WO1998013158A1 - Hydrogen absorbing alloy powder and method of producing hydrogen absorbing alloy powder - Google Patents

Hydrogen absorbing alloy powder and method of producing hydrogen absorbing alloy powder Download PDF

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Hideki Iba
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    • Y10S420/90Hydrogen storage

Definitions

  • the present invention relates to a hydrogen storage alloy powder and a method for producing the same, and more particularly, to an activation treatment by improving the poisoning resistance of a powder surface to contamination by an oxide film, moisture, or adsorbed gas during handling in the air.
  • the oxidation is carried out, especially during the rapid solidification process and / or during the heat treatment, by setting the atmosphere of the pulverization process to an inert gas atmosphere containing S gas or SF 6 gas.
  • the present invention relates to a surface treatment method for hydrogen storage alloy powder that prevents and increases poisoning.
  • hydrogen storage alloys can store and release hydrogen reversibly, they are used in energy storage tanks, nickel hydrogen batteries, and heat pumps that use the endothermic reaction when releasing hydrogen. Used for o
  • the manufacturing process of a hydrogen storage alloy usually consists of melting, manufacturing, heat treating and pulverizing. At this time, the pulverization is performed in two or three stages using a joc crusher, a roll crusher, or the like, depending on the particle size. In this grinding process, argon was used to prevent oxidation of the surface. Often have been. Hydrogen storage alloy powder having a clean surface produced by mechanical pulverization or gas atomization in an inert gas atmosphere, or hydrogenation pulverization can be activated relatively easily. it can.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-240310 discloses a method of finely pulverizing a raw material in a non-oxidizing atmosphere as a raw material with an airtight high if compacted raw material. ing. In this method, the surface oxidation during the pulverization can be prevented or the poisoning resistance after the pulverization (protection of the alloy table fii) is not effective.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-207493 discloses a method for absorbing hydrogen in an alkaline solution containing fluorine ions.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-167201 discloses a method of performing electrolytic treatment using an alloy as a cathode, and a method of absorbing and releasing hydrogen in a hydrogen storage alloy and then adsorbing CO gas on the surface. It has been disclosed.
  • the former method is not suitable for surface treatment of hydrogen-absorbing alloys containing components such as aluminum and vanadium which are easily eluted into an alkaline solution.
  • An object of the present invention is to examine a method of preventing poisoning when the hydrogen storage alloy powder is once taken out into the atmosphere, where the powder is contaminated with an oxidizing film, moisture, adsorbed gas, etc. To improve the poisoning resistance by a simple method such as treatment.
  • the most effective gas composition for poisoning resistance is to be applicable to an industrial scale, and the aim is to optimize gas treatment methods that satisfy environmental issues and safety during treatment.
  • the simplification of the poisoning-resistant treatment method should be studied, and the atmosphere in the storage container should be adjusted from the crushing to the treatment as a close system without taking it out to the atmosphere. Is made possible by
  • Another object of the present invention is to consider the use of the hydrogen storage alloy pulverizing step and the gas treatment step in combination, and to further reduce the cost by simplifying the process and the hydrogen storage alloy powder and the hydrogen storage alloy powder. It is to provide a manufacturing method.
  • a gas having a specific gravity higher than that of argon in the pulverizing step of the hydrogen storage alloy can sufficiently prevent oxidation even in a container having insufficient hermeticity.
  • Another object of the present invention is to consider the use of the gas treatment step in combination with the powder production step and / or the heat treatment step of the hydrogen storage alloy, and to further reduce the cost by simplifying the process.
  • An object of the present invention is to provide a hydrogen storage alloy powder and a method for producing the same, which enable the production of a hydrogen storage alloy powder.
  • the gist of the present invention that achieves the above objects is as follows.
  • a hydrogen-absorbing alloy powder wherein a protective film containing at least one of sulfides and fluorides generated by contact with a gas is formed on the surface of the hydrogen-absorbing alloy.
  • a hydrogen storage alloy powder with excellent poisoning resistance (2)
  • a method for producing hydrogen-absorbing alloy powder, a hydrogen absorbing alloy into contact with an inert gas containing SF S gas or SF S gas, sulfide on the surface of the hydrogen-absorbing alloy or the full Tsu product small A method for producing hydrogen storage alloy powder with excellent poisoning resistance by forming a protective film containing at least one kind.
  • the hydrogen storage alloy pulverized and powdered is subjected to a heat treatment in an ⁇ active gas atmosphere ⁇ I containing SF 6 gas or SF s gas to obtain a surface of the hydrogen storage alloy.
  • ⁇ I containing SF 6 gas or SF s gas to obtain a surface of the hydrogen storage alloy.
  • a hydrogen-absorbing alloy is accommodated in a container, a step of pulverizing hydrogenated to fi] Symbol vessel and a hydrogen atmosphere, and the vessel et a SF 6 gas or SF S gas A heat treatment in an atmosphere containing an inert gas containing hydrogen.
  • the hydrogen storage alloy is stored in a container, and the inside of the container is pulverized as an inert atmosphere containing gas or SFs gas, and sulfide or fluorine is added to the surface of the hydrogen storage alloy.
  • a method for producing a hydrogen storage compound powder characterized by forming a protective film containing a small amount of chloride.
  • a hydrogen storage alloy powder is produced by injecting the molten metal from a container for storing the molten metal by an injection nozzle and rapidly cooling and solidifying the molten metal.
  • the molten metal is injected into the SF fi gas or an inert gas atmosphere containing the gas by a jet nozzle from a container for storing the molten metal to rapidly cool and solidify, thereby causing hydrogen.
  • a hydrogen storage alloy powder produced by producing an occlusion alloy powder and subjecting the obtained hydrogen storage alloy powder to a heat treatment in an SF s gas or an inert gas atmosphere containing a SF s gas. Powder manufacturing method.
  • FIG. 1 is a graph showing the hydrogenation activity characteristics of the SFs gas-treated material and the untreated material according to the first feature of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram showing a processing time and a hydrogenation activity characteristic at each processing temperature according to Example 1 of the present invention.
  • FIGS. 3 (a) to 3 (c) are diagrams showing processing steps according to the first feature of the present invention.
  • FIG. 3 (a) is a hydropulverization process
  • FIG. 3 (b) is a dehydrogenation process
  • FIG. 3 (c) is a diagram showing a process of SF s gas treatment.
  • FIG. 4 is a diagram showing an outline of a crusher according to Embodiment 2 of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram showing an outline of a crusher according to Embodiment 3 of the present invention.
  • 9 is a diagram showing an outline of another pulverizing apparatus according to Example 3.
  • FIG. 7 is a diagram showing an outline of another grinding apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.
  • FIG. 8 is a diagram showing an outline of an apparatus according to Embodiment 5 of the present invention.
  • FIG. 9 is a diagram showing an outline of an apparatus according to Embodiment 6 of the present invention.
