WO1980002632A1 - Method of forming electrical wire paths on an insulator substrate - Google Patents

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WO1980002632A1
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M Takagi
S Nakayama
K Honda
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Matsushita Electric Works Ltd
M Takagi
S Nakayama
K Honda
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Definitions

  • Patent application title Method for forming an electrical wiring path on an insulated board
  • the present invention relates to a method for forming an electric wiring path on an insulated board, and more particularly, to an electric wiring path for arranging many electronic circuit components on a single substrate and connecting the electronic components to each other.
  • the present invention relates to a method for forming on an insulated substrate by electric plating.
  • a conductive metal material may be attached only to a portion of the insulating substrate where an electric wiring path is to be formed, and many methods have been proposed for this purpose. In these methods, a portion of the insulating board outside the electrical wiring path forming portion is masked, and a conductive metal material is attached only to a necessary portion on the insulating board. To do this, apply or print a masking material on the insulation board, or attach a soft packing material such as silicone rubber to the board. And are being conducted.
  • the above-mentioned method using a masking material requires a step of applying or printing the masking material and a step of peeling it off.]?
  • the process is complicated while the time required is long.3)
  • the positioning accuracy is maintained. It is difficult to implement and cannot be used for forming electric circuits in complicated electronic circuits.
  • the above-described method requires a more complicated process. Required, and the production time was prolonged.
  • the main object of the present invention is to make only the pattern of the electric wiring route a special feature! ) Can be formed,-metal materials such as copper can be saved, and electric wiring can be formed easily and efficiently on an insulating substrate.
  • An object of the present invention is to provide a method for forming an electric wiring path on an insulated substrate.
  • Another object of the present invention is to easily form the second plating layer on the plating layer formed on the insulating substrate, and to form the electric wiring formed on the insulating substrate. Corrosion resistance was selectively applied to the parts of the road where corrosion resistance was required.]) ', Or the parts of the electrical distribution lines that were particularly required to be soldered were selectively soldered. I got it!
  • a specially designed and easy-to-use specially energized 'large-capacity' distribution method for electrical wiring is to provide a method for forming an electric line above.
  • a mask body is adhered to an insulating substrate on which an extremely thin conductive metal layer is formed, and a metal mask is applied to remove the mask body. After removal, the portion of the metal layer to which the metal plating was not applied is removed, and if necessary, the second mask body is adhered to the metal cut layer, and furthermore,
  • the purpose described above is achieved by applying a metal plating.
  • the very thin metal layer ( 2 ) is not necessarily formed by electroless copper plating, but can be formed by methods such as copper vapor deposition and thermal spraying.
  • the metal is copper over almost the entire surface of one side of the insulating substrate (1) by electroless copper plating.] 9 and the thickness is as thin as 0.1 to 1
  • the mask (4) is brought into close contact with almost the entire surface of the extremely thin conductive metal layer (2).
  • the mask body 4 shown in FIG. 2 is an insulated sheet, such as a polyester film, which strikes a pattern where an electric wiring path needs to be formed. It may be a hole that has been pulled out and provided with a hole 3, or it may be a thin plate material with a thin ceramic, as shown in Fig. 3.
  • a very thin insulating film 5 having, for example, about 30 insulating films formed on the surface by providing the holes 3a may be used.
  • any material that can be easily adhered to the extremely thin conductive metal layer and that has a plating layer formed on the surface during electric plating can be used.
  • the mask body is adhered to a very thin conductive metal layer, it is made of a magnetic gold layer thin foil such as permalloy or cement.
  • the thickness of this mask body may be about 0.1 mm to 1.0 job, but when manufacturing a mask body in which the distance between the lines of the electric wiring is about 0.1, make the board thinner. It can be obtained by pitching or lasering.
  • the mask body (4) When the mask body is made of magnetic material, the top of the mask body (4) positioned in the recess (39a) of the base 39 as shown in FIG.
  • the insulating substrate (1) is placed on the mask body (1) such that the thin conductive metal layer (2) comes to the mask body (4) side, and in this state, the electromagnet ⁇ is insulated. Lower the magnet stone (I) at the position where the attracting surface 10a of the electromagnet (10) is in contact with the insulated substrate (1). ⁇ ) is closed, and the magnet (10 b) is energized and the mask (4) is attracted to the electromagnet (L0) with the insulating substrate (1) interposed and the 2 'process is completed. Therefore, the mask body (4) is made of a very thin conductive metal layer (2) on an insulated substrate (1).
  • the thickness of the insulating substrate depends on the attraction force of the electromagnet ⁇ ), but it is possible with only 2.0 jobs.
  • the electromagnet has a plurality of iron cores (10d) and (10d) '"having an attracting surface (10a), and the cores (10b), (10b) ... are one of the iron cores (10d).
  • the suction surface (10a) of the iron core (10d), which is mounted everywhere and the coil is mounted, is configured so that all the absorption surfaces (10a) have the same pole, and as shown in Fig. 4)
  • the iron core (10d) of the electromagnet shown in Fig. 4 (b) is fixed to the iron core (10d) in Fig. 4 (c) using epoxy resin so that the adsorption surfaces (10a) of all iron cores are the same.
