合等の遺伝子工学、 生物工学的手法により誘導さ れるものであってもよい。 このような微生物としては、 キャンデイダ-マグノリ ェ I FO 0705由来の還元酵素遺伝子を導入されたェシエリチア 'コリ H B 101 (pNTCRG) FERM BP— 6898 (国際出願番号 PCT/J P 00Ζ08321参照） 等を挙げることができる。
これらの微生物の培養には、 通常これらの微生物が資化しうる栄養源であれば 何でも使用しうる。 たとえば、 グルコース、 シユークロース、 マルトース等の糖 類、 乳酸、 酢酸、 クェン酸、 プロピオン酸等の有機酸類、 エタノール、 グリセリ ン等のアルコール類、 パラフィン等の炭化水素類、 大豆油、 菜種油等の油脂類、 またはこれらの混合物等の炭素源や、 硫酸アンモニゥム、 リン酸アンモニゥム、 尿素、 酵母エキス、 肉エキス、 ペプトン、 コーンスチープリカー等の窒素源を混 合することもできる。 更に、 その他の無機塩、 ビタミン類等の栄養源を適宜混合 することもできる。
微生物の培養は通常一般の条件により行なうことができ、 例えば、 ί> Η 4 . 0 〜 9 . 5、 温度範囲 2 0 °C~ 4 5 °Cの範囲で、 好気的に 1 0〜 9 6時間培養する。 ジヒドロキシォキソへキサン酸モノァシル誘導体に微生物を反応させる場合にお いては、 通常、 上記微生物の培養液をそのまま反応に使用することもできるが、 培養液の濃縮物も用いることができる。 また、 培養液中の成分が反応に悪影響を 与える場合には、 培養液を遠心分離等により処理して得られる菌体または菌体処 理物を使用することが好ましい。
上記微生物の菌体処理物としては特に限定されず、 例えば、 アセトンや五酸化 二リンによる脱水処理またはデシケータ一や扇風機を利用した乾燥によって得ら れる乾燥菌体、 界面活性剤処理物、 溶菌酵素処理物、 固定化菌体または菌体を破 砕した無細胞抽出標品などをあげることができる。 更に、 培養物より不斉還元反 応を触媒する酵素を精製し、 これを使用してもよい。
還元反応の際には、 基質であるジヒドロキシォキソへキサン酸モノァシル誘導 体を反応の初期に一括して添加してもよく、 反応の進行にあわせて分割して添加 してもよい。
また、 反応時の温度は通常 1 0〜6 0 °C、 好ましくは、 2 0 ~ 4 0 °Cであり、 反応時の: p Hは 2 . 5〜9、 好ましくは、 5〜9である。
反応液中の微生物の濃度はこれらの基質を還元する能力に応じ適宜決定すれば よい。 また、 反応液中の基質濃度は 0 . 0 1〜5 0 % (W/V) が好ましく、 よ り好ましくは、 0 . 1 ~ 3 0 %である。
反応は通常、 振とうまたは通気攪拌しながら行なう。 反応時間は基質濃度、 微 生物の濃度およびその他の反応条件により適宜決定される。 通常、 2 ~ 1 6 8時 間で反応が終了するように各条件を設定することが好ましい。
還元反応を促進させるために、 反応液にグルコース、 エタノールなどのエネル ギ一源を 1〜 3 0 %の割合で加えると優れた結果が得られるので好ましい。 また、 一般に生物学的方法による還元反応に必要とされている還元型ニコチンアミド · アデニンジヌクレオチド （NADH) 、 還元型ニコチンアミド 'アデニンジヌク レオチドりん酸 （NADPH) 等の補酵素を添加することにより、 反応を促進さ せることもできる。 具体的には、 反応液に直接これらを添加してもよく、 NAD H、 NADPHを生成する反応系を酸化型の補酵素とともに反応液に添加しても よい。 例えば、 ギ酸脱水素酵素がギ酸から二酸化炭素と水とを生成する際に NA Dを N A D Hに還元する反応系や、 ダルコース脱水素酵素がグルコースからダル コノラクトンを生成する際に NADまたは NAD Pを NADHまたは NADPH にそれぞれ還元する反応系を利用することができる。 また、 トリ トン （ナカライ テスタ社製） 、 スパン （関東化学社製） 、 ツイーン （ナカライテスタ社製） など の界面活性剤を反応液に添加することも効果的である。 さらに、 基質および/ま たは還元反応の生成物であるアルコール体による反応の阻害を回避する目的で、 醉酸ェチル、 酢酸プチル、 イソプロピルエーテル、 トルエンなどの水に不溶な有 機溶媒を反応液に添加してもよい。 さらに、 基質の溶解度を高める目的で、 メタ ノーノレ、 エタノール、 ァセトン、 テトラヒ ドロフラン、 ジメチノレスノレホキシドな どの水に可溶な有機溶媒を添加することもできる。
還元反応により生成したトリヒドロキシへキサン酸モノアシノレ誘導体の採取は、 反応液から直接、 あるいは菌体等を分離後、 酢酸ェチル、 トルエン等の溶剤で抽 出し、 脱溶剤することにより行なう。 さらに、 再結晶操作、 シリカゲルカラムク 口マトグラフィ一等により精製すれば高純度のトリヒドロキシへキサン酸モノア シル誘導体を得ることができる。 工程 （4)
本工程において、 工程 (3) で得られた下記式 (V I) ；
Figure imgf000036_0001
に示される （3 R, 5 S ) 体の立体配置を有するトリヒドロキシへキサン酸モノ ァシル誘導体を酸触媒存在下、 ァセタール形成反応剤で処理することにより下記 式 （V I I ) ；
Figure imgf000037_0001
に示される （4 R , 6 S ) 体の立体配置を有するァシルォキシメチルジォキサニ ル酢酸誘導体を製造する。
工程 ( 4 ) において、 使用できるァセタール形成反応剤としては、 例えば、 ケ トン、 アルデヒ ド、 アルコキシアルカン、 アルコキシアルケン等が挙げられる。 上記ケトン、 アルデヒ ド、 アルコキシアルカン、 アルコキシアルケンの具体例と しては、 例えば、 アセトン、 シク口へキサノン、 ホルムアルデヒド、 ベンズアル デヒド、 ジメ トキシメタン、 2 , 2—ジメ トキシプロパン、 2—メ トキシプロべ ン、 1 , 1—ジメ トキシシクロへキサン等が挙げられる。 好ましくは、 アセトン、 2—メ トキシプロペン、 2， 2—ジメ トキシプロパン等であり、 さらに好ましく は、 2， 2—ジメ トキシプロパンである。 ここで、 ァセタール形成反応剤の使用 量は、 トリヒドロキシへキサン酸モノアシル誘導体に対し、 好ましくは 1 ~ 1 0 モル当量であり、 より好ましくは 1〜5モル当量である。 また、 反応を速やかに 促進させる目的で、 ァセタール形成反応剤を反応溶媒として使用することもでき る。
工程 （4 ) において、 使用できる酸触媒は、 ルイス酸又はブロンシュテッド酸 である。 上記ルイス酸、 ブロンシュテッド酸としては、 例えば、 三塩化アルミエ ゥム、 三フッ化ホウ素、 二塩化亜 四塩化スズ等のルイス酸；シユウ酸、 ギ酸、 酢酸、 安息香酸、 トリフルォロ酢酸等のカルボン酸；メタンスルホン酸、 ベンゼ ンスルホン酸、 ！）一トルエンスルホン酸、 カンファースルホン酸等のスルホン酸 ；塩化水素、 臭化水素、 硫酸、 硝酸、 ホウ酸等の無機酸等が挙げられる。 工程 （4) において、 酸触媒の使用量は、 トリヒドロキシへキサン酸モノァシ ル誘導体に対し、 好ましくは 0. 00 1〜0. 5モル当量であり、 より好ましく は 0. 005〜0. 1モル当量である。
なお、 上記酸触媒を用いるァセタール形成反応は、 分子内の水酸基が関与する 副反応のため、 効率よく目的反応を進行させることが困難であった。 副反応とし て、 例えば分子内の水酸基とエステル基が環化することにより、 下記式 （XV)
Figure imgf000038_0001
(R 4は上記に同じ。 ) で表されるァシルォキシメチルヒドロキシラタ トンが副 生する。 また、 ァセタール形成反応剤として、 アルコキシアル力ン又はアルコキ シァルケンを用いる場合には、 副生するアルコールが上記化合物 （XV) と反応 して、 下記式 （X I I I) ；
Figure imgf000038_0002
(R R3、 R4は上記に同じ。 R10は低級アルキル基 （好ましくは炭素数 1〜 4) を表し、 R1とは異なる。 ） で表されるァシルォキシメチルジォキサリル酢 酸誘導体の類縁化合物 （エステル基が異なる） が副生する。 例えば、 ァセタール 形成反応剤として、 2， 2—ジメトキシプロパンを用いる場合、 副生するメタノ ールが反応に関与して、 上記式 （X I I I ) において、 R1 Dがメチル基である ォキサリル酢酸メチルが副生する。 これら不純物の副生は、 目的物の収量及び品質を低下させるため、 上記酸触媒 でァセタール形成反応を行う場合には、 反応温度、 反応時間、 試剤量等の反応条 件を的確に設定、 制御する必要があった。
本発明者らは、 酸とァミンからなるアミン塩を触媒に用いて、 ァセタール形成 反応を行うことにより、 収量を低下させることなく、 上記不純物 （X I I I ) 、 (X V) 、 及び構造を特定できない微量不純物の副生を最小限に抑制して行うこ とができる方法を開発するに至った。 ここで、 酸としては、 上記酸のいずれも使 用することができ、 好ましくは塩化水素、 臭化水素、 硫酸、 トリフルォロ酢酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼンスルホン酸、 p—トノレエンスルホン酸等が挙げられ る。 ここで、 酸の使用量は、 トリヒ ドロキシへキサン酸モノァシル誘導体に対し、 好ましくは 0 . 0 0 1〜0 . 5モル当量であり、 より好ましくは 0 . 0 0 5〜0 . 1モル当量である。
またァミンとしては、 アンモニア ； メチルァミン、 ェチルァミン、 プチルアミ ン、 ァニリン等の第 1級ァミン； ジェチルァミン、 ジイソプロピルァミン、 ジフ ェ二/レアミン、 ピぺリジン、 モルホリン等の第 2級ァミン； トリェチルァミン、 トリプチノレアミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 N—メチルモルホリン、 N— メチルビペリジン、 ピリジン、 2—メチルピリジン、 3一メチルピリジン、 イミ ダゾール、 N , N—ジメチ _/レアミノピリジン、 1， 7ージァザビシクロー [ 5， 4 , 0 ] ーゥンデク一 7—ェン等の弟 3級ァミンが挙げられる。 好ましくは第 3 級ァミンであり、 更に好ましくはトリェチルァミン、 N—メチルモルホリン、 ジ イソプロピルェチルァミン、 ピリジン、 2—メチルピリジン、 3 _メチルピリジ ン、 又はイミダゾールである。 ここで、 ァミンの使用量は、 酸に対して好ましく は 1〜1 0モル当量であり、 より好ましくは 1 ~ 3モル当量である。
また本反応では、 酸とアミンから別途調製して単離したァミン塩を触媒に用い て行うこともできる。 ここで、 アミン塩として、 例えば、 塩酸ピリジニゥム、 臭 化水素酸ピリジニゥム、 硫酸ピリジニゥム、 トリフルォロ酢酸ピリジ-ゥム、 メ タンスルホン酸ピリジニゥム、 p—トルエンスルホン酸ピリジニゥム、 塩酸トリ ェチルアンモニゥム、 硫酸トリェチルアンモニゥム、 P—トルエンスルホン酸 3 —メチルピリジニゥム、 一トルエンスルホン酸 N—メチルモルホリン塩、 ベン ゼンスルホン酸 N, N—ジメチルァミノピリジ-ゥム、 塩酸ジイソプロピルアン モニゥム、 塩酸アンモニゥム、 硫酸アンモニゥム、 硝酸アンモニゥム、 p—トル エンスルホン酸メチルアンモユウム等が挙げられる。 好ましくは、 p—トルエン スルホン酸ピリジニゥム又は p—トルエンスルホン酸トリェチルアンモユウム等 である。 ここで、 ァミン塩の使用量は、 トリヒドロキシへキサン酸モノァシル誘 導体に対し、 好ましくは 0. 0 0 1〜0. 5モル当量であり、 より好ましくは 0 . 0 0 5〜0 . 1モル当量である。
工程 （4 ) の反応は、 各種有機溶媒を反応溶媒に使用できる。 上記有機溶媒と しては、 例えば、 ベンゼン、 トルエン、 シク口へキサン等の炭化水素系溶媒；ジ ェチノレエーテ /レ、 テトラヒ ドロフラン、 1， 4一ジォキサン、 メチル t—ブチノレ エーテル、 ジメ トキシェタン等のエーテル系溶媒；酢酸ェチル、 酢酸プチル等の エステル系溶媒；アセトン、 メチルェチルケトン等のケトン系溶媒；塩化メチレ ン、 クロ口ホスレム、 1， 1， 1一トリクロロェタン等のハロゲン系溶媒；ジメチ ルホルムアミ ド、 ァセトアミド、 ホルムアミ ド、 ァセトニトリル等の含窒素系溶 媒；ジメチルスルホキシド、 N—メチルピロリ ドン、 へキサメチルリン酸トリア ミ ド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。 上記有機溶媒は、 単独で用いて もよく、 2種以上を併用してもよい。 好ましくは、 トルエン、 アセトン、 酢酸ェ チル、 塩化メチレン、 テトラヒドロフラン、 メチル t e r t—プチルエーテル、 ジメチルホルムアミ ド、 ァセトニトリル等であり、 更に好ましくはァセトンであ る。
工程 （4 ) の反応温度は、 一 2 0 °Cから 1 0 0 °C、 好ましくは 0 °Cから 5 0 °C である。
工程 （4 ) の後処理は、 反応液から生成物を取得するための一般的な後処理を 行えばよい。 例えば、 反応終了後の反応液に水を加え、 一般的な抽出溶媒、 例え ば酢酸ェチル、 ジェチルエーテル、 塩化メチレン、 トルエン、 へキサン等を用い て抽出操作を行う。 得られた抽出液から、 減圧加熱等の操作により反応溶媒及び 抽出溶媒を留去すると、 目的物が得られる。
このようにして得られる目的物は、 製造過程における各種分解や副反応のため に、 各種不純物を含有しやすい。 とりわけ、 下記一般式 （XV) ；
Figure imgf000041_0001
(R4は上記に同じ。 ） で表されるァシルォキシヒドロキシラタトン、 下記一般 式 （X I I I ) ；
Figure imgf000041_0002
(R2、 R3、 R4は上記に同じ。 R1 Qは低級アルキル基を表し、 R1とは異なる c ) で表されるァシルォキシメチノレジオキサリル酢酸誘導体の類縁化合物 （エステ ル基が異なる） 、 下記式 （X I V) ；
Figure imgf000041_0003
(R\ R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表されるジァステレオマー、 及び上 記式 (V I) で表される反応基質からなる群のうち少なくとも 1つを不純物とし て含有する傾向があり、 高品質の目的物を得るためには、 これらの不純物を除去 する必要がある。 一般に、 構造の類似した不純物 （類縁物質） の除去は難しく、 これらの不純物を除去して高品質の目的物を得るためには、 優れた精製、 単離方 法が必要である。 本発明者らは、 以下に示すような条件で晶析を行うことにより、 上記不純物を効率よく除去できることを見いだした。
本工程において使用される晶析溶媒としては、 脂肪族炭化水素系溶剤が好まし く、 具体的には、 例えばペンタン、 石油エーテル、 ネオペンタン、 へキサン、 シ ク口へキサン、 メチルシク口へキサン、 ヘプタン、 シク口へプタン、 オクタン、 ィソオクタン、 ノナン、 デカン、 ゥンデカン、 ドデカン等の炭素数 5〜 2 0の脂 肪族炭化水素が挙げられる。 このうち、 ペンタン、 へキサン、 メチルシクロへキ サン、 ヘプタン、 オクタン又はイソオクタンが好ましい。 これらは単独で用いて もよく、 2種以上併用してもよい。
なかでも、 湿結晶からの溶剤の乾燥や溶剤の回収再利用 （蒸留回収） 等の点を 考慮すると、 比較的沸点の低い溶剤が好ましく、 このような溶剤としては、 一般 には、 1気圧以下で沸点が約 1 0 o °c以下のものが挙げられる。 具体的には、 例 えばペンタン、 へキサン、 メチノレシクロへキサン、 ヘプタン、 オクタン、 イソォ クタン等の炭素数 5 ~ 8の脂肪族炭化水素系溶剤が挙げられ、 溶剤コストゃ取り 扱い性の総合的観点からへキサン、 メチルシク口へキサン等がより好ましい。 上記脂肪族炭化水素系溶剤を使用すると、 上記化合物の安定化、 高い収量の確 保、 高い精製効果、 即ち、 各種不純物、 とりわけ上記化合物 （X I I I ) 、 （X I V) 、 (X V) 、 及び （V I ) の効果的な除去が達成される。 上記脂肪族炭化 水素系溶剤の使用量は、 上記化合物 (V I I ) の結晶化のための操作終了時にお いて、 取得物の流動性が維持できる量であるのが好ましく、 例えば、 上記化合物 (V I I ) に対し、 約 5〜2 0倍重量、 場合によってはそれ以上である。
本発明において、 上記化合物 （V I I ) の結晶化の際には、 冷却晶析、 濃縮晶 析等の晶析方法、 又は、 これらの晶析方法を組み合わせて用いることが出来る。 なお、 上記濃縮晶析は、 脂肪族炭化水素系溶剤以外の他の溶剤からなる溶液を上 記の脂肪族炭化水素系溶剤からなる溶液に置換していく晶析法であってもよい。 また、 結晶化に際しては、 種晶を添カ卩してもよい。
