WO1996004412A1 - Procede de production de silicone decorative - Google Patents

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WO1996004412A1
WO1996004412A1 PCT/JP1994/001265 JP9401265W WO9604412A1 WO 1996004412 A1 WO1996004412 A1 WO 1996004412A1 JP 9401265 W JP9401265 W JP 9401265W WO 9604412 A1 WO9604412 A1 WO 9604412A1
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WO
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silicon
oxide film
silicone
hydrofluoric acid
mirror
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PCT/JP1994/001265
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English (en)
French (fr)
Inventor
Hideo Kumagai
Kenzo Fujinuki
Itaru Imai
Original Assignee
Komatsu Electronic Metals Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44CPRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/005Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects by altering locally the surface material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/4505Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
    • C04B41/455Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application the coating or impregnating process including a chemical conversion or reaction
    • C04B41/4556Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application the coating or impregnating process including a chemical conversion or reaction coating or impregnating with a product reacting with the substrate, e.g. generating a metal coating by surface reduction of a ceramic substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure

Definitions

  • Mirror-finished or non-mirror-polished silicon single crystal or polycrystal is treated by the method of the present invention to form an oxide film. It offers silicon ornaments that are novel and applicable.
  • the present invention provides a method for producing a silicone for decorative articles having excellent decorativeness by coloring the silicon surface without using a coloring agent. Therefore, the mirror-finished silicone is provided. Pretreatment by contacting a hydrofluoric acid solution to the surface of the substrate, and then performing NH cleaning and then applying an oxide film, or using a mirror-free silicon were pretreated by contacting the off Tsu acid solution, a Le mosquitoes Li et to the latches in g ⁇ K0H: H 2 0 system, NaOH: H 2 0 system, NH 4 0H: H 2 0 system, [NH 2 (CH 2) 2 NH 2]: H 2 0: [C 6 H 4 (OH) 2] based solution, etc. ⁇ after row Tsu name of, NH washed (NH 4 0H: H 2 0 2 based Or NH 4 0H: H 2 0 2 : H 2 0-based solution, etc.), and then applying an oxide film. In the manufacturing process Blood was processed at the final shape until,
  • FIG. 1 (a) is a cross-sectional view of a spherical silicon chip manufactured by the method of the present invention, (b) is a cross-sectional view of an ellipsoidal silicon chip, and FIG. a) is a perspective view of a plate-shaped silicon chip manufactured by the method of the present invention, and (a) is a shape in which "R" is attached to one corner of both ends of the plate-shaped silicon chip.
  • FIG. 3 is a side view of a silicon decorative article obtained by applying the method of the present invention to a diamond-shaped prior cut.
  • FIGS. 4 (a) to (f) are views showing additional examples of the silicon decorative article according to the method of the present invention.
  • FIGS. 5 (a) to 5 (c) are cross-sectional views for respective steps of still another embodiment of the method of the present invention.
  • 6 (a) to 6 (c) are cross-sectional views of the silicon decorative article according to the method of the present invention, which are different from each other in the steps of the embodiment.
  • FIGS. 7 (a) to 7 (c) are diagrams showing an application example of a silicon decorative article according to the method of the present invention.
  • FIG. 8 (a) and (b) are diagrams showing the color development principle of an embodiment of a silicon decorative article according to the method of the present invention.
  • 9 (a) and 9 (b) are a top view and a side view showing an example of a silicon ornament having a curved surface and a cut portion.
  • FIG. 10 is a diagram showing an example in which various additions are applied to the spherical silicon piece shown in FIG.
  • the uniform oxide film formed on the silicon plane As shown in Fig. 8, the effective film thickness changes depending on the direction. Therefore, the color due to the difference in film thickness described in the above-mentioned document changes in various directions depending on the viewing direction, and even if it is a flat surface, it has a beautiful and highly decorative appearance. It is likely that In particular, it is thought that the cut surface is extremely beautiful because the color tone from each surface is different and changes gradually according to the viewing direction. .
  • FIG. 4 shows one processing example of the silicon decorative article of the present invention.
  • Fig. 4 (a) is a plate-shaped one. Other decorations can be attached to one side with an adhesive or the like.
  • holes 5 having an appropriate depth are provided in the plate surface of FIG. 4 (a), so that screws can be fixed to a pedestal or the like.
  • the ones shown in FIGS. 4 (c) to 4 (f) have through holes 5 and, for example, by connecting a large number of them, It can also be applied to brochures and the like.
  • a hydrofluoric acid treatment step is introduced on the single crystal mirror surface.
  • a number of 15 mm thick plates are first cut out by a slicer and then cut vertically by a cutting machine. 600-700 pieces of roller-shaped material were cut to 15 mm in width and polished with a grinder to form spherical pieces with a diameter of 10 mm.
  • the spherical pieces were immersed in a solution (25 ° C) with a hydrofluoric acid concentration of 50 Wt% for 20 minutes.
  • silicon for ornaments is manufactured in the following steps.
  • the 100 pieces were divided into 6 groups as one group, and mounted on a quartz boat.
  • the oxidation conditions were applied in the oxidation furnace corresponding to the oxidation treatment times shown in Table A.
  • the treatment conditions were No. 1 to No. 6 except for the time. Is the same as As a result, the color shades shown in Sample No. 1 to No. 6 in Table 1 were obtained, and the appearance was a decorative silicone with a mirror-like texture with a slightly hazy surface. Made.
  • Fig. 1 (a).
  • Reference numeral 1 denotes a silicon oxide film
  • reference numeral 2 denotes silicon.
  • Fig. 1 and Fig. 10 (a) are the same, (b) is a partially cut part of (a), and (c) is a pin hole drilled in (a). It is what you do. (D),
  • (e), (f), and (q) have through holes in (a :) and (b), respectively, and are processed for neckless use.
  • FIG. 2 (b) shows an example in which the same processing as that in Fig. 2 (a) is performed, although R is provided at one side corner of both ends of the plate-shaped silicon composite. The results were almost the same as those in FIG. 2 (a).