  • the distribution of the lines of magnetic force can be made more uniform by arranging them in small sections as in ()).
  • a metal plating layer () made of copper is formed on the very thin conductive metal layer (2) from above the mask body (4).
  • the entire body may be submerged in a copper plating bath.
  • pressure is applied with a pump 7 as shown in Fig. 7.
  • a copper plating solution at a flow rate of, for example, 6 meters / second.
  • the extremely thin conductive metal layer (2) is brought into contact with the electrode 37] to form a cathode, and the space between the mask and the mask body (4) is set at about 5 mm.
  • the anode G8 In this way, spray the plating solution ⁇ ) for about 4 minutes. J?
  • On the very thin conductive metal layer (2) only the portion that serves as an electrical wiring path along the pattern of the hole (3) of the mask body (4) is approx.
  • the third metal step (5) is selectively formed to complete the third step.
  • the metal plating layer (5) is about 70, the plating time is doubled. During this process, a current of about 100 mm was passed between the anode and cathode. Therefore, the cathode $ 7) generated heat. The time required for this plating depends on the thickness of the metal plating layer (5), the amount of current, and the flow rate of the plating liquid).
  • the electromagnet is moved, and the coil of the electromagnet ⁇ ) is moved.
  • the metal film was formed on the very thin conductive metal layer (2) from above the mask body (4).
  • the required circuit pattern can be formed on the very thin conductive metal layer (2) by plating, and the thickness is even thinner.
  • metal main tree key layer (15) has is a formed electroless Kaikin ⁇ main Tsu key: the layer ') of' also is removed by removing the portion The amount of metal to be formed is small.
  • the metal plating layer (the mask at the time of formation) is used. The body (4) can be used many times without being damaged.
  • the mask body (4) punched out of the part that needs to be formed is a magnetic material
  • the mask (4) can be easily formed with magnets on the insulating substrate (1)
  • the feature is that the metal plating layer () is formed clearly.
  • the first mask body 7 which is almost the same as the mask body (4)
  • the mask body is magnetic
  • the second mask body 9 is the 10th
  • the second mask is placed on the first mask layer 8) from above the second mask body 9 ).
  • the first plating layer 08 is formed.
  • the second plating layer ⁇ is formed by using a metal such as gold or rhodium.
  • the layer ⁇ has corrosion resistance, and when this conductive layer is used as a sliding contact, in addition to the corrosion resistance, the contact reliability is improved, and the wear resistance is improved. Since the corrosion-resistant plating layer (22a) as shown in Fig. 12 can be selectively formed only on the electrical wiring paths where the electrical properties are required, it is extremely simple and efficient.
  • a sulfuric acid port dimming bath adjusted to a concentration of 80 g / m2 of sulfuric acid or sulfuric acid.
  • an organic film coating may be further provided on the second plating layer ⁇ to further improve the corrosion resistance.
  • a plating liquid for forming the second plating layer 3 ⁇ 4 for example, the following liquid is used.
  • the second plating layer? 2 can be formed on the solder plating layer, where solderability is required. Unnecessary since the solder plating layer can be selectively formed only on the electrical wiring paths It is not necessary to form a solder plating layer on the part, so that it is possible to efficiently and inexpensively add solderability to the electric wiring path, and even if the electric wiring path is complicated and delicate, it can be chipped. The chip terminals of the electronic components can be easily soldered to the printed circuit board. Furthermore, the second plating layer?
  • the first plating layer which is a copper plating layer as shown in FIG.
  • a thick copper plating layer (22b) can be partially provided on the layer, and only a part of the electric circuit path through which a high current flows is used.
  • a method of manufacturing the mask body 4 in which an insulative coating (5) is formed on the surface of a metal plate or metal butter pattern is provided by an insulating material on the metal pattern Immersion method, brush coating], electrodeposition coating, coating by ultraviolet irradiation, etc., but the durability and performance of the above-mentioned absolute coating (5) are not sufficient.
  • the effect of using the 'formation method' of the electrical wiring path was small. For example, copper is protruded (J) as shown in Fig. (A) because it is easily formed on the edge of the pinhole, especially at the edge], and Fig. (B)
  • the metallic pattern be insulatively coated with polynoraxylylene.
  • a mask for practical use is formed. There was found. That is, in FIG. 4, 4'a is a magnetic material such as an electromagnetic soft iron plate, an iron-cobalt alloy, or any other thin metal plate.3, an insulated coating made of polyparaxylene It is.
  • This polylinolexylene thermally decomposes the raw material paraxylylene at a high temperature (800 to 1000'C), and the pyrolyzed gas 23 is converted to the metal oxide a as shown in FIG. Then, it is polymerized on the surface of the metal plate 4 ⁇ to form an insulative coating of polyparaxylylene.
  • the basic structure is represented by the general formula as described in Japanese Examined Patent Publication No. 38243/1988 (name "Method for producing xylene polymer").
  • Table 1 shows that the insulating coating is formed by various methods and materials, and the insulating coating is formed by coating a metal pattern 4 ⁇ with a copper plating bath 24
  • the metal of the insulation-coated metal pattern 4a ' was used as a cathode, and the copper plate 25 was used as the anode.
