WO2001073840A1 - Dispositif de transfert de substrats - Google Patents

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Sadayuki Wada
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Daikin Industries, Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a substrate transfer apparatus, and more particularly to a substrate transfer apparatus that can improve the degree of integration of devices without increasing a footprint.
  • the substrate transfer apparatus 300 has a robot arm 306 that performs a swiveling motion and an expanding / contracting motion in order to transfer a substrate 400, which is an object to be processed.
  • Room 301 is provided.
  • the transfer chamber 301 has four ports 302, 303, 304, 305 to which a substrate processing chamber or the like can be connected.
  • load lock chambers 312, 313 for holding cassettes 314, 315 for stocking the substrate 400 in a vertically movable and rotatable manner are provided with gate valves 310, 31. 1 is provided.
  • the transfer chamber 301 has a substantially hexagonal shape in order to provide the load lock chambers 312 and 313, and the ports 302, 303, and 304 and 305 are provided, and load lock chambers 3 12 and 313 are provided on the other two sides.
  • the front side of the load lock chambers 312 and 313 is generally a transportation work path, the front side of the load lock chambers 312 and 313 needs to be provided in a straight line. As a result, the load lock chambers 312, 313 adopt a bent shape as shown in the figure.
  • a processing station 600 different from the substrate processing chamber 500 is provided at the port 305.
  • the processing station 400 includes, for example, an alignment device (aligner) for preliminarily determining the crystal orientation of the substrate 400 to be carried into the substrate processing chamber 500, and the substrate processing chamber 500.
  • a cooling device (cooler) for cooling the processed substrate 400 is mounted.
  • FIG. 4 shows a case where the substrate processing chamber 500 is provided only in the port 302 for convenience of explanation, the substrate processing chamber is actually provided in the ports 303 and 304 as well. It is assumed that 500 is provided.
  • the substrate transport apparatus 300 having the above configuration, when the processing station 600 is provided, the footprint FP indicated by the two-dot chain line in FIG. 4 (when the apparatus is installed on a plane, There is a problem that the projected total installation area increases. In addition, one port is occupied by providing the processing station 600.
  • a mouth pot arm that performs a turning motion and a telescopic motion to transfer a substrate
  • the mouth pot A transfer chamber having an arm and capable of arranging a plurality of substrate processing chambers circumferentially, and the robot arm making the substrate transferred to the substrate processing chamber stand by, or processing in the substrate processing chamber
  • a substrate transfer device including a first load lock chamber and a second load lock chamber for receiving the substrate, wherein the transfer chamber includes the first load lock chamber and the second load lock chamber.
  • the connecting portions of the first load lock chamber and the second load lock chamber with the transfer chamber are aligned and straight, so that the first port lock chamber and the first lock chamber can be connected regardless of the size of the transfer chamber.
  • the second load lock chamber can be shared with other devices.
  • the substrate transfer apparatus according to claim 2 the substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein a port pot arm is provided on the first load lock and the second load lock chamber side of the transfer chamber.
  • a processing station for performing processing on the substrate is provided at a position that does not interfere with the turning motion and the stretching motion.
  • connection between the first load lock chamber and the second load lock chamber with the transfer chamber becomes linear, so that the first load lock chamber and the second load port lock regardless of the size of the transfer chamber.
  • the room can be shared with other devices.
  • the substrate transfer apparatus according to the second aspect, wherein two sets of alignment devices are provided as the processing stations.
  • the substrate transfer apparatus of the second aspect two sets of cooling devices are provided as the processing stations. With this configuration, the number of substrates for post-processing cooling can be increased, so that the throughput of the substrate transfer device can be improved.
  • the substrate transfer apparatus according to the second aspect, wherein the processing station includes a positioning device and a cooling device.
  • the processing station includes a positioning device and a cooling device.
  • the substrate transfer device in the substrate transfer device according to claim 6, the substrate transfer device according to claim 2 is provided.
  • a table for temporarily placing a substrate and a table for placing a dummy substrate are provided as the processing stations.
  • the provision of the board on which the board is temporarily placed enables temporary storage of the board if the board cannot be returned to the load lock chamber during transport.