  • an NH cleaning step is introduced after the hydrofluoric acid treatment step. That is, a large number of 5 mm-thick wafers were cut out from silicon polycrystalline ingots and slicers used in semiconductor manufacturing, and mirror-polished. From these wafers, using a cutting machine, 600 to 700 silicon plates cut into 50 mm long and 7 mm wide plates were obtained. After washing, these cut silicon plates were immersed in a solution of hydrofluoric acid concentration 10 Wt% (70 te) at room temperature for 5 minutes, then washed with pure water and dried.
  • the feature of this embodiment is that a hydrofluoric acid treatment step and an alkaline etching step are introduced. That is, a large number of 8 mm-thick wafers are cut out from silicon polycrystalline ingots and slicers used in semiconductor manufacturing. , Polished. Furthermore, using a ultrasonic vibrating horn device from these jewels, 600 to 700 cylindrical pieces with a diameter of 10 mm were punched out, and a diamond-shaped mirror-cut piece like a jewel. I got After washing, these cut pieces were immersed in a 10 wt% hydrofluoric acid solution at room temperature for 15 minutes, then washed with pure water and dried.
  • the feature of this embodiment is that a hydrofluoric acid treatment step, an alkaline etching step, and a washing step are introduced.
  • a hydrofluoric acid treatment step 600 to 700 cylindrical pieces obtained using a silicon single crystal material, which had not been mirror-finished and had a diamond-shaped diamond-shaped cut, were 55ft't at room temperature. After immersion in a hydrofluoric acid solution (10) for 120 minutes, it was washed with pure water and dried. Then NaOH
  • a hydrofluoric acid treatment step and an alkaline etching step are introduced using a polycrystalline material having a processed layer remaining.
  • silicon polycrystalline ingots used in semiconductor manufacturing 100 slices of 10 mm-thick silicon were sliced by a slicer, and these silicon wafers were sliced. ⁇ 40 Silicon was cut into a rectangular shape of mm x 20 mm in width to obtain 600 to 700 pieces. This material was polished, and a silicon for decorations was obtained in the following process using a mirror-surfaced ellipsoidal silicon paste as a starting material.
  • silicon for decorative products is manufactured in the following steps.
  • the 100 pieces were divided into 6 groups as a group and mounted on a quartz boat. In order to obtain the desired oxide film color, each corresponds to the oxidation treatment time shown in Table A above. An oxide film was deposited in an oxidizing furnace. The processing conditions are the same as in Nos. 31 to 36 except for the time.
  • the reaction having a slow hydrofluoric acid concentration is performed particularly at a temperature of 10 eC.
  • the surface was roughened over time while looking at the silicon surface.
  • the hydrofluoric acid concentration was low, the temperature of the hydrofluoric acid solution was increased to improve the reaction, and the surface was roughened by adjusting the time while observing the silicon surface.
  • the concentration of commercially available hydrofluoric acid is 50 to 55 Wt%. The most accessible and easy to handle.
  • the concentration of hydrofluoric acid can be as high as 200 Wt% by special order, but as a practical matter, a concentration of 56 Wt% or more increases the fuming property and easily gasifies when transferred to an open container.
  • the concentration is not stable, and the concentration variation greatly changes with the elapsed time since opening in an open container, which is not suitable for mass production.
  • the concentration of hydrofluoric acid is less than 1 OWt%, the reaction becomes slow and variation occurs. In addition, it takes time to uniformly roughen the silicon surface, and if the concentration is further reduced, it will not react even if the temperature of the solution is raised. It is not suitable for mass production because the silicon surface cannot be roughened.
  • the surface of the solution is roughened by raising the temperature of the solution, and when the concentration of hydrofluoric acid is high, the surface of the solution is lowered by lowering the temperature of the solution. Can be changed.
  • the neutralization time with an acid (such as hydrochloric acid) after the force leaching can shorten the cleaning time.
  • the film thickness is 0.2 ⁇ m (No. 1) at the lowest and 0.47 m (No. 6) at the highest. Those obtained with an oxide film thickness of about 3 zm exhibit a decorative color. As the thickness of the oxide film increases, the color of the oxide film changes. However, the same color can be obtained by uniformly applying the oxide film. However, referring to FIG.
  • the thickness of the silicon oxide film according to each of the above embodiments is uniform, but since the silicon oxide film is a plate surface, the effective film thickness at a viewing angle is increased. The thickness is different, and the color of the reflected light is different. This is because light is reflected back in the oxide film. This is because the more it looks obliquely, the same as the thickness of the oxide film has increased.
  • the temperature range of 800 to 1300 ° C is practical for attaching an oxide film.
  • An oxide film is applied to a silicon plate that has been subjected to an oxide film treatment in the same manner as that used in Example 2 by the “resist coating—window opening” method usually used in the manufacture of semiconductor devices.
  • the etching was partially etched to a constant depth to leave a specified amount of oxide film.
  • the resist was removed to obtain a silicon ornament in which portions with different oxide film thicknesses were mixed. This is shown in Fig. 5 (c).
  • the film thickness is partially different that this Toka, et al., Ornaments and Do One exhibit fit a variety of colors in the same plane 7 "your Son o 7, FIG. 5 (a) through (c) in the present embodiment,
  • the process of manufacturing the silicon ornaments of the following can be described in order, with reference numeral 10 indicating a photo resist.
  • the oxide film in the window opening was kept at a certain thickness, but as shown in FIG. 6 (c), it was completely etched. By removing it, the surface of the silicon itself can be exposed, so that it can be made into a silicon ornament that has a mixed metallic luster.
  • Fig. 6 (a) to (c) also shows the manufacturing steps in order, as in FIGS. 5 (a) to (c).
  • an etching agent such as HF is appropriately dropped or sprayed on the surface, regardless of the method of “resist coating-window opening”. And brushing. In addition, it is also possible to polish with a polishing pad or the like.
  • windows can be used to open letters, numbers, symbols, pictograms, block patterns, geometric figures, etc. by using a mask. It is also possible to obtain silicone ornaments that are elaborate in terms of character and character.
  • FIGS. 7 (a) to 7 (c) One example is shown in the top views of FIGS. 7 (a) to 7 (c).