本発明において、 結晶化に際しては上記脂肪族炭化水素系溶剤の他に、 上記ィ匕 合物 （V I I ) の溶解度、 収量、 処理濃度、 精製効果 （不純物除去効果） 、 及び、 得られる結晶の物性のうち、 少なくとも 1つを改善するための補助的な溶剤を更 に用いることができる。 上記補助的な溶剤は、 必要に応じて、 上記脂肪族炭化水 素系溶剤に添加してもよく、 予め補助的溶剤に上記化合物 （V I I ) を溶解させ、 上記脂肪族炭化水素系溶剤を添加することで行うこともできる。
上記補助的な溶剤としては、 特に限定されず、 例えばアセトン、 メチルェチル ケトン、 テトラヒドロフラン、 メチル t e r t—プチルエーテル、 酢酸ェチル、 酢酸イソプロピル、 酢酸 t e r tーブチル、 エタノール、 イソプロパノール、 ト ノレェン、 ベンゼン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 塩ィ匕メチレン、 クロロホ/レム、 1， 2—ジクロロェタン等が挙げられる。 これらは単独で用いてもよく、 2種以 上併用してもよい。 なかでも、 酢酸ェチル、 トルエン、 メチノレ t e r t—プチル エーテル、 塩化メチレン等は、 溶解度を高め、 処理濃度や精製効果等の処理効果 を改善することが出来る。
上記補助的な溶剤は、 目的とする効果等をもとに、 補助的な溶剤の特性に従つ て設定した好ましい量を上記脂肪族炭化水素系溶剤と併用するとより効果的であ る。 上記補助的な溶剤の適切な使用量は、 簡単な実験により設定できる。 上記補 助的な溶剤の使用量は、 収量や精製効果の観点から、 上記化合物 （V I I ) の結 晶化のための操作が終了した時点において、 上記補助的な溶剤と上記脂肪族炭化 水素系溶剤の重量比 （補助的な溶剤ノ脂肪族炭化水素系溶剤） 1 1以下となる 量が好ましい。 より好ましくは、 0 . 5以下となる量が用いられる。
本発明の精製、 単離方法は、 室温付近で実施することができる。 必要に応じて、 加温又は冷却をすることができ、 例えば、 約 6 0 °C以下、 通常は 5 0 °C〜一 3 0 °Cで行う。
このようにして得られた上記化合物 （V I I ) は、 固液分離を行い、 必要に応 じて、 更にケーキ洗浄し、 乾燥することもできる。 上記固液分離の方法としては 特に限定されず、 例えば、 加圧濾過、 減圧濾過、 遠心分離等の方法が挙げられる。 上記乾燥の方法としては、 例えば、 熱分解や溶融を避けて約 6 0 °C以下で、 減圧 乾燥 （真空乾燥） するのが好ましい。
工程 （4 ) によって得られる、 下記式 （V I I ) ；
Figure imgf000044_0001
に示されるァシルォキシメチルジォキサニル酢酸誘導体において、 R2、 R3は、 それぞれ独立して、 水素、 炭素数 1 ~ 12のアルキル基、 炭素数 6〜 12のァリ ール基又は炭素数 7〜12のァラルキル基等であり、 具体的には、 メチル基、 ェ チノレ基、 t e r t_ブチル基、 へキシノレ基、 フエ-ル基、 ベンジノレ基、 p—メ ト キシベンジル基等が挙げられる。 好ましくは、 メチル基である。
また、 R2、 R3は、 互いに結合して環を形成していてもよく、 例えば、 R2、 R3が環を形成してシクロペンタン環、 シクロへキサン環、 シクロヘプタン環、 ベンゾシクロペンタン環等となって、 1， 3—ジォキサン環とスピロ構造を形成 している場合が挙げられる。 工程 (5)
本工程において、 工程 （4) で得られた、 下記式 （V I I) ；
3
ゝノ R
0入 0
0 (νπ) で表される （4R， 6 S) 体の立体配置を有するァシルォキシメチルジォキサ- ル酢酸誘導体を、 公知の方法等により、 塩基存在下に加溶媒分解して一般式 （I ) ；
Figure imgf000045_0001
( I)
で表される （4 R , 6 S ) 体の立体配置を有するヒドロキシメチルジォキサニル 酢酸誘導体化合物を製造する。
工程 （5 ) の加溶媒分解において使用できる塩基は、 無機または有機塩基、 例 えば、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム、 炭酸水素ナトリウム、 炭酸水素カリウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム、 水酸化カルシウム、 水酸化リチウム、 水酸 化バリウム、 水酸化マグネシウム、 酢酸ナトリウム、 酢酸カリウム、 アンモニア、 トリェチルァミン、 ピリジン、 ピぺリジン、 N , N -ジメチルァミノピリジン等 であり、 好ましくは炭酸カリウムである。
この場合の塩基の使用量はァシルォキシメチルジォキサニル酢酸誘導体に対し、 0 . 0 0 1当量から 5当量、 好ましくは、 0 . 0 1当量から 1 . 0当量である。 工程 （5 ) では、 加溶媒分解を行うために、 水またはプロトン性の有機溶媒、 あるいは、 水またはプロトン性有機溶媒と非プロトン性有機溶媒の混合溶媒中で 反応を行う。 上記プロ トン性有機溶媒として、 例えば、 メタノール、 エタノール、 ブタノール、 イソプロピノレアルコール、 エチレングリコール、 メ トキシエタノー ル等のアルコール系溶媒；ジェチルァミン、 ピロリジン、 ピぺリジン等のァミン 系溶媒；等が挙げられる。 上記非プロ トン性有機溶媒として、 例えば、 ベンゼン、 トルエン、 シクロへキサン等の炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 テトラヒド 口フラン、 1 , 4一ジォキサン、 メチノレ t一ブチルェ一テノレ、 ジメ トキシェタン 等のエーテル系溶媒；酢酸ェチル、 酢酸プチル等のエステル系溶媒；アセトン、 メチルェチルケトン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、 クロ口ホルム、 1， 1 , 1 -トリクロロェタン等のハロゲン系溶媒；ジメチルホルムアミド、 ァセトニト リル等の含窒素系溶媒；ジメチルスルホキシド、 N—メチノレピロリ ドン、 へキサ メチルリン酸トリアミ ド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。 好ましくは 水、 メタノ一ノレ、 エタノール等が挙げられる。 工程 （ 5 ) の反応温度は、 _ 20 °Cから 100 °C、 好ましくは一 10 °Cから 5 0°Cである。
反応終了後の後処理は、 反応液から生成物を取得するための一般的な後処理を 行えばよい。 例えば、 反応終了後の反応液に水を加え、 一般的な抽出溶媒、 例え ば酢酸ェチル、 ジェチルエ^"テル、 塩化メチレン、 トルエン、 へキサン等を用い て抽出操作を行う。 得られた抽出液から、 減圧加熱等の操作により反応溶媒及び 抽出溶媒を留去すると、 目的物が得られる。 また、 反応終了後、 直ちに減圧加熱 等の操作により反応溶媒を留去してから同様の操作を行ってもよい。 このように して得られる目的物は、 晶析精製、 分別蒸留、 カラムクロマトグラフィー等の一 般的な手法により精製を加え、 さらに純度を高めてもよい。 発明を実施するための最良の形態
以下、 実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、 本発明はこれらの実施 例により何ら限定されるものではない。 実施例 1 (5 S) —5， 6—ジヒドロキシ _ 3—ォキソへキサン酸 t e r t— ブチル
アルゴン雰囲気下、 η—プチルリチウムのへキサン溶液 （1. 5mo 1 /L) 21. 3mL (35 mm o 1 ) に、 撹拌下 5でで、 ジィソプロピルァミン 3. 5 4 g (35mmo 1 ) とテトラヒドロフラン 10 m Lからなる溶液を滴下し、 1 時間攪拌、 リチウムジイソプロピルアミド液を調製した。 この溶液を一 70°Cに 冷却した後、 ここに酢酸 t e r t _ブチル 4. 06 g (35mmo 1 ) を滴下、 同温度で 1時間攪拌した。 次に、 （ S) — 一ヒドロキシー Ί一プチ口ラタトン 1. 02 g (1 Ommo 1 ) の THF溶液 1 mL溶液を滴下し、 一 70°Cで 2時 間攪拌後、 一 10°Cまで昇温した。 別の容器で、 lN ¾60mL、 ジェチルェ 一テル 60mlを撹拌混合し、 上記の反応液をここに注いだ。 1 N塩酸で水層 p Hを 6. 5に調整し、 静置の後、 有機層を分離した。 水層をさらに酢酸ェチル 5 OmLで 3回抽出し、 有機層を合わせて、 無水硫酸マグネシウムで乾燥、 減圧下 に溶媒を留去した。 残渣をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィー （Me r c k社 製 K i e s e l g e l 6 0、 へキサン：酢酸ェチル = 2 ： 1) にて精製し、 （5 S) - 5, 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t—ブチル 1. 5 6 g (黄色油状物） を収率 7 1 ° /。で得た。
— NMR (CD C 1 3, 4 0 OMH z/p p m) ； 1. 4 8 (9 H, s ) , 2. 6 8 - 2. 8 3 (2H, m) ， 3. 0 5 - 3. 8 0 (2H， b s) ， 3. 4 2 (2H， s) ， 4. 0 2 -4. 1 7 (2H, m) 、 4. 40 (1 H, m) 13C-NMR (CDC 1 3, 4 0 OMH z/p p m) ; 2 7. 8、 4 5. 7、 5 1. 0、 6 5. 6、 6 8. 0、 8 2. 3、 1 6 6. 4、 20 3. 4
I R (n e a t) : 34 2 5、 3 000、 1 7 1 0、 8 5 0 cm— 1
[a] D 20 = - 1 7. 2 5 {c = 2. 1 4, Me OH) 。 実施例 2 ( 5 S) — 5, 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t - ブチル
アルゴン雰囲気下、 n _プチルリチウムのへキサン溶液 （1. 5mo 1 /L) 3 OmL (4 5 mm o 1 ) に、 撹拌下 5 °Cで、 ジイソプロピルアミン 5. 0 1 g (4 9. 5mmo 1 ) とテトラヒドロフラン 5 m Lからなる溶液を滴下し、 1時 間攪拌、 リチウムジイソプロピルアミド液を調製した。 別の容器に （S) — β— ヒ ドロキシ一 y—プチ口ラタトン 1. 0 2 g (1 Ommo 1 ) と酢酸 t e r t— プチル 2. 3 2 g (2 Ommo 1 ) を 8. 0 m 1のテトラヒ ドロフランに溶解し、 アルゴン雰囲気下、 0〜5°Cで撹抨した。 この溶液に、 先に調製したリチウムジ イソプロピルァミ ド液を 3 0分かけて滴下し、 さらに 5〜 20 °Cで 1 6時間撹拌 した。 別の容器で、 3：^塩酸3 5111し、 酢酸ェチル 3 Om 1を撹拌混合し、 上記 の反応液をここに注いだ。 静置の後、 有機層を分離し、 飽和食塩水で洗浄後、 無 水硫酸マグネシウムで乾燥して、 減圧下に溶媒を留去した。 残渣をシリカゲル力 ラムクロマトグラフィー (Me r c k社製 K i e s e 1 g e 1 6 0、 へキサン： 酢酸ェチル = 2 ： 1) にて精製し、 （5 S) _ 5， 6—ジヒドロキシー 3—ォキ ソへキサン酸 t e r t—プチル 1 24mg (黄色油状物） を収率 6%で得た。 実施例 3 (5 S) — 5,— 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t— ブチル
アルゴン雰囲気下、 n—プチルリチウムのへキサン溶液 （1. 5mo lZL) 22. 9mL (35 mm o 1 ) に、 撹拌下 5°Cで、 ジイソプロピルアミン 3. 9 0 g (38. 5mmo 1 ) とテトラヒドロフラン 3 m Lからなる溶液を滴下し、 1時間攪拌、 リチウムジイソプロピルアミド液を調製した。 別の容器に （S) ― i3—ヒドロキシー γ—プチ口ラタ トン 1. 02 g (1 Ommo 1 ) と酢酸 t e r t—プチノレ 2. 32 g (2 Ommo 1) を 3. 0 m 1のテトラヒドロフランに溶 解し、 アルゴン雰囲気下、 0〜5°Cで撹拌した。 この溶液に、 t e r t一ブチル マグネシウムクロライドのトルエン テトラヒドロフラン （重量比 1 : 2. 5) 混合溶液 （1. 75mo 1 /k g) 5. 7 g ( 10 mm o 1 ) を 10分かけて滴 下し、 さらに 5°Cで 50分攪拌した。 ここに、 先に調製したリチウムジイソプロ ピルァミ ド液を 30分かけて滴下し、 さらに 5〜 20 °Cで 16時間撹拌した。 別の容器で、 3 N塩酸 30 m L、 酢酸ェチル 30mlを撹拌混合し、 上記の反 応液をここに注いだ。 静置の後、 有機層を分離し、 飽和食塩水で洗浄後、 無水硫 酸マグネシウムで乾燥して、 減圧下に溶媒を留去した。 残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィー （Me r c k社製 K i e s e 1 g e 1 60、 へキサン：酢酸 ェチル =2 ： 1) にて精製し、 （5 S) —5， 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへ キサン酸 t e r t—プチル 980 m g (赤色油状物） を収率 48 ° /。で得た。 実施例 4 (5 S) — 5, 6—ジヒ ドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t— プチル
亜鉛末 9. 82 g (15 Ommo 1 ) をテトラヒドロフラン 4 OmLに懸濁し た溶液に、 室温でトリメチルシリルクロライ ド 1. 9 m L (15mmo 1 ) を加 え、 30分攪拌した。 ここに、 a—プロモ酢酸 t e r t—プチル 2. 4mL (1 0. 5mmo l) 、 （ S ) — —ヒドロキシー γ—プチ口ラタトン 4. 27 g ( 42mmo 1 ) を加え、 65 °Cに昇温した。 さらに同温度で、 α—プロモ酢酸 t e r t—ブチノレ 15. 3mL (94. 5mm o 1 ) を 30分かけてゆっくり添カロ した。 添加終了後、 さらに 65°Cで 30分攪拌し、 反応液を室温まで冷却して、 水 50mLを加えた。 20%Na OH水溶液で反応液の pHを 6. 8に調整し、 析出した固体を濾別、 濾液を酢酸ェチル 10 OmLで 3回抽出した。 有機層を合 わせて、 無水硫酸ナトリウムで乾燥後、 減圧下に溶媒を留去することにより、 黄 色油状物を得た。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー （Me r c k社製 K i e s e 1 g e 1 60、 へキサン：ァセトン = 5 ： 1) にて精製し、 （5 S) 一 5， 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t—ブチル 2. 66 g ( 黄色油状物） を収率 29 %で得た。 実施例 5 (5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシー 3—ォキソへキ サン酸 t e r t—プチノレ
実施例 1にて製造した （5 S) — 5， 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへキサン 酸 t e r t—プチノレ 16. 8 g (77 mm o 1 ) と塩ィヒメチレン 120 m Lから なる溶液に、 0°Cでピリジン 1 1. 2mLとべンゾイルク口ライド 10. 2mL を加え、 0でで 2時間攪拌した。 反応終了後、 水 38 m Lを加え、 20 %N a O H水溶液で pHを 7に調整後、 水層を分離し、 さらに水層を塩化メチレン 120 mLで 2回抽出した。 有機層を合わせ、 無水硫酸ナトリウムで乾燥後、 減圧下に 溶媒を留去することにより、 油状物を得た。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグ ラフィー (Me r c k社製 K i e s e 1 g e 1 60、 へキサン： ァセトン = 5 ： 1) にて精製し、 （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシー 3—ォキ ソへキサン酸 t e r t一ブチル 19. 3 g (白色固体） を収率 78%で得た。 'H-NMR (CD C 13, 40 OMH z/p p m) ; 1. 46 (9 H, s) ， 2. 85 (2H, d) ， 3. 09 ( 1 H, d) ， 3. 42 (2H， s) , 4. 3 6 (2H， m) 、 4. 50 (1 H, m) 、 7. 45 (2H, d d) 、 7. 56 ( 1 H， d d) 、 8. 05 (2H, d)
I R (KB r ) : 3495、 1730、 1700、 1335、 1290、 1 15 0、 720 cm—1
