WO1998024577A1 - Procede de production de poudre metallique et equipement associe - Google Patents

Procede de production de poudre metallique et equipement associe Download PDF

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WO1998024577A1
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metal
reduction
furnace
metal powder
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Wataru Kagohashi
Takefumi Irie
Hideo Takatori
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Toho Titanium Co., Ltd.
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    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/28—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from gaseous metal compounds
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    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
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    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S266/00—Metallurgical apparatus
    • Y10S266/905—Refractory metal-extracting means

Definitions

  • the present invention relates to a method and a method for producing a conductive paste filler used for electronic parts, a joining material of Ti material, and a metal powder such as Ni, Cu or Ag suitable for various uses such as a catalyst.
  • a conductive paste filler used for electronic parts
  • a joining material of Ti material e.g., Ti-doped aluminum
  • a metal powder such as Ni, Cu or Ag suitable for various uses such as a catalyst.
  • Conductive metal powders such as Ni, Cu, and Ag are useful for forming internal electrodes of multilayer ceramic capacitors, and in particular, Ni powder has recently attracted attention as such an application.
  • Ni powder has recently attracted attention as such an application.
  • ultra-fine Ni powder produced by a dry production method is promising. With the demand for thinner and lower resistance internal electrodes as capacitors become smaller and larger in capacity, ultrafine powder with a particle size of l / m or less and a particle size of 0.5 / m or less is required. ing.
  • Japanese Patent Publication No. 59-77065 discloses a method in which solid nickel chloride is heated and evaporated to form nickel chloride vapor, and hydrogen gas is sprayed at a high speed to grow nuclei in an unstable interface region. ing. Further, in JP-A 4 3 6 5 8 0 6 JP, solid nickel evaporation-obtained vapor of nickel chloride partial pressure (hereinafter, N i abbreviated as C l 2 gas) 0.0 5-0 , 3, and a method of performing gas phase reduction at 104 ° C. to 14453 ° C. is disclosed. According to these production methods, spherical Ni ultrafine powder having an average particle diameter of 0.1 to several ⁇ m is generated.
  • N i C 1 for 2 evaporation rate is low
  • N i C 1 requiring a large amount of carrier gas order to transport the gas to the reduction step (inert gas such as nitrogen gas), the nitrogen gas or the like Requires extra heating energy to heat the water.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and is a method and an apparatus for producing metal powder, which can achieve the following objects.
  • the method for producing a metal powder according to the present invention includes a step of continuously generating a metal chloride gas by bringing a metal into contact with a chlorine gas; and And a reduction step for continuously reducing chlorides.
  • metal atoms are generated at the moment when the metal chloride gas and the reducing gas come into contact, and the metal atoms collide and aggregate to generate ultrafine particles, which grow. Go on.
  • the particle size of the generated metal powder is determined by conditions such as the partial pressure and temperature of the metal chloride gas in the atmosphere of the reduction step.
  • an amount of metal chloride gas is generated in accordance with the supply amount of chlorine gas.
  • the amount of chloride gas can be controlled.
  • metal chloride gas is generated by the reaction between chlorine gas and metal, unlike the method of generating metal chloride gas by heating and evaporating solid metal chloride, if the use of carrier gas can be reduced. It is possible not to use it depending on the manufacturing conditions. Therefore, the production cost can be reduced by reducing the amount of carrier gas used and the resulting reduction in heating energy.
  • the partial pressure of the metal chloride gas in the reduction step can be controlled.
  • the particle size of the metal powder can be controlled, and the particle size of the metal powder can be stabilized. And the particle size can be set arbitrarily.
  • the apparatus for producing metal powder of the present invention includes: a chlorination furnace for salifying the metal charged therein; and a reduction furnace for reducing metal chloride gas generated in the chlorination furnace.
  • Raw material supply pipe for supplying metal chlorine gas supply pipe for supplying chlorine gas inside, transfer pipe for transferring generated metal chloride gas to reduction furnace, and dilution of metal chloride gas
  • An inert gas supply pipe for supplying inert gas to the inside is provided.
  • the reduction furnace has a nozzle for ejecting metal chloride gas into the inside, and a reducing gas supply for supplying the reducing gas to the inside.
  • the chlorination furnace has a pipe and a cooling gas supply pipe for supplying an inert gas for cooling the reduced metal powder into the inside.
  • the chlorination furnace is located upstream of the reduction furnace, and directly connects the chlorination furnace and the reduction furnace. As a result, the chlorination reaction and the reduction reaction Moreover, it is characterized by being made to proceed continuously.
  • the amount of metal chloride gas generated according to the amount of supply of chlorine gas is generated, and the amount of supply of chlorine gas is increased because the chlorine furnace and the reduction furnace are directly connected.
  • the chlorination furnace is provided with an inert gas supply pipe, from which an inert gas can be supplied to the chlorination furnace, so that the partial pressure of the metal chloride gas in the reduction furnace can be controlled. Therefore, also in the metal powder production apparatus of the present invention, the particle size of the metal powder can be controlled by controlling the supply amount of the chlorine gas or the partial pressure of the metal chloride gas supplied to the reduction furnace. To stabilize the particle size of the powder In addition to the above, the same actions and effects as described above can be obtained, for example, the particle size can be set arbitrarily.
  • FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of the apparatus for producing metal powder of the present invention.
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing another example of the apparatus for producing metal powder of the present invention.
  • FIG. 3 is an example of an SEM photograph of the Ni powder produced according to the present invention. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the chlorination step is preferably performed in a chlorination furnace 1 as shown in FIG.
  • a raw material supply pipe 11 for supplying the raw material metal Ni (M) is provided at the upper end surface of the chlorination furnace 1.
  • a chlorine gas supply pipe 14 is connected to the upper part of the chlorination furnace 1
  • an inert gas supply pipe 15 is connected to the lower part.
  • a heating means 10 is arranged around the chlorination furnace 1, and a transfer pipe / nozzle 17 is connected to a lower end surface of the chlorination furnace 1.