  • FIGS. 9 (a) and 9 (b) a silicon decorative article having a curved surface and a cut portion can be obtained.
  • FIG. 9 (a) is a top view and (b) is a side view.
  • a polycrystalline silicon substrate is used to exhibit a mosaic pattern, for example, a wall material, a nameplate, and a tile that has changed.
  • the silicon decorative article of the present invention has a thin oxide film on its surface. As a result, they have a very beautiful appearance, especially those with a mirror-finished surface that look as good as or better than black pearls, which are slightly natural in the South Seas. Present. If these ornaments are offered in various shapes and at low prices, women's desire for beauty will be fulfilled. For men, silicone ornaments with colored colour, durability, novelty and applicability, such as neck pins and cuffs, are also available. provide.
  • the thickness of the oxide film can be freely controlled by appropriately selecting the oxidation conditions, so that a silicon decorative article having a desired brightness can be manufactured with good reproducibility. For example, even if it has a cutting surface, there is no problem in processing silicon, so a uniform product of the same shape, such as a die pin, is used. It can be obtained as a decorative item, and it is of sufficient value as a decorative item. Although it is difficult to form a natural shape such as pearls into a free shape, the size and shape of the silicone decorative article of the present invention can be freely selected. Since the processing is free, it can be applied to decoration in various fields.
  • the silicon oxide film is the same as so-called quartz, it has high hardness, excellent chemical and heat resistance, natural pearls and other materials. More durable than any imitation.
  • pearls absorb sweat and deteriorate due to deterioration, but the silicone decorative article according to the present invention is stable. Looking at the specific gravity, pearls are about 2.9 and silicones are about 2.3, so they are heavy even when worn. I do not feel it.
  • the silicon oxide film is inert, it has no adverse effects on the human body, such as metal alloys, which have recently become a problem. .
  • the present invention utilizes the light interference effect of a silicon oxide film, the same effect can be expected by a nitride film. Nitride is harder and more stable than oxide films, so it can be used especially as a protective film.
  • a mirror-finished or non-mirror-finished silicon single crystal or polycrystal is treated by the method of the present invention and an oxide film is formed thereon, whereby the color is enhanced.
  • Silicone ornaments with excellent fragility, durability, novelty and applicability can be obtained.

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Description

明 細 書
装飾品用 シ リ コ ン の製造方法
技 術 分 野