融点： 67〜 68 °C。 実施例 6 (5 S) - 6一ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシー 3—ォキソへキ サン酸 t e r t—ブチノレ アルゴン雰囲気下、 n—プチルリチウムのへキサン溶液 （1. 5mo 1 /L) 1 09mL (1 75 mm o 1 ) に、 撹拌下 5 °Cで、 ジィソプロピルァミン 1 9. 48 g (1 95 mm o 1 ) とテトラヒドロフラン 30 m Lからなる溶液を滴下し、 1時間攪拌、 リチウムジイソプロピルアミド液を調製した。 別の容器に （S) — —ヒドロキシー γ—ブチロラタトン 5. 1 0 g (50 mm o 1 ) と酢酸 t e r t—ブチル 14. 5 g (1 25mmo 1 ) を 60 m 1のテトラヒ ドロフランに溶 解し、 アルゴン雰囲気下、 0〜5°Cで撹拌した。 この溶液に、 t e r t—ブチル マグネシウムクロライドのトルエン Zテトラヒドロフラン （重量比 1 : 2. 5) 混合溶液 （1. 8mo 1 /k g) 2 7. 8 g (50 mm o 1 ) を 30分かけて滴 下し、 さらに 5°Cで 30分攪拌した。 ここに、 先に調製したリチウムジイソプロ ピルァミド液を 3時間かけて滴下し、 さらに 5 ~ 20 °Cで 1 6時間撹拌した。 別 の容器で、 酢酸 25. 0 5 g、 水 7 5mL、 酢酸ェチル 1 5 Om lを撹拌混合し、 上記の反応液をここに注いだ。 静置の後、 水層を分離し、 水層をさらに齚酸ェチ ル 1 50 m Lで 2回抽出した。 有機層を合わせて、 飽和食塩水 2 OmLを加え、 3 N塩酸で p H = 3に調整、 水層を分離後、 さらに飽和重曹水 20 m Lで洗浄し た。 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧下に溶媒を留去することにより、 （5 S) — 5， 6—ジヒドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r t—ブチルを含有す る黄色油状物 1 8. 1 8 gを得た。
上記油状物に、 ピリジン 6. 3 2 g (8 Ommo 1 ) 、 トルエン 5 OmLを加 えて、 5°Cに冷却した。 ここに、 ベンゾイルク口ライド 6. 3 2 g (4 5 mm o 1) を加え、 5°C、 1. 5時間攪拌し、 さらに、 水 2 5mL、 3N塩酸 1 5mL を加えた。 酢酸ェチル 1 0 OmLで抽出し、 有機層を飽和重曹水 3 OmL、 水 5 OmLで 2回洗浄し、 減圧下に溶媒を留去することにより、 黄色油状物 1 8. 4 3 gを得た。 この油状物を高速液体クロマトグラフィー （カラム：野村化学 D e v e l o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水/ァセ トニトリル =50/50、 流速： 1. OmL/m i n. 、 検出器： UV 220 n m、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 (5 S) —6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r t—プチルの反応収率は 5 5%で あった。 実施例 Ί (5 S) 一 6一ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキ サン酸 t e r t—プチル
アルゴン雰囲気下、 n—ブチルマグネシウムクロリ ドのテトラヒドロフラン溶 液 （1. 8 mo 1 ZL) 125mL (225 mm o 1 ) に、 撹拌下 40°Cで、 ジ イソプロピルアミン 25. 04 g (247. 5mmo 1 ) を滴下し、 さらに 40 °Cで 2時間攪拌、 塩化マグネシウムジイソプロピルアミドの白色スラリー液を調 製した。 別の容器に （S) — 一ヒドロキシ一γ—プチロラク トン 5. 10 g ( 5 Ommo 1 ) と酢酸 t e r t—ブチノレ 14. 5 g (125mmo 1 ) を 30m 1のジメトキシェタンに溶 し、 アルゴン雰囲気下、 0〜5°Cで撹拌した。 ここ に、 先に調製した塩化マグネシウムジイソプロピルアミド液を 3時間かけて滴下 し、 さらに 5〜 20 °Cで 16時間撹拌した。
別の容器で、 酢酸 28. 4 g、 水 10 OmL、 酢酸ェチル 1 5 Om lを撹拌混 合し、 上記の反応液をここに注いだ。 静置の後、 水層を分離し、 水層をさらに酢 酸ェチル 150 m Lで 2回抽出した。 有機層を合わせて、 飽和食塩水 20 m Lを 加え、 3 N塩酸で p H= 3に調整、 水層を分離後、 さらに飽和重曹水 20 mLで 洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧下に溶媒を留去することにより、 (5 S) -5, 6—ジヒドロキシー3—ォキソへキサン酸 t e r t—ブチルを含 有する赤色油状物 14. 24 gを得た。 上記油状物に、 ピリジン 6. 32 g (8 Ommo 1 ) 、 トルエン 50 m Lを加えて、 5。Cに冷却した。 ここに、 ベンゾィ ノレクロライド 5. 62 g (4 Ommo 1) を加え、 5°C、 1時間攪拌し、 さらに、 水 25mL、 3N塩酸 15mLを加えた。 酢酸ェチル 150 m Lで抽出し、 有機 層を飽和重曹水 30mL、 水 30mLで 2回洗浄し、 減圧下に溶媒を留去するこ とにより、 黄色油状物 18. 12 gを得た。 この油状物を高速^?夜体クロマトダラ フィー （カラム：野村化学 D e v e l o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水/ァセトニトリル = 50/50、 流速： 1. 0 m LZm i n. 、 検出器： UV220 nm、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 (5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t 一ブチルの反応収率は 53 ° /。であつた。 実施例 8 (5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキ サン酸 t e r tーブチノレ
アルゴン雰囲気下、 n―ブチルリチウムのへキサン溶液 （ 1. 6mo l/L) 14 lmL (225 mm o 1 ) に、 撹拌下 5 °Cで、 ジイソプロピルァミン 25. 04 g (247. 5mmo 1 ) とテトラヒドロフラン 30 m Lからなる溶液を滴 下し、 1時間攪拌、 リチウムジイソプロピルアミド液を調製した。 別の容器に （ S) — β—ヒ ドロキシ一" y—プチ口ラタトン 5. 10 g (5 Ommo 1 ) 、 酢酸 t e r t—プチノレ 14. 5 g (125 mm o 1 ) 、 無水塩ィ匕マグネシウム 9. 5 2 g (10 Ommo 1 ) を 30 m 1のテトラヒドロフランに溶解し、 アルゴン雰 囲気下、 0〜5°Cで撹拌した。 ここに、 先に調製したリチウムジイソプロピルァ ミド液を 3時間かけて滴下し、 さらに 5 ~ 20 °Cで 16時間撹拌した。 別の容器 で、 酢酸 28. 4 g、 水 100mL、 酢酸ェチノレ 150mlを撹拌混合し、 上記 の反応液をここに注いだ。 静置の後、 水層を分離し、 水層をさらに酢酸ェチル 1 5 OmLで 2回抽出した。 有機層を合わせて、 飽和食塩水 20 m Lを加え、 3N 塩酸で p H = 3に調整、 水層を分離後、 さらに飽和重曹水 20 m Lで洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧下に溶媒を留去することにより、 （5 S) -5, 6—ジヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t一プチルを含有する赤 色油状物 12. 74 gを得た。
上記油状物に、 ピリジン 6. 32 g (80 mm o 1 ) 、 トルエン 5 OmLを加 えて、 5 °Cに冷却した。 ここに、 ベンゾイルク口ライド 5. 62 g (4 Ommo 1) を加え、 5°C、 1時間攪拌し、 さらに、 水 25mL、 3N塩酸 15mLをカロ えた。 酢酸ェチル 15 OmLで抽出し、 有機層を飽和重曹水 3 OmL、 水 3 Om Lで 2回洗浄し、 減圧下に溶媒を留去することにより、 赤色油状物 17. 92 g を得た。 この油状物を高速液体ク口マトグラフィー （カラム：野村化学 D e V e l o s i l ODS— HG—3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水 Zァセトニ トリル = 50/50、 流速： 1. OmL/m i n. 、 検出器： UV 220 nm、 力ラム温度： 40 °C) で分析した結果、 （ 5 S ) — 6—べンゾィルォキシ一 5— ヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t一プチノレの反応収率は 55%であつ た。 実施例 9 (5 S) 一 6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒ ドロキシ一 3—ォキソへキ サン酸 t e r t—ブチルの精製
実施例 6で製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシー 3— ォキソへキサン酸 t e r t—プチルを含有する油状物を高速液体クロマトグラフ ィー （実施例 6に記載の条件） にて分析すると、 純度： 48. 2重量％ (58. 1 a r e a %) 、 不純物として (5 S) —5， 6ージベンジルォキシ— 3—ォキ ソへキサン酸 t e r t一ブチルを含量： 4. 8重量％ (6. 5 a r e a %) で含 有するものであった。 この油状物 18. 43 g ( (5 S) —6—べンゾィルォキ シ一 5—ヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t—ブチル： 8. 88 g) に トルエン 3 OmLを加えた均一溶液に、 へキサン 8 OmLを加え、 5°Cに冷却し た （処理濃度： 8% (基質重量 Z溶液容量） ） 。 白濁した溶液に、 種晶約 10m gを添加し、 同温度でさらに 1時間強攪拌した。 析出する結晶を減圧濾過し、 充 分に脱液してから、 へキサン 5 OmLで洗浄した。 さらに減圧乾燥 （約 l〜5m mHg、 20〜40°C、 2時間） することにより、 （5 S) —6—ベンゾィルォ キシ一 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r t—プチノレ結晶 6. 12 g を得た （晶析回収率 67%) 。 この結晶を分析すると、 純度 97. 7重量％ (9 5. 4 a r e a %) N (5 S) — 5 , 6—ジペンジノレオキシ一 3—ォキソへキサ ン酸 t e r t一プチル含量： 0. 7重量％ (0. 7 a r e a %) であった。 実施例 10 (5 S) 一 6一ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシー 3—ォキソへ キサン酸 t e r t一ブチルの精製
実施例 7で製造した （5 S) —6—ベンゾィルォキシ一 5—ヒドロキシ一 3— ォキソへキサン酸 t e r t—プチルを含有する油状物を高速液体クロマトグラフ ィー （実施例 6に記載の条件） にて分析すると、 純度： 45. 0重量％ (47. 2 a r e a %) 、 不純物として (5 S) —5， 6ージベンジルォキシ一 3—ォキ ソへキサン酸 t e r t—ブチルを含量： 4. 7重量％ (4. 9 a r e a %) で含 有するものであった。 この油状物 18. 12 g ( (5 S) —6—べンゾィルォキ シ一 5—ヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t—ブチル： 8. 1 5 g) に トルエン 2 OmLを加えた均一溶液に、 へキサン 80mLを加え、 一 30。Cに冷 却した （処理濃度： 8% (基質重量/溶液容量） ） 。 白濁した溶液に、 種晶約 1 Omgを添カ卩し、 同温度でさらに 1時間強攪拌した。 析出する結晶を減圧濾過し、 充分に脱液してから、 へキサン 5 OmLで洗浄した。 さらに減圧乾燥 （約 1〜5 mmH g、 20〜40°C、 2時間） することにより、 （5 S) - 6—ベンゾィ /レ ォキシ _ 5—ヒドロキシー 3—ォキソへキサン酸 t e r t_ブチル結晶 6. 68 gを得た （晶析回収率 77%) 。 この結晶を分析すると、 純度 95. 8重量％ ( 94. 9 a r e a%) 、 (5 S) 一 5， 6—ジベンジルォキシ _ 3—ォキソへキ サン酸 t e r t—プチル含量： 1. 6重量％ (1. 6 a r e a %) であった。 実施例 1 1 (3 R, 5 S) — 6—ベンジルォキシ一 3, 5—ジヒドロキシへキ サン酸 t e r tーブチノレ
前記の A培地 5 m 1を大型試験管に入れ殺菌後、 表 1と表 2に示す微生物をそ れぞれ植菌した。 そして 27 °Cで 2〜 3日間好気的に振とう培養を行なつた。 こ の培養液のうち 1. 5m 1から遠心分離によって菌体を集め、 （5 S) —6_ベ ンゾィ /レオキシ一 5—ヒドロキシ一 3—才キソへキサン酸 t e r t—プチノレエス テル 0. 05 %、 グルコース 8 %を含む 100 mMリン酸緩衝液 (pH6. 5) 0. 5m 1に懸濁し、 スクリュー栓付き試験管に入れて 27°C、 20時間振とう 反応させた。 反応後、 反応液に 4倍量体積の酢酸ェチルを加えてよく混和したの ち遠心分離により菌体を除いた上清を高速液体ク口マトグラフィ一で分析して、 反応液 lm 1当たりに生成した (3 R, 5 S) 一 6—ベンジルォキシ一 3， 5 - ジヒドロキシへキサン酸 t e r tーブチノレエステノレの量とジァステレオマー比 ( = (3R, 5 S) / (3 S, 5 S) 比） を測定した。 その結果を表 1と表 2に示 す。 1
Figure imgf000055_0001
Figure imgf000056_0001
実施例 12 (3 R, 5 S) —6—ベンジルォキシ一 3, 5—ジヒドロキシへキ サン酸 t e r t一ブチル
前記の B培地 5mlを用いて表 3に示す微生物を実施例 1 1と同様に培養した c 以下同様に反応を行なった。 その結果を表 3に示した。
表 3
Figure imgf000058_0001
実施例 1 3 (3R, 5 S) — 6—ベンジルォキシー 3, 5—ジヒドロキシへキ サン酸 t e r t一プチル
前記の C培地 5 m 1を用いて表 4に示す微生物を実施例 1 1と同様に培養した。 この培養液 5 m 1から遠心分離によって菌体を集め、 （5 S) — 6—ベンゾィル 才キシ一 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r t_ブチルエステル 0. 05 %、 グノレコース 8 %を含む 100 mMリン酸緩衝液 (pH6. 5) 0. 5 m 1に懸濁し以下同様に反応を行なった。 その結果を表 4に示した。
Figure imgf000060_0001
峯
8S
L££ 6/10 OAV 実施例 14 (3 R, 5 S) — 6—ベンジルォキシー 3, 5—ジヒドロキシへキ サン酸 t e r t—プチノレ
前記の D培地 5 mlを用いて表 5に示す微生物を実施例 13と同様に培養した c 以下同様に反応を行なった。 その結果を表 5に示した。 表 5
Figure imgf000061_0001
実施例 15 (3 R, 5 S) — 6—ベンジルォキシー 3， 5—ジヒドロキシへキ サン酸 t e r t—ブチル
