WO1999003604A1 - Nassstrahlverfahren und vorrichtung zur durchführung eines nassstrahlverfahrens - Google Patents

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WO1999003604A1
WO1999003604A1 PCT/DE1998/001831 DE9801831W WO9903604A1 WO 1999003604 A1 WO1999003604 A1 WO 1999003604A1 DE 9801831 W DE9801831 W DE 9801831W WO 9903604 A1 WO9903604 A1 WO 9903604A1
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wet
wet blasting
medium
substrate
blasting
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PCT/DE1998/001831
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French (fr)
Inventor
Volker Pflug
Franz Ammann
Original Assignee
Siemens Aktiengesellschaft
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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays

Definitions

  • the invention relates to a wet blasting method and to a device for carrying out a wet blasting method with which a coating applied to a substrate is removed or with which a surface is cleaned.
  • wet blasting technology is used in many areas of technology to clean a surface or to remove a coating from a surface or a surface.
  • wet blasting technology is used in many areas of technology to clean a surface or to remove a coating from a surface or a surface.
  • wet blasting technology is used in many areas of technology to clean a surface or to remove a coating from a surface or a surface.
  • Dry blasting uses a dry blasting medium to clean the surface or to decoat.
  • a liquid wet blasting medium is used in wet blasting technology.
  • An advantage of wet blasting technology is that the wet blasting medium can be cleaned and reused relatively easily after it has been used. With wet blasting technology, there is therefore only a relatively small amount of waste. This waste primarily shows the contaminants or coatings removed from the surface, the so-called removal.
  • a disadvantage of wet blasting technology is that due to the high humidity, a corrodible, for example metallic, surface corrodes very quickly after processing.
  • Dry beam technology lends itself to this, in which the risk of subsequent corroding is significantly lower.
  • surfaces such as those of a condensation chamber of a boiling water reactor plant, are regularly cleaned or the coating of a substrate is renewed.
  • an old coating can first be removed in order to then be able to apply a new protective layer.
  • the surface must not corrode in the period between the stripping and the renewed coating with a protective layer, since this reduces the adhesion of the protective layer to be applied and thus to a lesser extent
  • Another object of the invention is to provide a device for carrying out the method.
  • the object of the method is achieved according to the invention by a wet blasting method in which a coating present on a corrodible substrate is removed with a wet blasting medium.
  • the wet blasting medium has water and an inhibitor which prevents the substrate from corroding at least for a predetermined period after the coating has been removed.
  • Such a wet blasting process with a corrosion-inhibiting inhibitor combines the advantages of the wet blasting technique with those of the dry blasting technique, since only a small amount of waste is generated in the wet blasting process and, at the same time, corrosion of the substrate after treatment with this wet blasting process is avoided for a sufficient period of time .
  • the wet blasting method is particularly suitable for the treatment of ferritic substrates, such as those used for tanks, other containers or in shipbuilding.
  • corrosion protection agents for aqueous media are suitable as inhibitors, that is to say substances which have a reaction-inhibiting effect.
  • Corrosion protection agents containing polycarboxylic acids or mixtures of alkanolamines with salts of organic acids and surfactants are particularly advantageously suitable for the wet blasting process.
  • a suitable inhibitor is, for example, the corrosion protection agent with the designation "IRGACOR" from CIBA-GEIGY AG with its headquarters in Basel / Switzerland.
  • the inhibitors with an alkanol lamb or with a mixture of alkanol lams it is expedient to inhibit the water by alkalization, ie to increase the pH of the water, which inhibits the corrosion of the substrate.
  • An inhibitor for this is ammonia, for example. It is advantageous to choose an inhibitor which does not adversely affect the adhesion of a new layer to the cleaned substrate. The new layer then has a high level of resistance without the substrate having to be after-treated after wet blasting and before the layer is applied.
  • the inhibitor is preferably active both in the liquid phase and in the gas phase of the wet-jet medium and, in particular, is soluble in water.
  • the water is deionized. With deionized or demineralized water, the salts usually dissolved in the water are completely removed. When the wet blasting medium is processed, the salts dissolved in the water form as additional waste in the case of non-deionized water. The amount of waste generated is therefore reduced by using deionized water.
  • the wet blasting medium is free of abrasive blasting media.
  • Solid and usually granular abrasives such as e.g. Sand, steel gravel or corundum.
  • the absence of such abrasive blasting media is a decisive advantage, which makes the wet blasting method particularly suitable for cleaning the surface of system components.