  • by providing a table on which the dummy substrate is placed it is possible to check the processing conditions in the substrate processing chamber in advance and temporarily place the dummy substrate used when cleaning the processing chamber. Workability can be improved.
  • a substrate transfer apparatus comprising: a load lock chamber disposed at a position facing a work passage for transferring a substrate; And a plurality of substrate processing chambers disposed on the outer periphery of the transfer chamber, and a plurality of substrate processing chambers disposed in the transfer chamber, wherein the substrate is transferred between the load lock chamber and the substrate processing chamber.
  • a loading / unloading port arm, and a joint surface between the load lock chamber and the transfer chamber has a linear joint parallel to the work passage, and the load lock is connected via the joint. The rooms are connected.
  • connection between the load lock chamber and the transfer chamber becomes a linear joint parallel to the work passage, and the load lock chamber can be shared with other devices regardless of the size of the transfer chamber. It becomes possible to plan.
  • the substrate transfer apparatus according to claim 8 based on the present invention, the substrate transfer apparatus according to claim 7, wherein the transfer chamber side at a position avoiding the movement range of the rod arm, A processing station for performing processing on the substrate is provided.
  • FIG. 1 is a plan view showing the structure of the substrate transfer device according to the first embodiment based on the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view showing the structure of the substrate transfer device according to the second embodiment based on the present invention.
  • FIG. 3 is a plan view showing a structure of a substrate transfer device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional substrate transfer device. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • a substrate transfer apparatus 100 has a robot arm 106 that performs a turning motion and a telescopic motion in order to transport a substrate 400 to be processed. And a transfer chamber 101 in which a plurality of substrate processing chambers 500 can be arranged.
  • the transfer chamber 101 has four ports 102, 103, 104, and 105 to which a substrate processing chamber or the like can be connected.
  • the load lock chambers 10 for holding cassettes 114 and 115 for stocking the substrates 400 so that they can be raised and lowered and rotatable. 9, 110 are provided with gate valves 107, 108 interposed therebetween.
  • the junction 100 F of the transfer chamber 101 with the first door lock chamber 109 and the second load lock chamber 110 is aligned.
  • the joint 100F is arranged in parallel with the working passageway 700 while being provided in a straight line.
  • the passageway 700 is provided, it is necessary that the front sides of the first load lock chamber 109 and the second load lock chamber 110 be provided linearly. As a result, the first load lock chamber 109 and the second load lock chamber 110 in the present embodiment can adopt a substantially square shape as illustrated.
  • the substrate is located at a position where the robot arm 106 provided in the transfer chamber 101 located on the side opposite to the work passage does not interfere with the turning movement and the expansion and contraction movement.
  • Processing stations 120 and 121 for performing processing at 400 are provided. Specific examples of the processing stations 120 and 121 include a combination of a positioning device (aligner) and a positioning device, a combination of a cooling device (cooler) and a cooling device, and a positioning device and a cooling device. And the like.
  • Providing a base on which the substrate is temporarily placed allows the substrate to be temporarily stored when the substrate cannot be returned to the load lock chamber during transportation of the substrate for some reason.
  • by providing a table on which the dummy substrate is placed it is possible to check the processing conditions in the substrate processing chamber in advance, and to temporarily place the dummy substrate used when cleaning the processing chamber. Workability can be improved.
  • the substrate processing chamber 500 is provided only in the port 102 is illustrated, but actually, the ports 103, 104, and 105 are also provided in the port. It is assumed that a substrate processing chamber 500 is provided.
  • the processing stations 120, 121 are provided at positions that do not interfere with the swiveling motion and the telescopic motion of the robot arm 106, so that the processing stations 120, 210 can be provided without increasing the number of ports. 1 2 1 can be provided. As a result, it is possible to improve the degree of integration of the substrate transfer device while suppressing the expansion of the footprint FP even when compared with the conventional device.
  • a positioning device, a cooling device, etc. as a processing station, it is possible to increase the number of substrates to be pre-aligned and increase the number of substrates for cooling after processing. Thus, it is possible to improve the throughput of the substrate transfer device.
  • substrate transfer device 200 of the present embodiment differs from substrate transfer device 100 of Embodiment 1 described above.
  • substrate transfer device 200 is for 5 treatments.