  • the first feature of the present invention is presumed to be that a film of sulfide or fluoride is formed on the powder surface by heating in an atmosphere containing SF gas as described above.
  • the treatment temperature is lower than 400 ⁇ , a sufficient protective film will not be formed, and the alloy surface will be poisoned or progress in air.
  • the treatment temperature exceeds 500 ° C, the activation treatment becomes difficult because the protective film becomes too strong.
  • FIGS. 3 (a) to 3 (c) An example of the process of the present invention is shown in FIGS. 3 (a) to 3 (c).
  • the hydrogen storage alloy 5 While being adjusted by the flow controller 2, the powder is hydrogenated and pulverized in the processing chamber 1 in which the hydrogen atmosphere 4 is set to be powder.
  • the inside of the processing chamber 1 is evacuated, and the absorbed hydrogen in the alloy is dehydrogenated in a vacuum atmosphere 6.
  • SF 6 gas is supplied into the processing chamber 1 via the flow controller 2, and the processing temperature is increased by the heating device 10, whereby the sulfide or fluoride film is formed. Promote formation. Is a specific process conditions, for example when using a T i alloy, SF S gas: 700 torr, heating temperature: a 500 ° CX 1 hr.
  • Fig. 1 shows the hydrogen activation characteristics of the surface-treated material after treatment and the untreated material.
  • Figure 1 shows a plot of the relationship between the time at 0 ° C and a pressure of 1 MPa and the amount of hydrogenation, which was measured one day after being left in the air after this treatment. From this figure, it can be seen that this treated material is activated in about 2 hours, or not activated in the untreated material.
  • the poisoning of the hydrogen storage alloy in the present invention means that, for example, when the alloy is in a state of contact with water, air, etc. in a process such as a battery, there is no effect of improving the activation of the alloy itself. This means that the entire property of the hydrogen storage alloy is damaged or damaged.
  • the poisoning-resistant mechanism of the present invention suppresses the formation of an oxide layer by inducing the surface shielding effect of F atoms and the substitution reaction between ⁇ atoms and S atoms in the surface layer, and suppressing the formation of H atoms. It is presumed that it is possible to proceed with the hydrogenation activation treatment by facilitating the progress, or details are unknown.
  • the surface treatment method of the present invention can be applied not only to titanium-based hydrogen storage alloys, but also to other rare-earth, magnesium, and vanadium-based hydrogen storage alloys.
  • SF s gas is used at the time of pulverization, and the protective film is formed by reacting with heat generated at the time of pulverization.
  • the newborn immediately after crushing Since it is formed on the surface the effect of the protective film is great.
  • heating not only heat during pulverization but also heating promotes film formation. In this case, generally, the higher the temperature, the higher the ductility and the more difficult it is to pulverize. However, by keeping the heating near the powder surface, both ease of pulverization and film formation can be achieved.
  • the SF gas concentration in the powdery atmosphere is required to be 0.5 to 100%, more preferably less than 10% in terms of economy.
  • Arugon or are advantageous over nitrogen or economics. This protective film prevents direct contact between the alloy and the air, so even if the powder is taken out into the air, the poisoning of the alloy is suppressed, and the powder is easily filled in the container actually used. It is possible to activate it.
  • the mechanism of improving the poisoning resistance according to the present invention is that the sulfide or fluoride coating formed on the powder surface suppresses the contact between the alloy and the poisoning substance and does not inhibit the reaction between hydrogen and the alloy. It is estimated to have
  • the present invention has, as a third feature, a method for producing powder by rapid solidification.
  • the SF 6 gas reacts by heat held by the powder, it is formed or protected film.
  • the protective film is effective because it is formed on the new surface of the powder.
  • a film is formed in the same manner. It is presumed that a film of sulfide or fluoride is formed on the surface of the powder after the powder has been subjected to the film treatment in the atmosphere containing SF 6 gas as described above. It not only improves the poisoning resistance of powders with clean surfaces immediately after being produced by rapid solidification, but also activates them once exposed to the atmosphere. Therefore, it can be handled in the atmosphere without worrying about poisoning.
  • Example 1 Example 1
  • the activation conditions are: vacuuming (60 ° CX 1 hr) ⁇ hydrogenation ( The activation characteristics were evaluated at 0 ° 1 MPa). The results are shown in Fig. 2 in relation to the treatment temperature and the hydrogenation rate in each surface treatment.
  • the hydrogenation amount is assumed to be 100% when the activation treatment is sufficiently performed without being left in the air. From this figure, it can be seen that the treatment temperature is 400 to 500, and the activation takes about 60 minutes, or that it takes 4 hours at 600 ° C. In addition, untreated materials. At a treatment temperature of 300 ° C, no activation was observed for more than 4 hours. In this example, it can be seen that the optimum processing temperature is 400 to 500.
  • the Ti 25 Cr 35 V 4 () alloy was used as a sample, or it was known that the reaction between SF 6 gas and various alloys formed fluoride on the surface. Have been. From this, it can be sufficiently expected that the same effect can be obtained with the other hydrogen storage alloys.
  • the processing gas or gas mainly composed of S or F for example S0 2.
  • CF 4 or the like is basically applicable, however, the surface of such surface poisoning and environmental pollution with oxygen From SF 6 gas is considered optimal.
  • the present embodiment relates to the range of 5 to 6 of the desire, in which the pulverization is performed in a gas or an inert atmosphere containing a gas in the pulverization step of the hydrogen storage alloy.
  • FIG. 4 shows the roll mill crusher of this embodiment.
  • the alloy 12 is manufactured by arc melting, Ti 25 was subjected to Netsusho management of 1200 ° CX 5 hr in the al Cr 35 V 40, Ti 3 3 Mn 3 V 3, Ti 36 Cr 5 7 Mo , Ti 4 , Cr "W 3 alloy is roughly crushed and then supplied from a hopper 11 to a crusher 19 by a vibrating feeder 13. From the crusher 19 to the hopper 11 The atmosphere is adjusted by the whole or inert gas containing SF S gas or SFs gas.
  • the alloy 12 is pulverized by the pulverized ffl port 17 in which the roll gap is adjusted, and the powder recovery container It is stored in 18.
  • Table 1 shows alloy compositions, powder production methods, and atmospheric conditions for Nos. 1 to 6 of this example. The results according to the number of times of activation treatment are also shown in Table 2. In this example, the alloy powder having a powder particle size of 40 mesli or less was used. There was. Table I
  • Fig. 5 shows the mouth milling device of this embodiment.
  • the alloy 1 2 prepared Ri by the arc melting, and then coarsely crushed 1 200 ° C, 5 hr T 5 C r 3 5 V 4 u alloys subjected to Netsusho management of the the al
  • the hopper 11 supplies the powder to the pulverizer 19 by means of a vibration filter 13 provided with an induction heating coil 20 in the middle so as to be able to heat.
  • the entire atmosphere from the crusher 19 to the hopper 11 is conditioned by SF ( , gas or SFe gas containing active gas).
