WO1997009326A1

WO1997009326A1 - Derives de triazole, composition herbicide contenant ces derives et procede d'utilisation

Info

Publication number: WO1997009326A1
Application number: PCT/JP1996/000003
Authority: WO
Inventors: Yoshinori Endo; Hirofumi Nakagawa; Hiroshi Fujishima; Isao Tada; Minoru Motoki; Daisuke Yanase; Mitsuyuki Murakami; Tatsuya Akasaka
Original assignee: Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha
Priority date: 1995-09-07
Filing date: 1996-01-04
Publication date: 1997-03-13
Also published as: EP0791593B1; DE69605529T2; DE69605529D1; KR970707119A; EP0791593A1; EP0791593A4; US5759958A

Description

明細書トリァゾール誘導体、該誘導体を含有する除草剤組成物及びその使用方法

本発明は、トリアゾール誘導体、該誘導体を含有する除草剤組成物及びその使用方法に関する。術景技術今日まで、多くの除草剤が見い出され、その中のいく分

つ力ヽは広く農作物の雑草防除に使用されている。

野

米国特許第 5 1 0 8 4 8 6 号明細書には、ある種の 4 一フエ二ルー 1 , 2 , 4 ートリアゾ一ル誘導体が除草活性を有することが開示されている , しかしながら上記明細書中には、畑地条件下での試験例が記載されているものの、必ずしも十分な除草活性を示すものではなく、また農作物に対する選択性を示すデ一夕は一切記載されていない。また特開平 7 - 1 8 8 2 2 0 号公報には、一般式

〔式中、 R ²は水素原子又はメチル基を示す。 R ³及び R ⁴は塩素原子を示す。 R ⁵はメチル基又はェチル基を示す。 Xは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕

で表される 4 — フヱニル— 1 , 2 , 4 — トリァゾール誘導体が水田の重要雑草に対して除草活性を有し、水田用除草剤組成物として有効であることが開示されている。このトリァゾール誘導体は、ジヒドロべンゾフラノン骨格を有する化合物であるが、イネに対する安全性が良好ではあるものの、尚不充分であり、イネに対する安全性がより一層優れた化合物の開発が望まれている。更に特開平 7 — 1 8 8 2 2 0 号公報には、該トリアゾ一ル誘導体が水田の雑草以外に畑作地や芝地の雑草防除に有効であるのか否かにつき一切教示がなされていない。

発明の開示

本発明の一つの目的は、米国特許第 5 1 0 8 4 8 6 号明細書及び特開平 7 — 1 8 8 2 2 0 号公報には開示も示唆もないベンゾフラン骨格を有する新規な 1， 2， 4 一トリァゾール誘導体を提供することにある。

本発明の他の一つの目的は、水田の重要雑草に対して低薬量で優れた除草活性を発現すると共に、イネに対しては無害な除草剤組成物を提供することにある。

本発明の他の一つの目的は、芝生地の重要雑草に対して低薬量で優れた除草活性を発現すると共に、芝に対しては無害な除草剤組成物を提供することにある。

本発明の他の一つの目的は、畑作地雑草に対して極めて低薬量で優れた除草活性を発現すると共に、農作物に対しては全く薬害のない極めて高い選択性を有する除草剤組成物を提供することにある。

本発明の他の一つの目的は、上記除草剤組成物を使用して、望ましくない植物の生育を抑制する方法を提供する ^ とにめ < »。

本発明の他の特徴は、以下の記載から明らかにされるでめつ。

本発明の 1， 2， 4 — トリァゾ一ル誘導体は、一般式

〔式中 R ¹及び R ²は同一又は異なつて水素原子又はメチル £を示す。 R ³及び R "'は同一又は異なってハロゲン原子、低級アルキル ¾、低級アルコキシ ¾、低級ハロアルキル ¾、低級ハロアルコキシ ½又はシァノ ¾を示す。 R ⁵はメチル基又はェチル ¾を示す。 X は酸尜原子又は硫贲原子を示す。〕

で表される。上記一般式（ I ) において、 R ³及び R ⁴で示される各基は、具体的には以下の通りである。

ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる。

低級アルキル基としては、例えばメチル、ェチル、プ口ピル、イソプロピル、ブチル、ィソブチル、 t e r t — プチル、ペンチル、へキシル基等の炭素数 1 〜 6 の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。

低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、ェトキシ、プロボキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、 t e r t 一ブトキシ、ペンチルォキシ、へキシルォキシ基等の炭素数 1 〜 6 の直鎮又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる ο