  • the chlorination furnace 1 may be a vertical type or a horizontal type, but is preferably a vertical type in order to perform a solid-gas contact reaction uniformly.
  • the chlorination furnace 1 and other members are preferably made of quartz glass. Transfer tubes and nozzles 1 7 has a function of feeding transfer is connected to the upper end face of the reduction furnace 2 to be described later, the N i C 1 2 gas or the like generated in the chlorination furnace 1 to the reduction furnace 2.
  • the lower end of the transfer pipe / nozzle 17 projects into the reduction furnace 2 and functions as a NiC 1: jet nozzle. It is preferable to provide a net 16 as shown in FIG. 1 at the bottom of the chlorination furnace 1 and to deposit metal Ni (M) on the net 16.
  • the form of the metal Ni (M), which is the starting material, does not matter, but from the viewpoint of contact efficiency and prevention of pressure loss increase, it is preferably in the form of granules, lumps, or plates having a particle size of about 5 mm to 20 mm.
  • the purity is generally preferred to be 99.5% or more.
  • the height of the packed bed of metal Ni (M) in the chlorination furnace 1 depends on the chlorine supply speed, chlorination furnace temperature, continuous operation time, and the shape of the metal Ni (M). suitable for a range sufficient is converted to C 1 2 gas It can be set appropriately.
  • the temperature in the chlorination furnace 1 is set to 800 ° C or higher to sufficiently promote the reaction, and to 148 ° C or lower, which is the melting point of Ni. Considering the reaction rate and the durability of the chlorination furnace 1, a range of 900 ° C to 110 ° C is practically preferable.
  • N i C 1 2 gas generated in the chlorination step is directly or transferred to the original process instead by the transfer pipe and the nozzle 1 7, in some cases, an inert gas such as nitrogen Ya Arugo emissions from the inert gas supply pipe 1 5 the, N i C 1: 1 mole% to 3 0 mol gas 0/0 were mixed, to transfer the mixed gas of this the reduction step.
  • the supply of the inert gas is a controlling factor of the particle size of the Ni powder. Excessive mixing of inert gas not only results in a large consumption of inert gas, but also results in energy loss and is uneconomical.
  • N i C 1 2 gas partial pressure of the mixed gas passing through the transfer tube and the nozzle 1 7, 0 when the total pressure of 1 0 5:... 1 0 range
  • a partial pressure of about 0.6 to 0.9 is preferable.
  • N i C 1 2 gas generation as described above can be adjusted arbitrarily by the chlorine gas supply amount, also, N i C 1: arbitrarily adjusted at a partial pressure also inert gas supply amount of the gas be able to.
  • Is the transfer N i C 1 2 gas generated in the chlorination step is continuously reduction step - as reduction E is preferably carried out using a reduction furnace 2 as shown in FIG.
  • the nozzle of the transfer pipe / nozzle 17 (hereinafter simply referred to as the nozzle 17) is projected downward.
  • a hydrogen gas supply pipe (reducing gas supply pipe) 21 is connected to the upper end surface of the reduction furnace 2, and a cooling gas supply pipe 22 is connected to a lower part of the reduction furnace 2.
  • a heating means 20 is arranged around the reduction furnace 2. Nozzle 1 7, as will be described later, N i C 1 2 gas from the chlorination furnace 1 to the reduction furnace 2 (which may include an inert gas) has a function of jetting a preferred flow rate.
  • the amount of hydrogen gas supplied to the reduction furnace 2 is about 1.0 to 3.0 times the chemical equivalent of NiC ⁇ 2 gas, that is, the chemical equivalent of chlorine gas supplied to the chlorination furnace 1, preferably 1.1. It is about 2.5 times, but it is not limited to this.
  • an excessive supply of hydrogen gas causes a large flow of hydrogen in the reduction furnace 2, disturbing the Ni CI 2 jet flow from the nozzle 17, causing a non-uniform reduction reaction and a gas not consumed. Emission is uneconomical.
  • the temperature of the reduction reaction may be at least a temperature sufficient for the completion of the reaction. However, it is easier to handle a solid Ni powder so that the temperature is lower than the melting point of Ni. Considering the reaction rate, the durability of the reduction furnace 2 and the economic efficiency, 90 (TC to 110 ° C. is practical, but not limited to this.
  • Chlorine gas introduced into the above-described as chlorination step substantially becomes N i C 1 2 gas in the same molar amount, which is a reducing material.
  • N i C 1 2 gas or N i C 1 2 - by the also adjust the linear velocity of the gas stream ejected from the nozzle 1 7 the tip of the inert gas mixed gas, the particle size of the resulting N i powders P appropriate Can be That is, if the nozzle diameter is constant, the particle size of the Ni powder P generated in the reduction furnace 2 can be adjusted to a target range by the supply amount of chlorine and the supply amount of the inert gas to the chlorination process. .
  • Ni powder with a small particle size of about 0.3 ⁇ m, about 5 mZsec to 25 m / sec, and 0.4 ⁇ 1.0 ⁇ m Ni
  • about 1 mZ second to 15 mZ second is appropriate.
  • the particle size of the Ni powder generated in the process decreases, and conversely, the particle size increases when the supply flow rate of chlorine gas is reduced.
  • N i C 1 2 gas with an inert gas to be mixed with respect to N i C 1 2 gas near the chlorination furnace 2 outlet as described above, specifically, N i 1 mole 0 / to C 1 2 gas. ⁇ 30 mol. /.
  • Ni C 1 the particle size of the Ni powder generated when the gas partial pressure is reduced.
  • the diameter can be reduced.
  • the method for producing metal powder of the present invention may include a cooling step.
  • the cooling step can be performed in the space on the opposite side of the nozzle 17 in the reduction furnace 2, and in some cases, another container connected to the outlet of the reduction furnace 2 is used. Is also possible.