鏡面仕上げ した又は鏡面仕上げを して いな い シ リ コ ン 単結晶又は多結晶体を本発明方法に よ り 処理 して酸化膜 付けを行な う こ と に よ り 色彩のあ る カ ラ フ ル性、 耐久性 新規性かつ応用性のあ る シ リ コ ン装飾品を提供す る も の であ る。
背 景 技 術
従来か ら、 金属類、 宝石の代用 品 と して、 た と えば、 卑金属類の表面に着色 した り 、 メ ツ キ層 を設けた り 、 あ る いは、 合成樹脂に着色 した り した も のがあ る。 ま た、 最近では と く に、 先端技術分野で製造さ れる材料、 た と えば鏡面 シ リ コ ン板を装飾用 と して、 ネ ク タ イ ピ ン の装 飾部分に使 っ た り した も のがあ る。
しか し、 金属や シ リ コ ン の場合は、 材料の生地その も のを利用する と き は問題はな いが、 着色 した も のがあ る と 、 着色剤が剝離 しゃす く 、 耐久性に問題があ つ た。 さ ら に、 新 しい貴石 と して色彩、 色の深み、 耐久性、 輝き 等の装飾性に優れる も のを得る こ と は、 難 しか っ た。 シ リ コ ン を装飾品 と して加工す る に当 た り 、 表面に酸化層 を設けた り (特開平 3 — 3 9 1 0 2号) 、 可視光線に対 し透 過性で不活性な シ リ コ ン化合物層を表層 に設けた シ リ コ ン基装飾品が し られて い る (特開昭 6 0— 1 3 5 9 9号) 。 発 明 の 開 示
本発明は、 着色剤を用 いずに、 シ リ コ ン表面を発色 さ せ、 装飾性に優れた装飾品用 シ リ コ ン の製造方法を提供 す る も ので、 鏡面仕上げ した シ リ コ ン表面に フ ッ 酸溶液 を接触さ せて前処理 し、 さ ら に N H洗浄を行な っ たのち 酸化膜付けを行な う か、 ま たは鏡面仕上げの施さ れてい ない シ リ コ ン を フ ッ 酸溶液を接触さ せて前処理 し、 さ ら に ア ル カ リ エ ッ チ ン グ { K0H : H20系, NaOH : H20系, NH40H : H20系, [NH2(CH2) 2NH2] : H 20 : [ C 6 H 4 (OH) 2 ] 系溶液な ど } を行な っ たのち、 N H洗浄(NH40H : H 202系 又は NH40H : H 202 : H20系溶液な ど) を行ない、 しかる 後、 酸化膜付けする こ と を特徴 とする装飾品用 シ リ コ ン の製造方法であ り 、 こ れ ら製造方法において装飾品用 シ リ コ ン を最終形状 ま で加工 し た の ち 、 酸化膜付 け を行 な っ て も よ い。
図面の簡単な説明
第 1 図(a) は本発明方法に よ っ て製造 さ れた球状 シ リ コ ン ピー ス の断面図、 (b)は楕円体状 シ リ コ ン ピー ス の 断面図、 第 2 図(a) は本発明方法に よ っ て製造 さ れた板 状 シ リ コ ン ピ ー ス の斜視図、 ( は板状 シ リ コ ン ピー ス 両端の一方角部に " R " をつけた形状の斜視図。
第 3 図は ダイ ヤ型のプ リ リ ア ン カ ツ ト に本発明方法を 適用 した シ リ コ ン装飾品の側面図。
第 4 図 (a)〜( f ) は本発明方法の シ リ コ ン装飾品の加 ェ例を示す図。 第 5 図 (a)〜(c) は本発明方法の更に異な る 実施例の 工程毎の断面図。
第 6 図 (a)〜 (c) は本発明方法の シ リ コ ン装飾品の さ ら に異な る 実施例の工程毎の断面図。
第 7 図 (a)〜 (c) は本発明方法に よ る シ リ コ ン装飾品 の応用例を示す図。
第 8 図(a). (b)本発明方法に よ る シ リ コ ン装飾品の一 実施例の発色原理を示す図。
第 9 図 (a)及び(b) は曲面 と カ ッ ト 部を有する シ リ コ ン装飾品の例を示す上面図及び側面図。
第 10図は第 1 図に示す球状 シ リ コ ン ピー ス に種 々 の加 ェを施 した例を示す図。
発明を実施する ための最良の形態 従来 よ り 、 シ リ コ ン 表面 に酸化膜が存在す る こ と に よ っ て、 そ の呈す る 色が、 膜厚で変わ る こ と は、 知 られ てい る ( 「 シ リ コ ン集積素子技術の基礎」 R. M.パー カ ー R. P. ド ノ フ ァ ン , P. 67 表 2 . 8 ) 。 こ の文献に掲げ ら れた も のは、 半導体ウ ェハの酸化膜に よ る デバイ スの電 気的な保護膜で、 厚みの 目 視検査用 に研究 さ れた も ので あ る。 本発明者 ら は長年の研究に よ り 、 球面お よ び曲面 を'有する シ リ コ ン装飾品を開発 し、 特開平 4 - 122203号 公報にそ の技術を述べている。 しか し、 本発明者 ら は、 平面を有す る も のであ っ て も、 こ れを装飾品 と して用 い る と、 高貴な風合いの も のが得 られる こ と を見出 した。
シ リ コ ン平面上に形成さ れた均一な酸化膜は、 見る方 向 に よ り 第 8 図 の よ う に、 実効膜厚が変 化す る 。 し た が っ て、 前記文献に記載さ れた膜厚の差に よ る色彩が、 見る方向で様 々 に変化 し、 平面であ っ て も 美麗で装飾性 の高 い外観を呈す る よ う に な る と 思わ れ る 。 と く に、 カ ツ ト 面を形成 した も のは、 各面か らの色調がそれぞれ 異な っ て、 かつ見る方向に よ っ て逐次変化 してい く ため 極めて美麗にな る も の と思われる。
第 4 図は、 本発明の シ リ コ ン装飾品の一加工例を示 し た も のであ る。 第 4 図(a) は、 板状の も のであ る。 一方 の面に接着剤等に よ り 、 他の装飾物を取 り 付け る こ とが で き る。 第 4 図(b) は、 第 4 図(a) の板面に適当な深 さ の穴 5 を設けた も ので、 台座な どに ビ ス止めが可能 と な る。 第 4 図(c) 乃至第 4 図(f ) に示 した も のは、 通 し穴 5 を有 してお り 、 た とえば、 多数個を連ねる こ と に よ り ネ ッ ク レ スやブロ ー チ等に も 応用でき る 。
以下、 本発明の実施例を説明する。
(第 1 の実施例)
