WO1997042188A1 - Derives d'uracile a substitution indolyle et herbicides contenant ces derives en tant qu'ingredients actifs - Google Patents

Derives d'uracile a substitution indolyle et herbicides contenant ces derives en tant qu'ingredients actifs Download PDF

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WO1997042188A1
WO1997042188A1 PCT/JP1997/001535 JP9701535W WO9742188A1 WO 1997042188 A1 WO1997042188 A1 WO 1997042188A1 JP 9701535 W JP9701535 W JP 9701535W WO 9742188 A1 WO9742188 A1 WO 9742188A1
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WO
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group
compound
alkyl
atom
hydrogen atom
Prior art date
Application number
PCT/JP1997/001535
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English (en)
French (fr)
Inventor
Takayoshi Takehi
Masahiro Miyazaki
Masatoshi Tamaru
Yoshihiro Yamaji
Ryo Hanai
Sota Uotsu
Hideo Sadohara
Original Assignee
Kumiai Chemical Industry Co., Ltd.
Ihara Chemical Industry Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kumiai Chemical Industry Co., Ltd., Ihara Chemical Industry Co., Ltd. filed Critical Kumiai Chemical Industry Co., Ltd.
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Publication of WO1997042188A1 publication Critical patent/WO1997042188A1/ja

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Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/54—1,3-Diazines; Hydrogenated 1,3-diazines
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/76—Television signal recording
    • H04N5/78—Television signal recording using magnetic recording
    • H04N5/782—Television signal recording using magnetic recording on tape

Definitions

  • the present invention relates to a novel indole-substituted peracyl derivative and a herbicide containing the same as an active ingredient.
  • Certain benzofuran derivatives are disclosed in JP-A-5-266275 and JP-A-5-251665, and are disclosed in JP-A-63-156678.
  • Certain benzopyran or benzofuran derivatives are described in the gazette, and benzothiophene or benzofuran derivatives are cited as active ingredients in herbicides in Japanese Patent Application Publication No. 6269692-A1. It is described that it is used. However, it is not known about a compound having a peracyl ring bonded to the 7- or 4-position of the indole ring. Further, no herbicide containing the compound as an active ingredient is known. In application of pesticides, there is a need for herbicides that are effective at low doses and that are selective among crop weeds.
  • the novel indyl-substituted peracyl derivative of the present invention has an excellent herbicidal action, and have completed the present invention.
  • the present invention relates to the general formula [1]
  • R represents an alkyl group, an amino group, or a hydrogen atom
  • Q represents a general formula
  • R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom
  • R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an alkylsulfonyl group, a haloalkylsulfonyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group.
  • R represents a group represented by ZR 8 or WR 9, Z represents an oxygen atom or a sulfur atom, W represents a group —so— or a group —SO 9 —, R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 7 Represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkylalkyl group, a haloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxyalkyl group, an alkylthioalkyl group or an alkylsulfonylalkyl group, and R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group.
  • R represents a methyl group or an amino group
  • R 1 represents a fluorine atom or a hydrogen atom
  • R represents a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom.
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an alkenyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, a haloalkylcarbonyl group, a cycloalkylcarbonyl group, a carboxyl group Group, alkoxycarbonyl group, haloalkoxycarbonyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, optionally substituted benzyloxycarbonyl group, alkoxyiminoalkyl group, hydroxyiminoalkyl group , Cyano group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, haloalkyl Luthio group, haloalkylsulfonyl group, halogen atom, nitro group, amino group, dialkylamino group, monoalkylamino group, alkylsulfonylamino
  • Haloalkyl '' in a haloalkyl group, a haloalkylsulfonyl group, a haloalkylcarbonyl group, a ' ⁇ , a loalkylthio group, a haloalkylsulfonyl group, a haloalkylsulfonylamino group and a haloalkylcarbonylamino group means the number of carbon atoms substituted by a halogen atom Represents a straight-chain or branched alkyl group of 1 to 4, and examples thereof include a chloromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group and a pentafluoroethyl group.
  • a halogen atom represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • the ⁇ alkoxy '' of an alkoxyalkyl group, an alkoxyaminoalkyl group, an alkoxycarbonylalkyl group, an alkoxyalkylcarbonyl group, and an alkoxylponyl group represents a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, For example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, t-butoxy, n-pentyloxy, isopentyloxy, neopentylo Examples thereof include a xy group, an n-hexyloxy group, an isohexyloxy group, and a 3,3-dimethylbutyne group.
  • haloalkoxy of the haloalkoxycarbonyl group represents a straight-chain or branched-chain alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, which is substituted by a halogen atom, such as a chloromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, Penufluoro group and the like.
  • cycloalkyl of the cycloalkyl group, the cycloalkylalkyl group, and the cycloalkylcarbonyl group refers to a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopropyl group and a cyclohexyl group .
  • Alkenyl I in alkenyl and alkenylcarbonyl groups has 2 to 6 carbon atoms.
  • a straight-chain or branched-chain alkenyl group for example, a vinyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group and the like.
  • alkynyl of the alkynyl group and the alkynylcarbonyl group refers to a straight-chain or branched-chain alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, such as ethynyl, provinyl, petynyl, pentynyl, hexynyl, 3 , 3-dimethyl-1-butynyl group, '1-methyl-1 monopentynyl group, 3-methyl_1 monopentynyl group, and the like.
  • the phenyl ring in the benzoylamino group includes those substituted with a substituent such as a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a haloalkyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group and a cyano group.
  • Table 17 shows specific examples of the production intermediate. (Table) 7)
  • R 10 represents an alkyl group.
  • R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkylalkyl group, an optionally substituted benzyl group or an optionally substituted phenyl group
  • R 12 represents an alkyl group, a haloalkyl Represents a group or a phenyl group which may be substituted, and R 1 and R each have the same meaning as described above.
  • the intermediate A-1 can be obtained by protecting the amino group of the 2,4-disubstituted aniline with phenyl chloroformate. This is described in The Journal “Ob Organic” Chemistry (J.
  • Intermediate A-5 was introduced into an indole by the method described in Organic Syntheses Collective, Vol. 6, Vol. 601 pp. 605 (1988).
  • Invention compound A-6 can be produced.
  • an alkylthio group, a haloalkylthio group or an optionally substituted phenylthio group at the 3-position of the indole ring of the compound A-6 of the present invention may be substituted with tetrahedron. Letters (Tetrahedron Letters), Vol. No. 3, pp. 2059-12062 (1993) or The Journal of Organic Chemistry, Vol. 59, pp. 6372-1
  • the compound A-7 of the present invention can be produced by elimination according to the method described on page 6377 (1994).
  • R 11 of compound A-6 is a hydrogen atom in the production of compound A-7 from compound A-6, for example, under the reaction conditions of treating compound A-6 with only trifluoroacetic acid,
  • R R, R 2 , R 10 and R 1 each have the same meaning as described above.
  • examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, kynlen or mesitylene, alcohols, and halogens.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, kynlen or mesitylene, alcohols, and halogens.
  • Hydrocarbons, hydrocarbons, ethers such as 1,4-dioxane or tetrahydrofuran, amides such as N, N-dimethylformamide, sulfur compounds such as dimethylsulfoxide or sulfolane, and acetonitrile and the like And nitriles.
  • the base for example, hydrides, hydroxides, carbonates, bicarbonates or organic acid salts of alkali metals or alkaline earth metals, etc., triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4] [0] — 7—Organic bases such as pendene or pyridine, organometallic compounds such as lithium dimethyl isopropylamide or normal butyl lithium, or alkoxides such as potassium t-butoxide or sodium methoxide. No. The reaction temperature ranges from -75 ° C to the reflux temperature of the solvent, and the reaction time ranges from 5 minutes to 24 hours. Further, the reduction conditions used for the reaction from A-4 to A-5 include reduction with stannous chloride dihydrate in ethanol or reduction with iron powder in the presence of an acid catalyst. Absent. Manufacturing method 2
  • R 1 R, R 10 , R 11 and R 1 each have the same meaning as described above.
  • the compound B-1 was introduced into an indole by the method described in Organic Syntheses Collective 'Volume 6, Vol. 6, pp. 1-161, 1998.
  • the compound B-2 of the present invention can be produced.
  • an alkylthio group, a haloalkyl group or an optionally substituted phenylthio group at the 3-position of the indole ring of the compound B-2 of the present invention may be replaced with tetrahedron resin (Tetrahedron). 34, No. 13, pp. 2059--2062 (1993) or Journal of Organic. Chemistry (J. Org. Che) m.
  • the compound B-3 of the present invention can be produced by elimination according to the method described in Vol. 59, pp. 6372-pp. 6377 (1994).
  • R 11 of compound B-2 is a hydrogen atom in the production of compound B-3 from compound B-2, for example, under the reaction conditions of treating compound B-2 with only trifluoroacetic acid, -General formula
  • R 1 , R ′′, R 10, and R 12 each have the same meaning as described above.).
  • the solvent, base and reaction temperature used are the same as the conditions for the production of A-3 and the like in the aforementioned production method 1.
  • R 1 R 2 , R 3 , R 4, and R 5 each have the same meaning as described above.
  • the amino group of the substituted indole compound C-11 is added to a suitable solvent in the presence of a base.
  • the intermediate C-12 can be obtained by reacting with chloromethyl formate.
  • the compound C-3 of the present invention can be produced by reacting the compound with 3-ethylamino-4,4,41-trifluorochlorotonate in an appropriate solvent in the presence of a base.
  • examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, and N, N-dimethylformamide. And the like; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and nitriles such as acetonitrile.
  • a hydride such as an alkali metal or an alkaline earth metal, a hydroxide, a carbonate compound, a bicarbonate compound or an organic acid salt, triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0]
  • Organic bases such as 17- pendene or pyridine; organometallic compounds such as lithium diisopropylamide or normal butyl lithium; and alkoxides such as potassium l-butoxide or sodium methoxide.
  • the reaction temperature is The reaction range is from 75 ° C to the reflux temperature of the solvent, and the reaction time is from 5 minutes to 24 hours.
  • Compound C-1 can be produced, for example, by the following method (ag). Method a
  • [vm] can be manufactured by the following method.
  • PN represents a mono- or dialkylcarbonylamino group, a mono- or dihaloalkylcarbonylamino group, a mono- or dialkylsulfonylamino group, a mono- or mono- Represents an amino group having a protecting group P such as a dihaloalkyl sulfonylamino group, a tetrahydrophthalimino group, or a phthalimino group.
  • the phenylacetonitrile compound I is treated with a diluting agent such as fuming nitric acid.
  • the compound is reduced with iron powder in the presence of an acid catalyst, for example.
  • m can be obtained.
  • the compound V can be obtained by protecting the amino group of the compound m with an appropriate protecting group to give a compound ⁇ , and then dinitrogenizing with a ditrotting agent such as fuming nitric acid.
  • the nitro group of compound V is reduced according to the method described in Chemistr ⁇ -Letters, pp. 259-260, (1975) to give compound VI.
  • Compound VI was hydrogenated according to the method described in Synthetic Communications, Vol. 24, No. 6, pp. 839-page 848 (1994).
  • R 3 and R 4 are hydrogen atoms
  • R 5 is an alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkylalkyl group, a haloalkyl group, an optionally substituted benzyl group, a cyanoalkyl group, and a carboxyalkyl group.
  • the compound [X] that is an alkoxycarbonylalkyl group can be produced by the following method.
  • L represents a leaving group such as a halogen atom
  • R 13 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl alkyl group, a haloalkyl group.
  • the active methylene group of the compound II was converted to a synthetic 'Communications (Synthetic Communications 24th edition, Condolences 6, pp. 839-pp. 848 (1994), Tet. Tetrahedron Letters, Vol. 32, No.
  • Compound XIX of compound C-1, wherein R 4 is an alkyl group and R and R J are hydrogen atoms, can be produced by the following method.
  • Compound XX m R 4 is R and R 3 in alkoxycarbonyl two Rumechiru group is water atom of compound compound C one 1 can be produced by the following method.
  • Compound XX IV or XX K R 4 is R 3 and R 0 at alkoxymethyl group or an alkylthiomethyl group is a hydrogen atom among Compound C one 1 can be produced by the following method.
  • R 4 is an alkylcarbonylmethyl group and R 3 and R "or hydrogen
  • the compound XXX ⁇ , which is an atom, can be produced by the following method (
  • Compound R 4 of C one 1 is R 3 and R 5 are hydrogen atoms amino group compound X XXV may be prepared by the following method.
  • a compound XXX which can be produced by introducing an R 13 group into the compound V according to the method b and further reducing the nitro group, is heated and closed in a solvent to remove the protecting group PN.
  • XXXV can be manufactured.
  • the indole compound C-1 which has a protecting group PN and is a hydrogen atom, obtained by the above method (a, c to g), and after introducing various substituents into R 3 by an electrophilic reaction, By removing the protecting group PN, an indole compound C-11 having various substituents can be produced.
  • an indole compound C-11 having a protecting group PN and R 3 being a hydrogen atom which is obtained by the above method (a to g)
  • various R 3 After the introduction of the substituent, the protecting group PN is removed, whereby an indole compound C-11 having various substituents can be produced.
  • various indole compounds having a protecting group PN as a starting material the method described in the following production methods 8 to 29 or a series of books (methodene 'Del' Organismin ', E, E6b2, 849) According to the method described in pp. 1-336, pp. 1934), after introducing or converting a substituent, the protecting group PN is removed to produce various compounds C-11. Can be.
  • R 1 R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 have the same meanings as described above.
  • the amino group of the substituted indole compound D-1 is converted into a suitable solvent in the presence of a base.
  • Intermediate D-2 can be obtained by reaction with phenyl chloroformate.
  • the compound D-3 of the present invention can be produced by reacting this with ethyl 3-amino-4,4,4,1-trifluorochlorotonate in an appropriate solvent in the presence of a base.
  • the solvent examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, and N, N-dimethylforma.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene
  • halogenated hydrocarbons such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran
  • N, N-dimethylforma examples include amides such as amides, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide or sulfolane, and nitriles such as acetonitrile.
  • a hydride such as an alkali metal or an alkaline earth metal, a hydroxide, a carbonate compound, a bicarbonate compound or an organic acid salt, triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] —
  • Organic bases such as 7-indene or pyridine; organometallic compounds such as lithium diisopropylamide or normal butyllithium; or lithium t-butoxy And alkoxides such as sodium methoxide.
  • Anti-fT the temperature ranges from -75 ° C to the reflux temperature of the solvent, and the reaction time is from 5 minutes to 24 hours.
  • Compound D-1 can be produced, for example, by the following method.
  • compound XX XIX and compound XL can be produced according to the method (a to g) described in production method 3.
  • the compound of the present invention is obtained by reacting the compound R 10 —L at the 1-position of the peracyl ring of the compound of the present invention C-3 or the compound of the present invention D-3 in a suitable solvent in the presence of a suitable base.
  • C-14 or the compound D-4 of the present invention can be produced.
  • This reaction is usually performed in a solvent in the presence of a base at a reaction temperature of 0 to 100 for 0.5 to 24 hours.
  • Compound R 1 0 The amounts of reagents to be used in the reaction is a compound C 3 or Compound D-3 with respect to 1 equivalent - L is 1-1 0 equivalents, the base is from 1 to 1 5 eq..
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, etc., ethers such as getyl ether and tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane.
  • Ketones such as acetylacetone, methylisobutylketone, esters such as ethyl acetate, amides such as N, N-dimethylformamide, sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane, and mixtures thereof.
  • the base include inorganic bases such as hydrogenated lime, sodium hydride, and carbonated lime, and alkali metal alkoxides such as sodium ethoxide and sodium methoxide. Manufacturing method 6
  • R 1 R 2 , R J , R 4 and R 5 each have the same meaning as described above, and G represents a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group or a 2,4-dinitrophenoxy group.
  • the compound of the present invention is obtained by reacting compound G-NH1 at position 1 of the peracyl ring of compound C-13 of the present invention or compound D-3 of the present invention in the presence of a suitable base in a suitable solvent.
  • Compound C-5 or compound D-5 of the present invention can be produced. This reaction is usually carried out in a solvent in the presence of a base at a reaction temperature of 0.10 ° C.
  • the reagents used in the reaction are compound C 3 or compound D-3, and compound G—NH 2 is 110 equivalents and base is 11.5 equivalents.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as methyl ether and tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane.
  • Ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, etc .; esters such as ethyl acetate; amides such as methylformamide; sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; and mixtures thereof.
  • the base include inorganic bases such as lithium hydride, sodium hydride and potassium carbonate, and alkali metal alkoxides such as sodium ethoxide and sodium methoxide. Manufacturing method 7
  • RR 1 0 and L are as defined, respectively therewith said.
  • the compound E-2 of the present invention can be produced.
  • the solvent, base and reaction temperature used here are the same as described above. For example, in the presence of lithium diisopropylamide in tetrahydrofuran, Reaction at ⁇ 78 ° C., but not limited to this.
  • J-1 2 Alkyl group, cycloalkyl group, cycloalkyl alkyl group, haloalkyl group, optionally substituted benzyl group, optionally substituted phenyl group, dialkylaminoalkyl group, halogen atom, dialkyamino group, alkylsulfonyl Amino group, haloalkylsulfonylamino group, optionally substituted phenylsulfonylamino group, alkylcarbonylamino group, haloalkylcarbonylamino group, optionally substituted benzoylamino group , A cyanoalkyl group, an alkylcarbonylalkyl group, a carboxyalkyl group or an alkoxycarbonylalkyl group, and R 1 R 2 , R 3 and R 10 each have the same meaning as described above.
  • the compound of the present invention J-1 reacts the 3-position of the indole ring with phosphorus oxychloride in N, N-dimethylformamide, for example, in a Vismeier reaction, or in, for example, dichloromethane.
  • Formylation by a method using dichloromethylalkyl ether in the presence of a Lewis acid can be used to produce the compound J-12 of the present invention. it can.
  • examples of the Lewis acid include metal halides such as aluminum chloride, ferric chloride, boron trifluoride, boron tribromide, boron trichloride, stannic chloride and zinc chloride.
  • R 1 1 6 U represents an alkyl group, a haloalkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxyalkyl group, alkylthioalkyl group, an alkylsulfonyl group or an optionally substituted phenyl group
  • L 1 represents a halogen atom
  • RRRR 1 0 and R 1 D represents the same meaning as each of the.
  • the 3-position of the 1-indole ring is reacted with the corresponding anhydride or acid anhydride in a suitable solvent in the presence of a suitable Lewis acid by a so-called Friede 1-Crafts reaction.
  • the compound J-13 of the present invention can be produced.
  • examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as dichlorobenzene and trichlorobenzene, halogenated hydrocarbons, and nitrated hydrocarbons such as nitromethane.
  • examples of the Lewis acid include metal halides such as aluminum chloride, ferric chloride, boron trifluoride, boron tribromide, boron trichloride, stannic chloride and zinc chloride.
  • the reaction temperature ranges from -75 ° C to the reflux temperature of the solvent, and the reaction time ranges from 5 minutes to 24 hours. Manufacturing method 1 0
  • J-1 1 J-1 4 (Wherein, RR, R, R 10 and R 15 each have the same meaning as described above.)
  • the 3-position of the indole ring of the compound J-1 of the present invention may be, for example, the 'journal' or 'bottom'. Luganic's Chemistry (J. Org. Chem.) Vol. 46, pp. 3056-3060 (1998) in a halogen-based solvent such as chloroform.
  • the compound J-14 can be produced by nitration by a method of reacting with ammonium nitrate in the presence of trifluoroacetic anhydride. Manufacturing method 1 1
  • the solvent, Lewis acid and reaction temperature used here are the same as those in Production method 6.
  • the reaction conditions include, but are not limited to, a method using oxalyl chloride and aluminum chloride in dichloromethane at methane. Manufacturing method 1 2
  • R 1 , RR 3 , R 10 and R 15 each have the same meaning as described above.
  • ′ At the 3-position of the indole ring of the compound J-1 of the present invention, for example, synthesis ( Synthesis), p. 374 (1978), and a compound of the present invention J-6 can be produced by introducing a cyano group according to the method described in p. Manufacturing method 1 3
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride and the like, ethers such as getyl ether and tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and fats such as hexane and heptane. Group hydrocarbons or mixtures thereof.
  • the halogenating agent include chlorine, bromine, iodine, ⁇ -chlorosuccinic acid imide, and ⁇ -bromosuccinic acid imide. In the case of bromination, It can also be obtained by a method of reacting t-butyl bromide in a dimethylsulfoxide solvent. Manufacturing method 14
  • the compound J-10 of the present invention can be produced by reacting with an acid imid (NBS) and then treating with sodium hydrogen sulfite.
  • NBS acid imid
  • hornworm media include benzoyl peroxide, ⁇ , a'-azobisisobutyronitrile, etc. Is mentioned. Manufacturing method 1 6
  • R 4 or R J is a Arukokishii Mi Noaru Kill group or inhibit Dorokishii Mi Noarukiru group
  • R 1 ⁇ 2 or R 3 ⁇ 4 is Kiichi COR D (wherein Wherein R 6 has the same meaning as described above.)
  • it can be produced by reacting with a hydrochloride in, for example, methanol.