  • cooling in the present invention is an operation performed to stop or suppress the growth of Ni particles in a gas stream (including hydrochloric acid gas) generated by the reduction reaction. Specifically, the cooling is terminated. It means an operation to rapidly cool the gas flow around 100 ° C to around 400 ° C to 800 ° C. Of course, it is permissible to cool to a temperature below this, 0
  • an inert gas may be blown into a space below the flame tip.
  • the gas flow can be cooled by blowing nitrogen gas from the cooling gas supply pipe 22.
  • the inert gas By blowing the inert gas, the particle size can be controlled while preventing the aggregation of the Ni powder P.
  • the cooling conditions can be changed arbitrarily, thereby controlling the particle size more accurately. be able to.
  • the mixed gas of the Ni powder P, the hydrochloric acid gas and the inert gas that has passed through the above steps is transferred to a recovery step, where the Ni powder P is separated and recovered from the mixed gas.
  • a recovery step for example, one or a combination of two or more of bag filter, underwater collection / separation means, oil collection / separation means and magnetic separation means is suitable, but not limited thereto.
  • one or a combination of two or more of bag filter, underwater collection / separation means, oil collection / separation means and magnetic separation means is suitable, but not limited thereto.
  • the mixed gas of the generated Ni powder P, the hydrochloric acid gas and the inert gas may be guided to a bag filter, and only the Ni powder P may be collected and sent to the cleaning step.
  • normal paraffin having 10 to 18 carbon atoms or light oil is preferably used.
  • a surfactant such as polyoxyalkylene glycol, polyoxypropylene dalicol or a derivative thereof (monoalkyl ether, monoester), or sorbitan or sorbitan monoester in the collected liquid.
  • a known antioxidant such as a phenol-based or an amine-based metal deactivator represented by benzotriazole or a derivative thereof, when one or more of these are added in an amount of about 10 ppm to 100 ppm, It is effective in preventing and preventing aggregation of metal powder particles.
  • the reduction step is made into one step, but the reduction step can be divided into a plurality of steps.
  • FIG. 2 shows an example in which one reduction step is divided into two steps, and the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
  • the cooling gas supply pipe 22 is not provided in the reduction furnace 2 ′ in the first reduction step, but is provided only in the reduction furnace 2 in the second reduction step. 0 N i C 1 2 chemical equivalents of hydrogen gas amount to be supplied to the first reduction step. 5-0.
  • the total amount, N i C By supplying hydrogen gas 1.0 to 2.5 times the amount of 12 gas, it becomes possible to control the particle size more accurately and over a wide range.
  • an appropriate amount of NiC1 : gas may be supplied near the outlet of the reduction furnace 2 'as needed.
  • the gas flow in the reduction furnaces 2 and 2 ′ can be brought into a state close to a laminar flow.
  • the residence time of the Ni particles in the reduction furnaces 2 and 2 ' can be made uniform, and the growth of the Ni particles can be made uniform.
  • the particle size of the generated Ni powder can be made uniform.
  • the total volume of all the reduction furnaces when the reduction step is divided into a plurality of steps be the same as the volume of the reduction furnace without division.
  • N i C 1 2 As described above, the solid N i C 1 2 as a starting material, in the conventional manufacturing method subjected to reduction reaction it was evaporated, the conversion speed control of the solid one gas is very difficult, yet solid N i C 1: the for those going through the process of sublimation, the supply of N i C 1 2 gas into the reduction furnace interior, not a Banara be accompanied to a large amount of flow of inert gas to the evaporating section of the N i C 1 2, thus N i C 1 2 it is difficult to increase the partial pressure of the gas, Although process control has been made is extremely difficult, in the manufacturing method of the present invention, N i C 1 by the supply amount of chlorine gas: the amount of generated gas Can be controlled, so that process control is easy and stable.
  • powders such as Cu and Ag other than Ni can also be produced by selecting the respective salinity and reduction temperatures using the respective metals as starting materials. .
  • Ni powder was spherical with an average particle size of 0.70 // m (measured by the BET method).
  • the particle size determined from the SEM photograph was 0.80 m, which was almost the same as the particle size determined by the BET method. This means that the surface of the Ni powder obtained in this example is smooth as in the SEM photograph example shown in FIG.
  • 1 g of Ni powder was The supplied hydrogen gas supply amount and the supplied nitrogen gas supply amount were 0.668 Nl / g and 0.038 N1 / g, respectively.
  • Example 1 Using the manufacturing apparatus shown in FIG. 1, the temperature conditions were the same as in Example 1, and Ni powder was manufactured under the gas flow conditions shown in Table 1. As shown in Table 1, it was confirmed that as the chlorine gas flow rate increased, the particle size of the generated Ni powder decreased.
  • the present invention can be used as a production method and a production apparatus for producing a metal powder via a metal chloride.