  • Alloy 1 2 After being heated by the induction heating coil 20, it is pulverized by a roll i 7 for powder ⁇ adjusted at a distance from the mouth and stored in a powder recovery container 18.
  • the symbol N indicates gas supply and the symbol 15 indicates gas emission
  • Table 1 shows the alloy composition, powder production method and atmosphere conditions for No. 7 of this example, and Table 2 shows the activation. The results according to the number of times of processing are also shown.
  • the activation process of the present invention example is simpler than that of the comparative example, and the number of times of the activation process required after standing in the air is one. I understand that there is.
  • the alloy which has been subjected to the homogenization heat treatment after the melting and the production may be continuously pulverized as shown in FIG. In the latter case, there is no need for separate heating, which is economical.
  • Example 3 in order to promote the formation of the surface IS protective film by the SF gas treatment, the alloy surface was pulverized while heating the alloy simultaneously with pulverization. As shown in FIG. 7, a heater 22 is embedded in the inside of the roll mill crusher, and crushing is performed by a heated roll mill.
  • Example 3 is supplied with T i 2 5 C r 3 5 V alloy that has been subjected to the heat treatment after the rough broken ⁇ , and I by the vibration off I over da one 1 3 flour ⁇ apparatus 1 9 .
  • the atmosphere from the whole of the crusher 19 to the hopper 11 is adjusted by an inert gas containing S gas or SF ⁇ gas.
  • Table 1 shows the alloy composition, powder production method, and atmospheric conditions for No. 8 of this example, and Table 2 also shows the results depending on the number of activation treatments.
  • This embodiment relates to a range 8 claims, T i 2 5 C r 3 5 V 4.
  • This alloy was applied to powder production by the gas atomization method.
  • Fig. 8 shows the outline of this device.
  • the gas atomization method there is an alloy melting device on the upper part, and the molten metal is injected from the alloy melting device into the injection chamber 30 by the injection nozzle 27 to rapidly cool the gas to produce powder.
  • the hydrogen storage alloy is melted by an induction heating coil 26 in a melting chamber 25 in a vacuum chamber 23 in an inert atmosphere.
  • An injection nozzle 27 is provided in the lower part of the melting crucible 25, and the ift supply of the molten metal to the injection nozzle is adjusted by a molten metal stopper 24.
  • the Kirienki this time the injection chamber 30 with an inert gas containing a gas or SF 6 gas, and A r + 1 vf% SF, and.
  • an inert gas containing a gas or SF 6 gas, and A r + 1 vf% SF and.
  • a protective film is formed on the surface of the powder using the heat until the molten metal cools, and the hydrogen-absorbing alloy powder 28 is deposited in the recovery chamber 29. This powder was recovered.
  • Tables 3 and 4 show the results of examining the number of activation treatments after leaving the air-blown on the powder obtained as described above. Leaving in the atmosphere means that the produced hydrogen-absorbing alloy powder is taken out into the atmosphere and left for one day in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 70% for 5 days. The cycle of drawing (60 ° C x 1h) ⁇ hydrogen pressurization (0 ° C, 1MPa> 1h) was repeated.
  • This example relates to claim 9 wherein Ti 25 Cr 35 V 4 .
  • Alloy The powder was produced by an inert gas atomization method using, and then applied during heat treatment. That is, the same applies to a rotating disk method other than the inert gas atomization method, a roll quenching method, or the like, or when a heat treatment is performed on a hydrogen storage alloy powder directly produced from molten metal for homogenization or other purposes.
  • Fig. 9 shows the outline of this device.
  • the hydrogen storage alloy 28 is surrounded by a heat insulating material 36, and heat insulating doors 32 are provided at both ends thereof, and at least one gas circulation fan 34 is used.
  • the gas is agitated inside the Champer 35.
  • the heat treatment temperature is controlled by the heater 33.
  • Tables 3 and 4 collectively show the processing conditions of this example and the results of the adjustment of the activation characteristics of the powder. As a result, both the gas atomization and the single-roll quenching method achieved sufficient hydrogen absorption / desorption characteristics with two activations.
  • the vacuum or inert gas is used during the heat treatment as usual, and only the cooling of the heat treatment ffl gas SF
  • An inert gas may be used including 6 gas or SF S gas.
  • This embodiment is a combination of Embodiment 5 and Embodiment 6 with respect to Claim 10. That is, using the T i 2 5 C r 3 5 V 4 « alloys, is applied to the powder production by Gasua Tomaizu method, this time the injection chamber 30 The powder is obtained as an inert gas containing S gas or SF S gas in the atmosphere of the above, and an inert gas containing SF S gas or SF 6 gas is used as a cooling gas during and after the heat treatment.
  • the heat treatment method of the hydrogen absorbing alloy powder was performed using the method described above. The results are shown in Tables 3 and 4. Sufficient hydrogen absorption / desorption characteristics were obtained with two activations.
  • Table 3 shows the results when the powder was produced by using the alloy of No. 1 as a roll mill and gas atomizing, and the atmosphere was as air and Ar, respectively, and heating was not performed.
  • Table 4 shows. As a result, activation was not performed even after 10 activations, and it was not possible to obtain proper hydrogen absorption / desorption characteristics. Industrial applicability
  • the hydrogenation activation treatment can be sufficiently performed even when the hydrogen storage alloy is exposed to an atmosphere containing air or moisture.
  • the hydrogenation and pulverization container is used as it is as a surface treatment container. The manufacturing process is simplified and economical.
  • an effect of preventing oxidation of the alloy surface during powder production can be obtained, and at the same time, a surface protective film can be formed. The effect of the surface protective film can greatly improve the poisoning resistance of the hydrogen storage alloy powder.
  • the poisoning resistance is improved, so that the hydrogenation activation treatment can be sufficiently performed even when the hydrogen storage alloy is exposed to the atmosphere containing air or moisture.
  • the effect of preventing oxidation of the alloy surface during powder production can be obtained, and at the same time, a separate surface treatment step is not required. It is possible to form the same surface protective film as when SF 6 gas treatment is performed. Due to the effect of this surface protective film, the poisoning resistance of the hydrogen storage alloy powder can be greatly improved, and the activation characteristics and durability can be improved.