B a c t o—トリプトン 1. 6%、 B a c t o—酵母エキス 1 %、 塩ィ匕ナトリ ゥム 1% (pH7. 0) からなる培地 10 Om 1を含む 50 Om 1坂口フラスコ に入れ殺菌後、 ェシエリチア 'コリ HB 10 1 (pNTCRG) ； FERM B P— 6898 (独立行政法人産業技術総合研究所 特許生物寄託センター （日本 国茨城県つくば市東 1丁目 1番 1 中央第 6) に 1 999年 9月 28日に寄託） を植菌し、 37 °Cで 12時間振とう培養した。 培養終了後、 （ 5 S ) — 6—ベン ジスレオキシー 5—ヒドロキシ一 3—ォキソへキサン酸 t e r tーブチ Λ^Ι gとグ ルコース 61 Omg、 酸化型ニコチンアミ ドアデ-ンジヌクレオチドリン酸 3m gを添加し、 pHを苛性ソーダで 6. 5に保ちながら 24時間反応させた。 反応 終了後遠心分離により菌体を除去した上清を、 酢酸ェチル 10 OmLで 2回抽出 した。 得られた有機相を無水芒晶で脱水したのち減圧下脱溶剤し、 油状の 6—べ ンジノレオキシ一 3， 5ージヒドロキシへキサン酸 t e r t—プチノレ 900 m gを 得た。 このもののジァステレオマー比を実施例 1 1記載の方法により分析したと ころ、 （3R, 5 S) / (3 S, 5 S) =99. 5/0. 5であった。 XH-NMR (CDC 1 a, 40 OMH z/p p m) ; 1. 47 (9 H, s ) ， 1. 63- 1. 82 (2H， m) ， 2. 45 (2H, d) ， 4. 1—4. 3 (4 H， m) , 7. 32-7. 7 (3H, m) 、 8. 0— 8. 22 ( (2H, m) I R (n e a t) : 3450、 3000、 1 730、 1040、 850、 720 c m_ 1 0 実施例 16 2- [ (4R, 6 S) — 2, 2—ジメチル一 6 _ベンゾィルォキシ メチル一 1 , 3—ジォキサン一 4—ィル Ί 酢酸 t e r t—ブチル
実施例 15にて製造した （5 S) —6—ベンゾィルォキシ一3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—ブチノレ 8. 94 g (27. 6 mm o 1 ) 、 2, 2—ジ メ トキシプロパン 35. 8mL、 塩化メチレン 2. 5mLからなる溶液に、 p— トノレエンス/レホン酸一水和物 269 m g (1. 4mmo 1 ) を加え、 20°Cで 4 時間攪拌した後、 飽和重曹水 50 OmLを加えた。 水層を分離後、 水層をさらに 塩化メチレン 2 OmLで 2回抽出し、 有機層を合わせた。 無水硫酸ナトリウムで 乾燥後、 減圧下に溶媒を留去することにより、 無色油状物を得た。 残渣をシリカ ゲメレカラムクロマトグラフィー （Me r c k社製 K i e s e 1 g e 1 60、 へキ サン： アセトン = 10 ： 1) にて精製し、 （5 S) 一 6一ベンゾィルォキシ一 5 ーヒドロキシ _ 3—ォキソへキサン酸 t e r t—プチル 7. 24 g (白色固体） を収率 72%で得た。
^-NMR (CDC 13, 40 OMH z/p p m) ； 1. 44 (9H， s ) 、 1. 45 (6 H, d) 、 1. 55— 1. 59 (2H， m) 、 2. 35— 2. 46 (2H， m) 、 4. 22-4. 37 (4H， m) 、 7. 43— 7. 59 (3H, m) 、 8. 0— 8. 1 (2H， m)
I R (n e a t) : 2975、 1 720、 1 270、 1150、 1 100、 71 8 cm—1
融点： 55〜 56 °C。 実施例 17 2- 「 （4R, 6 S) —2, 2一ジメチルー 6—ベンゾィルォキシ メチルー 1 3—ジォキサン一 4ーィル Ί 酢酸 t e r t—プチル 実施例 15にて製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 3 , 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 108mg (90. 2重量0 /0、 0. 3 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 5. 7mg (0. 03m m o 1 ) を加え、 40 °Cで 16時間攪拌した。 このものを高速液体ク口マトダラ フィー （カラム：野村化学 D e v e l o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mni、 溶離液：水 Zァセトニトリル = 50/50, 流速： 1. 0 m LZin
1 n. 、 検出器： UV220 nm、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 その 糸且成収率は以下であつた。
2- [ (4R, 6 S) - 2, 2—ジメチル一6—ベンゾィルォキシメチル _1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t—プチル： 78. 8 %、 (5 S) - 6 —ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—プチノレ ： 7. 5%、 (2 S, 4 R) 一 4ーヒ ドロキシー 6 _ォキソ一 2 _ [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロ一 2H—ピラン： 5. 9%、 2_ [ (4R， 6 S) - 2, 2—ジメチルー 6—べンゾイノレオキシメチノレー 1， 3—ジォキサン一 4—ィ ル] 酢酸メチル： 3. 0%。 実施例 18 2 - [ (4 R, 6 S) -2, 2—ジメチノレ _ 6—ベンゾイノレオキシ メチル一1, 3—ジォキサン一4—ィル] 酢酸 t e r t一プチノレ
実施例 15にて製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 108mg (90. 2重量％、 0. 3 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメトキシプロノヽ0ン 62. 4mg (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 5. 7mg (0. 03m mo 1 ) とピリジン 1 1. 9mg (0. 15 mm o 1 ) を加え、 40 で 16時 間攪拌した。 このものを高速液体ク口マトグラフィー （カラム：野村化学 D e v e l o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水 /ァセト 二トリル =50/50、 流速： 1. OmL/m i n. 、 検出器： UV 220 nm, カラム温度： 40°C) で分析した結果、 その糸且成収率は以下であった。
2— [ (4R, 6 S) —2， 2—ジメチル一 6—ベンゾィルォキシメチル一1， 3_ジォキサン一 4—ィノレ] 酢酸 t e r t—プチル： 93. 1 %、 (5 S) - 6 一ベンゾィルォキシ一 3, 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—プチル： 3. 4%、 (2 S, 4R) —4ーヒドロキシー 6—ォキソ一2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロ _ 2H—ピラン： 0. 1%、 2— [ (4R, 6 S) - 2, 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシメチル一 1 , 3—ジォキサン一4—ィ ル] 酢酸メチル： 0. 1。 実施例 19 2— [ (4 R, 6 S) 一 2， 2 _ジメチルー 6一ベンゾィルォキシ メチルー 1, 3—ジォキサン _ 4 _ィル] 酢酸 t e r t一プチル
実施例 15にて製造した (5 S) 一 6—ベンゾィルォキシ一 3 , 5—ジヒ ドロ キシへキサン酸 t e r t一プチノレ 108mg (90. 2重量0 /。、 0. 3 mm o 1 ) 、 2， 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 5. 7mg (0. 03m mo 1 ) とトリエチノレアミン 15. 2mg (0. 15mmo 1 ) を加え、 40°C で 16時間攪拌した。 このものを高速液体ク口マトグラフィー (カラム：野村化 学 De v e l o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水 /ァセトニトリル = 50/50、 流速： 1. OmL/m i n. 、 検出器： UV 2 20 nm、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 その組成収率は以下であった。 2— [ (4 R, 6 S) 一 2 , 2—ジメチノレ一 6—ベンゾイノレオキシメチノレー 1， 3_ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t—ブチル： 93. 3 %、 （5 S) — 6 一べンゾイノレオキシ一 3， 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—プチル： 3. 0%、 (2 S, 4 R) 一 4ーヒ ドロキシ一 6—ォキソ _ 2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロ一 2H—ピラン： 0. 1%、 2— [ (4R， 6 S) - 2, 2ージメチルー 6—ベンゾィルォキシメチルー 1， 3—ジォキサン一 4ーィ ル] 酢酸メチル： 0. 1 %。 実施例 20 2— [ (4 R, 6 S) -2, 2一ジメチルー 6—ベンゾィルォキシ メチノレー 1 , 3—ジォキサン—— 4—ィル Ί 酢酴 t e r t一プチノレ
実施例 15にて製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 3, 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチル 108mg (90. 2重量％、 0. 3 mm o 1 ) 、 2， 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6mmo 1 ) 、 アセトン 5 mLからなる溶液に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 5. 7mg (0. 03m mo 1 ) とイミダゾール 10. 2mg (0. 15 mm o 1 ) を加え、 40でで1 6時間攪拌した。 このものを高速液体クロマトグラフィー （カラム：野村化学 D e V e 1 o s i 1 ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水/ァ セトニトリル = 50Z 50、 流速： 1. OmLZm i n. 、 検出器： UV220 nm、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 その糸且成収率は以下であった。 2- [ (4 R, 6 S) 一 2， 2一ジメチルー 6—ベンゾィルォキシメチルー 1 , 3—ジォキサンー4一ィル] 酢酸 t e r t—プチノレ： 93. 9 %、 (5 S) - 6 一ベンゾィルォキシ一 3, 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t _プチル： 3. 0%、 (2 S, 4 R) 一 4ーヒドロキシ _ 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロ一 2H—ピラン： 0. 1%、 2— [ (4R, 6 S) - 2, 2—ジメチノレー 6—べンゾイノレオキシメチノレ一 1， 3 _ジォキサン _ 4ーィ ル] 酢酸メチル： 0. 1 %。 実施例 21 2- 「 （4R, 6 S) -2, 2—ジメチル _ 6—ベンゾィルォキシ メチル一1, 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t一ブチル
実施例 1 5にて製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ _ 3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 108mg (90. 2重量％、 0. 3 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 5. 7mg (0. 03m mo 1) と 3—メチゾレピリジン 14. Omg (0. 15 mm o 1 ) を加え、 40 °Cで 16時間攪拌した。 このものを高速液体ク口マトグラフィー （カラム：野村 化学 De v e l o s i l ODS—HG—3 4. 6 X 250 mm、 溶離液： 水/ァセトニトリル = 50 50、 流速： 1. OmLZm i n. 、 検出器： UV 220 nm、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 その組成収率は以下であつ た。
2- [ (4 R, 6 S) -2, 2—ジメチルー 6一べンゾィルォキシメチルー 1 , 3—ジォキサン一 4—ィル] 酢酸 t e r t—ブチル： 93. 8%、 (5 S) - 6 —ベンゾィルォキシ一 3, 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t一プチル ： 2. 8%、 (2 S, 4R) —4—ヒドロキシー 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロ一 2H—ピラン： 0. 1%、 2— [ (4R， 6 S) - 2， 2—ジメチノレー 6—べンゾィルォキシメチノレー 1， 3—ジォキサン一 4ーィ ル] 酢酸メチル： 0. 1 %。 実施例 22 2- [ (4 R, 6 S) -2, 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシ メチル一 1, 3—ジォキサン一 4一^ fル] 酢酸 t e r tーブチノレ
実施例 15にて製造した （5 S) _ 6—ベンゾィルォキシ一3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 108mg (90. 2重量0 /。、 0. 3 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6mmo 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 p— トルエンスルホン酸一水和物 5. 7mg (0. 03m mo 1 ) と N， N—ジメチルァミノピリジン 18. 3mg (0. 15 mm o 1 ) を加え、 40°Cで 16時間攪拌した。 このものを高速液体クロマトグラフィー （ カラム：野村化学 De v e l o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250m m、 溶離液：水ノアセトュトリル = 50ノ 50、 流速： 1. OmLZmi n. 、 検出器： UV 220 nm、 カラム温度： 40°C) で分析した結果、 その組成収率 は以下であった。
2- [ (4R, 6 S) ~2, 2 _ジメチルー 6—べンゾィルォキシメチルー 1， 3—ジォキサン一 4ーィノレ] 酢酸 t e r t—プチノレ ： 93. 8 %、 (5 S) 一 6 —ベンゾイノレ才キシ一 3 , 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r tーブチル： 2. 3%、 (2 S, 4R) 一 4—ヒドロキシー 6—ォキソ一2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロー 2H—ピラン： 0. 1%、 2_ [ (4R， 6 S) — 2， 2—ジメチノレー 6—べンゾイノレオキシメチノレ一 1 , 3—ジォキサン一 4ーィ ノレ] 酢酸メチル： 0. 1 %。 実施例 23 2— 「 （4R, 6 S) -2, 2ージメチル一 6—ベンゾィルォキシ メチルー 1 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t一ブチル 実施例 1 5にて製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 108mg (90. 2重量％、 0. 3mmo 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 メタンスノレホン酸 3. Omg (0. 03 mm o 1 ) とピリ ジン 1 1. 9mg (0. 15mmo 1) を加え、 40°Cで 16時間攪拌した。 こ のものを高速液体ク口マトグラフィー （カラム：野村化学 D e V e 1 o s i 1 OD S-HG- 3 4. 6 X 250 mm, 溶離液：水 Zァセトェトリル = 50/ 50、 流速： 1. OmLZm i n. , 検出器： UV220 nm、 カラム温度： 4 0°C) で分析した結果、 その組成収率は以下であった。