  • the transfer chamber 201 becomes large, and the ports 202, 203, 204, 205, and 206 are provided.
  • Other configurations are the same as those of the substrate transfer device 100.
  • the same operation and effect as those of the substrate transfer device 100 can be obtained, and the transfer chambers 101 of the first load lock chamber 109 and the second load lock chamber 110 can be obtained.
  • the first load lock chamber 109 and the second load lock chamber 110 are connected to the substrate transfer device 100 and the substrate transfer device 2 irrespective of the size of the transfer chamber 201 because the connection portion is linear. It becomes possible to use a common one for 0 and 0.
  • the substrate transfer device in each of the above embodiments can be applied to a device for setting the transfer chamber and the load lock chamber to a vacuum state or an atmospheric pressure state, and other apparatuses used under any atmosphere. Therefore, it is considered that the embodiments disclosed this time are illustrative in all aspects and not restrictive.
  • the technical scope of the present invention is not defined by the above description, but is defined by the appended claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the claims.
  • the connection between the first load lock chamber and the second load lock chamber with the transfer chamber is linear, so that the first load lock chamber and the second load lock chamber are connected regardless of the size of the transfer chamber.
  • the lock chamber and the second load lock chamber can be shared with other devices.
  • a position that does not interfere with the swiveling motion and the telescopic motion of the robot arm By providing a processing station in the first place, it is possible to provide a processing station without increasing the number of ports for arranging the substrate processing chamber, thereby improving the degree of integration of the substrate transfer device while suppressing an increase in footprint. Can be achieved.
  • a substrate transfer device that can improve the degree of integration of the device while suppressing the expansion of the footprint, and can share the load port chamber.