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Description

明 細 書 水素吸蔵合金粉末および水素吸蔵合金粉末の製造方法 技術分野
本発明は水素吸蔵合金粉末およびその製造方法に関し、 よ り詳し く は、 大気中での取扱時に粉末表面の酸化物皮膜や水分、 吸着ガス 等の汚染に対する耐被毒性を向上させて、 活性化処理を容易とする ために、 特に急冷凝固過程および/または加熱処理時ならひに粉砕 工程の雰囲気を S ガスまたは SF 6 ガスを含有する不活性ガス雰囲 気にして行う こ とによって、 酸化を防止し被毒性を向 ヒする水素吸 蔵合金粉末の表面処理方法に関する。 従来の技術
水素吸蔵合金は水素の吸蔵 · 放出を可逆的に行う こ とができるこ とから、 エネルギー貯蔵タ ン クやニッ ケル水素電池をはじめ、 水素 放出時の吸熱反応を利用 したヒー 卜ポンプなどの用途に用いられる o
水素吸蔵合金の利用に当たっては、 まず最初に水素の吸蔵 · 放出 速度を高めるための活性化処理か必要である。 通常、 活性化処理は 合金粉末を入れた容器を加熱しなから真空引き した後水素吸蔵 · 放 出を数回繰り返すこ とにより完了する力、、 この処理条件ゃ処理回数 は水素吸蔵合金の種類や合金表面の被毒状況によって異なる。
水素吸蔵合金の製造プロセスは、 通常、 溶解 · 铸造し、 熱処理し て、 粉砕される工程からなる。 この時、 粉砕は粒度に応じて、 ジ ョ 一 クラ ッ シヤ ーやロールクラ ッ シャ一等を用い 2 〜 3段階を経て行 われる。 この粉砕工程では、 表面の酸化防止のためアルゴンか用い られている場合が多い。 不活性ガス雰囲気中での機械粉砕やガスァ 卜マイズ、 あるいは水素化粉砕などによ って製造された清浄な表面 を有する水素吸蔵合金粉末てあれは、 比較的容易に活性化処理する こ とができる。 しかし、 製造した粉末を実際に使用する容器に充塡 するまでに、 一旦大気中に取り出す場合か多く 、 この時粉末表面か 酸化性皮膜や水分、 吸着ガスなどで汚染されて活性化処理を困難に している。 この対策と して、 例えば、 特開平 6 - 2403 1 0号公報では 、 非酸化性雰囲気でロー 一 ミ ルと して気密高 if縮型ロー ラ ー ミ ル によって、 微粉砕する方法か開示されている。 こ の方法においては 、 粉砕中の表面酸化は防止できるか、 粉砕後の耐被毒性 (合金表 fii 保護) 効果かない。
一方、 水素吸蔵合金の酎被毒性を向上-させる表面処 ¾ 法と して は、 例えは、 特開平 7 - 207493号公報には、 フ ッ素イオンを含むァ ル力 リ溶液中で水素吸蔵合金を陰極と して電解処理する方法か、 ま た、 特開昭 62 - 1 67201号公報には、 水素吸蔵合金に水素を吸蔵し、 放出させた後、 COガスを表面に吸着させる方法が開示されている。 しかし、 前者の方法ではアル力 リ溶液に溶出しやすいアル ミ ニゥム やバナジウムなとの成分を含有する水素吸蔵合金の ¾面処理と して は適していない。 また、 電解処理槽ゃ ¾解処理後の蒸発 · 固化設備 、 さ らに廃液処理設備なとか必要となり合金製造コ ス トを高める要 因となり得る。
また、 後者の処理方法では真空引きや水素ガスによって容易に f 活性化する反面、 保管状態によつては表面保護効果か十分でな く 耐 被毒性に問題を有している。 以上のよう に、 水素吸蔵合金の耐被毒 性については満足できる レベルには達していないのが現状である。 このためさ らに水素吸蔵合金の耐被毒性を向上させる表面処理技術 の開発が望まれていた。 発明の開示
本発明の目的は、 水素吸蔵合金粉末を一旦大気中に取り出す場合 に、 酸化性皮膜や水分、 吸着ガスなどで汚染される場合の被毒を防 止する方法を検討し、 処理ガス雰囲気における加熱処理等の簡便な 方法によって耐被毒性を向上させるこ とにある。
また、 耐被毒性に最も有効なガス組成を、 工業的規模に適用可能 なものと し、 処理時の環境問題および安全性を満足するガス処理方 法の最適化をはかる こ とにある。
さ らに、 前記耐被毒性の処理方法の簡略化を検討し、 大気中に取 り出すこ とな く ク ローズシステムと して、 粉砕から処理まて収納容 器の雰囲気を調整するこ とによって可能とする こ とにある。
本発明の他の目的は、 水素吸蔵合金の粉砕工程と前記ガス処理ェ 程を併用するこ とを検討し、 さ らにプロセスの簡略化によるコス ト 低減を可能とする水素吸蔵合金粉末およびその製造方法を提供する こ とにある。
また、 水素吸蔵合金の粉砕工程にアルゴンより比重の大きいガス によって、 密閉性の十分でない容器においても、 十分に酸化防止を 可能とするこ とにある。
本発明の別の目的は、 水素吸蔵合金の粉末製造工程およひ/また は加熱処理ェ程と前記ガス処理工程を併用するこ とを検討し、 さ ら にプロセスの簡略化によるコス ト低減を可能とする水素吸蔵合金粉 末およびその製造方法を提供するこ とにある。
上記の目的を達成する本発明の要旨は下記のとおりである。
(1 ) 水素吸蔵合金粉末であって、 前記水素吸蔵合金の表面に ガスとの接触により生じさせた硫化物またはフ ッ化物の少な く とも 1 種を含む保護皮膜か形成されている こ とを特徴とする、 耐被毒性 に優れた水素吸蔵合金粉末。 (2) 水素吸蔵合金粉末の製造方法であって、 水素吸蔵合金を SF S ガスまたは S F S ガスを含む不活性ガスに接触させ、 前記水素吸蔵合 金の表面に硫化物またはフ ッ化物の少な く と も 1 種を含む保護皮膜 を形成するこ とによ り、 耐被毒性に優れた水素吸蔵合金粉末を製造 する方法。
(3) 前記 (2)において、 粉砕し、 粉末状と した水素吸蔵合金を、 SF 6 ガスまたは SF s ガスを含む^活性ガス雰囲^ I内て加熱処理して、 前記水素吸蔵合金の表面に硫化物またはフ ッ化物の少な く と も 1 種 を含む保護皮膜を形成する二 とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の製 造方法。
(4) 前記 (3)において、 水素吸蔵合金を容器に収納し、 fi ]記容器内 を水素雰囲気と して水素化粉砕する工程と、 さ らに前記容器内を S F ガスまたは SF S ガスを含む不活性ガス雰囲 ¾と して加熱処理する 工程とからなるこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の製造方法。
(5) 前記 (2)において、 水素吸蔵合金を容器に収納し、 前記容器内 を ガスまたは SF s ガスを含む不活性雰囲気と して粉砕し、 前記 水素吸蔵合金の表面に硫化物またはフ ッ化物の少な ; と も 1 ¾を含 む保護皮膜を形成する こ とを特徴とする水素吸蔵合 粉末の製迠方 法。