第 1 の発明の一実施例について説明す る。 本実施例の 特徴は、 単結晶鏡面に フ ッ 酸処理工程を導入 した こ とで あ る。 すなわち、 半導体製造に用 い られる シ リ コ ン単結 晶イ ン ゴ ッ ト か ら、 まずス ラ イ サ一 に よ り 15mm厚みの板 を多数枚切 り 出 し、 更に切断機で縦 ' 横 15mmに切断 して さ い こ ろ状素材を 600〜 700ケ を製作 し、 こ れを研磨機 で研磨 し直径 10mmの球状 ピー ス に加工 した。 球状 ピー ス をエ ッ チ ン グ液 [ H F : HN03 = 1 : 5 ( W t % ) ] に浸漬 して鏡面エ ッ チ ン グ処理を行 っ た。 そ して球状 ピー ス を フ ッ 酸濃度 50Wt % の溶液 ( 25°C ) に 20分間浸漬処理 を 行っ た。 以上の処理が施 さ れた各 ピー ス を出発材料 と し て以下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を製作す る。 100個を 1 グルー プ と して 6 グルー プに分け、 石英ボー ト に搭載 した。 希望の酸化膜色を得 る ため、 A表に示 した酸化処 理時間にそれぞれ対応さ せ酸化炉で酸化膜付けを行 っ た 処理条件は時間を除けば No. 1〜 No.6と も に同一であ る。 こ の結果表 1 のサ ン プル No. 1〜 No.6の各色に示す色合い の も のが得 られ、 外観は表面にややかすみがか っ た鏡面 の風合いを呈す る装飾品用 シ リ コ ン を作 っ た。 こ のサ ン プルを第 1 図(a) に示す。 符号 1 は シ リ コ ン酸化膜、 符 号 2 は シ リ コ ンであ る。 ま た第 1 図 と第 10図(a) は同 じ も のであ り 、 (b)は (a)の一部を平坦に けず っ た もの、 (c)は (a)に ピ ン 穴 加工 し た も の で あ る 。 ま た (d)、
(e)、 (f)、 (q)は (a:)、 (b)それぞれに貫通穴をあ け た も のでネ ッ ク レ ス用 な どに加工 した も のであ る。
A 項 目 条 件
酸 化 温 度 1085°C 酸 素 流 量 50ccZ分 (Wet) 置換用ガス N2 20 /分
酸 化 時 間 Να ΐ , 7, 13, 19, 25, 31 ···· - 8分 30秒
Να2, 8, 14, 20, 26, 32 …- - 9分
Να3, 9, 15, 21, 27, 33 -" ·· 9分 30秒
Να4 , 10, 16, 22, 28, 3 …- ·· 16分 15秒
Να5, 11, 17, 23, 29, 35 ···· '· 24分
Να6, 12, 18, 24, 30, 36 …- ,· 35分
サンプル Να 色 外 観
Να 1 金
Να2 金
黒真珠色状
Να3 赤 金
ややかすみかかつた鏡面
Να 青 金
球状単結晶
Να5 黄 綠 第 2 図(b) は、 板状 シ リ コ ン ピー ス両端の一方側面角 部に R を設けた も の に、 前記第 2 図(a) の も の と 同様の 処理を行 っ た例の斜視図であ り 、 その結果は第 2 図(a) の場合 と ほ と ん ど同様であ っ た。
(第 2 の実施例)
第 2 の発明の一実施例について説明す る。 本実施例の 特徴は、 フ ッ 酸処理工程後に N H洗浄工程を導入 した こ とであ る。 すなわち、 半導体製造に用 い られる シ リ コ ン 多結晶イ ン ゴ ッ ト カ、 ら ス ラ イ サー に よ り 5 mm厚のゥ エ ー ハ を多数枚切 り 出 し 、 鏡面研磨 し た。 さ ら に こ れ ら の ゥ エ ー ハか ら切断機 を 用 い て縦 50mm X 横 7 mmの板状 に カ ツ 卜 した シ リ コ ン板 600〜 700枚を得た。 洗浄後、 こ れ ら の カ ツ ト さ れた シ リ コ ン板を常温で フ ッ 酸濃度 10Wt % の溶液 ( 70て ) に 5 分間浸漬 したのち、 純水で洗浄 し て乾燥 した。 つづいて NH40H : H 202 : H20= 10 : 7 : 83 ( Wt % ) 溶液 ( 85eC ) で 30分間 N H洗浄を行な い、 シ リ コ ン板表面に異方性の細かいス リ ッ ト エ ッ チ ン グ処理を 施 した。 以上の処理が施さ れた各 シ リ コ ン板を出発材料 と して以下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を製作す る。 こ れ を実施例 1 の酸化膜付け条件同様各 100個づっを 1 グル ー プ と して 6 グルー プに分け、 石英ボー ト に搭載 した。 前記 A表に示 した酸化処理時間にそれぞれ対応 さ せ酸化 炉で酸化膜付けを行 っ た。 処理条件は時間を除けば N 0. 7 ~ No. 12 と も に 同一で あ る 。 こ の結果表 2 のサ ン プ ル No.7〜 No. 12 の各色に示す色合いの も のが得 られ、 外観 は実施例 1 よ り やや濃 いかすみがか っ た鏡面の風合 い を 呈す る 装飾品用 シ リ コ ン を作 っ た。 こ のサ ン プルを第 2 図 (a) に示す。 符号 1 は シ リ コ ン酸化膜、 符号 2 は シ リ コ ン で あ る 。
Figure imgf000010_0001
(第 3 の実施例)
第 3 の発明の一実施例 について説明す る 。 本実施例の 特徴 は フ ッ 酸処理工程 と 、 ア ル カ リ エ ッ チ ン グ工程を導 入 した こ と であ る 。 すな わ ち 、 半導体製造 に用 い られ る シ リ コ ン 多結晶 ィ ン ゴ ッ ト カ、 ら ス ラ イ サ ー に よ り 厚 さ 8 mmの ゥ ヱ ー ハを多数枚切 り 出 し、 研磨 し た。 更に こ れ ら の ゥ ェ か ら超音波振動 ホ ー ン装置を用 いて 10mm径の 円柱状 ピー ス を 600か ら 700個型抜 き し、 宝石様に ダイ ャ型の鏡面カ ツ ト ピ ー ス を得た。 洗浄後、 こ れ ら の カ ツ ト ピー ス を常温で 10Wt% フ ッ 酸溶液 に 15分浸漬 したの ち 純水で洗浄 して乾燥 し た。 つづいて K0H : H20= 15 : 85 ( W t % ) 溶液 ( 90°C ) で 7 分間ア ル カ リ エ ツ チ ン グ した のち、 純水で洗浄 して乾燥 した。 以上の処理が施 さ れた 各 ピー スを出発材料 と して以下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を製作す る。 100個を 1 グルー プ と して 6 グルー プに 分け、 石英ボー ト に搭載 した。 希望の酸化膜色を得る た め、 前記 A表に示 した酸化膜処理時間にそれぞれ対応 さ せ酸化炉で酸化膜付けを行 っ た。 処理条件は時間を除け ば No. 13 〜Νο. 18 と も に同一であ る。 こ の結果表 3 のサ ン プル No. 13 〜Νο. 18 の各色に示す色合いの ものが得 ら れ、 外観は細かいス リ ッ ト 状の く も り を有 し、 実施例 1 に比べ起伏のあ る半光沢面の風合いを呈 した多結晶モザ イ ク 模様の装飾品用 シ リ コ ン と な っ た。 尚、 多結晶をァ ル カ リ エ ッ チ ン グ液で処理す る と 異方性のエ ッ チ ン グ