  • the coating is preferably removed at a jet pressure of the wet jet medium which is above 1000 bar.
  • the de-coating or cleaning of a surface or a substrate is therefore primarily based on a mechanical effect.
  • the coating is made by mechanical Forces acting due to the high jet pressure of the wet ⁇ blasting medium to the coating, removed from the ground under ⁇ .
  • the high blasting pressure ensures high effectiveness of the wet blasting process even in the absence of abrasive blasting media. In particular, a very good effect is achieved with a jet pressure that is up to 2500 bar.
  • the wet blasting medium is circulated, so that the amount of wet blasting medium used is limited.
  • the wet blasting medium is cleaned and reused after it has been used.
  • the remaining waste to be disposed of is minimized.
  • the wet jet process is particularly suitable for stripping a surface in a nuclear plant, in particular a surface of a condensation chamber of a boiling water reactor plant.
  • the surface is by the wet ⁇ jet method simultaneously prepared for the application of a new layer without further treatment of the surface is necessary.
  • the corrosion-inhibiting inhibitor selected is one which has an effect for a period of about 2 to 4 days, so that in the period between the stripping of the substrate and the renewed coating with a new layer, the corrosion of the Is prevented.
  • the main advantages of using the wet blasting method, especially in a nuclear facility, are as follows: - It is necessary no post-treatment of the cleaned surfaces, as by the inhibitor corrosion of the upper flat ⁇ is prevented after the wet blasting for a predetermined period. - The new protective layer to be applied can be applied immediately after stripping without further treatment of the substrate.
  • the selected inhibitors develop their desired corrosion-inhibiting effect from a minimum concentration and have no negative effects on the substrate or on the new coating, even at high concentrations.
  • the dosage of the inhibitor is therefore very simple, since only a minimum concentration, but no maximum concentration, is specified. A single inhibitor is therefore sufficient, and a combination of several inhibitors with different effects is not necessary.
  • the surface of the substrate is only cleaned in the wet blasting process, but otherwise remains unchanged. In particular, their original roughness is retained. The surface is not smoothed. Also, no residues from the blasting medium are deposited on it. Both favor the adhesion of the new coating.
  • the effect of the inhibitor is based on the fact that a kind of protective film essentially lies on the surface and thereby protects it.
  • the inhibiting effect is not based on a chemical reaction of the inhibitor with the surface.
  • a chemical reaction had the disadvantage that reaction products can be deposited on the surface, so that the adhesion of the new coating can be adversely changed.
  • On the apparatus for performing the method bezo ⁇ gene object of the invention is solved by a jet apparatus of an applied on a base coating by means of Nradastrahltechnik for removing, wherein the jet device is connected to a high pressure pump for a NNORstrahlmedium, and wherein the high-pressure pump is designed to generate a jet pressure of over 1000 bar, in particular about 2500 bar.
  • the blasting device is connected via a suction line to a processing system for the used wet blasting medium.
  • an aqueous solution with an anti-corrosion inhibitor as Nradastrahl ⁇ medium is used for removing a coating from a substrate by means of a Najistrahlvons.
  • the Najistrahlmedium is for removing a Beschich ⁇ processing of a substrate to a condensation chamber of a boiling water reactor plant used.
  • the single figure uses a simplified sketch to illustrate the use of the wet blasting method in a condensation chamber, which is shown in detail in a longitudinal section.
  • Boiling water reactor nuclear power plant which has various internals 4, a coating 5 of a surface or a substrate 6 with a blasting device 8 removed.
  • the blasting device 8 is designed, for example, as a robot that moves independently on the substrate 6 and thereby removes the coating.
  • the blasting device 8 can also be designed as a simple hand blasting device his.
  • the beam device 8 is guided a Najistrahlmedium to M ⁇ .
  • the steel device 8 is sprayed against the coating 5 to be removed, for example via a nozzle (not shown).
  • the wet jet medium M has water, in particular deionized water, and an inhibitor which effectively prevents the substrate 6 from corroding for a predetermined period of time after the coating 5 has been removed.
  • an inhibitor which effectively prevents the substrate 6 from corroding for a predetermined period of time after the coating 5 has been removed.
  • the compounds with alkanolamines as extremely functional have proven ⁇ default. Adding this inhibitor effectively prevents corrosion over a period of about 2 days. It is extremely advantageous if the wet blasting medium M has no abrasive blasting media.
  • the wet blasting medium M is conducted in a largely closed circuit.
  • the following components are essentially integrated in this circuit: the blasting device 8, an extraction system 10, a processing system 12, a buffer tank 14 and a high-pressure pump 16.