  • the time required for the copper to be deposited on the surface of the turn 4a ' is shown in the column I of Table 1, and the metal pattern 4 with insulating coating is shown in Figure IS (b).
  • the time required for the replacement of copper in the copper plating bath 24 until the replacement of the copper in a state where no current is applied is shown in column II of Table 1.
  • a mask body (4) is adhered on the very thin conductive metal layer (2), and another embodiment is shown.
  • the mask body (4) is made of an insulative material or a non-magnetic metal plate with a very thin insulating film, vacuum suction is used.
  • OMPI A method of pressing and sticking, a method of attaching with scissors, and a method of applying an adhesive to a mask and adhering it to an insulating substrate can be considered.
  • Fig. 5 is an explanatory diagram when vacuum suction is applied.]
  • a very thin conductive metal layer is provided on the entire surface of the insulating substrate 1, and a very small through-hole 6 is provided at regular intervals.
  • a large number of suction cups 8, 8,... Provided with vacuum pumps 7 at one end are attached to the back side la of the insulating substrate 1, and the vacuum pumps 7 are actuated. 4 is adsorbed through very small through holes 6 provided in the insulating substrate 1.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram when vacuum suction is applied.]
  • a very thin conductive metal layer is provided on the entire surface of the insulating substrate 1, and a very small through-hole 6 is provided at regular intervals.
  • a large number of suction cups 8, 8,... Provided with vacuum pumps 7 at one end are attached to the back side la of
  • the mask body 4 is connected to a sinorex screen 9, and the phosphor screen 9 is pressed onto the very thin conductive metal layer and adhered.
  • Reference numeral 12 denotes a frame of Shinorex screen, and a frame '12 of ⁇ _ is rotatable about an axis 13 on an insulating substrate 1 on which a very thin conductive metal layer 2 is formed. Press it down.
  • the plating solution 4) is sprayed on the mask body (4).
  • FIG. 20 to FIG. 21 show still another embodiment, in which a flexible insulating band-shaped film / ream 1 is used as an insulating substrate 1.
  • This shows a method that is suitable for continuous production by using a '.' Mask body (4) is formed in a cylindrical shape, and the cylindrical outer surface of the cylindrical mask body ⁇ is formed.
  • a hole 3a is provided by punching out the pattern of the 'necessary part for forming an electrical wiring path'. Then, a very thin conductive metal layer 2 'is formed on the flexible strip-shaped finolem made of an insulating material.
  • the film is wound by a drum 9 and a film 16 is formed by forming a metal plating layer on the film 1 ', and then the film is wound by a drum 16 which winds the fin 1'. Then, tension is applied to the cylindrical mask body ⁇ to make it adhere to the surface of the cylindrical mask body ⁇ .
  • the drum 9 is provided with a brake to prevent it from rotating quickly, and the drum I 6 is gently rotated so that the cylindrical drum 4 'is rotated. Is configured to rotate around the support shaft 26 with the movement of the film 1 ′. Therefore, the relative positional relationship between the above-mentioned finoleum and the surface of the cylindrical mask body 4 'did not change, and the mask body was brought into close contact with each other. )) It is efficient.
  • the winding of the band-shaped film 1 'by the drum IS] can be continuous or intermittently by rotating the drum 16 and winding. Is also good.
  • reinforcing members 4 are attached to the openings 4 at both ends of the cylindrical mask body ⁇ .
  • a support shaft 26 having a through hole 4 d ′ is formed in the reinforcing member 4.
  • a pipe 27 for feeding the plating liquid M penetrates the through hole 4 ⁇ T! ),
  • a plating liquid W is pumped up from a tank 29 storing the plating liquid M in a pump 28, and a plating liquid blowing hole 30, 30, provided at a tip 27 a of the pipe 27. [Yo]? It is configured to blow out with pressure.
  • 9a and 16a are the rotating axes of rams 9 and 16.
  • Reference numeral 32 denotes a nozzle which blows out the etching liquid, and removes the surface-exposed goo-'thin-conductive metal layer 2. It is desirable that the support shaft 26 be positioned D above the line 33 connecting the rotation shafts 9a and 16a.
  • the second mask body igr is formed in a cylindrical shape, and the cylindrical second mask body 1ST is a hole for removing the first mask body.
  • a hole corresponding to 3a is punched out by partially punching out a hole, and is rotatably supported around a support shaft 35 so as to be rotatable. Blow out a corrosion-resistant plating solution, a soldering-resistant plating solution, a plating solution, or the like from the inner force of the solder body 19 ′, and apply it onto the first plating layer ′.
  • a second metal plating layer 22 ' is formed.
  • a plating liquid scattering prevention plate 36, 36 as shown in FIG. 23 may be provided.
  • the mask body (4) is a cylindrical mask body (4)
  • the insulating substrate (1) is a flexible strip material made of an insulating material. If the belt-shaped film (1) is constantly tensioned so as to be in close contact with the cylindrical mask body (), the mask body is extremely stiff.
  • the strip-shaped film 1 ' can be wound with a drum IS even if it is not attached to the thin conductive metal layer. formed by the '-out mass production and' have, effect of ⁇ in the 'plane: Ru result is Oh.
  • BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS-FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an insulated substrate formed by forming a very thin conductive metal layer (2) on the surface of the present invention, and FIG.
  • FIG. 2 is a perspective view of the mask body of the same.
  • Fig. 3 is a sectional view showing another embodiment of the mask body of the above
  • Fig. 4 (a) is a schematic view of the second step of the above
  • Figs. 4 (b) and (c) are electromagnets.
  • FIGS. 5 and 6 are schematic views showing another embodiment of the second step of the above
  • FIG. 7 is a schematic view of the third step of the same
  • FIG. b) is a schematic view of the fourth step of the specified invention
  • FIG. 9 is a schematic view of the fourth step in another development of the invention
  • FIG. 10 is a perspective view of the second mask body of the above
  • FIG. 11 (A) and (b) are schematic views of the sixth step of the above
  • FIG. 12 is a perspective view of the same insulating substrate
  • FIG. 13 is a partially enlarged view of the same
  • FIG. 14 is a partial perspective view of a conventional example.
  • Figures (a) and (b) through Figure 16 show the metal pattern with absolute insulation.
  • Fig. 17 is a schematic diagram showing the process of forming a polyparaxylylene coating on a metal pattern by vapor deposition.
  • (A) and (b) are mm-coated metal butter.
  • FIG. 20 is an exploded perspective view of a cylindrical mask body
  • Fig. 21 is an electric wiring on a strip-shaped finolem 1 'made of a flexible insulating material.
  • Schematic diagram of the process for forming the path FIG. 22 is an exploded perspective view of the second cylindrical mask body
  • FIG. 23 shows another embodiment of the tip 27 of the pipe 27 or 27 ′. A partial perspective view is shown.
  • a predetermined electrical wiring path pattern is formed by punching out a steel material with a thickness of 0.3 by punching, and a polyparasiloxane is deposited on the entire surface by vapor deposition.
  • the surface of the mask body and the 1.6-mm-thick phenolic resin plate that has been vapor-deposited so as to be completely covered and the surface of a 1.6-mm-thick phenol resin plate are activated by palladium.
  • An electric insulation board provided with an electroless copper plating having a thickness of 0.5 // is robbed, and the mask is stacked on the electroless plating layer side of the wiring board, and the electric wiring board is removed. The pole face of the electromagnet is brought into contact with the other side of the surface.
