KR20020068496A - 광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일]아세트산유도체의 제조 방법 - Google Patents

광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일]아세트산유도체의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

아세트산 에스테르 유도체를 염기 또는 0 가 금속과 반응시켜 제조된 에놀레이트를 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤과 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시킴으로써 디히드록시옥소헥산산 유도체를 수득하고, 상기 유도체를 염기의 존재 하에서 아실화제로 처리하여 디히드록시옥소헥산산의 모노아실화된 유도체를 수득하고, 모노아실화된 유도체를 미생물을 사용하여 트리히드록시헥산산의 모노아실화된 유도체로 환원시키고, 생성 유도체를 산 촉매의 존재 하에서 아세탈 형성 반응물로 처리함으로써 아실옥시메틸디옥사닐아세트산 유도체를 수득하고, 상기 유도체를 염기의 존재 하에서 가용매분해시키는 것을 포함하는 제조 방법.

Description

광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일]아세트산 유도체의 제조 방법{PROCESS FOR PREPARING OPTICALLY ACTIVE 2-[6-(HYDROXY-METHYL)-1,3-DIOXAN-4-YL]ACETIC ACID DERIVATIVES}
종래의 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일] 아세트산 유도체의 제조 기술은 하기 방법들을 포함한다.
(1) 3-히드록시-γ-부티로락톤을 출발물질로 하여, 3,5-디히드록시헥산산 에스테르 유도체를 경유하여 3,5,6-트리히드록시헥산산 에스테르 유도체를 합성하는 방법 (JP-A-04-173767).
(2) 3,4-디히드록시부티로니트릴 아세토니드를 출발물질로 하여, 3,5-디히드록시헥산산 에스테르 유도체를 경유하여 3,5,6-트리히드록시헥산산 에스테르 유도체를 합성하는 방법 (JP-A-02-262537).
(3) 4-클로로아세토아세트산 에스테르를 출발물질로 하여, 벤질옥시화, 환원, 증탄(增炭) 등의 공정을 거쳐, 3,5,6-트리히드록시헥산산 에스테르 유도체를합성하는 방법 (JP-A-06-65226).
(4) 4-클로로-3-히드록시부티르산 에스테르를 출발물질로 하여, 증탄, 환원 등의 공정을 거쳐, 3,5,6-트리히드록시헥산산 에스테르 유도체를 합성하는 방법 (USP 5278313).
(5) 말산을 출발물질로 하여, 2,4-디히드록시아디프산 유도체를 경유하여, 3,5,6-트리히드록시헥산산 에스테르 유도체를 합성하는 방법 (JP-A-04-69355).
하지만, 상기 방법은, 상기 제조 공정의 일부에서 약 -80 ℃ 초저온반응 (1, 2, 4 및 5), 또는 100 kg/cm2정도의 고압이 요구되는 고압 수소화반응 (3) 을 포함하므로, 특별한 반응 설비를 필요로 한다. 또한, 일부 공정에서 고가의 원료가 사용되므로, 상기 방법들은 공업적 생산을 행하는데 있어, 충분히 효율적인 방법이 아니다.
본 발명은 의약품 중간체, 특히는 HMG-CoA 환원효소 저해제 중간체로서 유용한 광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일]아세트산 유도체의 제조 방법에 관한 것이다.
[발명의 개요]
상기를 감안하여, 본 발명의 목적은 의약품 중간체로서 유용한 하기 화학식 Ⅰ 로 표현되는 광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일] 아세트산 유도체를, 초저온반응 반응기와 같은 임의의 특별한 설비를 사용하지 않고, 저가의 원료로부터 고효율로 간편하게 제조할 수 있는 제조 기술을 제공하는 것이다:
[식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있다].
본 발명자들은 이러한 상황을 감안하여, 예의 검토를 수행한 결과, 초저온 반응기와 같은 특별한 설비를 사용하지 않고, 저가의 입수 용이한 원료로부터 하기 화학식 Ⅰ 의 광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일] 아세트산 유도체의 간편한 제조 기술을 개발하였다;
[화학식 Ⅰ]
[식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있다].
따라서, 본 발명은 하기 (1) ~ (5) 의 공정을 포함하는, 하기 화학식 Ⅰ 로 표현되는 광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일] 아세트산 유도체의 제조 방법에 관한 것이다:
[화학식 Ⅰ]
[식 중, R1, R2및 R3는 상기에 정의된 바와 같음]
(1) 하기 화학식 Ⅱ 로 표현되는 아세트산 에스테르 유도체에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트를, 하기 화학식 Ⅲ 으로 표현되는 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤과 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
[식 중, R1은 상기 정의된 바와 같고; X1은 수소 또는 할로겐 원자를 표시함]
[식 중, R1은 상기 정의된 바와 같음];
(2) 상기 화합물을 염기의 존재 하에서 아실화제로 처리하여, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
[식 중, R1은 상기 정의된 바와 같고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시함];
(3) 상기 화합물을 미생물로 환원시켜 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
[식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음];
(4) 상기 화합물을 산 촉매의 존재 하에서, 아세탈 형성 시약으로 처리하여 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
[식 중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같음]; 및
(5) 상기 화합물을 염기의 존재 하에서 가용매분해시키는 공정.
또한, 본 발명은 불순물이 혼입된 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을, 지방족 탄화수소 용매로 처리하여, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물을 제거하고, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 결정 형태로서 수득하는 것을 포함하는 단리/정제 방법에 관한 것이다:
[화학식 Ⅴ]
[식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시함].
추가로, 본 발명은 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 미생물을 사용하여 환원시키는 것을 포함하는, 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물의 제조 방법에 관한 것이다:
[화학식 Ⅵ]
[식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음]
[화학식 Ⅴ]
[식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
또한, 본 발명은 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물을, 산과 아민으로 구성된 아민염을 촉매로서 사용하여 아세탈 형성 시약으로 처리하는 것을 포함하는, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물의 제조 방법에 관한 것이다:
[화학식 Ⅵ]
[식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음]
[화학식 Ⅶ]
[식 중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
더구나, 본 발명은 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물을 산 촉매의 존재 하에서 아세탈 형성 시약으로 처리함으로써, 이를 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물로 전환시키고, 불순물이 혼입된 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 지방족 탄화수소 용매로 처리하여, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물을 제거하고, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 결정 형태로서 수득하는 것을 포함하는 단리/정제 방법에 관한 것이다:
[화학식 Ⅵ]
[식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음]
[화학식 Ⅶ]
[식 중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
[발명의 개시]
이하에는, 본 발명이 상세히 기술된다.
이하 반응식에서 보여지는 바와 같이, 본 발명은 (1) ~ (5) 의 5 개의 비(非)초저온 반응 공정을 포함한다.
이하에는 본 발명을 본 공정별 순서로 기술한다.
공정 (1)
(1) 본 공정에서, 하기 화학식 Ⅱ 로 표현되는 아세트산 에스테르 유도체에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조한 에놀레이트를, 하기 화학식 Ⅲ 으로 표현되는 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤과 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 (5S) 체의 입체배치를 갖는 디히드록시옥소헥산산 유도체를 제조한다:
[화학식 Ⅱ]
[화학식 Ⅲ]
[화학식 Ⅳ]
.
일반적으로 아세트산 에스테르 등의 에놀레이트가 관여하는 반응을, 비-초저온 반응, 예를 들어 -30 ℃ 이상으로 수행하는 경우, 에놀레이트의 자기축합이 주로 진행되어 목적 반응의 전환율이 현저히 저하된다. 하지만, 본 발명자들에 의해 개발된 하기 기술에 따라, 아세트산 에놀레이트의 자기축합을 최소화할 수 있고, 목적 반응을 양호한 수율로 실행할 수 있다는 것이 밝혀졌다.
공정 (1) 에서 사용되는 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤은 공지의 기술 (예를 들어, [SYNTHETIC COMMUNICATION, 1986, 16, 183.]) 으로 대량 생산이 가능하다.
공정 (1) 에서 사용되는 아세트산 에스테르 유도체에 있어서, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고, 더욱 구체적으로는 수소, 메틸기, 에틸기, i-프로필기, tert-부틸기, n-옥틸기, 페닐기, 나프틸기, p-메톡시페닐기, p-니트로벤질기 등을 포함한다. tert-부틸기가 바람직하다. X1은 수소 또는 할로겐 원자를 표시하고, 더욱 구체적으로는 수소, 염소, 브롬, 및 요오드, 바람직하게는 수소 및 브롬을 포함한다.
아세트산 에스테르 유도체의 사용량은, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해 1 몰 당량 내지 10 몰 당량, 바람직하게는 1 몰 당량 내지 5 몰 당량이다.
공정 (1) 에서, 염기 또는 0 가 금속을 아세트산 에스테르 유도체에 작용시켜 에놀레이트를 제조한다. 대체로, 아세트산 에스테르의 X1이 수소인 경우, 에놀레이트의 제조시 염기가 사용되고; X1이 할로겐 원자인 경우, 에놀레이트 제조시 0 가 금속이 사용된다.
에놀레이트의 제조시 사용되는 염기는, 예를 들어, 리튬 아미드, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 디시클로헥실아미드, 리튬 헥사메틸디실아지드 등의 리튬 아미드류; 클로로마그네슘 디이소프로필아미드, 브로모마그네슘 디이소프로필아미드, 요오도마그네슘 디이소프로필아미드, 클로로마그네슘 디시클로헥실아미드 등의 마그네슘 아미드류; 소듐 아미드, 소듐 디이소프로필아미드 등의 소듐 아미드류; 포타슘 아미드, 포타슘 디이소프로필아미드 등의 포타슘 아미드류; 메틸리튬, n-부틸리튬, 페닐리튬, tert-부틸리튬 등의 알킬리튬; 메틸마그네슘 브로마이드, 페닐마그네슘 클로라이드, 이소-프로필마그네슘 클로라이드, tert-부틸마그네슘 클로라이드 등의 그리냐르 (Grignard) 시약류; 소듐 메톡시드, 마그네슘 에톡시드, 포타슘 tert-부톡시드 등의 금속 알콕시드; 및 수소화 리튬, 수소화 나트륨, 수소화 칼륨, 수소화 칼슘 등의 금속 수소화물이다. 금속 수소화물, 마그네슘 아미드류, 리튬 아미드류 및 그리냐르 시약이 바람직하다. 상기 염기는 각각 단독으로 또는 병용하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 리튬 아미드 또는 금속 수소화물은, 마그네슘 함유 염기, 예컨대 그리냐르 시약 또는 마그네슘 아미드와 병용하여 사용되는 경우 효과적이다. 또한, 상기 마그네슘 함유 염기는 염기, 및 마그네슘 클로라이드, 마그네슘 브로마이드 등의 마그네슘 화합물로부터 반응기 내 제조될 수 있다.
마그네슘 아미드는 하기 화학식 Ⅷ 로 표현된다:
상기 식 중, R5및 R6는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기, 또는 실릴기를 표시한다. 구체적으로는 메틸기, 에틸기, i-프로필기, tert-부틸기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 페닐기, 나프틸기, p-메톡시페닐기, p-니트로벤질기, 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, 페닐디메틸실릴기 등이 언급될 수 있다. 이소프로필기가 바람직하다. X2는 할로겐 원자를 표시하고, 바람직하게는 염소, 브롬, 또는 요오드이다. 염소가 더욱 바람직하다.
마그네슘 아미드는 저가의 입수 용이한 2 차 아민과 그리냐르 시약으로부터 공지 기술(예를 들어, JP-A-08-523420)에 의해 제조될 수 있다는 것을 이해한다. 대안적으로, 이는 리튬 아미드와 마그네슘 할라이드로부터 공지 기술(예를 들어, [J. Org. Chem. 1991, 56, 5978-5980])에 의해 제조될 수 있다.
그리냐르 시약을 하기 화학식 Ⅸ 에 의해 표현된다:
상기 식 중, R7은 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시한다. 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, n-옥틸기, 페닐기, 나프틸기, p-메톡시페닐기, p-니트로벤질기 등이 언급될 수 있다. 바람직한 기는 메틸, 에틸, i-프로필, n-부틸, tert-부틸 등을 포함한다. X3는 할로겐 원자를 표시하고, 바람직하게는 염소, 브롬 또는 요오드이다. 염소가 더욱 바람직하다.
리튬 아미드는 하기 화학식 Ⅹ 로 표현된다:
상기 식 중, R8및 R9은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기, 또는 실릴기를 표시한다. 구체적으로는 메틸기, 에틸기, i-프로필기, tert-부틸기, 시클로헥실기, n-옥틸기, 페닐기, 나프틸기, p-메톡시페닐기, p-니트로벤질기, 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, 페닐디메틸실릴기 등이 언급될 수 있다. 이소프로필기가 바람직하다.
공정 (1) 에서의 염기 사용량은, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해 1 내지 20 몰 당량, 바람직하게는 2 내지 8 몰 당량이다.
공정 (1) 에서 에놀레이트의 제조시 사용 가능한 0 가 금속은, 아연, 마그네슘, 주석 등을 포함하지만, 아연 및 마그네슘이 바람직하다. 0 가 금속의 사용량은, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해 1 내지 20 몰 당량, 바람직하게는 2 내지 8 몰 당량이다.
공정 (1) 에서 사용 가능한 용매는, 예를 들어, 비양성자성 유기 용매를 포함한다. 상기 유기 용매로서는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, n-헥산, 시클로헥산 등의 탄화수소 용매; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 메틸 t-부틸 에테르, 디메톡시에탄, 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 등의 에테르계 용매; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 1,1,1-트리클로로에탄 등의 할로겐화된 탄화수소 용매; 및 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸인산 트리아미드 등의 비양성자성 극성 용매 등을 언급할 수 있다. 상기 용매는 각각 독립적으로 또는 2 종 이상 병용하여 사용될 수 있다. 상기 언급된 용매 중에서, 벤젠, 톨루엔, n-헥산, 시클로헥산 등의 탄화수소계 용매; 및 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 메틸 t-부틸 에테르, 디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르 등의 에테르계 용매가 바람직하다. 디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 등의 폴리에테르계 용매가 더욱 바람직하다. 상기 폴리에테르 용매는 각각 단독용매로서 사용될 수 있거나, 다른 반응 용매에 대한 첨가물로서, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해 약 1 몰 당량 내지 약 10 몰 당량으로 첨가될 수 있다.
공정 (1) 에서 사용되는 반응 온도는, 바람직하게는 -30 ℃ 내지 100 ℃, 더욱 바람직하게는 -10 ℃ 내지 60 ℃ 이다.
공정 (1) 에서, 반응물의 혼합 순서는 무작위일 수 있지만, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤을, 바람직하게는 염기로써, 더욱 바람직하게는 염기와 마그네슘 화합물로써 미리 처리한다. 바람직한 염기는 금속 수소화물 및 리튬 아미드류를 포함한다. 바람직한 마그네슘 화합물은 마그네슘 클로라이드, 마그네슘 브로마이드, 마그네슘 술페이트 등을 포함한다. 마그네슘 함유 염기를, 염기 및 마그네슘 화합물로서 2 배로 사용할 수 있다. 마그네슘 함유 염기는, 예를 들어, 메틸마그네슘 브로마이드, 이소프로필마그네슘 클로라이드, 페닐마그네슘 클로라이드, tert-부틸마그네슘 클로라이드 등의 그리냐르 시약, 및 클로로마그네슘 디이소프로필아미드, 브로모마그네슘 디이소프로필아미드, 요오도마그네슘 디이소프로필아미드, 클로로마그네슘 디시클로헥실아미드 등의 마그네슘 아미드류를 포함한다. tert-부틸마그네슘 클로라이드가 바람직하다.
상기 전처리에서, 염기의 사용량은 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해, 0.01 몰 당량 내지 3 몰 당량, 바람직하게는 0.5 몰 당량 내지 1.5 몰 당량이다.
전처리에서, 마그네슘 화합물의 사용량은 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해, 0.01 몰 당량 내지 3 몰 당량, 바람직하게는 0.5 몰 당량 내지 1.5 몰 당량이다.
전처리에서, 마그네슘 함유 염기의 사용량은 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해, 0.01 몰 당량 내지 3 몰 당량, 바람직하게는 0.5 몰 당량 내지 1.5 몰 당량이다.
(S)-β-히드록시-γ-부티로락톤을 염기로 전처리하는 것은, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤과 아세트산 에스테르 유도체의 혼합 용액상에서 수행될 수 있다. 전처리 후, 리튬 아미드, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 디시클로헥실아미드, 리튬 헥사메틸디실아지드 등의 리튬 아미드류, 또는 디이소프로필마그네슘 클로라이드, 디이소프로필마그네슘 브로마이드 등의 마그네슘 아미드류의 염기, 또는 염기의 용액을 적가하면서 반응을 수행할 수도 있다.
전처리의 후에 반응시키는 염기의 양은, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤에 대해, 1 몰 당량 내지 20 몰 당량, 바람직하게는 2 몰 당량 내지 8 몰 당량이다.
따라서, 공정 (1) 은 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤을 염기와 마그네슘 화합물로 미리 전처리시킨 후, 염기를 아세트산 에스테르 유도체의 존재 하에서 반응시킴으로써 유리하게 수행될 수 있다. 대안적으로, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤을 염기로 미리 처리하고, 0 가 금속을 아세트산 에스테르 유도체에 반응시켜 제조된 에놀레이트와 반응시킬 수 있다.
공정 (1) 의 후처리는, 반응 혼합물로부터 생성물을 회수하기 위해 일반적으로 수행되는 후처리일 수 있다. 예를 들어, 반응 종료 후의 반응 혼합물을 통상의 무기 또는 유기 용매, 예컨대, 염산, 황산, 질산, 아세트산 또는 시트르산과 혼합시키고, 이어서, 통상의 추출 용매, 예컨대 에틸 아세테이트, 디에틸 에테르, 메틸렌 클로라이드, 톨루엔, 헥산으로 추출한다. 수득된 추출물로부터, 반응 용매 및 추출 용매를 감압 가열 등의 조작으로 제거하여, 목적 화합물을 수득한다. 상기와 같이 수득된 목적 화합물을 결정화, 분별 증류 또는 칼럼 크로마토그래피 등의 통상적 기술로 더 정제할 수 있지만, 단리 없이 다음 공정에서 사용할 수도 있다.
공정 (2)
본 공정에서는, 공정 (1) 에서 수득된 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 디히드록시옥소헥산산 유도체를, 염기의 존재 하에서 아실화제로 처리하여, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체를 제조한다:
[화학식 Ⅳ]
[화학식 Ⅴ]
.
공정 (2) 에서 사용 가능한 아실화제로서, 하기 화학식 XI 및 하기 화학식 XⅥ 로 표현되는 임의의 화합물이 사용될 수 있다:
.
상기 식 중에서, R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시한다. 구체적으로, 수소, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, n-옥틸기, 페닐기, 나프틸기, p-메톡시페닐기, p-니트로벤질기 등이 언급될 수 있다. 메틸기, 에틸기, i-프로필기, tert-부틸기 및 페닐기가 바람직하고, 특히 페닐기가 바람직하다.
또한, Q 는 이탈기를 표시한다. 구체적으로, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐 원자; 메톡시카르보닐옥시, 에톡시카르보닐옥시, tert-부톡시카르보닐옥시 등의알콕시카르보닐옥시 기; 시아노기; 이미다졸리도기 등이 언급될 수 있다. 염소가 바람직하다.
아실화제의 사용량은, 디히드록시옥소헥산산 유도체에 대해 바람직하게는 0.5 내지 2 몰 당량, 더욱 바람직하게는 0.8 내지 1.5 몰 당량이다.
