JPH0339102A - 板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤 - Google Patents
板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤Info
- Publication number
- JPH0339102A JPH0339102A JP17177589A JP17177589A JPH0339102A JP H0339102 A JPH0339102 A JP H0339102A JP 17177589 A JP17177589 A JP 17177589A JP 17177589 A JP17177589 A JP 17177589A JP H0339102 A JPH0339102 A JP H0339102A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- plate
- single crystal
- metal
- article according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 5
- 238000000259 microwave plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 11
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 4
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282342 Martes americana Species 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Adornments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、片面渣たは両面の加工された板状メ
金属装飾品または同様なバッジ、/ダル普たは文字盤に
関する。
関する。
従来の技術
この種の板状金属装飾品は、装飾品工業の固定した生産
品に属する。これらの装飾品は単独の装身具、例えば耳
飾シとして身につけられるか、または例えばネックレス
または腕飾りの場合の装飾部分を形成する。この場合こ
のような板状金属装飾品の表面はいろいろな仕方で加工
され、この際該板状装飾品は鏡面的に平滑に研磨されて
いるかまたはそれらの表面に構造を有していてもよい。
品に属する。これらの装飾品は単独の装身具、例えば耳
飾シとして身につけられるか、または例えばネックレス
または腕飾りの場合の装飾部分を形成する。この場合こ
のような板状金属装飾品の表面はいろいろな仕方で加工
され、この際該板状装飾品は鏡面的に平滑に研磨されて
いるかまたはそれらの表面に構造を有していてもよい。
該板状装飾品の材料はアルミニウムから貴金属に及ぶ。
貴金属、特に@釦よび金は一般にはそれらの金属色のi
tにしておく。アルミニウムの場合には種々の色調で陽
極酸化を行なった。チタンの電気メツキ的加工の場合も
同様に行なう。1 m7未満の粗面深さを有する鏡面加
工表面の場合には、有利には硬質表面を有する金属、一
般には鏡面光沢をできるだけ長く保つために表面の熱処
理された金属を使用する。しかしながらこのような硬質
物質、つt、6炭化物、窒化物、硼化物および珪化物は
加工が比較的困難である。従ってこれらの材料から成る
装飾品は比較的高価であり、前記の金属、特に価格的に
ほぼ同価の貴金属と比べて従来装飾品としてばあ1り評
価され得なかった。しかし1 myの前記範囲未満の粗
面深さを有する鏡面加工金属表面は、ほかならぬ装飾分
野に関しては極めて有利な光学的特性を有する。需要の
多い装飾品をもたらすこれらの特性はまた、な1別の付
加的表面加工、例えば構造化または被覆によって他の光
学的効果、他の有利で、装飾的な効果を得て豊富化され
る可能性がある。
tにしておく。アルミニウムの場合には種々の色調で陽
極酸化を行なった。チタンの電気メツキ的加工の場合も
同様に行なう。1 m7未満の粗面深さを有する鏡面加
工表面の場合には、有利には硬質表面を有する金属、一
般には鏡面光沢をできるだけ長く保つために表面の熱処
理された金属を使用する。しかしながらこのような硬質
物質、つt、6炭化物、窒化物、硼化物および珪化物は
加工が比較的困難である。従ってこれらの材料から成る
装飾品は比較的高価であり、前記の金属、特に価格的に
ほぼ同価の貴金属と比べて従来装飾品としてばあ1り評
価され得なかった。しかし1 myの前記範囲未満の粗
面深さを有する鏡面加工金属表面は、ほかならぬ装飾分
野に関しては極めて有利な光学的特性を有する。需要の
多い装飾品をもたらすこれらの特性はまた、な1別の付
加的表面加工、例えば構造化または被覆によって他の光
学的効果、他の有利で、装飾的な効果を得て豊富化され
る可能性がある。
発明が解決しようとする課題
従って本発明の課題は、
1)安価であり、
2)金属当業者にとって慣用の手段を用いて容易に加工
することができ、 3)表面が硬質であシ、 4)有利な光学的効果が得られるように加工することの
できる材料を提案することである。
することができ、 3)表面が硬質であシ、 4)有利な光学的効果が得られるように加工することの