  • the compound of the present invention in which R 4 or R 5 is an amino group is the same as the compound of the present invention in which R 4 or R "is
  • the amino group can be produced by reduction with iron powder in a mixed solvent of ethyl acetate-water, and the amino group can be further prepared according to a known method using a dialkylamino group, a monoalkylamino group, or an alkylsulfonylamino group.
  • the compound of the present invention wherein R 4 or R 5 is a group —SO n R 12 (wherein R 12 has the same meaning as described above) is represented by R
  • the compound of the present invention, wherein 4 or R is a group of the formula SR 1 (wherein R 12 has the same meaning as described above) is used as an oxidizing agent such as metaclo-perbenzoic acid or potassium peroxide monosulfate (trade name oxone). And can be produced by oxidation.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as chloroform and carbon tetrachloride, or a mixed solvent of alcohol and water. Manufacturing method 1 9
  • the compound of the present invention in which R or R 5 is an alkoxycarbonyl group, a haloalkoxycarbonyl group or an optionally substituted benzyloxycarbonyl group is a compound represented by the formula: Is a carboxyl group according to the general formula R 15 -L (wherein R 1 represents an alkyl group, a haloalkyl group or a benzyl group which may be substituted, and L has the same meaning as described above. Or a compound represented by the general formula R 1 ° -0 ⁇ (wherein R 15 and R 15 have the same meanings as described above). It can be produced by a method of performing a Mitsunobu reaction in drofurane in the presence of an azo compound and triphenylphenylphosphine.
  • Examples of the azo compound include acetyl azodicarboxylate. Manufacturing method 20
  • Kiichi C oR may be prepared by reducing a compound of the present invention is a reducing agent.
  • a reducing agent for example as tetrahydrofuran solvent Among them, a method of reacting with diisobutylaluminum hydride is exemplified, but not limited thereto.
  • the compound of the present invention in which R or R J is a group —CH (R 1 ) 0H corresponds to the compound of the present invention in which R 4 or R 5 is a formyl group.
  • Grignard reagent R (wherein, R ⁇ 7 represents an alkyl group, cycloalkyl group, a haloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxyalkyl group, an alkylthioalkyl group or an alkylsulfonyl group.) 1 Mg B r that, for example, It can be produced by reacting in an ether solvent such as tetrahydrofuran. Manufacturing method 2 2
  • R 4 or R 3 is a group represented by C (R 1 ) (R 10 ) 0H (wherein, ⁇ and! ⁇ 10 have the same meanings as described above, respectively)
  • the compound of the present invention is represented by the following formula:
  • the reagent R 10 MgBr for the compound of the present invention wherein R ′′ 1 or R is —COR 7 is, for example, It can be produced by reacting in an ether medium such as drofuran.
  • 13 ⁇ 4 4 or 13 ⁇ 4 5 is a group - (R 6) (R 7) a compound of the invention which is L 1 is, 13 ⁇ 4 4 or 1 ⁇ 5 is a group - Ji (R 6 ) It can be produced by halogenating the compound of the present invention (R 7 ) 0 H using a halogenating agent.
  • R 6 , R 7 and L 1 each have the same meaning as described above.
  • halogenating agent examples include hydrogen chloride, hydrogen bromide, phosphorus trichloride, and phosphorus tribromide.
  • solvent examples include acids such as acetic acid and ethers such as tetrahydrofuran.
  • Moto (R 6) (R ') a compound of the invention which is ZR is 4 or 13 ⁇ 4 "a group - 0 (R °) (R ') is L 1 represented the present invention compounds of the general formula R.
  • SH or the general formula R "0H can be prepared by reacting a compound. (In the formula, R 0 , R ′, R 9 , Z and L 1 each have the same meaning as described above.)
  • the solvent examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene, alcohols, halogenated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, N , Dimethylformamide and the like; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and nitriles such as acetate nitrile.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene
  • alcohols halogenated hydrocarbons
  • aliphatic hydrocarbons such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, N , Dimethylformamide and the like
  • sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane
  • nitriles such as acetate nitrile.
  • Examples of the base include hydrides, hydroxides, carbonate compounds, hydrogen carbonate compounds or organic acid salts of alkali metals or alkaline earth metals, triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] I 7-nd And organic bases such as lithium diisopropyl amide and normal butyl lithium, and alkoxides such as potassium t-butoxide and sodium methoxide. Manufacturing method 25
  • the solvent examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene, alcohols, halogenated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, ethers such as 4-dioxane and tetrahydrofuran, and the like.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene
  • alcohols such as halogenated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, ethers such as 4-dioxane and tetrahydrofuran, and the like.
  • amides such as N, N-dimethylformamide
  • sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane
  • nitriles such as acetonitrile.
  • Examples of the base include hydrides, hydroxides, carbonates, bicarbonates or organic acid salts of alkali metal or alkaline earth metal, triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] ]-Organic bases such as 7-indenecene and pyridine; organic metal compounds such as lithium diisopropylamide and normal butyllithium; and alkoxides such as potassium t-butoxide and sodium methoxide. Manufacturing method 26
  • 13 ⁇ 4 4 or 13 ⁇ 4 5 groups - (R 6) (R ' ) a compound of the invention which is WR 9 is, R 4 or R 5 group - c (R 0 ) (R 1 ) It can be produced by oxidizing the compound of the present invention as SR 9 with an oxidizing agent such as metabenzo-perbenzoic acid or potassium monosulfate (trade name: Oxone).
  • an oxidizing agent such as metabenzo-perbenzoic acid or potassium monosulfate (trade name: Oxone).
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform and carbon tetrachloride, or a mixture of alcohol and water. And the like. Manufacturing method 27
  • R 1 0 is an alkyl group, a halo alkylcarbonyl group, cycloalkylcarbonyl group An optionally substituted benzoyl group, an N-monoalkylcarbamoyl group, an N, N-dialkylcarba-pyryl group, an M-monoalkyl (thiocarbamoyl) group, an N, N-dialkyl (thiocarbamoyl) group, an alkylsulfonyl group Represents a haloalkylsulfonyl group or a substituted or unsubstituted phenylsulfonyl group.)
  • R 4 or R 3 is a group —C (R 6 ) (R ′) 0H
  • the solvent examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene, alcohols, halogenated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, ethers such as 1,-]-dioxane and tetrahydrofuran, N And amides such as N-dimethylformamide; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and nitriles such as acetonitrile.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene
  • alcohols halogenated hydrocarbons
  • aliphatic hydrocarbons such as 1,-]-dioxane and tetrahydrofuran
  • N And amides such as N-dimethylformamide
  • sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane
  • nitriles such as acetonitrile.
  • Examples of the base include hydrides, hydroxides, carbonate compounds, hydrogen carbonate compounds or organic acid salts of alkali metals or alkaline earth metals, triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] —
  • Organic bases such as 7-indene and pyridine; organic metal compounds such as lithium diisopropylamide and normal butyl lithium; and alkoxides such as potassium t-butoxide and sodium methoxide. Manufacturing method 28
  • the compound of the present invention in which 4 or 5 is a group — (R D ) —C (R 6 ) (R 6 ), wherein R 4 or R 5 is an alkylcarbonyl group
  • the compound can be produced by reacting the compound of the present invention with a Wittig reagent in the presence of a base.
  • R 6 has the same meaning as described above.
  • the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and mesitylene, alcohols, halogenated hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, ethers such as], 4-dioxane, and tetrahydrofuran; Amides such as N, N-dimethylformamide; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and nitriles such as acetate nitrile.
  • Examples of the base include hydrides, hydroxides, carbonate compounds, hydrogen carbonate compounds or organic acid salts of alkali metals or alkaline earth metals, triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4. 0]
  • Organic bases such as 17-indene and pyridine; organic metal compounds such as lithium diisopropylamide and normal butyllithium; and alkoxides such as potassium butoxide and sodium methoxide.
  • the compound J-112 of the present invention can be produced, for example, by hydrogenating the compound J-111 of the present invention in an ethyl acetate or ethanol solvent in the presence of a palladium carbon catalyst.
  • the reaction solution was stirred at room temperature for 24 hours, and then heated at 80 ° C for 5 hours.
  • the reaction solution was poured into ice water, adjusted to pH 4, and extracted with getyl ether.
  • the extract was washed with water and separated.
  • the ether layer was extracted with a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate, the aqueous layer was returned to pH 4, and then extracted again with ethyl acetate.
  • the extract was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was crystallized from diisopropyl ether to obtain 33.8 g of the desired product (yield 54.7%, melting point 156-158 ° C).
  • the herbicide of the present invention comprises an indole-substituted peracyl derivative represented by the general formula [1] as an active ingredient.
  • the compound of the present invention may be used as it is, but a carrier, a surfactant, a dispersant, an auxiliary agent, etc., which are generally used for formulation, are combined, and It can be formulated into powders, wettable powders, emulsions, fine granules or granules and used.
  • Carriers used in the formulation include, for example, solid carriers such as talc, bentonite, creed, kaolin, diatomaceous earth, white liquor, vermiculite, calcium carbonate, slaked lime, silica sand, ammonium sulfate, and urea. And liquid carriers such as isopropyl alcohol, xylene, cyclohexane, and methylnaphthalene.
  • solid carriers such as talc, bentonite, creed, kaolin, diatomaceous earth, white liquor, vermiculite, calcium carbonate, slaked lime, silica sand, ammonium sulfate, and urea.
  • liquid carriers such as isopropyl alcohol, xylene, cyclohexane, and methylnaphthalene.
  • surfactant or dispersant examples include metal salts of alkyl benzene sulfonic acid, metal salts of dinaphthyl methane disulfonic acid, alkyl sulfates, alkyl phenyl sulfonate formalin condensates, lignin sulfonates, polyoxyethylene glycol ethers, and polyoxygens.
  • examples include ethylene alkyl aryl ether and polyoxyethylene sorbitan monoalkylate.
  • the adjuvant examples include carboxymethylcellulose, polyethylene glycol, gum arabic and the like.
  • the herbicide of the present invention can be used by foliage application, soil application or water surface application.
  • the mixing ratio of the active ingredient is appropriately selected as necessary, When used as an agent, it may be appropriately selected from the range of 0.01 to 10% (weight), preferably 0.05 to 5% (weight). When used as an emulsion or a wettable powder, it is appropriate to appropriately select from the range of ⁇ 509 ° (weight), preferably 5-30% (weight).
  • the application rate of the herbicide of the present invention varies depending on the type of the compound used, the target weed, the occurrence tendency, the environmental conditions, the dosage form used, and the like.
  • the active ingredient may be appropriately selected from the range of 0.1 g to 5 kg, preferably 1 g to 1 kg, per 10 ares.
  • the compound of the present invention may be mixed with an insecticide, a fungicide, another herbicide, a plant growth regulator, a fertilizer, and the like, if necessary.

Landscapes

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Description

明細書
イ ン ドール置換ゥラシル誘導体及びこれを有効成分とする除草剤