{垂直方向 と水平方向へのエ ッ チ ン グ速度の差があ り 、 結晶方位に よ っ て粗密の結晶が有 り 、 エ ッ チ ン グの と る 量が見かけ上違 う た め粗面(100) 面で早 く 、 密面(111 ) 面で遅 く な る。 ま た多結晶の一つ一つの結晶面がそれぞ れ面方位及び面角度が違 う ため、 エ ッ チ ン グス ピ一 ドに 差がでて段差がで き 、 モ ザ イ ク 模様がは っ き り でて く る。 } を行な っ た。 こ の操作に よ り 最終工程の酸化膜付 け後の シ リ コ ン 表面が、 輝 き を呈す る 様な サ ン プル を 作 っ た。 こ のサ ン プルを第 3 図に示 し符号 1 は シ リ コ ン 酸化膜、 符号 2 は シ リ コ ンであ る。 サンプル NCL 色 外 観
Να13 金
黒具珠&状
Να14 金
細かいスリッ ト状のくもり
Να15 赤 金
起伏のある半光沢面
Να16 青 金
多結晶モザィク
Να17 Λ 綠
ダイヤ型力ッ ト
Να18 青 紫
(第 4 の実施例)
第 4 の発明の一実施例について説明す る。 本実施例の 特徴は、 フ ッ 酸処理工程 と、 ア ルカ リ エ ッ チ ン グ工程 と Ν Η洗浄工程 と を導入 した こ と である。 すなわち、 シ リ コ ン単結晶素材を用 いて得た円柱状 ピー ス 600〜 700個 に鏡面仕上げの施さ れていない宝石様の ダイ ヤ型カ ツ ト を行 っ た物を常温で 55ft't% フ ッ 酸溶液 ( 10 ) に 120分 浸潰 したのち、 純水で洗浄 して乾燥 した。 つづいて NaOH
: H20= 15 : 85 ( Wt% ) 溶液 ( 90。C ) で 15分間ア ル力 リ エ ッ チ ン グ し、 次に NH40H : H202 : H20= 10 : 7 : 83
( Wt % ) 溶液 ( 85'C ) で 30分間 N H洗浄 し、 乾燥を行 つ た。 以上の処理が施さ れた各 ピー スを出発材料 と して以 下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を製作する。 100個を 1 グ ルー プ と して 6 グルー プに分け、 石英ボー ト に搭載 した 希望の酸化膜色を得る ため、 前記 A表に示 した酸化処理 時間にそれぞれ対応 さ せ酸化炉で酸化膜付けを行 っ た。 処理条件は時間 を除 けば No. 19 - No. 2 と も に同一であ る。 こ の結果表 4 のサ ン プル No. 19 〜 No. 24 の各色に示 す色合いの も のが得 られ、 外観は表面が細かいス リ ツ 卜 状をな し、 く も り を有 し、 実施例 3 よ り 表面に起伏があ り 、 半光沢の風合いを呈 した装飾品用 シ リ コ ン のサ ン プ ルを作 っ た。 こ のサ ン プルを第 3 図に示す。 符号 1 は シ リ コ ン酸化膜、 符号 2 は シ リ コ ンであ る。
表 4
Figure imgf000013_0001
(第 5 の実施例)
第 5 の発明の一実施例について説明す る。 本実施例の 特徴は、 加工層の残 っ た多結晶素材を用 いて フ ッ 酸処理 工程 と ア ルカ リ エ ッ チ ン グ工程を導入 した こ と であ る 。 すなわち、 半導体製造に用 い られる シ リ コ ン多結晶イ ン ゴ ッ ト カ、 ら ス ラ イ サー に よ り 10mm厚のゥ ェ 一ノヽを 100枚 ス ラ イ ス し、 こ れ らの ゥ ヱ 一ハか ら切断機を用 いて縦 40 mm x 横 20mmの長方体状 に シ リ コ ン を カ ッ ト し て 600〜 700個を得た。 こ の素材を研磨 し、 鏡面の楕円体状 シ リ コ ン ピー スを出発材料 と して以下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を得た。 楕円体状 シ リ コ ン の各 ピー スを常温で 30Wt % フ ッ 酸溶液 ( 30°C ) に 30分浸潰 したのち、 純水で洗浄 して乾燥 した。 つづいて KOH : H 20 = 25 : 75 ( Wt % ) の 溶液 ( 90eC ) で 3 分間ア ルカ リ エ ッ チ ン グを行な っ たの ち純水で洗浄 して乾燥 した。 以上の処理が施さ れた各 ピ — スを出発材料 と して以下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を 製作する。 100個を 1 グルー プ と して 6 グルー プに分け 石英ボー ト に搭載 した。 希望の酸化膜色を得る ため、 前 記 A表に示 した酸化処理時間にそれぞれ対応さ せ酸化炉 で酸化膜付けを行っ た。 処理条件は時間を除けば No. 25 〜 No. 30 と も に同一であ る 。 こ の結果表 5 のサ ン プル No. 25 〜 No. 30 の各色に示す色合いの も のが得 られ、 外 観は表面に多少光沢があ る多結晶模様を有 した、 装飾品 用 シ リ コ ン を作 っ た。 こ のサ ン プルを第 1 図(b) に示す 符号 1 は シ リ コ ン酸化膜、 符号 2 は シ リ コ ン であ る。
サンプル Να 色 外 観
Να25 金
ΒΒ ¾" 1+ Λ 4-ls.
黒具珠" £
Να26 金
少しく もりで
Να27 赤 金
多少光沢がある
Να28 青 金
楕円状多結晶模様
Να29 黄 綠
滑らかで結晶粒界が見える
Να30 青 紫
(第 6 の実施例)
第 6 の発明の一実施例を説明す る。 本実施例の特徴は 加工層の残 っ た単結晶素材を用 いて フ ッ 酸処理工程 と ァ ルカ リ エ ッ チ ン グ工程 と N H工程洗浄工程を導入 した こ とであ る。 すなわち、 実施例 5 と 同様に宝石様の ダイ ヤ 型 カ ッ ト と 洗浄 を行い、 : れ ら の カ ツ 卜 さ れた ピ ー ス
600〜 700個を乾燥 した。 こ れ らのカ ツ ト さ れた各 ピー スを常温で 55Wt % フ ッ 酸溶液 ( 20。C ) に 30分浸潰 し た の ち純水で洗浄 して乾燥 した o 次いて K0H : H 20 = 25 : 75