できる材料を提案することである。
課題を解決するための手段
前記課題は、本発明により片面lたは両面にそれぞれ0
.01〜2 myO層厚を有する、1個以上の同様のま
たは化学的に別種の構造化された層の施されている、平
滑なまたは構造を有する板状単結晶によって解決される
。
.01〜2 myO層厚を有する、1個以上の同様のま
たは化学的に別種の構造化された層の施されている、平
滑なまたは構造を有する板状単結晶によって解決される
。
単結晶の使用は上記課題の第−点(安価であること)に
矛盾するように思われる。しかし単結晶は、このような
板状金属装飾品の他の処理を容易にし、ひいては安価に
する特性を有するのみならず、lたその間極めて大量に
必要となり、従って大工業的にかつ安価に製造される1
3単結晶は、多結晶と反対に、はぼ平行な単細胞を有し
かつ結晶粒界のない結晶体である。該装飾品の製造の際
にはこの特性を利用して板状装飾品の平面を結晶面に置
く。従って入射光は常き に同じ佃メで所望のように反射するが、多結晶の場合に
はそれぞれの結晶粒が異なる方向に光を反射する。した
がって所望の鏡面を、この上うな単結晶を用いることに
よって、多結晶ないしは非晶質金属の場合よシもはるか
に容易にかつ明らかにより小さい粗面深さで得ることか
できる。筐たこのような単結晶の場合にはナノ範囲(下
限は約5 nm )の粗面深さが得られる。
矛盾するように思われる。しかし単結晶は、このような
板状金属装飾品の他の処理を容易にし、ひいては安価に
する特性を有するのみならず、lたその間極めて大量に
必要となり、従って大工業的にかつ安価に製造される1
3単結晶は、多結晶と反対に、はぼ平行な単細胞を有し
かつ結晶粒界のない結晶体である。該装飾品の製造の際
にはこの特性を利用して板状装飾品の平面を結晶面に置
く。従って入射光は常き に同じ佃メで所望のように反射するが、多結晶の場合に
はそれぞれの結晶粒が異なる方向に光を反射する。した
がって所望の鏡面を、この上うな単結晶を用いることに
よって、多結晶ないしは非晶質金属の場合よシもはるか
に容易にかつ明らかにより小さい粗面深さで得ることか
できる。筐たこのような単結晶の場合にはナノ範囲(下
限は約5 nm )の粗面深さが得られる。
しかしこの値を越えている、例えば20 D nmの粗
面深さでも、前記光学的効果のためには、なふ・申し分
ない鏡面であると認められる。従って少し高い単結晶の
製造費も引続き行なわれる加工の際に補償され、さらに
多結晶材料の場合には得られない所望の光学的効果がも
たらされる。
面深さでも、前記光学的効果のためには、なふ・申し分
ない鏡面であると認められる。従って少し高い単結晶の
製造費も引続き行なわれる加工の際に補償され、さらに
多結晶材料の場合には得られない所望の光学的効果がも
たらされる。
捷た該材料の値段は、特に珪素から成るこのような単結
晶が極めて多量に必要とされており、さらにこの1珪素
ウェファ−”がすでに板状で存在することによっても低
減される。
晶が極めて多量に必要とされており、さらにこの1珪素
ウェファ−”がすでに板状で存在することによっても低
減される。
このような板の相互に平行に存在する面は同時に結晶面
も形成するので、前記珪素ウェファの両面も品質の損失
なしに難なく加工することができる。
も形成するので、前記珪素ウェファの両面も品質の損失
なしに難なく加工することができる。
さらにまた、該板状単結晶を当業界で慣用の方法で構造
化することもできる。これらの方法は、電子部品の製造
のために必要なのですでに大工業的に使用されておシ、
従って周知であるのみならず、また特に多量の個数で使
用すると安価である。
化することもできる。これらの方法は、電子部品の製造
のために必要なのですでに大工業的に使用されておシ、
従って周知であるのみならず、また特に多量の個数で使
用すると安価である。
これらの鏡面を有する板状単結晶は、すでに極めて高い
装飾価値を有している。この装飾価値は、本発明により
、単結晶の一面または両面に、それぞれ0.01〜2m
yの層厚を有する1個以上の同様なまたは化学的に別種
の構造化され九層を施すことによって、なふ・も高めら
れる。
装飾価値を有している。この装飾価値は、本発明により
、単結晶の一面または両面に、それぞれ0.01〜2m
yの層厚を有する1個以上の同様なまたは化学的に別種
の構造化され九層を施すことによって、なふ・も高めら
れる。
理論的には、2my未満の層厚の極めて薄い層を:独特
な特性を有することは公知である。この内実は吸光係数
の減少にもかかわらず同時に層yの減少と共に屈折率が
著しく増大することに5係している。表面におけるなら
びに半透明の滓い層によれば結晶面における多重反射に
よつ1注目すべき光の反射効果をもたらす利点が得(光
学的特性を示す。実験によれば、これらの層の0.05
0〜約2myの厚さは、平均波長0.545myの日光
の入射の際、全分光色を越えて濃い4属的な暗青色乃至
暗赤色の種々の色を生じることが判った。従って層厚の
影響によって、板υ金属製飾品のその都度所望される色
を決めることが容易にできる。もちろんこのような明確
4色は、支持体が単結晶において可能な、前記Cような
微小の粗面深さを有する場合のみ達成壊れる。従って粗
面深さは、人間の眼にとって富識可能な金属色を生じさ