  • the high-pressure pump 16 generates a blasting pressure for the wet blasting medium M of approximately up to 2500 bar, with which the wet blasting medium M is blasted against the coating to be removed.
  • the wet blasting medium M is for this purpose
  • the cleaned wet blasting medium M is fed to the buffer tank 14 via a further line 28.
  • the wet jet medium M is drawn in from the buffer tank 14 by the high-pressure pump 16 via a suction line 30.
  • the buffer tank 14 ensures that a sufficient amount of the wet jet medium M is provided at all times so that the high-pressure pump 16 does not run empty. Since part of the wet blasting medium M is used up over time and is separated, for example, with the filtrate F, fresh wet blasting medium M or fresh water W can be supplied to the buffer tank 14 if necessary. This is indicated schematically in the figure by a water tap 32.
  • the wet jet method described for cleaning a surface or for stripping a substrate 6 has decisive advantages for use in nuclear power plants.
  • the corrosion-inhibiting effect of the inhibitor which makes it possible to use the wet-jet process with its advantages, to be emphasized first.
  • the filtrate F m nuclear plants may be radioactive, the costs for the disposal of the filtrate F are relatively high.
  • the smallest possible amount of filtrate F is therefore an important advantage, particularly from an economic point of view.
  • the small amount of filtrate F is essentially achieved by the fact that both aftertreatment of the substrate 6 and abrasive blasting agents tel in the wet blasting medium M can be dispensed with, and that the wet blasting medium M is processed.
  • the abrasive Strahlmit ⁇ tel would at least have to be disposed of together with the removal as filtrate F partly because they are difficult to separate in the processing plant 12 from erosion.
  • a new layer for example a protective layer
  • a new layer can be applied to the substrate 6 immediately after the stripping process following the wet blasting process. No further treatment of the substrate 6 is necessary, for example to ensure that the protective layer adheres to the substrate 6.
  • the substrate 6 remains free of corrosion for the specified period of time, which would impair the adhesion of the new protective layer.

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Abstract

Mit dem Naßstrahlverfahren wird mit einem Naßstrahlmedium (M) eine auf einem Untergrund (6) vorhandene Beschichtung (5) entfernt. Das Naßstrahlmedium (M) ist frei von festen Strahlmitteln und weist einen Inhibitor auf, der ein Korrodieren des Untergrundes (6) nach dem Entfernen der Beschichtung (5) eine gewisse Zeit lang hemmt und die Haftung einer neuen Schutzschicht auf dem gereinigten Untergrund (6) nicht beeinflußt. Eine Nachbehandlung des Untergrunds (6) nach dem Naßstrahlen ist nicht erforderlich. Das Naßstrahlverfahren eignet sich insbesondere für den Einsatz in kerntechnischen Anlagen, da nur geringe Abfallmengen anfallen und keine festen Strahlmittel in den Anlagenkomponenten zurückbleiben können.

Description

Beschreibung
Naßstrahlverfahren und Vorrichtung zur Durchfuhrung eines Naßstrahl erfahrens
Die Erfindung bezieht sich auf ein Naßstrahlverfahren sowie auf eine Vorrichtung zur Durchfuhrung eines Naßstrahlverfahrens, mit dem eine auf einem Untergrund aufgebrachte Beschichtung entfernt oder mit dem eine Oberflache gereinigt wird.