공정 (2) 에서 사용 가능한 염기는, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소 나트륨, 탄산 수소 칼륨, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 칼슘, 수산화 리튬, 수산화 바륨, 수산화 마그네슘 등의 무기 염기; 암모니아, 및 트리에틸아민, 피리딘, N-메틸모르폴린, 디이소프로필에틸아민, N,N-디메틸아미노피리딘 등의 아민을 포함하고, 트리에틸아민 또는 피리딘이 바람직하다. 염기의 사용량은 디히드록시옥소헥산산 유도체에 대해, 바람직하게는 1 내지 10 몰 당량, 더욱 바람직하게는 1 내지 3 몰 당량이다.
공정 (2) 에서 사용 가능한 반응 용매는, 벤젠, 톨루엔, 시클로헥산 등의 탄화수소 용매; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 메틸 tert-부틸 에테르, 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 에스테르 용매; 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등의 케톤계 용매; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 1,1,1-트리클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소 용매; 디메틸포름아미드, 아세트아미드, 포름아미드, 아세토니트릴 등의 질소 함유 용매; 및 디메틸 술폭시드, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸인산 트리아미드 등의 비양성자성 극성 용매를 포함한다. 상기 유기 용매들은 각각 단독으로 또는 2 종 이상을 병용하여 사용될 수 있다. 톨루엔, 에틸 아세테이트, 아세톤, 메틸렌 클로라이드, 메틸 tert-부틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디메틸포름아미드, 아세토니트릴 등이 바람직하다.
공정 (2) 에서의 반응 온도는 -30 ℃ 내지 80 ℃ 이고, 바람직하게는 -10 ℃ 내지 40 ℃ 이다.
공정 (2) 의 후처리는, 반응 종료 후, 반응 혼합물로부터 생성물을 회수하기 위해 일반적으로 수행되는 후처리일 수 있다. 예를 들어, 반응 종료 후의 반응 혼합물에 물을 첨가하고, 추출 조작을 통상의 추출 용매, 예컨대 에틸 아세테이트, 디에틸 에테르, 메틸렌 클로라이드, 톨루엔, 헥산 등으로 수행한다. 상기 수득된 추출물로부터, 반응 용매 및 추출 용매를 감압 가열 등의 조작으로 제거하여, 목적 화합물을 수득한다.
상기 수득된 목적 화합물은, 제조 과정에서 발생하는 각종 분해 및 부반응에서 유래하는 각종 불순물을 함유하는 경향이 있다. 특히, 하기 화학식 XⅡ 의 디히드록시옥소헥산산 디아실 유도체가 주 불순물로서 부생성되는 경향이 있으므로, 고품질의 목적 화합물을 단리하기 위해서는, 상기 불순물을 제거해야 한다:
[식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같다].
하지만, 일반적으로 목적 화합물과 구조적으로 유사한 불순물 (구조적 유사체) 을 제거하는 것은 용이하지 않으며, 상기 불순물을 제거하여 고순도의 목적 화합물을 수득하기 위해서는, 탁월한 정제 및 단리 방법이 요구된다. 본 발명자들은, 하기 기술된 조건하에서 결정화 조작을 수행함으로써, 상기 불순물을 효율적으로 제거할 수 있다는 것을 발견하였다.
본 발명에서 사용되는 결정화 용매는 바람직하게는 지방족 탄화수소 용매이다. 구체적으로는, 탄소수 5 - 20 의 지방족 탄화수소, 예컨대 펜탄, 석유 에테르, 네오펜탄, 헥산, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 시클로헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸 등이 언급될 수 있다. 상기 중에서, 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 및 이소옥탄이 바람직하다. 상기는 각각 단독으로 또는 2 종 이상 병용하여 사용될 수 있다.
특히, 습결정으로부터의 용매의 건조 제거의 용이성, 또는 용매의 회수 및 재이용 (증류 회수) 등을 고려하여, 비교적 비점이 낮은 용매의 사용이 바람직하다. 상기 용매로서는, 비점이 1 기압 이하에서 약 100 ℃ 이하인 것이 일반적으로 언급될 수 있다. 더욱 특히는, 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄 및 이소옥탄 등의 탄소수 5-8 의 지방족 탄화수소 용매가 언급될 수 있고, 용매의 가격, 취급의 용이성, 및 기타 요인이 종합적으로 고려되는 경우, 헥산 및 메틸시클로헥산이 특히 바람직하다.
상기 지방족 탄화수소 용매의 사용으로, 목적 화합물의 안정화 및 고수율의 확보, 또한 고정제도, 즉 각종 불순물, 특히 상기 화합물 (XⅡ) 의 효과적인 제거가 달성된다. 상기 지방족 탄화수소 용매의 사용량은, 상기 화합물 (Ⅴ) 의 결정화를 위한 조작 종료 시, 수득 생성물의 유동성이 유지되는 정도인 것이 바람직하고, 예를 들어 상기 화합물 (Ⅴ) 에 대해, 약 5 내지 20 중량부, 또는 몇몇 경우에는 그 이상으로 존재할 수 있다.
본 발명에서 상기 화합물 (Ⅴ) 의 결정화를 위해, 냉각에 의한 결정화, 농축에 의한 결정화, 및 기타 결정화 방법이, 단독으로 또는 병용되어 사용될 수 있다. 상기 농축에 의한 결정화는, 상기 지방족 탄화수소 용매 이외의 용매로 구성된 용액이 상기 지방족 탄화수소 용매로 구성되는 용액으로 전환되는 결정화 조작일 수 있다. 또한 종결정(seed crystal) 을 상기 결정화 조작에서 첨가할 수도 있다.
본 발명에서, 상기 화합물 (Ⅴ) 의 용해도, 수율, 처리 농도, 정제 효과 (불순물 제거 효과), 및 수득 가능한 결정의 물성 중 하나 이상을 개선하려는 목적으로, 결정화 조작을 수행하는데 있어서 상기 지방족 탄화수소 용매에 첨가하여 보조 용매를 사용할 수 있다. 상기 보조 용매를 필요한 경우, 상기 지방족 탄화수소 용매에 첨가하거나, 상기 화합물 (Ⅴ) 를 미리 보조 용매에 용해시키고, 이 용액을 상기 지방족 탄화수소 용매에 첨가할 수 있다.
보조 용매로서는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 테트라히드로푸란, 메틸 tert-부틸 에테르, 에틸 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, tert-부틸 아세테이트, 에탄올, 이소프로판올, 톨루엔, 벤젠, 자일렌, 클로로벤젠, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 및 1,2-디클로로에탄 등이 포함된다. 상기는 각각 단독으로 또는 2 종 이상이 병용되어 사용될 수 있다. 상기 중에서, 에틸 아세테이트, 톨루엔, 메틸 tert-부틸 에테르, 메틸렌 클로라이드 등은 용해도 증가, 및 처리농도와 정제 효과 등의 처리 효과의 개선 결과에 기여한다.
상기 보조 용매는, 상기 지방족 탄화수소 용매와 적당한 양으로 병용하여 사용되는 경우 그의 효과를 더욱 현저하게 발현하며, 이의 적당한 양은 목적하는 효과 및 기타 요인과 관련하여 보조 용매의 특성에 따라 설정된다. 상기 보조 용매의 최적 사용량은 간단한 실험에 의해 설정될 수 있다. 상기 보조 용매의 사용량은 수율 및 정제 효과의 관점에서, 상기 화합물 (Ⅴ) 의 결정화 조작의 종료 시, 상기 보조 용매와 상기 지방족 탄화수소 용매의 중량 비(보조 용매/지방족 탄화수소 용매)가 1 이하인 양이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 비가 0.5 이하인 양으로 사용된다.
본 발명의 정제/단리 방법은 실온 부근에서 수행될 수 있다. 필요한 경우, 가온 또는 냉각이, 예를 들어 약 60 ℃ 이하, 통상적으로 -30 ℃ 내지 50 ℃ 의 온도에서 수행될 수 있다.
상기와 같이 수득된 상기 화합물 (Ⅴ) 는 고체-액체 분리 기술에 의해, 필요하다면 추가로 케이크 세척 및 건조에 의해 분리된다. 상기 고체-액체 분리 기술은 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어, 가압여과, 감압여과, 원심분리등의 방법 등을 포함한다. 상기 건조의 방법으로서는, 열분해 또는 용융을 피하기 위해 약 60 ℃ 이하에서, 감압 건조 (진공 건조)를 수행하는 것이 바람직하다.
공정 (3)
본 공정에서, 공정 (2) 에서 수득된 하기 화학식 Ⅴ 에 의해 표현되는 (5S)-체의 입체배치를 갖는 디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체를, 미생물을 사용하여 환원시켜, 하기 화학식 Ⅵ 의 (3R,5S)-체의 입체배치를 갖는 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체를 수득한다:
[화학식 Ⅴ]
[화학식 Ⅵ]
.
일반적으로 상기 화합물과 같은 디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체의 카르보닐기가 고입체선택적으로 환원되는 경우, 초저온 조건 하, 알킬보란의 존재 하에서 수소화붕소 나트륨 등의 히드리드계 환원제를 사용하는 환원 방법이 사용된다(예를 들어, JP-A-02-262537).
디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체를 비-초저온 조건하에서 저비용으로 입체선택적으로 환원시키기 위해, 본 발명의 발명자들은 미생물을 사용하는 환원 방법을 개발했다.
공정 (3) 에서 사용되는, 디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체를 상응하는 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체로 환원시키는 능력을 갖는 미생물이 하기 방법에서 발견될 수 있다. 효모균을 예로 드는 경우, 예를 들어, 글루코스 3 %, 효모균 추출물 0.3 %, 인산이수소칼륨 0.7 %, 인산수소이암모늄 1.3 %, 마그네슘 술페이트ㆍ7H2O 0.08 %, 아연 술페이트ㆍ7H2O 0.007 %, 철 술페이트ㆍ7H2O 0.009 %, 구리 술페이트ㆍ5H2O 0.0005 %, 망간 술페이트ㆍ4H2O 0.001 %, 및 나트륨 클로라이드 0.01 % 조성의 배지 A (pH 7.0) 5 ml 를 대형 시험관에 넣고, 배지를 살균 후, 효모균을 접종하고, 27 ℃ 에서 2 내지 3 일간 진탕 배양시키고, 원심 분리로 상기 균체를 수집하고, 0.01 내지 1 % 의 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 및 8 % 의 글루코스를 함유하는 인산 완충액 0.5 ml 에 현탁시키고, 상기 현탁액을 대형 시험관내 27 ℃ 에서 1 내지 3 일간 진탕한다. 목적하는 환원 능력의 판별을 위해, 배지 진탕 후의 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하고, 유기상을 고성능 액체 크로마토그래피 [칼럼: Dovelosil ODS-HG-3 (4.6 mm ×150 mm) (Nomura Chemical 사 제조), 용리액: 0.1 % 트리플루오로아세트산/아세토니트릴 = 6/4, 유속: 0.8 ml/분, 검출: 210 nm, 칼럼온도: 실온, 용출시간: (3S, 5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르; 10.1 분, (3R, 5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르; 11.0 분, 및 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르; 16.7 분이고; 상기의 조성은 단지 예시를 목적하는 것으로 이해한다] 로 분석한다. 사용하는 미생물이 세균주인 경우, 예를 들어, 글리세롤 1.5 %, 전추출물(Proextract) 1.0 % 및 효모 추출물 0.5 % 조성의 배지 B (pH 7.0) 가 사용된다. 진균주의 경우, 예를 들어 글루코스 5 % 및 옥수수 침지액 5 % 의 조성인 배지 C (pH 6.0) 를 사용한다. 액티노마이세스 (actinomycete) 의 경우에는, Difco 사제 트립틱(tryptic) 대두 브로쓰 3 % 및 가용성 녹말 1 % 의 조성인 배지 D (pH 7.2) 가 사용된다. 상기 배지를 사용하여, 각 미생물의 균주를 배양하고, 상기 기술된 것과 동일한 조작으로 목적하는 능력을 갖는 미생물을 선택한다.
본 발명의 실행에 사용될 수 있는 미생물에는 하기의 속(屬)에 속하는 미생물이 포함된다: 아쉬비아 (Ashbya), 보트리오아스커스 (Botryoascus), 브레타노마이세스 (Brettanomyces), 칸디다 (Candida), 시테로마이세스 (Citeromyces), 클라비스포라 (Clavispora), 크립토코커스 (Cryptococcus), 데바리오마이세스 (Debaryomyces), 데케라 (Dekkera), 디포다스커스 (Dipodascus), 갈락토마이세스 (Galactomyces), 지오트리쿰 (Geotrichum), 한세니아스포라 (Hanseniaspora), 한세눌라 (Hansenula), 호르모아스커스 (Hormoascus), 히포피키아 (Hyphopichia), 잇사첸키아 (Issatchenkia), 클루이베로마이세스 (Kluyveromyces), 코마가타엘라 (Komagataella), 리포마이세스 (Lipomyces), 메치니코비아 (Metschnikowia), 나카자와에아 (Nakazawaea), 오가타에아 (Ogataea), 파키솔렌 (Pachysolen), 피키아 (Pichia), 로도토룰라 (Rhodotorula), 로드스포리디움 (Rhodsporidium), 사카로마이세스 (Saccharomyces), 사카로마이코데스 (Saccharomycodes), 사카로마이콥시스 (Saccharomycopsis), 사투르노스포라 (Saturnospora), 시조블라스토스포리온 (Schizoblastosporion), 시조사카로마이세스 (Schizosaccharomyces), 쉬반니오마이세스 (Schwanniomyces), 스포리디오볼러스 (Sporidiobolus), 스포로볼로마이세스 (Sporobolomyces), 토룰라스포라 (Torulaspora), 토룰롭시스 (Torulopsis), 트리코스포론 (Trichosporon), 트리고놉시스 (Trigonopsis), 윌롭시스 (Willopsis), 야마다지마 (Yamadazyma), 지고사카로마이세스 (Zygosaccharomyces), 아시디필리움 (Acidiphilium), 에어로박터 (Aerobacter), 알칼리게네스 (Alcaligenes), 아르트로박터 (Arthrobacter), 오레오박테리움 (Aureobacterium), 바실러스 (Bacillus), 브레비박테리움 (Brevibacterium), 부티옥셀라 (Buttiauxella), 세데세아 (Cedecea), 셀룰로모나스 (Cellulomonas), 시트로박터 (Citrobacter), 클로스트리디움 (Clostridium), 코마모나스 (Comamonas), 코리네박테리움 (Corynebacterium), 엔테로박터 (Enterobacter), 에르비니아 (Erwinia), 에스쉐리키아 (Escherichia), 플라보박테리움 (Flavobacterium), 클레브시엘라 (Klebsiella), 루테오코커스 (Luteococcus), 마이크로박테리움 (Microbacterium), 마이크로코커스 (Micrococcus), 오크로박트럼 (Ochrobactrum), 프로테우스 (Proteus), 프로비덴시아 (Providencia), 슈도모나스 (Pseudomonas), 로도코커스 (Rhodococcus), 사르시나 (Sarcina), 세라티아 (Serratia), 스핑고박테리움 (Sphingobacterium), 츠카무렐라 (Tsukamurella), 압시디아 (Absidia), 아크레모늄 (Acremonium), 아에게리타 (Aegerita), 아그로사이브 (Agrocybe), 아밀로스테레움 (Amylostereum), 아스페르길러스 (Aspergillus), 비쏘클라미스 (Byssochlamys), 카에토미듐 (Chaetomidium), 카에토사르토리아 (Chaetosartorya), 클라도스포륨 (Cladosporium), 코프리너스 (Coprinus), 크리니펠리스 (Crinipellis), 엔도프라그미아 (Endophragmia), 플라볼러스 (Flavolus), 포미톱시스 (Fomitopsis), 푸사륨 (Fusarium), 가노데르마 (Ganoderma), 글로메렐라 (Glomerella), 라에티포러스 (Laetiporus), 렌티너스(Lentinus), 렌지테스 (Lenzites), 마크로포마 (Macrophoma), 모나스커스 (Monascus), 모르티에렐라 (Mortierella), 파에실로마이세스 (Paecilomyces), 페니실륨 (Penicillium), 피알로포라 (Phialophora), 폴리오타 (Pholiota), 플루로터스 (Pleurotus), 스코풀라리옵시스 (Scopulariopsis), 세히조필룸 (Sehizophyllum), 스포로트리쿰 (Sporotrichum), 지고린커스 (Zygorhynchus), 마이크로테트라스포라 (Microtetraspora) 및 스트렙토마이세스 (Streptomyces). 보다 특별히, 사용가능한 것은, 예를 들면, 아쉬비아 고시피 (Ashbya gossypii) IFO 0560, 보트리오아스커스 신나에덴드러스 (Botryoascus synnaedendrus) IFO 1604, 브레타노마이세스 커스테르시아누스 (Brettanomyces custersianus) IFO 1585, 칸디다 아르보레아 (Candida arborea) IAM 4147, 칸디다 카테눌라타 (Candida catenulata) IFO 0745, 칸디다 페니카 (Candida fennica) CBS 6028, 칸디다 갈락타 (Candida galacta) IFO 10031, 칸디다 하에물로니 (Candida haemulonii) IFO 10001, 칸디다 마그놀리아에 (Candida magnoliae) IFO 0705, 칸디다 무사에 (Candida musae) IFO 1582, 칸디다 니트라토필라 (Candida nitratophila) IFO 10004, 칸디다 파랍실로시스 (Candida parapsilosis) IFO 0585, 칸디다 파라루고사 (Candida pararugosa) IFO 0966, 칸디다 스텔라타 (Candida stellata) IFO 0701, 시테로마이세스 마트리텐시스 (Citeromyces matritensis) IFO 0651, 클라비스포라 루시타니아에 (Clavispora lusitaniae) TFO 1019, 크립토코커스 라우렌티 (Cryptococcus laurentii) IFO 0609, 데바리오마이세스 카르소니 (Debaryomyces carsonii) IFO 0795, 데바리오마이세스 한세니 var. 파브리이 (Debaryomyces hansenii var. fabryi) IFO 0794, 데바리오마이세스 한세니 var. 한세니 (Debaryomyces hansenii var. hansenii) IFO 0032, 데바리오마이세스 한세니 var. 한세니 (Debaryomyces hansenii var. hansenii) IFO 0047, 데바리오마이세스 한세니 var. 