[技術分野]
本発明は、 新規なインドール置換ゥラシル誘導体及びこれを有効成分とする除 草剤に関するものである。
[背景技術]
特開平 5 - 2 6 2 7 6 5号公報明細書及び特開平 5 - 2 5 1 6 5号公報明細書 にはある種のベンゾフラン誘導体が、 特開昭 6 3 - 1 5 6 7 8 7号公報明細書に はある種のベンゾピラン又はベンゾフラ ン誘導体が、 さ らにョ一口ッパ特許 6 2 6 9 6 2— A 1号公報明細書にはベンゾチォフェン又はべンゾフラン誘導体 が除草剤の有効成分として用いられることが記載されている。 しかしながら、 ィ ンドール環の 7位又は 4位にゥラシル環が結合した化合物につ L、ては知られてい ない。 さらに、 該化合物を有効成分とする除草剤についても知られていない。 農薬の施用場面では、 低薬量で効果が高く、 作物雑草間に選択性のある除草剤 が求められている。
本発明者らはこのような状況に鑑み種々検討した結果、 本願発明の新規なィン ド一ル置換ゥラシル誘導体が優れた除草作用を有することを見いだし、 本発明を 完成するに至った。
[発明の開示]
すなわち、 本発明は一般式 [ 1 ]
R
\ 0
CF N- Q [ 1 ]
-
〔式中、 Rはアルキル基、 アミノ基又は水素原子を表し、 Qは一般式
Figure imgf000004_0001
を表し、 R 1及び R 2はそれぞれ水素原子、 フッ素原子、 塩素原子又は臭素原子 を表し、 R 3は水素原子、 アルキル基、 ハロアルキル基、 アルキルスルホニル 基、 ハロアルキルスルホニル基、 ホルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアル キルカルボニル基、 アルコキシカルボニル基、 N—モノアルキル力ルバモイル基 又は N， N—ジアルキル力ルバモイル基を表し、 R 4及び R Jはそれぞれ独立し て、 水素原子、 アルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハ 口アルキル基、 置換されていてもよいべンジル基、 置換されていてもよいフエ二 ル基、 アルケニル基、 ホルミル基、 ホルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロア ルキルカルボニル基、 シクロアルキルカルボニル基、 置換されていてもよいベン ゾィル基、 アルケニルカルボニル基、 アルキニルカルボニル基、 アルコキシアル キルカルボニル基、 アルキルチオアルキルカルボニル基、 アルキルスルホニルァ ルキルカルボニル基、 アルキル （チォカルボニル） 基、 カルボキシル基、 アルコ キシカルボニル基、 ハロアルコキシカルボニル基、 置換されていてもよいフエノ キシカルボニル基、 置換されていてもよいべンジルォキシカルボニル基、 アルコ キシイ ミ ノアルキル基、 ヒ ドロキシィ ミ ノアルキル基、 ァミ ノアルキル基、 モノ アルキルアミ ノアルキル基、 ジアルキルアミ ノアルキル基、 N—モノアルキル力 ルバモイル基、 N , N —ジアルキルカルパ'モイル基、 力ルバモイル基、 シァノ 基、 アルキルチオ基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキルチオ基、 ハロアルキ ルスルホニル基、 置換されていてもよいフエ二ルチオ基、 置換されていてもよい フェニルスルホニル基、 ハロゲン原子、 ニトロ基、 アミ ノ基、 ジアルキルアミ ノ 基、 モノアルキルアミ ノ基、 アルキルスルホニルァミ ノ基、 ハロアルキルスルホ ニルァミ ノ基、 置換されていてもよいフエニルスルホニルァミ ノ基、 アルキル力 ルボニルァミ ノ基、 ハロアルキルカルボニルァミ ノ基、 置換されていてもよいべ ンゾィルァミ ノ基、 シァノアルキル基、 アルキルカルボニルアルキル基、 カルボ キシアルキル基、 アルコキシカルボニルアルキル基又は一般式
R6 R6
ZR8 又け WR9 で示される基を表し、 Zは酸素原子又は硫黄原子を表し、 Wは基 - s o—又は基 — S O 9 —を表し、 R 6は水素原子又はアルキル基を表し、 R 7は水素原子、 ァ ルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキ ニル基、 アルコキシアルキル基、 アルキルチオアルキル基又はアルキルスルホ二 ルアルキル基を表し、 R 8は水素原子、 アルキル基、 シクロアルキルアルキル 基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 置換されていてもよいベン ジル基、 置換されていてもよいフヱニル基、 ホルミル基、 アルキルカルボニル 基、 ハロアルキルカルボニル基、 シクロアルキルカルボニル基、 置換されていて もよいベンゾィル基、 N—モノアルキル力ルバモイル基、 N , N—ジアルキル力 ルバモイル基、 N—モノアルキル （チォ力ルバモイル） 基、 N , N—ジアルキル (チォ力ルバモイル） 基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキルスルホ二ル基又 は置換されていてもよいフエニルスルホニル基を表し、 R 9はアルキル基、 シク 口アルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 置換さ れていてもよいベンジル基又は置換されていてもよいフヱニル基を表す。 〕 で示 されるインド一ル置換ゥラシル誘導体及び該ゥラシル誘導体を有効成分として含 有することを特徴とする除草剤に関するものである。
本発明のより好ましい態様は、 一般式 [ 1 ] において、 Rがメチル基又はアミ ノ基を表し、 R 1がフッ素原子又は水素原子を表し、 R がフッ素原子、 塩素原 子又は臭素原子を表し、 R が水素原子又はアルキル基を表し、 及び R 5が それぞれ独立して、 水素原子、 アルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 ホ ルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアルキルカルボニル基、 シクロアルキル カルボニル基、 カルボキシル基、 アルコキシカルボニル基、 ハロアルコキシカル ボニル基、 置換されていてもよいフヱノキンカルボニル基、 置換されていてもよ いべンジルォキシカルボニル基、 アルコキシィ ミ ノアルキル基、 ヒ ドロキシイ ミ ノアルキル基、 シァノ基、 アルキルチオ基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキ ルチオ基、 ハロアルキルスルホニル基、 ハロゲン原子、 ニトロ基、 ア ミ ノ基、 ジ アルキルアミ ノ基、 モノアルキルアミ ノ基、 アルキルスルホニルァミ ノ基、 ハロ アルキルスルホニルァミ ノ基、 アルキルカルボニルァ ミ ノ基、 ハロアルキルカル ボニルァミ ノ基、 アルキルカルボニルアルキル基、 カルボキシアルキル基、 アル コキシ力ルポニルアルキル基又は一般式
R6 R6
ZR8 "、は W R9
R7 で示される基を表し、 Zは酸素原子又は硫黄原子を表し、 Wは基— S O—又は基 — S 0 2—を表し、 R Dは水素原子又はアルキル基を表し、 R 'は水素原子、 ァ ルキル基又はシクロアルキルアルキル基を表し、 R 8は水素原子、 アルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 ホ ルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアルキルカルボニル基、 シクロアルキル カルボニル基、 N—モノアルキル力ルバモイル基、 N , N—ジアルキルカルバモ ィル基、 N—モノアルキル （チォ力ルバモイル） 基、 N， N—ジアルキル （チォ 力ルバモイル） 基、 アルキルスルホニル基又はハロアルキルスルホ二ル基を表 し、 R はアルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニ ル基又はアルキニル基であるィン ドール置換ゥラシル誘導体及び該ゥラシル誘導 体を有効成分として含有することを特徴とする除草剤である。
なお、 本明細書において、 アルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 アルキル スルホニル基、 、 N—モノアルキルカルパ'モイル基、 N， N—ジアルキル力ルバ モイル基、 アルキルカルボニル基、 アルコキシアルキルカルボニル基、 アルキル チォアルキルカルボニル基、 アルキルスルホニルアルキルカルボニル基、 アルキ ル （チォカルボニル） 基、 アルコキシィ ミ ノアルキル基、 ヒ ドロキシィ ミ ノアル キル基、 アミ ノアルキル基、 モノアルキルアミ ノアルキル基、 ジアルキルアミ ノ アルキル基、 アルキルチオ基、 ジアルキルアミ ノ基、 モノアルキルアミ ノ基、 ァ ルキルスルホニルァミ ノ基、 シァノアルキル基、 アルキルカルボニルアルキル 基、 カルボキシアルキル基、 アルコキシカルボニルアルキル基、 アルコキシアル キル基、 アルキルチオアルキル基、 アルキルスルホニルアルキル基、 N —モノア ルキル （チ才力ルバモイル） 基及び N , N—ジアルキル （チォ力ルバモイル） 基 の 「アルキル」 とは、 炭素数 1〜 6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を表し、 例 えばメチル基、 ェチル基、 n —プロピル基、 イソプロピル基、 n —ブチル基、 ィ ソブチル基、 s e c —ブチル基、 t 一プチル基、 n—ペンチル基、 イソペンチル 基、 ネオペンチル基、 n—へキシル基、 イソへキシル基、 3 , 3—ジメチルブチ ル基等を挙げることができる。
ハロアルキル基、 ハロアルキルスルホニル基、 ハロアルキルカルボニル基、 '■、 ロアルキルチオ基、 ハロアルキルスルホニル基、 ハロアルキルスルホニルァミ ノ 基及びハロアルキルカルボニルァミ ノ基の 「ハロアルキル」 とは、 ハロゲン原子 によって置換された炭素数 1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を表し、 例え ばクロロメチル基、 ジフルォロメチル基、 トリフルォロメチル基、 ペンタフルォ 口ェチル基等を挙げることができる。
ハロゲン原子とはフッ素原子、 塩素原子、 臭素原子又はヨウ素原子を表す。 アルコキシアルキル基、 アルコキシィ ミ ノアルキル基、 アルコキシカルボニル ァルキル基、 アルコキシァルキルカルボニル基及びアルコキシ力ルポニル基の 「アルコキシ」 とは、 炭素数 1〜 6の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を表し、 例えばメ トキシ基、 エトキシ基、 n —プロポキシ基、 イソプロボキシ基、 n—ブ トキシ基、 イソブトキシ基、 s e c —ブトキシ基、 t —ブトキシ基、 n —ペンチ ルォキシ基、 イソペンチルォキシ基、 ネオペンチルォキシ基、 n—へキシルォキ シ基、 イソへキシルォキシ基、 3 , 3—ジメチルブ卜キン基等を挙げることがで さる。
ハロアルコキシカルボニル基の 「ハロアルコキシ」 とはハロゲン原子によって 置換された炭素数 1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を表し、 例えばクロ ロメ トキシ基、 ジフルォロメ トキシ基、 トリフルォロメ 卜キシ基、 ペン夕フルォ ロェ卜キシ基等を挙げることができる。
シクロアルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 及びシクロアルキルカルボ二 ル基の 「シクロアルキル」 とは炭素数 3〜 8のシクロアルキル基を示し、 例えば シクロプロピル基、 シクロへキシル基等を挙げることができる。
アルケニル基及びアルケニルカルボニル基の Γアルケニル I とは炭素数 2〜 6 の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、 例えばビニル基、 プロぺニル基、 ィ ソプロぺニル基、 ブテニル基、 ペンテニル基、 へキセニル基等を挙げることがで きる。
アルキニル基及びアルキニルカルボニル基の 「アルキニル」 とは炭素数 2 〜 6 の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、 例えばェチニル基、 プロビニル基、 プチ二ル基、 ペンチニル基、 へキシニル基、 3 , 3—ジメチル— 1 —プチニル 基、 '1ーメチルー 1 一ペンチニル基、 3—メチル _ 1 一ペンチ二ル基等を挙げる ことができる。
置換されていてもよいべンジル基、 置換されていてもよいフヱニル基、 置換さ れていてもよいベンゾィル基、 置換されていてもよいフヱノキシカルボニル基、 置換されていてもよいべンジルォキシカルボニル基、 置換されていてもよいフエ 二ルチオ基、 置換されていてもよいフヱニルスルホニル基、 置換されていてもよ ぃフヱニルスルホニルアミ ノ基及び置換されていてもよいべンゾィルァミ ノ基に おけるフエニル環は、 ハロゲン原子、 アルキル基、 アルコキシ基、 ハロアルキル 基、 アルコキシカルボニル基、 ニトロ基、 シァノ基等の置換基で置換されたもの も含む。
[発明の実施の形態]
次に、 本発明化合物の具体例を表 1〜表 1 6に記載する。 しかしながら、 これ らの化合物に限定されるものではない。 なお、 化合物番号は以後の記載において 参照される。
(表 1 )
Figure imgf000009_0001
(表 2)
Figure imgf000010_0001
(表 3)
Figure imgf000011_0001
(表 4 )
化台物 R Rl R2 R3 ≠ R5 融点 (て） 番号
92 CH3 F CI 11 CH2C00H H
93 CH3 F CI H CH(CH3)C00H H
94 H3 F CI H CH2C0CH3 11
95 CH3 F CI H CH(CH3) C0CH3 H
96 CH3 F CI H CH2SCH3 H
97 CH3 F CI H CH2S0CH3 H
98 CH3 F CI H CH2S02CH3 H
99 CH3 F CI H CH(CH3)SCH3 H
100 CH3 F CI H CH(CH3)SOCH3 H
101 CH3 F CI H CH(CH3)S02CH3 }[
102 CH F CI H CH(Cil3)SC2H5 H
103 a F CI H CH(CH3)S0C2H5 H
104 CH3 F CI H CH(CH3)S02C2H5 II
105 CH3 F CI H CH(C2H5)SCH3 H
106 CH3 F CI H CH(C2H5) SOCH3 II
107 CH3 F c】 !1 CH (C2H5)S02CH3 H
108 CH3 F CI H CH (C3H7-DSCH3 H
109 CH3 F CI H CH (C3H7-i)S0CH3 H
110 CH3 F CI H CH (C3H7- i)S02CH3 H
11】 CH3 F CI H CH (CH3)SCH2- ] H
112 CH3 F CI H CH (CH3)S02CH2-<] H
113 CH3 F CI H CH(CH3)SCF3 H
114 CH¾ CI H CH(CHQ)S02CF3 H
115 CH3 F CI H CH(CH3) SCH2CH2CF3 H
116 CH3 F CI H CH (CH3)S02CH2CH2CF3 H
117 CH3 F CI H CH(CH3)SCH2C≡CH H
118 CH3 F CI H CH(CH3)S02CH2C≡CH H
119 CH3 F CI H CH (CH3) SCH2CH=CH2 H
120 CH3 F CI H CH(CH3) S02CH2CH=CH2 H
121 CH3 F CI H CH(CH3)SCH2- H
122 CH3 F CI }\ CH(CH3)S02CH2-Q H
123 CH3 F CI H CH (CH3)SCHz -C00CH3 H
124 CH3 F CI H CH(CH3)SO2CH20~COOC113 H (表 5
化合物 R Rl R2 R3 R4 R5 融点 (°c) 番号
125 "3 F CI H CH(CH3)S-^ H
126 CH3 F CI H C1I(CH3)S02-^ H
CN
127 CH3 F CI H CH(CH3)S-Q H
CN
128 CH3 F CI H CH(CH3)S02-O H
129 CH3 F CI H CI1(CH=CH2)S02CH3 H
130 CH3 F CI H CH(C≡CH)S02CH3 H
131 CH3 F CI H CH(CH2OCH3)S02CH3 H
132 CH3 F CI H CH(CH2SCH3)S02 l3 H
133 H3 F CI H CH (CH2S02CH3)S02CH3 H
Π4 H3 F C) H CH(CH2C1)S02CH3 H
135 CH3 F CI H CH(CH2-<] )S02CH3 H
136 CH3 F CI H C(CH3)2S02CH3 H
137 CH3 F CI H C(CH3) (C2H5)S02CH3 H
138 CH3 F CI H C(CH3) (CH=CH2) S02CH3 H
139 CH3 F CI H C(CH3) (C≡CH)S02CH3 H
140 CH3 F CI H C(CH3) (CH20CH3)S02CH3 H
141 CH3 F CI H C(CH3) (CH2SCH3〉S02CH3 H
142 CH3 F CI H C(CH3) (CH2S02CH3) S02CH3 H
143 CH3 F CI H CH20CH3 H 262-264
144 CH3 F CI H CH(CH3)0CH3 H 209-210
145 CH3 F CI H CH (CH3)0C2H5 H 175-177
146 CH3 F C) H CH(C2H5)0CH3 H
147 CH3 F CI H CH (C3H7-i)0CH3 H
148 F ci H CH(CH3)0CH2-<1 H
149 CH3 F CI H CH (CH3) 0CH2CH2CF3 H
150 CH3 F CI H CH(CH3)0CH2C≡C1I H
151 CH3 F CI H CH(CH3)OCH2CH=CH2 H
152 CH3 F CI H CH(CH3)0CH2-Q H
153 CH3 F CI H CH(CI!3)0-Q H
154 CH3 F CI H CH(CH3)0→Q-N02 II
155 CH3 F c】 H CH20H H (表 6
化合物 R Rl R2 R3 R4 融点 (て） 番号
156 CH3 F CI n CH(CH3)0H H 228-232
157 CH3 F CI H CH(C2H5)OH H
158 CH3 F CI H CH(CH2C1)0H 11
159 CH3 F CI 11 CH(CH2Br)0H H
160 CH3 F CI 11 CH(CH=CH2)OH H
161 CH3 F CI H CH(C≡CH)0H H
162 CH3 F CI 11 CH(CH20CH3)0H 11
163 CH3 F CI n CH(CH2SCH3)OH H
164 CH3 F CI H CH(CH2S02CH3)011 11
165 CH3 F CI H C(CH3) 20H H
166 CH3 F CI H C(CH3) (C2H5)OH H
167 CH3 F CI H C(CH3) (CH=CH2)0H H
168 CH3 F CI H C(CH3) (C≡CH)OH H
169 CH3 F CI H C (CH3) (CH2OCH3)OH H
170 CH3 F CI H C(CH3) (CH2SCH3)OH H
171 CH3 F CI H C(CH3) (CH2S02CH3)0H H
172 CH3 F CI H CH(CH3)0C0CH3 H
173 CH3 F CI K CK(CH3)OCOCH2Cl H
174 CH3 F CI H CH(CH3)OCO-<^ H
175 CH3 F CI H CH(CH3)0C0-^ H
176 CH3 F CI H CH(CH3)0C0-^-Cl H
177 CH3 F CI H CH(CH3)0C0NHCH3 H
178 CH3 F CI H CH(CH3)0C0N(CH3)2 H
179 CH3 F CI H CH(CH3)OCSNHCH3 H
180 CH3 F CI H CH(CH3)0CSN (CH3)2 H
181 CHQ F CI H CH(CH3)OS02CHo H
182 CH3 F CI H CH(CH3)0S02CH2C1 H
183 CH3 F CI H CH(CH3)OS02-^) H
184 CH3 F CI H CH(CH3)0S02-O-N02 H
185 C"3 F CI H CH(CH3) SC0CH3 H
186 CH3 F CI H CH(CH3)SCSN(CH3)2 H (表 7 .) 2222222221 2222222221111 11111111 889 o8990 o o9999990 o o o 7896039045724.0678230 - 89234567111
化合物 R 1 R2 R3 融点 (て） 番号
CH3 F CI 258-260 CH3 F CI C2H5
CH3 F CI C3H7- i
Cll3 F CI CH2C 1
CH3 F CI CH (CH3) C1
CH3 F CI
CH3 F CI CH=CH2
CH3 F CI CHO 〉300 CH3 F CI cccccccccccccccc ccc 1 n tr C0CH3 〉300
3333333 333333333333
CH3 F CI C0C2H5 250-251 CH3 F CI COC3H7 275-277 CH3 F CI C0CH2C1 253-254 CH3 F CI C0CH2Br 248-250 CH3 F CI COCF3 248-250 CH3 F CI CO 288-290
C】
CH3 F CI CO
CH3 F CI COOH 299-300 CH3 F CI COOCH3 >300 CH3 F CI COOC3H7- 1
CH3 F CI C00CH2CH2C1
Figure imgf000015_0001
CH3 CI CH3 coo-Q
CH3 CI CH3 CH=NOCH3 239-241 CH3 CI CH3 CH=顧 292-295 CH3 CI CH3 C (CH3) =NOCH3 268-273 CH3 CI CH3 C (CH3) =NOH CH3 CI H3 C (CH3) =N0C2H5 H3 CI CH3 CH2N' (CH3) 2 198-200 CH3 CI CH3 CN 〉300 CH3 CI CH3 CI 252-2o¾ CH3 CI CH3 Br 281 -285 (表 8 ϊ
Figure imgf000016_0001
(表 9 )
Figure imgf000017_0001
(表 1 0
化合物 R Rl R2 R3 ≠ R5 融点 (て） 番号
284 F F H H 11
285 CH3 F F H CH3 H 264-266
286 CH3 F F H C2H5 II
287 CH3 F F H CH2Br H
288 CH3 F F H CH (CH3)Br H
289 CH3 F F H CHO H
290 CH3 F F H COCH3 H
291 CH3 F F H CH2SC113 H
292 CH3 F F H CH2S0CH3 H
293 CH3 F F H CH2S02CH3 If
294 CH3 F F H CH (CH3)SCH3 H
295 CH3 F F H CH (CH3)S0CH3 f(
296 CH3 F F H CH(CH3)S02CH3 H
297 Cll3 F F H CH (CH3)0H H
298 CH3 F F H CH(CH3)0CH3 H
299 CH3 F F H C(CH3) 20H H
300 CH3 F F H C(CH3)2S02CH3 II
301 CH3 F F H H CH3
302 CH3 F F H H CHO
303 CH3 F F 11 11 COCH3
304 CH3 F F H H C0CH2C1
305 CH3 F F H H C0CH2Br
306 H3 F F H H COOH
307 CH3 F F H H COOCH3
308 CH3 F F H H C(CH3)=N0H
13 F F 11 H CH= 0CH3
310 CH3 F F H H CI
311 CH3 F F H 11 Br
312 CH3 F F i! H CH20H
313 CH3 F F H H CH2OCH3
314 ひ l3 F F H H SCH3
315 H3 F F H H S02CH3
316 CH3 F F H CH3 CH3 (表 1 1 )
化合物 R Rl R2 R3 R5 融点 (°c) 番号
317 H3 F F H CH3 CHO
318 CH3 F F H CH3 COCH3 150-154
319 CH3 F ]· H CH3 C0CH2C1 134-136
320 CH3 F F H CH3 C0CH2Br
321 CH3 F F H CH3 C00H
322 CH3 F F H CH3 COOCH3
323 CH3 F F H CH3 C (CH3) =N0CH3 82- 84
324 CH3 F F H CH3 CH=N0CH3
325 CH3 F F H CH3 CI
326 CH3 F F H CH3 Br
327 CH3 F F H CH3 CH20H
328 CH3 F F H CH3 CH20CH3
329 CH3 F F H CH3 SCH3 201 -202
330 CH3 F F H CH3 S02CH3 294-297
331 CH3 F Br H H H
332 CH3 F Br H CH3 H
333 CH3 F Br H CH (CH3) Br H
334 CH3 F Br H CH (CH3)0H H
335 CH3 F Br H CH (CH3) OCH3 H
336 H3 F Br H CH (CH3) S02CH3 H
337 H3 F Br 11 H COCH3
338 CH3 F Br H CH3 COCH3
339 CH3 CI CI H H H
340 CH3 CI CI H H3 H
341 CH3 11 CI H H H
II Π u
し n3 CH3 H
343 CH3 F H CH3 H H
344 CH3 F H H H H 203-204
345 CH3 Br H H 11 H
346 CH3 Br H H CH3 H
347 CH3 F CI CH3 H H 218-219
348 CH3 F CI C2H5 1! H
349 ひ 13 F CI 3H7- i H H (表 1 2 )
化台物 Rl R2 R3 ≠ R5 融点 (て） 番
350 CH3 F CI CH2CH2C1 H H
351 CH3 F CI S02CH3 H H
352 CH3 F CI so2c2H5 H H
353 Il3 F CI S02CH2C1 H H
354 CH3 F CI COCH3 H H
355 CH3 F CI COC3H7-1 H H
356 CH3 F CI C0CH2C1 H H
357 CH3 F CI CONHC2H5 H H
358 CH3 F CI CON(CH3)2 H H
359 CH3 F CI COOCH3 I] II
360 CH3 F CI C00C2H5 H H
361 CH3 F CI H3 H Br 194-195
362 CH3 F CI CH3 H COCH3 165-166
363 CH3 F CI CH3 Br Br 153-156
364 CH3 F CI CH3 CH3 H 222-223
365 CH3 F CI S02CH3 CH3 H 184-186
366 CH3 F CI COCH3 CH3 H