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Description

技術分野
この発明は、 基板搬送装置に関し、 特にフットプリントを拡大することなく装 置の集積度の向上を可能とする、 基板搬送装置に関するものである。 背景技術
従来の基板搬送装置の概略について、 図 4を参照して説明する。 この基板搬送 装置 300は、 被処理物である基板 400を搬送するため、 旋回運動および伸縮 運動を行なうロポットアーム 306を有し、 略円周状に複数の基板処理室 500 を配置可能とする搬送室 301を備える。 搬送室 301は、 基板処理室等の接続 が可能な四つのポート 302, 303, 304, 305を有する。
また、 搬送室 301の基板搬入 ·搬出側には、 基板 400をストックするカセ ッ卜 314, 315を、 昇降可能および回転可能なように待機させるロードロッ ク室 312, 313が、 ゲートバルブ 310， 31 1を介在して設けられている。 上記 4処理室用の基板搬送装置 300においては、 ロードロック室 312, 3 13を設けるために、 搬送室 301が略六角形形状を有し、 その 4辺には上記ポ 一卜 302， 303， 304, 305が設けられ、 他の 2辺にロードロック室 3 12, 313が設けられる。
また、 ロードロック室 312， 313の手前側は、 一般的には搬送'作業用通 路になっているため、 ロードロック室 312, 313の手前側は直線状に設ける 必要がある。 その結果、 ロードロック室 312, 313の形状は、 図示するよう な屈曲した形状が採用されている。
また、 従来の基板搬送装置 300においては、 上記ポート 305に、 基板処理 室 500とは異なる処理ステーション 600が設けられる。 この処理ステーショ ン 400には、 たとえば基板処理室 500へ搬入する基板 400の結晶方位の位 置決めを予め行なうための位置合わせ装置 （ァライナ） や、 基板処理室 500で 処理された基板 4 0 0を冷却するための冷却装置 （クーラ） 等が装着される。 なお、 図 4においては、 説明の便宜上ポート 3 0 2にのみ基板処理室 5 0 0が 設けられる場合について図示しているが、 実際にはポート 3 0 3 , 3 0 4にも基 板処理室 5 0 0が設けられるものとする。
しかしながら、 上記構成からなる基板搬送装置 3 0 0においては、 処理ステー シヨン 6 0 0を設けた場合、 図 4の 2点鎖線に示すフットプリント F P (装置を 平面上に設置した場合、 真上から投影した総設置面積） が拡大してしまう問題が ある。 また、 処理ステーション 6 0 0を設けるために、 一つのポートが占有され てしまうことになる。
さらに、 装着できる基板処理室の数を増加させると、 搬送室が大きくなり、 そ の搬送室の形状に適合したロードロック室を設計しなければならず、 他の基板搬 送装置とのロードロック室の共通化を図ることができない問題がある。 発明の開示
そこで、 本願発明の目的は、 フットプリン卜の拡大を抑えつつ装置の集積度の 向上を図り、 また、 ロードロック室の共通化を図ることを可能とする基板搬送装 置を提供することにある。
すなわち、 上記目的を達成するために、 この発明に基づいた請求項 1に記載の 基板搬送装置においては、 基板を搬送するため、 旋回運動および伸縮運動を行な う口ポットアームと、 上記口ポットアームを有し、 円周状に複数の基板処理室を 配置可能とする搬送室と、 上記ロボットアームにより、 上記基板処理室へ搬送さ れる上記基板を待機させ、 または、 上記基板処理室で処理された上記基板を受取 るための、 第 1ロードロック室および第 2ロードロック室とを備える基板搬送装 置であって、 上記搬送室と、 上記第 1ロードロック室および第 2ロードロック室 との接合部は直線状に整列するように設けられる。
この構成により、 第 1ロードロック室および第 2ロードロック室の搬送室との 接続部は整列し,た直線状になるため、 搬送室の大きさに関係なく上記第 1口一ド ロック室および第 2ロードロック室の他の装置との共通化を図ることが可能にな る。 また、 請求項 2に記載の基板搬送装置においては、 請求項 1に記載の基板搬送 装置であって、 上記搬送室の上記第 1ロードロックおよび第 2ロードロック室側 には、 口ポットアームの旋回運動および伸縮運動と干渉しない位置に、 上記基板 に処理を行なうための処理ステーションが設けられる。
この構成により、 第 1ロードロック室および第 2ロードロック室の搬送室との 接続部は直線状になるため、 搬送室の大きさに関係なく上記第 1ロードロック室 および第 2ロード口ック室の他の装置との共通化を図ることが可能になる。
さらに、 ロボットアームの旋回運動の軌跡は円を描き、 第 1および第 2ロード ロック室の搬送室との接続部は直線状であるため、 上記ロボットアームの旋回運 動の軌跡と第 1および第 2ロードロック室の直線部との間に空間が生じる。 この 空間を利用して、 ロボットアームの旋回運動および伸縮運動と干渉しない位置に 処理ステーションを設けることにより、 基板処理室を配置するためのポー卜を増 加させることなく処理ステーションを設けることができるため、 フットプリント の拡大を抑えつつ基板搬送装置の集積度の向上を図ることが可能になる。