低級ハロアルキル基としては、例えばトリフノレオロメチノレ、トリクロロメチノレ、クロロメチノレ、ブロモメチル、フノレオロメチル、ョードメチノレ、ジフノレオロメチル、ジブロモメチル、 2 — クロロェチル、 2 , 2 , 2 — トリフノレォロェチル、 2， 2 , 2 — トリクロロェチル、 3 — ブロモプロピル、 3 — クロ口プロピル、 2， 3 — ジクロ口プロピル、 4 , 4 , 4 一トリクロロブチル、 4 ーフノレオロブチノレ、 5 — クロ口ペンチル、 3 — クロ口一 2 — メチノレプロピノレ、 5 — ブロモへキシル、 5， 6 — ジクロ口へキシル基等の置換基としてハロゲン原子を 1 〜 3 個有する炭素数 1 〜 6 の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。

低級ハロアルコキシ基としては、例えば、トリフルォロメトキシ、トリクロロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、フノレオロメトキシ、ョ一ドメトキシ、ジフノレオロメトキシ、ジブロモメトキシ、 2 _ クロ口エトキシ、 2 , 2 , 2 — トリフルォロエトキシ、 2 ， 2， 2 一トリクロ口エトキシ、 3 — ブロモプロポキシ、 3 — クロロプロポキシ、 2， 3 — ジクロロプロポキシ、 4 , 4， 4 一トリクロロブトキシ、 4 — フノレオロブトキシ、 5 — クロ口ペンチノレオキシ、 3 — クロロー 2 — メチノレプロボキシ、 5 — ブロモへキシノレオキシ、 5 , 6 — ジクロ口へキシルォキシ基等の置換基としてハロゲン原子を 1 ~ 3 個有する炭素数 1 〜 6 の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。

上記一般式（ I ) の本発明化合物の中でも、特に以下の化合物が好ましい。

R ¹がメチル基、 R ²が水素原子である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³及び R ⁴が共にハロゲン原子である - 般式（ I ) の化合物 R ¹がメチル基、 R ³及び R ⁴が共に低級アルキル基である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³が低級アルキル基、 R ⁴がハロゲン原子である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³がハロゲン原子、 R ⁴が低級アルキル基である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³が低級アルコキシ基、 R ⁴がハロゲン原子である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³が低級ハロアルキル基、 R ⁴がハロゲン原子である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³がシァノ基、 R ⁴がハロゲン原子である一般式（ I ) の化合物

R ¹がメチル基、 R ³がハロゲン原子、 R が低級アルコキシ基である一般式（ I ) の化合物

本発明の一般式（ I ) で表される化合物は、例えば下記反応式 - 1 に示す方法により製造される。

反応式一 1

(I I) (I) 〔式中、 R R R ³、 R R ⁵及び Xは前記に同じ。〕上記反応式 - 1 によれば、本発明化合物は、一般式 ( II) で表される（チォ）セミカルバジド類と無水トリフルォロ酢酸とを無溶媒下又は適当な溶媒中で反応させることにより製造される。この反応で使用される溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、 1， 2 — ジクロロェタン、クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類やこれらの混合溶媒等を挙げることができる。一般式（ II) の（チォ）セミカルバジド類と無水トリフルォロ酢酸との使用割合としては、特に限定されるものではないカ、通常前者に対して後者を 0. 5 〜 3倍モル程度、好ましくは 1 〜 1. 5倍モル程度とするのがよい。上記反応は室温から使用される溶剤の沸点までの温度範囲で良好に進行し、一般式 ( I ) の本発明化合物のうち、 Yが酸素原子を示すォキソ体の場合には通常 2 0 ~ 5 0 時間程度で、また Yが硫黄原子を示すチオノ体の場合には通常 1 〜 5 時間程度で該反応は完結する。上記反応式 - 1 において、出発原料として用いられる一般式（ Π) の（チォ）セミカルバジド類は、対応するァニリン類から公知の方法、例えば米国特許第 4 5 1 4 4 1 9号明細書に記載の方法、

Synthesis-Stuttgart, ( 12 ) , 923 ( 1989 ) ίこ記載の方法等こ準じて容易に製造され得る。また他の一方の出発原料である無水トリフルォロ酢酸は、工業的に容易に入手できる化合物である。

上記の方法により生成する本発明の 1 , 2， 4 一トリ了ゾール誘導体は、慣用の単離精製手段に従い、反応混合物から容易に単離、精製され得る。

本発明の 1 ， 2， 4 一トリァゾ一ル誘導体は、ィネには全く無害で、同じイネ科のイネ属以外のメヒシバ属、ノビエ属を始めィネ科及び広葉雑草を選択的に防除できるため、水稲の生産向上や水田の有害雑草の防除に極めて有効である