  • the copper plating solution was applied at a flow rate of 6 i3 ⁇ 4 / sec to the mask body adhered to the electric wiring board for about 4 minutes.
  • the electric wiring board of this type as a cathode, supply and blow a current of about 10 OA, and blow the electric wiring board of the mask. Approximately 35 copper plating layers are formed on the plating layer.
  • the excitation of the electromagnet is released, and the mask is peeled off from the electroless copper plating layer of the electric wiring board by J9.

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Description

明 細 -書
発明の名称 絶緣基板への電気配線路形成方法
技 術 分 野 '
この発明は絶緣基板への電気配線路の形成方法に関 し、 さ らに詳細には 、 多 く の電子回路部品 を 一枚の基板上に 配置 し電子部品相互間 を接続する電気配線路を電気 メ ッ キに よ つ て絶緣基板上に形成する 方法に関する。
背 景 技 術
従来 この種の方法 と して一般的 な も の と しては 、 例え ば片面ま たは両面に銅箔 を全面にわた っ て貼 つけ られ た銅張積層板の銅箔面の必要 な個所を残 して ェ つ チ ン グ する こ と に よ 電気配線路を形成す る も のが知 られてい るが、 こ の方法に よ れば電気配線路 外の銅箔の部分は 電気 §3線路以外の部分の銅箔は塩化第 2 鉄の よ う な薬液 に て除去される ので不経済で資源の無駄使いに な る と い う 問題があ っ た。
この よ う な問題点を解決する には、 絶緣基板上の電気 配線路を形成すべ き 部分にのみ導電金属材料を付着させ れば良 く 、 このための方法は多 く 提案されてい る。 これ らの方法は、 絶緣基板上の電気配線路形成部 外の箇所 を マ ス キ ン グ して絶緣基板上の必要部分にのみ導電金属 材料を付着させる も ので 、 この マ ス キ ン グのためには、 絶緣基板上に マ ス キ ン グ材を塗布ま たは、 印刷するか、 シ リ コ ン ゴ ム の よ う な軟質のパ ッ キ ン グ材を貝占 j? つけ る こ と が行われてい る。 と ころが前記のマ ス キ ン 材を用 い る方法にあ つ ては、 マ ス キ ン グ材の塗布ま たは印刷の工程 と これを剥離する 工程が必要であ ]? 、 これに要する時間 も さ る こ と なが ら, 工程が複雑にな る と い う 問題点があ ]3 、 ま た前記のパ ッ キ ン材を用い る方法に あ つ ては位置決めの精度を維持す る のが困難であ 複雑な電子回路の電路形成には採用 し 得な い。 さ らに 、 この形成された電気配線路に選択的に 耐蝕性 メ ツ キ 、 半田 メ ツ キ、 厚 メ ツ キ をする こ と を考え た場合、 上述の方法ではさ らに複雑 ¾ 工程が要求され、 製造時間 も 長 く な る と い う 問題点があ っ た。
発明の開示
そこ で、 この発明の主 目的は電気配線路のパ タ - ン のみを メ ツ キに よ !) 形成する こ とがで き 、 - 銅の よ う な金 属材料を節約する こ と がで き 、 更に絶緣基板に電気配線 路を簡単かつ能率良 く 形成する こ とがで き る よ う に した 絶緣基板上への電気配線路の形成方法を提供するに あ る。 ま た こ の発明の他の 目 的は絶緣基板上に形成 した メ ッ キ 層の上か ら第 2 の メ ツ キ層を形成する こ と が容易 で、 絶 緣基板に形成された電気配線路の う ち特に耐蝕性が要求 される部分を選択的に耐蝕メ ッ キ した ])'、 或いは電気配 線路の う ち特に半田 メ ッ キする こ と が要求される部分を 選択的に半田 メ ッ キ した !) 、 更には電気配線路の う ち特 通電 '容量の大 き '撒分を選択的に淳 く メ ツ キ した Ϊ) す る こ とが、 铤めて容易に行える よ う に した絶緣基板上へ の電気^線路の形成方法を提供する に あ る。 この発明 に よ れば、 極めて厚さ の薄い導電金属層 を形 成 した絶緣基板上に マ ス ク 体を密着させた上、 金属 メ ッ . キ を施 し、 こ の マ ス ク 体を取外 した後に、 金属 メ ツ キの 施さ れ か った前記金属層の部分を除去 し、 更に要すれ ば、 第二の マ ス ク 体を金属 カ ツ ト 層の上に密着させた上、 更に金属 メ ッ キ を施す こ と に よ つ て上述の 目 的を達する も のであ る。
例えば次の よ う ¾ も のであ る。
Figure imgf000005_0001
NiC ^2 · 6¾0 2 /Ά
Na OH
37 % ホ マ リ ン