2— [ (4 R, 6 S) — 2， 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシメチルー 1， 3—ジォキサン一 4 Tル] 酢酸 t e r t—ブチル： 95. 6 %、 (5 S) - 6 —ベンゾイノレオキシ一 3， 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—プチ/レ： 2. 6%、 (2 S, 4 R) 一 4—ヒ ドロキシー 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾイノレオキ シ） メチル] テトラヒドロー 2 H—ピラン： 0. 1%、 2- [ (4R, 6 S) — 2, 2—ジメチルー 6一べンゾィルォキシメチル一 1， 3—ジォキサン一 4—ィ ル] 酢酸メチル：未検出。 実施例 24 2- C (4R, 6 S) -2, 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシ メチル一 1， 3一ジォキサン一 4ーィノレ] 酢酸 t e r t—プチノレ
実施例 15にて製造した （5 S) _ 6—ベンゾィルォキシ一3， 5—ジヒ ドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 108mg (90. 2重量％、 0. 3 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 62. 4mg (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 トリプノレオ口酢酸 3. 5mg (0. 03 mm o 1 ) とピリ ジン 1 1. 9mg (0. 15 mm o 1 ) を加え、 40 °Cで 16時間攪拌した。 こ のものを高速液体クロマトグラフィー （カラム：野村化学 De v e 1 o s i 1 OD S-HG- 3 4. 6 X 250mm、 溶離液：水ノァセトニトリル = 50/ 50、 流速： 1. 0mL/m i n. 、 検出器： UV 220 nm、 カラム温度： 4 0°C) で分析した結果、 その組成収率は以下であった。
2— [ (4R, 6 S) — 2, 2—ジメチノレ一 6—べンゾィルォキシメチルー 1， 3—ジォキサン— 4一ィル] 酢酸 t e r t—ブチル： 89. 3 %、 (5 S) - 6 —ベンゾィルォキシ—3， 5—ジヒ ドロキシへキサン酸 t e r t—プチル： 8. 8%、 (2 S, 4R) —4—ヒドロキシ一 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロー 2H—ピラン： 0. 1%、 2— [ (4R， 6 S) - 2, 2—ジメチルー 6—べンゾィルォキシメチルー 1, 3—ジォキサン一 4ーィ ル] 酢酸メチル：未検出。 実施例 25 2- [ (4 R, 6 S) 一 2， 2—ジメチル一 6—ベンゾイメレオキシ メチノレー 1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t—プチル
実施例 1 5にて製造した （5 S) — 6—ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 1 08mg (90. 2重量0 /0、 0. 3 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 62. 4m g (0. 6 mm o 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 硫酸 1. 5mg (0. 015mmo 1 ) とピリジン 11. 9mg (0. 15 mm o 1 ) を加え、 40 °Cで 16時間攪拌した。 このものを高 速液体クロマトグラフィー （カラム：野村化学 D e v e l o s i l ODS— HG- 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水/ァセトニトリル= 50/50、 流 速： 1. OmLZm i n. 、 検出器： UV 220 nm、 カラム温度： 40°C) で 分析した結果、 その組成収率は以下であった。
2- [ (4 R, 6 S) 一 2， 2—ジメチル一 6—ベンゾィルォキシメチル一 1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t—ブチル： 95. 8 %、 （5 S) — 6 一ベンゾィルォキシ一 3， 5ージヒ ドロキシへキサン酸 t e r t一プチル： 2. 3%、 (2 S, 4 R) 一 4ーヒドロキシー 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロー 2 H—ピラン： 0. 1%、 2- [ (4 R, 6 S) — 2, 2—ジメチノレー 6 _ベンゾイノレオキシメチノレー 1， 3—ジォキサン一 4ーィ ル] 酢酸メチル：未検出。 実施例 26 2- [ (4R, 6 S -2, 2一ジメチルー 6—ベンゾィルォキシ メチル一 1 , 3—ジォキサン一 4ーィル Ί 酢酸 t e r t—プチルの精製
実施例 15にて製造した (5 S) 一 6—ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—ブチズレ 3. 24 g (90. 2重量％、 9. Ommo 1 ) 、 2, 2—ジメトキシプロパン 2. 12 g (18. Ommo 1 ) 、 アセトン 5 mLからなる溶液に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 95m g (0. 45mm o 1) を加え、 40°Cで 4時間攪拌した。 減圧下に溶媒を留去し、 酢酸ェチル 2 5mLs 飽和重曹水 1 OmLを加えて抽出し、 水層を分離後、 さらに、 水 10m Lで洗浄した。 減圧下に溶媒を留去することにより、 無色油状物 3. 764 gを 得た。 このものを高速液体ク口マトグラフィー （カラム：野村化学 D e V e 1 o s i l ODS— HG— 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水ノァセトニトリ ル= 50/50, 流速： 1. OmLZm i n. 、 検出器： UV 220 nm、 カラ ム温度： 40°C) で分析した結果、 その成分組成は以下であった。
2- [ (4R, 6 S) - 2, 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシメチル _ 1 ,
3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t一プチル： 79. 7重量％、 不純物と して （5 S) — 6—ベンゾィズレオキシ一 3， 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—プチノレ： 0. 1重量0 /o、 (2 S, 4R) 一 4ーヒドロキシ一 6 _ォキソ一 2 一 [ (ベンゾィルォキシ） メチノレ] テトラヒドロ一 2 H—ピラン： 0. 1重量0 /0、
2一 [ (4 R, 6 S) —2, 2—ジメチノレー 6—べンゾイノレオキシメチノレー 1 ,
3—ジォキサン— 4—ィル] 酢酸メチル： 5. 0重量0 /0、 2— [ (4 S, 6 S) 一 2， 2—ジメチルー 6—べンゾイノレオキシメチノレー 1， 3—ジォキサン一 4— ィル] 酢酸 t e r t—プチル： 0. 2重量％を含有。
この油状物にへキサン 3 OmLを加えて、 一 30°Cに冷却した （処理濃度： 1 0% (基質重量/溶液容量） ) 。 種晶約 1 Omgを添カ卩し、 同温度でさらに 1時 間強攪拌した。 析出する結晶を減圧濾過し、 充分に脱液してから、 冷へキサン 1 OmLで洗浄した。 さらに減圧乾燥 （約 l〜5mmHg、 20〜40°C、 2時間 ) することにより、 2— [ (4 R, 6 S) —2， 2—ジメチノレー 6—ベンゾィル ォキシメチルー 1 , 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t—プチル結晶 2.
46 gを得た （晶析回収率 81%) 。 この結晶を分析すると、 純度 97. 2重量 % (96. 8 a r e a %) 、 不純物として 2— [ (4R, 6 S) 一 2, 2—ジメ チル一 6—ベンゾィルォキシメチルー 1 , 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸メチ ル： 2. 8重量0/。 (2. 8 a r e a0/。） 、 (5 S) 一 6—ベンゾィルォキシ一 3， 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—ブチル：未検出、 （2 S, 4 R) —4— ヒドロキシ一 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾィルォキシ） メチル] テトラヒドロー 2 H—ピラン：未検出、 2— [ (4 S, 6 S) -2, 2—ジメチルー 6—べンゾ ィルォキシメチノレー 1, 3—ジォキサン一 4—ィル] 酢酸 t e r t一プチル：未 検出であった。 実施例 27 2 - [ (4 R, 6 S) 一 2, 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシ メチル— 1, 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t一ブチルの精製
実施例 15にて製造した （5 S) 一 6—ベンゾィルォキシ一 3, 5—ジヒドロ キシへキサン酸 t e r t—プチノレ 3. 24 g (90. 2重量0 /。、 9. 0 mm o 1 ) 、 2, 2—ジメ トキシプロパン 2. 1 2 g (18. Ommo 1 ) 、 ァセトン 5 mLからなる溶液に、 ： —トルエンスルホン酸一水和物 95mg (0. 45mm o 1) を加え、 40°Cで 4時間攪拌した。 減圧下に溶媒を留去し、 酢酸ェチル 2 5mL、 飽和重曹水 1 OmLを加えて抽出し、 水層を分離後、 さらに、 水 10m Lで洗浄した。 減圧下に溶媒を留去することにより、 無色油状物 3. 764 gを 得た。 このものを高速液体ク口マトグラフィー （カラム：野村化学 D e V e 1 o s i l OD S-HG- 3 4. 6 X 250 mm、 溶離液：水/ァセトニトリ ル- 50/50、 流速： 1. OmLZrn i n. 、 検出器： UV 220 nm カラ ム温度： 40°C) で分析した結果、 その成分組成は以下であった。
2 - [ (4 R, 6 S) 一 2， 2—ジメチノレー 6—ベンゾイノレオキシメチノレー 1 , 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r tーブチル： 86. 0重量％、 不純物と して (5 S) — 6—べンゾイノレオキシ一 3， 5—ジヒ ドロキシへキサン酸 t e r t一ブチル： 0. 1重量0 /0、 (2 S, 4R) — 4ーヒドロキシー 6_ォキソ一2 - [ (ベンゾイノレオキシ） メチル] テトラヒドロー 2H—ピラン： 0. 1重量0 /0、 2— [ (4R, 6 S) - 2, 2—ジメチノレ一 6—べンゾイノレオキシメチノレー 1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸メチル： 5. 4重量0 /0、 2- [ (4 S, 6 S) - 2, 2 _ジメチ /レー 6一べンゾイノレオキシメチノレー 1 , 3—ジォキサン一 4 _ ィル] 酢酸 t e r t一プチル： 0. 2重量％を含有。
この油状物にメチルシクロへキサン 3 OmLを加えて、 一 30°Cに冷却した （ 処理濃度： 10% (基質重量/溶液容量） ） 。 種晶約 10m gを添加し、 同温度 でさらに 1時間強攪拌した。 析出する結晶を減圧濾過し、 充分に脱液してから、 冷メチルシクロへキサン 1 OmLで洗浄した。 さらに減圧乾燥 （約 l〜5mmH g、 20〜40°C、 2時間） することにより、 2— [ (4R, 6 S) —2， 2— ジメチル一 6—べンゾィルォキシメチルー 1, 3—ジォキサン一 4—ィル] 酢酸 t e r t—ブチル結晶 2. 24 gを得た （晶析回収率 74 %) 。 この結晶を分析 すると、 純度 97. 2重量0 /0 (96. 8 a r e a %) 、 不純物として 2— [ (4 R, 6 S) 一 2， 2—ジメチルー 6一べンゾィルォキシメチルー 1， 3—ジォキ サン一 4一ィル] 酢酸メチル： 2. 8重量0 /0 (2. 8 a r e a%) 、 (5 S) - 6一べンゾイノレオキシ一 3 , 5—ジヒドロキシへキサン酸 t e r t—ブチノレ：未 検出、 (2 S, 4 R) 一 4—ヒドロキシ一 6—ォキソ一 2— [ (ベンゾィルォキ シ） メチル] テトラヒドロ一 2H—ピラン：未検出、 2— [ (4 S， 6 S) - 2, 2—ジメチルー 6—ベンゾィルォキシメチノレ一 1， 3一ジォキサン— 4ーィノレ] 酢酸 t e r t—ブチル：未検出であった。 実施例 28 2- [ (4R, 6 S) -6- (ヒドロキシメチノレ) —2, 2—ジメ チル _1， 3—ジォキサン一 4 _ィル] 酢酸 t e r t一プチル
実施例 26にて製造した 2— [ (4R, 6 S) -2, 2—ジメチルー 6—ベン ゾィルォキシメチルー 1， 3—ジォキサン一 4—ィノレ] 酢酸 t e r t_プチノレ 3. 64 g (10 mm o 1 ) のメタノール （ 36 m L) 溶液に、 1 N水酸化ナトリウ ム水溶液 10 m Lを力 Πえ、 室温で 2時間攪拌した。 反応液を氷冷しながら、 IN 塩酸水溶液を徐々に加えて、 p H= 7に調整した。 減圧下にメタノ一ルを留去し、 残った水溶液を塩化メチレン 70 m Lで 2回抽出した。 有機層を無水硫酸ナトリ ゥムで乾燥後、 減圧下に溶媒を留去することにより、 無色油状物を得た。 残渣を シリカゲルカラムクロマトグラフィー (Me r c k社製 K i e s e 1 g e 1 60、 へキサン：アセトン = 5 ： 1) にて精製し、 2— [ (4R, 6 S) —6— (ヒ ド 口キシメチル） 一 2, 2_ジメチルー 1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸 t e r t一プチノレ 2. 34 g (白色固体） を収率 90%で得た。
^-NMR (CDC 13 , 40 OMH z/p p m) ； 1. 29— 1. 52 (2 H, m) 、 1. 39 (3H， m) 、 1. 45 (9H， s) 、 1. 47 (3H， s ) 、 2. 05 (1H, b s) 、 2. 33 ( 1 H, d d) 、 2. 44 ( 1 H, d d ) 、 3. 47-3. 53 (1H, m) 、 3. 99-4. 04 (1H, m) 、 4. 27-4. 33 (1H， m)
1 R (n e a t) : 2980、 1720、 1 365、 1200、 11 50、 10
20 cm—1 産業上の利用可能性
本発明は、 上述の構成よりなるもので、 医薬中間体、 特にHMG—CoA還元 酵素阻害剤中間体として有用な光学活性 2— [6— （ヒドロキシメチル） 一 1， 3—ジォキサン一 4一ィル] 酢酸誘導体を、 低温反応設備などの特別な設備を使 わず、 安価で入手容易な原料から製造することができる。

Claims

請求の範囲 下記化合物 (I) ； (I) (式中、 R1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6~12のァリー ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 それ ぞれ独立して、 水素、 炭素数 1〜 1 2のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリール 基又は炭素数 7〜 12のァラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 互いに 結合して環を形成していてもよい。 ） の製法であって、
( 1 ) 下記式 （I I) ；
X1CH2C02R1
(II)
(式中、 R1は上記に同じ。 X1は、 水素またはハロゲン原子を表す。 ） で表さ れる酢酸エステル誘導体に対し、 塩基または 0価の金属のいずれかを作用させて 調製されるエノラートを、 下記式 （I I I) ；
Figure imgf000073_0002
(ΙΠ) で表される (S) — β—ヒドロキシー γ—ブチロラクトン -30 °C以上の温 度で反応させ、 下記式 （IV) ；
Figure imgf000074_0001
(IV)
(式中、 R1は上記に同じ） で表される化合物を製造し、