367 H3 F CI CONHCH3 CH3 H
368 H3 F CI CON(CH3)2 CH3 H
369 CH3 F CI COOCH3 CH3 H 171-172
370 CH3 F CI CH3 CH3 COOCH3 160-161
371 CH3 F F CH3 H H
372 H F CI H H H
373 H F CI H CH3 H >300
374 F CI H H H
375 Cゥ Hr F CI H CHQ H
376 C3H7 F CI 11 H H
377 C3H7 F CI H CH3 H
378 NH2 F CI H H H
379 NH2 F CI H CH3 H 283-285
380 NH2 F CI H H COCH3
381 NH2 F CI 11 CH3 COCH3 (表 1 3 )
化合物 R Rl R2 R3 R4 5 融点 (て） 番号
382 NH2 F F H H H
383 NH2 F F H CH3 H
384 NH2 F F H H C0Cli3
385 NH2 F F H Cl COCH3
386 NH2 F CI CH3 H H
387 NH2 F F CH3 H H
388 CH3 F CI H CH2Br Br 141 - 143 (分解）
389 CH3 F CI H CH20CH3 Br 184- 185
p H
1 Cl CHQSCHQ Br 制定不可
391 CH3 F CI H CH2S02CH3 Br 283-284
392 CH3 F Cl H CH20H Br 134- 135 (分解）
393 CH3 F Cl H CH20C2H5 Br
394 CH3 F Cl H CH20C2H5 H
395 H3 F Cl 11 CH2SC2H5 Br
396 CH3 F Cl H CH2S02C2H5 Br
397 CH3 F Cl H CH2S02C2H5 H
(表 1 4 )
Figure imgf000022_0001
化合物 R Rl R2 R3 ≠ R5 融点 (。C) 番号
398 CH3 F CI H H H
399 CH3 F CI H CH3 H 298-299
CI H O
400 CH3 F C2H5 H
401 CH3 F CI H C3H7 11
402 CH3 F CI H C3H7- 1 H
403 CH3 F CI H - H
404 CH3 F CI H CHO H
405 CH3 F CI H CH20H H
406 CH3 F CI H CH2OCOCH3 H
407 CH3 F CI H CH=N0CH3 H
408 CH3 F CI H COCH3 H
409 CH3 F CI H CH2S02CH3 H
410 CH3 F CI H CH20CH3 H
411 CH3 F CI H C00I! H
412 CII3 F CI H C00C2H H
413 H3 F CI H H
414 CH3 F CI H CONHCH3 H
415 CH3 F CI H CN H
416 CH3 F CI H CH3 CH3
417 CH3 F CI H CH3 SCH3 279-281
418 CH3 F CI H CH3 S02CH3 297-298
419 CH3 F CI H CH3 COCH3
420 CH3 F CI H CH3 COCF3 285-286
421 CH3 F CI H CH3 I 245-247
422 CH3 F CI H CH3 CHO 296-297 (表 1 5 )
化合物 R Rl 2 R3 ≠ Φ 融点 (て） 番
423 CH3 F CI CH3 CH3 H 180- 182
424 CH3 F CI CH3 C2H5 II
425 CH3 F CI CH3 CIIO II
426 CH3 F CI CH3 CH20H H
427 CH3 F CI CH3 CH20CH3 H
428 CH3 F CI H3 COCH3 II
429 CH3 F CI CH3 COOH H
430 F CI CH3 COOC2H5 H
431 CH3 F CI C2H5 CH3 H 172- 175
432 C"3 F CI ¾H5 C2 H
433 CH3 F CI C2H5 CHO H
434 CH3 F CI C2H5 CH20H H
435 CH3 F CI C2H5 CH20CH3 H
436 CH3 F CI 2H5 COCH3 H
437 CH3 F CI C2H5 COOH n
438 CH3 F CI ¾H5 C0OC2H5 H
439 CH3 F CI C3H7 CH3 H 168- 171
440 CH3 F CI C3H7 C2 H
441 CH3 F CI ¾H7 CHO !1
442 CH3 F CI C3H7 CH20H H
443 CH3 F CI C3H7 CH2OCH3 H
444 CH3 F CI C3H7 COCH3 H
445 CH3 F CI 3H7 COOH H
446 CH3 F CI 3H7 C00C2H5 H
447 CH3 F CI C3H7- 1 CH3 H
448 CH3 F CI C3H7- i H
449 CH3 F CI C3H7- 1 CHO H
450 CH3 F CI C3H7- 1 CH20H H
451 CH3 F CI C3H7- 1 CH2OCH3 H
452 CH3 F CI C3H7- 1 COCH3 H
453 CH3 F CI C3H7 - i COOH H
454 CH3 F CI C3H7 - i C00C2H5 H (表 1 6 ) 化合物 R >1 J R4 RD 融点（ C) 畨
455 CH3 F Cl S02CH3 CH3 H
456 CH3 F CI S02CF3 CH3 H
457 CH3 F CI COCH3 Cll3 H
458 CH3 F CI COCF3 H3 H
次に、 製造中間体の具体例を表 1 7に記載する。 (表】 7 )
Figure imgf000025_0001
中間体 R Λ Rl R2 融点 (°C) 番号
1 II N02 F F
2 H N02 F CI 156-158
3 H N02 CI F
4 H N02 CI CI
5 H N02 F Br o
6 H3 N02 F F
7 CH3 N02 F CI 123-124
8 CH3 N02 CI F
9 CH3 N02 CI CI
10 CH3 N02 F Br
11 CH3 NH2 F F 119- 121
12 CH3 NH2 F CI 140-142
13 CH3 NH2 CI F
14 CH3 NH2 CI CI
15 CH3 NH2 F Br
16 H N02 H F
17 H N02 H CI
18 H N02 H Br
19 CH3 N02 H F
20 CH3 N02 H CI
21 CH3 N02 H Br
22 CH3 NH2 H F
23 CH3 NH2 H CI
24 CH3 NH2 H Br 次に、 本発明化合物の一般的製造法について説明する <
製造法 1
Figure imgf000026_0001
A - 4 A - 5
Figure imgf000026_0002
(式中、 しは例えばハロゲン原子等の脱離基を表し、 R 1 0はアルキル基を表 し、 R 1 1は水素原子、 アルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキルアルキ ル基、 置換されていてもよいベンジル基又は置換されていてもよいフヱニル基を 表し、 R 1 2はアルキル基、 ハロアルキル基又は置換されていてもよいフェニル 基を表し、 R 1及び R はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 当該の 2， 4一ジ置換ァニリンのァミ ノ基をクロロギ酸フヱニルにより保護 し、 中間体 A— 1を得ることができる。 これをザ · ジャーナル 'ォブ ·オルガ二 ック ' ケ ミ ス トリー （ J . O r g. C h e m. ) 第 4 6巻， 第 3056頁一第 3060頁 （ 1 98 1年） 記載の方法に従って、 トリフルォロ酢酸無水物存在 下、 クロ口ホルム等のハロゲン系溶媒中で硝酸アンモニゥ厶と反応させ、 6位を 位置選択的に二卜口化し中間体 A— 2を得ることができる。 これを適当な溶媒 中、 塩基存在下に 3—ァミノ— 4, 4， 4一 トリフルォロクロトン酸ェチルと反 応させることにより、 ゥラシル中間体 A— 3を得ることができる。 その後、 ゥラ シルの 1位を常法によりアルキル化し中間体 A— 4とした後、 さらにニ卜口基を 適当な方法により還元することにより中間体 A— 5を得ることができる。 中間体 A - 5をオルガ二ック ' シンセセズ （O r g a n i c S y n t h e s e s) コ レクチブ 'ボリユウム第 6巻， 第 60 1頁一第 605頁 （ 1 988年） 記載の方 法によりイン ドールに導き、 本発明化合物 A— 6を製造することができる。 さら に、 本発明化合物 A— 6のイン ドール環 3位のアルキルチオ基、 ハロアルキルチ ォ基又は置換されていてもよいフェニルチオ基をテトラへドロン . レターズ (Te t r a h e d r o n L e t t e r s) 第 34卷， 第 1 3号， 第 2059 頁一第 2062頁 （ 1 993年） 又はザ · ジャーナル ·ォブ ·オルガニック . ケ ミストリ— （J. O r g. C h em. ) 第 59巻， 第 6372頁一第 6377頁 ( 1994年） 記載の方法により脱離させることにより本発明化合物 A - 7を製 造することができる。
化合物 A - 6から化合物 A - 7の製造において化合物 A - 6の R 1 1が水素原 子の場合は、 例えば卜リフルォロ酢酸のみで化合物 A - 6を処理する反応条件で 一般式
Figure imgf000028_0001
(式中、 R 丄、 R 2、 R 1 0及び R 1 はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） に 示される本発明化合物の混合物を製造することができる。
化合物 A - 3、 化合物 A - 4、 化合物 A - 5、 化合物 A - 6及び化合物 A - 7 の製造において、 溶媒としては例えばトルエン、 キンレンもしくはメ シチレン等 の芳香族炭化水素類、 アルコール類、 ハロゲン化炭化水素類、 炭化水素類、 1， 4―ジォキサンもしくはテ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N , N—ジメチル ホルムアミ ド等のアミ ド類、 ジメチルスルホキシ ドもしくはスルホラン等の硫黄 化合物又はァセトニトリル等の二ト リル類などが挙げられる。 さらに、 塩基とし ては例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属等の水素化物、 水酸化物、 炭酸化 合物、 炭酸水素化合物もしくは有機酸塩、 卜リエチルァミ ン、 1 , 8 -ジァザビ シクロ [ 5 . 4 . 0 ] — 7 —ゥンデセンもしくはピリジン等の有機塩基、 リチウ 厶ジィソプロピルァミ ドもしくはノルマルブチルリチウム等の有機金属化合物又 はカリウム t 一ブトキシ ドもしくはナトリウムメ 卜キシ ド等のアルコキシ ド類が 挙げられる。 反応温度は - 7 5 °Cから溶媒の還流温度までの範囲であり、 反応時 間は 5分間から 2 4時間までである。 さらに、 A— 4から A— 5への反応に用い られる還元条件としては、 エタノール中で塩化第一スズニ水和物による還元又は 酸触媒存在下、 鉄粉による還元等が挙げられるがこの限りではない。 製造法 2
Figure imgf000029_0001
B-2
Figure imgf000029_0002
B— 3
(式中、 R 1 R 、 R 1 0、 R 1 1及び R 1 はそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ） 特開昭 6 3 - 4 1 4 6 6号公報記載の公知の方法により得られる化合物 B - 1 をオルガニック . シンセセズ （O r g a n i c S y n t h e s e s ) コレクチ プ 'ボリユウム第 6巻， 第 6 0 1頁一第 6 0 5頁 （1 98 8年） 記載の方法によ りインドールに導き、 本発明化合物 B— 2を製造することができる。 さらに、 本 発明化合物 B— 2のイン ドール環 3位のアルキルチオ基、 ハロアルキル基又は置 換さ れていて も よいフ エ 二ルチオ基をテ ト ラ へ ド ロ ン · レ タ ー ズ (T e t r a h e d r o n L e t t e r s ) 第 34巻， 第 1 3号， 第 205 9 頁—第 20 6 2頁 （ 1 9 9 3年） 又はジャーナル ·ォブ · オルガニック . ケミス トリ— （J . O r g. C h e m. ) 第 5 9巻， 第 6 3 7 2頁—第 6 3 7 7頁 ( 1 994年） 記載の方法により脱離させることにより本発明化合物 B— 3を製 造することができる。
化合物 B - 2から化合物 B - 3の製造において化合物 B - 2の R 1 1が水素原 子の場合は、 例えば卜リフルォロ酢酸のみで化合物 B - 2を処理する反応条件で -般式
Figure imgf000030_0001
B' - 3
(式中、 R 1、 R "、 R 1 0及び R 1 2はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） に 示される本発明化合物の混合物を製造することができる。
用いられる溶媒、 塩基及び反応温度は前記製造法 1における A - 3等の製造の 為の条件と同じである。
製造法 3
Figure imgf000031_0001
(式中、 R 1 R 2、 R 3、 R 4及び R 5はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 当該の置換ィン ドール化合物 C一 1のァミノ基を適当な溶媒中、 塩基存在下に クロ口ギ酸フヱニルと反応させることにより、 中間体 C 一 2を得ることができ る。 これを適当な溶媒中、 塩基存在下に 3—ァミ ノ— 4 , 4， 4 一 トリフルォロ クロ 卜ン酸ェチルと反応させることにより、 本発明化合物 C— 3を製造すること ができる。
ここで溶媒としては例えばトルエン、 キシレンもしくはメシチレン等の芳香族 炭化水素類、 ハロゲン化炭化水素類、 炭化水素類、 1 , 4 一ジォキサンもしくは テトラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N， N—ジメチルホルムアミ ド等のアミ ド 類、 ジメチルスルホキシ ドもしくはスルホラン等の硫黄化合物又はァセトニ卜 リ ル等の二ト リル類などが挙げられる。 さらに、 塩基としては例えばアルカリ金厲 又はアルカリ土類金属等の水素化物、 水酸化物、 炭酸化合物、 炭酸水素化合物も しくは有機酸塩、 トリェチルァミ ン、 1 , 8 —ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] 一 7—ゥンデセンもしくはピリ ジン等の有機塩基、 リチウムジイソプロピルアミ ド もしくはノルマルブチルリチウム等の有機金属化合物又は力リウム t 一ブトキシ ドもしくはナト リウムメ トキシ ド等のアルコキシ ド類が挙げられる。 反応温度は 一 7 5 °Cから溶媒の還流温度までの範囲であり、 反応時間は 5分間から 2 4時間 までである。
なお、 化合物 C— 1は例えば以下の方法 （ a g ) によって製造することかで きる。 方法 a
化合物 C 一 1のうち、 R R 及び R が水素原子である化合物、 例えば
[vm] は、 以下の方法によって製造することができる。
Figure imgf000032_0001
2
(式中、 R 及び R —はそれぞれ前記と同じ意味を表し、 P Nはモノもしくはジ アルキルカルボニルァミ ノ基、 モノ もしくはジハロアルキルカルボニルァミ ノ 基、 モノ もしくはジアルキルスルホニルァミ ノ基、 モノもしくはジハロアルキル スルホニルァミ ノ基、 テトラヒ ドロフタルイ ミ ノ基又はフタルイ ミ ノ基等の保護 基 Pを持つァミノ基を表す。 ） 当該のフヱニルァセトニトリル化合物 Iを発煙硝酸等の二卜口化剤で二卜口化 して化合物 Πとした後、 二ト口基を例えば酸触媒存在下、 鉄粉で還元して化合物 mを得ることができる。 化合物 mのアミ ノ基を適当な保護基で保護して化合物 ΐλ· とした後、 発煙硝酸等の二トロ化剤で二 ト口化して化合物 Vを得ることかでき る。 化合物 Vのニ トロ基をケ ミ ス ト リ 一 ' レ夕一ズ （C h e m i s t r \- L e t t e r s) 第 259頁一第 260頁 （1 975年） 記載の方法に準じて還 元して化合物 VIを得ることができる。 化合物 VIを、 シンセティ ック ' コ ミ ュ二 ケーシ ヨ ンズ （S y n t h e t i c C o mm u n i c a t i o n s ) 24 巻， 第 6号， 第 839頁一第 848頁 （ 1 994年） 記載の方法に準じて水素化 ジイソブチルアルミニウムでシァノ基を還元し、 加水分解後、 閉環する方法によ る力、、 又はジャーナル ' ォブ ' ジ ' アメ リ カン ' ケ ミ カル . ソサイァティ 一 (J . Am. C h e m. S o c. ) 第 7 8巻， 第 3 6 98頁一第 3 7 0 1頁 ( 1 956年） 記載の方法に準じて含水溶媒中、 パラジウム炭素触媒存在下で水 素添加する方法により化合物 Wを得ることができる。 最後に、 保護基を取り除く ことによって化合物 を製造することができる。 方法 b
化合物 C一 1のうち、 R 3、 R 4が水素原子で R 5がアルキル基、 シクロアル キル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 置換されていてもよいべ ンジル基、 シァノアルキル基、 カルボキシアルキル基又はアルコキシカルボニル アルキル基である化合物 [X] は、 以下の方法によって製造することができる。
Figure imgf000033_0001
(式中、 R 1及び R 2はそれぞれ前記と同じ意味を表し、 Lは例えばハロゲン原 子等の脱離基を表し、 R 1 3はアルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキル アルキル基、 ハロアルキル基、 置換されていてもよいべンジル基、 シァノアルキ ル基、 カルボキシアルキル基又はアルコキシカルボニルアルキル基を表す。 ） 前記化合物 IIの活性メチレン基を、 シンセティ ッ ク ' コ ミ ュニケーシ ョ ンズ (S y n t h e t i c C ommu n i c a t i o n s 24 ½, 弔 6 ， 8 3 9頁—第 8 4 8頁 （ 1 9 9 4年） 、 テ ト ラ へ ド ロ ン ' レ タ ー ズ (T e t r a h e d r o n L e t t e r s ) 第 32巻， 第 4 9号， 第 7 1 95 頁一第 7 1 98頁 （ 1 99 1年） 、 シンセシス （S y n t h e s i s ) 第 663 頁一第 664頁 （1 980年） 又はリービッヒズ ' アンナ一レン ' デル 'へミー (L i e b i g s A n n a 1 e n d e r C h em i e ) 第 203¾ - 208頁 （ 1 988年） 記載の方法に準じて、 脱離基を持つアルキル基、 シクロ アルキル基、 ハロアルキル基、 置換されていてもよいべンジル基、 シァノアルキ ル基、 力ルボキシアルキル基又はアルコキシ力ルポニルアルキル基と塩基存在下 で反応させることにより化合物 IXを得ることができる。 この化合物] Xを、 化合物 ΠΙから化合物 への製造法 （方法 a) に準じて変換して、 化合物 Xを製造するこ とができる。 方法 c
化合物 C— 1のうち R 4がアルキル基で R 及び R Jが水素原子である化合物 X I Xは、 以下の方法によって製造することができる。
CH2CN CH2COOH CH2C0C1
II XI XII
Figure imgf000035_0001
(式中、 R 1 R2、 R 6及び PNはそれぞれ前記と同じ意味を表す c 前記化合物 Πをヘルべチカ ' キ ミ 力 · ァク タ （H e 1 V e t i c a C h i m i c a Ac t a) 第 38卷， 第 463頁—第 467頁 （1 955年） 記載の方法に準じて 50%硫酸中加熱することにより化合物 XIとした後、 これを ジャーナル · ォブ 'ザ ' ケミ カル ' ソサイァティ一 （J. C h em. S o c. ) 第 287 1頁—第 2875頁 （1 955年） 記載の方法に準じてベンゼン中、 塩 化チォニルと反応させ酸クロリ ド ΧΠを得ることができる。 これに、 シンセテイ ツ ク ' コ ミ ュ ニ ケ ー シ ョ ン ズ （ S y n t h e t i c C o mm u n i c a t i o n s ) 第 1 5巻， 第 1 2号， 第 1 0 3 9頁—第 1 04 9頁 （1 985年） 記載の方法に準じて例えばアルキルマロン酸ジェチル を反応させ化合物 xmとした後、 さらにジャーナル · ォブ · ザ · ケミカル ' ソサ ィァティ一 （J. C h e m. S o c. ) 第 287 1頁—第 2875頁 （ 1955 年） 記載の方法に準じて化合物 XIVを得ることができる。 次に、 方法 aと同様に 化合物 XIVから 3行程で化合物 χνπに変換した後、 これを例えば酢酸触媒下、 酢 酸ェチルー水混合溶媒中、 鉄粉と加熱することにより還元、 閉環して化合物 XVI とした後、 保護基を取り除くことによって化合物 X IXを製造することができる。 なお、 化合物 Π、 化合物 XIV、 化合物 XVI又は化合物 XVEの活性メチレン基を 種々の試薬と反応後、 上記反応を行えば、 R 4がアルキル基で R 5に種々の置換 基を持つ化合物 C- 1を製造することができる。 方法 d
化化合合物 C一 1のうち R 4がアルコキシカルボ二ルメチル基で R 及び R 3が水 素原子である化合物 XX mは、 以下の方法によって製造することができる。
Figure imgf000036_0001
(式中、 R 1 R 、 R 6及び PNはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 前記化合物 XIを還元した後、 ァミノ基に保護基を導入し、 さらにニトロ化して 得られる化合物を塩化チォニルと反応させて、 化合物 X Xを得ることができる。 得られた化合物 XXを、 ジャーナル ·ォブ 'ザ ' ケミカル ' ソサイァティ一 ·ぺ ルキン · トラ ンスアク シ ョ ンズ 1 ( J . C h e m. S o c. P e r k i n T r a n s. 1 ) 第 673頁—第 679頁 （ 1 990年） 記載の方法に準じてメ ノレドラム酸と反応させた後、 アルコール分解する方法又はオルガニック · シンセ セズ （O r g a n i c S y n t h e s e s ) 第 72卷， 第 1 25頁一第 1 34 頁 （ 1 994年） 記載の方法に準じて化合物 XX Iを得ることができる。 これを 例えば酢酸触媒存在下、 酢酸ヱチル-水混合溶媒中、 鉄粉と加熱することにより 還元、 閉環し化合物 XX Πを製造し、 最後に保護基を取り除く ことによって化合 物 X X mを製造することができる。 方法 e
化合物 C一 1のうち R 4がアルコキシメチル基又はアルキルチオメチル基で R 3及び R 0が水素原子である化合物 XX IV又は XX Kは、 以下の方法によって 製造することができる。
R
0
Figure imgf000038_0001
Hヮ
Figure imgf000038_0002
(式中、 R】、 R 2、 R 1 0及び P Nはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 前記化合物 X Xを例えばアルコキシマロン酸ジメチル又はアルキルチオマロン 酸ジメチルと反応させた後、 加水分解、 脱炭酸して化合物 X X IVとした後、 ニト 口基の還元、 保護基 P Nを取り除くことによって、 アルコキシアルキル基又はァ ルキルチオァルキル基を持つ化合物 X X VI又は化合物 X X IXを製造することがで きる。
方法 ί
化合物 C一 1のうち R 4がアルキルカルボニルメチル基で R 3及び R "か水素 原子である化合物 X X X Πは、 '以下の方法によつて製造することができる (
Figure imgf000039_0001
(式中、 R ]、 R 2、 R 1 0及び PNはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 前記化合物 X Xからアルキルカルボニルァルキル基を持つ化合物 X X X Πを製 造することができる。
なお、 化合物 XXの代わりに活性メチレン基に種々の置換基が導入された化合 物を方法 d、 方法 e又は方法 f の反応に使用すれば、 R 5に種々の置換基を持つ 化合物 C一 1を製造することができる。 方法 g
化合物 C一 1のうち R 4がアミ ノ基で R 3及び R 5が水素原子である化合物 X XXVは、 以下の方法によって製造することができる。
Figure imgf000039_0002
(式中、 R 1 R 、 R 1 ϋ及び PNはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 前記化合物 Vに方法 bに準じて R 1 3基を導入し、 更に二ト口基を還元して製 造できる化合物 X X X ΙΠを溶媒中で加熱閉環後、 保護基 P Nを取り除く ことによ つて化合物 X X X Vを製造することができる。 上記方法 （a , c〜g ) により得られる、 保護基 P Nを持ち、 が水素原子 であるインドール化合物 C— 1を出発物質として、 親電子反応により、 R 3に 種々の置換基を導入後、 保護基 P Nを取り除くことにより種々の置換基を持つィ ン ド一ル化合物 C 一 1を製造することができる。 又、 上記方法 （a〜g ) により得られる、 保護基 P Nを持ち、 R 3が水素原子 であるィン ドール化合物 C 一 1を出発物質として、 本製造法 7に準じて R 3に 種々の置換基を導入後、 保護基 P Nを取り除くことにより種々の置換基を持つィ ン ドール化合物 C一 1を製造することができる。 更に保護基 P Nを持つ種々のィンドール化合物を出発物質として、 以下に述べ る製造法 8〜 2 9の方法又は叢書 （メ トーデン ' デル ' オルガニッシヱン 'へ ミー 第 E 6 b 2巻， 第 8 4 9頁—第 1 3 3 6頁 1 9 9 4年） に記載された方 法に準じて、 置換基を導入若しくは変換後、 保護基 P Nを取り除くことによって さらに種々の化合物 C一 1を製造することができる。
製造法 4
Figure imgf000041_0001
(式中、 R 1 R 2、 R 3、 R 4、 及び R 5はそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ） 当該の置換ィンドール化合物 D— 1のァミノ基を適当な溶媒中、 塩基存在下に クロ口ギ酸フヱニルと反応させることにより中間体 D— 2を得ることができる。 これを適当な溶媒中、 塩基存在下に 3—アミノー 4 , 4 , 4 一トリフルォロクロ トン酸ェチルと反応させることにより、 本発明化合物 D— 3を製造することがで きる。