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Description

明 細 書 金属粉末の製造方法および製造装置 技 術 分 野
本発明は電子部品等に用いられる導電ペース トフイラ一、 T i材の接合材、 さ らには触媒などの各種用途に適した N i， C uあるいは A g等の金属粉末の製造 方法および製造装置に関する。 背 景 技 術
N i , C u， A gなどの導電性の金属粉末は、 積層セラミックコンデンサの内 部電極形成用として有用であり、 とりわけ N i粉末は、 そのような用途として最 近注目されている。 中でも乾式の製造方法によって製造した N i超微粉が有望視 されている。 コンデンサーの小型化、 大容量化に伴い、 内部電極の薄層化 ·低抵 抗化等の要求から、 粒径 l / m以下は勿論、 粒径 0 . 5 / m以下の超微粉が要望 されている。
従来、 上記のような金属粉末を製造する製造方法が種々提案されている。 たと えば、 特公昭 5 9 - 7 7 6 5号公報では、 固体塩化ニッケルを加熱蒸発して塩化 ニッケル蒸気とし、 これに水素ガスを高速で吹き付けて界面不安定領域で核成長 させる方法が開示されている。 また、 特開平 4— 3 6 5 8 0 6号公報では、 固体 塩化ニッケルを蒸発して得た塩化ニッケル蒸気 （以下、 N i C l 2ガスと略す） の分圧を 0 . 0 5〜0， 3とし、 1 0 0 4 °C〜 1 4 5 3 °Cで気相還元する方法が 開示されている。 そして、 これらの製造方法によれば、 平均粒径が 0 . 1〜数 μ mの球状 N i超微粉が生成されるとされている。
しかしながら、 上記提案に係る金属粉末の製造方法では、 いずれも固体状の塩 化ニッケルを出発原料とするため、 以下のような本質的問題がある。
①固体 N i C 1 ：の加熱蒸発 （昇華） 操作が必須のため、 蒸気の安定発生が難し い。 その結果、 N i C 1 2ガス分圧が変動し、 生成された N i粉末の粒径が安定 しない。 ②プロセスの運転中に蒸発部の固体 N i C 1 2の量が変動すると蒸発速度が変動 し、 安定した製造ができない。
③ N i C 1 2は結晶水を有しているので、 使用前に脱水処理が必要となるばかり でなく、 脱水が不充分であると生成した N i粉末の酸素汚染の原因となる。
④固体 N i C 1 2の蒸発速度が遅いため、 N i C 1 ：ガスを還元工程に移送するた めの多量のキャリアガス （窒素ガス等の不活性ガス） を要し、 また窒素ガス等を 加熱するための余計な加熱ェネルギーを要する。
⑤このため、 N i C 1 2ガスの還元工程での濃度 （分圧） を高めることができず、 N i粉末の生産速度が遅いばかりでなく、 大きな反応容器が必要になる。
したがって、 本発明は、 上記事情に鑑みてなされたもので、 以下の目的を達成 することができる金属粉末の製造方法および製造装置である。
1 ) 平均粒径 0 . 1〜 1 . 0 μ mの N i， C uもしくは A g等の粉末（超微粉末） を安定して製造する。
2 ) 加熱蒸発 （昇華） 工程がなく、 反応制御を容易に行う。
3 ) プロセス全体をガスの流量で制御でき、 目的の粒径の金属粉末を任意に製造 する。
4 ) ガスやエネルギーの消費が少ない。 発 明 の 開 示
本発明の金属粉末の製造方法は、 金属に塩素ガスを接触させて金属塩化物ガス を連続的に発生させる塩化工程と、 塩化工程で発生した金属塩化物ガスを還元性 ガスと接触させ、 金属塩化物を連続的に還元する還元工程とを備えたことを特徴 としている。
気相反応による金属粉末の製造過程では、 金属塩化物ガスと還元性ガスとが接 触した瞬間に金属原子が生成し、 金属原子どうしが衝突 ·凝集することによって 超微粒子が生成され、 成長してゆく。 そして、 還元工程の雰囲気中の金属塩化物 ガスの分圧や温度等の条件によって、 生成される金属粉末の粒径が決まる。 本発 明の金属粉末の製造方法によれば、 塩素ガスの供給量に応じた量の金属塩化物ガ スが発生するから、 塩素ガスの供給量を制御することで還元工程へ供給する金属 塩化物ガスの量を制御することができる。 さらに、 金属塩化物ガスは、 塩素ガス と金属との反応で発生するから、 固体金属塩化物の加熱蒸発により金属塩化物ガ スを発生させる方法と異なり、 キヤリァガスの使用を少なくすることができるば かりでなく、 製造条件によっては使用しないことも可能である。 よって、 キヤリ ァガスの使用量低減とそれに伴う加熱エネルギーの低減により、 製造コストを低 減することができる。
また、塩化工程で発生した金属塩化物ガスに不活性ガスを混合することにより、 還元工程における金属塩化物ガスの分圧を制御することができる。 このように、 塩素ガスの供給量もしくは還元工程に供給する金属塩化物ガスの分圧を制御する ことにより、 金属粉末の粒径を制御することができ、 金属粉末の粒径を安定させ ることができるとともに、 粒径を任意に設定することができる。
また、 本発明の金属粉末の製造装置は、 内部に充填した金属を塩化する塩化炉 と、 この塩化炉で発生した金属塩化物ガスを還元する還元炉とを備え、塩化炉は、 その内部に金属を供給するための原料供給管と、 内部に塩素ガスを供給するため の塩素ガス供給管と、 発生した金属塩化物ガスを還元炉に移送する移送管と、 金 属塩化物ガスを希釈する不活性ガスを内部に供給するための不活性ガス供給管と を備え、 還元炉は、 金属塩化物ガスを内部に噴出するノズルと、 還元性ガスを内 部に供給するための還元性ガス供給管と、 還元された金属粉末を冷却する不活性 ガスを内部に供給するための冷却ガス供給管とを備え、 塩化炉は還元炉の上流側 に配置され、 塩化炉と還元炉とを直結することにより、 塩化反応と還元反応が同 時にしかも連続的に進行するようになされていることを特徴としている。