(2) 更にこの化合物を塩基存在下、 ァシル化剤で処理することにより、 下記式 (V) ；
Figure imgf000074_0002
(式中、 R1は上記に同じ。 R4は、 水素、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素 数 6〜12のァリール基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 ) で表される化合物を製造し、
(3) 更にこの化合物を微生物を用いて還元することにより、 下記式 （V I) ；
Figure imgf000074_0003
(式中、 R R4は上記に同じ） で表される化合物を製造し、
(4) 更にこの化合物を酸触媒存在下、 ァセタール形成反応剤で処理すること より、 下記式 （VI I) ；
Figure imgf000075_0001
(式中、 I 1、 R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表される化合物を製造し、 (5) 更にこの化合物を塩基存在下に加溶媒分解することからなる、 一般式 （I ) で表される化合物の製造法。
2. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1が水素原子であり、 エノラート 調製に塩基として下式 （V I I I) ；
Figure imgf000075_0002
(νπΐ)
(式中、 R5、 R6は、 それぞれ独立して、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素 数 6〜12のァリール基、 炭素数 7〜 12のァラルキル基、 または、 シリル基の いずれかを表す。 X 2はハロゲン原子を表す。 ) で表されるマグネシウムアミド を使用する請求の範囲第 1項に記載の製造法。
3. マグネシウムアミド （V I I I) において、 R5と R6がイソプロピル基 であり、 X 2が塩素原子である請求の範囲第 2項に記載の製造法。 4. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1がハロゲン原子であり、 ェノラ 一ト調製に 0価の金属としてマグネシウムまたは亜鉛のいずれかを使用する請求 の範囲第 1項に記載の製造法。
5. エノラートと （S) — 一ヒドロキシー γ—プチ口ラタトン （I I I) と の反応を、 ポリエーテル類の存在下に行う請求の範囲第 1〜 4項のいずれか 1項 に記載の製造法。
6. ポリエーテル類として、 ジメ トキシェタンを使用する請求の範囲第 5項に 記載の製造法。
7. 下記式 （I I I) ；
Figure imgf000076_0001
(ΙΠ)
で表される （S) —J3—ヒドロキシ _γ—プチロラクトンを下記式 （I X) ；
R7— Mg-X3
(IX)
(式中、 R7は、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリール基又 は炭素数 7〜12のァラルキル基のいずれかを表す。 X3は、 ハロゲン原子を表 す。 ） で表されるグリニヤーノレ試薬で予め処理し、 下記式 （I I) ；
X1CH2C02R1
(Π)
(式中、 R X1は上記に同じ。 ） で表される酢酸エステル誘導体に塩基又は 0価の金属のいずれかを作用させて調製されるエノラートと、 一 30°C以上の温 度で反応させ、 下記式 （I V) ；
Figure imgf000076_0002
(TV) (式中、 R1は上記に同じ） で表される化合物を製造する請求の範囲第 1項に記 載の製造法。
8. グリニャール試薬 （I X) において、 R7が t e r t—プチル基で、 X3 が塩素原子である請求の範囲第 7項に記載の製造法。
9. (S) _J3—ヒドロキシー ·ν_ブチロラタトン （I I I) を塩基とマグネ シゥム化合物で予め処理し、 酢酸エステル誘導体 （I I) に塩基又は 0価の金属 のいずれかを作用させて調製されるエノラートと、 一 30°C以上の温度で反応さ せ、 上記式 （I V) で表される化合物を製造する請求の範囲第 1項に記載の製造 法。
10. 塩基が、 水素化ナトリウム、 リチウムジイソプロピルアミド又は塩化マ グネシゥムジイソプロピルァミドである請求の範囲第 9項に記載の製造法。
11. マグネシウム化合物が、 塩化マグネシゥム又は臭化マグネシゥムである 請求の範囲第 9又は 10項に記載の製造法。
12. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1が水素原子であり、 エノラー ト調製に塩基として下記式 （X) ；
Figure imgf000077_0001
(X)
(式中、 R8、 R9は、 それぞれ独立して、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素 数 6〜12のァリール基、 炭素数 7〜12のァラルキル基、 または、 シリル基の いずれかを表す。 ） で表されるリチウムアミドを使用する請求の範囲第 7~11 項のいずれか 1項に記載の製造法。
13. リチウムアミド （X) において、 R8と R9がイソプロピル基である請 求の範囲第 12項に記載の製造法。
14. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1がハロゲン原子であり、 エノ ラート調製に 0価の金属としてマグネシウムまたは亜鉛のいずれかを使用する請 求の範囲第 7〜1 1項のいずれか 1項に記載の製造法。
15. ァシル化工程において、 ァシル化剤として、 下記式 (X I) ；
0 ΐ)
または、 下記式 (XV I ) ；
Figure imgf000078_0001
(XVI)
(式中、 R4は、 水素、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリー ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 Qは、 脱離基を表す。 ) で表される化合物のいずれかを使用する請求の範囲第 1〜14項に記載の製造 法。
16. ァシル化剤 （X I) において、 Qがハロゲン原子である請求の範囲第 1 5項に記載の製造法。
17. ハロゲン原子が塩素原子である請求の範囲第 16項に記載の製造法。
18. ァシル化工程で用いる塩基として、 アミンを用いる請求の範囲第 1〜1 7項のいずれか 1項に記載の製造法。
1 9 . ァミンとして、 トリェチルァミン又はピリジンを用いる請求の範囲第 1 8項に記載の製造法。
2 0 . ァシルイ匕工程において、 不純物が混入している下記式 （V) ；
Figure imgf000079_0001
(式中、 R R 4は上記に同じ。 ） で表される化合物から、 脂肪族炭化水素系 溶剤を用いて、 上記式 （V) で表される化合物に混入している不純物を除去し、 上記式 (V) で表される化合物を結晶として取得することを特徴とする請求の範 囲第 1〜 1 9項のいずれか 1項に記載の製造法。
2 1 上記式 （V) で表される化合物に混入している不純物が、 下記式 （X I
I )
Figure imgf000079_0002
(式中、 R R 4は上記に同じ。 ） で表される化合物である請求の範囲第 2 0 項に記載の製造法。
2 2 . 脂肪族炭化水素系溶剤が、 ペンタン、 へキサン、 メチルシクロへキサン、 ヘプタン、 オクタン又はイソオクタンである請求の範囲第 2 0又は 2 1項に記載 の製造法。
2 3 . 結晶化は、 補助的な溶剤をさらに用いて行われ、 前記溶剤は上記式 （V ) で表される化合物の溶解度、 収量、 処理濃度、 精製効果、 及び得られる結晶の 物性のうち、 少なくとも 1つを改善するためのものである請求の範囲第 2 0〜 2 2項のいずれか 1項に記載の製造法。
2 4 . 補助的な溶剤は、 結晶化のための操作が終了した時点で、 前記捕助的な 溶剤と脂肪族炭化水素系溶剤との重量比 （前記捕助的な溶剤 Z脂肪族炭化水素系 溶剤） 力 1以下となる量で用いられる請求の範囲第 2 3項に記載の製造法。
2 5 . 補助的な溶剤がトルエン、 酢酸ェチル、 メチル t e r t—プチルエーテ ル及び塩化メチレンからなる群より選択された少なくとも 1種である請求の範囲 第 2 3又は 2 4項に記載の製造法。
2 6 . 微生物を用いて還元する工程において、 使用する微生物として、 ァシュ ベィ属、 ポトリオァスカス属、 プレタノマイセス属、 キャンディダ属、 シテロマ イセス属、 クラビスボラ属、 タリプトコッカス属、 デバリオマイセス属、 デッケ ラ属、 ディボダスカス属、 ガラクトマイセス属、 ゲオトリカム属、 ハンセニァス ポラ属、 ハンセヌラ属、 ホルモアスカス属、 ヒポピキア属、 イツサチェンキア属、 クルイべロマイセス属、 コマガタエラ属、 リポマイセス属、 シェニコウイァ属、 ナカザヮェ属、 ォガタエァ属、 パキソレン属、 ピキア属、 ロドトルーラ属、 ロド スポリディウム属、 サッカロマイセス属、 サッカロマイコデス属、 サッカロマイ コプシス属、 サターノスボラ属、 シゾブラストスポリン属、 シゾサッカロマイセ ス属、 シュヮニォマイセス属、 スポリディオボラス属、 スポロボロマイセス属、 トルラスボラ属、 トルロプシス属、 トリコスポロン属、 トリゴノプシス属、 ウイ ロプシス属、 ヤマダジーマ属、 チゴサッカロマイセス属、 ァシディフィリウム属、 ァェロバクター属、 アルカリゲネス属、 アースロバクター属、 ァゥレオバタテリ ゥム属、 バチラス属、 プレビパクテリゥム属、 ブッティォゥキシラ属、 セデシァ 属、 セル口モナス属、 シトロパクター属、 クロストリディウム属、 コマモナス属、 コリネパクテリゥム属、 ェンテロバクター属、 エアウイ二ァ属、 ェシエリチア属、 フラボバクテリウム属、 クレブシエラ属、 ルテオコッカス属、 ミクロバクテリウ ム属、 ミクロコッカス属、 オタロバク トラム属、 プロテウス属、 プロビデンシァ 属、 シユードモナス属、 ロドコッカス属、 サルシナ属、 セラチア属、 スフインゴ バクテリウム属、 ッカムレラ属、 アブシディア属、 アクレモェゥム属、 ァエゲリ 一タ属、 ァグロサイべ属、 アミロステレゥム属、 ァスペルギルス属、 ブリツソシ ラミス属、 チヤエトミディゥム属、 チヤエトサルトーリャ属、 クラドスポリゥム 属、 コプリヌス属、 クリニペリス属、 エンドファラダミア属、 フラボラス属、 フ ォミ トプシス属、 フサリウム属、 ガノダーマ属、 グロメレーラ属、 ラエティポラ ス属、 レンティヌス属、 レンジティス属、 マクロフォーマ属、 モナスカス属、 モ ルティエレ一ラ属、 パェシロマイセス属、 ぺニシリウム属、 フィァ口フォーラ属、 ブオリオタ属、 プレゥロトス属、 スコブラリオプシス属、 セフィゾフィラム属、 スポロトリカム属、 ジゴリユンティス属、 ミクロテトラスボラ属、 及びストレブ トマイセス属に属する微生物から選ばれた微生物の培養液、 菌体または菌体処理 物を使用することを特徴とする請求の範囲第 1〜 2 5項のいずれか 1項に記載の 製造法。
2 7 . 微生物を用いて還元する工程において、 使用する微生物が、
• ゴシッピ、 ボトリオアスカス ·シナエデンドノレス、 ブレタノマイセス■クスタ ーシアヌス、 キャンディダ■アルボレア、 キャンディダ■カテヌラータ、 キャン デイダ ·フエ-一力、 キャンディダ 'ガラクタ、 キャンディダ ·ハエムロニ、 キ ヤンディダ ·マグノリェ、 キャンディダ ·ムサェ、 キャンディダ 'ニトラトフィ ラ、 キャンディダ 'パラプシロシス、 キャンディダ 'パラルゴーサ、 キャンディ ダ ·ステラータ、 シテロマイセス ·マトリテンシス、 クラビスポラ 'ノレシタユエ、 タリプトコッカス ·ラウレンティ、 デバリオマイセス ·カーソニイ、 デバリオマ イセス ■ハンセニイ ·バー · ファブリィ、 デバリオマイセス ■ハンセニイ ■バー -ノヽンセエイ、 デバリオマイセス ■ クロエッケリ、 デバリオマイセス 'マラマ、 デバリオマイセス ·シユードポリモープス、 デバリオマイセス · ロバ一トシ一、 デバリオマイセス■スピーシズ、 デッケラ ·ァノマーラ、 ディボダスカス ·ァー ミラリー、 ディボダスカス 'ォべテンシス、 ディボダスカス 'テトラス一マ、 ガ ラタトマイセス■ レシ一、 ゲォトリカム 'キャンディダム、 ゲォトリカム 'フエ ノレメンタンス、 ゲオトリカム ·フラグランス、 ゲオトリカム■ロウビエリ、 ハン セニァスポラ 'ギノレモンディ、 ノヽンセヌラ 'メタノローサ、 ノヽンセヌラ 'ポリモ 一フ了ヽ ホノレモアスカス ' フィレントムス、 ホルモアスカス 'プラティポデイス、 ヒポピキア 'バートニイ、 イツサチェンキア 'オリエンタリス、 イツサチエンキ ァ .テリコーラ、 タノレイべロマイセス■ラクテイス、 タノレイべロマイセス ·マノレ キアヌス、 タノレイべロマイセス 'ポリスポラス、 ク /レイべロマイセス■サ一モト レランス、 コマガタエラ ·パストリス、 リポマイセス ■ スターケリ、 シェニコゥ ィァ ' ビクスビダータ、 シェニコウイァ 'ブルセリーマ、 ナカザヮェ 'ホルステ ィ、 ォガタエア■ ミヌータ ·バー · ミヌータ、 ォガタエア · ピニ、 ォガタエア · ポリモーファ、 才ガタエア · ウイッカーミ、 パキソレン■タンノフィラス、 ピキ ァ ·カナデンシス、 ピキア■ファリノーサ、 ピキア■ジヤンディニー、 ピキア■ サイトイ、 ピキア · トレタナ、 ピキア · トリアングラリス、 ピキア ' ウィッカー ミ、 ロドトルーラ ■グラミニス、 ロ ドトルーラ . ミヌータ、 ロ ドスポリディウム
■ディォポバタム、 ロドスポリディウム ' トノレロイデス、 サッカロマイセス ■ / ャヌス、 サッカロマイセス · ノ ストリアヌス、 サッカロマイセス■ 口セィ、 サッ カロマイセス ■サケ、 サッカロマイセス ·スティネリ、 サッカロマイセス · ゥニ スポラス、 サッカロマイコデス .ノレドゥィギー、 サッカロマイコプシス .力プス ラリス、 サッカロマイコプシス ·マランガ、 サターノスポラ ·デイスポーラ、 シ ゾブラストスポリン ' コノ ヤシ、 シゾサッカロマイセス 'ボンべ、 シュヮェォマ イセス ·オシデンタイス ·パー .オシデンタリス、 スボリディオボラス ·ジョン ソニー、 スポロボロマイセス · ノ ラロセウス、 スポロボロマイセス ·サノレモニカ ラー、 トルラスポラ ·デルブルエッキー、 トル口プシス ·メタノーレべッセンス、 トルロプシス ·ォスベニス、 トノレロプシス ■スピーシズ、 トノレロプシス · ゥベア、 トリコスポロン .プルランス、 トリコスポロン 'スピーシズ、 トリゴノプシス - バリアビリス、 ウイロプシス .サターヌス 'バー 'マラキ一、 ウイロプシス 'サ ターヌス ·バー ·サターヌス. ヤマダジーマ 'ファリノーサ、 ヤマダジーマ ·ハ プロフイラ、 チゴサッカロマイセス 'ナニゥェンシス、 チゴサッカロマイセス · スピ一シズ、 ァシディフイリゥム 'クリプタム、 ァエロパクター■クラカェ、 ァ ルカリゲネス ·キシロソキシダンス、 ァ 力リゲネス■キシロソキシダンス■サ ブスピーシズ■デエトリフイカンス、 アースロバクタ一'グロビフォーミス、 ァ ースロパクター■プロトフォーミエ、 ァゥレオバタテリゥム■エステラロマティ カム、 バチラス 'バディウス、 バチラス ' スファエリカス、 ブレビバタテリゥム • ァニモニァゲネス、 ブッティォゥキシラ 'ァグレステイス、 セデシァ■ダビシ ェ、 セノレロモナス . スピーシズ、 セ /レロモナス ·ターバタ、 シトロバクタ一 ·フ レゥンディ、 クロストリディウム -シリンドロスポラム、 コマモナス .テストス テロニイ、 コリネバクテリゥム .ァセトァシドフイリゥム、 コリネバタテリゥム - アンモニアゲネス、 コリネバタテリゥム 'グルタミカム、 コリネバタテリゥム -グノレタミカス、 ェンテロノくクタ一 ·エアロゲネス、 ェンテロノくクタ一 ' クロー カェ、 エアウイエア '力ロトボーラ 'サブスピーシズ '力ロトポーラ、 ェシヱリ チア ' コリ、 フラボバクテリゥム 'フラヴェセウス、 クレブシエラ ·プランティ コーラ、 ノレテオコッカス 'ジャポ二タス、 ミクロノくクテリウム■ァ /レポレツセン ス、 ミクロコッカス 'フラプス、 ミクロコッカス ·ノレテウス、 才クロノくクトラム •スピーシズ、 プロテウス ■インコンスタンス、 プロテウス■ ミラビリス、 プロ テウス■ レトゲリ、 プロテウス 'ブルガリス、 プロビデンシァ 'ストゥァリティ、 シユードモナス■ァエノレギノーサ、 シユードモナス ·プテイダ、 シユードモナス ·ストウトゼリ、 口ドコッカス ·ェクイ、 サルシナ■ルテア、 セラチア ·プリム ティカム、 セラチア ·プロテアマクランス ·サブスピーシズ■プロテアマクラン ス、 スフインゴパクテリゥム ·スピリティポラム、 ッカムレラ ·パゥロメタボラ ム、 アブシディア 'ォルチディス、 アクレモニゥム 'バシリスポラム、 ァエゲリ ータ ·キャンディダ、 ァグロサイべ ·シリンドラセァ、 アミロステレゥム■ァレ 才ラータム、 ァスペルギルス■パラシティカス、 ァスペルギルス■フォエニシス、 ブリッソシラミス .フルバ、 チヤエトミディゥム■フィメティ、 チヤエトサルト ーリャ 'ストロマトイデス、 クラドスポリゥム · レシナェ■エフ■アベラネゥム、 コプリヌス 'シネレウス、 コプリヌス 'ラゴブス、 コプリヌス 'スピーシズ、 ク リエペリス 'スティピタリア、 エンドファラダミア 'アルタナータ、 フラボラス ■アルキュラリス、 フォミ トプシス ■プバータティス、 フサリゥム ·メリスモイ デス、 ガノダーマ 'ノレシダム、 グロメレーラ 'シングラータ、 ラエティポラス ■ スルフレウス、 レンティヌス · レビデウス、 レンジテイス 'べッリーナ、 マクロ フォーマ · コメイナェ、 モナスカス ·パープレウス、 モノレティエレーラ ·ィサべ リーナ、 パェシロマイセス · ヴァリオティ、 ぺニシリウム 'チェルメシナム、 ぺ ニシリゥム .タリソゲナム、 ぺ -シリゥム .ェクシパンサム、 ぺニシリゥム■ リ ラシェゥム、 ブイァロフオーラ ■フアスティギアタ、 フオリオタ -ァゥリヴエラ、 フオリオタ · リモネーラ、 プレゥ口トス · ドライヌス、 プレゥ口トス 'ォストレ ァトス、 プレゥ口 トス .ポリゲンス、 スコブラリォプシス■プレビ力ゥリス、 セ フィゾフィラム · コミユーネ、 スポロトリカム .ァウランティアカム、 ジゴリュ ンクス ·モエレーリ、 ミクロテトラスポラ ■ ロセオビオラセァ、 ストレプトマイ セス■クロモゲネス■サブスピーシズ' ·ルボラディリス、 ストレプトマイセス■ スピーシズ、 及びストレプトマイセス ·ァゥレウスからなる群から選ばれた微生 物である請求の範囲第 1 ~ 2 6項のいずれか 1項に記載の製造法。