また本発明の 1， 2 , 4 — トリァゾール誘導体は、芝生地において芝には全く無害で、芝生地で問題となる雑草が選択的に防除できるため、ゴルフ場、公園や道路、墓地、工場敷地、庭園等の芝生地雑草の防除に極めて有用でめる。ここに本発明において、芝とはベントグラス- ブル一グラス及びライグラス等の洋芝、及びノシバ、コゥライシノヾ、ヒメコゥライシバ等の日本芝を意味する。また芝生地における重要雑草としてはスズメノカタビラ. メヒシバ、ハコべ、オランダミミナグサ等が挙げられる ₍ また本発明の 1， 2 , 4 — トリァゾ一ル誘導体は、畑作地で栽培される農作物には全く無害で、畑作地で問題となる雑草が選択的に防除できるため、畑作地雑草の防除に極めて有用である。畑作地で栽培される農作物としては、例えばトウモロコシ、麦類、大豆、綿、野菜類等が挙げられる。本発明の 1， 2 , 4 — トリァゾ一ル誘導体を有効成分とする除草剤組成物は、大豆、綿及び麦類 (殊に小麦）の栽培地において特に有効である。また畑作地における重要雑草としてはァオビュ、ノビエ、イチビ、ェゾノギシギシ、力ャッリグサ、ノミノッズリ、ナズナ、ホトケグサ、ノゲシ、スズメノカタビラ等が挙げられる。

本発明の化合物を除草剤組成物として使用する場合、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒剤、粉剤、塗布剤、スプレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロカプセル製剤、燻蒸用製剤、燻煙用製剤等の各種の製剤形態で用いることができる。

本発明の除草剤組成物に配合される補助剤としては、この分野で通常使用されているものを広く使用でき、例えば珪藻土、カオリン、クレー、ベントナイト、ホワイトカ一ボン、タルク等の増量剤、ポリオキシエチレンァルキルエーテル、ポリオキシエチレンァノレキノレエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル等の非イオン界面活性剤、アルキルベンゼンスルホネート、ァノレキノレスノレホサクシネート、アルキルサルフェート、ポリオキシエチレンアルキルサノレフヱート、アルキルスルフォネート、ァリノレスルフォネート、リグニン亜硫酸塩等の陰イオン界面活性剤等を挙げることができる。

また本発明の除草剤組成物に配合される溶解剤や希釈剤としては、水、各種有機溶媒、各種エアゾール噴射剤. 各種天然鉱物、各種合成化合物等を用いることができる ( 例えば、有機溶剤としてはベンゼン、トルエン、キシレン、ェチノレベンゼン、クロノレベンゼン、ァノレキノレナフタリン、クロルエチレン、シクロへキサノン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、ァノレコール類、セ口ソノレブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ァセトニトリル、鉱油留分等が好んで用いられる, エアゾール噴射剤としては例えばプロパン、ブ夕ン、ハロゲン化炭化水素、窒素、二酸化炭素等を例示できる。

更に本発明の除草剤組成物は、有機乃至無機染料を用いて着色が施されていてもよい。

本発明において、上記各種製剤を製造するに当っては本発明の化合物が 0 . 1 〜 9 5 重量％程度、好ましくは 0 . 5 〜 9 0 重量％程度含有されるように製剤すればよい。斯くして得られる製剤は、そのままで又は担体もしくは水で希釈して用いられるカ、目的に応じて本発明化合物が 0 . 0 0 0 1 〜： L 0 0 重量％程度、好ましくは 0 . 0 0 1 〜 1 0 重量％程度含有するような範囲で自由に希釈して使用するのがよい。

本発明の除草剤組成物を使用するに当っては、他の除草剤、殺菌剤、殺虫剤等と併用することもできる。

本発明の除草剤組成物を使用すれば、望ましくない植物の生育を抑制することができる。このような植物の例としては、上述したように例えば、水田においてはィネ科のイネ属以外のメヒシバ属、ノビェ属を始めイネ科及び広葉雑草等であり、芝地においてはスズメノカタビラ、メヒシノ、ハコべ、オランダミミナグサ等であり、畑作地においてはァォビュ、ノビエ、イチビ、ェゾノギシギシ、力ャッリグサ、ノミノッズリ、ナズナ、ホトケグサ、ノゲシ、スズメノカタビラ等である。

本発明除草剤を用いて水田雑草の生育を抑制するに当つては、特に限定されるものではないが、水田の湛水土壌処理法において本発明除草剤を使用するのが好ましい ₍ その使用例としては、例えば田植え 4 〜 6 日後、湛水状態に保たれた水田に本発明除草剤を散布して水田雑草を防除すればよい。

本発明除草剤を用いて水田雑草、芝生地雑草又は畑作地雑草の生育を抑制するに当っては、上記一般式（ I ) で表される 1， 2 , 4 — トリァゾ一ル誘導体が 1 〜 l O O O g / 1 0 アール、好ましくは 1 0 〜； L O O g Z 1 0 アールの薬量で水田、芝生地又は畑作地に使用されるように、本発明除草剤を使用するのがよい。