한세니 (Debaryomyces hansenii var. hansenii) IFO 0018, 데바리오마이세스 클로엑커리 (Debaryomyces kloeckeri), 데바리오마이세스 마라마 (Debaryomyces marama) IFO 0668, 데바리오마이세스 슈도폴리모르푸스 (Debaryomyces pseudopolymorphus) IFO 1026, 데바리오마이세스 로버트시아에 (Debaryomyces robertsiae) IFO 1277, 데바리오마이세스 (Debaryomyces) sp. IFO 0025, 데케라 아노말라 (Dekkera anomala) IFO 0627, 디포다스커스 아르밀라리아에 (Dipodascus armillariae) IFO 0102, 디포다스커스 오베텐시스 (Dipodascus ovetensis) IFO 1201, 디포다스커스 테트라스페르마 (Dipodascus tetrasperma) CBS 765.70, 갈락토마이세스 리시 (Galactomyces reessii) CBS 179.60, 지오트리쿰 칸디덤 (Geotrichum candidum) CBS 187.67, 지오트리쿰 페르멘탄스 (Geotrichum fermentans) IFO 1199, 지오트리쿰 프라그란스 (Geotrichum fragrans) CBS 164.32, 지오트리쿰 로우비에리 (Geotrichum loubieri) CBS 252.61, 한세니아스포라 길리에르몬디 (Hanseniaspora guilliermondii) IAM 4972, 한세눌라 메타놀로사 (Hansenula methanolosa), 한세눌라 폴리모르파 (Hansenula polymorpha) DL1 AKU4752, 호르모아스커스 필렌토무스 (Hormoascus philentomus) IFO 1847, 호르모아스커스 플라티포디스 (Hormoascus platypodis) IFO 1471, 히포피키아 부르토니 (Hyphopichia burtonii) IFO 0844, 잇사첸키아 오리엔탈리스 (Issatchenkia orientalis) IFO 1279, 잇사첸키아 테리콜라(Issatchenkia terricola) IFO 0933, 클루이베로마이세스 락티스 (Kluyveromyces lactis) IFO 1012, 클루이베로마이세스 마르지아누스 (Kluyveromyces marxianus) IFO 0541, 클루이베로마이세스 마르지아누스 IFO 0288, 클루이베로마이세스 폴리스포러스 (Kluyveromyces polysporus) IFO 0996, 클루이베로마이세스 터모톨러란스 (Kluyveromyces thermotolerans) IFO 0662, 코마가타엘라 파스토리스 (Komagataella pastoris) IFO 1013, 리포마이세스 스타르케이 (Lipomyces starkeyi) IFO 0678, 메치니코비아 비커스피다타 (Metschnikowia bicuspidata) IFO 1408, 메치니코비아 풀케리마 (Metschnikowia pulcherrima) IFO 0561, 나카자와에아 홀스티 (Nakazawaea holstii) IFO 0980, 오가타에아 미누타 var. 미누타 (Ogataea minuta var. minuta) IFO 0975, 오가타에아 피니 (Ogataea pini) IFO 1342, 오가타에아 폴리모르파 (Ogataea polymorpha) IFO 0799, 오가타에아 폴리모르파 IFO 1475, 오가타에아 위커하미 (Ogataea wickerhamii) IFO 1706, 파키솔렌 타노필러스 (Pachysolen tannophilus) IFO 1007, 피키아 카나덴시스 (Pichia canadensis) IFO 0976, 피키아 파리노세 (Pichia farinose) IAM 4369, 피키아 잔디니 (Pichia jandinii) IFO 0987, 피키아 사이토이 (Pichia saitoi) IAM 4945, 피키아 톨레타나 (Pichia toletana) IFO 0950, 피키아 트리안굴라리스 (Pichia triangularis) IFO 0836, 피키아 위커하미 (Pichia wickerhamii) IFO 1278, 로도토룰라 그라미니스 (Rhodotorula graminis) IFO 0190, 로도토룰라 미누타 (Rhodotorula minuta) IFO 0387, 로도토룰라 미누타 IFO 0715, 로드스포리디움 디오보바툼 (Rhodsporidium diobovatum) IFO 0688, 로드스포리디움 토룰로이데스(Rhodsporidium toruloides) IFO 0413, 사카로마이세스 바야누스 (Saccharomyces bayanus) IFO 0251, 사카로마이세스 파스토리아누스 (Saccharomyces pastorianus) IFO 1265, 사카로마이세스 파스토리아누스 ATCC 9080, 사카로마이세스 로세이 (Saccharomyces rosei) IFO 0252, 사카로마이세스 사케 (Saccharomyces sake), 사카로마이세스 스테이너리 (Saccharomyces steineri) IAM 4608, 사카로마이세스 유니스포러스 (Saccharomyces unisporus) IFO 0215, 사카로마이코데스 루드비히 (Saccharomycodes ludwigii) IFO 0339, 사카로마이콥시스 캡슐라리스 (Saccharomycopsis capsularis) IFO 0672, 사카로마이콥시스 말란가 (Saccharomycopsis malanga) IFO 1710, 사투르노스포라 디스포라 (Saturnospora dispora) IFO 0035, 시조블라스토스포리온 코바야시 (Schizoblastosporion kobayasii) IFO 1644, 시조사카로마이세스 폼베 (Schizosaccharomyces pombe) IFO 0347, 시조사카로마이세스 폼베 (Schizosaccharomyces pombe) IFO 0362, 쉬반니오마이세스 오시덴탈리스 var. 오시덴탈리스 (Schwanniomyces occidentalis var. occidentalis) IFO 1840, 스포리디오볼러스 존스니 (Sporidiobolus johnsonii) IFO 6903, 스포로볼로마이세스 파라로세우스 (Sporobolomyces pararoseus) IFO 0471, 스포로볼로마이세스 살모니컬러 (Sporobolomyces salmonicolor) IFO 1038, 토룰라스포라 델브루에키 (Torulaspora delbrueckii) IFO 0381, 토룰롭시스 메탄올레베센 (Torulopsis methanolevescens), 토룰롭시스 오스보에니스 (Torulopsis osboenis) IFO 0646, 토룰롭시스 (Torulopsis) sp., 토룰롭시스 우바에 (Torulopsis uvae) IFO 0649, 트리코스포론 풀룰란스 (Trichosporon pullulans), 트리코스포론 sp. 트리고놉시스 바리아빌리스 (Trichosporon sp. Trigonopsis variabilis) IFO 0671, 윌롭시스 사투르너스 var. 므라키 (Willopsis saturnus var. mrakii) IFO 0895, 윌롭시스 사투르너스 var. 사투르너스 (Willopsis saturnus var. saturnus) IFO 0992, 야마다지마 파리노사 (Yamadazyma farinosa) IFO 0459, 야마다지마 파리노사 (Yamadazyma farinosa) IFO 0602, 야마다지마 하플로필라 (Yamadazyma haplophila) IFO 0947, 지고사카로마이세스 나니벤시스 (Zygosaccharomyces naniwensis) IFO 0524, 지고사카로마이세스 (Zygosaccharomyces) sp. IFO 0522, 아시디필리움 크립툼 (Acidiphilium cryptum) IFO 14242, 에어로박터 클로아카에 (Aerobacter cloacae) IAM 1221, 알칼리게네스 자일로속시단스 (Alcaligenes xylosoxidans) IFO 13495, 알칼리게네스 자일로속시단스 (Alcaligenes xylosoxidans) subsp. 데니트리피칸스 (denitrificans) IFO 12669, 알칼리게네스 자일로속시단스 (Alcaligenes xylosoxidans) subsp. 데니트리피칸스 (denitrificans) ATCC 15173, 아르트로박터 글로비포르미스 (Arthrobacter globiformis) ATCC 8010, 아르트로박터 프로토포르미아에 (Arthrobacter protophormiae) IFO 12128, 오레오박테리움 에스테라로마티쿰 (Aureobacterium esteraromaticum) IFO 3752, 바실러스 바디우스 (Bacillus badius) IAM 11059/ 바실러스 스파에리쿠스 (Bacillus sphaericus) IFO 3525, 브레비박테리움 암모니아게네스 (Brevibacterium ammomiagenes) IFO 12071, 부티옥셀라 아그레스티스 (Buttiauxella agrestis) JCM 1090, 세데세아 다비시아에 (Cedecea davisiae) JCM 1685, 셀룰로모나스 (Cellulomonas) sp. JCM 2471, 셀룰로모나스 투르바타 (Cellulomonas turbata) IFO 15015, 시트로박터 프로인디 (Citrobacter freundii) IFO 12681, 클로스트리디움 실린드로스포럼 (Clostridium cylindrosporum) IFO 13695, 코마모나스 테스토스테로니 (Comamonas testosteroni) IFO 12047, 코리네박테리움 아세스토아시도필럼 (Corynebacterium acectoacidophilum) ATCC 21476, 코리네박테리움 암모니아게네스 (Corynebacterium ammoniagenes) IFO 12072, 코리네박테리움 글루타미쿰 (Corynebacterium glutamicum) ATCC 21269, 코리네박테리움 글루타미쿠스 (Corynebacterium glutamicus) ATCC 13287, 엔테로박터 에어로게네스 (Enterobacter aerogenes) IFO 13534, 엔테로박터 클로아카에 (Enterobacter cloacae) IFO 12935, 에르비니아 카로토보라 (Erwinia carotovora) subsp. 카로토보라 (carotovora) IFO 3830, 에스쉐리키아 콜라이 (Escherichia coli) IFO 12734, 플라보박테리움 플라베스세우스 (Flavobacterium flavesceus), 클레브시엘라 플란티콜라 (Klebsiella planticola) IFO 3317, 루테오코커스 자포니쿠스 (Luteococcus japonicus) IFO 12422, 마이크로박테리움 아르보레센스 (Microbacterium arborescens) IFO 3750, 마이크로코커스 플라부스 (Micrococcus flavus), 마이크로코커스 루테우스 (Micrococcus luteus) IFO 13867, 오크로박트럼 (Ochrobactrum) sp. IFO 12950, 프로테우스 인콘스탄스 (Proteus inconstans) IFO 12931, 프로테우스 미라빌리스 (Proteus mirabilis) IFO 3849, 프로테우스 레트게리 (Proteus rettgeri) IFO 1350, 프로테우스 불가리스 (Proteus vulgaris) IFO 3167, 프로비덴시아 스투아르티 (Providencia stuartii) IFO 12930, 슈도모나스 아에루지노사 (Pseudomonas aeruginosa) IAM 1007, 슈도모나스 푸티다 (Pseudomonas putida) IFO 14164, 슈도모나스 스투체리 (Pseudomonasstutzeri) IFO 13596, 로도코커스 에퀴 (Rhodococcus equi) JCM 1313, 사르시나 루테아 (Sarcina lutea), 세라티아 플리무티쿰 (Serratia plymuthicum) IFO 3055, 세라티아 프로테아마쿨란스 (Serratia proteamaculans) subsp. 프로테아마쿨란스 (proteamaculans) IFO 12979, 스핑고박테리움 스피리티보럼 (Sphingobacterium spiritivorum) JCM 1277, 츠카무렐라 파우로메타볼럼 (Tsukamurella paurometabolum) IFO 12160, 압시디아 오르키디스 (Absidia orchidis) HUT 1036, 아크레모늄 바실리스포럼 (Acremonium bacillisporum) IFO 9387, 아에게리타 칸디다 (Aegerita Candida) IFO 6988, 아그로사이브 실린드라세아 (Agrocybe cylindracea) IFO 30299, 아밀로스테레움 아레올라툼 (Amylostereum areolatum) IFO 9221, 아스페르길러스 파라지티커스 (Aspergillus parasiticus) IFO 4403, 아스페르길러스 페니시스 (Aspergillus phoenicis) IFO 6670, 비쏘클라미스 풀바 (Byssochlamys fulva) IFO 6307, 카에토미듐 피메티 (Chaetomidium fimeti) IFO 30419, 카에토사르토리아 스트로마토이데스 (Chaetosartorya stromatoides) IFO 9652, 클라도스포리움 레지나에 (Cladosporium resinae) F. 아벨라네움 (avellaneum) IFO 6367, 코프리너스 시네레우스 (Coprinus cinereus) TD-822, 코프리너스 라고푸스 (Coprinus lagopus) IFO 9533, 코프리너스 (Coprinus) sp., 크리니펠리스 스티피타리아 (Crinipellis stipitaria) IFO 30259, 엔도프라그미아 알터네이트 (Endophragmia alternate) IFO 30204, 플라볼러스 아르쿨라리우스 (Flavolus arcularius), 포미톱시스 푸베르타티스 (Fomitopsis pubertatis), 푸사륨 메리스모이데스 (Fusarium merismoides) IFO 30040, 가노데르마 루시둠(Ganoderma lucidum) IFO 31863, 글로메렐라 신굴라타 (Glomerella cingulata) IFO 5257, 라에티포러스 술푸레우스 (Laetiporus sulphureus), 렌티너스 레피데우스 (Lentinus lepideus), 렌지테스 베툴리나 (Lenzites betulina) IFO 8715, 마크로포마 콤멜리나에 (Macrophoma commelinae) IFO 9569, 모나스커스 푸르푸레우스 (Monascus purpureus) IFO 5965, 모르티에렐라 이사벨리나 (Mortierella isabellina) IFO 7829, 파에실로마이세스 바리오티 (Paecilomyces varioti) HUT 4028, 페니실륨 케르메시눔 (Penicillium chermesinum) IFO 5800, 페니실륨 크리소게눔 (Penicillium chrysogenum) IFO 4640, 페니실륨 엑스판섬 (Penicillium expansum) IFO 5854, 페니실륨 릴라시늄 (Penicillium lilacinium) IFO 31914, 피알로포라 파스티지아타 (Phialophora fastigiata) IFO 6850, 폴리오타 오리벨라 (Pholiota aurivella) IFO 30265, 폴리오타 리모넬라 (Pholiota limonella) IFO 31868, 플루로터스 드라이누스 (Pleurotus dryinus), 플루로터스 오스트리아투스 (Pleurotus ostreatus), 플루로터스 포리겐스 (Pleurotus porrigens), 스코풀라리옵시스 브레비카울리스 (Scopulariopsis brevicaulis) IFO 4843, 세히조필룸 콤무네 (Sehizophyllum commune) IFO 6503, 세히조필룸 콤무네 (Sehizophyllum commune) IFO 6504, 스포로트리쿰 오란티아쿰 (Sporotrichum aurantiacum) IFO 9381, 지고린커스 모엘레리 (Zygorhynchus moelleri) HUT 1305, 마이크로테트라스포라 로세오비올라세아 (Microtetraspora roseoviolacea) IFO 14098, 스트렙토마이세스 아크로모게네스 (Streptomyces achromogenes) subsp. 루브라디리스 (rubradiris) IFO 14000, 스트렙토마이세스 (Streptomyces) sp. 및 스트렙토마이세스 아우레우스 (Streptomyces aureus) NIHJ 122 이다.
상기 미생물은 일반적으로 입수 또는 구입이 용이한 보존주 (stock culture) 로부터 수득 가능하다. 또한, 자연계로부터 단리하는 것이 가능하다. 이에 관련하여, 상기 미생물에 변이를 유발시켜 목적하는 반응에서 더욱 유리한 특성을 갖는 균주를 수득하는 것이 가능하다. 또한, DNA 재조합 기술 또는 세포 융합 등의 유전자 공학 또는 생물공학적 방법에 의해 상기 미생물에서 유래한 균주가 사용될 수 있다. 상기 미생물의 예로서는, 칸디다 마그놀리아에 (Candida magnoliae) IFO 0705 에서 유래한 환원효소 유전자를 도입한 에스쉐리키아 콜라이 (Escherichia coli) HB101 (pNTCRG) FERM BP-6898 (PCT/JP00/08321) 를 들 수 있다.
상기 미생물의 배양에는, 통상의 미생물이 일반적으로 자화할 수 있는 임의의 영양원을 사용할 수 있다. 예를 들어, 탄소원으로서, 글루코스, 수크로스, 말토스 등의 당류; 락트산, 아세트산, 시트르산, 프로피온산 등의 유기산류; 에탄올, 글리세롤 등의 알콜류; 파라핀을 포함하는 탄화수소류; 대두유, 채종유 등의 유지류; 및 그들의 혼합물, 및 질소원으로서, 암모늄 술페이트, 암모늄 포스페이트, 우레아, 효모 추출물, 미트 추출물, 펩톤, 옥수수 침지액 등이 부가혼합될 수 있다. 또한, 무기염, 비타민, 및 기타 영양원을 적당하게 부가혼합할 수 있다.
상기 미생물은 통상의 조건하에서 배양될 수 있다. 예를 들어, 이들을 pH 4.0 내지 9.5 하, 20 ℃ 내지 45 ℃ 의 온도 범위에서, 호기적으로 10 내지 96 시간 동안 배양한다. 미생물을 디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체에 작용시키기 위해서, 상기 미생물의 통상적 배양이 반응을 위해 사용할 수 있지만, 배양 브로쓰의 농축액도 사용할 수 있다. 또한, 배양 브로쓰 내의 수가지 성분이 반응에 악영향을 줄 수 있는 경우에는, 배양 브로쓰를 원심분리 등으로 처리하여 수득된 균체 또는 균체 처리물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 미생물의 균체 처리물로서는, 특히 제한되지는 않지만, 예를 들어, 아세톤 또는 디포스포러스 펜톡시드를 사용하는 탈수로써, 또는 데시케이터 또는 팬을 이용한 건조로써 수득 가능한 건조 균체, 계면활성제 처리된 균체, 용균효소처리물, 고정화균체 또는 균체의 파쇄로 수득된 무세포 추출물을 포함한다. 추가로, 배양 브로쓰로부터, 비대칭 환원을 촉매화하는 효소를 정제하여 사용할 수 있다.
환원 반응의 수행시, 기질 디히드록시옥소헥산산 모노아실 유도체를 반응의 초기에 모두 한번에 첨가하거나, 반응의 진행에서 분할하여 첨가할 수 있다.
반응 동안의 온도는, 일반적으로 10 내지 60 ℃, 바람직하게는 20 내지 40 ℃ 이고, 반응 동안의 pH 는 2.5 내지 9, 바람직하게는 5 내지 9 이다.
반응 혼합물에서, 미생물의 농도는 그의 기질 환원능에 따라 적당하게 선택될 수 있다. 반응 혼합물 내의 기질의 농도는 바람직하게는 0.01 내지 50 %(w/v), 더욱 바람직하게는 0.1 내지 30 % 이다.
통상적으로 반응은 진탕 또는 통기 교반 하에서 수행된다. 반응 시간은 기질의 농도, 미생물의 농도, 및 기타 반응 조건에 따라 적당하게 선택된다. 일반적으로, 2 내지 168 시간 내에 반응이 종료될 수 있도록 각종 조건들이 선택되는 것이 바람직하다.
환원 반응을 촉진시키기 위해, 반응 혼합물에 글루코스, 에탄올 등의 에너지원을 1 내지 30 % 의 비율로 첨가하는 것이 바람직하고, 이는 더욱 만족스러운 결과를 도출해낼 것이다. 또한, 상기 반응은 일반적으로 생물학적 기술에서 환원 반응에 필요한 것으로 간주되는, 환원 니코틴아미드-아데닌 디뉴클레오티드 (nicotinamide-adenine dinucleotide: NADH) 또는 환원 니코틴아미드-아데닌 디뉴클레오티드 포스페이트 (nicotinamide-adenine dinucleotide phosphate: NADPH) 등의 보효소를 첨가함으로써 가속화될 수 있다. 더욱 구체적으로는, 상기는 반응 혼합물에 직접적으로 첨가될 수 있거나, NADH 또는 NADPH 를 생성하는 반응계를 산화된 보효소와 함께 반응 혼합물에 첨가할 수 있다. 예를 들어, 포르메이트 데히드로게나아제가 포름산으로부터 이산화탄소 및 물을 생성할 때, NAD 를 NADH 로 환원시키는 반응계, 또는 글루코스 데히드로게나아제가 글루코스로부터 글루코노락톤을 생성할 때, NAD 또는 NADP 를 NADH 또는 NADPH 로 각각 환원시키는 반응계를 이용할 수 있다. 추가로, 트리톤 (Triton; Nakalai Tesque 사 제조), 스판 (Span; Kanto Chemical 사 제조) 또는 트윈 (Tween; Nakalai Tesque 사 제조) 등의 계면 활성제를 첨가하는 것이 효과적이다. 또한, 기질 및/또는 환원 반응의 부생성물인 알콜에 의한 반응의 저해를 회피하기 위해, 수(水)-불용성 유기용매, 예컨대, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 이소프로필 에테르, 톨루엔 등을 반응 혼합물에 첨가할 수 있다. 기질의 용해도를 높일 목적으로, 수-가용성 유기용매, 예컨대, 메탄올, 에탄올, 아세톤, 테트라히드로푸란, 디메틸 술폭시드 등을 또한 첨가할 수 있다.