2 8 . ァセタール形成工程において、 酸触媒として酸とァミンからなるアミン 塩を用いる請求の範囲第 1〜 2 7項のいずれか 1項に記載の製造法。
2 9 . アミン塩を系中で調製して用いることを特徴とする請求の範囲第 2 8項 に記載の製造法。
3 0 . 酸が塩化水素、 臭化水素、 硫酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼンスルホン 酸、 p—トルエンスルホン酸又はトリフルォロ酢酸である請求の範囲第 2 8又は
2 9項に記載の製造法。
3 1 . ァミンが第 3級ァミンである請求の範囲第 2 8〜 3 0項のいずれか 1項 に記載の製造法。
3 2 . 第 3級アミンがトリェチルァミン、 N—メチルモルホリン、 ジイソプロ ピルェチルァミン、 ピリジン、 2—メチノレピリジン、 3—メチルピリジン又はィ ミダゾールである請求の範囲第 31項に記載の製造法。
33. アミンを、 酸に対して過剰量用いる請求の範囲第 28〜32項のいずれ か 1項に記載の製造法。
34. ァセタール形成反応剤が、 2, 2—ジメトキシプロパンである請求の範 囲第 1〜 33項のいずれか 1項に記載の製造法。
35. 不純物が混入している下記式 （V I I ) ；
Figure imgf000085_0001
(式中、 R R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表される化合物から、 脂肪族 炭化水素系溶剤を用いて、 上記式 (VI I) で表される化合物に混入している不 純物を除去し、 上記式 （V I I) で表される化合物を結晶として取得することを 特徴とする請求の範囲第 1〜 34項のいずれか 1項に記載の製造法。
36. 上記式 (V I I) で表される化合物に混入している不純物が、 下記式 ( X I I I) ；
Figure imgf000085_0002
(式中、 R2、 R3、 R4は上記に同じ。 R1Qは低級アルキル基を表し、 R1とは 異なる。 ） で表される化合物、 下記式 （X I V) ；
Figure imgf000086_0001
(式中、 R R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表されるジァステレオマ、 下記式 (XV) ；
Figure imgf000086_0002
(式中、 R4は上記に同じ。 ） で表される化合物、 下記式 (V I)
Figure imgf000086_0003
(式中、 R R4は上記に同じ。 ） で表される化合物からなる群より選択され た少なくとも 1つの化合物である請求の範囲第 35項に記載の製造法。
37. 化合物 （X I I I) において R 10がメチル基である請求の範囲第 36 項に記載の製造法。
3 8 . 脂肪族炭化水素系溶剤が、 ペンタン、 へキサン、 メチルシクロへキサン、 ヘプタン、 オクタン又はィソオクタンである請求の範囲第 3 5〜3 7項のいずれ か 1項に記載の製造法。
3 9 . 結晶化は、 補助的な溶剤をさらに用いて行われ、 前記溶剤は上記式 （V I I ) で表される化合物の溶解度、 収量、 処理濃度、 精製効果、 及び得られる結' 晶の物性のうち、 少なくとも 1つを改善するためのものである請求の範囲第 3 5 〜 3 8項のいずれか 1項に記載の製造法。
4 0 . 補助的な溶剤は、 結晶化のための操作が終了した時点で、 前記補助的な 溶剤と脂肪族炭化水素系溶剤との重量比 （前記捕助的な溶剤/脂肪族炭化水素系 溶剤） 1 1以下となる量で用いられる請求の範囲第 3 9項に記載の製造法。
4 1 . 補助的な溶剤がトルエン、 酢酸ェチル、 メチル t e r t _プチルエーテ ル及び塩化メチレンからなる群より選択された少なくとも 1種である請求の範囲 第 3 9又は 4 0項に記載の製造法。
4 2 . R 1が t e r t—ブチル基である請求の範囲第 1〜 4 1項のいずれか 1 項に記載の製造法。
4 3 . R 2と R 3がいずれもメチル基である請求の範囲第 1〜4 2項のいずれ カ 1項に記載の製造法。
4 4 . R 4がフエニル基である請求の範囲第 1〜4 3項のいずれか 1項に記載 の製造法。
4 5 . 不純物が混入している下記式 （V) ；
Figure imgf000088_0001
(式中、 R 1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリー ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R 4は、 水素、 炭素 数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリール基又は炭素数 7〜1 2のァ ラルキル基のいずれかを表す。 ） で表される化合物から、 脂肪族炭化水素系溶剤 を用いて、 上記式 （V) で表される化合物に混入している不純物を除去し、 上記 式 （V) で表される化合物を結晶として取得することを特徴とする単離精製法。
4 6 . 上記式 (V) で表される化合物に混入している不純物が、 下記式 (X I I ) ：
Figure imgf000088_0002
(式中、 R R 4は上記に同じ。 ） で表される化合物である請求の範囲第 4 5 項に記載の単離精製法。
4 7 . 脂肪族炭化水素系溶剤が、 ペンタン、 へキサン、 メチルシク口へキサン、 ヘプタン、 オクタン又はイソオクタンである請求の範囲第 4 5又は 4 6項に記載 の単離精製法。
4 8 . 結晶化は、 補助的な溶剤をさらに用いて行われ、 前記溶剤は上記式 （V ) で表される化合物の溶解度、 収量、 処理濃度、 精製効果、 及び得られる結晶の 物性のうち、 少なくとも 1つを改善するためのものである請求の範囲第 45〜4 7項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
49. 補助的な溶剤は、 結晶化のための操作が終了した時点で、 前記補助的な 溶剤と脂肪族炭化水素系溶剤との重量比 （前記補助的な溶剤/脂肪族炭化水素系 溶剤） 1 1以下となる量で用いられる請求の範囲第 48項に記載の単離精製法。
50. 補助的な溶剤がトルエン、 酢酸ェチル、 メチル t e r t—プチルエーテ ル及び塩化メチレンからなる群より選択された少なくとも 1種である請求の範囲 第 48又は 49項に記載の単離精製法。
51. 下記式 (I V) ；
Figure imgf000089_0001
(IV)
(式中、 R1は上記に同じ） で表される化合物を塩基存在下、 ァシル化剤で処理 することにより製造された上記式 （V) で表される化合物を用いることを特徴と する請求の範囲第 45〜 50項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
52. ァシル化剤として、 下記式 (X I) ；
0
(ΧΪ)
または、 下記式 （XV I ) ；
Figure imgf000090_0001
(XVI)
(式中、 R4は、 水素、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリー ル基又は炭素数 7〜12のァラルキル基のいずれかを表す。 Qは、 脱離基を表す。 ) で表される化合物のいずれかを使用する請求の範囲第 51項に記載の単離精製 法。
53. ァシル化剤 （X I) において Qがハロゲン原子である請求の範囲第 52 項に記載の単離精製法。
54. ハロゲン原子が塩素原子である請求の範囲第 53項に記載の単離精製法。
55. 塩基として、 アミンを用いる請求の範囲第 51〜54項のいずれか 1項 に記載の単離精製法。
56. ァシル化工程に用いるァミンとして、 トリェチルァミン又はピリジンを 用いる請求の範囲第 55項に記載の単離精製法。
57. 下記式 （I I) ；
X1CH2C02R1
(Π)
(式中、 R1は上記に同じ。 X1は、 水素またはハロゲン原子を表す。 ） で表さ れる酢酸エステル誘導体に対し、 塩基または 0価の金属のいずれかを作用させて 調製されるエノラートを、 下記式 （I I I) ；
Figure imgf000091_0001
(m)
で表される （S) — ーヒドロキシ一 γ—ブチロラタトンに、 一30°C以上の温 度で反応させることにより製造された上記式 （I V) で表される化合物を用いる ことを特徴とする請求の範囲第 51〜 56項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
58. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1が水素原子であり、 エノラー ト調製に塩基として下式 （V I I I) ；
Figure imgf000091_0002
(νπΐ)
(式中、 R5、 R6は、 それぞれ独立して、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素 数 6~12のァリール基、 炭素数 7〜12のァラルキル基、 または、 シリル基の いずれかを表す。 X 2はハ口ゲン原子を表す。 ) で表されるマグネシゥムアミ ド を使用する請求の範囲第 57項に記載の単離精製法。
59. マグネシウムァミ ド (V I I I) において、 R5と R6がイソプロピル 基であり、 X2が塩素原子である請求の範囲第 58項に記載の単離精製法。
60. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1がハロゲン原子であり、 エノ ラート調製に 0価の金属としてマグネシウムまたは亜鉛のいずれかを使用する請 求の範囲第 57項に記載の単離精製法。
61. エノラートと （S) — ]3—ヒドロキシー γ—プチ口ラタトン （I I I) との反応を、 ポリエーテル類の存在下に行う請求の範囲第 57〜60項のいずれ か 1項に記載の単離精製法。
62. ポリエーテル類として、 ジメトキシェタンを使用する請求の範囲第 6 1 項に記載の単離精製法。
63. (S) — ]3—ヒドロキシー ブチロラクトン （I I I) を下記式 （I X) ；
R7— g— X3
(IX)
(式中、 R7は、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリール基又 は炭素数 7〜 1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 X3は、 ハロゲン原子を表 す。 ） で表されるグリニャール試薬で予め処理し、 酢酸エステル誘導体 （I I) に塩基又は 0価の金属のいずれかを作用させて調製されるエノラートと、 一30 °C以上の温度で反応させることにより製造された上記式 （I V) で表される化合 物を用いることを特徴とする請求の範囲第 51〜56項のいずれか 1項に記載の
64. グリニャール試薬 （I X) において、 R7が t e r t—ブチル基で、 X 3が塩素原子である請求の範囲第 63項に記載の単離精製法。
65. (S) — jS—ヒドロキシー γ—プチ口ラタトン （I I I) を、 塩基とマ グネシゥム化合物で予め処理し、 酢酸エステル誘導体 （I I) に塩基又は 0価の 金属のいずれかを作用させて調製されるエノラートと、 一 30°C以上の温度で反 応させることにより製造された上記式 (I V) で表される化合物を用いることを 特徴とする請求の範囲第 51〜56項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
66. 塩基が、 水素化ナトリウム、 リチウムジィソプロピルァミド又は塩化マ ミドである請求の範囲第 65項に記載の単離精製法。
67. マグネシウム化合物が、 塩化マグネシウム又は臭化マグネシウムである 請求の範囲第 65又は 66項に記載の単離精製法。
68. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1が水素原子であり、 エノラー ト調製に塩基として下記式 （X) ；
U——N、
V
(X)
(式中、 R8、 R9は、 それぞれ独立して、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素 数 6〜12のァリール基、 炭素数 7〜12のァラルキル基、 または、 シリル基の いずれかを表す。 ） で表されるリチウムアミドを使用する請求の範囲第 63〜6 7項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
69. リチウムアミド （X) において、 R8と R 9がイソプロピル基である請 求の範囲第 68項に記載の単離精製法。
70. 酢酸エステル誘導体 （I I) において X1がハロゲン原子であり、 エノ ラート調製に 0価の金属としてマグネシウムまたは亜鉛のいずれかを使用する請 求の範囲第 63〜 67項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
71. R1がt e r t—ブチル基である請求の範囲第 45〜 70項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
72. R4がフエニル基である請求の範囲第 45〜71項のいずれか 1項に記 載の単離精製法。
73. 下記式 (V) ；
Figure imgf000094_0001
(式中、 R 1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリー ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R 4は、 水素、 炭素 数 1〜 1 2のアルキル基、 炭素数 6〜 1 2のァリール基又は炭素数 7〜 1 2のァ ラルキル基のいずれかを表す。 ） で表される化合物を微生物を用いて還元するこ とを特徴とする、 下記式 （V I ) ；
Figure imgf000094_0002
(式中、 R R 4は上記に同じ。 ） で表される化合物の製造法。