- Na (C4H406) ·Η20 3 0 ^ r/¾
NaC03
水 1 &
ご ぐ薄い 属層(2)は必 らず し も 無電解銅 メ ツ キに よ つ て形成 しな く と も 、 銅の蒸着、 溶射な どの方法に よ つ て も 形成でき る
第 1 図の よ う に無電解銅 メ ツ キに よ D 絶縁基板(1)の片 面の略全面にわた っ て金属が銅であ ]9 、 かつ厚みが 0.1 乃至 1 程度 と ご く 薄い導電性金属層(2)を形成 して第 1 工程を終 了 した後、 こ の ご く 薄い導電金属層(2)の略全面 にわた つ てマ ス ク 体(4)を密着させる。 第 2 図で示 した マ ス ク体 4 はポ リ エ ス テ ル フ ィ ル ム の よ う る絶緣 シ ー 卜 で, 電気配線路を形成する必要のあ る部分の パ タ ― ン を打ち 抜いて抜 き孔 3 を設けた も のであ っ て も よ く セ-ラ ミ つ ク の薄い板状材であ っ て も よ く 、 第 3 図に示す如 く 金属板. 4 a に打ち抜 き 孔 3 a を設けて表面に ご く 薄い絶籙被膜 5 例えば 30 程度の絶縁被膜を形成 した も の であ っ て も よ い。 要は前記 ご く 薄い導電金属層上に密着させやす く か つ表面に電気 メ つ キ の際 メ ッ キ層が形成され ¾ い も の で あれば よ い。 しか しこの マ ス ク 体を ご く 薄 い導電金属層 上に密着させる こ と を考慮すれば、 パ ー マ ロ イ やセ メ ン ジュ ー の よ う な磁性金層薄箔か ら な つ ていて電気配線 路を形成する必要の あ る部分の バタ - ンを打抜い て抜 き 孔 (3a) を設けた後 、 表面に薄い絶緣皮膜(5)が形成された マ ス ク 体が望ま しい。 このマ ス ク 体の板厚は 0.1 丽乃至 1.0 職程度で よ いが電気配線路の線路間の-間隔が 0.1 程 度の マ ス ク 体を製造する場合は板厚を薄 く し、 エ ツ チ ン グ加工や レ ーザ ー加工する こ と に よ っ て得 られる。
マ ス ク 体を磁:性材斜と した場合には、 第 4 図(a)に示す 如 く 台 39 の凹所 (39a ) に位置決めされた マ ス ク 体(4) の 上 側に ご く 薄い導電金属層(2)がマ ス ク 体(4)側に く る よ う に して絶緣基板(1)をマ ス ク 体(1)に重ね、 こ の状態で電磁石 α を前記絶緣基板ひ)上に く る よ う P 方向に下降させ、 電 磁石 (10の吸着面 10a が絶緣基板(1)に当接 した位置 で 電磁 石(I の下降 を停止させ、 ス ィ ッ チ(□)を閉鎖 して電磁石(10 の コ ィ ノレ 10 b に通電 し、 絶緣基板(1)を介在させて マ ス ク 体(4)を電磁石(L0)に吸着させて第 2' 工程を終了する。 した が っ て マ ス ク 体(4)は絶緣基板(1)の ご く 薄い導電金属層(2)
ΟΜΡΙ 上に密着する。 絶緣基板ひ)の厚 さ は電磁石 αο)の吸着力に よ つ て も 左右されるが 、 2.0職 く らいま で ¾ ら充分可能で. あ る。
電磁石 )は吸着面 (10a ) を有する複数の鉄芯 (10d ) , (10d) '" を有 し、 コ ィ ノレ (10b) , (10b) ··· を前記鉄芯 (10d) の 1 つ と びに装着 し、 コ イ ルを装着 した鉄芯 (10d) の吸 着面 (10a ) は全て同 一極にな る よ う に構成 してい る。 そ して第 4 図 )に示す如 く ェ ポ キ シ樹脂で全ての鉄芯の吸 着面 (10a ) が同 一面 と る よ う に固着する。 第 4 図(b)に 示 した電磁石の鉄芯 (10d) を第 4 図(c)の如 く 小さ く 分割 し て配置する こ と に よ 磁力線の分布を よ 均一にする こ と ^で き る。
次いで第 3 工程で マ ス ク 体(4)の上か ら ご く 薄い導電金 属層(2)上に銅 よ な る金属 メ ッ キ層( )を形成する のであ るが、 永久磁石で マ ス ク体(4)を吸着する場合には例えば 次.の よ う
CuS04 · 5H20 250^ τ/&
¾S04 60 r/¾
銅 メ ツ キ浴中 に全体を沈めて も よ く 、 電磁石 αο)でマ ス ク 体(4)を吸着する場合には第 7 図の よ う に ポ ン プ 7 な どで 圧力をかけた銅 メ ツ キ液 )を例えば 6 メ - ト ル /秒の流 速で吹 き つけ る。 この と き 前記 ご く 薄い導電金属層(2)は 電極 37が当接 してお ]9 陰極 と し、 前記マ ス ク 体(4)と の間 隔 を約 5 ミ リ メ 一 ト ノレ と して陽極 G8)を位置させてい る。 こ の よ う に して約 4 分間 メ ツ キ液 μ)を吹 き つけ る こ と に よ J? 前記 ご く 薄い導電金属層(2)上に マ ス ク 体(4)の抜 き 孔 (3)の パ タ — ン に沿 っ て電気配線路 と る部分のみに例え. ば約 の金属 メ ッ キ層(5)を選択的に形成 して第 3 工程 を終了す る。 金属 メ ツ キ層(5)を 70 程度にする 場合に は メ ッ キ時間を約 2 倍にする。 こ の メ ッ キ エ程において 陽極陰極の両極間には 1 0 0 Α程度の電流 を流 した。 した が つ て陰極 $7)が発熱する の で水冷 した。 こ の メ ッ キ エ程 に要する時間は金属 メ ツ キ層(5)の厚さ 、 電流量、 メ ツ キ 液 )の流速に よ っ て も 変わ る も のであ る。 前記第 3 工程 を終了 した後電磁石 )を移動させ、 電磁石 αο)の コ イ ル