환원 반응으로 생성된 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체는, 반응 혼합물로부터 직접적으로, 또는 균체 등을 분리 후 에틸 아세테이트, 톨루엔 등의 용매로 추출하고, 이어서 용매를 제거하여 회수할 수 있다. 또한, 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체는, 재결정, 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 등의 정제 조작에 의해 고순도로 수득될 수 있다.
공정 (4)
본 공정에서는, 공정 (3) 에서 수득된 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 (3R,5S)-체의 입체배치를 갖는 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체를 산촉매 존재 하에서 아세탈형성 시약으로 처리하여, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 (4R,6S)-체의 입체배치를 갖는 아실옥시메틸디옥사닐아세트산 유도체를 생성한다:
[화학식 Ⅵ]
[화학식 Ⅶ]
.
공정 (4) 에서, 사용 가능한 아세탈형성 시약으로서는, 예를 들어, 케톤, 알데히드, 알콕시알칸, 및 알콕시알켄이 포함된다. 상기 케톤, 알데히드, 알콕시알칸, 및 알콕시알켄의 구체적인 예들로서, 예를 들어, 아세톤, 시클로헥사논, 포름알데히드, 벤즈알데히드, 디메톡시메탄, 2,2-디메톡시프로판, 2-메톡시프로펜, 및 1,1-디메톡시시클로헥산 등이 언급될 수 있다. 아세톤, 2-메톡시프로펜, 2,2-디메톡시프로판 등이 바람직하고, 2,2-디메톡시프로판이 더욱 바람직하다. 아세탈형성 시약의 사용량은, 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체에 대해, 바람직하게는 1 내지 10 몰 당량, 더욱 바람직하게는 1 내지 5 몰 당량이다. 반응을 촉진시키기 위해, 아세탈형성 시약은 반응 용매로서도 사용 가능하다.
공정 (4) 에서 사용 가능한 산 촉매로서는, 루이스산 또는 브뢴스테스 산이 포함된다. 상기 루이스산 및 브뢴스테드 산으로서는, 예를 들어, 알루미늄 트리클로라이드, 붕소 트리클로라이드, 아연 디클로라이드, 주석 테트라클로라이드 등의 루이스산; 옥살산, 포름산, 아세트산, 벤조산, 트리플루오로아세트산 등의 카르복실산; 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 캄포르술폰산 등의 술폰산; 및 염화수소, 브롬화수소, 황산, 질산, 붕산 등의 무기산 등이 언급될 수 있다.
공정 (4) 에서 산 촉매의 사용량은, 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체에 대해, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 몰 당량, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.1 몰 당량이다.
상기 산촉매를 사용하는 아세탈형성 반응은 분자내 히드록실기가 관여하는 부반응이므로, 효율적으로 목적 반응을 진행시키는 것이 곤란했다. 부반응으로서, 예를 들어, 분자내 히드록실기와 에스테르기가 관여하는 고리화 반응으로 하기 화학식 XⅤ 로 표현되는 아실옥시메틸히드록실아세톤이 부생성물로서 생성된다:
[식 중, R4는 상기 정의된 바와 같다].
알콕시알칸 또는 알콕시알켄이 아세탈형성 시약으로서 사용되는 경우, 부생성물 알콜이 상기 화합물 (XⅤ) 와 반응하여, 하기 화학식 XⅢ 로 표현되는 상기 아실옥시메틸디옥살릴아세트산 유도체의 유사 화합물 (상이한 에스테르기를 가짐) 이 부생성물로서 수득된다:
[식 중, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같고; R10는 R1과는 상이한 저급 알킬기 (바람직하게는 탄소수 1 내지 4) 를 표시한다].
예를 들어, 2,2-디메톡시프로판이 아세탈형성 시약으로서 사용되는 경우, 부생성물 메탄올이 반응에 관여하여, R10가 메틸기를 표시하는 상기 화학식 XⅢ 의 아실옥시메틸디옥살릴아세트산 메틸 에스테르가 부생성물로서 수득된다.
이들 불순물의 부생성은 목적 생성 화합물의 수율 및 품질을 저하시키므로, 아세탈형성 반응을 상기 산 촉매를 사용하여 수행하는 경우, 반응 온도, 반응 시간, 시약량 등의 반응 조건을 적확하게 선택, 제어하는 것이 필요하다.
본 발명자는, 촉매로서 산과 아민으로 구성된 아민염 존재 하에서, 아세탈형성 반응을 수행하여, 상기 불순물 (XⅢ) 과 (XⅤ), 및 구조를 특정할 수 없는 기타 미량의 불순물의 형성을 수율을 저하시키지 않고 최소한으로 억제할 수 있는 방법을 개발하였다. 산으로서는 상기 기술된 임의의 산이 사용될 수 있고, 바람직하게는 염화수소, 브롬화수소, 황산, 트리플루오로아세트산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, 및 p-톨루엔술폰산을 포함한다. 산의 사용량은, 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체에 대해, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 몰 당량, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.1 몰 당량이다.
아민으로서는, 암모니아; 메틸아민, 에틸아민, 부틸아민, 아닐린 등의 1 차 아민; 디에틸아민, 디이소프로필아민, 디페닐아민, 피페리딘, 모르폴린 등의 2 차 아민; 및 트리에틸아민, 트리부틸아민, 디이소프로필에틸아민, N-메틸모르폴린, N-메틸피페리딘, 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 이미다졸, N,N-디메틸아미노피리딘, 1,7-디아자비시클로[5,4,0]-운데크-7-엔 등의 3 차 아민을 포함한다. 3 차 아민이 바람직하고, 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘 또는 이미다졸이 더욱 바람직하다. 아민의 사용량은 산에 대해, 바람직하게는 1 내지 10 몰 당량, 더욱 바람직하게는 1 내지 3 몰 당량이다.
상기 반응은 산과 아민으로부터 제조되어 미리 단리된 아민염을 촉매로서 사용하여 수행할 수 있다. 아민염으로서는, 예를 들어, 염산 피리디늄, 브롬화수소산 피리디늄, 황산 피리디늄, 트리플루오로아세트산 피리디늄, 메탄술폰산 피리디늄, p-톨루엔술폰산 피리디늄, 염산 트리에틸암모늄, 황산 트리에틸암모늄, p-톨루엔술폰산 3-메틸피리디늄, p-톨루엔술폰산 N-메틸모르폴린염, 벤젠술폰산 N,N-디메틸아미노피리디늄, 염산 디이소프로필암모늄, 염산 암모늄, 황산 암모늄, 질산 암모늄 및 p-톨루엔술폰산 암모늄 메틸을 포함한다. p-톨루엔술폰산 피리디늄 또는 p-톨루엔술폰산 트리에틸암모늄이 바람직하다. 아민의 사용량은 트리히드록시헥산산 모노아실 유도체에 대해, 바람직하게는 0.001 내지 0.5 몰 당량, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.1 몰 당량이다.
공정 (4) 의 반응을 수행하기 위해, 각종 유기 용매가 반응 용매로서 사용될 수 있다. 유기 용매로서는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 시클로헥산 등의 탄화수소 용매; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 메틸 t-부틸 에테르, 디메톡시에탄 등의 에테르 용매; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 에스테르 용매; 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등의 케톤 용매; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 1,1,1-트리클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소 용매; N,N-디메틸포름아미드, 아세트아미드, 포름아미드, 아세토니트릴 등의 질소 함유 용매; 및 디메틸 술폭시드, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸인산 트리아미드 등의 비양성자성 극성 용매가 언급될 수 있다. 상기 유기 용매는 각각 단독으로 또는 2 종 이상 병용하여 사용될 수 있다. 톨루엔, 아세톤, 에틸 아세테이트, 메틸렌 클로라이드, 테트라히드로푸란, 메틸 tert-부틸 에테르, 디메틸포름아미드, 및 아세토니트릴이 바람직하고, 아세톤이 더욱 바람직하다.
공정 (4) 에서의 반응 온도는, -20 ℃ 내지 100 ℃, 바람직하게는 0 ℃ 내지 50 ℃ 이다.
공정 (4) 의 후처리는, 반응 종료 후, 반응 혼합물로부터 생성물을 회수하기 위해 일반적으로 수행되는 후처리일 수 있다. 예를 들어, 반응 종료 후의 반응 혼합물에 물을 첨가하고, 통상의 추출 용매, 예컨대 에틸 아세테이트, 디에틸 에테르, 메틸렌 클로라이드, 톨루엔 또는 헥산을 사용하여 추출 조작을 수행한다. 상기 수득된 추출물로부터, 반응 용매 및 추출 용매를 감압 가열 등의 조작으로 제거하여, 목적 화합물을 수득한다.
상기 수득된 목적 화합물은, 제조 과정에서 발생하는 각종 분해 및 부반응에서 유래하는 각종 불순물을 함유하는 경향이 있다. 특히, 이는 하기 화학식 XⅤ 로 표현되는 아실옥시히드록시락톤, 하기 화학식 XⅢ 으로 표현되는 아실옥시메틸디옥살릴아세트산 유도체의 유사 화합물 (상이한 에스테르기를 가짐), 하기 화학식 XⅣ 로 표현되는 부분입체 이성질체, 및 화학식 Ⅵ 로 표현되는 반응 기질로 구성되는 군의 하나 이상의 원을 함유하는 경향이 있고;
[화학식 XⅤ]
[식 중, R4는 상기 정의된 바와 같음]
[화학식 XⅢ]
[식 중, R2, R3및 R4는 각각 상기 정의된 바와 같고; R10는 R1과는 상이한 저급 알킬기 (바람직하게는 탄소수 1 내지 4) 를 표시함]
[식 중, R1, R2, R3및 R4는 각각 상기 정의된 바와 같음],
고품질의 목적 화합물을 수득하기 위해서, 상기 불순물을 제거할 필요가 있다. 하지만, 목적 화합물과 구조적으로 유사한 임의의 불순물 (구조적 유사체) 는 제거하기가 용이하지 않으므로, 상기 불순물을 제거하여 목적 화합물을 고품질로 수득할 수 있기 위해서는, 탁월한 정제/단리 방법이 필요하다. 본 발명자들은 하기 조건 하에서, 결정화를 수행함으로써 상기 불순물을 효과적으로 제거하는 방법을 발견하였다.
본 발명에서 사용되는 결정화 용매는, 바람직하게는 지방족 탄화수소 용매이다. 구체적으로, 예를 들어, 펜탄, 석유 에테르, 네오펜탄, 헥산, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 시클로헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸 등의 탄소수 5 내지 20 의 지방족 탄화수소를 언급할 수 있다. 상기 중에서, 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 및 이소옥탄이 바람직하다. 상기는 각각 단독으로 또는 2 종 이상 병용하여 사용할 수 있다.
특히, 습결정으로부터의 용매의 건조 제거의 용이성, 또는 용매의 회수 및 재이용 (증류 회수) 등을 고려하여, 비교적 비점이 낮은 용매의 사용이 바람직하다. 상기 용매로서는, 1 기압 이하에서 비점이 약 100 ℃ 이하인 것이 일반적으로 언급될 수 있다. 더욱 특히는, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄 및 이소옥탄 등의 탄소수 5-8 의 지방족 탄화수소 용매가 언급될 수 있고, 용매의 가격, 취급의 용이성, 및 기타 요인이 종합적으로 고려되는 경우, 헥산 및 메틸시클로헥산이 더욱 바람직하다.
상기 지방족 탄화수소 용매의 사용으로, 상기 화합물의 안정화 및 고수율의 확보, 또한 고정제도, 즉 각종 불순물, 특히 상기 화합물 (XⅢ), (XⅣ), (XⅤ) 및 (Ⅵ) 의 효과적인 제거가 달성된다. 상기 지방족 탄화수소 용매의 사용량은, 상기화합물 (Ⅶ) 의 결정화를 위한 조작 종료 시, 수득 생성물의 유동성이 유지되는 정도인 것이 바람직하고, 예를 들어, 상기 화합물 (Ⅶ) 에 대해 약 5 내지 20 중량부, 또는 몇몇 경우에는 그 이상으로 존재할 수 있다.
본 발명에서 상기 화합물 (Ⅶ) 의 결정화를 위해, 냉각에 의한 결정화, 농축에 의한 결정화, 및 기타 결정화 방법이, 단독으로 또는 병용되어 사용 가능하다. 상기 농축에 의한 결정화는, 상기 지방족 탄화수소 용매 이외의 용매로 구성된 용액이 상기 지방족 탄화수소 용매로 구성되는 용액으로 전환되는 결정화 조작일 수 있다. 또한 종결정을 상기 결정화 조작에서 첨가할 수도 있다.
본 발명에서, 상기 화합물 (Ⅶ) 의 용해도, 수율, 처리 농도, 정제 효과 (불순물 제거 효과), 및 수득 가능한 결정의 물성 중 하나 이상을 개선하려는 목적으로, 결정화 조작을 수행하는데 있어서 상기 지방족 탄화수소 용매에 첨가하여 보조 용매를 사용할 수 있다. 상기 보조 용매를 필요한만큼 상기 지방족 탄화수소 용매에 첨가하거나, 상기 화합물 (Ⅶ) 를 미리 보조 용매에 용해시키고, 이 용액을 상기 지방족 탄화수소 용매에 첨가할 수 있다.
특별히 제한되는 것은 아니지만, 보조 용매로서는, 예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 테트라히드로푸란, 메틸 tert-부틸 에테르, 에틸 아세테이트, 이소프로판올, tert-부틸 아세테이트, 에탄올, 이소프로필 알콜, 톨루엔, 벤젠, 자일렌, 클로로벤젠, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 및 1,2-디클로로에탄 등이 포함된다. 상기는 각각 단독으로 또는 2 종 이상 병용되어 사용될 수 있다. 상기 중에서, 에틸 아세테이트, 톨루엔, 메틸 tert-부틸 에테르, 메틸렌 클로라이드 등은 용해도증가, 및 처리농도와 정제 효과 등의 처리 효과 개선 결과에 기여한다.
상기 보조 용매는, 상기 지방족 탄화수소 용매와 적당한 양으로 병용하여 사용되는 경우 그의 효과를 더욱 현저하게 발현하며, 적당한 양은 목적하는 효과 및 기타 요인과 관련하여 보조 용매의 특성에 따라 설정된다. 상기 보조 용매의 최적 사용량은 간단한 실험에 의해 설정될 수 있다. 상기 보조 용매의 사용량은 수율 및 정제 효과의 관점에서, 상기 화합물 (Ⅶ) 의 결정화 조작의 종료 시, 상기 보조 용매와 상기 지방족 탄화수소 용매의 중량 비(보조 용매/지방족 탄화수소 용매)가 1 이하인 양이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 상기 비가 0.5 이하인 양으로 사용된다.
본 발명의 정제/단리 방법은, 실온 부근에서 수행될 수 있다. 필요한 경우, 예를 들어 약 60 ℃ 이하, 통상적으로 50 ℃ 내지 -30 ℃ 의 온도에서 가온 또는 냉각 하에서 상기 방법이 수행될 수 있다.
상기와 같이 수득된 상기 화합물 (Ⅶ) 는 고체-액체 분리 기술에 의해, 필요하다면 이어서 케이크 세척 및 건조에 의해 분리된다. 상기 고체-액체 분리 기술은 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어, 가압여과, 감압여과, 원심분리 등의 방법 등을 포함한다. 상기 건조의 방법으로서는, 열분해 또는 용융을 피하기 위해 약 60 ℃ 이하에서, 감압 건조 (진공 건조)를 수행하는 것이 바람직하다.
공정 (4) 에서 수득되는 하기 화학식 Ⅶ:
[화학식 Ⅶ]
의 아실옥시메틸디옥사닐아세트산 유도체에서, R2및 R3는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시한다. 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 헥실기, 페닐기, 벤질기, p-메톡시벤질기 등이 언급될 수 있다. 메틸 기가 바람직하다.
또한, R2및 R3는 결합하여, 고리를 형성할 수 있다. 예를 들어, R2및 R3는 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 벤조시클로펜탄 고리 등을 형성하여, 1,3-디옥산고리를 갖는 스피로 구조를 구축할 수 있다.
공정 (5)
본 공정에서는, 공정 (4) 에서 수득된 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 (4R, 6S)-체의 입체배치를 갖는 아실옥시메틸디옥사닐아세트산 유도체를 염기의 존재 하에서, 공지 방법 등으로 가용매분해시켜, 하기 화학식 Ⅰ 의 (4R, 6S)-체의 입체배치를 갖는 히드록시메틸디옥사닐아세트산 유도체를 수득한다:
[화학식 Ⅶ]
[화학식 Ⅰ]
.
공정 (5) 에서 가용매분해를 위해 사용 가능한 염기로서는, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소 나트륨, 탄산 수소 칼륨, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 칼슘, 수산화 리튬, 수산화 바륨, 수산화 마그네슘, 아세트산 나트륨, 아세트산 칼륨, 암모니아, 트리에틸아민, 피리딘, 피페리딘, N,N-디메틸아미노피리딘 등의 무기 또는 유기 염기가 포함된다. 탄산 나트륨이 바람직하다.
상기 공정에서 염기의 사용량은 아실옥시메틸디옥사닐아세트산 유도체에 대해, 0.001 당량 내지 5 당량, 바람직하게는 0.01 당량 내지 1.0 당량인 것이 바람직하다.
공정 (5) 에서, 가용매분해를 수행하기 위해, 상기 반응을 물 중 또는 유기 용매 중, 또는 물 또는 양성자성 유기 용매 및 비양성자성 유기 용매의 혼합물 중에서 수행한다. 양성자성 유기 용매로서는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 이소프로필 알콜, 에틸렌 글리콜, 메톡시에탄올 등의 알콜 용매; 및 디에틸아민,피롤리딘, 피페리딘 등의 아민 용매가 포함된다. 상기 비양성자성 유기 용매로서는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 시클로헥산 등의 탄화수소 용매; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 메틸 t-부틸 에테르, 디메톡시에탄 등의 에테르 용매; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 에스테르 용매; 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등의 케톤 용매; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 1,1,1-트리클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소 용매; N,N-디메틸포름아미드, 아세토니트릴 등의 질소 함유 용매; 및 디메틸 술폭시드, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸인산 트리아미드 등의 비양성자성 극성 용매가 포함된다. 물, 메탄올 및 에탄올이 바람직하다.
공정 (5) 에 대한 반응 온도는 -20 ℃ 내지 100 ℃, 바람직하게는 -10 ℃ 내지 50 ℃ 이다.
상기 반응의 후처리는 반응 혼합물로부터 생성물을 회수하기 위해 일반적으로 수행되는 후처리일 수 있다. 예를 들어, 반응 종료 후의 반응 혼합물에 물을 첨가하고, 이어서, 통상의 추출 용매, 예컨대 에틸 아세테이트, 디에틸 에테르, 메틸렌 클로라이드, 톨루엔, 헥산 등으로 추출한다. 수득된 추출물로부터, 반응 용매 및 추출 용매를 감압 가열 등의 조작으로 제거하여, 목적 화합물을 단리시킨다. 대안적으로, 반응의 종료 후, 반응 용매를 즉시 감압 가열 등의 조작으로 증류 제거한 후, 상기와 동일한 과정을 수행할 수 있다. 상기와 같이 수득된 목적 생성물을 결정화, 분별 증류, 칼럼 크로마토그래피 등의 일반적인 방법으로 더욱 고순도로 정제할 수 있다.