Die Naßstrahltechnik wird auf vielen Gebieten der Technik eingesetzt, um eine Oberflache zu reinigen oder um eine Beschichtung von einer Oberflache oder einem Untergrund zu ent- fernen. Neben der Naßstrahltechnik wird unter anderem zum
Reinigen von Oberflachen oder zum Entschichten auch die Trok- kenstrahltechnik eingesetzt. Der Unterschied zwischen der Naßstrahltechnik und der Trockenstrahltechnik besteht zunächst darin, daß bei der Trockenstrahltechnik zum Reinigen der Oberflache oder zum Entschichten ein trockenes Strahl e- dium verwendet wird. Bei der Naßstrahltechnik wird demgegenüber ein flussiges Naßstrahlmedium eingesetzt. Ein Vorteil der Naßstrahltechnik besteht darin, daß das Naßstrahlmedium nach seiner Benutzung relativ einfach gereinigt und wieder- verwendet werden kann. Bei der Naßstrahltechnik fallt daher nur eine relativ geringe Menge an Abfall an. Dieser Abfall weist m erster Linie die von der Oberflache entfernten Verunreinigungen oder Beschichtungen, den sog. Abtrag, auf. Ein Nachteil der Naßstrahltechnik ist darin zu sehen, daß auf- grund der hohen Feuchtigkeit ein korrodierbarer, beispielsweise metallischer, Untergrund nach dem Bearbeiten sehr schnell korrodiert. Nach dem Bearbeiten des Untergrundes mittels der Naßstrahltechnik muß dieser daher nachbearbeitet werden, bevor eine neue Schicht auf den Untergrund aufge- bracht werden kann. Dazu bietet sich beispielsweise die Trok- kenstrahltechnik an, bei der die Gefahr des anschließenden Korrodierens wesentlich geringer ist. In kerntechnischen Anlagen werden Oberflachen, wie beispielsweise die einer Kondensationskammer einer Siedewasserreaktor- Anlage, regelmäßig gereinigt oder die Beschichtung eines Untergrundes wird erneuert. Bei der Kondensationskammer kann beispielsweise zunächst eine alte Beschichtung abgetragen werden, um anschließend eine neue Schutzschicht aufbringen zu können. In dem Zeitraum zwischen dem Entschichten und dem erneuten Beschichten mit einer Schutzschicht darf der Untergrund nicht korrodieren, da dies die Haftung der aufzubnn- genden Schutzschicht verringern und so zu einer geringeren
Beständigkeit der Schutzschicht fuhren wurde. Der Einsatz der Trockenstrahltechnik zur Vermeidung des Korrosionsproble s weist im wesentlichen zwei Nachteile auf: Zum einen fallt bei der Trockenstrahltechnik eine sehr große Menge von Abfall an, der im Falle von kerntechnischen Anlagen radioaktiv oder toxisch belastet sein kann. Die Entsorgung eines solchen Abfalls ist daher aufwendig und kostenintensiv. Zum anderen kann ein Anteil der festen, abrasiven Strahlmittel unerwünscht m der Kondensationskammer verbleiben, so daß diese u.U. beispielsweise m den Kuhlkreislauf gelangen können.
Aus der DE 195 44 296 AI ist eine Vorrichtung zum Bearbeiten oder Prüfen einer Oberflache bekannt, mit der ein Untergrund weitgehend automatisch entschichtet oder gereinigt werden kann. Diese Vorrichtung eignet sich daher besonders zum Bearbeiten eines radioaktiv oder toxisch belasteten Untergrundes, um die Belastung des Bedienpersonals gering zu halten.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Entschichtung eines Untergrundes anzugeben, bei dem das Korrodieren des Untergrundes nach der Entschichtung für einen vorgegebenen Zeitraum gehemmt ist, und bei dem der Untergrund gleichzeitig für eine nachfolgende Beschichtung vorbereitet wird. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Durchfuhrung des Verfahrens anzugeben. Die auf das Verfahren gerichtete Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelost durch ein Naßstrahlverfahren, bei dem mit einem Naßstrahlmedium eine auf einem korrodierbaren Untergrund vorhandene Beschichtung entfernt wird. Das Naßstrahlmedium weist Wasser und einen Inhibitor auf, der ein Korrodieren des Untergrundes nach dem Entfernen der Beschichtung zumindest für einen vorgegebenen Zeitraum verhindert.
Ein solches Naßstrahlverfahren mit einem korrosionshemmenden Inhibitor verbindet die Vorteile der Naßstrahltechnik mit denen der Trockenstrahltechnik, da bei dem Naßstrahlverfahren nur eine geringe Menge an Abfall anfallt, und da gleichzeitig eine Korrosion des Untergrundes nach der Behandlung mit diesem Naßstrahlverfahren über einen hinreichenden Zeitraum ver- mieden ist.
Das Naßstrahlverfahren eignet sich besonders zur Behandlung von ferritischen Untergründen, wie sie beispielsweise bei Tanks, sonstigen Behaltern oder beim Schiffsbau eingesetzt werden.
Als Inhibitoren, also Substanzen, die reaktionshemmend wirken, bieten sich handelsübliche Korrosionsschutzmittel für wäßrige Medien an. Für das Naßstrahlverfahren eignen sich m besonders vorteilhafter Weise Korrosionsschutzmittel, die Po- lycarbonsauren oder Mischungen aus Alkanolammen mit Salzen organischer Sauren und Tensiden aufweisen. Als Inhibitor eignet sich beispielsweise das Korrosionsschutzmittel mit der Bezeichnung „IRGACOR" der Firma CIBA-GEIGY AG mit dem Firmen- sitz m Basel / Schweiz.