発明を実施するための最良の形態以下に製造例、製剤例及び試験例を掲げて本発明をより一層明らかにする。製剤例において「部」とあるのは「重量部」を意味する。

製造例 1

R ¹がメチル基、 R ²が水素原子、 R ³がメチル基、 R ⁴がイソプロピル基、 R ⁵がメチル基及び Xが酸素原子である一般式（ I ) の化合物（化合物 1 ) の製造

セミカルバジト（ 1 2 ミリモノレ）のトルエン 3 0 m 1 懸濁液に、氷冷下で無水トリフルォロ酢酸（ 2 0 ミリモル）を滴下し、滴下終了後、反応混合物を更に 3 0時間室温で攪拌した。反応液を 1 0 %炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム（展開溶媒；へキサン：酢酸ェチル == 2 ： 1 ) で精製して、白色結晶の目的物（化合物 2 ) を 2. 1 2 g得た。

融点 1 2 2 〜 1 2 3 °C ^ - N M R ( C D C 1 ₃) <5 p p m ;

1. 3 2 ( 6 H ) 、 2. 1 2 ( 3 H ) 、 2. 4 6 ( 3 H ) 3. 3 9 ( 1 H ) 、 3. 5 8 ( 3 H ) 、 6. 3 7 ( 1 H ) 6. 8 3 ( 1 H ) 以上の結果から、得られた白色結晶は上記目的化合物であることを確認した。適当な出発原料を用い、上記製造例 1 と同様にして下

- 1

記第 1 表及び第 2 表に示す 3各化合物を得た。

製造例 N 0 . R ¹ R ² ！ R³ R⁴ R ⁵ X

製造例 2 M e H i C 1 C 1 M e ί S 製造例 3 |M e M e i C 1 1 C 1 M e S 製造例 4 M e H ！ C 1 M e M e S 製造例 5 M e H ！ M e C 1 M e s 製造例 6 M e H ！ M e C ] M e 0 製造例 7 M e H M e ！ B r M e s 製造例 8 M e H ！ M e B r M e i 0 製造例 9 M e H ! C F 3 C 1 M e ! S 製造例 10 M e H j C F 3 C 1 M e 1 0 製造例 11 M e H M e M e M e i S 製造例 12 M e H j C N C I M e s 製造例 13 M e H 1 M e M e M e j 0 製造例 14 M e M e ； C 1 i C 1 M e I 0 製造例 15 |M e H ； C 1 C 1 M e ! 0 製造例 16 H M e ! C 1 C 1 M e i S 製造例 17 H 1 M e ！ C I C 1 M e ； 0 製造例 18 H H 1 C 1 C 1 E t 1 S 製造例 19 H H C 1 C 1 M e 0

！製造例 20 e H M e i P r M e s 第 2 表

M e ：メチル基 M e O メトキシ基

E t ：ェチル基 i P r イソプロピル基 t B u : tert-ブチル基上記第 1 表及び第 2 表で得られる各化合物の物性を以下に示す。製造例 2 の化合物：融点 1 1 3 〜 1 1 4 °C

' H - N M R ( C D C l ₃ ) ¾ p p m ;

2. 5 6 ( 3 H ) 、 3. 9 2 ( 3 H ) 、 6. 6 3 ( 1 H ) 7. 2 2 ( 1 H )

製造例 3 の化合物：

融点 1 0 4 〜 1 0 5 °C

^JH - N M R ( C D C 1 ₃) ( p p m ；

2. 3 5, 2. 4 2 ( 6 H ) 、 3. 8 9 ( 3 H ) 、

7. 2 2 ( 1 H )

製造例 4 の化合物：

融点 1 2 4 ~ 1 2 5 °C

'H - N M R ( C D C 1 ₃) (5 p p m ；

2. 4 8 ( 6 H ) . 3. 8 7 ( 3 H ) 、 6 4 7 ( 1 H )

7. 0 6 ( 1 H )

製造例 5 の化合物：

融点 1 2 7 ~ 1 2 8 °C

^XH - N M R ( C D C 1 3 ) (5 p p m ；

2. 1 5 ( 3 H ) 、 2. 5 3 ( 3 H ) 、 3. 8 8 ( 3 H )

6. 4 7 ( 1 H ) 、 7. 0 2 ( 1 H )

製造例 6 の化合物：

融点 1 3 6 〜 1 3 7 °C

'H - N M R ( C D C 1 3 ) 5 p p m ；

2. 2 0 ( 3 H ) 、 2. 7 4 ( 3 H ) 、 3 5 7 ( 3 H )

6. 4 2 ( 1 H ) 、 7. 0 2 ( 1 H )

製造例 7 の化合物：融点 1 2 1 〜 1 2 2 °C

— N M R C C D C l S p p m ;

2. 1 8 ( 3 H ) 、 2. 5 2 ( 3 H ) 、 3. 9 0 ( 3 H )

6. 5 0 ( 1 H ) 、 7. 1 8 ( 1 H )