본 발명의 실시를 위한 최량의 형태
하기 실시예는 본 발명을 상세 설명하지만, 본 발명의 범주가 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1(5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
헥산 (1.5 몰/L) 내 n-부틸리튬의 용액 21.3 mL (35 mmol) 에 디이소프로필아민 (3.54 g, 35 mmol) - 테트라히드로푸란 (10 mL) 의 용액을 5 ℃에서 교반하에 적하하고, 혼합물을 1 시간 동안 아르곤 하에 교반시켜, 리튬 디이소프로필아미드 용액을 제조하였다. 상기 용액을 -70 ℃ 로 냉각시키고, 4.06 g (35 mmol) 의 tert-부틸 아세테이트를 여기에 적하하고, 혼합물을 동일 온도에서 1 시간 동안 교반시켰다. 그 다음, THF 내 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 (1.02 g, 10 mmol) 의 용액 1 mL 를 적하하고, 전체 혼합물을 -70 ℃에서 2 시간 동안 교반시키고, 그 시간의 마지막에 온도를 -10 ℃ 로 가온시켰다. 별도의 용기에, 1N 염산 60 mL 및 디에틸 에테르 60 ml 를 교반 혼합시키고 상기 반응 혼합물을 여기에 부었다. 수상을 1N 염산으로 pH 6.5 로 조정하고, 방치 후, 유기층을 분리시켰다. 수층을 추가로 에틸 아세테이트 각각 50 mL 로 3 회 추출시키고, 유기층을 고이게 하고 무수 황산마그네슘으로 탈수시켰다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시키고 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 (Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:에틸 아세테이트 = 2:1) 로 정제시켰다. 상기 공정으로, (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 1.56 g (황색 오일) 을 수득하였다. 수율: 71 %.
실시예 2(5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
헥산 (1.5 몰/L) 내 n-부틸리튬의 용액 30 mL (45 mmol) 에 디이소프로필아민 (5.01 g, 49.5 mmol) - 테트라히드로푸란 (5 mL) 의 용액을 5 ℃에서 교반하에 적하하고, 혼합물을 1 시간 동안 아르곤 하에 교반시켜 리튬 디이소프로필아미드 용액을 제조하였다. 별도의 용기에, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 1.02 g (10 mmol) 및 tert-부틸 아세테이트 2.32 g (20 mmol) 을 테트라히드로푸란 8.0 mL 에 용해시키고 혼합물을 0 내지 5 ℃에서 아르곤 하에 교반시켰다. 상기 용액에, 상기 제조된 리튬 디이소프로필아미드 용액을 30 분 동안 적하하고, 혼합물을 추가로 5 내지 20 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 별도의 용기에, 3N 염산 35 mL 및 에틸 아세테이트 30 ml 를 교반 혼합시키고 상기 반응 혼합물을 여기에 부었다. 방치 후, 유기층을 취하여, 염화나트륨 포화 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 탈수시켰다. 그 다음, 용매를 감압 하에 증류시키고 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 (Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:에틸 아세테이트 = 2:1) 로 정제시켜 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 124 mg (황색 오일) 을 수득하였다. 수율: 6 %.
실시예 3(5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
헥산 (1.5 몰/L) 내 n-부틸리튬의 용액 22.9 mL (35 mmol) 에 디이소프로필아민 (3.90 g, 38.5 mmol) - 테트라히드로푸란 (3 mL) 의 용액을 5 ℃에서 교반하에 적하하고, 혼합물을 1 시간 동안 아르곤 하에 교반시켜 리튬 디이소프로필아미드 용액을 제조하였다. 별도의 용기에, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 1.02 g (10 mmol) 및 tert-부틸 아세테이트 2.32 g (20 mmol) 을 테트라히드로푸란 3.0 mL 에 용해시키고 혼합물을 0 내지 5 ℃에서 아르곤 하에 교반시켰다. 상기 용액에, 톨루엔/테트라히드로푸란 (1:2.5 중량비) 내 tert-부틸마그네슘 클로라이드 용액 (1.75 몰/kg) 5.7 g (10 mmol) 을 10 분 동안 적하하고, 혼합물을 추가로 5 ℃에서 50 분 동안 교반시켰다. 상기 혼합물에 상기 제조된 리튬 디이소프로필아미드 용액을 30 분 동안 적하시킨 후, 5 내지 20 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다.
별도의 용기에, 3N 염산 30 mL 및 에틸 아세테이트 30 ml 를 교반 혼합시키고 상기 반응 혼합물을 여기에 부었다. 방치 후, 유기층을 취하여, 염화나트륨 포화 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘으로 탈수시켰다. 그 다음, 용매를 감압 하에 증류시키고 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 (Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:에틸 아세테이트 = 2:1) 로 정제시켜 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 (적색 오일) 980 mg 을 수득하였다. 수율: 48 %.
실시예 4(5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
테트라히드로푸란 40 mL 내 아연 분제 9.82 g (150 mmol) 의 서스펜션에 트리메틸실릴 클로라이드 1.9 mL(15 mmol) 를 실온에서 첨가하고, 혼합물을 30 분 동안 교반시켰다. 상기 혼합물에 tert-부틸 α-브로모아세테이트 2.4 mL (10.5 mmol) 및 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 4.27 g (42 mmol) 을 첨가시키고, 온도를 65 ℃ 로 가온시켰다. 동일 온도에서, tert-부틸 α-브로모아세테이트 15.3 mL (94.5 mmol) 을 추가로 30 분 동안 점진적으로 첨가시켰다. 첨가 종료 후, 혼합물을 추가로 65 ℃에서 30 분 동안 교반시키고, 그 시간의 마지막에 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 물 50 mL 로 희석시켰다. 그 다음 반응 혼합물을 20 % NaOH 수용액으로 pH 6.8 로 조정하고 침전된 고체를 여과시켰다. 여과물을 에틸 아세테이트 각각 100 mL 로 3 회 추출시키고, 유기층을 조합하고 무수 황산나트륨으로 탈수시켰다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시켜 황색 오일을 수득하였다. 상기 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 (Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:아세톤 = 5:1) 로 정제시켜 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 2.66 g (황색 오일) 을 수득하였다. 수율: 29 %.
실시예 5(5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
메틸렌 클로라이드 120 mL 내 실시예 1에서 제조되는 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 16.8 g (77 mmol) 의 용액에 피리딘 11.2 mL 및 벤조일 클로라이드 10.2 mL를 0 ℃에서 첨가하고, 혼합물을 0 ℃에서 2 시간 동안 교반시켰다. 반응 종료 후, 반응 혼합물을 물 38 mL 로 희석시키고 20 % NaOH 수용액으로 pH 7 로 조정하였다. 수층을 분리하고 추가로 메틸렌 클로라이드 각각 120 mL 로 2 회 추출하였다. 유기층을 조합하고 무수 황산나트륨으로 탈수시키고 용매를 감압 하에 증류시켜 오일을 수득하였다. 상기 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피 (Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:아세톤 = 5:1) 로 정제시켜 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 19.3 g (백색 고체) 을 수득하였다. 수율: 78 %.
실시예 6(5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
헥산 (1.5 몰/L) 내 n-부틸리튬의 용액 109 mL (175 mmol) 에 디이소프로필아민 (19.48 g, 195 mmol) - 테트라히드로푸란 (30 mL) 의 용액을 5 ℃에서 교반하에 적하하고, 혼합물을 1 시간 동안 아르곤 하에 교반시켜 리튬 디이소프로필아미드 용액을 제조하였다. 별도의 용기에, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 5.10 g (50 mmol) 및 tert-부틸 아세테이트 14.5 g (125 mmol) 을 테트라히드로푸란 60 mL 에 용해시키고 용액을 0 내지 5 ℃에서 아르곤 하에 교반시켰다. 상기 용액에, 톨루엔/테트라히드로푸란 (1:2.5 중량비) (1.8 몰/kg) 내 tert-부틸마그네슘 클로라이드의 혼합 용액 27.8 g (50 mmol) 을 30 분 동안 적하하고, 혼합물을 추가로 5 ℃에서 30 분 동안 교반시켰다. 상기 혼합물에 상기 제조된 리튬 디이소프로필아미드 용액을 3 시간 동안 적하시키고, 혼합물을 추가로 5 내지 20 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 별도의 용기에, 아세트산 25.05 g, 물 75 mL, 및 에틸 아세테이트 150 mL 를 교반 혼합시키고 상기 반응 혼합물을 여기에 부었다. 방치 후, 수층을 분리시키고 추가로 에틸 아세테이트 각각 150 mL 로 2 회 추출하였다. 유기층을 조합하고, 염화나트륨 포화 수용액 20 mL 로 희석시키고, 3N 염산으로 pH 3 으로 조정하였다. 수층을 분리시킨 후, 유기층을 추가로 탄산수소나트륨 포화 수용액 20 mL 로 세척하고 무수 황산마그네슘으로 탈수시켰다. 용매를 감압 하에 증류시켜 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르를 함유하는 황색 오일 18.18 g 을 수득하였다.
상기 오일에, 피리딘 6.32 g (80 mmol) 및 톨루엔 50 mL를 첨가하고, 혼합물을 5 ℃ 로 냉각시켰다. 상기 혼합물에 벤조일 클로라이드 6.32 g (45 mmol)을 첨가하고, 전체 혼합물을 5 ℃에서 1.5 시간 동안 교반시켰다. 그 다음, 물 25 mL 및 3N 염산 15 mL를 첨가하였다. 상기 혼합물을 에틸 아세테이트 100 mL 로 추출하고 유기층을 탄산수소나트륨 포화 용액 30 mL 및 물 50 mL 로 2 회 세척하였다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시켜 황색 오일 18.43 g을 수득하였다. 상기 오일을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 분석은 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르의 반응 수율이 55 % 임을 나타내었다.
실시예 7(5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
테트라히드로푸란 (1.8 몰/L) 내 n-부틸마그네슘 클로라이드의 용액 125 mL (225 mmol) 에 디이소프로필아민 25.04 g (247.5 mmol) 을 40 ℃ 에서 교반하에 적하하고, 혼합물을 추가로 2 시간 동안 40 ℃ 에서 아르곤 하에 교반시켜 클로로마그네슘 디이소프로필아미드의 백색 슬러리를 제조하였다. 별도의 용기에, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 5.10 g (50 mmol) 및 tert-부틸 아세테이트 1.45 g (125 mmol) 을 디메톡시에탄 30 mL 에 용해시키고 용액을 0 내지 5 ℃ 에서 아르곤 하에 교반시켰다. 상기 용액에 상기 제조된 클로로마그네슘 디이소프로필아미드 슬러리를 3 시간 동안 적하시키고, 혼합물을 추가로 5 내지 20 ℃ 에서 16 시간 동안 교반시켰다.
별도의 용기에, 아세트산 28.4 g, 물 100 mL, 및 에틸 아세테이트 150 ml 를 교반 혼합시키고 상기 반응 혼합물을 여기에 부었다. 방치 후, 수층을 분리시키고 추가로 에틸 아세테이트 각각 150 ml 로 2 회 추출시켰다. 유기층을 조합하고, 염화나트륨 포화 수용액 20 mL 로 희석시키고, 3N 염산으로 pH 3 으로 조정하고, 수층을 분리시켰다. 유기층을 추가로 탄산수소나트륨 포화 수용액 20 mL 로 세척하고 무수 황산마그네슘으로 탈수시키고, 용매를 감압 하에 증류시켜 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르를 함유하는 적색 오일 14.24 g 을 수득하였다. 상기 오일에, 피리딘 6.32 g (80 mmol) 및 톨루엔 50 mL 를 첨가하고, 혼합물을 5 ℃ 로 냉각시켰다. 상기 혼합물에 벤조일 클로라이드 5.62 g (40 mmol) 을 첨가하고, 전체 혼합물을 5 ℃에서 1 시간 동안 교반시켰다. 그 다음, 물 25 mL 및 3N 염산 15 mL를 첨가시켰다. 상기 혼합물을 에틸 아세테이트 150 mL 로 추출시키고 유기층을 탄산수소나트륨 포화 용액 30 mL 및 물 30 mL 로 2회 세척하였다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시켜 황색 오일 18.12 g을 수득하였다. 상기 오일을 고성능 액체 크로마토그래피 (칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 결과로서, (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르의 반응 수율이 53 % 임을 발견하였다.
실시예 8(5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르
헥산 (1.6 몰/L) 내 n-부틸리튬의 용액 141 mL (225 mmol) 에 디이소프로필아민 (25.04 g, 247.5 mmol) - 테트라히드로푸란 (30 mL) 의 용액을 5 ℃ 에서 교반하에 적하하고, 혼합물을 1 시간 동안 아르곤 하에 교반시켜 리튬 디이소프로필아미드 용액을 제조하였다. 별도의 용기에, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 5.10 g (50 mmol), tert-부틸 아세테이트 14.5 g (125 mmol) 및 무수 염화마그네슘 9.52 g (100 mmol) 을 테트라히드로푸란 30 ml 에 용해시키고 용액을 0 내지 5 ℃ 에서 아르곤 하에 교반시켰다. 상기 용액에 상기 제조된 리튬 디이소프로필아미드 용액을 3 시간 동안 적하시키고, 혼합물을 추가로 5 내지 20 ℃ 에서 16 시간 동안 교반시켰다. 별도의 용기에, 아세트산 28.4 g, 물 100 mL, 및 에틸 아세테이트 150 mL 를 교반 혼합시키고 상기 반응 혼합물을 여기에 부었다. 방치 후, 수층을 분리시키고 추가로 에틸 아세테이트 각각 150 ml 로 2 회 추출시켰다. 유기층을 조합하고, 염화나트륨 포화 수용액 20 mL 로 희석시키고, 3N 염산으로 pH 3 으로 조정하고, 수층을 분리시켰다. 유기층을 추가로 탄산수소나트륨 포화 수용액 20 mL 로 세척하고 무수 황산마그네슘으로 탈수시키고, 용매를 감압 하에 증류시켜 (5S)-5,6-디히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르를 함유하는 적색 오일 12.74 g 을 수득하였다.
상기 오일에, 피리딘 6.32 g (80 mmol) 및 톨루엔 50 mL 를 첨가하고, 혼합물을 5 ℃ 로 냉각시켰다. 상기 혼합물에 벤조일 클로라이드 5.62 g (40 mmol) 을 첨가하고, 전체 혼합물을 5 ℃에서 1 시간 동안 교반시켰다. 그 다음, 물 25 mL 및 3N 염산 15 mL를 첨가시켰다. 상기 혼합물을 에틸 아세테이트 150 mL 로 추출시키고 유기층을 탄산수소나트륨 포화 용액 30 mL 및 물 30 mL 로 2회 세척하였다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시켜 적색 오일 17.92 g을 수득하였다. 상기 오일을 고성능 액체 크로마토그래피 (칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 결과로서, (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르의 반응 수율이 55 % 임을 발견하였다.
실시예 9(5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르의 정제
실시예 6에서 제조된 바와 같이 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르를 함유하는 오일을 고성능 액체 크로마토그래피 (조건은 실시예 6 에 기재됨) 로 분석하였다. 순도: 48.2 중량% (58.1 면적%). 불순물로서, 오일은 (5S)-5,6-디벤질옥시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 4.8 중량% (6.5 면적%)를 함유하였다. 상기 오일 ((5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르: 8.88 g) 18.43 g 에 톨루엔 30 mL를 첨가하여 균질 용액을 만들고, 그 다음 헥산 80 mL를 첨가하고, 혼합물을 5 ℃ (처리 농도: 8 % (기질 중량/용액 부피)) 로 냉각시켰다. 상기 불투명 용액에, 종결정 약 10 mg을 첨가하고, 혼합물을 추가로 동일 온도에서 1 시간 동안 격렬하게 교반시켰다. 생성 결정을 감압 여과로 수집하고, 완전히 유출시키고, 헥산 50 mL 로 세척하고, 진공 (약 1 - 5 mmHg, 20 내지 40 ℃, 2 시간) 내 건조시켜, 이에 의해 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 6.12 g을 결정(결정화 회수율 67 %)으로서 수득하였다. 분석: 순도 97.7 중량% (95.4 면적%); (5S)-5,6-디벤질옥시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 함량: 0.7 중량% (0.7 면적%).
실시예 10(5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르의 정제
실시예 7 에서 제조된 바와 같이 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르를 함유하는 오일을 고성능 칼럼 크로마토그래피 (조건은 실시예 6 에 기재됨) 로 분석하였다. 순도는 45.0 중량% (47.2 면적%) 이고 불순물 (5S)-5,6-디벤질옥시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 함량: 4.7 중량% (4.9 면적%) 이었다. 상기 오일 ((5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르: 8.15 g) 18.12 g 에 톨루엔 20 mL를 첨가하여 균질 용액을 제조하였다. 상기 용액에 헥산 80 mL를 첨가하고, 혼합물을 -30 ℃ (처리 농도: 8 % (기질 중량/용액 부피)) 로 냉각시켰다. 생성 불투명 용액에 종결정 약 10 mg을 첨가하고, 혼합물을 동일 온도에서 1 시간 동안 격렬하게 교반시켰다. 분리된 결정을 감압 여과로 수집하고, 완전히 유출시키고, 헥산 50 mL 로 세척하였다. 상기 결정 수확물을 진공 (약 1 - 5 mmHg, 20 내지 40 ℃, 2 시간) 내 건조시켜 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 6.68 g을 결정(결정화 회수율77 %)으로서 수득하였다. 결정의 분석은 순도 95.8 중량% (94.9 면적%) 및 (5S)-5,6-디벤질옥시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 함량 1.6 중량% (1.6 면적%) 를 나타냈다.
실시예 11(3R,5S)-6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르
대형 시험관을 아래 기재되는 배지 A 5 ml 로 충전시키고, 살균 후, 표 1 및 표 2 에 지시된 미생물중 하나로 접종시켰다. 호기성 교반 배양을 27 ℃에서 2 내지 3 일 동안 수행하였다. 생성 배양액의 1.5 ml 로부터, 균체를 원심분리로 수확하고 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 0.05 % 및 글루코스 8 %를 함유하는 100 mM 포스페이트 완충액(pH 6.5) 0.5 ml 에 현탁시켰다. 서스펜션을 나사형 마개가 장착된 시험관에 넣고 반응을 교반 하에 27 ℃에서 20 시간 동안 수행하였다. 반응 후, 에틸 아세테이트 4 부피를 반응 혼합물에 첨가하고 철저한 혼합 후에, 균체를 원심 분리로 제거하였다. 상청액을 반응 혼합물 1 ml 당 제조되는 (3R,5S)-6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르의 양 및 부분입체이성질체 비율 (= (3R,5S)/(3S,5S) 비율) 로 분석하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타내었다.
실시예 12(3R,5S)-6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르
상기 기재되는 배지 B 5 ml를 이용하여, 표 3 에 지시된 미생물을 실시예 11 에서와 동일한 방식으로 배양시켰다. 이후, 반응을 동일한 방식으로 수행하였다. 결과를 표 3 에 나타내었다.