(6) 前記 (5)の製造方法において、 前記水素吸蔵合金の扮砕時に加 熱するこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の製造方法。
(7) 前記 (6)の製造方法において、 前記水素吸蔵合金の粉砕時に表 面近傍が加熱された状態であるこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末 の製造方法。
(8) 前記 (2)において、 溶湯を収納する容器から噴射ノ ズルによつ て SF 6 ガスまたは SF 6 ガスを含有する不活性ガス雰囲気中に溶湯を 噴射して急冷凝固する こ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の製造方 法。
(9) 前記 (2)において、 溶湯を収納する容器から噴射ノ ズルによ つ て溶湯を噴射して急冷凝固するこ とによって水素吸蔵合金粉末を製 造し、 前記水素吸蔵合金粉末に、 SF ガスまたは SF s ガスを含存す る不活性ガス雰囲気中で加熱処理を施すこ とを特徴とする水素吸蔵 合金粉末の製造方法。
(10) 前記 (2)において、 溶湯を収納する容器から噴射ノ ズルによ つ て SF fi ガスまたは ガスを含有する不活性ガス雰囲気中に溶湯を 噴射して急冷凝固する こ とによ り水素吸蔵合金粉末を製造し、 次い で得られた水素吸蔵合金粉末に、 SF s ガスまたは SF s ガスを含存す る不活性ガス雰囲気中で加熱処理を施すこ とを特徴とする水素吸蔵 合金粉末の製造方法。 図面の簡単な説明
第 1 図は本発明の第 1 の特徴に係る S F s ガス処理材と未処理材の 水素化活性特性を/下す図である。
第 2図は本発明の実施例 1 に係る処理温度毎の処理時間と水素化 活性特性を示す図である。
第 3 ( a ) 〜第 3 ( c ) 図は本発明の第 1 の特徴に係る処理工程 を示す図で、 第 3 ( a ) 図は水素化粉砕、 第 3 ( b ) 図は脱水素、 第 3 ( c ) 図は SF s ガス処理の工程を示す図てある。
第 4 図は本発明の実施例 2 に係る粉砕装置の概要を示す図てある 第 5図は本発明の実施例 3 に係る粉砕装置の概要を示す図である 第 6図は本発明の実施例 3 に係る他の粉砕装置の概要を示す図て ある。 第 7図は本発明の実施例 4 に係る他の粉碎装置の概要を示す図て め o
第 8図は本発明の実施例 5 に係る装置の概要を示す図である。 第 9図は本発明の実施例 6 に係る装置の概要を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の第 1 の特徴は、 前記のように SF ガスを含む雰囲気で加 熱する こ とで、 粉末表面に硫化物またはフ ッ化物の皮膜か形成され る ものと推測される。 機械粉砕、 ア トマイズ、 水素化粉砕などによ つて製造された直後の清浄な表面をもつ粉末の耐被毒性を向上させ るだけでな く、 一旦大気に曝された後でも活性化させる こ とかでき る。 従って、 被毒の心配な く 、 ^気中て取り扱う こ とかてきる。 また、 不活性ガス雰囲気中での機械粉 やガスァ トマィズ、 ある いは水素化粉砕などによって製造された清浄な表面を有する水素吸 蔵合金粉末を、 被毒雰囲気に曝するこ とな く S F S ガス中または S F ¾ ガスを含む不活性ガス中において 400 〜 500 °Cで加熱処理する 二 と により粉末表面に数十〜数百ナ ノ メ ー ト ルのヮ ッ化物ま たは硫化物 皮膜 (推则) を形成させる。 この保護皮膜によって合金と空気の直 接接触か遮断されるため、 粉末を大気中に取り出して 合 ^の被 ¾ が抑制され、 実際に使用する容器に充埴した後、 容易に活性化する こ とか可能である。 本発明における合金粉末とは粒子 ¾で、 30〜 1 0 0 m程度を意味する。
処理温度 400 て未満では十分な保護皮膜か形成されず、 大気中で 合金表面の被毒か進行する。 また、 処理温度 500 °Cを越える条件で は保護皮膜か強固になりすぎるため活性化処理か困難となる。
本発明の実施工程の一例を第 3 ( a ) 図〜第 3 ( c ) 図に示す。 水素吸蔵合金 5 は、 まず第 3 ( a ) 図に示されるように、 供給水素 を流量調整器 2で調整しながら水素雰囲気 4 と した処理チ ャ ンバ一 1 内で水素化粉砕され粉末とされる。 次いで第 3 ( b ) 図のように 、 処理チ ャ ンバ一 1 内を真空引き し、 真空雰囲気 6 で合金内の吸収 水素を脱水素処理を行う。 その後、 流量調整器 2 を介して処理チ ヤ ンバー 1 内に S F 6 ガスを供給し、 さ らに加熱装置 1 0によ って処理温 度をあげる こ とによって硫化物またはフ ッ化物皮膜の形成を促進す る。 具体的な処理条件と しては、 例えば T i合金を用いる場合、 SF S ガス : 700 t o r r 、 加熱温度 : 500 °C X 1 h rである。
処理後の表面処理材と未処理材との水素活性化特性を第 1 図に示 す。 第 1 図は、 本処理後大気中に放置して、 1 日後に測定したもの で、 0 °C、 圧力 1 MPa ての時間と水素化量の関係のプロ ッ 卜である 。 この図で、 本処理材では約 2時間で活性化するか、 未処理材では 活性化しないこ とかわかる。
すなわち、 本発明における水素吸蔵合金における被毒性とは、 例 えば電池等のプロセスにおいて合金が、 水、 空気等に触れる伏態に 存在する と、 合金自体の活性化を向上した効果等も皆無となり、 水 素吸蔵合金と しての特性全体か損傷を受けるこ とを言う。 本発明の 耐被毒性の メ カニズムは、 F原子による表面のシー ルディ ン グ効果 、 並びに表面層における〇原子と S原子との置換反応を誘起させ酸 化物層の形成を抑止し、 H原子の進人を容易にして水素化活性処理 か進行できる ものと推定されるか、 詳細は不明である。
尚、 本発明の表面処理方法は、 チ タ ン系水素吸蔵合金は勿論、 そ の他希土類系、 マグネシウム系、 バナジウム系等の水素吸蔵合金に も適用できる。
次に、 本発明の第 2の特徴について説明する。
本発明では粉砕時に SF s ガスを用いる もので、 粉砕時に発生する 熱により反応し、 保護皮膜か形成される。 こ の時、 粉砕直後の新生 面に形成されるので、 保護皮膜の効果か大きい。 さ らに、 粉砕時の 熱だけでな く加熱するこ とで皮膜形成か促進される。 この場合、 一 般には高温ほど延性が高く 、 粉砕し難いが、 加熱を粉末表面近傍に 留めるこ とで、 粉砕のし易さ と皮膜形成を両立できる。