せる層厚よシも著しく小さくなければならない。
な特性を有することは公知である。この内実は吸光係数
の減少にもかかわらず同時に層yの減少と共に屈折率が
著しく増大することに5係している。表面におけるなら
びに半透明の滓い層によれば結晶面における多重反射に
よつ1注目すべき光の反射効果をもたらす利点が得(光
学的特性を示す。実験によれば、これらの層の0.05
0〜約2myの厚さは、平均波長0.545myの日光
の入射の際、全分光色を越えて濃い4属的な暗青色乃至
暗赤色の種々の色を生じることが判った。従って層厚の
影響によって、板υ金属製飾品のその都度所望される色
を決めることが容易にできる。もちろんこのような明確
4色は、支持体が単結晶において可能な、前記Cような
微小の粗面深さを有する場合のみ達成壊れる。従って粗
面深さは、人間の眼にとって富識可能な金属色を生じさ
せる層厚よシも著しく小さくなければならない。
本発明により研磨された単結晶上に施されている化学的
に別種の層は、本発明によれば金属または金属化合物よ
シ構成されていてよい。金属または金属化合物は必ず高
い複素屈折率を有しなければならず、これは一般には前
記の硬質物質、すなわち炭化物、窒化物、硼化物および
珪化物の場合に該当する。これはlた半導体についても
該当し、この場合珪素が好筐しい。さらに金属化合物の
場合には、硬質表面を生じるような化合物、従って特に
窒素、酸素、IM素および炭素を有する化合物が好!し
い。しかしこの場合安価な製造も重要になるので、本発
明によれば化合の相手として有利には酸素または窒素を
選択する。このような化学的に別種の層の極めて簡素で
、ひいては安価な製造は、単結晶の片面または両面を直
接酸化または窒化させることによって達成される。公知
法の場合、例えば通過炉での処理の場合には、酸素また
は窒素の浸透深さを極めて精密に制御し、ひいてはもち
ろん彩色にとって重要な核層の厚さも制御することがで
きる。もちろんこの化学的に別種の層は化学的蒸着法(
CVD ; LPCVD ; PECVD ;NPCV
D )により施してもよい。また両方法を組合せて適用
してもよく、従って例えば単結晶を酸化させ、次いで好
1しくはエツチング法で構造化し、次に別個の層を施す
。この際この層はまた同様に構造化してもよいしまたは
板状単結晶の特定の面のみを被覆してもよい。筐た酸化
法と窒化法を順次に使用してもよく、この際例えば酸化
後に酸化層を部分的に除去し、次いで露出している珪素
層を窒化させる。また加工した板にさらに慣用の層を被
覆するかまたは印刷し、または凹部に貴金属を導入する
こともできる。また、板に同様にして凸部を設けること
ができることも自明である。
に別種の層は、本発明によれば金属または金属化合物よ
シ構成されていてよい。金属または金属化合物は必ず高
い複素屈折率を有しなければならず、これは一般には前
記の硬質物質、すなわち炭化物、窒化物、硼化物および
珪化物の場合に該当する。これはlた半導体についても
該当し、この場合珪素が好筐しい。さらに金属化合物の
場合には、硬質表面を生じるような化合物、従って特に
窒素、酸素、IM素および炭素を有する化合物が好!し
い。しかしこの場合安価な製造も重要になるので、本発
明によれば化合の相手として有利には酸素または窒素を
選択する。このような化学的に別種の層の極めて簡素で
、ひいては安価な製造は、単結晶の片面または両面を直
接酸化または窒化させることによって達成される。公知
法の場合、例えば通過炉での処理の場合には、酸素また
は窒素の浸透深さを極めて精密に制御し、ひいてはもち
ろん彩色にとって重要な核層の厚さも制御することがで
きる。もちろんこの化学的に別種の層は化学的蒸着法(
CVD ; LPCVD ; PECVD ;NPCV
D )により施してもよい。また両方法を組合せて適用
してもよく、従って例えば単結晶を酸化させ、次いで好
1しくはエツチング法で構造化し、次に別個の層を施す
。この際この層はまた同様に構造化してもよいしまたは
板状単結晶の特定の面のみを被覆してもよい。筐た酸化
法と窒化法を順次に使用してもよく、この際例えば酸化
後に酸化層を部分的に除去し、次いで露出している珪素
層を窒化させる。また加工した板にさらに慣用の層を被
覆するかまたは印刷し、または凹部に貴金属を導入する
こともできる。また、板に同様にして凸部を設けること
ができることも自明である。
これらの方法をすべて組合せることによって、通常の表
面加工では達成され得ない特有な光学的効果を得ること
ができる。すなわち凸部または凹部を予め設けることが
できる場合には、このような表面にホログラムを取付け
て、すべてのとの王うな別々の表面を極めて異なった色
で形成することもできる。
面加工では達成され得ない特有な光学的効果を得ること
ができる。すなわち凸部または凹部を予め設けることが
できる場合には、このような表面にホログラムを取付け
て、すべてのとの王うな別々の表面を極めて異なった色
で形成することもできる。
耐引掻性の硬質面に対する要求は、表面の窒化または酸
化によって極めて容易に成就することができる、それと
いうのも窒化または酸化によって引掻硬度(マルテン)
8よりも大きい硬度を得ることができるからである。
化によって極めて容易に成就することができる、それと
いうのも窒化または酸化によって引掻硬度(マルテン)