上記構成の金属粉末の製造装置においても、 塩素ガスの供給量に応じた量の金 属塩化物ガスが発生し、 しかも、 塩化炉と還元炉とが直結されているので、 塩素 ガスの供給量を制御することで還元炉へ供給する金属塩化物ガスの量を制御する ことができる。 また、 塩化炉には不活性ガス供給管が設けられており、 ここから 不活性ガスを塩化炉に供給できるから、 還元炉における金属塩化物ガスの分圧を 制御することができる。 したがって、 本発明の金属粉末の製造装置においても、 塩素ガスの供給量もしくは還元炉に供給する金属塩化物ガスの分圧を制御するこ とにより金属粉末の粒径を制御することができ、 金属粉末の粒径を安定させるこ とができるとともに、 粒径を任意に設定することができる等上記と同等の作用、 効果を得ることができる。 図面の簡単な説明
第 1図は本発明の金属粉末の製造装置の一例を示す縦断面図である。
第 2図は本発明の金属粉末の製造装置の他の例を示す縦断面図である。
第 3図は本発明によって製造した N i粉末の S E M写真例である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について N iの製造例を もとに詳しく説明する。
A. 塩化工程
塩化工程は図 1に示すような塩化炉 1によって行うと好適である。 塩化炉 1の 上端面には、原料金属 N i (M) を供給するための原料供給管 1 1が設けられる。 また、 塩化炉 1の上側部には塩素ガス供給管 1 4が接続され、 下側部には不活性 ガス供給管 1 5が接続される。 塩化炉 1の周囲には加熱手段 1 0が配置され、 塩 化炉 1の下端面には、 移送管兼ノズル 1 7が接続される。 塩化炉 1は縦型、 横型 を問わないが、 固体—ガス接触反応を均一に行うためには縦型が好ましい。 塩素 ガスは流量計測して連続的に塩素ガス供給管 1 4から導入される = 塩化炉 1およ びその他の部材は石英ガラス製が好ましい。 移送管兼ノズル 1 7は後述する還元 炉 2の上端面に接続され、 塩化炉 1で発生する N i C 1 2ガス等を還元炉 2へ移 送する機能を有する。 また、 移送管兼ノズル 1 7の下端部は、 還元炉 2内に突出 して N i C 1 ：噴出ノズルとして機能する。 なお、 塩化炉 1の底部には、 図 1に 示すような網 1 6を設け、 網 1 6の上に金属 N i (M) を堆積すると良い。 出発原料である金属 N i (M) の形態は問わないが、 接触効率、 圧力損失上昇 防止の観点から、 粒径約 5 m m〜 2 0 m mの粒状、 塊状、 板状などが好ましく、 またその純度は慨して 9 9 . 5 %以上が好ましい。 塩化炉 1内の金属 N i (M) の充填層高は、 塩素供給速度、 塩化炉温度、 連続運転時間、 金属 N i (M) の形 状などをもとに、 供給塩素ガスが N i C 1 2ガスに変換されるに十分な範囲に適 宜設定すれば良い。 塩化炉 1内の温度は、 反応を十分進めるために 8 0 0 °C以上 とし、 N i の融点である 1 4 8 3 °C以下とする。 反応速度と塩化炉 1の耐久性を 考慮すると、 実用的には 9 0 0 °C〜 1 1 0 0 °Cの範囲が好ましレ、。
本発明の金属粉末の製造方法においては、 金属ニッケル (M) が充填された塩 化炉 1への塩素ガスの連続供給は、 N i C 1 2ガスの連続発生をもたらす。 そし て、 塩素ガス供給量が N i C 1 2ガスの発生量を支配するから、 後述する還元反 応を支配し、 その結果、 目的とする製品 N i粉末が生産可能になる。 なお、 塩素 ガス供給の詳細は以下の還元工程の項でより具体的に説明する。
塩化工程で発生した N i C 1 2ガスは、 そのまま移送管兼ノズル 1 7により還 元工程に移送するか、 場合によっては、 不活性ガス供給管 1 5から窒素ゃァルゴ ンなどの不活性ガスを、 N i C 1 :ガスに対し 1モル％〜3 0モル0 /0混合し、 こ の混合ガスを還元工程に移送する。 この不活性ガスの供給は、 N i粉末の粒径制 御因子となる。 不活性ガスの過剰な混合は、 不活性ガスの多大な消耗となること は勿論、 エネルギー損失となって不経済である。 このような観点から、 移送管兼 ノズル 1 7を通過する混合ガスの好ましい N i C 1 2ガス分圧は、 全圧を 1 . 0 としたときに 0 . 5〜： 1 . 0の範囲、 とりわけ粒径 0 . 2 /i m〜0 . 5 / mとレ、 つた小粒径の N i粉末を製造する場合には、 分圧 0 . 6〜0 . 9程度が好適であ る。 そして、 前述のように N i C 1 2ガス発生量は塩素ガス供給量により任意に 調整することができ、 また、 N i C 1 ：ガスの分圧も不活性ガス供給量で任意に 調整することができる。
B. 還元工程
塩化工程で発生した N i C 1 2ガスは連続的に還元工程に移送される- 還元ェ 程は、 図 1に示すような還元炉 2を用いて行うことが望ましい。 還元炉 2の上端 部には、上述した移送管兼ノズル 1 7のノズル（以下、単にノズル 1 7と称する） が下方へ突出させられる。 また、 還元炉 2の上端面には、 水素ガス供給管 （還元 性ガス供給管） 2 1が接続され、 還元炉 2の下側部には冷却ガス供給管 2 2が接 続される。 また、還元炉 2の周囲には加熱手段 2 0が配置される。 ノズル 1 7は、 後述するように、 塩化炉 1から還元炉 2内へ N i C 1 2ガス （不活性ガスを含む 場合がある） を、 好ましい流速で噴出する機能を有する。 N i C 1 2ガスと水素ガスによる還元反応が進行する際、 ノズル 1 7先端部か らは、 L PGなどの気体燃料の燃焼炎に似たような、 下方に延びた輝炎（以下、 火炎という） Fが形成される。 還元炉 2への水素ガス供給量は、 N i C 〖 2ガス の化学当量、 すなわち、 塩化炉 1へ供給する塩素ガスの化学当量の 1 · 0〜3. 0倍程度、 好ましくは 1. 1〜2. 5倍程度であるが、 これに限定するものでは ない。 しかしながら、 水素ガスを過剰に供給すると還元炉 2内に大きな水素流れ をもたらし、 ノズル 1 7からの N i C I 2噴出流を乱し、 不均一な還元反応の原 因になるとともに、 消費されないガス放出をもたらして不経済である。 また、 還 元反応の温度は反応完結に充分な温度以上であれば良いが、 固体状の N i粉末を 生成する方が取扱いが容易であるので、 N iの融点以下が好ましい。 反応速度、 還元炉 2の耐久性、経済性を考慮すると 90 (TC〜 1 1 00°Cが実用的であるが、 特にこれに限るものではない。