실시예 13(3R,5S)-6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르
상기 기재되는 배지 C 5 ml를 이용하여, 표 4 에 지시된 미생물을 실시예 11 에서와 동일한 방식으로 배양시켰다. 각 배양액 5 ml 로부터, 균체를 원심분리로 수확하고, (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 0.05 % 및 글루코스 8 %를 함유하는 100 mM 포스페이트 완충액(pH 6.5) 0.5 ml 에 현탁시키고, 반응을 동일한 방식으로 수행하였다. 결과를 표 4 에 나타내었다.
실시예 14(3R,5S)-6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸
상기 기재되는 배지 D 5 ml를 이용하여, 표 5 에 지시된 미생물을 실시예 13 에서와 동일한 방식으로 배양시켰다. 그 다음, 동일 반응을 수행하였다. 결과를 표 5 에 나타내었다.
실시예 15(3R,5S)-6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸
500 ml 용량의 사까구찌(Sakaguchi) 플라스크를 박토-트립톤(Bacto- tryptone) 1.6 %, 박토-효모 추출물 1 %, 및 염화나트륨 1 % (pH 7.0) 으로 구성되는 매질 100 ml 로 채우고, 살균 후, 에스쉐리키아 콜라이 HB101 (pNTCRG); FERM BP-6898 (1999년 9월 28일자로 National Institute of Bioscience and Human-Technology (일본 이바라끼껭 쓰꾸바시 히가시 1 쵸메 1-3) 로 기탁됨) 로 접종시켰다. 진탕 배양을 37 ℃에서 12 시간 동안 수행하였다. 배양 종료 후, (5S)-6-벤질옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 1 g, 글루코스 610 mg, 및 산화된 니코틴아미드-아데닌 디뉴클레오티드 포스페이트 3 mg을 첨가하고 반응을 24 시간 동안 수행하고, 그 동안 pH를 수산화나트륨으로 6.5 로 유지시켰다. 반응 종료 후, 균체를 원심분리로 제거하고 상청액을 에틸 아세테이트 각각 100 mL 로 2 회 추출시켰다. 수득된 유기상을 무수 황산나트륨으로 탈수시키고 용매를 감압 하에 증류시켜 6-벤질옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 900 mg을 오일로서 수득하였다. 실시예 11 에 기재된 방법으로 분석시, 상기 생성물의 부분입체이성질체 비율은 (3R,5S)/(3S,5S) = 99.5/0.5 이었다.
실시예 162-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 8.94 g (27.6 mmol), 2,2-디메톡시프로판 35.8 mL, 및 메틸렌 클로라이드 2.5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 269 mg (1.4 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 20 ℃에서 4 시간 동안 교반시키고, 이후 탄산수소나트륨 포화 용액 500 mL를 첨가하였다. 수층을 분리시키고 추가로 메틸렌 클로라이드 각각 20 mL 로 2 회 추출시키고, 유기층을 조합시킨다. 조합된 용액을 무수 황산나트륨으로 탈수시키고 용매를 감압 하에 증류시켜 무색 오일을 수득한다. 상기 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 (Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:아세톤 = 10:1)로 정제시켜 (5S)-6-벤조일옥시-5-히드록시-3-옥소헥산산 tert-부틸 에스테르 7.24 g (백색 고체)을 수득하였다. 수율 72 %.
실시예 172-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 5.7 mg (0.03 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 78.8 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 7.5 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 5.9 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 3.0 %.
실시예 182-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 5.7 mg (0.03mmol) 및 피리딘 11.9 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 93.1 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 3.4 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 0.1 %.
실시예 192-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 5.7 mg (0.03 mmol) 및 트리에틸아민 15.2 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 93.3 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 3.0 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 0.1 %.
실시예 202-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 5.7 mg (0.03 mmol) 및 이미다졸 10.2 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 93.9 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 3.0 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 0.1 %.
실시예 212-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 5.7 mg (0.03 mmol) 및 3-메틸피리딘 14.0 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 93.8 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 2.8 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 0.1 %.
실시예 222-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 5.7 mg (0.03 mmol) 및 N,N-디메틸아미노피리딘 18.3 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 93.8 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 2.3 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 0.1 %.
실시예 232-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, 메탄술폰산 3.0 mg (0.03 mmol) 및 피리딘 11.9 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 95.6 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 2.6 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 검출 안됨.
실시예 242-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, 트리플루오로아세트산 3.5 mg (0.03 mmol) 및 피리딘 11.9 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 89.3 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 8.8 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 검출 안됨.
실시예 252-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 108 mg (90.2 중량%, 0.3 mmol), 2,2-디메톡시프로판 62.4 mg (0.6 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, 황산 1.5 mg (0.015 mmol) 및 피리딘 11.9 mg (0.15 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 16 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 95.8 %; (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 2.3 %; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 %; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 검출 안됨.
실시예 262-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르의 정제
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 3.24 g (90.2 중량%, 9.0 mmol), 2,2-디메톡시프로판 2.12 g (18.0 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 95 mg (0.45 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 4 시간 동안 교반시켰다. 용매를 감압 하에 증류시키고 잔류물을 에틸 아세테이트 25 mL 및 탄산수소나트륨 포화 수용액 10 mL를 이용하여 추출시켰다. 수층의 분리 후, 유기층을 추가로 물 10 mL 로 세척하였다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시켜 무색 오일 3.764 g을 수득하였다. 상기 오일을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 79.7 중량%. 불순물로서, (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 0.1 중량%; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 중량%; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 5.0 중량%; 2-[(4S,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르 0.2 중량%를 함유하였다.
상기 오일에 헥산 30 mL를 첨가하고, 혼합물을 -30 ℃ (처리 농도: 10 % (기질 중량/용액 부피)) 로 냉각시켰다. 종결정 약 10 mg을 첨가하고 혼합물을 추가로 동일 온도에서 1 시간 동안 격렬하게 교반시켰다. 분리되는 결정을 감압 여과로 수집하고, 완전히 유출시키고, 차가운 헥산 10 mL 로 세척하였다. 그 다음 결정 수확물을 진공 (약 1 - 5 mmHg, 20 내지 40 ℃, 2 시간) 내 건조시켜 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르 2.46 g 을 결정(결정화 회수율 81 %)으로서 수득하였다. 상기 결정의 분석은 순도 97.2 중량% (96.8 면적%)를 나타내었다. 불순물로서, 결정 수확물은 하기를 함유하였다: 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 2.8 중량% (2.8 면적%); (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 검출 안됨; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 검출 안됨; 2-[(4S,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 검출 안됨.
실시예 272-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르의 정제
실시예 15에서 제조되는 (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르 3.24 g (90.2 중량%, 9.0 mmol), 2,2-디메톡시프로판 2.12 g (18.0 mmol), 및 아세톤 5 mL 로 구성된 용액에, p-톨루엔술폰산 ·1 H2O 95 mg (0.45 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 40 ℃에서 4 시간 동안 교반시켰다. 용매를 감압 하에 증류시키고 잔류물을 에틸 아세테이트 25 mL 및 탄산수소나트륨 포화 수용액 10 mL를 이용하여 추출시켰다. 수층의 분리 후, 유기층을 추가로 물 10 mL 로 세척하였다. 그 다음 용매를 감압 하에 증류시켜 무색 오일 3.764 g을 수득하였다. 상기 오일을 고성능 액체 크로마토그래피(칼럼: Develosil ODS-HG-3 4.6 ×250 mm, Nomura Chemical 제품, 용리액: 물/아세토니트릴 = 50/50, 유속: 1.0 mL/분, 검출기: UV 220 nm, 칼럼 온도: 40 ℃)로 분석하였다. 조성 수득값은 하기와 같다.
2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 86.0 중량%. 불순물로서, (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 0.1 중량%; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 0.1 중량%; 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 5.4 중량%; 2-[(4S,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르 0.2 중량%를 함유하였다.
상기 오일에 메틸시클로헥산 30 mL를 첨가하고, 혼합물을 -30 ℃ (처리 농도: 10 % (기질 중량/용액 부피)) 로 냉각시켰다. 종결정 약 10 mg을 첨가하고 혼합물을 추가로 동일 온도에서 1 시간 동안 격렬하게 교반시켰다. 분리되는 결정을 감압 여과로 수집하고, 완전히 유출시키고, 차가운 메틸시클로헥산 10 mL 로 세척하였다. 그 다음 결정 수확물을 진공 (약 1 - 5 mmHg, 20 내지 40 ℃, 2 시간) 내 건조시켜 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르 2.24 g 을 결정(결정화 회수율 74 %)으로서 수득하였다. 상기 결정의 분석은 순도 97.2 중량% (96.8 면적%)를 나타내었다. 불순물로서, 결정 수확물은 하기를 함유하였다: 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 메틸 에스테르: 2.8 중량% (2.8 면적%); (5S)-6-벤조일옥시-3,5-디히드록시헥산산 tert-부틸 에스테르: 검출 안됨; (2S,4R)-4-히드록시-6-옥소-2-[(벤조일옥시)메틸]테트라히드로-2H-피란: 검출 안됨; 2-[(4S,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르: 검출 안됨.
실시예 282-[4R,6S]-6-(히드록시메틸)-2,2-디메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르
메탄올(36 mL)내 실시예 26에서 생성된 2-[(4R,6S)-2,2-디메틸-6-벤조일옥시메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르 3.64 g (10 mmol) 의 용액에 1N 수산화나트륨 수용액 10 mL 를 첨가하고, 혼합물을 실온에서 2 시간 동안 교반시켰다. 상기 반응 혼합물을 빙냉하 1N 염산의 점진적 첨가로 pH 7 로 조정하였다. 그 다음 메탄올을 감압 하에 증류시키고 잔류 수용액을 메틸렌 클로라이드 각각 70 mL 로 2 회 추출시켰다. 유기층을 무수 황산나트륨으로 탈수시키고 용매를 감압 하에 증류시켜 무색 오일을 수득하였다. 상기 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(Kieselgel 60, Merck 제품; 헥산:아세톤 = 5:1)로 정제시켜 2-[(4R,6S)-6-(히드록시메틸)-2,2-디메틸-1,3-디옥산-4-일]아세트산 tert-부틸 에스테르 2.34 g (백색 고체)을 수득하였다. 수율 90 %.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 있어서, 의약품 중간체, 특히 HMG-CoA 환원효소 저해제의 중간체로서 유용한 광학 활성 2-[6-(히드록시메틸)-1,3-디옥산-4-일]아세트산 유도체를 저온 반응기 등의 임의의 특별한 장치를 이용하지 않고, 저가의 입수 용이한 원료로부터 제조할 수 있다.

Claims (103)

  1. 하기 공정 (1) ~ (5) 를 포함하는 하기 화합물 (Ⅰ) 의 제조 방법:
    [화학식 Ⅰ]
    [식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있음];
    (1) 하기 화학식 Ⅱ 로 표현되는 아세트산 에스테르 유도체에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트를, 하기 화학식 Ⅲ 으로 표현되는 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤과 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
    [화학식 Ⅱ]
    [식 중, R1은 상기 정의된 바와 같고; X1은 수소 또는 할로겐 원자를 표시함]
    [화학식 Ⅲ]
    [화학식 Ⅳ]
    [식 중, R1은 상기 정의된 바와 같음];
    (2) 상기 화합물을 염기의 존재 하에서 아실화제로 처리하여, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
    [화학식 Ⅴ]
    [식 중, R1은 상기 정의된 바와 같고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시함];
    (3) 상기 화합물을 미생물로 환원시켜 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
    [화학식 Ⅵ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음];
    (4) 상기 화합물을 산 촉매의 존재 하에서, 아세탈 형성 시약으로 처리하여 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 제조하는 공정:
    [화학식 Ⅶ]
    [식 중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같음]; 및
    (5) 상기 화합물을 염기의 존재 하에서 가용매분해시키는 공정.
  2. 제 1 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1은 수소 원자이고, 하기 화학식 Ⅷ 로 표현되는 마그네슘 아미드가 에놀레이트의 제조시 염기로서 사용되는 제조 방법:
    [화학식 Ⅷ]
    [식 중, R5및 R6는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기, 또는 실릴기를 표시하고; X2는 할로겐 원자를 표시함].
  3. 제 2 항에 있어서, 마그네슘 아미드 (Ⅷ) 의 R5및 R6가 각각 이소프로필기이고, X2가 염소 원자인 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1이 할로겐 원자이고, 에놀레이트의 제조시 마그네슘 또는 아연이 0 가 금속으로서 사용되는 제조 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 에놀레이트와 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 (Ⅲ) 의 반응이 폴리에테르의 존재 하에서 수행되는 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 디메톡시에탄이 폴리에테르로서 사용되는 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 Ⅲ 으로 표현되는 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤을, 하기 화학식 Ⅸ 로 표현되는 그리냐르(Grignard) 시약으로 미리 처리하고, 하기 화학식 Ⅱ 로 표현되는 아세트산 에스테르 유도체에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트와 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜, 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물을 제조하는 제조 방법:
    [화학식 Ⅲ]
    [화학식 Ⅸ]
    [식 중, R7은 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; X3는 할로겐 원자를 표시함]
    [화학식 Ⅱ]
    [식 중, R1및 X1은 상기 정의된 바와 같음]
    [화학식 Ⅳ]
    [식 중, R1은 상기 정의된 바와 같음].
  8. 제 7 항에 있어서, 그리냐르 시약 (Ⅸ) 의 R7이 tert-부틸기이고, X3가 염소 원자인 제조 방법.
  9. 제 1 항에 있어서, (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 (Ⅲ) 를 염기 및 마그네슘 화합물로 미리 처리하고, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트와 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜, 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물을 제조하는 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 염기가 수소화 나트륨, 리튬 디이소프로필아미드 또는 클로로마그네슘 디이소프로필아미드인 제조 방법.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 마그네슘 화합물이 마그네슘 클로라이드 또는 마그네슘 브로마이드인 제조 방법.
  12. 제 7 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1이 수소 원자이고, 하기 화학식 Ⅹ 로 표현되는 리튬 아미드가 에놀레이트 제조시 염기로 사용되는 제조 방법:
    [화학식 Ⅹ]
    [식 중, R8및 R9은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기, 또는 실릴기를 표시함].
  13. 제 12 항에 있어서, 리튬 아미드 (Ⅹ) 의 R8및 R9이 각각 이소프로필기인 제조 방법.
  14. 제 7 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1이 할로겐 원자이고, 에놀레이트 제조시 마그네슘 또는 아연이 0 가 금속으로서 사용되는 제조 방법.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 아실화 공정에서 하기 화학식 XI 로 표현되는 화합물 또는 하기 화학식 XⅥ 로 표현되는 화합물이 아실화제로서 사용되는 제조 방법:
    [화학식 XI]
    [화학식 XⅥ]
    .
    [식들 중, R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고, Q 는 이탈기를 표시함].
  16. 제 15 항에 있어서, 아실화제 (XI) 의 Q 가 할로겐 원자인 제조 방법.
  17. 제 16 항에 있어서, 할로겐 원자가 염소 원자인 제조 방법.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 아실화 공정에서 염기로서 사용되는 제조 방법.
  19. 제 18 항에 있어서, 트리에틸아민 또는 피리딘이 아민으로서 사용되는 제조 방법.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 아실화 공정에서, 불순물이 혼입된 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을, 지방족 탄화수소 용매로 처리하여,하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물을 제거하고, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 결정 형태로서 수득하는 제조 방법:
    [화학식 Ⅴ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  21. 제 20 항에 있어서, 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물이 하기 화학식 XⅡ 로 표현되는 화합물인 제조 방법:
    [화학식 XⅡ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  22. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서, 지방족 탄화수소 용매가 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 또는 이소옥탄인 제조 방법.
  23. 제 20 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 보조 용매를 부가적으로 사용하여 결정화를 수행하고, 상기 용매를 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물의 용해도, 수율, 처리 농도, 정제 효과, 및 수득 가능한 결정의 물성 중 하나 이상을 개선하려는 목적으로 사용하는 제조 방법.
  24. 제 23 항에 있어서, 보조 용매를 결정화 조작의 종료 시 상기 보조 용매와 지방족 탄화수소 용매의 중량 비(상기 보조 용매/지방족 탄화수소 용매)가 1 이하인 양으로 사용하는 제조 방법.
  25. 제 23 항 또는 제 24 항에 있어서, 보조 용매가 톨루엔, 에틸 아세테이트, 메틸 tert-부틸 에테르 및 메틸렌 클로라이드로 구성되는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 제조 방법.
  26. 제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 배양 브로쓰, 미생물의 균체 또는 균체 처리물을 미생물을 사용하는 환원 공정에서 사용하고, 사용되는 상기 미생물은 하기 속(屬)에 속하는 미생물들로부터 선택되는 제조 방법:
    아쉬비아 (Ashbya), 보트리오아스커스 (Botryoascus), 브레타노마이세스 (Brettanomyces), 칸디다 (Candida), 시테로마이세스 (Citeromyces), 클라비스포라 (Clavispora), 크립토코커스 (Cryptococcus), 데바리오마이세스 (Debaryomyces), 데케라 (Dekkera), 디포다스커스 (Dipodascus), 갈락토마이세스 (Galactomyces),지오트리쿰 (Geotrichum), 한세니아스포라 (Hanseniaspora), 한세눌라 (Hansenula), 호르모아스커스 (Hormoascus), 히포피키아 (Hyphopichia), 잇사첸키아 (Issatchenkia), 클루이베로마이세스 (Kluyveromyces), 코마가타엘라 (Komagataella), 리포마이세스 (Lipomyces), 메치니코비아 (Metschnikowia), 나카자와에아 (Nakazawaea), 오가타에아 (Ogataea), 파키솔렌 (Pachysolen), 피키아 (Pichia), 로도토룰라 (Rhodotorula), 로드스포리디움 (Rhodsporidium), 사카로마이세스 (Saccharomyces), 사카로마이코데스 (Saccharomycodes), 사카로마이콥시스 (Saccharomycopsis), 사투르노스포라 (Saturnospora), 시조블라스토스포리온 (Schizoblastosporion), 시조사카로마이세스 (Schizosaccharomyces), 쉬반니오마이세스 (Schwanniomyces), 스포리디오볼러스 (Sporidiobolus), 스포로볼로마이세스 (Sporobolomyces), 토룰라스포라 (Torulaspora), 토룰롭시스 (Torulopsis), 트리코스포론 (Trichosporon), 트리고놉시스 (Trigonopsis), 윌롭시스 (Willopsis), 야마다지마 (Yamadazyma), 지고사카로마이세스 (Zygosaccharomyces), 아시디필리움 (Acidiphilium), 에어로박터 (Aerobacter), 알칼리게네스 (Alcaligenes), 아르트로박터 (Arthrobacter), 오레오박테리움 (Aureobacterium), 바실러스 (Bacillus), 브레비박테리움 (Brevibacterium), 부티옥셀라 (Buttiauxella), 세데세아 (Cedecea), 셀룰로모나스 (Cellulomonas), 시트로박터 (Citrobacter), 클로스트리디움 (Clostridium), 코마모나스 (Comamonas), 코리네박테리움 (Corynebacterium), 엔테로박터 (Enterobacter), 에르비니아 (Erwinia), 에스쉐리키아 (Escherichia), 플라보박테리움 (Flavobacterium), 클레브시엘라 (Klebsiella), 루테오코커스(Luteococcus), 마이크로박테리움 (Microbacterium), 마이크로코커스 (Micrococcus), 오크로박트럼 (Ochrobactrum), 프로테우스 (Proteus), 프로비덴시아 (Providencia), 슈도모나스 (Pseudomonas), 로도코커스 (Rhodococcus), 사르시나 (Sarcina), 세라티아 (Serratia), 스핑고박테리움 (Sphingobacterium), 츠카무렐라 (Tsukamurella), 압시디아 (Absidia), 아크레모늄 (Acremonium), 아에게리타 (Aegerita), 아그로사이브 (Agrocybe), 아밀로스테레움 (Amylostereum), 아스페르길러스 (Aspergillus), 비쏘클라미스 (Byssochlamys), 카에토미듐 (Chaetomidium), 카에토사르토리아 (Chaetosartorya), 클라도스포륨 (Cladosporium), 코프리너스 (Coprinus), 크리니펠리스 (Crinipellis), 엔도프라그미아 (Endophragmia), 플라볼러스 (Flavolus), 포미톱시스 (Fomitopsis), 푸사륨 (Fusarium), 가노데르마 (Ganoderma), 글로메렐라 (Glomerella), 라에티포러스 (Laetiporus), 렌티너스 (Lentinus), 렌지테스 (Lenzites), 마크로포마 (Macrophoma), 모나스커스 (Monascus), 모르티에렐라 (Mortierella), 파에실로마이세스 (Paecilomyces), 페니실륨 (Penicillium), 피알로포라 (Phialophora), 폴리오타 (Pholiota), 플루로터스 (Pleurotus), 스코풀라리옵시스 (Scopulariopsis), 세히조필룸 (Sehizophyllum), 스포로트리쿰 (Sporotrichum), 지고린커스 (Zygorhynchus), 마이크로테트라스포라 (Microtetraspora) 및 스트렙토마이세스 (Streptomyces).