8よりも大きい硬度を得ることができるからである。
以上により1安価に製造でき、当業者にとって慣用の手
段によって容易に加工することができ、表面硬さを有し
、ひいては耐引掻性であって、装飾品にとって不可欠で
、従来知られなかった所望の光学的効果を有する板状金
属装飾品が得られる。
段によって容易に加工することができ、表面硬さを有し
、ひいては耐引掻性であって、装飾品にとって不可欠で
、従来知られなかった所望の光学的効果を有する板状金
属装飾品が得られる。
次に本発明の実施例を図面により説明する。
珪素から成る単結晶1には酸化によって酸化層2が設け
られている。この酸化層2は0.01〜2myの厚さa
を有しており1それによって前記の光学効果および単結
晶の彩色が得られる前記単結晶板の厚さbは平均約50
0TIIYである。
られている。この酸化層2は0.01〜2myの厚さa
を有しており1それによって前記の光学効果および単結
晶の彩色が得られる前記単結晶板の厚さbは平均約50
0TIIYである。
また酸化層2は極めて高い表面硬度も生せしめるので該
金属板はまた優れた耐引掻性も有している。
金属板はまた優れた耐引掻性も有している。
第2図によれば予め研磨した単結晶板1の上しである。
この層はまた一般に珪素単結晶中にもわずかに拡散して
いき、したがって単結晶を固く結合する。この場合にも
また、このようにして施された層3によって特有な彩色
効果の他に表面硬化が得られる。
いき、したがって単結晶を固く結合する。この場合にも
また、このようにして施された層3によって特有な彩色
効果の他に表面硬化が得られる。
第3図によれば、初めにエツチング法で珪素単結晶に凹
部を設け、然る後に同結晶を第1図で図示したように酸
化させた。残存する凹部4には別の金属層または金属化
合物層5を施しであるので、この層はその周囲の板面と
は色彩的に明瞭な対照をなしている。この場合にもまた
層厚aは、施された層の層厚Cと全く同様に0.01〜
2mVである。凹部の縁と縁との間のできるだけ小さい
間隔dは、使用すべきエツチング法に条件づけられて2
myである。
部を設け、然る後に同結晶を第1図で図示したように酸
化させた。残存する凹部4には別の金属層または金属化
合物層5を施しであるので、この層はその周囲の板面と
は色彩的に明瞭な対照をなしている。この場合にもまた
層厚aは、施された層の層厚Cと全く同様に0.01〜
2mVである。凹部の縁と縁との間のできるだけ小さい
間隔dは、使用すべきエツチング法に条件づけられて2
myである。
第4図には第3図の場合の逆方法を図示してあ夛、この
場合には先づ単結晶板を、凸部5が残るようにエッチし
、次にこれらの凸部を例えば窒化し、他方凸部の周囲を
酸化する。この場合にももちろんまた、前記凸部を明瞭
に際立たせる種々の彩・色効果が得られる。
場合には先づ単結晶板を、凸部5が残るようにエッチし
、次にこれらの凸部を例えば窒化し、他方凸部の周囲を
酸化する。この場合にももちろんまた、前記凸部を明瞭
に際立たせる種々の彩・色効果が得られる。
なお、この異方性材料の場合には種々の光の入射角によ
って他の光学効果が得られることも特記される。
って他の光学効果が得られることも特記される。
第1図は酸化された表面を有する単結晶の暗示断面図で
あり、第2図は施された層を有する単結晶の暗示断面図
であり1第3図および第4図は第1固転よび第2図によ
る方法を組合わせて得られる単結晶の暗示断面図である
。 図面の浄書(内容に変更なし) 手 続 補 正 書 (方式) %式% 事件の表示 平fit1 発明の名称 年 特許願 第 71775 号 板状金属装飾品または同様な・ζツノ、または文字盤 メダル 3゜ 補正をする者 事件との関係
あり、第2図は施された層を有する単結晶の暗示断面図
であり1第3図および第4図は第1固転よび第2図によ
る方法を組合わせて得られる単結晶の暗示断面図である
。 図面の浄書(内容に変更なし) 手 続 補 正 書 (方式) %式% 事件の表示 平fit1 発明の名称 年 特許願 第 71775 号 板状金属装飾品または同様な・ζツノ、または文字盤 メダル 3゜ 補正をする者 事件との関係
Claims (7)
- 1. 片面または両面にそれぞれ0.01〜2myの層
厚(a、c)を有する、1個以上の同様のまたは化学的
に別種の構造化された層(2、3)の施されている、平
滑なまたは構造を有する板状単結晶から成ることを特徴
とする、片面または両面の加工された板状金属装飾品ま
たは同様なバツジ、メダルまたは文字盤。 - 2. 化学的に別種の層(2、3)が金属または金属化
合物から成る請求項1記載の装飾品。 - 3. 金属または金属化合物が高い複素屈折率を有する
請求項2記載の装飾品。 - 4. 金属または金属化合物が半導体である請求項2ま
たは3記載の装飾品。 - 5. 化合の相手が酸素または窒素である請求項2から
請求項4までのいづれか1項記載の装飾品。 - 6. 金属化合物層が単結晶(1)の酸化物または窒化
物表面層である請求項5記載の装飾品。 - 7. 化学的に別種の層が化学的蒸着法(CVD;LP
VCD;PECVD:MPCVD)により施されている