ここで溶媒としては例えばトルエン、 キシレンもしくはメシチレン等の芳香族 炭化水素類、 ハロゲン化炭化水素類、 炭化水素類、 1， 4 一ジォキサンもしくは テ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N， N—ジメチルホル厶ァミ ド等のァミ ド 類、 ジメチルスルホキシ ドもしくはスルホラン等の硫黄化合物又はァセトニトリ ル等の二卜リル類などが挙げられる。 さらに、 塩基としては例えばアルカリ金属 又はアルカリ土類金属等の水素化物、 水酸化物、 炭酸化合物、 炭酸水素化合物も しくは有機酸塩、 トリェチルァミ ン、 1 , 8 —ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] — 7—ゥンデセンもしくはピリジン等の有機塩基、 リチウムジイソプロピルアミ ド もしくはノルマルブチルリチウム等の有機金属化合物又は力リウム t —ブトキシ ドもしくはナト リウムメ トキシ ド等のアルコキシ ド類が挙げられる。 反 fT、温度は - 7 5 °Cから溶媒の還流温度までの範囲であり、 反応時間は 5分間から 24時間 までである。
なお、 化合物 D— 1は例えば以下の方法によって製造することができる。
R1 R
O
Figure imgf000042_0001
XXXVII XXXVIII
R
Figure imgf000042_0002
(式中、 R 1 R 2及び PNはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ）
テ トラへドロン - レターズ (T e t r a h e d r o n L e t t e r s ) 32巻， 第 49号， 第 7 1 95頁一第 7 1 98頁 （ 1 99 1年） 記載の方法に準 じて化合物 X X X VIから製造できるキー中間体化合物 X X X VIIを、 化合物 X X X
VB1, 化合物 XX XIX及び化合物 XLへ変換した後、 製造法 3で記載した方法 （ a 〜g) に準じて化合物 D- 1アルキルカルボニル基、 を製造することができる。
製造法 5
Figure imgf000042_0003
C - 3又は D— 3 C一 4又は D - 4
(式中、 R j、 R 2、 R3、 R4、 R 5、 R 1 0及び Lはそれぞれ前記と同じ意 味を表す。 ） 本発明化合物 C - 3又は本発明化合物 D— 3のゥラシル環の 1位に、 適当な溶 媒中、 適当な塩基存在下、 化合物 R 1 0— Lを反応させることにより、 本発明化 合物 C一 4又は本発明化合物 D - 4を製造することができる。
この反応は通常、 溶媒中塩基の存在下、 反応温度 0〜 1 0 0てで0 . 5〜2 4 時間反応させる。 反応に供される試剤の量は化合物 C 3又は化合物 D— 3が 1 当量に対して化合物 R 1 0— Lは 1〜 1 0当量、 塩基は 1〜 1 . 5当量である。 溶媒としてはクロ口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチル エーテル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン等の芳香族 炭化水素類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 アセ トン、 メチルイ ソ プチルケ ト ン等のケ トン類、 酢酸ェチル等のエステル類、 N， N—ジメチルホル ムアミ ド等のアミ ド類、 ジメチルスルホキシ ド、 スルホラン等の硫黄化合物又は それらの混合物が挙げられる。 塩基としては、 水素化力リゥム、 水素化ナトリゥ ム、 炭酸力リゥム等の無機塩基、 ナ ト リ ウムェ 卜キシ ド、 ナ ト リウムメ 卜キシ ド 等のアル力リ金属アルコキシド等が挙げられる。 製造法 6
Figure imgf000043_0001
C一 3又は D— 3 C一 5又は D - 5
(式中、 R 1 R 2、 R J、 R 4及び R 5はそれぞれ前記と同じ意味を表し、 G はメタンスルホニルォキシ基、 p — トルエンスルホニルォキシ基又は 2 , 4 —ジ ニトロフヱノキシ基を表す。 ） 本発明化合物 C一 3又は本発明化合物 D— 3のゥラシル環の 1位に、 適当な溶 媒中、 適当な塩基存在下、 化合物 G— N Hりを反応させることにより、 本発明化 合物 C - 5又は本発明化合物 D - 5を製造することができる。 この反応は通常、 溶媒中、 塩基の存在下、 反応温度 0 1 0 0 °Cで 0 . 5
2 4時間反応させる。 反応に供される試剤の量は化合物 C 3又は化合物 D - 3 が】 当量に対して化合物 G— N H 2は 1 1 0当量、 塩基は 1 1 . 5当量であ る。 溶媒としてはクロ口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチ ルエーテル、 テ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン等の芳香 族炭化水素類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、 アセトン、 メチルイ ソブチルケ 卜ン等のケ 卜ン類、 酢酸ェチル等のエステル類、 メチルホルムァミ ド 等のアミ ド類、 ジメチルスルホキシ ド、 スルホラン等の硫黄化合物又はそれらの 混合物が挙げられる。 塩基としては、 水素化力リウ厶、 水素化ナト リ ウム、 炭酸 力リウム等の無機塩基、 ナトリウムエトキジ ド、 ナトリウムメ 卜キシ ド等のアル カリ金属アルコキシ ド等が挙げられる。 製造法 7
Figure imgf000044_0001
E一 1 E - 2
(式中、 R 1 44はアルキル基、 ハロアルキル基、 アルキルスルホニル基、 ハロア ルキルスルホニル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアルキルカルボニル基、 アル コキシカルボニル基、 N モノアルキル力ルバモイル基又は N N—ジアルキル 力ルバモイル基を表し、 R 1 R R R 4 5
R R 1 0及び Lはそれぞ れ前記と同じ意味を表す。 ） 本発明化合物 E - 1のィン ドール環 1位に、 適当な溶媒中、 適当な塩基存在下 又は非存在下、 当該のアルキル化試薬、 ァシル化試薬又はアルキルイソシァネー トを反応させることにより、 本発明化合物 E— 2を製造することができる。 ここで用いられる溶媒、 塩基及び反応温度は前記に同じである。 例えばテトラ ヒ ドロフラン中、 リチウムジイソプロピルアミ ド存在下、 当該のアルキルハラィ ドとを— 7 8 °Cで反応させる方法等が挙げられるがこの限りではな t
ホルミ ル化
J一 2
Figure imgf000045_0001
ルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキル アルキル基、 ハロアルキル基、 置換されていてもよいべンジル基、 置換されてい てもよいフエニル基、 、 ジアルキルアミ ノアルキル基、 ハロゲン原子、 ジアルキ ルァミ ノ基、 アルキルスルホニルァミ ノ基、 ハロアルキルスルホニルァミ ノ基、 置換されていてもよいフヱニルスルホニルァミ ノ基、 アルキルカルボニルァミ ノ 基、 ハロアルキルカルボニルァミノ基、 置換されていてもよいべンゾィルァミ ノ 基、 シァノアルキル基、 アルキルカルボニルアルキル基、 カルボキシアルキル基 又はアルコキシカルボニルアルキル基を表し、 R 1 R 2、 R 3及び R 1 0はそ れぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 本発明化合物 J — 1のイン ドール環 3位を、 例えば N , N—ジメチルホル厶ァ ミ ド中でォキシ塩化リンを反応させるビルスマイヤ一 （V i 1 s m e i e r ) 反 応か、 又は例えばジクロロメタン中でルイス酸存在下、 ジクロロメチルアルキル エーテルを用いる方法 [実験化学講座 （第 4版） 、 第 2 1卷、 第 1 1 0頁] によ りホルミル化し、 本発明化合物 J 一 2を製造することができる。
ここでルイス酸としては、 例えば塩化アルミニウム、 塩化第二鉄、 三フッ化ホ ゥ素、 三臭化ホウ素、 三塩化ホウ素、 塩化第二スズ又は塩化亜鉛等の金属ハロゲ ン化物が挙げられる。 製造法 9
Figure imgf000046_0001
J一 1 J一 3
(式中、 R 11 6Uはアルキル基、 ハロアルキル基、 シクロアルキル基、 アルケニル 基、 アルキニル基、 アルコキシアルキル基、 アルキルチオアルキル基、 アルキル スルホニルアルキル基又は置換されてもよいフェニル基を表し、 L 1はハロゲン 原子を表し、 R R R R 1 0及び R 1 Dはそれぞれ前記と同じ意味を 表す。 ） 本発明化合物 ·！ 一 1のイン ドール環 3位を、 適当な溶媒中、 適当なルイス酸存 在下、 当該のアンルハライ ド又は当該の酸無水物を反応させるいわゆるフリーデ ルクラフ ト （F r i e d e 1 — C r a f t s ) 反応によりァシル化し、 本発明化 合物 J 一 3を製造することができる。
ここで溶媒としては、 例えばジクロロベンゼンもしくはトリクロ口ベンゼン等 の芳香族炭化水素類、 ハロゲン化炭化水素類、 ニトロメタン等のニトロ化炭化水 素類などが挙げられる。 ルイス酸としては、 例えば塩化アルミニウム、 塩化第二 鉄、 三フッ化ホウ素、 三臭化ホウ素、 三塩化ホウ素、 塩化第二スズ又は塩化亜鉛 等の金属ハロゲン化物が挙げられる。 反応温度は- 7 5 °Cから溶媒の還流温度ま での範囲であり、 反応時間は 5分間から 2 4時間までである。 製造法 1 0
Figure imgf000046_0002
J一 1 J一 4 (式中、 R R 、 R 、 R 1 0及び R 1 5はそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ） 本発明化合物 J— 1のイ ン ドール環 3位を、 例えばザ ' ジャーナル ' ォブ ' ォ ルガニッ ク ' ケミ ス ト リ一 （ J . O r g. C h em. ) 第 4 6巻， 第 3056頁 一第 3060頁 （1 981年） 記載の方法に従ってクロロホルム等のハロゲン系 溶媒中で卜リフルォロ酢酸無水物存在下、 硝酸アンモニゥ厶と反応させる方法に より二トロ化し、 本発明化合物 J一 4を製造することができる。 製造法 1 1
Figure imgf000047_0001
J - 1 J - 5
(式中、 R 1、 R 、 R 3、 R 1 0及び R 1 0はそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ） 本発明化合物 J一 1のイ ン ドール環 3位に、 例えばオルガニック · シンセセズ (O r g a n i c S y n t h e s e s ) 第 6 1巻， 第 8頁—第 1 3頁 (1 983年） 記載の方法に従ってカルボキシル基を導入して本発明化合物 J - 5を製造することができる。
ここで用いられる溶媒、 ルイス酸及び反応温度は製造法 6と同じであり、 反応 条件としてはジクロ口メタン中、 塩化ォキザリルと塩化アルミニウムによる方法 等が挙げられるがこの限りではない。 製造法 1 2
Figure imgf000048_0001
J一 1 J一 6
(式中、 R 1、 R R 3、 R 1 0及び R 1 5はそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ） ' 本発明化合物 J ― 1 の イ ン ドール環 3位に、 例えばシ ンセ シ ス ( S y n t h e s i s ) 第 3 7 4頁 （ 1 9 7 8年） 記載の方法に従つてシァノ基 を導入して本発明化合物 J — 6を製造することができる。 製造法 1 3
Figure imgf000048_0002
(式中、 R 1 R 、 R 3、 R 1 0、 R 1 "及び L 1はそれぞれ前記と同じ意味 を表す。 ） 本発明化合物 J 一 1のインドール環 3位に、 ハロゲン化剤を反応させることに より本発明化合物 J 一 7を製造することができる。
溶媒としては、 例えばクロ口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 テ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 ベンゼン、 トルエン等 の芳香族炭化水素類、 へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類又はこれらの混 合物が挙げられる。 ハロゲン化剤としては、 塩素、 臭素、 ヨウ素、 Ν—クロロコ ハク酸ィ ミ ド又は Ν—プロモコハク酸ィミ ド等が挙げられる。 臭素化の場合は、 ジメチルスルホキシ ド溶媒中で臭化 t一ブチルを反応させる方法により得る二と もできる。 製造法 14
Figure imgf000049_0001
J一 1 J一 8
(式中、 R 1 R 、 R 3、 R 6、 R 1 0及び R 1 °はそれぞれ前記と同じ意味 を表す。 ） 本発明化合物 J一 1のイン ドール環 3位に、 例えばジクロロメタン中、 マンニ ッヒ （Ma n n i c h) 反応でジアルキルァミ ノアルキル基を導入して本発明化 合物 J一 8を製造することができる。 製造法 15
Figure imgf000049_0002
(式中、 1、 R 及び R 1 0はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 本発明化合物 j _ 9を四塩化炭素溶媒中、 触媒の存在下又は非存在下、 3当量 以上の N—プロモコハク酸ィミ ド （NBS) と反応させた後、 亜硫酸水素ナ卜リ ゥム水で処理することにより本発明化合物 J - 10を製造することができる。 角虫媒としては、 過酸化べンゾィル、 α, a' —ァゾビスイソプチロニトリル等 が挙げられる。 製造法 1 6
一般式 [1] で示される化合物の中で、 R 4又は R Jがアルコキシィ ミ ノアル キル基又はヒ ドロキシイ ミ ノアルキル基である本発明化合物は、 R ½又は R ¾が 基一 COR D (式中、 R 6は前記と同じ意味を表す。 ） である本発明化合物を一 般式 NH 9OR 6 (式中、 R 6は前記と同じ意味を表す。 ） で示される化合物又 はその硫酸塩もしくは塩酸塩と例えばメタノール中で反応させることにより製造 することができる。
製造法 1 7
一般式 [1] で示される化合物の中で、 R4又は R 5がァミ ノ基である本発明 化合物は、 R 4又は R "が二卜口基である本発明化合物を例えば酢酸触媒下、 酢 酸ェチルー水の混合溶媒中、 鉄粉で還元することにより製造することができる。 このアミ ノ基はさらに、 公知の方法に従ってジアルキルアミ ノ基、 モノアルキ ルァミ ノ基、 アルキルスルホニルァミ ノ基、 ハロアルキルスルホニルァミノ基、 置換されていてもよいフヱニルスルホニルァミ ノ基、 アルキルカルボニルァミ ノ 基、 ハロアルキルカルボニルァミ ノ基又は置換されていてもよいベンゾィルァミ ノ基等に導く ことができる。 製造法 1 8
一般式 [1] で示される化合物の中で、 R4又は R 5が基— SO n R 1 2 (式 中、 R 1 2は前記と同じ意味を表す。 ） である本発明化合物は、 R4又は R が 基一 SR 1 (式中、 R 1 2は前記と同じ意味を表す。 ） である本発明化合物を メタクロ口過安息香酸又は過酸化モノ硫酸カリウム （商品名ォキソン） 等の酸化 剤で酸化することにより製造することができる。
溶媒としては、 例えばクロ口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類又 はアルコール一水の混合溶媒等が挙げられる。 製造法 1 9
一般式 [1] で示される化合物の中で、 R，又は R 5がアルコキシカルボニル 基、 ハロアルコキシ力ルポニル基又は置換されていてもよいべンジルォキシカル ボニル基である本発明化合物は、 R 又は R ΰがカルボキシル基である本発明化 合物を一般式 R 1 5 - L (式中、 R 1 ΰはアルキル基、 ハロアルキル基又は置換 されていてもよいベンジル基を表し、 Lは前記と同じ意味を表す。 ） で示される 化合物と塩基存在下で反応させる方法、 又は一般式 R 1 °-0Η (式中、 R 1 5 及びしは前記と同じ意味を表す。 ） で示される化合物と例えばテ トラヒ ドロフラ ン中、 ァゾ化合物及び卜リフエニルホスフィ ン存在下で光延反応させる方法によ り製造することができる。
ァゾ化合物としては例えばァゾジカルボン酸ジェチルが挙げられる。 製造法 20
一般式 [1] で示される化合物の中で、 只 4又は!¾ 3が基—€1"1 (R 0Η (式中、 R ' は前記と同じ意味を表す。 ） である本発明化合物は、 1¾4又は1^ 5 が基一 C OR (式中、 R ' は前記と同じ意味を表す。 ) である本発明化合物を 還元剤で還元することにより製造することができる。 例えばテトラヒ ドロフラン 溶媒中、 水素化ジィソブチルアルミニウムと反応させる方法が挙げられるがこの 限りではない。 製造法 2 1
一般式 [1] で示される化合物の中で、 R，又は RJが基— CH (R 1 ) 0H である本発明化合物は、 R 4又は R 5がホルミル基である本発明化合物を対応す るグリニャール試薬 R 1 Mg B r (式中、 R丄 7はアルキル基、 シクロアルキ ル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 アルコキシアルキル基、 アルキルチオアルキル基又はアルキルスルホニルアルキル基を表す。 ） と例えば テトラヒ ドロフラン等のエーテル溶媒中で反応させることにより製造することが できる。 製造法 2 2
一般式 [ 1 ] で示される化合物の中で、 R 4又は R 3が基一 C ( R 1 ) ( R 1 0 ) 0H (式中、 ！^ァ及び!^ 1 0はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） で ある本発明化合物は、 R "1又は R が基 - C OR 7である本発明化合物を対^す るク ·'リ二ヤール試薬 R 1 0 M g B rと例えばテ トラヒ ドロフラン等のエーテル ¾ 媒中で反応させることにより製造することができる。 製造法 2 3
一般式 [ 1 ] で示される化合物の中で、 1¾ 4又は 1¾ 5が基— (R 6 ) (R 7 ) L 1である本発明化合物は、 1¾ 4又は1^ 5が基—じ (R 6 ) (R 7 ) 0 Hである本発明化合物をハロゲン化剤を用いてハロゲン化することにより製造 することができる。 （式中、 R 6、 R 7及び L 1はそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ）
ハロゲン化剤としては、 塩化水素、 臭化水素、 三塩化リ ン、 三臭化リ ン等が挙 げられる。 溶媒としては、 例えば酢酸等の酸類又はテトラヒ ドロフラン等のエー テル類が挙げられる。
製造法 24
一般式 [ 1 ] で示される化合物の中で、 1¾ 4又は1^ 5が基ー (R 6 ) (R ' ) Z R である本発明化合物は、 4又は1¾ "が基— 0 (R ° ) (R ' ) L 1である本発明化合物を一般式 R。 S H又は一般式 R " 0Hで示される化合物 と反応させることにより製造することができる。 （式中、 R 0、 R ' 、 R 9、 Z 及び L 1はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ）
溶媒としては例えば、 トルエン、 キシレン、 メ シチレン等の芳香族炭化水素 類、 アルコール類、 ハロゲン化炭化水素類、 脂肪族炭化水素類、 1， 4 -ジォキ サン、 テ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N， ジメチルホルムア ミ ド等の 了ミ ド類、 ジメチルスルホキシ ド、 スルホラン等の硫黄化合物又はァセ 卜二ト リ ル等の二トリル類が挙げられる。 塩基としては例えば、 アルカリ金属又はアル力 リ土類金属の水素化物、 水酸化物、 炭酸化合物、 炭酸水素化合物もしくは有機酸 塩、 ト リェチルァ ミ ン、 1 , 8—ジァザビシクロ 「5. 4. 0] 一 7—ゥンデセ ン、 ピリ ジン等の有機塩基、 リチウムジイソプロピルア ミ ド、 ノルマルブチルリ チゥ厶等の有機金属化合物又はカ リ ウム t—ブ卜キシ ド、 ナ ト リウムメ トキシ ド 等のアルコキシ ド類が挙げられる。 製造法 25
一般式 [〗 ] で示される化合物の中で、 R 4又は R "がァミ ノアルキル基、 アルキルア ミ ノアルキル基、 ジアルキルァ ミ ノアルキル基である本発明化合物 は、 1¾ 4又は1¾ 5が基— (R D) (R D ) L 1である本発明化合物を一般式 R 6 (R 6 ) NHで示される化合物と反応させることにより製造することができ る。 （式中、 R D及び L 1はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ）
溶媒と しては例えば、 トルエン、 キシ レン、 メ シチレン等の芳香族炭化水素 類、 アルコール類、 ハロゲン化炭化水素類、 脂肪族炭化水素類、 4 -ジォキ サン、 テ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N, N—ジメチルホル厶ア ミ ド等の アミ ド類、 ジメチルスルホキシ ド、 スルホラン等の硫黄化合物又はァセ トニトリ ル等の二 ト リル類が挙げられる。 塩基としては例えば、 アル力リ金属又はアル力 リ土類金属の水素化物、 水酸化物、 炭酸化合物、 炭酸水素化合物もしくは有機酸 塩、 ト リェチルァミ ン、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] - 7—ゥンデセ ン、 ピリ ジン等の有機塩基、 リチウムジイソプロピルアミ ド、 ノルマルプチルリ チゥム等の有機金属化合物又はカリウム t一ブトキン ド、 ナ トリウムメ トキシ ド 等のアルコキシ ド類が挙げられる。 製造法 26
一般式 [ 1 ] で示される化合物の中で、 1¾ 4又は1¾ 5が基— (R 6 ) (R ' ) WR 9である本発明化合物は、 R 4又は R 5が基— c (R 0) (R 1 ) SR 9である本発明化合物をメタクロ口過安息香酸又は過酸化モノ硫酸カリウム (商品名ォキソン） 等の酸化剤で酸化することにより製造することができる。 (式中、 R 6、 R 1 , R 9及び Wはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 溶媒としては例えば、 クロ口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類又 はアルコール -水の混合溶媒等が挙げられる。 製造法 27
一般式 [ 1 ] で示される化合物の中で、 1¾ 4又は 5か基— I R 6 ) CR ' ) OR 1 ° (式中、 R 1 0はアルキルカルボニル基、 ハロアルキルカルボ ニル基、 シクロアルキルカルボニル基、 置換されていてもよいベンゾィル基、 N モノアルキル力ルバモイル基、 N, N ジアルキルカルパ'乇ィル基、 M モノ アルキル （チォ力ルバモイル） 基、 N, N ジアルキル （チォカルパモイル） 基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキルスルホニル基又は置換されていてもよ ぃフヱニルスルホニル基を表す。 ） である本発明化合物は、 R 4又は R 3が基- C (R 6) (R ' ) 0Hである本発明化合物を塩基存在下もしくは非存在下、 当 該のアルキル化試薬、 ァシル化試薬、 スルホニル化試薬、 アルキルイソシァネー 卜又はアルキルィソチオシァネ一 トと反応させることにより製造することができ る。
溶媒としては例えば、 トルエン、 キシレン、 メ シチレン等の芳香族炭化水素 類、 アルコール類、 ハロゲン化炭化水素類、 脂肪族炭化水素類、 1, -】 -ジォキ サン、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N, N ジメチルホルムアミ ド等の アミ ド類、 ジメチルスルホキシ ド、 スルホラン等の硫黄化合物又はァセトニ卜リ ル等の二トリル類が挙げられる。 塩基としては例えば、 アルカリ金属又はアル力 リ土類金属の水素化物、 水酸化物、 炭酸化合物、 炭酸水素化合物もしくは有機酸 塩、 ト リェチルァミ ン、 1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] — 7—ゥンデセ ン、 ピリ ジン等の有機塩基、 リチウムジイソプロピルァミ ド、 ノルマルブチルリ チゥム等の有機金属化合物又はカリウム t ブトキシ ド、 ナトリウムメ トキシ ド 等のアルコキシド類が挙げられる。 製造法 28
一般式 U] で示される化合物の中で、 4又は 5が基— (R D ) - C (R 6) (R 6) である本発明化合物は、 R 4又は R 5がアルキルカルボニル基 である本発明化合物をウィティ ッヒ試薬と塩基存在下で反応させることにより製 造することができる。 （式中、 R 6は前記と同じ意味を表す。 ） 溶媒としては例えば、 トルエン、 キシ レン、 メ シチレン等の芳香族炭化水素 類、 アルコール類、 ハロゲン化炭化水素類、 脂肪族炭化水素類、 】， 4 -ジォキ サン、 テ トラヒ ドロフラン等のエーテル類、 N , N—ジメチルホルムア ミ ド等の ア ミ ド類、 ジメチルスルホキシ ド、 スルホラン等の硫黄化合物又はァセ 卜二 ト リ ル等の二トリル類が挙げられる。 塩基としては例えば、 アルカリ金属又はアル力 リ土類金属の水素化物、 水酸化物、 炭酸化合物、 炭酸水素化合物もしく は有機酸 塩、 卜 リエチルァ ミ ン、 1 , 8 —ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] 一 7—ゥンデセ ン、 ピリ ジン等の有機塩基、 リチウムジイソプロピルア ミ ド、 ノルマルプチルリ チゥム等の有機金属化合物又はカリウム t ーブトキシ ド、 ナ ト リウムメ 卜キシ ド 等のアルコキシド類が挙げられる。
製造法 2 9
Figure imgf000055_0001
J 一 1 1 J一 12
(式中、 R、 R 】 、 R 、 R 3及び R 4はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ）
本発明化合物 J 一 1 1を例えば、 酢酸ェチル又はエタノール溶媒中、 パラジゥ ム炭素触媒存在下で水素添加することにより本発明化合物 J - 1 2を製造するこ とができる。
[発明を実施するための最良の形態]
以下に具体的な製造例を示す。
製造例 1
3— (' 4 —クロロー 6 —フルオロー 2 —メチルー 3 —メチルチオイ ン ド一ルー 7 一 イルク 一 1 一メチル一 6 — ト リ フルォロメチル— 1 , 2 , 3， 4 —テ 卜 ヒ ド 口ピリ ミ ジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 24 5 ) の製造
4 一クロ口一 2—フルォロー 6—二トロフヱ二ルカルバ'ミ ン酸フェニルの製造
4—クロロー 2—フルオロフェニルカルバミ ン酸フエニル 5 0 g ( 0. 1 8 8 モル） のクロロホルム 500 m l溶液に、 無水卜リ フルォロ酢酸 1 0 0m 1 と硝 酸アンモニゥム 1 8. 1 g ( 0. 2 2 6モル） を室温で加え、 一昼夜撹拌した。 その後、 硝酸アンモニゥム 3. 0 g (0. 0 3 7モル） を加え、 室温で 8時間撹 拌を続けた。 反応液を水中に投入し、 中和後、 水で洗浄し、 無水硫酸ナ ト リウム で乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣を結晶化させて目的物 5 5. 2 g (収率 94. 49ό、 融点 1 0 5〜 1 0 9 °C) を得た。