前記のように SF S ガスを含む雰囲気で粉砕されるこ とで、 粉砕後 の粉末表面に硫化物またはフ ッ化物の皮膜か形成される ものと推则 される。 機械粉砕によって製造された直後の洁浄な表面をもつ粉末 の耐被毒性を向上させるだけでな く 、 一旦大気に Hされた後でも活 性化させるこ とがてきる。 従って、 被毒の心配な ; 、 大気中で取り 扱う こ とかできる。
また、 SF s ガス雰囲気で粉砕される こ とによ り粉末表面に数十〜 数百ナ ノ メ ー ト ルのフ ッ化物または硫化物皮膜 (淮则) か形成され る。 このため、 粉^雰囲気の SF ガス濃度は、 0. 5 〜 100 %か必要 であり、 より好ま しい範囲と しては経済性から 10 %未満である。 ま た、 SF s ガスと と もに使用する不活性ガスと しては、 ァルゴン また は窒素か経済性より有利てある。 この保護皮膜によ って合金と空 ί の直接接触か遮断されるため、 粉末を大気屮に取り出 しても合金の 被毒か抑制され、 実際に使用する容器に充埴した後、 容易に活性化 するこ とが可能てある。
なお、 粉砕時の温度 400 で未満では十分な保護皮膜か形成されず 、 大気中で合金表面の被毒が進行する。 また、 500 °Cを越える条件 では保護皮膜が強固になりすぎるため活性化処理が困難となる。 本発明における耐被毒性向上のメ カニズムは、 粉末表面に形成さ れた硫化物またはフ ッ化物被膜が合金と被毒物質との接触を抑制し 、 なおかつ、 水素と合金の反応を阻害しない性質を有するためと推 定される。
次に、 本発明は第 3の特徵と して、 急冷凝固による粉末製造時に 、 SF6 ガスを用いる もので、 粉末の保有する熱によって反応し、 保 護皮膜か形成される。 こ の時、 粉末の新生面に形成されるので、 保 護皮膜の効果が大きい。 さ らに、 急冷凝固による粉末を加熱処理す る際にも、 同様にして皮膜形成かなされる。 前記のような SF 6 ガス を含む雰囲気で粉末が皮膜処理された後の粉末表面には、 硫化物ま たはフ ッ化物の皮膜が形成される ものと推測される。 急冷凝固によ つて製造された直後の清浄な表面をもつ粉末の耐被毒性を向上させ るだけでな く 、 一旦大気に曝された後でも活性化させる こ とがてき る。 従って、 被毒の心配な く 、 大気中で取り扱う こ とができる。 下記に、 本発明について実施例に基づきさ らに詳述する。 実施例
実施例 1
アーク溶解により製造し、 さ らに 1200°C 5 hrの熱処理を施した Ti25Cr35 V 4。合金を粗粉砕した後、 ステ ン レ ス製耐圧容器に人れて 真空引き (60°C X 1 hr) →水素化 ( 0 °C, 1 MPa > l hr) の条件て 水素化粉砕を数回繰り返すこ とによ り 40mesh以下の合金粉末を得た 。 次に、 真空引き (60°C x 1 hr) を行って水素を放出させた後 SF; ガス(700torr) を充塡し、 300 で〜 600 °Cの各温度て 1 時間の加熱 処理を行った。 処理後、 大気中に取り出し、 気温 30で、 湿度 70%の 環境下で 1 日放置した後、 それぞれの粉末について、 活性化条件と して : 真空引き (60°C X 1 hr) →水素化 ( 0 ° 1 MPa)で活性化特 性を評価した。 その結果を第 2図に各表面処理での処理温度と水素 化率の関係で示す。 こ こで、 大気中放置を行わずに十分に活性化処 理をおこなった場合の水素化量 100 %とする。 こ の図から、 処理温 度と しては、 400 〜500 てのもので、 約 60分で活性化を呈するか、 600 °Cのものでは 4 hrと長時間を要している。 さ らに、 未処理材ぉ よび処理温度 300 °Cでは 4 時間以上でも活性化を呈していない。 本 実施例では、 最適処理温度は 400 〜500 でであるこ とがわかる。
なお、 本実施例では、 Ti25Cr35V4 ()合金を試料と しているか、 こ れまで SF6 ガスと各種合金との反応では、 表面にフ ッ化物を形成す る こ とが知られている。 このこ とから前記その他の水素吸蔵合金に おいても同様の効果か得られるこ とか十分に期待できる。 また、 処 理ガスについては、 Sまたは Fを主成分とするガス、 例えば S02. C F4等は基本的に適用可能であるか、 しかし、 酸素との表面被毒性お よび環境汚染等の面から SF 6 ガスか最適と考えられる。
実施例 2
本実施例は、 讃求の範囲 5 〜 6 に関する のであって、 水素吸蔵 合金の粉砕工程において、 ガスまたはまたは ガスを含む不 活性雰囲気中で粉砕を行ったものである。
本実施例のロール ミ ル粉砕装置を第 4図に示す。 この図において 、 合金 12は、 アーク溶解により製造し、 さ らに 1200°C X 5 hrの熱処 理を施した Ti25Cr35V 40, Ti 3 3 Mn3 V 3 , Ti36Cr57 Mo , Ti4,Cr" W3 合金を粗破砕した後、 ホ ッパー 11から、 振動フ ィ ー ダ一 13によ つて粉砕装置 19に供給される。 この粉砕装置 19からホ ッ パー 11まて の全体か、 SFS ガスまたは SFs ガスを含む不活性ガスによ って雰 11 気調整されている。 合金 12は、 ロール問隔か調整された粉砕 ffl口 一 ル 17によって粉砕され、 粉末回収容器 18に貯蔵される。 なお、 符号 14はガス供給を、 符号 15はガス排出を示す。 第 1 表に本実施例の No . 1 〜 6 について、 合金組成、 粉末製造方法および雰囲気条件を示 し、 第 2表に活性化処理回数による結果を合わせて示す。 なお、 本 実施例では粉末粒径は 40mesli以下の合金粉末であった。 第 I 表
Figure imgf000013_0001
(第 1 表の続き) 第 2表
Figure imgf000013_0002
大気中放置 : 製造した水素吸蔵合金粉末を大気中に取り出し、 温 30°C. 70%の環境下に I 日放置
活性化処理 : 真空引き (60°C X 1 h ) →水素加圧 ( 0 °C, 1 Pa
1 h ) のサイ クル W 8/13158 第 2表の結果から、 比較例より も本発明例は活性化処理か簡略化 し、 大気中放置後に要した活性化処理回数は、 いずれも 1 〜 3回て 活性化可能であるこ とがわかる。 本実施例では、 SF S ガスを用いる こ とによ り、 密閉性の十分でない粉碎装置でも粉末回収容器のガス 置換がスム一ズに行われ表面酸化や粉塵爆発の防止効果が得られる 。 さ らに、 粉砕時に発生する熱と SF s ガスによって、 粉末表面に保 皮膜を形成する こ とかでき、 粉 後の耐被毒性を向上させ、 丄¾好 な水素化特性か得られる。 こ のプロセスは、 粉 直後の新鮮な表而 に皮膜を形成させる点て、 その効 ¾か入きい。