製造例 8 の化合物：

融点 1 4 5 〜 1 4 6 °C

'H - N M R C C D C l s) (5 p p m ;

2. 2 0 ( 3 H ) 、 2. 5 0 ( 3 H ) 、 3. 5 8 ( 3 H )

6. 4 8 ( 1 H ) 、 7. 2 0 ( 1 H )

製造例 9 の化合物：

融点 8 8 〜 9 1 °C

¹H - N M R ( C D C l ₃) (5 p p m ;

2. 5 5 ( 3 H ) 、 3. 8 5 ( 3 H ) 、 6 7 0 ( 1 H ) 7. 1 5 ( 1 H )

製造例 1 0 の化合物：

融点 8 5 〜 8 8 °C

¹H - N M R ( C D C l ₃) 5 p p m ;

2. 5 4 ( 3 H ) 、 3. 5 7 ( 3 H ) 、 6 7 0 ( 1 H ) 7. 2 3 ( 1 H )

製造例 1 1 の化合物：

融点 1 0 7 〜 1 0 8 °C

'H - N M R ( C D C 1 ₃) ό p p m ； 2. 1 5 ( 3 H ) 、 2. 4 4 ( 6 H ) 、 3. 7 0 ( 3 H ) 6. 3 7 ( 1 H ) 、 6. 7 5 ( 1 H )

製造例 1 2 の化合物：

粘稠液体

H — N M R ( C D C 】 3 ) (5 p p m

2. 6 0 ( 3 H ) 、 3. 9 0 ( 3 H ) 6 7 5 ( 1 H )

7. 2 5 ( 1 H )

製造例 1 3 の化合物：

融点 9 0 〜 9 1 °C

H - N M R ( C D C 1 3 ) (5 p p m ;

2. 1 8 ( 3 H ) 、 2. 4 5 ( 6 H ) ヽ 3 5 5 ( 3 H )

6. 3 3 ( 1 H ) 、 6. 7 5 ( 1 H )

製造例 1 4 の化合物：

融点 1 0 9 〜 1 1 0 °C

'H - N M R C C D C l s) 5 p p m ;

2. 3 5， 2. 4 2 ( 6 H ) 、 3. 6 2 ( 3 H )

7. 2 4 ( 1 H )

製造例 1 5 の化合物：

融点 1 1 5 〜 1 1 6 °C

'H - N M R C C D C l s) (5 p p m ;

2. 5 6 ( 3 H ) 、 3. 6 3 ( 3 H ) 6. 6 0 ( 1 H ) 7. 2 4 ( 1 H ) 製造例 1 6 の化合物：

融点 1 1 1 〜 1 1 2 °C

^ - N M R ( C D C 1 ₃) ( p p m

2. 5 2 ( 3 H ) , 3. 9 0 ( 3 H ) 7. 2 4 ( 1 H ) 7. 4 0 ( 1 H )

製造例 1 7 の化合物：

融点 1 1 4 〜 1 1 5 °C

1 H - N M R ( C D C 1 3 ) 5 p p m

2. 5 2 ( 3 H ) 、 3. 9 0 ( 3 H ) 7 2 4 ( 1 H ) 7. 4 0 ( 1 H )

製造例 1 8 の化合物：

融点 1 1 3 4 °C

^XH - N M R ( C D C 1 ₃) (5 p p m ；

1. 3 0 ( 3 H ) 、 3 - 8 6 ( 2 H ) 、 6 3 0 ( 1 H ) 7. 2 4 ( 1 H ) 、 7. 4 0 ( 1 H )

製造例 1 9 の化合物：

融点 1 2 7 〜 1 2 8 °C

'H - N M R ( C D C 1 3 ) ( p p m ；

3. 6 0 ( 3 H ) 、 6. 3 0 ( 1 H ) 、 7 2 4 ( 1 H ) 7. 4 0 ( 1 H )

製造例 2 0 の化合物：

融点 4 5 。C ¹ H - N M R ( C D C l ₃ ) 5 p p m ;

1. 3 2 ( 6 H ) 、 2. 1 5 ( 3 H ) 、 2 4 6 ( 3 H ) 3. 3 8 ( 1 H ) 、 3. 8 7 ( 3 H ) 、 6 4 0 ( 1 H ) 6. 7 7 ( 1 H )

製造例 2 1 の化合物 -.