3— （4一クロロー 2—フルオロー 6—ニ トロフエニル） 一 6— ト リ フルォロメ チル一 1 , 2, 3, 4ーテ 卜ラヒ ドロピリ ミジン— 2, 4—ジオン （中間体番号 2 ) の製造
3—ア ミ ノ ー 4 , 4 , 4 — ト リ フルォロクロ ト ン酸ェチル 3 8. 5 g ( 0. 2 1モル） の N， N—ジメチルホルムア ミ ド 3 0 Om i 液に、 1 , 8—ジァザ ビシクロ [5. 4. 0] — 7—ゥンデセン （DB U) 3 9. 9 g ( 0. 2 6 2モ ル） を一 1 0°Cで滴下した。 滴下終了後、 — 1 0°Cで 3 0分撹拌の後、 粗製のフ ェニル 4 一クロロー 2—フルオロー 6—二 トロフエ二ルカーバメ一 卜 54. 3 g (0. 1 7 5モル） を— 1 0°Cで少しづつ添加した。 反応液はそのまま室温 で一昼夜撹拌した後、 8 0°Cで 5時間加温した。 反応液を氷水中に投入し、 pH 4とした後、 ジェチルエーテルで抽出した。 抽出液を水洗の後、 分液した。 このエーテル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、 水層を p H 4に戻し た後、 再度酢酸ェチルで抽出し、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リウムで乾 燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をジイソプロピルエーテルにて結晶化させて目 的物 3 3. 8 g (収率 54. 7 %、 融点 1 5 6〜 1 5 8 °C) を得た。
3— （4一クロロー 2—フルオロー 6—二 トロフエニル） 一 】 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー i , 2 , 3 , 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン (中間体番号 7 ') の製造
3— （-1—クロロー 2—フルオロー 6—二トロフヱニル） 一 6 -- ト リ フルォロ メチルー 1 , 2 , 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2， 4 ージオン 3 3. 8 g
( 0. 0 9 6モル） 、 無水炭酸カリウム 2 7. 6 g (0. 2モル） 及びァセ 卜二 トリル 300 m 1の混合液にヨウ化メチル 28. 4 g (0. 2モル） を室温で滴 下した。 滴下終了後、 加熱還流下で 8時間撹拌した。 室温まで放冷した後、 不溶 物を瀘別し、 減圧下で濃縮した。 濃縮残渣を酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を 水で洗浄し、 無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をジィソ プロピルエーテルにて結晶化させて目的物 2 8. 7 g 〔収率 8 ] . 80/ό、 融点
1 2 3〜 1 24°C) を得た。
3— （6—ア ミ ノー 4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1 ーメチルー 6— 卜 リ フルォロメチル一 1 , 2 , 3 , 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン (中間体番号 1 2) の製造
3— （4一クロロー 2—フルオロー 6—二 トロフヱニル） 一 1 —メチル— 6— ト リフルォロメチル一 1， 2， 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジォ ン 6 8. 9 g (0. 1 87モル） と塩化第一スズニ水和物 2 1 1. 4 g ί 0. 9 3 7モル） 及びエタノール 5 0 0m l の混合液を加熱還流下で 3時間撹拌し た。 反応液を水中に投入し、 1 0 %水酸化ナ卜リゥム水 i¾液で中和した。 酢酸ェ チルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒 を減圧留去後、 残渣をジイソプロピルエーテルにて結晶化させて目的物 5 0. 9 g (収率 80. 4 %、 融点 1 4 0〜 1 4 2 °C) を得た。
3— （4一クロロー 6—フルォ口一 2—メチルー 3—メチルチオィ ン ドール一 7 一ィル） 一 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ 卜ラヒ ド 口ピリ ミ ジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 24 5) の製造
3 - ( 6—ア ミ ノー 4一クロ口一 2—フルオロフェニル） 一 1 —メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジォ ン 3 3. 8 g ( 0. 1モル） の乾燥ジクロロメ タン 2 0 0m l溶液に、 次亜塩素 酸 t —ブチル 1 0. 9 g ( 0. 1モル） の乾燥ジクロロメ タン 5 0 m 1 ¾液を窒 素気流下— 7 0°Cで滴下した。 ― 6 5°Cで 1時間撹拌し、 次いで （メチルチオ） アセ トン 1 0. 4 g ( 0. 1モル） を乾燥ジクロロメ タン 5 0m l に溶解した ¾ 液を - 6 5 °C〜 - 6 0 °Cの温度範囲で滴下した。 同温度で 1時間撹拌した後、 ト リエチルァ ミ ン 1 0. l g ( 0. 1モル） のジクロロメ タ ン 5 0 m 1溶液を加 え、 同温度で 1時間撹拌した。 反応液は水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥 した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフィ ーにて精製 して目的物 7. 8 g (収率 1 8. 5 %、 融点 2 5 0〜 2 6 0 °C) を得た。 製造例 2
3— （4—クロロー 6—フルォロー 2—メチルイ ン ドール一 7—ィル 一 1 —メ チルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2 , 3 , 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一
2, 4ージオン （化合物番号 2) の製造
3 - (4一クロ口一 6—フルオロー 2—メチルー 3—メチルチオィ ン ドール一
7—ィル） 一 1 —メチル一 6— ト リ フルォロメチル一 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン 6. 0 g CO. 0 1 4モル） と ト リ フルォロ酉 酸 1 0 0m 1の溶液に、 チォサリチル酸 4. 4 g ( 0. 0 2 8モル） を一度に加 え、 室温で一昼夜撹拌した。 ト リ フルォロ酢酸を減圧下に留去した後、 残渣に酢 酸ェチルを加えた後、 氷冷下に 1 0%水酸化ナ卜リゥム水溶液を加え撹拌した。 酢酸ェチル層を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去 後、 残渣をジイソプロピルエーテルで結晶化させて目的物 4. 8 g (収率 9 0.
6 %、 融点 280〜 2 8 6 °C) を得た。 製造例 3
3— （7—クロロー 5—フルオロー 2—メチルー 3—メチルチオイ ン ドール一 4 一ィル） 一 】 一メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2， 3, 4ーテ 卜ラヒ ド 口ピリ ミ ジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 4 1 7 ) の製造
3— （5—アミ ノー 4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1 —メチルー 6— 卜 リ フルォロメチル一 1， 2， 3 , 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジォ ン 33. 8 g (0. 1 00モル） のジクロロメ タン 350m l溶液を、 窒素気流 下、 一 65 °C〜― 70てまで冷却した。 この冷却溶液に、 次亜塩素酸 t―プチル 1 0. 9 g (0. 1 0◦モル） をジクロロメ タ ン 50 m 1に溶かした溶液を一 65 °Cで滴下し、 一 65 °C〜― 70 °Cで 1時間撹拌した。 次に、 （メチルチオ） アセ トン 1 0. 4 g (0. ] 00モル） をジクロロメ タン 50m lに溶かした ¾ 液を一 65°Cで滴下した後、 一 65°C〜― Ί 0°Cで 1時間撹拌した。 卜リェチル ァミ ン 1 5. 2 g (0. 1 50モル） をジクロロメ タ ン 50m lに溶かした溶液 を— 65 °Cで滴下した後、 一 65°C〜一 70°Cで 1時間撹拌後、 室温で一昼夜撹 拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄 し、 無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をエタノールから 再結晶させて目的物 1 6. 7 g (収率 39. 6%、 融点 279〜 28 1°C) を得 た。 製造例 4
3— （7—クロロー 5—フルオロー 2—メチルイ ン ドールー 4一ィル） 一 1—メ チルー 6— ト リ フルォロメチルー 1， 2, 3 , 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン -- 2, 4—ジオン （化合物番号 399 ) の製造
3 - (7—クロロー 5—フルォロー 2―メチル一 3—メチルチオイン ドール一 4一ィル） 一 1—メチルー 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2， 3, 4—テ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン一 2， 4ージオン 1. 0 g (0. 0024モル） 、 チォサリチル 酸 0. 9 g (0. 0058モル） をト リフルォロ酢酸 1 00m 1に溶解し、 室温 で 3日間撹拌した。 減圧下で卜リフルォロ酢酸を留去した後、 残渣に酢酸ェチル を加え、 5%水酸化ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した。 有機層を分離し、 無水硫酸ナトリゥムにて乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をシリ力ゲル力ラム クロマ トグラフィーにて精製して目的物 0. 4 g (収率 44. 4 %、 融点 298 〜 299°C) を得た。 製造例 5
3— （4一クロロー 6—フルォ口イ ン ドール一 7—ィル） 一 1一メチル― 6― ト リフルォロメチルー ] , 2， 3, 4 —テ トラヒ ドロピリ ミ ジン _ 2. ジオン
(化合物番号 1 ) の製造
3— （ 4 一クロ口一 6—フルォロイ ン ドールー 7—ィル） 一 6— ト リ フルォロ メチルー 1 , 2 , 3 , 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン 】 1. 4 g
(0. 1 1 9モル） 、 無水炭酸カリ ウム 4 1. 5 g ( 0. 3 00モル） 及び1\, N—ジメチルホルムアミ ド 2 0 0 m 1 の混合液にヨウ化メチル 4 2. 6 g (0. 30 0モル） を氷冷下で滴下した。 滴下終了後、 室温で 2時間撹拌した。 反応液 を水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜 リ ゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣を結晶化させて目的物 3 0. 4 g
(収率 7 0. 7 %、 融点 24 6〜 24 7 °C) を得た。 製造例 6
3— （7—クロロー 1 , 2—ジメチルー 5—フルォロイ ン ド一ルー 4一ィル） ― 1—メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1， 2, 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジ ン— 2, 4 - ジオン （化合物番号 4 2 3 ) の製造
3— （ 7—クロ口一 5—フルオロー 2—メチルイ ン ドールー 4一ィル） 一 1一 メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 1 , 2, 3, 4—テ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン 1. O g ( 0. 0 0 2 7モル） の乾燥テ ト ラ ヒ ドロフラ ン 5 0m l溶液を、 窒素気流下、 一 7 0 °Cに冷却した。 この溶液中にリチウムジィ ソプロピルァミ ド （2. 0Mヘプタン、 テ 卜ラヒ ドロフラン、 ェチルベンゼン溶 液） 2. 2m l (0. 0044モル） を一 6 0°C以下で滴下した。 滴下後— 7 0 °Cで 2時間撹拌し、 次にヨウ化メチル 0. 6 g (0. 004 2モル） を— 65°C 〜一 70てで滴下し、 さらに— 70 °Cで 1時間撹拌を続けた。 反応液は室温で一 昼夜撹拌し、 氷水中に投入した後、 酢酸ェチルで抽出した。 抽出液を水及び飽和 食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥した。 溶媒を減圧下に留去後、 残渣 をシ リ カゲルカラムク ロマ トグラフ ィ 一にて精製して目的物 0. 3 g (収率 3 0. 0 %、 融点 1 8 0〜 1 8 2 °C) を得た。 製造例 7 3— （4 一 クロロー 6—フルオロー 1 ーメ 卜キシカルボニル一 2 —メチルイ ン ドール一 7—ィル） 一 1 一メチル— 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4 - テ トラ ヒ ドロピリ ミジン一 2， 4 —ジオン （化合物番号 3 6 9 ) の製造
3— （ 4 —クロロー 6—フルオロー 2—メチルイ ン ド一ルー 7—ィル） 一 1 — メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2， 3， 4ーテ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4 — ジオン 1. O g ( 0. 0 0 2 7モル） の乾燥テ ト ラ ヒ ドロフラ ン 5 0m l溶液に、 ノルマルブチルリチウム （ 1. 64 Mノルマルへキサン溶液） 2. 5m l (0. 004モル） を一 6 0°C以下で滴下した。 滴下後一 7 0。Cで 2 時間撹拌し、 次にクロロギ酸メチル 0. 4 g (0. 0 04 2モル） を一 6 5て〜 一 7 0 °Cで滴下し、 さらに— 7 0 °Cで 1時間、 室温で 1 2時間撹拌した。 反応液 を水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜 リゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をシリカゲルカラムクロマ卜グラフ ィ一にて精製して目的物 0. ] g (収率 8. 5%、 融点] 7 1〜 1 7 2°C) を得 た。 製造例 8
3— （4一クロ口一 6—フルオロー 3—ホルミル一 2—メチルイン ドール一 7— ィル） 一 1 一メチル一 6— ト リ フルォロメチル一 1， 2, 3, 4ーテトラヒ ドロ ピリ ミジン一 2 , 4—ジオン （化合物番号 1 94 ) の製造
3— （4—クロロー 6—フルオロー 2—メチルイ ン ドール一 7—ィル） 一 1 一 メチルー 6— トリ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4ージオン 3. 4 g ( 0. 009 1モル） の N, N—ジメチルホルムア ミ ド 1 00m 1溶液に、 氷冷下、 ォキシ塩化リ ン 1 3. 8 g ( 0. 090モル） を滴 下した。 滴下終了後、 室温で一昼夜撹拌し、 氷水中に投入した。 この酸性水溶液 を炭酸水素ナ卜リウ厶で中和し、 酢酸ェチルで数回抽出した。 抽出液を合わせ、 水及び飽和食塩水で洗浄した後、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥した。 溶媒を减圧留 去後、 得られた結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して目的物 3. 4 g (収率 9 1. 9 %、 融点 3 00 °C以上） を得た。 製造例 9
3 - (3—ァセチルー 4一クロロー 6—フルオロー 2—メチルイン ドール— 7— ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロ ピリ ミ ジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 1 95) の製造
3— ( 4—クロ口 _ 6—フルオロー 2 _メチルイン ドールー 7—ィル） 一 1一 メチルー 6— ト リフルォロメチル一 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジオン 1. 2 g ( 0. 0032モル） のニ トロメ タン 80 m 1溶液に、 無水塩化アルミニウム 4. 3 g ( 0. 032モル） を室温で一度に加え、 次に塩 化ァセチル 2. 8 g ( 0. 036モル） を室温で滴下した。 滴下終了後、 室温で 一昼夜撹拌を铙けた。 反応液を希硫酸と氷の混合液に投入し、 酢酸ェチルで抽出 した後、 抽出液を飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液、 水及び飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 得られた結晶をジィソプロ ピルエーテルで洗浄して目的物 1. 0 g (収率 74. 9 %、 融点 300°C以上） を得た。 製造例 1 0
3— (4—クロロー 6—フルオロー 2—メチルー 3—二 トロイン ドール一 7—ィ ル） 一 1一メチル一 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2， 3, 4—テ トラヒ ドロピ リ ミジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 2 1 8) の製造
3— （4一クロ口一 6—フルオロー 2—メチルイン ド一ルー 7—ィル） 一 1— メチルー 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジオン 1. 00 g (0. 0027モル） 、 硝酸アンモニゥム 1. 54 g (0. 0 1 92モル） 及びクロ口ホルム 20m 1の混合液に卜 リフルォロ酢酸無 水物 6. 00 g (0. 0286モル） を 5。(：で滴下した。 滴下終了後、 室温で 4 時間撹拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸ヱチル 20 Om 1で抽出し、 飽和炭 酸水素ナ 卜 リゥム水溶液、 さらに水で洗浄後、 無水硫酸マグネシゥムにて乾燥し た。 溶媒を減圧留去後、 残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフィーにて精製し て目的物 0. 39 g (収率 34. 8%、 融点 300°C以上） を得た。 製造例 1 1
4一クロロー 6—フルオロー 2—メチルー 7— （ 1—メチルー 6— ト リ フルォロ メチル一 1 , 2 , 3 , 4ーテ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン _ 2 , 4—ジオン - - 3—ィ ル） イ ン ドール— 3—力ルボン酸 （化合物番号 203 ) の製造
無水塩化アルミニウム 1 0. 7 g ( 0. 080モル） を 200 m 1のジクロ口 メ タンに懸濁させた中に塩化ォキザリル 1 0. l g (0. 080モル） を室温に て滴下した。 同一温度にて 30分間撹拌した後、 これに 200 m 1のジクロロメ 夕ンに溶かした 3— （4一クロロー 6—フルォ口一 2—メチルイン ドール— 7— ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2， 3, 4ーテ 卜ラヒ ドロ ピリ ミジン一 2， 4—ジオン 3. 0 g (0. 080モル） を室温で滴下した。 滴 下終了後、 室温で一昼夜撹拌を続けた。 反応液を希塩酸中に投入し、 酢酸ェチル で抽出した。 有機層を飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶 媒を減圧留去後、 得られた結晶をジィソプロピルエーテルで洗浄して目的物 2. 3 g (収率 67. 6 %、 融点 299〜 300 °C) を得た。 製造例 1 2
3 - (4一クロロー 3 _シァノ一 6—フルォロ一 2—メチルイン ドールー 7—ィ ル） 一 1一メチル一 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピ リ ミ ジン一 2， 4—ジオン （化合物番号 2 1 5) の製造
3— （4—クロロー 6—フルオロー 2—メチルイ ン ド一ルー 7—ィル） 一 1一 メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 1 , 2， 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン 0. 8 g (0. 002 1モル） のァセ 卜二 ト リル 20m l溶液 に、 クロロスルホニルイソシァネー ト 0. 3 g ( 0. 0021モル） のァセ トニ ト リル 5 m 1溶液を 0てで滴下した。 滴下後、 0。Cで 0. 5時間撹拌した。 次 に、 トリェチルァミン 0. 45 g (0. 0045モル） を室温で滴下し、 同温で 0. 5時間撹拌した。 反応液を希塩酸と氷の混合液に投入し、 酢酸ェチルで抽出 した後、 抽出液を飽和炭酸水素ナ ト リウム水溶液、 水及び飽和食塩水の順で洗浄 し、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をシリカゲルカラ ムク ロマ トグラフィーにて精製して目的物 0. 32 g (収率 37. 6%、 融点 300 °C以上） を得た。 製造例 1 3
3— (3， 4ージクロロー 6—フルォロイン ドール一 7—ィル） 一 1― メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 1 , 2, 3, 4ーテ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4 - ジオン （化合物番号 26 1 ) の製造
3— （4一クロ口一 6—フルォロイン ド一ルー 7—ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リフルォロメチルー 1, 2, 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジォ ン 0. 5 g (0. 00 1 4モル） 、 N—クロロコハク酸イ ミ ド 0. 2 g (0. 00 1 5モル） 及びァセトニトリル 50 m 1の溶液を加熱還流下で 2時間撹拌し た。 反応液を冷却した後、 減圧下で溶媒を留去した。 残渣に水を加え、 酢酸ェチ ルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥した。 溶媒を 減圧留去後、 残渣をシリカゲルカラムクロマ卜グラフィ一にて精製して目的物 0. 4 g (収率 72. 0%、 融点 204〜206°C) を得た。 製造例 1 4
3— [4—クロ口一 3— (N, N—ジメチルア ミ ノ メチル） 一 6—フルォロ一 2 一メチルイン ドール一 7—ィル] — 1—メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミジン一 2, 4—ジオン （化合物番号 2 1 4 ) の
3— （4一クロロー 6—フルオロー 2—メチルイン ドール一 7—ィル） 一 1— メチルー 6— ト リフルォロメチルー 1, 2, 3, 4—テトラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジオン 0. 5 g (0. 00 13モル） 、 ヨウ化 N, N—ジメチルメチレ ンアンモニゥム 0. 3 g (0. 00 1 6モル） 及びジクロロメ タン 50m lの溶 液を室温で 1 2時間撹拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した 後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣を結晶化させて目的物 0. 4 g (収率 7 1. 1 %、 融点 1 98〜 200 °C ) を得た。 製造例 1 5
3— （ 3—ブロモー 4—クロ口一 6—フルオロー 2—ホルミ ルイン ドールー 7— ィル） 一 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4 —テ 卜ラ ヒ ドロ ピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン （化合物番号 2 7 5 ) の製造
3— （ 4一クロ口 _ 6—フルオロー 2—メチルイン ドールー 7—ィル） 一 1 一 メチル _ 6— ト リ フルォロメチルー 1， 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ，ジン一 2, 4 -ジオン 5. 47 g (0. 0 1 5モル） の四塩化炭素 1 5 0m 1溶液に、 N—プロモコハク酸イミ ド 1 2. 4 g (0. 0 1 5モル） を加えた。 さらに、 触 媒量の α， ' ーァゾビスイソプチロニ卜リルと過酸化ベンゾィルを加え、 4時 間加熱還流した。 反応液にクロ口ホルムを加え、 水で洗浄した後、 無水硫酸ナ卜 リゥムで乾燥した。 ¾媒を減圧留去後、 残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製して目的物 1. 3 g (収率 1 9. 0%、 融点 2 2 6〜2 2 8°C) を 得た。 製造例 1 6
3— [4, 6—ジフルオロー 3— （ 1—メ 卜キシイ ミ ノエチル） 一 2—メチルイ ン ドール一 7—ィル] 一 1ーメチルー 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2, 3, 4 —テ トラヒ ドロピリ ミジン一 2 , 4—ジオン （化合物番号 3 2 3 ) の製造