ClO b ) の励磁を解 く こ と に よ っ て マ ス ク 体(4)を ご く 薄い 導電金属層(2)か ら取 ]? 外 した後、 第 8 図の よ う に金属 メ つ キ層 が形成されな く て絶緣基板ひ)上に露出する ご く 薄い導電金属層は)を塩化第 2 鉄溶液る どの ェ ツ チ ン グ液 で溶出除去 し、 絶緣基板(1)上に金属 メ ツ キ層 5)で電気配 線路を形成する。
上記の よ う に絶緣基板は)上に ご く 薄い導電金属層(2)を 形成 したの で 、 マ ス ク体(4)の上か ら ご く 薄い導電金属層 (2)上に金属 メ つ キ層()を形成する こ と に よ ご く 薄い導 電金属層(2)上に必要な回路パ タ - ンのみを メ ッ キに よ 形成する こ とがで き 、 更に ご く 薄い導電金属層(2)を ご く 薄 く 形成 したの で、 金属 メ ツ キ層(15)が形成されな い無電 解金羼 メ ッ キ :層 ' )の'部分を除去 して も 除去さ れる金属の 量は少 る く 、 しか も マ ス ク体(4)の表面に絶縁被膜(5)を形 成 した も のに あ っ ては、 金属 メ ツ キ層( 形成時にマ ス ク 体(4)が メ ツ キ される こ と が く 何回 も 使用 で き 、 絶縁基
板(1)上に必要 回路パ タ ー ンのみ を メ ツ キ に よ 容易に
形成する こ と がで き る上に銅の よ う な金属材料を節約す
る こ と 力 で き 更に絶緣基板(1)に電気配線路を簡単かつ
能率 よ く 形成で き る も の であ る。 さ らに電気配線路を形
成する必要の あ る部分を打抜いたマ ス ク 体(4)を磁性材料
で形成 したの でマ ス ク 体(4)を簡単に磁石で絶緣基板(1)に
吸着させ る こ と がで き 能率的で あ る と と も に密着度が よ
いので、 金属 メ ツ キ層( )がは っ き と 形成される と い う 特徴があ る。 マ ス ク 体(4) と略同 一の第 1 マ ス ク 体 7)の上
か ら ご く 薄い 電金属層(2)上に金属 メ ツ キ層(5)と略同一
の第 1 メ ツ キ (18)を形成する第 3 ェ程を終了 した後第 9
-図の よ う に第 メ ツ キ層 α 及び第 1 マ ス ク体(17)の略全面
にわた つ て第 2 マ ス ク 体な9)を密着させ る。 マ ス ク 体が磁
性材料に絶緣被覆を形成 した も のに あ つ ては永久磁石ま
たは電磁石(! K よ ]) 吸着 させる。 第 2 マ ス ク 体 9)は第 10
図の よ う に第 マ ス ク 体 7)の抜 き 孔 に相当する と ころ
を部分的に打抜 き して抜 き 孔 ^が設け られていて第 1 マ
ス ク 体 と 同 材質か ら な っ て お ]? 、 第 1 メ ツ キ層 OS)に吸
着させて第 4 ェ程を終了する。 次いで第 3 工程 と 同様に
して第 2 マ ス ク 体 9)の上か ら第 1 メ ツ キ層 8)上に第 2 メ
• キ層 ^を形成 して第 5 工程を終了 した後、 第 1 マ ス ク
体 7)と'第 2マス グ体な9)を第 1 メ ジ キ層 )か ら取 ]) 外 し、
第 1] 図の よ う に第 1 メ ツ キ層 08)が形成されて く て絶緣
基板(1)上に露出する ご く 薄い導電金属層(2)のみを塩化第
ΟΜΡΙ ヽ
/ WIK) 2 鉄溶液 な どの エ ッ チ ン グ液で溶出除去 し、 絶緣基板は) 上に部分的に第 2 メ ツ キ層 )が形成された第 1 メ つ キ層. 08)で電気配線路を形成す る o 第 5 工程で第 2 メ ツ キ層 ) を形成する に当 っ て、 金や ロ ジ ウ ム の よ う 金属で第 2 メ ッ キ層 ©を形成すれば第 2 メ つ キ層 ©は耐蝕性を有 し、 ま た この導電層 を摺動接点 と して利用する場合は耐蝕性 の他に接触信頼性が向上 し、 耐摩耗性が向上するので耐 蝕性や接触信頼性が要求される部分の電気配線路のみに 第 12 図の よ う 耐蝕性 メ ッ キ層 (22a ) を選択的に 形成で き るか ら 、 き わめ.て簡単にかつ能率 よ く 電気配線路に耐 蝕性や接触信頼性'を付与する こ と ができ 、 腐蝕に よ る プ リ ン ト板の機能劣化や酸化硫化に よ る接敏不良 を防止で き て信頼性を向上で き る も の であ ]? 、 更に部分的に第 2 メ つ キ'層 )を形成で き るか ら、 材料費 も安価であ る。 ま た ロ ジ ウ ム にて第 2 メ ツ キ層 ©を形成する には例えば 口 ジ ゥ ム濃度 、 硫酸濃度 8 0 ? r/¾ に調整 した 硫酸 口 ジ ゥ ム メ ツ キ浴を用 いれば よ く 、 更に第 2 メ ツ キ層 ©上 に有機皮膜 コ 一テ ィ ン グ を施 して耐蝕性を 一層向上させ て も よ い。 ま た第 2 メ ツ キ層 ¾を形成する メ ツ キ液 と し て例えば下記の も の と する
ホ ウ フ ッ 化第一錫 2 0 0 ^ ^
ホ ウ フ ッ 化鉛
ゥ フ ッ 化水素酸
ホ ル マ リ ン ( 37 % ) 1 0 c ζ/ΰ,