Alternativ zu den Inhibitoren mit einem Alkanolamm oder mit einer Mischung aus Alkanolammen ist es zweckdienlich, das Wasser durch Alkalisierung zu inhibieren, d.h. den pH-Wert des Wassers zu erhohen, wodurch die Korrosion des Untergrundes gehemmt ist. Ein Inhibitor hierfür ist beispielsweise Ammoniak. Es ist vorteilhaft, wenn ein Inhibitor gewählt wird, der die Haftung einer neuen Schicht auf dem gereinigten Untergrund nicht negativ beeinflußt. Die neue Schicht weist dann eine hohe Beständigkeit auf, ohne daß der Untergrund nach dem Naß- strahlen und vor dem Aufbringen der Schicht nachbehandelt werden muß .
Vorzugsweise ist der Inhibitor sowohl in der flüssigen Phase als auch in der Gasphase des Naßstrahlmediums wirksam und insbesondere im Wasser löslich.
Es ist zweckdienlich, wenn das Wasser deionisiert ist. Bei deionisiertem oder auch entmineralisiertem Wasser sind die gewöhnlich im Wasser gelösten Salze vollständig entfernt. Bei einer Aufbereitung des Naßstrahlmediums fallen bei nicht- deionisiertem Wasser die im Wasser gelösten Salze als zusätzlicher Abfall an. Durch die Verwendung von deionisiertem Wasser wird daher die anfallende Abfallmenge reduziert.
Es ist besonders vorteilhaft, wenn das Naßstrahlmedium frei von abrasiven Strahlmitteln ist. Als abrasive Strahlmittel werden feste und in der Regel körnige Strahlmittel, wie z.B. Sand, Stahlkies oder Korund, bezeichnet. Das Fehlen solcher abrasiver Strahlmittel ist ein entscheidender Vorteil, durch den das Naßstrahlverfahren speziell zur Reinigung der Oberfläche von Anlagenkomponenten geeignet ist. Infolge des Fehlens der abrasiven Strahlmittel ist ausgeschlossen, daß sich diese in den Anlagenkomponenten ablagern und eventuell die Funktionstüchtigkeit dieser oder nachgeschalteter Anlagenkom- ponenten nach Beendigung des Naßstrahlverfahrens beeinträchtigen.
Bevorzugt wird die Beschichtung bei einem Strahldruck des Naßstrahlmediums entfernt, der über 1000 bar liegt. Die Ent- Schichtung oder die Reinigung einer Oberfläche oder eines Untergrundes beruht daher in erster Linie auf einer mechanischen Wirkung. Die Beschichtung wird durch die mechanischen Kräfte, die aufgrund des hohen Strahldrucks von dem Na߬ strahlmedium auf die Beschichtung einwirken, von dem Unter¬ grund abgetragen. Der hohe Strahldruck gewährleistet hierbei eine hohe Wirksamkeit des Naßstrahlverfahrens selbst bei Feh- len von abrasiven Strahlmitteln. Insbesondere wird eine sehr gute Wirkung mit einem Strahldruck erreicht, der bis zu 2500 bar beträgt.
In einer zweckdienlichen Ausgestaltung wird das Naßstrahlme- dium in einem Kreislauf geführt, so daß die Menge des verbrauchten Naßstrahlmediums begrenzt wird.
Insbesondere ist es zweckdienlich, wenn das Naßstrahlmedium nach seiner Benutzung gereinigt und wiederverwendet wird. Durch die Reinigung des Naßstrahlmediums wird der verbleibende und zu entsorgende Abfall minimiert.
Das Naßstrahlverfahren eignet sich insbesondere zum Entschichten einer Oberfläche in einer kerntechnischen Anlage, insbesondere einer Oberfläche einer Kondensationskammer einer Siedewasserreaktor-Anlage. Die Oberfläche wird durch das Na߬ strahlverfahren gleichzeitig für das Aufbringen einer neuen Schicht vorbereitet, ohne daß eine weitergehende Behandlung der Oberfläche nötig ist.
Insbesondere ist es vorteilhaft, wenn als korrosionshemmender Inhibitor ein solcher gewählt ist, dessen Wirkung für einen Zeitraum von etwa 2 bis 4 Tagen besteht, so daß in dem Zeitraum zwischen dem Entschichten des Untergrundes und dem er- neuten Beschichten mit einer neuen Schicht die Korrosion des Untergrundes verhindert ist.