上述のとおり塩化工程に導入された塩素ガスは、 実質的に同モル量の N i C 1 2ガスとなり、 これが還元原料とされる。 N i C 1 2ガスもしくは N i C 1 2—不 活性ガス混合ガスのノズル 1 7先端から噴出されるガス流の線速度を調整するこ とにより、 得られる N i粉末 Pの粒径を適切化することができる。 すなわち、 ノ ズル径が一定であれば、 塩化工程への塩素供給量と不活性ガス供給量によって、 還元炉 2で生成される N i粉末 Pの粒径を目的の範囲に調整することができる。 ノズル 1 7先端における好ましいガス流の線速度 （N i C 1 ：ガスおよび不活性 ガスの合計 （還元温度でのガス供給量に換算した計算値）） は、 900 C〜 1 1 00 =Cの還元温度において約 1 m/秒〜 30 ml 秒に設定され、 0. 1 μ π！〜 0. 3 μ mのような小粒径の N i粉末を製造する場合には、 およそ 5 mZ秒〜 2 5 m/秒、 また、 0. 4 μ ηι〜 1. 0 μ mの N i粉末を製造する場合には、 およ そ l mZ秒〜 1 5 mZ秒が適当である。 水素ガスの還元炉 2内での軸方向の線速 は、 N i c 12ガスの噴出速度（線速） の I/S O IZS O 0程度、 好ましくは
1Z80〜1ノ250が良い。 したがって、 実質的には諍的水素雰囲気中へ N i C 1 2ガスがノズル 1 7から噴射されるような状態となる。 なお、 水素ガス供給 管 2 1の出口の方向は、 火炎側へ向けないことが好ましい。
本発明の製造方法では、 塩化工程への塩素ガス供給流量を増加させると、 還元 工程で生成する N i粉末の粒径が小さくなり、 逆に塩素ガスの供給流量を減少さ せると粒径が増大する。 さらには、 前述したような塩化炉 2出口付近で N i C 1 2ガスに対して混合する不活性ガスにより N i C 1 2ガスの分圧を調整することに より、 具体的には N i C 1 2ガスに対し 1モル0/。〜 3 0モル。/。の範囲で混合し、 例えば、分圧を高めると生成する N i粉末の粒径を増大させることができ、逆に、 N i C 1 ：ガスの分圧を低めると生成する N i粉末の粒径を小さくすることがで きる。
C . 冷却工程
本発明の金属粉末の製造方法には冷却工程を設けることができる。冷却工程は、 図 1に示すように、 還元炉 2内のノズル 1 7と反対側の空間部分で行なうことが でき、あるレ、は、還元炉 2の出口に接続した別の容器を用いることも可能である。 なお、 本発明でいう冷却とは、 還元反応で生成したガス流 （塩酸ガスを含む） に おける N i粒子の成長を停止もしくは抑制するために行う操作であり、 具体的に は還元反応を終えた 1 0 0 0 °C付近のガス流を 4 0 0 °C〜 8 0 0 °C程度まで急速 冷却させる操作を意味する。 もちろんこれ以下の温度まで冷却を行っても構わな レ、0
冷却を行うための好ましい例として、 火炎先端から下方の空間部分に不活性ガ スを吹き込むように構成することができる。 具体的には、 冷却ガス供給管 2 2よ り窒素ガスを吹き込むことで、 ガス流を冷却することができる。 不活性ガスを吹 き込むことにより、 N i粉末 Pの凝集を防止しつつ粒径制御を行うことができる。 冷却ガス供給管は、 1箇所もしくは還元炉 2の上下方向に位置を変化させて複数 箇所に設けることで、 冷却条件を任意に変更することができ、 これにより粒径制 御をより精度よく行なうことができる。
D . 回収工程
以上の工程を経た N i粉末 Pと塩酸ガスおよび不活性ガスの混合ガスは回収ェ 程へ移送され、そこで混合ガスから N i粉末 Pが分離回収される。分離回収には、 例えばバグフィルター、 水中捕集分離手段、 油中捕集分離手段および磁気分離手 段の 1種または 2種以上の組合せが好適であるが、 これに限定されるものではな い。 たとえば、 バグフィルタ一によって N i粉末 Pを捕集する場合、 冷却工程で 生成した N i粉末 Pと塩酸ガスおよび不活性ガスの混合ガスをバグフィルタ一に 導き、 N i粉末 Pだけを回収した後、 洗浄工程に送ってもよい。 油中捕集分離を 用いる場合には、 炭素数 1 0〜1 8のノルマルパラフィンまたは軽油を使用する のが好適である。 水中もしくは油中捕集を用いる場合には、 捕集液にポリオキシ アルキレングリ コール、 ポリォキシプロピレンダリコールまたはそれらの誘導体 (モノアルキルエーテル、 モノエステル） あるいは、 ソルビタン、 ソルビタンモ ノエステル等の界面活性剤、 ベンゾトリアゾ一ルまたはその誘導体に代表される 金属不活性剤のフエノール系、 あるいはアミン系など公知の酸化防止剤、 これら の 1種または 2種以上を 1 0 p p m〜 1 0 0 0 p p m程度添加すると、 金属粉末 粒子の凝集防止や防鲭に効果的である。
E . 他の実施の形態