  27. 제 1 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서, 미생물을 사용하는 환원 공정에서 사용되는 미생물이 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 제조 방법:
    아쉬비아 고시피 (Ashbya gossypii), 보트리오아스커스 신나에덴드러스 (Botryoascus synnaedendrus), 브레타노마이세스 커스테르시아누스 (Brettanomyces custersianus), 칸디다 아르보레아 (Candida arborea), 칸디다 카테눌라타 (Candida catenulata), 칸디다 페니카 (Candida fennica), 칸디다 갈락타 (Candida galacta), 칸디다 하에물로니 (Candida haemulonii), 칸디다 마그놀리아에 (Candida magnoliae), 칸디다 무사에 (Candida musae), 칸디다 니트라토필라 (Candida nitratophila), 칸디다 파랍실로시스 (Candida parapsilosis), 칸디다 파라루고사 (Candida pararugosa), 칸디다 스텔라타 (Candida stellata), 시테로마이세스 마트리텐시스 (Citeromyces matritensis), 클라비스포라 루시타니아에 (Clavispora lusitaniae), 크립토코커스 라우렌티 (Cryptococcus laurentii), 데바리오마이세스 카르소니 (Debaryomyces carsonii), 데바리오마이세스 한세니 var. 파브리이 (Debaryomyces hansenii var. fabryi), 데바리오마이세스 한세니 var. 한세니 (Debaryomyces hansenii var. hansenii), 데바리오마이세스 클로엑커리 (Debaryomyces kloeckeri), 데바리오마이세스 마라마 (Debaryomyces marama), 데바리오마이세스 슈도폴리모르푸스 (Debaryomyces pseudopolymorphus), 데바리오마이세스 로버트시아에 (Debaryomyces robertsiae), 데바리오마이세스 (Debaryomyces) sp., 데케라 아노말라 (Dekkera anomala), 디포다스커스 아르밀라리아에 (Dipodascus armillariae), 디포다스커스 오베텐시스 (Dipodascus ovetensis), 디포다스커스 테트라스페르마 (Dipodascus tetrasperma), 갈락토마이세스 리시 (Galactomyces reessii), 지오트리쿰 칸디덤 (Geotrichum candidum), 지오트리쿰페르멘탄스 (Geotrichum fermentans), 지오트리쿰 프라그란스 (Geotrichum fragrans), 지오트리쿰 로우비에리 (Geotrichum loubieri), 한세니아스포라 길리에르몬디 (Hanseniaspora guilliermondii), 한세눌라 메타놀로사 (Hansenula methanolosa), 한세눌라 폴리모르파 (Hansenula polymorpha), 호르모아스커스 필렌토무스 (Hormoascus philentomus), 호르모아스커스 플라티포디스 (Hormoascus platypodis), 히포피키아 부르토니 (Hyphopichia burtonii), 잇사첸키아 오리엔탈리스 (Issatchenkia orientalis), 잇사첸키아 테리콜라 (Issatchenkia terricola), 클루이베로마이세스 락티스 (Kluyveromyces lactis), 클루이베로마이세스 마르지아누스 (Kluyveromyces marxianus), 클루이베로마이세스 폴리스포러스 (Kluyveromyces polysporus), 클루이베로마이세스 터모톨러란스 (Kluyveromyces thermotolerans), 코마가타엘라 파스토리스 (Komagataella pastoris), 리포마이세스 스타르케이 (Lipomyces starkeyi), 메치니코비아 비커스피다타 (Metschnikowia bicuspidata), 메치니코비아 풀케리마 (Metschnikowia pulcherrima), 나카자와에아 홀스티 (Nakazawaea holstii), 오가타에아 미누타 var. 미누타 (Ogataea minuta var. minuta), 오가타에아 피니 (Ogataea pini), 오가타에아 폴리모르파 (Ogataea polymorpha), 오가타에아 위커하미 (Ogataea wickerhamii), 파키솔렌 타노필러스 (Pachysolen tannophilus), 피키아 카나덴시스 (Pichia canadensis), 피키아 파리노세 (Pichia farinose), 피키아 잔디니 (Pichia jandinii), 피키아 사이토이 (Pichia saitoi), 피키아 톨레타나 (Pichia toletana), 피키아 트리안굴라리스 (Pichia triangularis), 피키아 위커하미 (Pichia wickerhamii), 로도토룰라 그라미니스 (Rhodotorula graminis), 로도토룰라 미누타 (Rhodotorula minuta), 로드스포리디움 디오보바툼 (Rhodsporidium diobovatum), 로드스포리디움 토룰로이데스 (Rhodsporidium toruloides), 사카로마이세스 바야누스 (Saccharomyces bayanus), 사카로마이세스 파스토리아누스 (Saccharomyces pastorianus), 사카로마이세스 로세이 (Saccharomyces rosei), 사카로마이세스 사케 (Saccharomyces sake), 사카로마이세스 스테이너리 (Saccharomyces steineri), 사카로마이세스 유니스포러스 (Saccharomyces unisporus), 사카로마이코데스 루드비히 (Saccharomycodes ludwigii), 사카로마이콥시스 캡슐라리스 (Saccharomycopsis capsularis), 사카로마이콥시스 말란가 (Saccharomycopsis malanga), 사투르노스포라 디스포라 (Saturnospora dispora), 시조블라스토스포리온 코바야시 (Schizoblastosporion kobayasii), 시조사카로마이세스 폼베 (Schizosaccharomyces pombe), 쉬반니오마이세스 오시덴탈리스 var. 오시덴탈리스 (Schwanniomyces occidentalis var. occidentalis), 스포리디오볼러스 존스니 (Sporidiobolus johnsonii), 스포로볼로마이세스 파라로세우스(Sporobolomyces pararoseus), 스포로볼로마이세스 살모니컬러 (Sporobolomyces salmonicolor), 토룰라스포라 델브루에키 (Torulaspora delbrueckii), 토룰롭시스 메탄올레베센 (Torulopsis methanolevescens), 토룰롭시스 오스보에니스 (Torulopsis osboenis), 토룰롭시스 (Torulopsis) sp., 토룰롭시스 우바에 (Torulopsis uvae), 트리코스포론 풀룰란스 (Trichosporon pullulans), 트리코스포론 sp. 트리고놉시스 바리아빌리스 (Trichosporonsp.Trigonopsis variabilis), 윌롭시스 사투르너스 var. 므라키 (Willopsis saturnus var. mrakii), 윌롭시스 사투르너스 var. 사투르너스 (Willopsis saturnus var. saturnus), 야마다지마 파리노사 (Yamadazyma farinosa), 야마다지마 하플로필라 (Yamadazyma haplophila), 지고사카로마이세스 나니벤시스 (Zygosaccharomyces naniwensis), 지고사카로마이세스 (Zygosaccharomyces) sp., 아시디필리움 크립툼 (Acidiphilium cryptum), 에어로박터 클로아카에 (Aerobacter cloacae), 알칼리게네스 자일로속시단스 (Alcaligenes xylosoxidans), 알칼리게네스 자일로속시단스 (Alcaligenes xylosoxidans) subsp. 데니트리피칸스 (denitrificans), 아르트로박터 글로비포르미스 (Arthrobacter globiformis), 아르트로박터 프로토포르미아에 (Arthrobacter protophormiae), 오레오박테리움 에스테라로마티쿰 (Aureobacterium esteraromaticum), 바실러스 바디우스 (Bacillus badius), 바실러스 스파에리쿠스 (Bacillus sphaericus), 브레비박테리움 암모니아게네스 (Brevibacterium ammomiagenes), 부티옥셀라 아그레스티스 (Buttiauxella agrestis), 세데세아 다비시아에 (Cedecea davisiae), 셀룰로모나스 (Cellulomonas) sp., 셀룰로모나스 투르바타 (Cellulomonas turbata), 시트로박터 프로인디 (Citrobacter freundii), 클로스트리디움 실린드로스포럼 (Clostridium cylindrosporum), 코마모나스 테스토스테로니 (Comamonas testosteroni), 코리네박테리움 아세스토아시도필럼 (Corynebacterium acectoacidophilum), 코리네박테리움 암모니아게네스 (Corynebacterium ammoniagenes), 코리네박테리움 글루타미쿰 (Corynebacterium glutamicum), 코리네박테리움 글루타미쿠스 (Corynebacterium glutamicus), 엔테로박터 에어로게네스 (Enterobacter aerogenes), 엔테로박터 클로아카에(Enterobacter cloacae), 에르비니아 카로토보라 (Erwinia carotovora) subsp. 카로토보라 (carotovora), 에스쉐리키아 콜라이 (Escherichia coli), 플라보박테리움 플라베스세우스 (Flavobacterium flavesceus), 클레브시엘라 플란티콜라 (Klebsiella planticola), 루테오코커스 자포니쿠스 (Luteococcus japonicus), 마이크로박테리움 아르보레센스 (Microbacterium arborescens), 마이크로코커스 플라부스 (Micrococcus flavus), 마이크로코커스 루테우스 (Micrococcus luteus), 오크로박트럼 (Ochrobactrum) sp., 프로테우스 인콘스탄스 (Proteus inconstans), 프로테우스 미라빌리스 (Proteus mirabilis), 프로테우스 레트게리 (Proteus rettgeri), 프로테우스 불가리스 (Proteus vulgaris), 프로비덴시아 스투아르티 (Providencia stuartii), 슈도모나스 아에루지노사 (Pseudomonas aeruginosa), 슈도모나스 푸티다 (Pseudomonas putida), 슈도모나스 스투체리 (Pseudomonas stutzeri), 로도코커스 에퀴 (Rhodococcus equi), 사르시나 루테아 (Sarcina lutea), 세라티아 플리무티쿰 (Serratia plymuthicum), 세라티아 프로테아마쿨란스 (Serratia proteamaculans) subsp. 프로테아마쿨란스 (proteamaculans), 스핑고박테리움 스피리티보럼 (Sphingobacterium spiritivorum), 츠카무렐라 파우로메타볼럼 (Tsukamurella paurometabolum), 압시디아 오르키디스 (Absidia orchidis), 아크레모늄 바실리스포럼 (Acremonium bacillisporum), 아에게리타 칸디다 (Aegerita Candida), 아그로사이브 실린드라세아 (Agrocybe cylindracea), 아밀로스테레움 아레올라툼 (Amylostereum areolatum), 아스페르길러스 파라지티커스 (Aspergillus parasiticus), 아스페르길러스 페니시스 (Aspergillus phoenicis), 비쏘클라미스풀바 (Byssochlamys fulva), 카에토미듐 피메티 (Chaetomidium fimeti), 카에토사르토리아 스트로마토이데스 (Chaetosartorya stromatoides), 클라도스포리움 레지나에 (Cladosporium resinae) F. 아벨라네움 (avellaneum), 코프리너스 시네레우스 (Coprinus cinereus), 코프리너스 라고푸스 (Coprinus lagopus), 코프리너스 (Coprinus) sp., 크리니펠리스 스티피타리아 (Crinipellis stipitaria), 엔도프라그미아 알터네이트 (Endophragmia alternate), 플라볼러스 아르쿨라리우스 (Flavolus arcularius), 포미톱시스 푸베르타티스 (Fomitopsis pubertatis), 푸사륨 메리스모이데스 (Fusarium merismoides), 가노데르마 루시둠 (Ganoderma lucidum), 글로메렐라 신굴라타 (Glomerella cingulata), 라에티포러스 술푸레우스 (Laetiporus sulphureus), 렌티너스 레피데우스 (Lentinus lepideus), 렌지테스 베툴리나 (Lenzites betulina), 마크로포마 콤멜리나에 (Macrophoma commelinae), 모나스커스 푸르푸레우스 (Monascus purpureus), 모르티에렐라 이사벨리나 (Mortierella isabellina), 파에실로마이세스 바리오티 (Paecilomyces varioti), 페니실륨 케르메시눔 (Penicillium chermesinum), 페니실륨 크리소게눔 (Penicillium chrysogenum), 페니실륨 엑스판섬 (Penicillium expansum), 페니실륨 릴라시늄 (Penicillium lilacinium), 피알로포라 파스티지아타 (Phialophora fastigiata), 폴리오타 오리벨라 (Pholiota aurivella), 폴리오타 리모넬라 (Pholiota limonella), 플루로터스 드라이누스 (Pleurotus dryinus), 플루로터스 오스트리아투스 (Pleurotus ostreatus), 플루로터스 포리겐스 (Pleurotus porrigens), 스코풀라리옵시스 브레비카울리스 (Scopulariopsis brevicaulis), 세히조필룸 콤무네 (Sehizophyllum commune), 스포로트리쿰 오란티아쿰 (Sporotrichum aurantiacum), 지고린커스 모엘레리 (Zygorhynchus moelleri), 마이크로테트라스포라 로세오비올라세아 (Microtetraspora roseoviolacea), 스트렙토마이세스 아크로모게네스 (Streptomyces achromogenes) subsp. 루브라디리스 (rubradiris), 스트렙토마이세스 (Streptomyces) sp. 및 스트렙토마이세스 아우레우스 (Streptomyces aureus).
  28. 제 1 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서, 산과 아민으로 구성된 아민 염이 아세탈 형성 공정에서 산촉매로서 사용되는 제조 방법.
  29. 제 28 항에 있어서, 아민 염이 반응기내에서 제조되고 사용되는 제조 방법.
  30. 제 28 항 또는 제 29 항에 있어서, 산이 염화수소, 브롬화수소, 황산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 또는 트리플루오로아세트산인 제조 방법.
  31. 제 28 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 3 차 아민인 제조 방법.
  32. 제 31 항에 있어서, 3 차 아민이 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘 또는 이미다졸인 제조 방법.
  33. 제 28 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 산에 대해 과량으로 사용되는 제조 방법.
  34. 제 1 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세탈 형성 시약이 2,2-디메톡시프로판인 제조 방법.
  35. 제 1 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서, 불순물이 혼입된 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 지방족 탄화수소 용매로 처리하여, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물을 제거하고, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 결정 형태로 수득하는 제조 방법:
    [화학식 Ⅶ]
    [식 중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  36. 제 35 항에 있어서, 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물이, 하기 화학식 XⅢ 로 표현되는 화합물, 하기 화학식 XⅣ 로 표현되는 부분입체 이성질체,하기 화학식 XⅤ 로 표현되는 화합물, 및 하기 화학식 VI 로 표현되는 화합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물인 제조 방법:
    [화학식 XⅢ]
    [식 중, R2, R3및 R4는 각각 상기 정의된 바와 같고; R10는 저급 알킬기를 표시하고 R1과는 상이함]
    [화학식 XⅣ]
    [식 중, R1, R2, R3및 R4는 상기 정의된 바와 같음]
    [화학식 XⅤ]
    [식 중, R4는 상기 정의된 바와 같음]
    [화학식 Ⅵ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  37. 제 36 항에 있어서, 화합물 (XⅢ) 의 R10이 메틸기인 제조 방법.
  38. 제 35 항 내지 37 항 중 어느 한 항에 있어서, 지방족 탄화수소 용매가 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄 또는 이소옥탄인 제조 방법.
  39. 제 35 항 내지 제 38 항 중 어느 한 항에 있어서, 보조 용매를 부가적으로 사용하여 결정화를 수행하고, 상기 용매를 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물의 용해도, 수율, 처리 농도, 정제 효과, 및 수득 가능한 결정의 물성 중 하나 이상을 개선하려는 목적으로 사용하는 제조 방법.
  40. 제 39 항에 있어서, 보조 용매를, 결정화 조작의 종료 시 상기 보조 용매와 지방족 탄화수소 용매의 중량 비(상기 보조 용매/지방족 탄화수소 용매)가 1 이하인 양으로 사용하는 제조 방법.
  41. 제 39 항 또는 제 40 항에 있어서, 보조 용매가 톨루엔, 에틸 아세테이트, 메틸 tert-부틸 에테르 및 메틸렌 클로라이드로 구성되는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 제조 방법.
  42. 제 1 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 tert-부틸기인 제조 방법.
  43. 제 1 항 내지 제 42 항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 R2및 R3가 메틸기인 제조 방법.
  44. 제 1 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 있어서, R4가 페닐기인 제조 방법.
  45. 불순물이 혼입된 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을, 지방족 탄화수소 용매로 처리하여, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물을 제거하고, 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 결정 형태로서 수득하는 것을 포함하는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅴ]
    [식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시함].
  46. 제 45 항에 있어서, 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물이 하기 화학식 XⅡ 로 표현되는 화합물인 단리/정제 방법:
    [화학식 XⅡ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  47. 제 45 항 또는 제 46 항에 있어서, 지방족 탄화수소 용매가 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄 또는 이소옥탄인 단리/정제 방법.
  48. 제 45 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서, 보조 용매를 부가적으로 사용하여 결정화를 수행하고, 상기 용매를 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물의 용해도, 수율, 처리 농도, 정제 효과, 및 수득 가능한 결정의 물성 중 하나 이상을 개선하려는 목적으로 사용하는 단리/정제 방법.
  49. 제 48 항에 있어서, 보조 용매를 결정화 조작의 종료 시 상기 보조 용매와 지방족 탄화수소 용매의 중량 비(상기 보조 용매/지방족 탄화수소 용매)가 1 이하인 양으로 사용하는 단리/정제 방법.
  50. 제 48 항 또는 제 49 항에 있어서, 보조 용매가 톨루엔, 에틸 아세테이트, 메틸 tert-부틸 에테르 및 메틸렌 클로라이드로 구성되는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 단리/정제 방법.
  51. 제 45 항 내지 제 50 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물이 사용되고, 상기 화합물은 하기 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물을 염기의 존재 하에서 아실화제로 처리하여 수득되는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅳ]
    [식 중, R1은 상기 정의된 바와 같음].
  52. 제 51 항에 있어서, 하기 화학식 XI 로 표현되는 화합물 또는 하기 화학식 XⅥ 로 표현되는 화합물이 아실화제로서 사용되는 단리/정제 방법:
    [화학식 XI]
    [화학식 XⅥ]
    .
    [식 중, R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고, Q 는 이탈기를 표시함].