Die wesentlichen Vorteile beim Einsatz des Naßstrahlverfahrens, insbesondere in einer kerntechnischen Anlage, sind fol- gende : - Es ist keine Nachbehandlung der gereinigten Oberflachen notwendig, da durch den Inhibitor eine Korrosion der Ober¬ flache nach dem Naßstrahlen für einen vorgegebenen Zeitraum verhindert ist. - Die neu aufzubringende Schutzschicht kann unmittelbar nach dem Entschichten ohne eine weitere Behandlung des Untergrundes aufgebracht werden.
Es fallen bei der Reinigung mittels des Naßstrahlmediums nur geringe Abfallmengen an, die entsorgt werden müssen. - Durch das Fehlen von abrasiven Strahlmitteln ist eine Beeinträchtigung der Wirkungsweise von Anlagenkomponenten nach dem Naßstrahlen nicht zu befurchten.
Die gewählten Inhibitoren entfalten ihre gewünschte korro- sionshemmende Wirkung ab einer Mindestkonzentration und haben auch bei hohen Konzentrationen keine negativen Auswirkungen auf den Untergrund oder auf die neue Beschichtung. Die Dosierung des Inhibitors ist daher sehr einfach, da nur eine Mindestkonzentration, jedoch keine Maximaikonzentration vorgegeben ist. Daher ist auch ein einziger In- hibitor ausreichend, und eine Kombination mehrerer Inhibitoren mit unterschiedlichen Wirkungen ist nicht notwendig. Die Oberflache des Untergrunds wird bei dem Naßstrahlverfahren nur gereinigt, bleibt ansonsten jedoch unverändert. Insbesondere bleibt ihre ursprungliche Rauhigkeit erhal- ten. Die Oberflache wird nicht geglättet. Auch lagern sich auf ihr keine Ruckstande aus dem Strahlmedium ab. Beides begünstigt die Haftung der neuen Beschichtung. Die Wirkung des Inhibitors beruht darauf, daß sich im wesentlichen eine Art Schutzfilm auf den Untergrund legt und diesen dadurch schützt. Die inhibitisierende Wirkung beruht also nicht auf einer chemischen Reaktion des Inhibitors mit der Oberflache. Eine chemische Reaktion hatte den Nachteil, daß sich auf der Oberflache Reaktionsprodukte ablagern können, so daß die Haftung der neuen Beschichtung ungunstig verändert werden kann. Die auf die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens bezo¬ gene Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst durch eine Strahlvorrichtung zum Entfernen einer auf einem Untergrund aufgebrachten Beschichtung mittels der Naßstrahltechnik, wo- bei die Strahlvorrichtung mit einer Hochdruckpumpe für ein Naßstrahlmedium verbunden ist, und wobei die Hochdruckpumpe zur Erzeugung eines Strahldrucks von über 1000 bar, insbesondere von etwa 2500 bar, ausgelegt ist.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung ist die Strahlvorrichtung über eine Absaugleitung mit einer Aufbereitungsanlage für das verbrauchte Naßstrahlmedium verbunden.
Erfindungsgemäß ist weiterhin vorgesehen, daß eine wäßrige Lösung mit einem korrosionshemmenden Inhibitor als Naßstrahl¬ medium zum Entfernen einer Beschichtung von einem Untergrund mittels eines Naßstrahlverfahrens verwendet wird. Insbesondere wird das Naßstrahlmedium zum Entfernen einer Beschich¬ tung von einem Untergrund einer Kondensationskammer einer Siedewasserreaktor-Anlage verwendet.
Ein Ausführungsbeispiel wird im folgenden anhand der Zeichnung erläutert.
Die einzige Figur veranschaulicht anhand einer vereinfachten Skizze den Einsatz des Naßstrahlverfahrens in einer Kondensationskammer, die ausschnittsweise in einem Längsschnitt dargestellt ist.
Gemäß der Figur wird in einer Kondensationskammer 2 einer
Siedewasserreaktor-Kernkraftanlage, die verschiedene Einbauten 4 aufweist, eine Beschichtung 5 einer Oberfläche oder eines Untergrundes 6 mit einer Strahlvorrichtung 8 entfernt. Die Strahlvorrichtung 8 ist beispielsweise als Roboter ausge- staltet, der sich selbständig auf dem Untergrund 6 fortbewegt und diesen dabei entschichtet. Alternativ kann die Strahlvorrichtung 8 auch als einfaches Handstrahlgerät ausgeführt sein. Der Strahlvorrichtung 8 wird ein Naßstrahlmedium M zu¬ geführt. Dazu wird beispielsweise über eine nicht näher dargestellte Düse der Stahlvorrichtung 8 gegen die zu entfernende Beschichtung 5 gespritzt.