融点 9 3 〜 9 4 °C

^ - N M R ( C D C I s) (5 p p m ；

2. 4 6 ( 6 H ) 、 3. 5 6 ( 3 H ) 、 6 4 2 ( 1 H ) 6. 9 2 ( 1 H )

製造例 2 2 の化合物：

融点 1 4 2 〜 1 4 3 °C

'H - N M R C C D C l s) δ p p m ；

2. 5 2 ( 3 H ) 、 3. 8 8 ( 3 H ) 、 4. 0 0 ( 3 H )

6. 6 5 ( 1 H ) 、 7. 0 5 ( 1 H )

製造例 2 3 の化合物：

融点 1 8 9 〜 1 9 0 °C

^J H - N M R ( C D C 1 ₃) (5 p p m ；

2. 5 0 ( 3 H ) 、 3. 5 8 ( 3 H ) 、 4. 0 0 ( 3 H )

6. 6 0 ( 1 H ) 、 7. 0 5 ( 1 H )

製造例 2 4 の化合物：

融点 1 2 9 〜 1 3 0 °C

^ - N M R C C D C l s) 5 p p m ； 2. 1 5 ( 3 H ) 、 2. 4 8 ( 3 H ) 3. 8 8 ( 3 H ) 6. 4 6 ( 1 H ) ヽ 6. 7 6 ( 1 H )

製造例 2 5 の化合物：

融点 1 4 7 〜 1 4 8 °C

1 H - N M R ( C D C 1 3 ) (5 p p m ；

2. 2 0 ( 3 H ) 、 2. 4 9 ( 3 H ) 、 3 5 7 ( 3 H ) 6. 4 7 ( 1 H ) 、 6. 8 0 ( 1 H )

製造例 2 6 の化合物：

融点 8 0 〜 8 1 °C

1 H - N M R ( C D C 1 3 ) (5 p p m ；

2. 5 2 ( 3 H ) 、 3. 8 8 ( 3 H ) 、 6 6 0 ( 1 H ) 7. 1 5 ( 1 H )

製造例 2 7 の化合物：

融点 1 3 2 3 3 °C

'H - N M R C C D C l s) δ p p m ；

2. 5 1 ( 3 H ) 、 3. 5 8 ( 3 H ) 、 6 5 5 ( 1 H ) 7. 1 3 ( 1 H )

製造例 2 8 の化合物：

粘稠液体

'H - N M R ( C D C I s) ( p p m ；

2. 3 3 ( 3 H ) 、 2. 4 0 ( 3 H ) 、 3. 8 6 ( 3 H )

7. 1 5 ( 1 H ) 製造例 2 9 の化合物：

融点 1 0 9 ~ 1 1 3 °C

'H - N M R ( C D C 1 s ) 5 p p m ；

2. 3 2 ( 3 H ) 、 2. 4 0 ( 3 H ) 、 3. 5 7 ( 3 H ) 、 7. 1 3 ( 1 H )

製造例 3 0 の化合物：

粘稠液体

^!H - N M R ( C D C 1 ₃) δ p p m ；

1. 5 0 ( 3 H ) 、 2. 5 8 ( 3 H ) 、 4. 3 0 ( 2 H ) 6. 7 0 ( 1 H ) . 7. 1 4 ( 1 H )

製造例 3 1 の化合物：

粘稠液体

'H - N M R ( C D C 1 3 ) 5 p p m ；

1. 4 6 ( 3 H ) 、 2. 5 1 ( 3 H ) 、 3. 9 6 ( 2 H ) 6. 5 9 ( 1 H ) 、 7. 2 1 ( 1 H )

製造例 3 2 の化合物：

粘稠液体

'H - N M R ( C D C 1 ₃) 5 p p m ；

2. 1 4 ( 3 H ) 、 2. 4 4 ( 3 H ) 、 3. 6 9 ( 3 H ) 、 6. 3 4 ( 1 H ) 、 6. 7 5 ( 1 H ) 7. 3 8 ( 1 H ) 製造例 3 3 の化合物：

粘稠液体 'H - N M R C C D C l s) ά p p m ;

2. 1 6 ( 3 H ) 、 2. 4 4 ( 3 H) 、 3. 5 5 ( 3 H ) 、 6. 3 2 ( 1 H ) 、 6. 7 4 ( 1 H ) 7. 3 6 ( 1 H ) 製造例 3 4 の化合物：

融点 1 2 8 〜 1 2 9 °C

— N M R ( C D C l ₃) 5 p p m ;

1. 2 3 - 1. 4 8 ( 6 H ) 、 2. 4 6 ( 6 H ) 、

2. 6 3 ( 3 H ) 、 3. 8 8 ( 3 H ) 、 6. 6 0 ( 1 H )

6. 6 9 ( 1 H )

製造例 3 5 の化合物：

融点 1 4 4 〜 1 4 5 °C

- N M R ( C D C l ₃) S p p m ;

1. 2 5 - 1. 4 2 ( 6 H ) 、 2. 4 5 ( 3 H ) 、

2. 4 7 ( 3 H ) 、 2. 7 7 ( 1 H ) 、 3. 5 9 ( 3 H ) 6. 5 8 ( 1 H ) 、 6. 7 8 ( 1 H )