また、 請求項 3に記載の基板搬送装置においては、 請求項 2に記載の基板搬送 装置であって、 上記処理ステーションとして、 位置合わせ装置が 2組設けられる。 この構成により、 予め位置合わせを行なっておく基板数量を増加させることがで きるため、 基板搬送装置におけるスループット （単位時間内に処理できる基板の 数量） の向上を図ることが可能になる。
また、 請求項 4に記載の基板搬送装置においては、 請求項 2に記載の基板搬送 装置であって、 上記処理ステーションとして、 冷却装置が 2組設けられる。 この 構成により、 処理後冷却のための基板数量を増加させることができるため、 基板 搬送装置におけるスループットの向上を図ることが可能になる。
また、 請求項 5に記載の基板搬送装置においては、 請求項 2に記載の基板搬送 装置であって、 上記処理ステーションとして、 位置合わせ装置および冷却装置が 設けられる。 この構成により、 予め位置合わせを行なっておく基板数量の増加、 および、 処理後冷却のための基板数量を増加させることができるため、 基板搬送 装置におけるスループッ卜の向上を図ることが可能になる。
また、 請求項 6に記載の基板搬送装置においては、 請求項 2に記載の基板搬送 装置であって、 上記処理ステーションとして、 基板を仮置する台およびダミー基 板を載置する台が設けられる。 このように、 基板を仮置する台を設けておくこと により、 基板の搬送中に何らかの原因でロードロック室へ基板を戻すことができ ない場合に、 基板を一次的に保管することが可能になる。 また、 ダミー基板を載 置する台を設けておくことにより、 事前に基板処理室の処理条件を確認すること、 処理室をクリーニングする時に使用するダミー基板を一次的に置くことが可能に なり、 作業性の向上を図ることが可能になる。
また、 この発明に基づいた請求項 7に記載の基板搬送装置においては、 基板を 搬送する作業用通路と対向する位置に配設したロードロック室と、 この口一ドロ ック室の反通路側に配設した搬送室と、 この搬送室の外周に配設した複数の基板 処理室と、 上記搬送室に配置され、 上記ロードロック室と上記基板処理室との間 を往来して上記基板を搬入、 搬出する口ポットアームとを備え、 上記ロードロッ ク室と上記搬送室との接合面は、 上記作業用通路と平行な直線状の接合部を有し、 この接合部を介して上記ロードロック室を連結したことを特徴とする。
この構成により、 ロードロック室と搬送室との接続部は作業用通路と平行な直 線状の接合部となり、 搬送室の大きさに関係なく上記ロードロック室の他の装置 との共通化を図ることが可能になる。
また、 この発明に基づいた請求項 8に記載の基板搬送装置においては、 請求項 7に記載の基板搬送装置であって、 上記ロポッ卜アームの運動範囲から回避した 位置の上記搬送室側に、 上記基板に処理を行なうための処理ステーションを設け たことを特徴とする。
この構成により、 口ポットアームの旋回運動の軌跡は円を描き、 ロードロック 室の搬送室との接続部は直線状であるため、 上記ロポットアームの旋回運動の軌 跡とロードロック室の直線部との間に空間が生じる。 この空間を利用して、 上記 ロポットアームの運動範囲から回避した位置の上記搬送室側に処理ステーション を設けることにより、 基板処理室を配置するためのポ一トを増加させることなく 処理ステーションを設けることができるため、 フッ卜プリントの拡大を抑えつつ 基板搬送装置の集積度の向上を図ることが可能になる。 図面の簡単な説明
図 1は、 この発明に基づいた実施の形態 1における基板搬送装置の構造を示す 平面図である。
図 2は、 この発明に基づいた実施の形態 2における基板搬送装置の構造を示す 平面図である。
図 3は、 この発明に基づいた他の実施の形態における基板搬送装置の構造を示 す平面図である。
図 4は、 従来の技術における基板搬送装置の構造を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 この発明に基づいた各実施の形態における基板搬送装置の構造について、 図を参照しながら説明する。
(実施の形態 1 )
この発明に基づいた実施の形態 1における基板搬送装置の構造について、 図 1 を参照しながら説明する。
(構成）
図 1を参照して、 この基板搬送装置 1 0 0は、 被処理物である基板 4 0 0を搬 送するため、 旋回運動および伸縮運動を行なうロボットアーム 1 0 6を有し、 円 周状に複数の基板処理室 5 0 0を配置可能とする搬送室 1 0 1を備える。 搬送室 1 0 1は、 基板処理室等の接続が可能な四つのポー卜 1 0 2， 1 0 3 , 1 0 4 , 1 0 5を有する。