Das Naßstrahlmedium M weist Wasser, insbesondere deionisier- tes Wasser, sowie einen Inhibitor auf, der ein Korrodieren des Untergrundes 6 nach Entfernen der Beschichtung 5 für einen vorgegebenen Zeitraum wirksam verhindert. Als Inhibitor haben sich Verbindungen mit Alkanolaminen als äußerst zweck¬ mäßig erwiesen. Durch Beigabe dieses Inhibitors wird eine Korrosion über einen Zeitraum von etwa 2 Tagen wirksam vermieden. Es ist äußerst vorteilhaft, wenn das Naßstrahlmedium M keinerlei abrasive Strahlmittel aufweist.
Das Naßstrahlmedium M wird in einem weitgehend geschlossenen Kreislauf geführt. In diesem Kreislauf sind im wesentlichen folgenden Komponenten eingebunden: Die Strahlvorrichtung 8, eine Absauganlage 10, eine Aufbereitungsanlage 12, ein Puf- fertank 14 und eine Hochdruckpumpe 16.
Die Hochdruckpumpe 16 erzeugt einen Strahldruck für das Naßstrahlmedium M von etwa bis zu 2500 bar, mit dem das Naßstrahlmedium M gegen die zu entfernende Beschichtung ge- strahlt wird. Das Naßstrahlmedium M wird hierzu über eine
Hochdruckleitung 18 der Strahlvorrichtung 8 zugeführt. Durch den hohen Strahldruck trägt das Naßstrahlmedium M die Beschichtung 5 vom Untergrund 6 ab. Die abgetragenen Reststoffe der Beschichtung 5 werden als Abtrag bezeichnet.
Der Abtrag wird zusammen mit dem Naßstrahlmedium M als verbrauchtes Naßstrahlmedium M von der Absaugvorrichtung 10 abgesaugt, die beispielsweise einen Unterdruck zum Absaugen bereitstellt. Die Strahlvorrichtung 8 ist mit der Absaugvor- richtung 10 über eine Absaugleitung 20 verbunden. Das verbrauchte Naßstrahlmedium M kann, wie in der Figur gezeigt, entweder zunächst innerhalb der Kondensationskammer 2 gesam- melt und anschließend zu der Aufbereitungsanlage 12 über eine Leitung 22 gefuhrt werden, oder das verbrauchte Naßstrahlme¬ dium M wird direkt über die Leitung 22 zu der Aufbereitungs¬ anlage 12 gefuhrt. In der Aufbereitungsanlage 12 wird das verbrauchte Naßstrahlmedium M gereinigt, so daß es wiederverwendet werden kann. In der Aufbereitungsanlage 12 wird aus dem Naßstrahlmedium M der Abtrag als Filtrat F abgeschieden. Das Filtrat F wird über eine Filtratleitung 24 m einem Fil- tratbehalter 26 gesammelt, bis das Filtrat F einer Entsorgung zugeführt wird.
Das gereinigte Naßstrahlmedium M wird über eine weitere Leitung 28 dem Puffertank 14 zugeleitet. Über eine Ansaugleitung 30 wird das Naßstrahlmedium M aus dem Puffertank 14 von der Hochdruckpumpe 16 angesaugt. Der Puffertank 14 gewahrleistet, daß jederzeit eine ausreichende Menge des Naßstrahlmediums M bereitgestellt ist, so daß die Hochdruckpumpe 16 nicht leerlauft. Da ein Teil des Naßstrahlmediums M mit der Zeit verbraucht und beispielsweise mit dem Filtrat F abgeschieden wird, kann bei Bedarf dem Puffertank 14 frisches Naßstrahlmedium M oder Frischwasser W zugeführt werden. Dies ist m der Figur schematisch durch einen Wasserhahn 32 angedeutet.