製造例 3 6 の化合物：

融点 1 2 4 〜 1 2 5 °C

'H - N M R C C D C l s) (5 p p m ；

1. 2 2 - 1. 5 8 ( 6 H ) 、 2. 5 0 ( 3 H ) 、

2. 6 0 ( 1 H ) 、 3. 9 0 ( 3 H ) 、 6. 7 0 ( 1 H )

7. 0 0 ( 1 H )

製造例 3 7 の化合物：粘稠液体

'H - N M R ( C D C 1 ₃) (5 p p m ;

2. 2 5 ( 3 H ) 、 2. 4 5 ( 3 H ) 、 3. 5 9 ( 3 H ) 、

3. 9 5 ( 3 H ) 、 6. 3 5 ( 1 H ) 6. 5 3 ( 1 H ) 製造例 3 8 の化合物：粘稠液体

^ - N M R ( C D C 1 ₃) (5 p p m ；

2. 5 2 ( 3 H ) 、 3. 8 8 ( 3 H ) 、

7. 0 3 ( 1 H ) 製造例 3 9 の化合物：融点 1 2 4 ~ 1 2 5 °C

6

¹ H - N M R ( C D C 1 3 ) (5 p p m ；

6

1. 5 0 ( 9 H ) 、 2. 2 0 ( 3 H ) ヽ 2. 4 5 5 ( 3 Η ) 、

ί、

3. 5 5 ( 3 H ) 、 6. 3 5 ( 1 H ) 6. 8 0 1 ( 1 Η )

Η

製剤例 1 ( 1 0 %水和剤）一般式（ I ) の化合物 1 0. 0 部ジ一クライト（カリオン系クレージ一クライト工業（株）製） 8 7. 3 部ソルポール 8 0 O A 1. 3 5 部ノレノックス P — 6 5 — ： L (東邦化学工業（株）製） 1. 3 5 部製剤例 2 ( 1 0 % フロアブル剤）一般式（ I ) の化合物 1 0. 0 部

K P - 1 4 3 6 ( 2 5 ) (花王（株）製） 1 0. 0部ルノックス 1 0 0 C (東邦化学工業（株）製） 0. 5 部 1 %ロドポール水（ローヌプーラン社製） 4 0. 0 部水 3 9. 5 部試験例 1 (湛水土壌処理試験）

外形 9. 2 c m. 内径 8. 5 c m, 高さ 9. 0 c mの磁製ポットに、予め混合機内で水を加えて適度な粘度に調製した殖壌土と適当量の混合肥料とを入れ、土壌表面にノビエ、ホタノレイ、広葉雑草（キカシグサ、ァゼナ）、タマガヤッリ及びコナギの種子を播種した。軽く鎮圧して土壌表面を平らにした後、 2 葉期のイネ（品種：アキ二シキ）を移植し約 3 c mの深さに湛水した。 3 日後、供試化合物の有効成分量が所定の割合になるように湛水面に均一に散布した。散布の際の薬液は、前記製剤例 1 に示した処方の水和剤を水で希釈してピぺットにより湛水面に均一に滴下した。薬液散布 3 週間後にイネ及び各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従って調査し、その結果を第 3 表に示した。尚、第 3 表中の供試化合物番号は、上記製造例における化合物番号に対応する。また比較のために、 2 —ベンゾチアゾ一ルー 2 —ィルォキシー N — メチノレアセトァニリド（メフエナセット、この化合物を「化合物 A」とする）を用いて上記と同様して除草効果を判定した結果を第 3 表に併せて示す。判定基準；

5 …殺草率 1 0 0 % (完全枯死）

4. 5 ···殺草率 9 0 ~ 1 0 0 %

4 …殺草率 7 0 ~ 9 0 %

3 …殺草率 4 0 〜 7 0 %

2 …殺草率 2 0 〜 4 0 %

1 …殺草率 0 〜 2 0 %

0 0 …殺草率 0 % (無害）

第 3 表

試験例 2 (芝生地雑草に対する除草活性試験）

ポットに殖壌土と適量の混合肥料を充填し、検定植物としてメヒシノヽ、スズメノカタビラ、メビエ、ハコべ及びオランダミミナグサを播種した後、軽く覆土した。製剤例 2 で調製した 1 0 % フロアブル剤を 1 0 0 0 倍希釈した水溶液を、面積当たりの処理薬量が 3 0 g / 1 0 a となるように土壌表面に均一に処理した後、下部吸水によって検定植物を生育させ、 1 週間目毎に肉眼観察を行つて除草効果を判定した。除草効果の判定は上記試験例 1 の判定基準と同じ判定基準に従った。 3 週間目の肉眼観察結果を下記表 2 に示す。尚、第 4 表中の供試化合物番号は、上記製造例における化合物番号に対応する。また比較のために、式