また、 搬送室 1 0 1の基板搬入 ·搬出側には、 基板 4 0 0をストックするカセ ッ卜 1 1 4 , 1 1 5を、 昇降可能および回転可能なように待機させるロードロッ ク室 1 0 9、 1 1 0が、 ゲートバルブ 1 0 7， 1 0 8を介在して設けられている。 上記 4処理室用の基板搬送装置 1 0 0においては、 搬送室 1 0 1と、 第 1口一 ドロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0との接合部 1 0 0 Fは整列さ れた直線状に設けられるとともに、 接合部 1 0 0 Fは作業用通路 7 0 0とは平行 となるように配置される。 この構成により、 従来と同様に、 第 1ロードロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0の手前側には、 一般的には搬送 ·作業用 通路 7 0 0が設けられるため、 第 1ロードロック室 1 0 9および第 2ロードロッ ク室 1 1 0の手前側は直線状に設ける必要がある。 その結果、 本実施の形態にお ける第 1ロードロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0の形状は、 図示 するような略正方形となる形状の採用が可能になる。
さらに、 本実施の形態における基板搬送装置 1 0 0においては、 反作業用通路 側に位置する搬送室 1 0 1に設けられるロボットアーム 1 0 6の旋回運動および 伸縮運動と干渉しない位置に、 基板 4 0 0に処理を行なうための処理ステーショ ン 1 2 0、 1 2 1が設けられる。 処理ステーション 1 2 0、 1 2 1の具体例とし ては、 位置合わせ装置 （ァライナ） と位置合わせ装置との組合せ、 冷却装置 （ク —ラ） と冷却装置との組合せ、 位置合わせ装置と冷却装置との組合せ等が挙げら れる。
また、 処理ステーション 1 2 0 , 1 2 1として、 基板を仮置する台およびダミ —基板を載置する台を設けることも可能である。 基板を仮置する台を設けておく ことにより、 基板の搬送中に何らかの原因でロードロック室へ基板を戻すことが できない場合に、 基板を一次的に保管することが可能になる。 また、 ダミー基板 を載置する台を設けておくことにより、 事前に基板処理室の処理条件を確認する こと、 処理室をクリーニングする時に使用するダミー基板を一次的に置くことが 可能になり、 作業性の向上を図ることが可能になる。
なお、 図においては、 説明の便宜上ポート 1 0 2にのみ基板処理室 5 0 0が設 けられる場合について図示しているが、 実際にはポート 1 0 3 , 1 0 4 , 1 0 5 にも基板処理室 5 0 0が設けられるものとする。
(作用 ·効果）
このように、 口ポットアーム 1 0 6の旋回運動の軌跡は円を描き、 第 1ロード ロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0の搬送室 1 0 1との接続部は直 線状であるため、 口ポットアーム 1 0 6の旋回運動の軌跡と第 1ロードロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0の直線部との間に空間が生じる。
この空間を利用して、 ロボットアーム 1 0 6の旋回運動および伸縮運動と干渉 しない位置に処理ステーション 1 2 0， 1 2 1を設けることにより、 ポートを増 加させることなく処理ステーション 1 2 0， 1 2 1を設けることができる。 その結果、 従来の装置と比較した場合でも、 フットプリント F Pの拡大を抑え つつ基板搬送装置の集積度の向上を図ることが可能になる。
また、 処理ステーションとして位置合わせ装置、 冷却装置等を設けることによ り、 予め位置合わせを行なっておく基板数量の増加、 および、 処理後の冷却のた めの基板数量を増加させることができるため、 基板搬送装置におけるスループッ 卜の向上を図ることが可能になる。
(実施の形態 2 )
次に、 この発明に基づいた実施の形態 2における基板搬送装置の構造について、 図 2を参照しながら説明する。
(構成）
図 2を参照して、 本実施の形態における基板搬送装置 2 0 0と上述した実施の 形態 1における基板搬送装置 1 0 0との相違点は、 基板搬送装置 1 0 0は 4処理 用であるのに対して、 基板搬送装置 2 0 0は 5処理用である点にある。
その結果、 基板搬送装置 2 0 0は、 搬送室 2 0 1が大型化し、 ポート 2 0 2， 2 0 3 , 2 0 4 , 2 0 5 , 2 0 6が設けられている。 その他の構成は、 基板搬送 装置 1 0 0と同じである。
(作用 ·効果）
上記構成を採用することにより、 基板搬送装置 1 0 0と同じ作用 ·効果が得ら れるとともに、 第 1ロードロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0の搬 送室 1 0 1との接続部は直線状であるため、 搬送室 2 0 1の大きさに関係なく第 1ロードロック室 1 0 9および第 2ロードロック室 1 1 0を基板搬送装置 1 0 0 と基板搬送装置 2 0 0とにおいて共通のものを用いることが可能になる。