Das beschriebene Naßstrahlverfahren zum Reinigen einer Ober- flache oder zum Entschichten eines Untergrundes 6 hat für den Einsatz m kerntechnischen Anlagen entscheidende Vorteile. Hervorzuheben ist zunächst die korrosionshemmende Wirkung des Inhibitors, die es erlaubt, das Naßstrahlverfahren mit seinen Vorteilen einzusetzen. Bei dem Naßstrahlverfahren fallt nur eine geringe Menge an Filtrat F an, das entsorgt werden muß. Da das Filtrat F m kerntechnischen Anlagen unter Umstanden radioaktiv belastet ist, sind die Kosten für die Entsorgung des Filtrats F relativ hoch. Eine möglichst geringe Menge an Filtrat F ist daher insbesondere m wirtschaftlicher Hinsicht ein bedeutender Vorteil. Die geringe Menge Filtrat F wird im wesentlichen dadurch erreicht, daß sowohl auf eine Nachbehandlung des Untergrundes 6 als auch auf abrasive Strahlmit- tel im Naßstrahlmedium M verzichtet werden kann, und daß das Naßstrahlmedium M aufbereitet wird. Die abrasiven Strahlmit¬ tel würden zumindest teilweise zusammen mit dem Abtrag als Filtrat F entsorgt werden müssen, da sie nur schwer in der Aufbereitungsanlage 12 vom Abtrag zu trennen sind.
Ein weiterer Vorteil des Naßstrahlverfahrens besteht darin, daß eine neue Schicht, beispielsweise eine Schutzschicht, unmittelbar nach dem Entschichten im Anschluß an das Naßstrahl- verfahren auf den Untergrund 6 aufgebracht werden kann. Es ist keine weitere Behandlung des Untergrundes 6 nötig, um beispielsweise die Haftung der Schutzschicht auf dem Untergrund 6 zu gewährleisten. Durch die Verwendung des Inhibitors bleibt der Untergrund 6 für den vorgegebenen Zeitraum frei von Korrosion, die die Haftung der neuen Schutzschicht beeinträchtigen würde.

Claims

Patentansprüche
1. Naßstrahlverfahren, bei dem mit einem Naßstrahlmedium (M) eine auf einem korrodierbaren Untergrund (6) vorhandene Be- Schichtung (5) entfernt wird, wobei das Naßstrahlmedium (M) Wasser und einen Inhibitor aufweist, der einer Korrosion des Untergrundes (6) nach dem Entfernen der Beschichtung (5) entgegenwirkt .
2. Naßstrahlverfahren nach Anspruch 1, bei dem der Inhibitor ein Alkanolamin aufweist.
3. Naßstrahlverfahren nach Anspruch 1, bei dem das Wasser durch den Inhibitor alkalisiert wird.
4. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der Inhibitor die Haftung einer neuen Schicht auf dem gereinigten Untergrund (6) unbeeinflußt läßt.
5. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem der Inhibitor sowohl in der flüssigen Phase als auch in der Dampfphase des Naßstrahlmediums (M) wirksam ist.
6. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem das Wasser deionisiert ist.
7. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem das Naßstrahlmedium (M) frei von abrasiven Strahlmitteln ist.
8. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem die Beschichtung (5) durch einen Strahldruck des Naßstrahlmediums (M) entfernt wird, der über 1000 bar, insbesondere über 2500 bar, liegt.
9. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem das Naßstrahlmedium (M) in einem Kreislauf geführt wird.
10. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem das Naßstrahlmedium (M) nach seiner Benutzung gereinigt und wieder verwendet wird.
11. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, mit dem eine Beschichtung (5) von einem korrodierbaren Untergrund (6) einer kerntechnischen Anlage, insbesondere einer Kondensationskammer (2) einer Siedewasserreaktor-Anlage, entfernt und der Untergrund (6) dadurch zur Aufbringung einer neuen Schicht vorbereitet wird.
12. Naßstrahlverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei dem die korrosionshemmende Wirkung des Inhibitors für einen Zeitraum von etwa 2 bis 4 Tage besteht.
13. Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 12, mit einer Strahlvorrichtung (8) zum Entfernen einer auf einem Untergrund (6) aufgebrachten Beschichtung (5), wobei die Strahlvorrichtung (8) mit einer Hochdruckpumpe (16) für ein Naßstrahlmedium (M) verbunden ist, und wobei die Hochdruckpumpe (16) zur Erzeugung eines Strahldrucks von über 1000 bar, insbesondere von etwa 2500 bar, ausgelegt ist.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, bei der die Strahlvorrichtung (8) über eine Absaugleitung (10) mit einer Aufbereitungsanlage (12) für das verbrauchte Naßstrahlmedium (M) verbunden ist.
15. Verwendung einer wäßrigen Lösung mit einem korrosionshemmenden Inhibitor als Naßstrahlmedium (M) zum Entfernen einer Beschichtung (5) von einem Untergrund (6) mittels eines Naßstrahlverfahren, insbesondere von einem Untergrund (6) einer Kondensationskammer (2) einer Siedewasserreaktor-Anlage.
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