で衷される化合物（米国特許笫 5 1 0 8 4 8 6 号叨細 ¾ に記 ^の化合物、この化合物を「化合物 B 」とする）及び式

で表される化合物（特開平 7 — 1 8 8 2 2 0 号公報に記載の化合物、この化合物を「化合物 C 」とする）を用いて上記と同様にして除草効果を判定した結果を第 4 表に併せて示す。第 4 表

試験例 3 (芝に対する安全性試験）

( 1 ) ヒメコゥライシノく

口径 1 5 c m のポットにまき土と赌壤土とを混合したものを充填し、ポットめ口径に合わせて裁断したヒメコゥライシノくのマツ卜を定植した。定植後 1 ヶ月目にポット内の芝が十分根を下ろしたことを確認し、茎葉部を地上 1 c m程度に刈り込んだ後に製剤例 2 で調製した 1 0 %フロアブル剤を 5 0 0 倍希釈した水溶液を、面積当たりの試験化合物の処理薬量力 1 0 0 g Z l 0 a となるように均一に芝の上から散布した。薬剤処理後芝を 1 ヶ月間生育させ、各薬剤の芝の生育に対する影響を観察した。芝に対する薬害の程度を試験例 1 の判定基準に従い評価した。

( 2 ) ベントグラス

口径 1 5 c mのポットにまき土と殖壌土とを等量混合したものを充填し、ベントグラスを播種して 2 ヶ月目生育させた。その間 2 度にわたって刈り込みを行い、薬剤処理前日に繁茂した茎葉部を地上 1 c mまで刈り込んだ < 薬剤処理及び芝に対する薬害の判定は上記ヒメコゥライシバを用いた試験と同様に行つた。

これらの結果を第 5 表に示す。

第 5 表

試験例 4 (畑作地雑草に対する除草活性試験）

ポットに殖壌土と適量の混合肥料を充填し、検定植物としてァオビュ、ノビエ、ィチビ、ェゾノギシギシ、力ャッリグサ、ノミノッズリ、ナズナ、ホトケグサ、ノゲシ、スズメノカタビラ、大豆、綿及び小麦を播種した後- 軽く覆土した。製剤例 2 で調製した 1 0 % フロアブル剤を 1 0 0 0倍希釈した水溶液を、面積当たりの処理薬量が 5 0 g Z 1 0 a となるように土壌表面に均一に処理した後、下部吸水によって検定植物を生育させ、 1 週間目毎に肉眼観察を行って除草効果を判定した。除草効果の判定は上記試験例 1 の判定基準と同じ判定基準に従った ( 3 週間目の肉眼観察結果を下記第 6 表及び第 7表に示す ( 尚、第 6 表及び第 7 表中の供試化合物番号は、上記製造例における化合物番号に対応する。また比較のために、化合物 B及び化合物 Cを用いて上記と同様にして除草効果を判定した結果を第 6 表及び第 7 表に併せて示す。

第 6 表

第 7 表

化合物 No. I i スス"メノカタビラカャッリク"サ綿大豆

1 5 5 δ 0 0 0

2 5 5 5 0 1 0

3 o 0 D o 0 1

「

4 5 o 5 0 0 0

「

5 5 5 o 0 0 ： 0

6 5 5 5 0 0 0

「

7 5 δ 0 1 0

8 5 δ 5 0 1 · 1

9 D 5 5 0 0 0

1 0 D δ δ 0 1 0

「

1 1 5 δ o 0 1 0

1 2 5 5 0 1 0

B 3 3 4 1 2 2

C 3 3 3 1 1 1

Claims

請求の範囲

般式

〔式中 R ¹及び R ²は同一又は異なって水素原子又はメチル基を示す。 R ³及び R ⁴は同一又は異なってハロゲン原子、低級アルキル基、低級.アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基又はシァノ基を示す。

R ⁵はメチル基又はェチル基を示す。 X は酸素原子又は硫黄原子を示す。〕

で表される 1 , 2 , 4 — トリァゾール誘導体。

2 . R ³及び R ⁴が共に塩素原子である請求の範囲第 1 項に記載の 1， 2 , 4 — トリアゾール誘 ^体。

3 . R ³及び R ⁴が同一又は異なってハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ ¾、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ ¾又はシァノ (似し R ³及び R 力く同！に塩尜 ^子である ¾合を除く）である求の範 W1 1 ¾に記載の 1 , 2 , 4 一トリァゾーノレ誘 ^体。

4 . 請.求の範囲第 1 頃に記載の 1 , 2， 4 — トリァゾール誘導体を有効成分として含有する除草剂組成物。

5 . 請求の範囲第 4項に記載の除草剤組成物を使用して、望ましくない植物の生育を抑制する方法。

6 . 望ましくない植物が水田における雑草である請求の範囲第 5項に記載の方法。

7 . 望ましくない植物が芝地における雑草である請求の範囲第 5項に記載の方法。

8 . 望ましくない植物が畑作地における雑草である請求の範囲第 5項に記載の方法。