実施例 3
本実施例は、 請求の範囲 7 に関する ものであって、 水 吸蔵合金 の粉砕工程において、 S F S ガス処理による表面保護皮膜の形成を促 進するため、 加熱された合金を粉砕したものである。
本実施例の口一儿 ミ ル粉砕装置を第 5図に示す。 こ の図において 、 合金 1 2は、 アー ク溶解によ り製造し、 さ らに 1 200°C 、 5 h rの熱処 理を施した T 5 C r 3 5 V 4 u合金を粗破砕した後、 ホッ パー 1 1から、 途 中に誘導加熱コィル 20を設け加熱できるように した振動フ ィ 一ター 1 3によって粉砕装置 1 9に供給される。 この粉砕装 1 9からホ ッ 'く -- 1 1まての全体が、 SF (, ガスまたは SF e ガスを含むィ、活性力'スによ つ て雰晒 調整されている。 合金 1 2は、 '記誘導加熱コ イ ル 20によ - て加熱された後、 口一ル 隔か調整された粉 δ 用ロ ー ル i 7によ つて 粉砕され、 粉末回収容器 1 8に貯蔵される。 なお、 符号 Nはガス供給 を、 符号 1 5はガス排出を示す。 第 1 表に本実施例の No . 7について、 合金組成、 粉末製造方法および雰囲気条件を示し、 第 2 表に活性化 処理回数による結果を合わせて示す。
第 2表の結果から、 比較例より も本発明例は活性化処理が簡略化 し、 大気中放置後に要した活性化処理回数は、 1 回で活性化可能て あるこ とかわかる。 なお、 誘導加熱コ イルにより粉砕直前の合金を 加熱する方法のほか、 第 1 6図のように、 溶解 * 铸造後に均質化熱処 理を行った合金を引き続き粉砕してもよい。 後者の場合、 別途加熱 する必要がなく なり経済的にも優れる。
実施例 4
本実施例では、 実施例 3 と同様に、 S F ガス処理による表 IS保護 被膜の形成を促進するため、 粉砕と同時に、 合金表面を加熱しなか ら粉砕した ものである。 第 7図のように、 ロール ミ ル粉砕装置の口 ール内部に ヒ ー クー 22を埋め込んで加熱したロール ミ ルにより粉砕 を行う ものである。
実施例 3 と同様に、 熱処理を施した T i 2 5 C r 3 5 V 合金を粗破^し た後、 振動フ ィ ーダ一 1 3によ って粉^装置 1 9に供給される。 この粉 砕装置 1 9からホッパー 1 1までの全体か、 S ガスまたは SF ^ ガスを 含む不活性ガスによって雰囲気調整されている。 第 1 表に本実施例 の No . 8について、 合金組成、 粉末製造方法および雰囲気条件を示し 、 第 2表に活性化処理回数による結果を合わせて示す。
第 2表の結果から、 比蛟例より も本発明例は活性化処理か fi 略化 し、 大気中放置後に要した活性化処理回数は、 1 回て活性化可能て あるこ とがわかる。 ロール ミ ル粉砕装置のロール内部に ヒ ー タ ー 22 を埋め込んで加熱したロール ミ ルによる粉砕では、 粉砕と同時に粉 砕粉表面か加熱され、 SF S ガスとの反応によ り粉末表面に保護皮膜 が形成される。
金属は一般的に高温になるほど延性が増加して粉砕しに く く なる 傾向かみられるが、 この粉砕方法では、 粉砕と同時に粉末表面のみ 加熱するこ とができるので合金の粉砕し易さを損なう こ とがない。 特に延性 -脆性遷移温度か室温以上である合金系の粉砕に適してい 実施例 5
本実施例は、 請求の範囲 8 に関する もので、 T i 2 5 C r 3 5 V 4。の合金 を用いて、 ガスァ トマイズ法による粉末製造に適用 したものである 。 この装置の概要を第 8 図に示す。 ガスア トマイズ法では、 上部に 合金溶解装置かあり、 この合金溶解装置から溶湯を、 噴射ノ ズル 27 によって噴射室 30に噴射してガス急冷して粉末を製造する ものであ る。 先ず水素吸蔵合金を不活性雰囲気と した真空室 23で溶解るつほ 25中で、 誘導加熱コイ ル 26によ って溶解する。 こ の溶解るつぼ 25に は下部に、 噴射ノ ズル 27か設けられ、 噴射ノ ズルへの溶湯の ift給は 溶湯ス 卜 ッパ ー 24によ つて調整される。 この時噴射室 30内の雰圓気 を ガスまたは SF 6 ガスを含む不活性ガスと して、 A r + 1 v f %SF , と した。 水素吸蔵合金粉未 28は高温の粉末か SF e ガス中て急速て冷 却される過程で、 溶湯が冷めるまでの熱を利用して粉末表面に保護 皮膜か形成され、 回収室 29に堆積しこの粉末を回収した。
上記のように得られた粉末について、 大気屮放置後の活性化処 ίΐ 回数を調べた結果を第 3表および第 4 表に示す。 この大気中放置と は、 製造した水素吸蔵合金粉末を大気中に取り出 し、 5 温 30 °C;、 湿 度 70 %の環境下に 1 日間放置したもので、 活性化処理条件は、 真 引き ( 60°C X 1 h ) →水素加圧 ( 0 °C , 1 MP a > 1 h ) のサ イ ク 几 の繰り返しと した。
第 3表
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(第 3表の続き) 第 4 表
Figure imgf000017_0001
' 大気中放置 : 製造した水素吸蔵合金粉末を大気中に取り出 し、 気 温 30て, 湿度 70%の環境下に 1 日放置
活性化処理 : 真空引き (60°C >: 1 h ) —水素加圧 ( 0 ° 】 MPa
1 h ) のサイ ク ルの繰り返し
その結果、 本実施例では、 1 回の活性化処理で良好な水素吸放出 特性か得られた。 なお、 本実施例ではガスァ トマイズ法に適用 した か、 その他の急冷凝固法 (例えば回転ディ スク法、 またはロール急 冷法) であっても同様な効果が得られる。
実施例 6
本実施例は、 請求の範囲 9 に関する もので、 Ti 25Cr35 V 4。の合金 を用いて、 不活性ガスア トマイズ法による粉末製造し、 次いで加熱 処理時に適用したものである。 すなわち、 不活性ガスア トマイズ法 以外の回転ディ スク法、 またはロール急冷法などでも同様であるか 、 溶湯から直接製造された水素吸蔵合金粉末に、 均質化その他の目 的で熱処理を施す場合において、 熱処理中および熱処理後の冷却用 ガスと して SF 6 ガスまたは ガスを含む不活性ガスを用いる水素 吸蔵合金粉末の熱処理方法である。
こ の装置の概要を第 9図に示す。 こ の図でチ ャ ン バー 35内には、 水素吸蔵合金 28を断熱材 36で囲み、 その両端には断熱扉 32を設け、 少な く と も 1 か所のガ ス循環フ ァ ン 34でチャ ン パー 35内かガス撹拌 伏態とされる。 また、 熱処理温度は、 ヒ ー タ ー 33によ って温度制御 される。