( Wt % ) の溶液 ( 90。C ) で 15分間ア ルカ リ エ ッ チ ン グを したのち、 純水で洗浄 して乾燥 した。 以上の処理が施 さ れた各 ピー スを出発材料 と して以下の工程で装飾品用 シ リ コ ン を製作す る。 100個を 1 グルー プ と して 6 グルー プに分 け、 石英ボー ト に搭載 した。 希望の酸化膜色を得 る ため、 前記 A表に示 した酸化処理時間にそれぞれ対応 さ せ酸化炉で酸化膜付けを行 っ た。 処理条件は時間を除 けば No. 31 - No. 36 と も に同一であ る。
こ の結果表 6 サ ン プル No. 31 〜 No. 36 の各色に示す色 合いの ものが得 られ、 外観は実施例 1 よ り も く も り が濃 く 、 鈍い光沢があ る 単結晶を呈す る装飾品用 シ リ コ ン の サ ン プルを作っ た。 こ のサ ン プルを第 3 図に示す。 符号 1 は シ リ コ ン酸化膜、 符号 2 は シ リ コ ンであ る。
表 6
Figure imgf000016_0001
ま た上記実施例 1 か ら 6 の処理において フ ッ 酸処理条 件が異な る こ と を想定 した場合は、 特に温度が 10eCの場 合反応が遅いのでフ ッ 酸濃度の濃い液を使用 し、 シ リ コ ン表面を見なが ら時間をかけて表面を粗面化 した。 ま た フ ッ 酸濃度が薄い場合では、 フ ッ 酸溶液の温度を温めて 反応を良 く し、 シ リ コ ン表面を見なが ら時間調整を行い 表面を粗面化 した。
通常市販 さ れてい る フ ッ 酸の濃度は 50〜 55Wt %であ つ て、 最 も入手 しやす く 扱いやすい。 ま た特別注文で フ ッ 酸の濃度は 200Wt % も可能であ る が実際問題 と して 56Wt %以上の濃度では発煙性が強 く な り 開 口 容器に移 した場 合ガス化 しやすいので濃度が安定せず、 しか も 開 口 容器 にあ けてか らの経過時間で濃度バ ラ ツキが大 き く 変化 し 量産性には向かな い。
ま た希釈 した場合には フ ッ 酸濃度が : 1 OWt %未満では反 応が鈍 く な り 、 バラ ツキが生 じて く る。 ま た シ リ コ ン表 面を均一に粗面化す る に は時間がかか っ た り 、 さ ら に濃 度を薄 く す る と 溶液の温度を上げて も反応 しな く な り 、 シ リ コ ン表面を粗面化す る こ とができ ないので量産性に は向かない。
しか し、 フ ッ 酸の濃度が低い場合には溶液の温度を高 めに して粗面化 した り 、 フ ッ 酸の濃度が高い場合は溶液 の温度を低めにす る こ と で粗面化でき る。 そ の他ア ル 力 リ エ ッ チ ン グ後に、 酸 (塩酸な ど) で中和す る と洗浄時 間が短縮で き る。 膜厚は、 最低の も ので 0. 2〃 m ( No. 1 ) 最高の物で 0. 47 m ( No. 6) であ る。 ま た酸化膜の厚み が 3 z m前後 ま で得 られる も のは装飾性のあ る 色あ いを 呈す る。 酸化膜は厚みが ま す と酸化膜色が変化す る が、 均一に酸化膜をつけ る こ と で同一色を得る こ とがで き る。 但 し第 8 図を参照 して説明す る と 、 前記各実施例に よ る シ リ コ ン の酸化膜厚みは、 均一であ るが、 板面であ る た め、 見る 角度で実効膜厚が異な り 、 反射 して来る 光の色 が違 っ て く る。 こ れは酸化膜中を光が反射 して戻 っ て く る と き 、 斜めに見え る ほ ど、 酸化膜の厚みが増 したの と 同 じ状態にな る ためであ る 。
基材を多面体に形成す る と 、 均一厚みの酸化膜で も 、 それぞれの面で実効膜厚が こ と な る こ と か ら、 いろんな 色に輝 く 。 も ち ろん、 どの面 も直角 に見た場合は、 本来 の色合いに見え る。
尚、 酸化膜付けは 80 0〜 1 30 0 °C の温度範囲が実用的 であ る。
(第 7 の実施例)
実施例 2 に用 いた も の と 同様に酸化膜付け加工 した シ リ コ ン板に、 通常半導体素子製造の際採用 さ れる 「 レ ジ ス ト 塗布 — 窓開け」 方法に よ り 、 酸化膜を部分的に一定 深 さ だけエ ッ チ ン グ して規定量の酸化膜を残 した。 レ ジ ス ト を除去 して、 酸化膜厚の異な る部分が混在する シ リ コ ン装飾品を得た。 こ の様子を第 5 図(c ) に示す。 膜厚 が部分的に異な る こ とか ら、 同一面において も様々 な色 合いを呈する装飾品 と な つ 7"こ o 7よ お、 第 5 図 ( a ) 乃至(c ) は本実施例での シ リ コ ン装飾品を製造す る一工程を順を 追 っ て示 した ものでめ る 。 符号 1 0はフ オ ト レ ジ ス ト を示 す。
なお、 本実施例では、 窓開 け部分の酸化膜を任意の厚 みを残 した状態に と どめたが、 第 6 図 (c )に示すよ う に、 エ ッ チ ン グで完全に取 り 除 けば、 シ リ コ ン 自身の表面を 露出 さ せる こ とが出来る か ら、 金属光沢が混在 した よ う な シ リ コ ン装飾品 と する こ とが出来る。 第 6 図(a ) 乃至 ( c ) も 第 5 図(a ) 乃至(c ) 同様、 製造工程を順を追 っ て 示 している。
ま た酸化膜の部分的除去は、 「 レ ジス ト 塗布 - 窓開 け」 方法に よ らな く て も 、 面上に適当 に H F 等のエ ッ チ ン グ 剤を滴下 した り 、 噴霧 した り 、 刷毛塗 した り する こ と 力 でき る。 その他研磨パ ッ ト 等で、 研磨 した り する こ と で も可能であ る。
さ らに、 窓開 けは、 マ ス ク を用 い る こ と に よ り 、 文字、 数字、 記号、 絵記号、 ブロ ッ ク パ タ ー ン 、 幾何図形等が でき る ので、 フ ァ ッ シ ョ ン性、 カ ラ フ ル性の趣向を凝 ら した シ リ コ ン装飾品を得る こ と も でき る。 その一例を第 7 図(a ) 〜(c ) の上面図で示す。
ま た、 本発明の応用例 と して第 9 図(a ) , ( b )で示す如 く 、 曲面 と カ ッ ト 部を有す る シ リ コ ン装飾品 も得 られ る。 第 9 図においては (a )は上面図、 (b )は側面図であ る。 こ の よ う に、 多結晶 シ リ コ ン基板を用 いてモザイ ク 模様 を呈す る 、 例えば、 壁材ゃ表札、 変わ っ た も の と して は 位牌等があ る 。