上記実施の形態は還元工程を 1工程にしたものであるが、 還元工程を複数工程 に分割することもできる。 図 2は 1工程の還元工程を 2工程に分割した例を示す ものであり、 図 1に示す構成要素と同等の構成要素には同符号を付してある。 図 2に示すように、 冷却ガス供給管 2 2は、 第 1還元工程の還元炉 2 ' には設けら れず、 第 2還元工程の還元炉 2にのみ設けられる。 第 1還元工程へ供給する水素 ガス量を N i C 1 2の化学当量の 0 . 5〜0 . 9倍とし、 第 2還元工程で不足分 の水素ガスを補い、 合計量として、 N i C 1 2ガス量の 1 . 0〜2 . 5倍の水素 ガスを供給することにより、 粒径制御を一層精度良く しかも広い範囲で行うこと が可能となる。 この場合、 必要に応じて還元炉 2 ' の出口付近に N i C 1 :ガス の適当量を補給するようにしても良い。
このように還元工程を複数工程に分割することにより、 還元炉 2， 2 ' におけ るガス流を層流に近い状態にすることができる。 その結果、 還元炉 2， 2 ' 内で の N i粒子の滞留時間を均一にすることができ、 N i粒子の成長を均一にするこ とができる。 これにより、 生成した N i粉末の粒径を均一にすることができる。 また、 還元工程を複数工程に分割した場合の全ての還元炉の総容積は、 分割しな い場合の還元炉の容積と同じにすることが好ましい。 これにより、 全ての還元炉 を通過するガス流に含まれる N i粉末の平均滞留時間を変えることなく、 滞留時 間分布のみを押出混合のそれに近づけることができ、 より精度の高い粒径制御が 可能となる。
以上のように、 固体 N i C 1 2を出発物質とし、 これを蒸発させて還元反応に 供する従来の製造方法では、 固体一気体の変換速度制御が極めて難しく、 しかも 固体 N i C 1 ：の昇華という工程を経るものであるため、 還元炉内部への N i C 1 2ガスの供給は、 N i C 1 2の蒸発部への大量の不活性ガスの流れによらなけれ ばならず、 したがって N i C 1 2ガスの分圧を高めることが難しく、 またプロセ ス制御が極めて難しいものであつたが、 本発明の製造方法では、 塩素ガスの供給 量によって N i C 1 ：ガスの発生量を制御できるため、 プロセス制御が容易であ り、 しかも安定して制御することができる。
なお、 本発明の製造方法によれば、 N i以外の C uおよび A g等の粉末もそれ ぞれの金属を出発原料にして塩化、 還元の温度を選択することにより製造するこ とができる。
以下、 本発明を具体的な実施例によりより詳細に説明する。
[実施例 1 ]
図 1に示す金属粉末の製造装置の塩化炉 1に、 平均粒径 5 mmの N i粉末 1 5 k gを充填し、 炉内雰囲気温度を 1 1 0 0 °Cにして 4 N 1 /m i nの流量で塩素 ガスを導入し、 金属 N i を塩化して N i C 1 2ガスを発生させた。 これに塩素ガ ス供給量の 1 0。/。 （モル比） の窒素ガスを混合し、 この N i C 1 窒素混合ガ スを 1 0 0 0 =Cの雰囲気温度に加熱した還元炉 2に、 ノズル 1 7から流速 2 . 3 m /秒 （ 1 0 0 0 ¾換算） で導入した。 同時に還元炉 2の頂部から水素ガスを流 速 7 N 1 / m i nで供給し、 N i C 1 2ガスを還元した。 そして、 還元反応で生 成した N i粉末を含む生成ガスに冷却工程で窒素ガスを混合して冷却した。 次い で、窒素ガス一塩酸蒸気一 N i粉末からなる混合ガスをオイルスクラバーに導き、 N i粉末を分離回収した。 ついで、 回収した N i粉末をキシレンで洗浄後、 乾燥 して製品 N i粉末を得た。 この N i粉末は、 平均粒径が 0 . 7 0 // m ( B E T法 で測定） の球状であった。 なお、 S E M写真から求めた粒径は、 0 . 8 0 m であり B E T法で求めた粒径とほぼ一致した。 このことは、 本実施例で得られた N i粉末の表面が、 図 3に示した S E M写真例のように平滑であることを意味し ている。 本実施例の方法で 1 0時間安定運転を行なった結果、 N i粉末 1 gに対 する水素ガス供給量と窒素ガス供給量は、 それぞれ 0 . 6 6 8 N l / gと 0 . 0 3 8 N 1 / gであった。
[実施例 2 ]
図 1に示す製造装置を用いて実施例 1と温度条件は同じとし、 表 1に示したよ うなガス流量の条件下で N i粉末を製造した。 表 1に示すように、 塩素ガス流量 の増加に伴い、 生成した N i粉末の粒径が小さくなることが確認された。
[実施例 3 ]
図 1に示す製造装置を用いて実施例と温度条件は同じとし、 表 1に示したよう なガス流量の条件下で N i粉末を製造した。 表 1に示すように、 N i C 1 2ガス の分圧を低下させることにより、 N i粉末の粒径を細かくすることができる c 第 1表 施例 C1 2力、'ス流量 N 2力、、ス流量 NiCl -分圧 H 2力"ス流量 生成 Ni粉粒径
No. Nl/min Nl/min Nl/min β m
1 4 . 0 0 . 4 0 . 9 7 . 0 0 . 7 0
2 5 . 0 0 . 5 0 . 9 8 . 8 0 . 6 0
2 8 . 0 0 . 8 0 . 9 1 4 . 0 0 . 3 5
2 1 1 . 0 1 . 1 0 . 9 1 9 . 3 0 . 2 0
3 3 . 2 0 . 8 0 . 8 5 . 6 0 . 6 0
3 2 . 8 1 . 2 0 . 7 4 . 9 0 . 4 5
3 2 . 0 2 . 0 0 . 5 3 . 5 0 . 3 0 以上説明したように本発明によれば以下の効果が得られる。
①塩素ガスの供給量を制御することで、 金属塩化物ガスの供給量を制御すること ができ、 プロセス全体の安定運転が可能となる。
②これにより、 生成する金属粉末の粒径も確実に制御することができる。