(他の実施の形態）
なお、 上記各実施の形態においては、 処理ステーション 1 2 0 , 1 2 1を設け る構造について説明しているが、 図 3に示すように、 処理ステーション 1 2 0， 1 2 1を設けない構造を採用することも可能である。
また、 上記各実施の形態における基板搬送装置は、 搬送室およびロードロック 室を、 真空状態または大気圧状態にする装置その他あらゆる雰囲気下で用いられ る装置に適用することが可能である。 したがって、 今回開示した各実施の形態はすべての点で例示であって制限的な ものではないと考えられる。 本願発明の技術的範囲は上記した説明ではなく、 特 許請求の範囲によって画定され、 特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での すべての変更が含まれることが意図される。
以上、 この発明に基づく基板搬送装置によれば、 第 1ロードロック室および第 2ロードロック室の搬送室との接続部は直線状になるため、 搬送室の大きさに関 係なく第 1ロードロック室および第 2ロードロック室の他の装置との共通化を図 ることが可能になる。 また、 口ポットアームの旋回運動の軌跡と第 1ロードロッ ク室および第 2ロードロック室の直線部との間の空間を利用して、 ロボッ卜ァー ムの旋回運動および伸縮運動と干渉しない位置に処理ステーションを設けること により、 基板処理室を配置するためのポートを増加させることなく処理ステ一シ ヨンを設けることができるため、 フッ卜プリントの拡大を抑えつつ基板搬送装置 の集積度の向上を図ることが可能になる。 産業上の利用可能性
フットプリントの拡大を抑えつつ装置の集積度の向上を図り、 また、 ロード口 ック室の共通化を図ることを可能とする基板搬送装置を提供する。

Claims

請求の範囲
1. 基板 （400) を搬送するため、 旋回運動および伸縮運動を行なうロボット アーム （106) と、
前記ロボットァ一ム （106) を有し、 略円周状に複数の基板処理室 （50 0) を配置可能とする搬送室 （101, 201)と、
前記口ポットアーム （106) により、 前記基板処理室 （500) へ搬送され る前記基板 （400) を待機させ、 または、 前記基板処理室 （500) で処理さ れた前記基板 （400) を受取るための、 第 1ロードロック室 （109) および 第 2ロードロック室 （1 10) と、 を備える基板搬送装置であって、
前記搬送室 （101, 201)と、 前記第 1ロードロック室 （109) および 第 2ロードロック室 (1 10) との接合部 (10 OF) は直線状に整列するよう に設けられる、 基板搬送装置。
2. 前記搬送室 （101， 201)の前記第 1ロードロック室 （1 09) およ び第 2ロードロック室 （1 10) 側には、 前記ロボットアーム （106) の旋回 運動および伸縮運動と干渉しない位置に、 前記基板 （400) に処理を行なうた めの処理ステーション （120, 121) が設けられる、 請求項 1に記載の基板
3. 前記処理ステーション （120, 121) として、 位置合わせ装置が 2組設 けられる、 請求項 2に記載の基板搬送装置。
4. 前記処理ステーション （120， 121) として、 冷却装置が 2組設けられ る、 請求項 2に記載の基板搬送装置。
5. 前記処理ステーション （120, 121) として、 位置合わせ装置および冷 却装置が設けられる、 請求項 2に記載の基板搬送装置。
6. 前記処理ステーション （120, 121) として、 基板 （400) を仮置す る台およびダミー基板を載置する台が設けられる、 請求項 2に記載の基板搬送装 置。
7. 基板 （400) を搬送する作業用通路 （700) と対向する位置に配設した ロードロック室 （109, 110) と、 このロードロック室 （1 09, 1 10) の反通路側に配設した搬送室 （1 0 1) と、
この搬送室 （101) の外周に配設した複数の基板処理室 （500) と、 前記搬送室 （101) に配置され、 前記ロードロック室 （109, 1 10) と 前記基板処理室 （500) との間を往来して前記基板 （400) を搬入、 搬出す るロボットアーム （106) とを備え、
前記ロードロック室 （109, .1 10) と前記搬送室 （101) との接合面は、 前記作業用通路 （700) と平行な直線状の接合部 （10 OF) を有し、 この接 合部 （10 OF) を介して前記口一ドロック室 （109， 1 10) を連結したこ とを特徴とする基板搬送装置。
8. 前記ロボットアーム （106) の運動範囲から回避した位置の前記搬送室 (101) 側に、 前記基板 （400) に処理を行なうための処理ステーション (120, 121) を設けたことを特徴とする、 請求項 7に記載の基板搬送装置。
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