7 4 . 微生物として、 ァシュベィ属、 ボトリオァスカス属、 ブレタノマイセス 属、 キャンディダ属、 シテロマイセス属、 クラビスボラ属、 タリプトコッカス属、 デバリオマイセス属、 デッケラ属、 ディボダスカス属、 ガラク トマイセス属、 ゲ オトリカム属、 ハンセ-ァスポラ属、 ハンセヌラ属、 ホルモアスカス属、 ヒポピ キア属、 イツサチェンキア属、 ク/レイべロマイセス属、 コマガタエラ属、 リポマ イセス属、 シェニコウイァ属、 ナカザヮェ属、 ォガタエァ属、 パキソレン属、 ピ キア属、 ロドトルーラ属、 ロドスポリディウム属、 サッカロマイセス属、 サッカ ロマィコデス属、 サッカロマイコプシス属、 サターノスボラ属、 シゾブラストス ポリン属、 シゾサッカロマイセス属、 シュヮニォマイセス属、 スポリディオボラ ス属、 スポロポロマイセス属、 トノレラスポラ属、 トルロプシス属、 トリコスポロ ン属、 トリゴノプシス属、 ウイロプシス属、 ヤマダジーマ属、 チゴサッカロマイ セス属、 ァシディフィリウム属、 ァエロパクター属、 アルカリゲネス属、 アース ロバクター属、 ァゥレオバクテリウム属、 パチラス属、 ブレビバクテリウム属、 ブッティォゥキシラ属、 セデシァ属、 セル口モナス属、 シトロパクター属、 クロ ストリディウム属、 コマモナス属、 コリネバクテリウム属、 ェンテロバクター属、 エアウイ二ァ属、 ェシエリチア属、 フラボバクテリウム属、 クレブシエラ属、 ル テオコッカス属、 ミクロバクテリウム属、 ミクロコッカス属、 オタロバクトラム 属、 プロテウス属、 プロビデンシァ属、 シユードモナス属、 ロドコッカス属、 サ ルシナ属、 セラチア属、 スフインゴバクテリウム属、 ッカムレラ属、 アブシディ ァ属、 アクレモェゥム属、 ァエゲリ一タ属、 ァグロサイべ属、 アミロステレゥム 属、 ァスペルギルス属、 プリッソシラミス属、 チヤエトミディゥム属、 チヤエト サノレトーリャ属、 クラドスポリゥム属、 コプリヌス属、 クリニペリス属、 エンド ファラダミア属、 フラボラス属、 フォミ トプシス属、 フサリウム属、 ガノダーマ 属、 グロメレーラ属、 ラエティポラス属、 レンティヌス属、 レンジティス属、 マ クロフォーマ属、 モナスカス属、 モルティエレーラ属、 パェシロマイセス属、 ぺ ニシリウム属、 フィァ口フォーラ属、 フオリオタ属、 プレゥロトス属、 スコブラ リオプシス属、 セフィゾフィラム属、 スポロトリカム属、 ジゴリユンティス属、 ミクロテトラスボラ属、 及びストレプトマイセス属に属する微生物から選ばれた 微生物の培養液、 菌体または菌体処理物を使用することを特徴とする請求の範囲 第 7 3項に記載の製造法。
7 5 . 微生物として、 ァシュべィ ·ゴシッピ、 ボトリオァスカス■シナエデン ドノレス、 ブレタノマイセス ·クスターシアヌス、 キャンディダ ·ァノレボレア、 キ ヤンディダ ·カテヌラータ、 キャンディダ 'フエ-一力、 キャンディダ 'ガラク タ、 キャンディダ■ノ、ェムロニ、 キャンディダ■マグノリェ、 キャンディダ ·ム サェ、 キャンディダ■ニトラトフイラ、 キャンディダ ·パラプシロシス、 キャン デイダ ·パラルゴーサ、 キャンディダ.ステラータ、 シテロマイセス ·マトリテ ンシス、 クラビスポラ ■ルシタニェ、 タリプトコッカス .ラウレンティ、 デバリ ォマイセス ·カーソニイ、 デバリオマイセス ·ハンセニイ ·バー 'ファブリィ、 デバリォマイセス ·ハンセニイ ·バー .ノヽンセニイ、 デバリォマイセス ·クロェ ッケリ、 デバリオマイセス 'マラマ、 デバリオマイセス 'シユードポリモープス、 デバリオマイセス · ロバートシー、 デバリオマイセス · スピーシズ、 デッケラ ■ ァノマーラ、 ディボダスカス 'ァーミラリー、 ディボダスカス■ォベテンシス、 ディボダスカス ■テトラス一マ、 ガラクトマイセス . レシ一、 ゲォトリカム 'キ ヤンディダム、 ゲォトリカム 'フェルメンタンス、 ゲォトリカム 'フラグランス、 ゲォトリカム ' ロウビエリ、 ハンセニァスポラ ■ギノレモンディ、 ハンセヌラ ·メ タノローサ、 ハンセヌラ ■ポリモーファ、 ホノレモアスカス ■フィレントムス、 ホ ルモアスカス 'プラティポデイス、 ヒポピキア 'バートニイ、 イツサチェンキア •オリエンタリス、 イツサチェンキア .テリコーラ、 クルイべロマイセス .ラク テイス、 クゾレイべロマイセス ' マノレキアヌス、 タノレイべロマイセス ' ポリスポラ ス、 タノレイべロマイセス ·サーモトレランス、 コマガタエラ .パストリス、 リポ マイセス 'スターケリ、 シェニコウイァ ' ビクスビダータ、 シェェコウイァ 'プ ノレセリーマ、 ナカザヮェ ·ホノレスティ、 ォガタエア · ミヌータ ·バー · ミヌータ、 ォガタエア ' ピニ、 ォガタエア .ポリモーファ、 ォガタエア ' ウィッカーミ、 ノ キソレン■タンノフィラス、 ピキア ·カナデンシス、 ピキア ·ファリノーサ、 ピ キア 'ジヤンディニー、 ピキア 'サイトイ、 ピキア - トレタナ、 ピキア ' トリア ングラリス、 ピキア · ウィッカーミ、 ロドトルーラ .グラミニス、 ロドトルーラ ' ミヌータ、 ロドスポリディウム 'ディオボバタム、 ロドスポリディウム ' トル ロイデス、 サッカロマイセス ■バヤヌス、 サッカロマイセス · ノヽ0ストリアヌス、 サッカロマイセス■ 口セィ、 サッカロマイセス■サケ、 サッカロマイセス■ステ ィネリ、 サッカロマイセス · ゥ -スポラス、 サッカロマイコデス 'ノレドウィギ一、 サッカロマイコプシス ·カプスラリス、 サッカロマイコプシス ·マランガ、 サタ 一ノスポラ ·デイスポーラ、 シゾブラストスポリン · コパヤシ、 シゾサッカロマ イセス■ボンべ、 シュヮニォマイセス ·オシデンタイス ·バー ·オシデンタリス、 スポリディオボラス 'ジョンソニー、 スポロボロマイセス ■ハ°ラロセウス、 スポ 口ポロマイセス 'サルモニカラー、 トルラスポラ 'デルブルエツキ一、 トルロプ シス ·メタノーレべッセンス、 トノレロプシス · 才スべエス、 トノレロプシス · スピ 一シス'、 トノレロプシス ' ゥベア、 トリコスポロン 'プノレランス、 トリコスポロン 'スピーシズ、 トリゴノプシス 'バリアビリス、 ウイロプシス ·サターヌス 'バ 一 ■マラキ一、 ウイロプシス ·サターヌス ' バー ·サターヌス、 ヤマダジーマ · ファリノーサ、 ヤマダジーマ .ハプロフイラ、 チゴサッカロマイセス■ナニゥェ ンシス、 チゴサッカロマイセス 'スピーシズ、 ァシディフィリウム ·クリプタム、 ァエロパクター■ クラカェ、 アル力リゲネス .キシロソキシダンス、 アルカリゲ ネス ·キシロソキシダンス ·サブスピーシズ ·デニトリフイカンス、 アースロバ クタ一■グロビフォーミス、 アースロバクタ一'プロトフォーミエ、 ァゥレオバ クテリゥム -エステラロマティカム、 バチラス■バディウス、 バチラス ' スファ エリカス、 ブレビバタテリゥム 'ァニモニァゲネス、 ブッティォゥキシラ ■ァグ レステイス、 セデシァ ·ダビシェ、 セノレロモナス ·スピーシズ、 セルロモナス · ターバタ、 シトロパクター ·フレゥンディ、 クロストリディゥム■シリンドロス ポラム、 コマモナス 'テストステロニイ、 コリネバクテリウム■ァセトァシドフ イリゥム、 コリネバクテリウム■アンモニアゲネス、 コリネバタテリゥム 'グル タミカム、 コリネバタテリゥム .ダルタミカス、 ェンテロパクター ·エアロゲネ ス、 ェンテロノ クタ一■クローカェ、 エアウイニァ .カロトボーラ ·サブスピー シズ'カロトポーラ、 ェシエリチア■コリ、 フラポバタテリゥム■フラヴェセゥ ス、 クレブシエラ ·プランティコーラ、 ノレテオコッカス■ジャポ二タス、 ミクロ バタテリゥム . ァノレポレツセンス、 ミクロコッカス 'フラブス、 ミクロコッカス •ノレテウス、 オタロバクトラム 'スピーシズ、 プロテウス ·ィンコンスタンス、 プロテウス■ ミラビリス、 プロテウス · レトゲリ、 プロテウス ·プルガリス、 プ 口ビデンシァ 'ストゥァリティ、 シュ一ドモナス■ァエルギノーサ、 シユードモ ナス ·プテイダ、 シユードモナス ·ストウトゼリ、 ロドコッカス■ェクイ、 サノレ シナ ·ルテア、 セラチア ·プリムテイカム、 セラチア ·プロテアマクランス ·サ ブスピーシス'■プロテアマクランス、 スフインゴバタテリゥム ·スピリティボラ ム、 ッカムレラ ·パゥロメタポラム、 アブシディア 'オルチデイス、 アクレモニ ゥム■バシリスポラム、 ァエゲリータ ·キャンディダ、 ァグロサイべ.シリンド ラセァ、 アミロステレゥム ·ァレオラータム、 ァスペルギルス ·パラシティカス、 ァスペルギルス ■フォエニシス、 ブリッソシラミス ·フルバ、 チヤエトミディゥ ム ·フィメティ、 チヤエトサルトーリャ .ストロマトイデス、 クラドスポリゥム , レシナェ .エフ .アベラネゥム、 コプリヌス 'シネレウス、 コプリヌス .ラゴ プス、 コプリヌス 'スピーシズ、 クリエぺリス 'スティピタリア、 エンドファラ グミア ·ァノレタナータ、 フラボラス ■アルキユラリス、 フォミ トプシス ·プバー タティス、 フサリウム 'メリスモイデス、 ガノダーマ ·ルシダム、 グロメレーラ 'シングラータ、 ラエティポラス ' スノレフレウス、 レンティヌス， レビデウス、 レンジテイス 'ベッリーナ、 マクロフォーマ ' コメイナェ、 モナスカス 'パープ レウス、 モルティエレーラ ·ィサべリーナ、 ノヽ。ェシロマイセス■ ヴァリオティ、 ぺニシリゥム ·チェルメシナム、 ぺニシリゥム 'クリソゲナム、 ぺニシリゥム■ ェクシパンサム、 ベニシリゥム■ リラシェゥム、 フィァロフオーラ ·フアスティ ギアタ、 フオリオタ ·ァゥリヴエラ、 フオリオタ · リモネーラ、 プレゥ口トス ' ドライヌス、 プレゥ口トス 'ォストレアトス、 プレゥ口トス .ポリゲンス、 スコ プラリオプシス ·ブレビカウリス、 セフィゾフィラム■ コミューネ、 スポロトリ カム■ァウランティアカム、 ジゴリユンクス ■モエレーリ、 ミクロテトラスポラ ■ ロセオビオラセァ、 ストレプトマイセス ·クロモゲネス■サプスピーシズ ·ル ボラディリス、 ストレプトマイセス ■スピーシズ、 及びストレプトマイセス ·ァ ウレウスからなる群から選ばれた微生物である請求の範囲第 7 3又は 7 4項に記 載の製造法。
7 6 . R 1が t e r t _プチル基である請求の範囲第 7 3〜 7 5項のいずれか 1項に記載の製造法。
7 7 . R 4がフエニル基である請求の範囲第 7 3〜7 6項のいずれか 1項に記 載に製造法。
7 8 . 下記式 （V I ) ；
Figure imgf000098_0001
(式中、 R 1は、 水素、 炭素数 1〜1 2のアルキル基、 炭素数 6〜1 2のァリー ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R 4は、 水素、 炭素 数 1〜 1 2のアルキル基、 炭素数 6〜 1 2のァリール基又は炭素数 7〜 1 2のァ ラルキル基のいずれかを表す。 ） で表される化合物を酸とアミンからなるァミン 塩を触媒に用いて、 ァセタール形成反応剤で処理することを特徴とする、 下記式 (V I I ) ；
Figure imgf000099_0001
(式中、 R R 4は上記に同じ。 R 2、 R 3は、 それぞれ独立して、 水素、 炭素 数 1〜 1 2のアルキル基、 炭素数 6〜 1 2のァリール基又は炭素数 7〜 1 2のァ ラルキル基のいずれかを表す。 R 2、 R 3は、 互いに結合して環を形成していて もよい。 ） で表される化合物の製造法。
7 9 . アミン塩を系中で調製して用いることを特徴とする請求の範囲第 7 8項 に記載の製造法。
8 0 . 酸が塩化水素、 臭化水素、 硫酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼンスルホン 酸、 p—トルエンスルホン酸又はトリフルォロ酢酸である請求の範囲第 7 8又は
7 9項に記載の製造法。
8 1 . ァミンが第 3級ァミンである請求の範囲第 7 8〜8 0項のいずれか 1項 に記載の製造法。
8 2 . 第 3級ァミンがトリェチルァミン、 N—メチルモルホリン、 ジイソプロ ピルェチルァミン、 ピリジン、 2—メチルピリジン、 3—メチルピリジン又はィ ミダゾールである請求の範囲第 8 1項に記載の製造法。
83. アミンを、 酸に対して過剰量用いる請求の範囲第 78〜82項のいずれ か 1項に記載の製造法。
84. ァセタール形成反応剤が、 2， 2—ジメトキシプロパンである請求の範 囲第 78〜 83項のいずれか 1項に記載の製造法。
85. R1が t e r t—ブチノレ基である請求の範囲第 78〜 84項のいずれか 1項に記載の製造法。
86. R 4がフエニル基である請求の範囲第 78〜85項のいずれか 1項に記 載に製造法。
87. R2と R3がいずれもメチル基である請求の範囲第 78〜86項のいず れか 1項に記載の製造法。
88. 下記式 （V I) ；
Figure imgf000100_0001
(式中、 R1は、 水素、 炭素数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜 12のァリ一 ル基又は炭素数 7〜1 2のァラルキル基のいずれかを表す。 R4は、 水素、 炭素 数 1 ~ 12のアルキル基、 炭素数 6〜 12のァリール基又は炭素数 7〜 12のァ ラルキル基のいずれかを表す。 ) で表される化合物を酸触媒存在下、 ァセタール 形成反応剤で処理することにより、 下記式 （V I I) ；
Figure imgf000101_0001
(式中、 R R 4は上記に同じ。 R2、 R3は、 それぞれ独立して、 水素、 炭素 数 1〜12のアルキル基、 炭素数 6〜12のァリール基又は炭素数 7〜 12のァ ラルキル基のいずれかを表す。 R2、 R3は、 互いに結合して環を形成していて もよい。 ) で表される化合物に変換し、 更に不純物が混入している上記式 （V I I) で表される化合物から、 脂肪族炭化水素系溶剤を用いて、 上記式 （V I I) で表される化合物に混入している不純物を除去し、 上記式 (V I I) で表される 化合物を結晶として取得することを特徴とする単離精製法。
89. 上記式 (V I I) で表される化合物に混入している不純物が、 下記式 ( X I I I) ；
Figure imgf000101_0002
(式中、 R2、 R3、 R 4は上記に同じ。 R1C)は低級アルキル基を表し、 R1とは 異なる。 ） で表される化合物、 下記式 (X IV) ；
Figure imgf000101_0003
(式中、 R R2、 R3、 R4は上記に同じ。 ） で表されるジァステレオマー、 下記式 （XV) ；
Figure imgf000102_0001
(式中、 R4は上記に同じ。 ） で表される化合物、 下記式 （V I)
Figure imgf000102_0002
(式中、 R R4は上記に同じ。 ） で表される化合物からなる群より選択され た少なくとも 1つの化合物である請求の範囲第 88項に記載の単離精製法。
90. 脂肪族炭化水素系溶剤が、 ペンタン、 へキサン、 メチルシクロへキサン、 ヘプタン、 オクタン又はイソオクタンである請求の範囲第 88又は 89項に記載 の単離精製法。
91. 結晶化は、 補助的な溶剤をさらに用いて行われ、 前記溶剤は上記式 (V I I) で表される化合物の溶解度、 収量、 処理濃度、 精製効果、 及び得られる結 晶の物性のうち、 少なくとも 1つを改善するためのものである請求の範囲第 88 〜 90項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
92. 補助的な溶剤は、 結晶化のための操作が終了した時点で、 前記補助的な 溶剤と脂肪族炭化水素系溶剤との重量比 （前記補助的な溶剤/脂肪族炭化水素系 溶剤） 1 1以下となる量で用いられる請求の範囲第 91項に記載の単離精製法。
9 3 . 補助的な溶剤がトルエン、 酢酸ェチル、 メチル t e r t—プチルエーテ ル及び塩化メチレンからなる群より選択された少なくとも 1種である請求の範囲 第 9 1又は 9 2項に記載の単離精製法。
9 4 . 酸触媒として、 酸とァミンからなるアミン塩を用いる請求の範囲第 8 8 〜 9 3項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
9 5 . アミン塩を系中で調整して用いることを特徴とする請求の範囲第 9 4項 に記載の単離精製法。
9 6 . 酸が塩化水素、 臭化水素、 硫酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼンスルホン 酸、 p—トルエンスルホン酸又はトリフルォロ酢酸である請求の範囲第 9 4又は 9 5項に記載の単離精製法。
9 7 . ァミンが第 3級ァミンである請求の範囲第 9 4〜9 6項のいずれか 1項 に記載の単離精製法。
9 8 . 第 3級ァミンがトリェチルァミン、 N—メチルモルホリン、 ジイソプロ ピルェチルァミン、 ピリジン、 2—メチルピリジン、 3—メチルピリジン又はィ ミダゾールである請求の範囲第 9 7項に記載の単離精製法。
9 9 . アミンを、 酸に対して過剰量用いる請求の範囲第 9 4〜 9 8項のいずれ か 1項に記載の単離精製法。
1 0 0 . ァセターノレ形成反応剤が、 2 , 2—ジメトキシプロパンである請求の 範囲第 8 8〜 9 9項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
1 0 1 . R 1が t e r t —プチル基であり、 R 1 °がメチル基である請求の範囲 第 88〜 100項のいずれか 1項に記載の単離精製法。
102. R 4がフエ-ル基である請求の範囲第 88〜101項のいずれか 1項 に記載に単離精製法。
103. R2と R3がいずれもメチル基である請求の範囲第 88〜 1 02項の いずれか 1項に記載の単離精製法。
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