③平均粒径 0 . 1〜 1 . 0 / 111の範囲の1^ C u , A gの金属粉末を容易に製 造することができる。 とりわけ製造が難しいとされている 0 . 2〜0 . 4 μ πιの 粉末を容易に製造することができる。
④窒素ガスや水素ガスを効率良く使用することができ、 金属粉末の生産コストを 低減することができる。 産業上の利用可能性
本発明は、 金属塩化物を介して金属粉末を製造する際の製造方法および製造装 置として利用可能である。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 金属に塩素ガスを接触させて金属塩化物ガスを連続的に発生させる塩化工程 と、 塩化工程で発生した金属塩化物ガスを還元性ガスと接触させ、 金属塩化物を 連続的に還元する還元工程とを備えたことを特徴とする金属粉末の製造方法。
2 . 前記還元工程で生成した金属粉末を含むガスを不活性ガスにより冷却する冷 却工程を備えたことを特徴とする請求項 1に記載の金属粉末の製造方法。
3 . 前記塩化工程に導入する塩素ガス流量を調整することにより、 金属粉末の粒 径を制御することを特徴とする請求項 1または 2に記載の金属粉末の製造方法。
4 . 前記還元工程は、 前記金属塩化物ガスを水素雰囲気中に噴出させて行なうこ とを特徴とする請求項 1〜 3のいずれかに記載の金属粉末の製造方法。
5 . 前記金属は N iであり、 前記還元工程は、 分圧 0 . 5〜 1 . 0の N i C l 2 ガスを水素雰囲気中に噴出させて行うことを特徴とする請求項 1〜4のいずれか に記載の金属粉末の製造方法。
6 . 内部に充填した金属を塩化する塩化炉と、 この塩化炉で発生した金属塩化物 ガスを還元する還元炉とを備え、
上記塩化炉は、 その内部に金属を供給するための原料供給管と、 内部に塩素ガ スを供給するための塩素ガス供給管と、 発生した金属塩化物ガスを上記還元炉に 移送する移送管と、 上記金属塩化物ガスを希釈する不活性ガスを内部に供給する ための不活性ガス供給管とを備え、
上記還元炉は、 上記金属塩化物ガスを内部に噴出するノズルと、 還元性ガスを 内部に供給するための還元性ガス供給管と、 還元された金属粉末を冷却する不活 性ガスを内部に供給するための冷却ガス供給管とを備え、
上記塩化炉は上記還元炉の上流側に配置され、 塩化炉と還元炉とを直結するこ とにより、 塩化反応と還元反応が同時にしかも連続的に進行するようになされて いることを特徴とする金属粉末の製造装置。
WO 98/24577 補正書の請求の範囲 PCT/JP97/04380
[ 1 9 9 8年 4月 2日 （0 2 . 0 4 . 9 8 ) 国際事務局受理：出願当初の請求の範囲 1， 5 及び 6は補正された；出願当初の請求の範囲 4は取り下げられた；新しい請求の範囲 7が加 えられた；他の請求の範囲は変更なし。 （ 2頁） ]
1 . (補正後） 金属に塩素ガスを接触させて金属塩化物ガスを連続的に発生させ る塩化工程と、 塩化工程で発生した金属塩化物ガスを、 同ガスの分圧を 0 . 5〜 1 . 0として水素ガス雰囲気中に噴出させて金属塩化物を連続的に還元する還元 工程とを備えたことを特徴とする金属粉末の製造方法。
2 . 前記還元工程で生成 Zした金属粉末を含むガスを不活性ガスにより冷却する 冷却工程を備えたことを特徴とする請求項 1に記載の金属粉末の製造方法。
3 . 前記塩化工程に導入する塩素ガス流量を調整することにより、 金属粉末の粒 径を制御することを特徴とする請求項 1または 2に記載の金属粉末の製造方法 c
4 . 削除
5 . (補正後） 前記金属は N iであり、 前記還元工程は、 分圧 0 . 6〜0 . 9の N i C 1 :ガスを水素雰囲気中に噴出させて行うことを特徴とする請求項 1 〜 3 のいずれかに記載の N i金属粉末の製造方法。
6 . (補正後） 内部に充填した金属を塩化する塩化炉と、 この塩化炉で発生した 金属塩化物ガスを還元する還元炉とを備え、
上記塩化炉は、 その内部に金属を供給するための原料供給管と、 内部に塩素ガ スを供給するための塩素ガス供給管と、 発生した金属塩化物ガスを上記還元炉に 移送する移送管と、 上記金属塩化物ガスを希釈する不活性ガスを内部に供給する ための不活性ガス供給管とを備え、
上記還元炉は、 上記金属塩化物ガスを内部に噴出するノズルと、 還元性ガスを 内部に供給するための還元性ガス供給管と、 還元で生成した金属粉末を含有する ガス流を冷却するための冷却ガス供給管とを備え、
上記塩化炉は上記還元炉の上流側に配置され、 塩化炉と還元炉とを直結するこ
- 14- 捕正された用紙 （条約第 19条） とにより、 塩化反応と還元反応が同時にしかも連続的に進行するようになされて いることを特徴とする金属粉末の製造装置。
7 . (追加） 前記還元工程へ供給する水素ガスの供給量は、 前記塩化工程へ供給 する塩素ガスの供給量に対してモル比で 1 . 0〜3 . 0倍であることを特徴とす る請求項 1〜 5のいずれかに記載の金属粉末の製造方法。
- 15- 補正された用紙 （条約第 19条） 条約第 1 9条に基づく説明書 請求項 1は、 還元工程へ供給する金属塩化物ガスの分圧が 0 . 5〜1 . 0であ ることを明確にした。 これにより、 火炎を伴う.激しい還元反応が生じ易くなり、 還元工程において未反応の金属塩化物ガスの割合を少なくすることができる。 引 用された J P， 6 - 1 2 2 9 0 6 , Aでは、 第 5欄 1 0行目の記載から金属塩化 物ガスの分圧は 0 . 1以下と推定され、 また、 他の引用文献にも請求項 1のよう な高い金属塩化物ガス分圧についての記載は存在しない。
また、 請求項 6は、 還元炉に金属塩化物ガスを内部に噴出するノズルを有して いることを特徴としている。 このようなノズルについては、 いずれの引用文献に も開示されていない。
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