本実施例の処理条件および粉末の活性化特性の調杏結果を前 第 3表および第 4表にま とめて示す。 この結果、 ガスア トマイズ、 単 ロール急冷法と もに、 2回の活性化で十分に水素吸放出特性か得ら れた。
本実施例以外に Mm ( ミ ッ シ ュ メ タル) 合金の均質化では 1000°C前 後、 T i合金の場合は 1200°C前後の熱処理を行う力、、 このよ う な高温 では SF s ガスと合金粉の反応か著し く 粉末表面皮膜が強固となりす ぎ好ま し く ない。
従って、 熱処理温度が 500 °Cを越える場合については、 熱処理中 は従来通り真空または不活性ガスを用い熱処理の冷却 fflガスのみ SF
6 ガスまたは SF S ガスを含む不活性ガスを用いてもよい。
実施例 7
本実施例は、 請求の範囲 10に関し、 前記実施例 5 およひ実施例 6 を組み合わせたものである。 すなわち、 T i 2 5 C r 3 5 V 4 «の合金を用い て、 ガスア トマイズ法による粉末製造に適用 し、 この時噴射室 30内 の雰囲気を S ガスまたは SF S ガスを含む不活性ガスと して粉末を 得て、 さ らに熱処理中および熱処理後の冷却用ガスと して SF S ガス または SF 6 ガスを含む不活性ガスを用いて水素吸葳合金粉末の熱処 理方法を行ったものである。 この結果を第 3表および第 4 表に合わ せて示す。 2回の活性化で十分に水素吸放出特性が得られた。
比較例
比較例と して、 実施例と同様な T i 2 5 C r 3 5 V 4。の合金を用いて、 粉 末製造法と して、 ロール ミ ルおよびガスア トマイズと して、 その雰 囲気をそれぞれ、 大気中および A rと し、 加熱はしない場合の結果を 前記第 3表および第 4 表に示す。 その結果、 10回の活性化でも活性 化はせず、 適正な水素吸放出特性を得るにはいたらなかつた。 産業上の利用可能性
本発明では耐被毒性を向上しているので、 水素吸蔵合金か大気、 水分を含む雰囲気に曝された場合においても、 水素化活性処现は十 分に可能となる。 さ らに、 本発明では、 延性が高く機械粉^か困難 な水素吸蔵合金等について水素化粉砕によって合金粉末を製造する 場合では、 水素化粉砕容器をそのま ま表面処理容器と して用いる 二 とができ、 製造工程か簡素化され経済的に 優れている。 また、 本 発明を用いるこ とによ り、 粉末製造時の合金表面酸化防止効果が得 られると同時に、 表面保護皮膜を形成するこ とができる。 この表面 保 m皮膜の効果により水素吸蔵合金粉末の耐被毒性を大幅に向上さ せるこ とかできる。 本発明では耐被毒性を向上しているので、 水素 吸蔵合金か大気、 水分を含む雰囲気に曝された場合においても、 水 素化活性処理は十分に可能となる。 さ らに、
本発明を用いるこ とにより、 粉末製造時の合金表面酸化の防止効 果が得られると同時に、 別途に表面処理工程を追加するこ とな く 、 S F 6 ガス処理を施した場合と同様の表面保護皮膜を形成させるこ と ができる。 この表面保護皮膜の効果により水素吸蔵合金粉末の耐被 毒性を大幅に改善し、 活性化特性や耐久性を向 させるこ とができ る。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 水素吸蔵合金粉末であって、 該水素吸蔵合金の表面に S F S ガ スとの接触によ り生じさせた硫化物またはフ ッ化物の少な く と も 1 種を含む保護皮膜か形成されている こ とを特徴とする、 耐被毒性に 優れた水素吸蔵合金粉末。
2. 水素吸蔵合金粉末の製造方法であって、 水素吸蔵合金を SF 6 ガスまたは S ガスを含む不活性ガスに接触させ、 前記水素吸蔵合 金の表面に硫化物またはフ ッ化物の少な く と も 1 種を含む保護皮膜 を形成するこ とによ り、 耐被毒性に優れた水素吸蔵合金粉末を製造 する方法。
3. 請求の範囲 2において、 粉砕し、 粉末状と した水素吸蔵合金 を、 ガスまたは S ガスを含む不活性ガス雰囲気内て加熱処理 して、 該水素吸蔵合金の表面に硫化物またはフ ッ化物の少な く と も 1 種を含む保護皮膜を形成する こ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末 の製造方法。
4. 請求の範囲 3 において、 水素吸蔵合金を容器に収納し、 ¾容 器内を水素雰丽気と して水素化粉碎するェ裎と、 さ らに該容器内を SF e ガスまたは S ガスを含む不活性ガス雰囲気と して加熱処理す る工程とからなるこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の製造方法。
5. 請求の範丽 2 において、 水素吸蔵合金を容器に収納し、 前記 容器内を SF S ガスまたは SF 6 ガスを含む不活性雰囲気と して粉砕し 、 前記水素吸蔵合金の表面に硫化物またはフ ッ化物の少な く と も 1 種を含む保護皮膜を形成するこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の 製造方法。
6. 請求項の範囲 5 の製造方法において、 前記水素吸蔵合金の粉 砕時に加熱するこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の製造方法。
7. 請求の範囲 6の製造方法において、 前記水素吸蔵合金の粉砕 時に表面近傍が加熱された状態であるこ とを特徴とする水素吸蔵合 金粉末の製造方法。
8. 請求の範囲 2 において、 溶湯を収納する容器から噴射ノ ズル によって SF 6 ガスまたは SFS ガスを含有する不活性ガス雰囲気中に 溶湯を噴射して急冷凝固するこ とを特徴とする水素吸蔵合金粉末の 製造方法。
9. 請求の IS ffl 2 において、 溶湯を収納する容器から噴射ノ ズル によって溶湯を噴射して急冷凝固する こ とによ って水素吸蔵合金粉 末を製造し、 該水素吸蔵合金粉末に、 SF S ガスまたは SF fi ガスを含 有する不活性ガス雰囲気中で加熱処理を施すこ とを特徴とする水素 吸蔵合金粉末の製造方法。
10. 請求の範囲 2において、 溶湯を収納する容器か ら噴射ノ ズル によって SF S ガスまたは SF S ガスを含有する不活性ガス雰面気中に 溶湯を噴射して急冷凝固するこ とによ り水素吸蔵合金粉末を製造し 、 次いで得られた水素吸蔵合金粉末に、 SFS ガスまたは SF ガスを 含有する不活性ガス雰囲気中で加熱処瑰を施すこ とを特徴とする水 素吸蔵合金粉末の製造方法。
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