3 - (3—ァセチルー 4, 6—ジフルオロー 2—メチルイ ン ド一ルー 7—ィ ル） 一 1—メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3， 4ーテ トラヒ ドロピ リ ミ ジン一 2 , 4—ジオン 0. 8 g ( 0. 00 20モル） 、 ノ トキシアミン塩酸 塩 0. 3 g (0. 003 6モル） 、 酢酸力リ ウ厶 0. 4 g (0. 004 1モル） 及びメ タノール 5 0 m 1の混合液を加熱還流下で 8時間撹拌した。 反応液を冷却 した後、 減圧下で溶媒を留去した。 残渣に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ ト リウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣 を結晶化させて目的物 0. 7 g (収率 8 1. 4 %、 融点 8 2〜84°C) を得た。 製造例 1 7
3— （4—クロロー 6—フルォロー 2—メチルー 3—メチルスルホニルイ ン ドー ルー 7—ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチル一 1 , 2, 3， 4ーテ ト ラヒ ドロピリ ミジン一 2， 4—ジオン （化合物番号 24 6 ) の製造
3— （4—クロ口一 6—フルオロー 2—メチル一 3—メチルチオイン ドール一 7—ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチル一 1, 2, 3， 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2， 4—ジオン 1. 5 g (0. 0036モル） のクロ口ホル厶 1 0 Om l溶液に、 80%メタクロ口過安息香酸 1. 5 g (0. 0070モル） を加え、 室温で一昼夜撹拌した。 反応液を飽和炭酸水素ナ卜リウム水 ¾液中に投 入し、 よく撹拌した後、 クロ口ホルム層を分液した。 次に、 このクロ口ホルム/ を水、 飽和亜硫酸水素ナトリゥム水溶液、 水、 飽和炭酸水素ナ卜リウム水 ¾液、 水の順で洗浄し、 無水硫酸ナトリゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 得られた 結晶をジイソプロピルエーテルで洗净して目的物 1. 3 g (収率 79. 60/ό、 融 点 300°C以上） を得た。 製造例 1 8
3— （4一クロ口一 1, 2—ジメチルー 6—フルオロー 3—メ 卜キシカルボニル イン ドールー 7—ィル） 一 1一メチル— 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2, 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミジン一 2 , 4—ジオン （化合物番号 370) の製造
3— （ 3—カルボキシ一 4一クロ口一 6—フルオロー 2—メチルイ ン ドールー 7—ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リフルォロメチル一 1， 2, 3, 4ーテ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジオン 0. 5 g (0. 00 1 2モル） 、 無水炭酸カリ ゥム 0. 3 g ( 0. 0 0 2 2モル） 及び N， N— ジメ チルホルムア ミ ド
200m 1の混合液にヨウ化メチル 0. 4 g (0. 0028モル） を氷冷下、 滴 下した。 滴下終了後、 室温で 1 2時間撹拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸ェ チルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒 を減圧留去後、 残渣を結晶化させて目的物 0. 4 g (収率 74. 5%、 融点 1 60〜 1 6 1 °C) を得た。 製造例 1 9
3— (4—クロロー 6—フルオロー 3—ヒ ドロキシメチル一 2—メチルイ ン ドー ルー 7—ィル） 一 1—メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 1—テ ト ラヒ ドロピリ ミ ジン _ 2 , 4—ジオン （化合物番号 24 1 ) の製造
3— （4一クロ口 _ 6—フルオロー 3—ホルミル一 2—メチルイ ン ドール— 7 一ィル） 一 1一メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4ーテ トラヒ ド 口ピリ ミ ジン— 2 , 4—ジオン 1. 0 g ( 0. 0025モル） の乾燥テ トラヒ ド 口フラン 5 Om 1溶液に、 水素化ジイソブチルアルミニウム （0. 93Mノルマ ルへキサン溶液） 3. 2m 1 (0. 0030モル） を 0°C以下で滴下した。 滴下 後 0°Cで 1時間撹拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽 出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣を 結晶化させて目的物 0. 7 g (収率 69. 0%、 融点 2 1 8~ 220 °C) を得 た。 製造例 20
3— [3—ブロモ一 4一クロロー 6—フルオロー 2— （1—ヒ ドロキシェチ ル） イン ドール— 7—ィル] — 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2， 3, 4ーテ 卜ラヒドロピリ ミジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 276 ) の製造
3— （3—プロモー 4一クロロー 6—フルオロー 2—ホルミ ルイン ドール— 7 一ィル） 一 1一メチル一 6— ト リ フルォロメチル一 1, 2, 3， 4ーテ 卜ラヒ ド 口ピリ ミ ジン一 2， 4ージオン 0. 94 g (0. 0020モル） のテ トラヒ ドロ フラン 40 m 1溶液に、 メチルマグネシウムプロ ミ ド 0. 92 Mテ トラヒ ドロフ ラン溶液 8. 6m 1 (0. 0080モル） を一 60°Cにて加え、 この反応液を一 60°Cで 2時間撹拌した。 反応液に酢酸ェチルを加え、 クェン酸水溶液及び水で 洗浄し、 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をシ リカゲルカラムクロマ トグラフィーにて精製し、 目的物 0. 37 g (収率 38. 1 %、 融点 1 63〜 1 65°C) を得た。 製造例 2 1
3— （4一クロロー 6 _フルオロー 2—メチルイン ドールー 7—ィル） 一 6— ト リフルォロメチルー 1， 2, 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ί ジン一 2， 4ージオン (化合物番号 373 ) の製造
3—ア ミ ノ ー 4 , 4, 4一 ト リ フルォロク ロ ト ン酸メ チル 7. 0 g ( 0. 038モル） の N, N—ジメチルホル厶ア ミ ド 1 00 m 1溶液に、 1. 8—ジァ ザビシクロ [5. -1. 0] — 7—ゥンデセン 7. 3 g ( 0. 048モル） を 0°C で滴下した。 滴下終了後、 これに粗製の （4一クロロー 6—フルオロー 2—メチ ルイ ン ドールー 7—ィル） 力ルバミ ン酸フヱニル 1 0. 2 g (0. 032モル） を 0てで添加した。 添加終了後、 室温で 1時間撹拌し、 ついで 70 °Cで 4時間撹 拌した。 反応液を氷水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水及び飽 和食塩水で洗浄し、 無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣を シリカゲルカラムクロマ トグラフィーにて精製して目的物 5. 8 g (収率 50. 0%、 融点 300°C以上） を得た。 製造例 22
1一ア ミ ノ ー 3— (4—クロ口一 6—フルォロー 2—メチルイ ン ドール一 7—ィ ル） 一 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4ーテ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2. 4ージオン （化合物番号 379 ) の製造
3— (4—クロ口一 6—フルオロー 2—メチルイ ン ドールー 7—ィル） 一 6— ト リ フルォロメチル一 1， 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジォ ン 1. 0 g (0. 0027モル） 、 2， 4—ジニトロフエノキシァ ミ ン 0. 6 g (0. 03モル） 及び無水炭酸カリウム 0. 4 g ( 0. 0029モル） に N, N 一ジメチルホルムァミ ド 50m 1を加え、 60°Cで 1時間撹拌した。 反応液を水 中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナトリゥ ムで草乞燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をカラムクロマ トグラフィーにて精製し て目的物 0. 7 g (収率 68. 9%、 融点 283〜285。C) を得た。 製造例 23
3— [4—クロロー 6—フルオロー 2— （ 1ーヒ ドロキシェチル） イ ン ドール一 7—ィル] 一 1一メチル一 6— ト リフルォロメチルー 1， 2, 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ミジン— 2， 4ージオン （化合物番号 1 56) の製造 3— [3 —ブロモ— 4 -クロロー 6—フルオロー 2 — （ 】 ー ヒ ドロキシェチ ル） イン ドールー 7—ィル] — 1 —メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2,
3 , 4—テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2 , 4—ジオン 2. 0 g ( 0. 0 04モル） 及び 1 090—ぺラ ジウム炭素 0· 2 1 g ( 0. 0 0 0 2モル） にエタ ノール
5 0m lを加え、 常温常圧下で 3時間水素添加した。 反応液をろ過した後、 ろ液 を減圧留去後、 残渣をカラムクロマ トグラフィ一にて精製して目的物 0. 3 6 g
(収率 2 1. 5 %、 融点 2 28〜 2 3 2 °C) を得た。 製造例 24
3— (3—ブロモー 4—クロロー 6—フルオロー 2—メ トキシメチルイ ン ドール ー 7—ィル） 一 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2， 3, 4ーテ トラ ヒ ドロピリ ミジン一 2， 4—ジオン （化合物番号 3 8 9 ) の製造
3— （ 3—プロモー 2—プロモメチルー 4一クロ口一 6—フルォロイ ン ドール 一 7—ィル） 一 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ トラ ヒ ドロピリ ミ ジン一 2， 4ージオン 1. 0 g ( 0. 0 0 1 9モル） にメ タノール
20m lを加え、 50°Cで 1時間撹拌した。 反応液の溶媒を減圧留去後、 残渣を カラムクロマ トグラフィーにて精製して目的物 0. 7 g (収率 7 6. 0%、 融点 1 84〜 1 8 5て分解） を得た。 製造例 2 5
3— （3—ブロモー 4一クロロー 6—フルオロー 2—メチルチオメチルイン ドー ルー 7—ィル） 一 ； I一メチル— 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3, 4—テ ト ラヒドロピリ ミジン一 2 , 4—ジオン （化合物番号 390) の製造
3 - (3—ブロモ— 2—ブロモメチルー 4一クロロー 6—フルォ口イ ン ド一ル — 7—ィル） 一 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 1 , 2, 3， 4—テ トラ ヒ ドロピリ ミ ジン— 2, 4—ジオン 2. 0 g ( 0. 0 03 7モル） 、 無水炭酸力 リウム 1. l g ( 0. 008モル） 及びメチルメルカブタン （3 0%エタノール 溶液） 1. 2 gに N, N—ジメチルホルムアミ ド 5 0m 1 を加え、 5 0°Cで 1時 間撹拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗 浄し、 無水硫 g ナ ト リゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣をカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製してァメ状の目的物 1. 6 g (収率 86. 2%、 ァメ状物 質） を得た。
i H— NMRデータ （60MH z、 C D C 1 q ¾媒、 5値）
1. 96 (3H、 s)
3. 55 (3H、 s )
3. 64 (2H、 m)
6. 32 ( 1 H、 s )
7. 06 ( 1 H、 d )
8. 68 ( 1 H、 b r ) 製造例 26
3— (3—ブロモー 4一クロロー 6—フルオロー 2—メタンスルホニルメチルイ ン ドール一 7—ィル） 一 1ーメチルー 6— ト リフルォロメチルー 1 , 2, 3, 4 —テ トラヒ ドロピリ ミ ジン— 2 , 4—ジオン （化合物番号 39 1 ) の製造
3— （3—ブロモー 4一クロ口一 6—フルオロー 2—メチルチオメチルイ ン ドール一 7—ィル） 一 1一メチル— 6— ト リ フルォロメチル— 1, 2, 3, 4一 テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2, 4—ジオン 1. 0 g (0. 002モル） のクロ口 ホルム 50m l溶液に、 80 %メ タクロ口過安息香酸 0. 9 g ( 0. 004モ ル） を加え、 室温で 1時間撹拌した。 反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中 に投入し、 よく撹拌した後、 クロ口ホルム層を分液した。 次に、 このクロ口ホル ム層を水、 飽和亜硫酸水素ナ 卜リウム水溶液、 水、 飽和炭酸水素ナ 卜リウム水溶 液、 水の順で洗浄し、 無水硫酸ナ卜リウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 残渣 をカラムクロマ トグラフィーにて精製して目的物 0. 96 g (収率 90. 1 %、 融点 283〜 284°C) を得た。 製造例 27
3— （3—ブロモー 4一クロロー 6—フルオロー 2—ブロモメチルイ ン ドール一 7—ィル） 一 1一メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 1， 2, 3, 4—テ 卜ラヒ ドロピリ ミ ジン- 2 , 4 —ジオン （化合物番号 3 8 8 ) の製造
3 - ( 3 —プロモー 4 一クロ口一 6 —フルオロー 2 — ヒ ドロキシメチルイ ン ドール— 7 —ィル） — 1 ーメチルー 6— 卜リ フルォロメチル— 1 , 2 , 3 , 4 - テ トラヒ ドロピリ ミ ジン一 2， 4 ージオン 1 . 0 g ( 0 . 0 0 2 1 モル） に三臭 化リ ン 1 O m 1 を加え、 4 0 °Cで 1時間撹拌した。 反応液を水中に投入し、 酢酸 ェチルで抽出した後、 抽出液を水で洗浄し、 無水硫酸ナ ト リ ウムで乾燥した。 溶 媒を減圧留去後、 残渣をカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製して目的物 0 . 2 5 g (収率 2 2 . 3 %、 融点 ] 4 1〜； I 4 3。C (分解） ） を得た。 本発明の除草剤は、 一般式 [ 1 ] で示されるィンドール置換ゥラシル誘導体を 有効成分としてなる。
本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよ いが、 製剤化に一般的に用いられる担体、 界面活性剤、 分散剤又は補助剤等を配 合して、 粉剤、 水和剤、 乳剤、 微粒剤又は粒剤等に製剤して使用することもでき る。
製剤化に際して用いられる担体としては、 例えばタルク、 ベン トナイ 卜、 ク レー、 カオリ ン、 珪藻土、 ホワイ 卜力一ボン、 バーミキユラィ ト、 炭酸カルシゥ ム、 消石灰、 珪砂、 硫安、 尿素等の固体担体、 イ ソプロピルアルコール、 キシレ ン、 シクロへキサン、 メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤又は分散剤としては、 例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、 ジナフチルメ タンジスルホン酸金属塩、 アルキル硫酸エステル塩、 アルキルァ リールスルホン酸塩ホルマリ ン縮合物、 リグニンスルホン酸塩、 ポリオキシェチ レングリコールエーテル、 ポリオキシエチレンアルキルァリールエーテル、 ポリ ォキシエチレンソルビ夕ンモノアルキレー 卜等があげられる。
補助剤としては、 例えばカルボキシメチルセルロース、 ポリエチレングリコ一 ル、 アラビアゴム等があげられる。
使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。
本発明の除草剤は茎葉散布、 土壌施用又は水面施用等により使用することがで きる。 有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、 粉剤又は粒 剤とする場合は 0. 0 1〜1 0% (重量） 、 好ましくは 0. 05〜5¾ (重量） の範囲から適宜選ぶのがよい。 また、 乳剤及び水和剤とする場合は】 〜509ο (重量） 、 好ましくは 5〜30% (重量） の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、 対象雑草、 発生傾向、 環 境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、 粉剤又は粒剤のようにそのま ま使用する場合は、 有効成分として 1 0アール当り 0. 1 g〜5 k g、 好ましく は 1 g〜l k gの範囲から適宜選ぶのがよい。 また、 乳剤又は水和剤のように液 状で使用する場合は、 0. 1 ~50, O O O p pm、 好ましくは 1 0〜 1 0, 000 p pmの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、 本発明化合物は必要に応じて殺虫剤、 殺菌剤、 他の除草剤、 植物生長調 節剤、 肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。 化合物、 添加剤の 種類及び配合比率は、 これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能であ る。 以下の説明において 「部」 は重量部を意味する。
〈製剤例 1〉 水和剤
化合物番号 2の 1 0部にポリオキシエチレンォクチルフヱニルエーテルの 0. 5部、 /3—ナフタレンスルホン酸ホルマリ ン縮合物ナ トリウム塩の 0. 5部、 珪 藻土の 20部、 クレーの 69部を混合粉砕し、 水和剤を得る。
〈製剤例 2 > 水和剤
化合物番号 204の 10咅にポリォキシエチレンォクチルフヱニルエーテルの 0. 5部、 3—ナフタレンスルホン酸ホルマリ ン縮合物ナト リウム塩の 0. 5 部、 珪藻土の 20部、 ホワイ トカーボンの 5部、 クレーの 64部を混合粉砕し、 水和剤を得る。
〈製剤例 3 > 水和剤
化合物番号 2 1 5の 1 0部にポリォキシエチレンォクチルフエ二ルェ一テルの 0. 5部、 3—ナフタレンスルホン酸ホルマリ ン縮合物ナト リウム塩の 0. 5 部、 珪藻土の 2 0部、 ホワイ ト力一ボンの 5部、 炭酸力ルシゥムの 6 4部を混合 粉砕し、 水和剤を得る。
〈製剤例 4 > 乳剤
化合物番号 1 9 7の 3 0部にキシレンとイソホロンの等量混合物 6 0部、 界面 活性剤ポリオキシエチレンソルビ夕ンアルキレー ト、 ポリオキシエチレンアルキ ルァリ—ルポリマ一及びアルキルァリ一ルスルホネー 卜の混合物の 1 0部を加 え、 これらをよくかきまぜることによって乳剤を得る。
〈製剤例 5 ) 粒剤
化合物番号 2 0 9の 1 0部、 タルクとベン トナイ 卜を 1 ： 3の割合の混合した 増量剤の 8 0部、 ホワイ トカーボンの 5部、 界面活性剤ボリォキシエチレンソル ビ夕ンアルキレー ト、 ポリオキンェチレンアルキルァリ一ルポリマー及びアルキ ルァリ—ルスルホネー卜の混合物の 5部に水 1 0部を加え、 よく練ってペースト 状としたものを直径 0 . 7 m mのふるい穴から押し出して乾燥した後に 0 . 5〜 l m mの長さに切断し、 拉剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
尚、 比較として次に示す化合物を用いた。
比較 A
特開平 5 - 25165号公報明細書記載
(化合物番号 14)
比較 B
待開平 5 - 25165号公報明細書記載
Figure imgf000073_0001
(化合物番号 3) 〈試験例 1〉 水田土壌処理による除草効果試験
1 00 cm 2のプラスチックボッ 卜に水田土壌を充填し、 代搔後、 タイヌビエ
(E c ) 、 コナギ （Mo) 及びホタルイ （S c ) の各種子を播種し、 水深 3 cm に湛水した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、 水面滴下し た。 施用量は、 有効成分を 1 0アール当り 1 00 gとした。 その後、 温室内で育 成し、 処理後 2 1 日目に表 1 8の基準に従って除草効果を調査した。 結果を表 1 9-20に示す。
(表 1 8 )
指数 除草効果 （生育抑制程度） 及び薬害
5 90%以上の抑制の除草効果、 薬害
4 70%以上 90%未満の除草効果、 薬害
3 50%以上 70%未満の除草効果、 薬害
2 30 %以上 50 %未満の除草効果、 薬害
1 1 0%以上 30%未満の除草効果、 薬害
0 0 %以上 1 0 %未満の除草効果、 薬害
9 ) 除 草 効 果 化合物番号
E c M o S c
1 5 5 5
2 5 5 5
3 5 5 5
4 5 5 5
1 8 7 5 5 5
1 9 4 5 5 5
1 9 5 5 5 5
1 9 6 5 5 5
1 9 7 5 5 5
1 9 8 5 5 5
1 9 9 5 5 5
2 0 0 5 5 5
2 0 1 5 5 5
2 0 3 5 5 5
2 0 9 5 5 5
2 1 0 5 5 5
2 1 1 5 5 5
2 1 5 5 5 5
2 1 6 5 5 5
2 1 7 5 5 5
2 1 8 5 5 5
2 4 1 5 5 5
2 4 5 5 5 5
2 4 6 5 5
2 6 2 5 5 5
2 6 7 5 5 5
2 6 9 5 5 5
2 7 0 5 5 5
2 7 1 5 5 5 (表 20) 除 草 効 果
化合物番号
E c Mo S c
274 5 5 5
275 5 5 5
276 5 5 5
285 5 5 5
31 8 5 5 5
323 5 5 5
329 5 5 4
330 5 5 5
344 5 δ 5
347 5 5 5
369 5 5 5
Π に
Ό O D
399 5 5 5
42 1 5 5 5
423 5 5 5
43 1 5 5 5
439 5 5 5
〈試験例 2〉 畑地土壌処理による除草効果試験
1 20 cm 2プラスチックポッ トに砂を充填し、 ォオイヌタデ （P o) 、 ァォ ビュ （Am) 、 シロザ （Ch) 、 コゴメガャッリ （C i ) の各種子を播種して覆 土した。 製剤例 1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、 1 0アール当り有効成 分が 1 00 gになる様に、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土壌表面に均 一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理 2 1 日目に表 1 8の基準に従つ て、 除草効果を調査した。 その結果を表 2 1〜22に示す。 (表 2 1 ) 除 草 効 果 化合物番号
P 0 A m C h C i
1 5 5 5 5
2 5 5 5 5
3 5 5 5 5
4 5 5 5 5
1 8 7 5 5 5 5
1 9 4 5 5 5 5
1 9 5 5 5 5 5
1 9 6 5 5 5 5
1 9 7 5 5 5 5
1 9 8 5 5 5 δ
1 9 9 5 5 5 5
2 0 0 5 5 5 5
2 0 1 5 5 5 5
2 0 3 5 5 5 5
2 0 4 5 5 5 5
2 0 9 5 5 5 5
2 1 0 5 5 5 5
2 1 1 5 5 5 5
2 1 4 5 5 5 5
2 1 5 5 5 5 5
2 1 6 5 5 5 5
2 1 7 5 5 5 5
2 1 8 5 5 5 5
2 4 1 5 5 5 5
2 4 5 5 5 5 5
2 4 6 5 5 5 5
2 5 5 5 5 5 5
2 6 2 5 5 5 5
2 6 7 5 5 5 5 (表 2 2) 除 草 効
化合物番号
Ρ ο Am C h C i
2 6 9 5 5 5 5
2 7 0 5 5 5 5
2 7 1 5 5 5 5
2 7 3 5 5 5 5
274 5 5 5 5
27 5 5 5 5 5
27 6 5 ΰ 5 5
28 5 5 5 5 5
3 1 8 5 5 5 5
3 1 9 5 5 5 5
3 2 3 5 5 5 5
3 2 9 5 5 5 5
3 3 0 5 5 5 5
34 4 5 5 5 5
34 7 5 5 5 5
3 6 9 5 5 5 5
Q 7 Γί c c rr
Ο ί U C
0 Ό ϋ 0
3 9 9 5 5 5 5
4 2 1 5 5 5 5
4 2 3 5 5 5 5
4 3 1 5 5 5 5
4 3 9 5 5 5 5
〈試験例 3 > 畑地茎葉処理による除草効果試験
1 20 c m " "プラスチックポッ 卜に砂を充填し、 ォオイヌ夕デ （P o) 、 ァォ ビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 コゴメガャッリ （C i ) の各種子を播種し、 温 室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤を水に希釈し、 1 0ァー ル当り有効成分が 1 0 0 gになる様に、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で 植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4 日目に表 1 8の基準に従って、 除草効果を調査した。 その結果を表 2 3〜 2 4に 示す。
(表 2 3 ) 除 草 効 果
化合物番号
P o A m C h C i
1 5 5 5 5
2 5 5 5 5