  53. 제 52 항에 있어서, 아실화제 (XI) 의 Q 가 할로겐 원자인 단리/정제 방법.
  54. 제 53 항에 있어서, 할로겐 원자가 염소 원자인 단리/정제 방법.
  55. 제 51 항 내지 제 54 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 염기로서 사용되는 단리/정제 방법.
  56. 제 55 항에 있어서, 트리에틸아민 또는 피리딘이 아실화 공정에 사용되는 아민으로서 사용되는 단리/정제 방법.
  57. 제 51 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물이 사용되고, 상기 화합물은 하기 화학식 Ⅱ 로 표현되는 아세트산 에스테르 유도체에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트를, 하기 화학식 Ⅲ 으로 표현되는 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤과 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜 제조되는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅱ]
    [식 중, R1은 상기 정의된 바와 같고; X1은 수소 또는 할로겐 원자를 표시함]
    [화학식 Ⅲ]
    .
  58. 제 57 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1은 수소 원자이고, 하기 화학식 Ⅷ 로 표현되는 마그네슘 아미드가 에놀레이트의 제조시 염기로서사용되는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅷ]
    [식 중, R5및 R6는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기, 또는 실릴기를 표시하고; X2는 할로겐 원자를 표시함].
  59. 제 58 항에 있어서, 마그네슘 아미드 (Ⅷ) 의 R5및 R6가 각각 이소프로필기이고, X2가 염소 원자인 단리/정제 방법.
  60. 제 57 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1이 할로겐 원자이고, 에놀레이트의 제조시 마그네슘 또는 아연이 0 가 금속으로서 사용되는 단리/정제 방법.
  61. 제 57 항 내지 제 60 항 중 어느 한 항에 있어서, 에놀레이트와 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 (Ⅲ) 의 반응이 폴리에테르의 존재 하에서 수행되는 단리/정제 방법.
  62. 제 61 항에 있어서, 디메톡시에탄이 폴리에테르로서 사용되는 단리/정제 방법.
  63. 제 51 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물이 사용되고, 상기 화합물은 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 (Ⅲ) 을, 하기 화학식 Ⅸ 로 표현되는 그리냐르 시약으로 미리 처리하고, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트와 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜 제조되는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅸ]
    [식 중, R7은 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; X3는 할로겐 원자를 표시함]
  64. 제 63 항에 있어서, 그리냐르 시약 (Ⅸ) 의 R7이 tert-부틸기이고, X3가 염소 원자인 단리/정제 방법.
  65. 제 51 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅳ 로 표현되는 화합물이 사용되고, 상기 화합물은 (S)-β-히드록시-γ-부티로락톤 (Ⅲ) 를 염기 및 마그네슘 화합물로 미리 처리하고, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 에 대해 염기 또는 0 가 금속을 작용시켜 제조된 에놀레이트와 -30 ℃ 이상의 온도에서 반응시켜 제조되는 단리/정제 방법.
  66. 제 65 항에 있어서, 염기가 수소화 나트륨, 리튬 디이소프로필아미드 또는 클로로마그네슘 디이소프로필아미드인 단리/정제 방법.
  67. 제 65 항 또는 제 66 항에 있어서, 마그네슘 화합물이 마그네슘 클로라이드 또는 마그네슘 브로마이드인 단리/정제 방법.
  68. 제 63 항 내지 제 67 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1이 수소 원자이고, 하기 화학식 Ⅹ 로 표현되는 리튬 아미드가 에놀레이트 제조시 염기로서 사용되는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅹ]
    [식 중, R8및 R9은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기, 또는 실릴기를 표시함].
  69. 제 68 항에 있어서, 리튬 아미드 (Ⅹ) 의 R8및 R9은 각각 이소프로필기인 단리/정제 방법.
  70. 제 63 항 내지 제 67 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세트산 에스테르 유도체 (Ⅱ) 의 X1이 할로겐 원자이고, 에놀레이트 제조시 마그네슘 또는 아연이 0 가 금속으로서 사용되는 단리/정제 방법.
  71. 제 45 항 내지 제 70 항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 tert-부틸기인 단리/정제 방법.
  72. 제 45 항 내지 제 71 항 중 어느 한 항에 있어서, R4가 페닐기인 단리/정제 방법.
  73. 하기 화학식 Ⅴ 로 표현되는 화합물을 미생물로 환원시키는 것을 포함하는, 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물의 제조 방법:
    [화학식 Ⅵ]
    [식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시함]
    [화학식 Ⅴ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  74. 제 73 항에 있어서, 배양 브로쓰, 미생물의 균체 또는 균체 처리물이 사용되고, 상기 미생물은 하기 속에 속하는 미생물들로부터 선택되는 미생물인 제조 방법:
    아쉬비아, 보트리오아스커스, 브레타노마이세스, 칸디다, 시테로마이세스, 클라비스포라, 크립토코커스, 데바리오마이세스, 데케라, 디포다스커스, 갈락토마이세스, 지오트리쿰, 한세니아스포라, 한세눌라, 호르모아스커스, 히포피키아, 잇사첸키아, 클루이베로마이세스, 코마가타엘라, 리포마이세스, 메치니코비아, 나카자와에아, 오가타에아, 파키솔렌, 피키아, 로도토룰라, 로드스포리디움, 사카로마이세스, 사카로마이코데스, 사카로마이콥시스, 사투르노스포라, 시조블라스토스포리온, 시조사카로마이세스, 쉬반니오마이세스 스포리디오볼러스, 스포로볼로마이세스, 토룰라스포라, 토룰롭시스, 트리코스포론, 트리고놉시스, 윌롭시스, 야마다지마, 지고사카로마이세스, 아시디필리움, 에어로박터, 알칼리게네스, 아르트로박터, 오레오박테리움, 바실러스, 브레비박테리움, 부티옥셀라, 세데세아, 셀룰로모나스, 시트로박터, 클로스트리디움, 코마모나스, 코리네박테리움, 엔테로박터, 에르비니아, 에스쉐리키아, 플라보박테리움, 클레브시엘라, 루테오코커스, 마이크로박테리움, 마이크로코커스, 오크로박트럼, 프로테우스, 프로비덴시아, 슈도모나스, 로도코커스, 사르시나, 세라티아, 스핑고박테리움, 츠카무렐라, 압시디아, 아크레모늄, 아에게리타, 아그로사이브, 아밀로스테레움, 아스페르길러스, 비쏘클라미스, 카에토미듐, 카에토사르토리아, 클라도스포륨, 코프리너스, 크리니펠리스, 엔도프라그미아, 플라볼러스, 포미톱시스, 푸사륨, 가노데르마, 글로메렐라, 라에티포러스, 렌티너스, 렌지테스, 마크로포마, 모나스커스, 모르티에렐라, 파에실로마이세스, 페니실륨, 피알로포라, 폴리오타, 플루로터스, 스코풀라리옵시스, 세히조필룸, 스포로트리쿰, 지고린커스, 마이크로테트라스포라 및 스트렙토마이세스.
  75. 제 73 항 또는 제 74 항에 있어서, 미생물이 하기로 구성된 군으로부터 선택되는 제조 방법:
    아쉬비아 고시피, 보트리오아스커스 신나에덴드러스, 브레타노마이세스 커스테르시아누스, 칸디다 아르보레아, 칸디다 카테눌라타, 칸디다 페니카, 칸디다 갈락타, 칸디다 하에물로니, 칸디다 마그놀리아에, 칸디다 무사에, 칸디다 니트라토필라, 칸디다 파랍실로시스, 칸디다 파라루고사, 칸디다 스텔라타, 시테로마이세스 마트리텐시스, 클라비스포라 루시타니아에, 크립토코커스 라우렌티, 데바리오마이세스 카르소니, 데바리오마이세스 한세니 var. 파브리이, 데바리오마이세스 한세니 var. 한세니, 데바리오마이세스 클로엑커리, 데바리오마이세스 마라마, 데바리오마이세스 슈도폴리모르푸스, 데바리오마이세스 로버트시아에, 데바리오마이세스 sp., 데케라 아노말라, 디포다스커스 아르밀라리아에, 디포다스커스 오베텐시스, 디포다스커스 테트라스페르마, 갈락토마이세스 리시, 지오트리쿰 칸디덤, 지오트리쿰 페르멘탄스, 지오트리쿰 프라그란스, 지오트리쿰 로우비에리, 한세니아스포라 길리에르몬디, 한세눌라 메타놀로사, 한세눌라 폴리모르파, 호르모아스커스 필렌토무스, 호르모아스커스 플라티포디스, 히포피키아 부르토니, 잇사첸키아 오리엔탈리스, 잇사첸키아 테리콜라, 클루이베로마이세스 락티스, 클루이베로마이세스 마르지아누스, 클루이베로마이세스 폴리스포러스, 클루이베로마이세스 터모톨러란스, 코마가타엘라 파스토리스, 리포마이세스 스타르케이, 메치니코비아 비커스피다타, 메치니코비아 풀케리마, 나카자와에아 홀스티, 오가타에아 미누타 var. 미누타, 오가타에아 피니, 오가타에아 폴리모르파, 오가타에아 위커하미, 파키솔렌 타노필러스, 피키아 카나덴시스, 피키아 파리노세, 피키아 잔디니, 피키아 사이토이, 피키아 톨레타나, 피키아 트리안굴라리스, 피키아 위커하미, 로도토룰라 그라미니스, 로도토룰라 미누타, 로드스포리디움 디오보바툼, 로드스포리디움 토룰로이데스, 사카로마이세스 바야누스, 사카로마이세스 파스토리아누스, 사카로마이세스 로세이, 사카로마이세스 사케, 사카로마이세스 스테이너리, 사카로마이세스 유니스포러스, 사카로마이코데스 루드비히, 사카로마이콥시스 캡슐라리스, 사카로마이콥시스 말란가, 사투르노스포라 디스포라, 시조블라스토스포리온 코바야시, 시조사카로마이세스 폼베, 쉬반니오마이세스 오시덴탈리스 var. 오시덴탈리스, 스포리디오볼러스 존스니, 스포로볼로마이세스 파라로세우스, 스포로볼로마이세스 살모니컬러, 토룰라스포라 델브루에키, 토룰롭시스 메탄올레베센, 토룰롭시스 오스보에니스, 토룰롭시스 sp., 토룰롭시스 우바에, 트리코스포론 풀룰란스, 트리코스포론 sp. 트리고놉시스 바리아빌리스, 윌롭시스 사투르너스 var. 므라키, 윌롭시스 사투르너스 var. 사투르너스, 야마다지마 파리노사, 야마다지마 하플로필라, 지고사카로마이세스 나니벤시스, 지고사카로마이세스 sp., 아시디필리움 크립툼, 에어로박터 클로아카에, 알칼리게네스 자일로속시단스, 알칼리게네스 자일로속시단스 subsp. 데니트리피칸스, 아르트로박터 글로비포르미스, 아르트로박터 프로토포르미아에, 오레오박테리움 에스테라로마티쿰, 바실러스 바디우스, 바실러스 스파에리쿠스, 브레비박테리움 암모니아게네스, 부티옥셀라 아그레스티스, 세데세아 다비시아에, 셀룰로모나스 sp., 셀룰로모나스 투르바타, 시트로박터 프로인디, 클로스트리디움 실린드로스포럼, 코마모나스 테스토스테로니, 코리네박테리움 아세스토아시도필럼, 코리네박테리움 암모니아게네스, 코리네박테리움 글루타미쿰, 코리네박테리움 글루타미쿠스, 엔테로박터 에어로게네스, 엔테로박터 클로아카에, 에르비니아 카로토보라 subsp. 카로토보라, 에스쉐리키아 콜라이, 플라보박테리움 플라베세우스, 클레브시엘라 플란티콜라, 루테오코커스 자포니쿠스, 마이크로박테리움 아르보레센스, 마이크로코커스 플라부스, 마이크로코커스 루테우스, 오크로박트럼 sp., 프로테우스 인콘스탄스, 프로테우스 미라빌리스, 프로테우스 레트게리, 프로테우스 불가리스, 프로비덴시아 스투아르티, 슈도모나스 아에루지노사, 슈도모나스 푸티다, 슈도모나스 스투체리, 로도코커스 에퀴, 사르시나 루테아, 세라티아 플리무티쿰, 세라티아 프로테아마쿨란스 subsp. 프로테아마쿨란스, 스핑고박테리움 스피리티보럼, 츠카무렐라 파우로메타볼럼, 압시디아 오르키디스, 아크레모늄 바실리스포럼, 아에게리타 칸디다, 아그로사이브 실린드라세아, 아밀로스테레움 아레올라툼, 아스페르길러스 파라지티커스, 아스페르길러스 페니시스, 비쏘클라미스 풀바, 카에토미듐 피메티, 카에토사르토리아 스트로마토이데스, 클라도스포리움 레지나에 F. 아벨라네움, 코프리너스 시네레우스, 코프리너스 라고푸스, 코프리너스 sp., 크리니펠리스 스티피타리아, 엔도프라그미아 알터네이트, 플라볼러스 아르쿨라리우스, 포미톱시스 푸베르타티스, 푸사륨 메리스모이데스, 가노데르마 루시둠, 글로메렐라 신굴라타, 라에티포러스 술푸레우스, 렌티너스 레피데우스, 렌지테스 베툴리나, 마크로포마 콤멜리나에, 모나스커스 푸르푸레우스, 모르티에렐라 이사벨리나, 파에실로마이세스 바리오티, 페니실륨 케르메시눔, 페니실륨 크리소게눔, 페니실륨 엑스판섬, 페니실륨 릴라시늄, 피알로포라 파스티지아타, 폴리오타 오리벨라, 폴리오타 리모넬라, 플루로터스 드라이누스, 플루로터스 오스트리아투스, 플루로터스 포리겐스, 스코풀라리옵시스 브레비카울리스, 세히조필룸 콤무네, 스포로트리쿰 오란티아쿰, 지고린커스 모엘레리, 마이크로테트라스포라 로세오비올라세아, 스트렙토마이세스 아크로모게네스 subsp. 루브라디리스, 스트렙토마이세스 sp. 및 스트렙토마이세스 아우레우스.
  76. 제 73 항 내지 제 75 항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 tert-부틸기인 제조 방법.
  77. 제 73 항 내지 제 76 항 중 어느 한 항에 있어서, R4가 페닐기인 제조 방법.
  78. 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물을, 산과 아민으로 구성된 아미염을 산 촉매로서 사용하여, 아세탈 형성 시약으로 처리하여 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 제조하는 방법:
    [화학식 Ⅶ]
    [식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도 있음]
    [화학식 Ⅵ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  79. 제 78 항에 있어서, 아민염이 반응기내에서 제조되고 사용되는 제조 방법.
  80. 제 78 항 또는 제 79 항에 있어서, 산이 염화수소, 브롬화수소, 황산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 또는 트리플루오로아세트산인 제조 방법.
  81. 제 78 항 내지 제 80 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 3 차 아민인 제조 방법.
  82. 제 81 항에 있어서, 3 차 아민이 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 또는 이미다졸인 제조 방법.
  83. 제 78 항 내지 제 82 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 산에 대해 과량으로 사용되는 제조 방법.
  84. 제 78 항 내지 제 83 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세탈 형성 시약이 2,2-디메톡시프로판인 제조 방법.
  85. 제 78 항 내지 제 84 항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 tert-부틸기인 제조 방법.
  86. 제 78 항 내지 제 85 항 중 어느 한 항에 있어서, R4가 페닐기인 제조 방법.
  87. 제 78 항 내지 제 86 항 중 어느 한 항에 있어서, R2및 R3가 각각 메틸기인 제조 방법.
  88. 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물을 산 촉매의 존재 하에서 아세탈 형성 시약으로 처리함으로써, 이를 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물로 전환시키고,불순물이 혼입된 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 지방족 탄화수소 용매로 처리하고, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물을 제거하여, 하기 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물을 결정 형태로서 수득하는 것을 포함하는 단리/정제 방법:
    [화학식 Ⅵ]
    [식 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R4는 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시함]
    [화학식 Ⅶ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 6 내지 12 의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12 의 아르알킬기를 표시하고; R2및 R3는 서로 결합하여 고리를 형성할 수도있음].
  89. 제 88 항에 있어서, 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물에 혼입된 불순물이, 하기 화학식 XⅢ 으로 표현되는 화합물, 하기 화학식 XⅣ 로 표현되는 부분입체 이성질체; 하기 화학식 XⅤ로 표현되는 화합물, 및 하기 화학식 Ⅵ 로 표현되는 화합물로 부터 선택되는 하나 이상의 화합물인 단리/정제 방법:
    [화학식 XⅢ]
    [식 중, R2, R3및 R4는 각각 상기 정의된 바와 같고; R10는 저급 알킬기를 표시하고, R1과는 상이함]
    [화학식 XⅣ]
    [식 중, R1, R2, R3및 R4는 각각 상기 정의된 바와 같음],
    [화학식 XⅤ]
    [식 중, R4는 상기 정의된 바와 같음]
    [화학식 Ⅵ]
    [식 중, R1및 R4는 상기 정의된 바와 같음].
  90. 제 88 항 또는 제 89 항에 있어서, 지방족 탄화수소 용매가 펜탄, 헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 옥탄 또는 이소옥탄인 단리/정제 방법.
  91. 제 88 항 내지 제 90 항 중 어느 한 항에 있어서, 보조 용매를 부가적으로 사용하여 결정화를 수행하고, 상기 용매를 화학식 Ⅶ 로 표현되는 화합물의 용해도, 수율, 처리 농도, 정제 효과, 및 수득 가능한 결정의 물성 중 하나 이상을 개선하려는 목적으로 사용하는 단리/정제 방법.
  92. 제 91 항에 있어서, 보조 용매를 결정화 조작의 종료 시 상기 보조 용매와 지방족 탄화수소 용매의 중량 비(상기 보조 용매/지방족 탄화수소 용매)가 1 이하인 양으로 사용하는 단리/정제 방법.
  93. 제 91 항 또는 제 92 항에 있어서, 보조 용매가 톨루엔, 에틸 아세테이트, 메틸 tert-부틸 에테르 및 메틸렌 클로라이드로 구성되는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 단리/정제 방법.
  94. 제 88 항 내지 93 항 중 어느 한 항에 있어서, 산과 아민으로 구성된 아민염이 산 촉매로서 사용되는 단리/정제 방법.
  95. 제 94 항에 있어서, 아민 염이 반응기 내에서 제조 및 사용되는 단리/정제 방법.
  96. 제 94 항 또는 제 95 항에 있어서, 산이 염화수소, 브롬화수소, 황산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 또는 트리플루오로아세트산인 단리/정제 방법.
  97. 제 94 항 내지 제 96 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 3 차 아민인 단리/정제 방법.
  98. 제 97 항에 있어서, 3 차 아민이 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 또는 이미다졸인 단리/정제 방법.
  99. 제 94 항 내지 제 98 항 중 어느 한 항에 있어서, 아민이 산에 대해 과량으로 사용되는 단리/정제 방법.
  100. 제 88 항 내지 제 99 항 중 어느 한 항에 있어서, 아세탈 형성 시약이 2,2-디메톡시프로판인 단리/정제 방법.
  101. 제 88 항 내지 제 100 항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 tert-부틸기이고, R10이 메틸기인 단리/정제 방법.
  102. 제 88 항 내지 제 101 항 중 어느 한 항에 있어서, R4가 페닐기인 단리/정제 방법.
  103. 제 88 항 내지 제 102 항 중 어느 한 항에 있어서, R2및 R3가 각각 메틸기인 단리/정제 방법.
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