尚、 本発明の前記各実施例に よ り 得 られ る も のは、 専 ら ネ ク タ イ ピ ン やネ ッ ク レ スの よ う に組込 ま れる こ と を 想定 してな さ れた も のであ るが、 た と えば、 動物の置物 のよ う に、 最終形状に ま で シ リ コ ン を加工 した後に、 酸 化膜付けを行なえば、 それ 自 体が装飾品 と して完成 さ れ た も のに な る 。
本発明の シ リ コ ン装飾品は、 その表面の薄い酸化膜の ため、 極めて美麗な外観を呈 し、 特に、 表面が鏡面処理 さ れた平面を有す る も のは、 南洋にわずかに天然に採れ る 、 黒真珠 と 同様 も し く はそれ以上の外観を呈する。 こ う した装飾品が、 い ろんな形状で安価で提供さ れれば、 世の女性の美への願望 も、 ま た叶え られる こ と にな る。 ま た男性用 には、 ネ ク タ イ ピ ンやカ フ スな どに、 色彩の あ る カ ラ フ ル性、 耐久性、 新規性、 応用性を秘めた、 シ リ コ ン装飾品を提供する。
酸化膜厚は、 その酸化条件を適宜選べば自 由 に制御で き る ため、 所望の輝き を持つ シ リ コ ン装飾品を再現性良 く 製造でき る。 た と えばカ ツ ト 面を有す る ものであ っ て も、 シ リ コ ン に関 しては加工上の問題はないか ら、 タ イ ピ ン な どの同一形状品の均質な も のを得る こ とができ 、 装飾品 と して充分価値のあ る も の と な る。 真珠等の よ う に天然の も のでは、 自 由 な形状に加工す る こ と は困難で あ る が、 本発明の シ リ コ ン装飾品では、 大き さ 、 形状が 自 由 に選べる上、 加工 も 自 由 であ るか ら、 様々 な分野の 装飾に応用でき る。
さ ら に、 シ リ コ ン の酸化膜は、 いわゆ る石英 と同一の も のであ る か ら、 硬度が高 く 、 耐薬品性、 耐熱性 も優れ てお り 、 天然の真珠や、 その他 どのよ う な イ ミ テー シ ョ ン よ り 耐久性があ る。 長期間に及ぶ使用 では、 真珠は汗 を吸 っ て変質劣化す るが、 本発明に よ る シ リ コ ン装飾品 は安定であ る 。 ま た 、 比重 を み る と 、 真珠の場合、 約 2 . 9 、 シ リ コ ン は約 2 . 3であ る か ら、 身に付けて も重 く 感 じ る こ と はな い。 さ ら に、 シ リ コ ン酸化膜は、 不活性 であ る ため、 最近頓に問題にな っ て き て いる金属ア レ ル ギ一の よ う な、 人体への悪影響 も全 く な い。 ま た本発明 は シ リ コ ン の酸化膜に よ る光の干渉作用 を利用 してい る も のであ るが、 窒化膜に よ っ て も 同等の作用効果を期待 でき る。 窒化腠は酸化膜よ り さ ら に硬度が高 く 安定であ る ので、 特に保護膜をかねての利用が可能であ る。
産業上の利用分野
本発明は、 鏡面仕上げ した又は鏡面仕上げを していな ぃ シ リ コ ン単結晶又は多結晶体を本発明方法に よ り 処理 して酸化膜付けを行な う こ と に よ り 色彩のあ る カ ラ フ ル 性、 耐久性、 新規性かつ応用性のあ る シ リ コ ン装飾品を 得る こ とができ る。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 鏡面 仕上 げ し た シ リ コ ン 表 面 に 1 0〜 5 5 W t % 濃度 フ ッ 酸溶液を接触 さ せて前処理 し、 酸化膜付 けを行 う こ と を特徴 と す る 装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
2 . 鏡面仕上 げ し た シ リ コ ン 表面 に 1 0〜 5 5 W t % 濃 度 フ ッ 酸溶 液 を接触 さ せて前処理 し 、 さ ら に N H 洗浄 を 行 っ た の ち 、 酸化膜付 け を行 う こ と を特徴 と す る 装飾品 用 シ リ コ ン の製造方法。
3 . 鏡面 仕上 げ し た シ リ コ ン 表面 に 1 0〜 5 5 W t % 濃度 フ ッ 酸溶液を接触 さ せて前処理 し、 さ ら に ア ル カ リ エ ツ チ ン グを行 っ たの ち 、 酸化膜付 け を行 う こ と を特徴 と す る 装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
4 . 鏡面 仕上 げ し た シ リ コ ン 表面 に 1 0〜 5 5 W t % 濃度 フ ッ 酸溶液を接触 さ せて前処理 し、 さ ら に ア ル カ リ エ ツ チ ン グを し、 N H 洗浄 して酸化膜付 けを行 う こ と を特徴 と す る 装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
5 . 鏡面仕上 げの施 さ れて いな い シ リ コ ン 表面に 1 0〜 5 5 W t % 濃度 フ ッ 酸溶液 を接触 さ せて前処理 し、 さ ら に ァ ル カ リ エ ッ チ ン グを行 っ たの ち、 酸化膜付 け を行な う こ と を特徴 と す る 装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
6 . 鏡面仕上 げの施 さ れて いな い シ リ コ ン表面に 1 0〜 5 5 W t % 濃度 フ ッ 酸溶液を接触 さ せて前処理 し、 さ ら に ァ ル カ リ エ ッ チ ン グを し、 N H 洗浄を行 っ た の ち 、 酸化膜 付 け を行 う こ と を特徴 とす る 装飾品用 シ リ コ ン の製造方 J 法 o
7 . 前記フ ッ 酸溶液に よ る 処理が 1 0 ° (:〜 7 0 °Cの温度範 囲で行われる こ と を特徴 とす る請求項 1 乃至 6 の いずれ か一項に記載の装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
8 . 前記酸化膜付け後の酸化膜を部分的に除去する こ と を特徴 とす る請求項 1 乃至 7 のいずれか一項に記載の 装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
9 . 上記シ リ コ ンが多結晶又は単結晶素材であ る こ と を特徴 とする請求項 1 ない し 8 のいずれか一項に記載の 装飾品用 シ リ コ ン の製造方法。
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