3 5 5 5 5
4 5 5 5 5
1 8 7 5 5 5 5
1 9 4 5 5 5 5
1 9 5 5 5 5 5
1 9 6 5 5 5 5
1 9 7 5 5 5 5
1 9 8 5 5 5 5
1 9 9 5 5 5 5
2 0 0 5 5 5 5
2 0 1 5 5 5 5
2 0 3 5 5 5 5
2 0 4 5 5 5 5
2 0 9 5 5 5 5
2 1 0 5 5 5 5
2 1 1 5 5 5 5
. 2 1 4 5 5 5 5
2 1 5 5 5 5 5
2 1 6 5 5 5 5
2 1 7 5 5 5 5
2 1 8 5 5 5 5
2 4 1 5 5 5 5
2 4 5 5 5 5 5
2 4 6 5 5 5 5 (表 24 ) 除 草 効 果
化合物番号
P o Am C h C i
2 5 5 5 5 5 5
2 6 2 5 5 5 5
2 6 7 5 5 5 5
2 6 9 5 5 5 5
27 0 5 5 5 5
27 1 5 5 5 5
27 3 5 5 5 5
274 5 5 5 5
27 5 5 5 5 5
27 6 5 5 5 5
2 85 5 5 5 5
3 1 8 5 5 5 5
3 1 9 5 5 5 5
3 2 3 5 5 5 5
3 29 5 5 5 5
3 3 0 5 5 5 5
34 4 5 5 5 5
34 7 5 5 5 5
3 6 9 5 5 5 5
Q Π D D D
3 99 5 5 5 5
4 2 1 5 5 5 5
4 2 3 5 5 5 5
4 3 1 5 5 5 5
4 3 9 5 5 5 5
〈試験例 4 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
6 0 0 c m 2プラスチックポッ トに砂を充填し、 稲 （O r ) 、 ォオイヌタデ
(P 0) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種 して覆土した。 翌日、 製剤例 1 に準じて調製した水和剤の所定有効成分量 ( a i , g / 1 0 a ) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土 壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1 日目に表 1 8の 基準に従って除草効果を調査した。 試験結果を表 25に示す。
(表 25) 化合物 除 草 効 果
(ai. g
番 号 10a) P o Am C h A b 0
1 95 6 5 5 5 5 0
209 6 5 5 5 5 0
2 1 1 6 5 5 5 5 0
285 6 5 5 5 5 1 比 J乂 A 6 5 5 5 5 5
B 6 5 5 5 5 5
〈試験例 5 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
600 cm"^プラスチックポッ トに砂を充填し、 麦 （T r) 、 ォオイヌタデ
(Po) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （Ch) 、 ィチビ （Ab) 、 の各種子を播 種して覆土した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
(a i , gZl 0 a) を水で希釈し、 10アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土 壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1日目に表 1 8の 基準に従って除草効果を調査した。 試験結果を表 26〜27に示す。 (表 26 ) 化合物 朵 里 除 草 効 果 ¾!圭口
(ai. g
番 10a) P o Am C h A b T r
1 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 0
3 1. 6 5 5 5 5 1
4 1. 6 5 5 5 5 1
1 94 6. 3 5 5 5 5 2
1. 6 5 5 5 5 0
1 95 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 0
1 96 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 0
1 97 6. 3 5 5 5 5 0
1. 6 5 5 4 5 0
1 98 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 1
200 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 4 5 1
204 1. 6 5 5 5 5 1
209 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 0
210 6. 3 5 5 5 5 1
21 1 6. 3 5 5 5 5 0
215 6. 3 5 5 5 5 0
1. 6 5 5 5 5 o
2 1 6 1. 6 5 5 5 5 1
2 1 7 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 1
2 1 8 6. 3 5 5 5 5 0
1. 6 5 5 5 5 0 (表 27)
Figure imgf000083_0001
〈試験例 6 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
600 cm"プラスチックポッ 卜に砂を充填し、 トウモロコシ （Z e) 、 ォォ ィヌタデ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （Ch) 、 ィチビ （Ab) の各種 子を播種して覆土した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分 量 （a i， gZl 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で 土壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1日目に表 1 8 の基準に従って除草効果を調査した。 試験結果を表 28〜29に示す。 (表 28) 化合物 薬 量 除 早 効 果 ^tt
(ai. g
番 10a) P o Am C h A b Z e
1 1. 6 5 5 5 5 1
2 1. 6 5 5 5 5 1
1 94 6. 3 5 5 5 5 2
1. 6 5 5 5 5 0
1 95 6. 3 5 5 5 5 0
1. 6 5 5 5 5 0
1 96 1. 6 5 5 5 5 1
1 97 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 4 5 0
1 98 1. 6 5 5 5 5 0
200 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 4 5 1
204 1. 6 5 5 5 5 1
209 6. 3 5 5 5 5 2
1. 6 5 5 5 5 1
2 1 1 6. 3 5 5 5 5 2
1. 6 5 5 5 5 1
2 1 5 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 0
2 1 6 1. 6 5 5 5 5 1
2 1 7 1. 6 5 5 5 5 1
2 1 8 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 1
24 1 6. 3 5 5 5 5 0
267 1. 6 5 5 5 5 1
3 1 8 1. 6 5 5 5 5 1
323 1. 6 5 5 5 5 1 (表 2 9 ) 仆 1し会口物j ί« 里 Pォ、 ス ゝ 圭
(ai. g
番 10a) P o A m C h A b Z e
3 6 9 6. 3 5 5 5 5 1
r
1. 6 Ό D D 5 U 比較 A 6. 3 5 5 5 5 5
1. 6 5 5 5 5 5
B 6. 3 5 5 5 5 5
1. 6 5 5 5 5 5
〈試験例 7 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
6 0 0 c m プラスチックポッ トに砂を充填し、 ダイズ （ G 1 ) 、 ォオイヌ夕 デ （P o ) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （A b) の各種子を播 種して覆土した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
(a i , gZ l 0 a ) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 0 0 1を小型噴霧器で土 壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1日目に表 1 8の 基準に従って除草効果を調査した。 試験結果を表 3 0に示す。
(表 30)
Figure imgf000086_0001
〈試験例 8 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
600 cm プラスチックポッ トに砂を充填し、 棉 （G o) 、 ォオイヌタデ
(P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種 して覆土した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
(a i , g/1 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土 壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1日目に表 1 8の 基準に従って除草効果を調査した。 試験結果を表 3 1に示す。 (表 3 n 化合物 薬 量 ■ 草 効 果 宝
(ai. g
番 10a) P o Am C h A b G o
2 1. 6 5 5 5 5 0
4 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 1
1 94 1. 6 5 5 5 5 0
1 95 6. 3 5 5 5 5 0
1. 6 5 5 5 5 0
1 97 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 4 5 1
1 98 1. 6 5 5 5 5 1
200 1. 6 5 5 4 5 0
204 6. 3 5 5 5 5 1
c
丄 . O D 0 D 0 u
2 1 1 1. 6 5 5 5 5 0
2 16 1. 6 5 5 5 5 1
273 6. 3 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 1
369 1. 6 5 5 5 5 1 比較 A 6. 3 5 5 5 5 5
1. 6 5 5 5 5 5
B 6. 3 5 5 5 5 5
1. 6 5 5 5 5 5
〈試験例 9 > 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 c m プラスチックポッ トに砂を充填し、 稲 （O r) 、 ォオイヌタデ
(P 0) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （Ch) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種 し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
(a i , gZ 1 0 a ) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で植 物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 14日 目に表 1 8の基準に従って、 除草効果を調査した。 その結果を表 32に示す (
(表 32) 化合物 薬 量 除 草 効 果
(ai. g
10a) P 0 Am C h A b 0
2 0 4 4 5 5 5 0
285 1 6 5 5 5 5 2
0 4 5 5 5 5 1
245 1 6 5 5 5 δ 1
0 4 5 5 5 5 0
1 94 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 5 0
209 1. 6 5 5 5 δ 2
0. 4 5 5 5 5 0 比較 A 1 - 6 5 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5 3
B 1. 6 5 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5 4
〈試験例 1 0〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 c m 2プラスチックポッ 卜に砂を充填し、 麦 （T r ) 、 ォオイヌ夕デ
(P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種 し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
(a i , gZl 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 100 1を小型噴霧器で植 物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4日 目に表 1 8の基準に従って、 除草効果を調査した。 その結果を表 33〜34に示 す。 (表 33 ) 化合物 薬 量 除 草 効 果 薬害
(ai. g
番 10a) P o Am C h A b 丁 r
1 0. 4 5 4 5 5 1
2 1. 6 5 5 5 5 2
0. 4 4 5 5 5 1
1 94 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 5
1 99 1. 6 5 5 5 5 1
200 1. 6 5 5 5 5 1
209 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 5
2 1 0 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 4 1
2 1 1 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 5
2 1 4 1. 6 5 5 5 5 1
21 6 0. 4 5 5 5 5 1
24 1 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 5
245 1. 6 5 5 5 5 1
0. 4 5 5 5 5
270 1. 6 5 5 4 5 1
273 1. 6 5 5 5 5 1
274 1. 6 5 5 5 5 1
276 0. 4 5 5 4 5 1
285 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5
3 1 8 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5
3 1 9 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5 (表 34 ) 化合物 除 草 効 果
(ai. g
番 号 10a) P o Am C h A b 丁 r
323 0 4 5 5 5 5 1
370 1 6 5 5 5 5 1 比^ A 1 6 5 5 5 5 5
0 4 5 5 5 5 5
B 1 6 5 5 5 5 4
0 4 5 5 5 5 3
〈試験例 1 1〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 οηιώプラスチックポッ トに砂を充填し、 トウモロコシ （Z e) 、 ォォ ィヌタデ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種 子を播種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有 効成分量 （a i , g/ 1 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴 霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処 理 14日目に表 1 8の基準に従って、 除草効果を調査した。 その結果を表 35に 示す。
(表 35 ) 化合物 除 草 効 果
(ai. g
番 10a) P o Am C h A b Z e
1 0. 4 5 4 5 5 1
2 0. 4 4 5 5 5 0
1 87 1. 6 5 5 5 5
1 99 1. 6 5 5 5 5
200 1. 6 5 5 5 5
209 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5
21 0 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 4
21 1 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5
21 6 0. 4 5 5 5 5
21 8 0. 4 5 5 5 5
9 A 4 1 n A
245 0. 4 5 5 5 5
270 1. 6 5 5 4 5
273 1. 6 5 5 5 5
274 1. 6 5 5 5 5
276 0. 4 5 5 4 5
285 0. 4 5 5 5 5
3 1 9 1. 6 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5
323 0. 4 5 5 5 5
370 1. 6 5 5 5 5 比較 A 1. 6 5 5 5 5 5
0. 4 5 5 5 5 5
B 1. 6 5 5 5 5 4 0. 4 5 5 5 5 3 〈試験例 1 2 > 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 c m 2プラスチックポッ 卜に砂を充填し、 ソルガム （G s；) 、 ォオイヌ 夕デ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を 播種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成 分量 （a i , gZ 1 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器 で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4日目に表 1 8の基準に従って、 除草効果を調査した。 その結果を表 36に示 す。 (表 36) 化合物 ¾ 里 除 草 効 果
(ai. g
番 号 /10a) Po Am Ch Ab Gs
2 6 5 5 5 5 1
4 5 5 5 5 0
1 94 6 5 5 5 5 1
4 5 5 5 5 0
209 6 5 5 5 5 1
4 5 5 5 5 0
245 4 5 5 5 5 2
285 6 5 5 5 5 2
4 5 5 5 5 0 比較 A 6 5 5 5 5 5
4 5 5 5 5 4
B 6 5 5 5 5 5
4 5 5 5 5 4 〈試験例 1 3〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 c m 2プラスチックポッ 卜に砂を充填し、 ダイズ （ G 1 ) 、 ォオイヌタ デ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播 種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分 量 （a i , g/ 10 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で 植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4 日目に表 1 8の基準に従って、 除草効果を調査した。 その結果を表 37に示す。
(表 37) 化合物 里 除 効 果 圭
(ai. g
つ 10a) P o Am C h A b G 1
198 0. 4 5 5 5 5
209 0. 4 5 5 5 5
21 1 0. 4 5 5 5 5
270 1. 6 5 5 4 5
274 1. 6 5 5 5 5
3 1 9 0. 4 5 5 5 5 比較 A 0. 4 5 5 5 5 5
B 0. 4 5 5 5 5 5

Claims

請求の範囲
1 . 一般式 [ 1 ]
Figure imgf000094_0001
〔式中、 Rはアルキル基、 アミノ基又は水素原子を表し、 Qは一般式
Figure imgf000094_0002
を表し、 R 1及び R 2はそれぞれ水素原子、 フッ素原子、 塩素原子又は臭素原子 を表し、 R 3は水素原子、 アルキル基、 ハロアルキル基、 アルキルスルホニル 基、 ハロアルキルスルホニル基、 ホルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアル キルカルボニル基、 アルコキシカルボニル基、 N—モノアルキルカルパモイル基 又は N , N—ジアルキル力ルバモイル基を表し、 R 4及び R "はそれぞれ独立し て、 水素原子、 アルキル基、 シクロアルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハ 口アルキル基、 置換されていてもよいべンジル基、 置換されていてもよいフエ二 ル基、 アルケニル基、 ホルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアルキルカルボ ニル基、 シクロアルキルカルボニル基、 置換されていてもよいベンゾィル基、 ァ ルケニルカルボニル基、 アルキニルカルボニル基、 アルコキシアルキルカルボ二 ル基、 アルキルチオアルキルカルボニル基、 アルキルスルホニルアルキルカルボ ニル基、 アルキル （チォカルボニル） 基、 カルボキシル基、 アルコキシカルボ二 ル基、 ハロアルコキシカルボニル基、 置換されていてもよいフエノキシカルボ二 ル基、 置換されていてもよいべンジルォキシカルボニル基、 アルコキシィ ミ ノァ ルキル基、 ヒ ドロキシィミ ノアルキル基、 アミ ノアルキル基、 モノアルキルアミ ノアルキル基、 ジアルキルアミ ノアルキル基、 N —モノアルキルカルパ'モイル 基、 N， N—ジアルキル力ルバモイル基、 力ルバモイル基、 シァノ基、 アルキル チォ基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキルチオ基、 ハロアルキルスルホニル 基、 置換されていてもよいフヱニルチオ基、 置換されていてもよいフヱニルスル ホニル基、 ハロゲン原子、 二ト口基、 ァミ ノ基、 ジアルキルァミ ノ基、 モノアル キルアミ ノ基、 アルキルスルホニルァミ ノ基、 ハロアルキルスルホニルァミ ノ 基、 置換されていてもよいフエニルスルホニルァミ ノ基、 アルキルカルボニルァ ミ ノ基、 ハロアルキルカルボニルァミ ノ基、 置換されていてもよいベンゾィルァ ミ ノ基、 シァノアルキル基、 アルキルカルボニルアルキル基、 カルボキシアルキ ル基、 アルコキシカルボニルァルキル基又は一般式
R6 R6
ZR8 又は W R9
R7 で示される基を表し、 Zは酸素原子又は硫黄原子を表し、 Wは基— S O -又は基 一 S O 2—を表し、 R 6は水素原子又はアルキル基を表し、 R γは水素原子、 ァ ルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキ ニル基、 アルコキシアルキル基、 アルキルチオアルキル基又はアルキルスルホ二 ルアルキル基を表し、 R 0は水素原子、 アルキル基、 シクロアルキルアルキル 基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 置換されていてもよいベン ジル基、 置換されていてもよいフヱニル基、 ホルミル基、 アルキルカルボニル 基、 ハロアルキルカルボニル基、 シクロアルキルカルボニル基、 置換されていて もよいベンゾィル基、 N—モノアルキル力ルバモイル基、 N , N—ジアルキル力 ルバモイル基、 N—モノアルキル （チォ力ルバモイル） 基、 N， N—ジアルキル (チォ力ルバモイル） 基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキルスルホ二ル基又 は置換されていてもよいフヱニルスルホニル基を表し、 はアルキル基、 シク 口アルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 置換さ れていてもよいベンジル基又は置換されていてもよいフヱニル基を表す。 〕 で示 されるインドール置換ゥラシル誘導体。
2 . 一般式 [ 1 ] において、 Rがメチル基又はアミ ノ基を表し、 R 1がフ ッ素原子又は水素原子を表し、 R 2がフッ素原子、 塩素原子又は臭素原子を表 し、 R 3が水素原子又はアルキル基を表し、 R 4及び R 5がそれぞれ独立して、 水素原子、 アルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 ホルミル基、 アルキル カルボニル基、 ハロアルキルカルボニル基、 シクロアルキルカルボニル基、 カル ボキシル基、 アルコキシカルボニル基、 ハロアルコキシカルボニル基、 置換され ていてもよいフエノキシカルボニル基、 置換されていてもよいベンジルォキシカ ルボニル基、 アルコキシィ ミ ノアルキル基、 ヒ ドロキシィ ミ ノアルキル基、 シァ ノ基、 アルキルチオ基、 アルキルスルホニル基、 ハロアルキルチオ基、 ハロアル キルスルホニル基、 ハロゲン原子、 ニトロ基、 アミ ノ基、 ジアルキルアミ ノ基、 モノアルキルアミノ基、 アルキルスルホニルァミ ノ基、 ハロアルキルスルホニル アミ ノ基、 アルキルカルボニルァミ ノ基、 ハロアルキルカルボニルァミ ノ基、 ァ ルキルカルボニルアルキル基、 カルボキシアルキル基、 アルコキシカルボニルァ ルキル基又は一般式
R6 R6
—― Z R8 又は —― w r9 で示される基を表し、 Zは酸素原子又は硫黄原子を表し、 Wは基一 S O—又は基 一 S O 9 —を表し、 R Dは水素原子又はアルキル基を表し、 R Yは水素原子、 ァ ルキル基又はシクロアルキルアルキル基を表し、 R uは水素原子、 アルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 ホ ルミル基、 アルキルカルボニル基、 ハロアルキルカルボニル基、 シクロアルキル カルボニル基、 N—モノアルキル力ルバモイル基、 N , N—ジアルキルカルバモ ィル基、 N—モノアルキル （チォ力ルバモイル） 基、 N， N—ジアルキル （チォ 力ルバモイル） 基、 アルキルスルホニル基又はハロアルキルスルホ二ル基を表 し、 R 9はアルキル基、 シクロアルキルアルキル基、 ハロアルキル基、 アルケニ ル基又はアルキニル基である請求項 1記載のィンドール置換ゥラシル誘導体。
3. 請求項 1記載のィンドール置換ゥラシル誘導体を有効成分として含有 することを特徴とする除草剤。
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