請求項2記載の装飾品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17177589A JPH0339102A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17177589A JPH0339102A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0339102A true JPH0339102A (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=15929450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17177589A Pending JPH0339102A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0339102A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993017593A1 (en) * | 1992-03-06 | 1993-09-16 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Decorative silicon article |
US5922213A (en) * | 1994-08-01 | 1999-07-13 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Method for the manufacture of ornamental silicon articles |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP17177589A patent/JPH0339102A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993017593A1 (en) * | 1992-03-06 | 1993-09-16 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Decorative silicon article |
US5922213A (en) * | 1994-08-01 | 1999-07-13 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Method for the manufacture of ornamental silicon articles |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8883258B2 (en) | Protective coating of silver | |
JP4964892B2 (ja) | 装飾部品およびその製造方法 | |
JP5126996B2 (ja) | 装飾部品 | |
US5853826A (en) | Method of improving the color of transparent materials | |
US20070157666A1 (en) | Coatings for gemstones | |
JP2018104814A (ja) | 黄色層でコーティングされた真珠母基材 | |
WO2003056966A1 (fr) | Objet decoratif presentant un revetement blanc et son procede de fabrication | |
US4599251A (en) | Decorated article, method of fabricating the same and substrates used in connection therewith | |
JPS6137960A (ja) | 金属表面加工方法 | |
US5087528A (en) | Fashion article | |
JPH0339102A (ja) | 板状金属装飾品または同様なバツジ、メダルまたは文字盤 | |
JP2021168911A (ja) | 時計部品の製造プロセス | |
TWM247056U (en) | Jewel | |
JPS62270774A (ja) | 硬質透光膜で被覆した装飾品 | |
JPH0662914A (ja) | ダイヤモンド装身具及びその製造方法 | |
JP5328577B2 (ja) | 装飾品およびその製造方法 | |
JPH0525952B2 (ja) | ||
KR960041402A (ko) | 금속제품의 장식용발색 제조방법 | |
JP3144770B2 (ja) | 装身具用装飾体 | |
US20220297235A1 (en) | Method for manufacturing a ceramic-based external horological or jewellery part with patterned decoration | |
JPH04122203A (ja) | シリコン装飾品 | |
JPH09176836A (ja) | 製品表面への硬質装飾膜形成法 | |
JP2597834B2 (ja) | 白金製装飾工芸品 | |
JPS61153278A (ja) | 装飾品 | |
KR910004138A (ko) | 패션용품 |