その他光沢を出すための添加物少量 上記配合の も のを用 いれば、 第 2 メ ツ キ層? 2)を半田 メ ツ キ層 に形成する こ と がで き 、 半田付性が要求される部. 分の電気配線路のみに半田 メ ッ キ層 を選択的に形成でき るか ら不必要な部分に半田 メ ッ キ層を形成する必要がな く て安価に能率 よ く 電気配線路に半田付性を付与する こ と がで き 、 電気配線路が複雑、 繊細であ っ て も チ ッ プ化 した電子部品の チ ツ プ端子部を容易に プ リ ン ト 板回路に 半田付けでき る も のであ る。 更に第 2 メ ツ キ層?2)を第 1 メ ツ キ層 8)の金属 と 同 じ銅 メ つ キ層 (22 b ) に形成すれば、 第 13図の よ う に銅 メ ツ キ層 であ る第 1 メ つ キ層 の上に 部分的に分厚い銅 メ ッ キ層 (22 b ) を設け る こ と ができ 、高 電流を流す電路の部分のみに銅の よ う ¾金属 を分厚 く メ -ツ キ した銅 メ ツ キ層 (22 b ) を形成で き る力 Λ ら 、 高電流 を 流す部分に も 第 M 図 に示す従来の よ う に リ 一 ド線 で電 流路を形成する手間が不要 であ 、 複雑、 小型化 された 回路であ つ て も 高電流 を通す電路を容易に形成で き る も のであ る。
次に前記 マ ス ク 体 4 を金属板や金属笵の バ タ 一 ン表面 に絶緣被覆(5)を形成 した構成 と した も のの製作方法は、 前記金属製パ タ - ン上に絶縁材料を浸漬法、 刷毛塗 ]? 、 電着塗膜、 紫外線照射に よ る塗膜な どの方法な どが存在 するが、 前記絶緣被覆(5)の耐久性や性能が充分でな く 、 前述の電気配線路'形成方'法を利用する こ と の効果が少 ¾ かっ た。 例えば ピ ン ホ ー ノレ特に エ ッ ジ部に ピ ン ホ ー が 出来やす く 第 ほ 図(a)の如 く 銅が折出(J) した ]? 、 第 図(b)
O PI WIPO" -の如 く ェ ジ部が う す く 平面部が厚い被覆 と ¾ ) 全体に 均厚の被覆がで き ないな どの欠点があ った。
しか しなが ら前記金属性バ タ ― ン の絶縁被覆 と して ポ リ ノ ラ キ シ リ レ ン の被覆 と する こ と に よ ]? 実用 に供する マ ス ク 体が形成される こ と が判明 した。 即 ち、 第 is図に おい て 、 4' a は磁性体例えば電磁軟鉄板 、 鉄一 コ バ ル ト 系合金 どの薄い金属板で あ ]3 、 ポ リ パ ラ キ シ レ ン よ る絶緣被覆であ る。 この ポ リ ノ ラ キ シ リ レ ンは原料 パ ラ キ シ リ レ ンを高温 ( 800Ό 乃至 1000'C ) で 熱分解 し, その熱分解気体 23 を第 17 図に示す如 く 前記金属扳 a に ふ き つけて、 この金属板 4έ の表面で重合させ'、 ポ リ パ ラ キ シ リ レ ン の絶籙被覆 を形成する。 さ ら にす ぐれた 方法 と して特公昭 38 — 15243 号 ( 名称 「 Ρ —キ シ レ ン重 合体の製法」 ) に詳細に述べ られてい る如 く 、 基本構造 が一般式
Figure imgf000012_0001
で表わされる環状,ジ 一 P — キ シ リ レ ン少 く と も 一種を
600 程度を加え熱夯解 し、 2 量体は熱分解に よ ]? 2 個 の反応性 ジ ラ ジ -カ ノレに分れる。
その一般式は
Figure imgf000012_0002
"¾UR£ O PI であ る。 この よ う に して得 られ^:反応性 ジ ラ ジ カ ノレ のパ ラ キ シ リ レ ン を前記金属製パ タ 一 ン 4 a ' の表面にふ きつ けて冷却 し重合体ポ リ パ ラ キ シ リ レ ン の被覆を形成する。 この よ う に して形成 した ポ リ パ ラ キ シ リ レ ン の絶縁被覆 は 1 ミ ク ロ ン当 ]3 10分乃至 分の ス ピ ー ドで形成され るため厚さが均一で、 かつ繊密で ピ ン ホ ー ノレがる く 、 前 述の電路形成法に使用 して も 表面に銅が折出 した ェ つ ジ部の被覆が う す く て全体 と して均厚 と ら いな どの 欠点がな く な る。 これを従来例 と 比較する と 表 1 の と お であ る。
Figure imgf000013_0001
表 1 は絶 被覆を各種の方法 ど材料で形成 し、 その絶縁 被覆は金属製パ タ ー ン 4 ^ を銅鍍金浴 24例えば
OMPI C u S 0 4 · 5H20 , 2 5 0 ^ゾ
Figure imgf000014_0001
のなかに浸漬 し、 第 図(a)に示す如 く 絶緣被覆付金属製 パ タ - ン 4 a' の金属を陰極 と し、 陽極に銅板 25 を用 いて 通電後前記絶縁被覆付金属製パ タ ー ン 4 a' の表面に銅 が 折出する ま での時間 を表 1 の I の欄に 、 第 IS 図(b)に示す ご と く 前記絶縁被覆付金属製パ タ - ン 4 を前記銅鍍金 浴 24 中 に浸漬 し通電 しない状態で銅の置換が起 こ るま で の時間を表 1 の II の欄に示 した。
表 1 において、 浸漬法に よ ]? 絶緣被覆を形'成 した場合 は被覆の表面に回凸が出来やす く 、 ま た電気配線路形成 のための切欠 き 部が小さ い場合目 づま I? しゃすい どの 基本的な欠点 も あ !) 、 ま た被覆の厚さが厚 く る欠点が あ っ た。 静電塗装法に よ る場合エ ッ ジ部の被覆が う す く な る欠点があ っ た。 電着塗装法に よ る場合均一な表面被 覆が得 られるがエ ツ ^部の被覆が う す く る。 ポ リ パ ラ キ シ リ ン を蒸着法に よ 塗布 した場合エ ツ ジ部を含め全 体に均厚の被覆が得 られた。 そ して ビ ン ホ - ノレの有無に ついては表の I , Π 欄に示す と お ]9 であ ]) 、 ポ リ パ ラ キ シ リ レ ン に よ る場合他 と 比較にな らぬ程度に耐久性があ る こ とが判明 した。
次にマ ス ク 体(4)を前記 ご く 薄い導電金属層(2)上に密着 させ^他の実施例を示す。
マ ス ク 体(4)が絶緣材料製や、 非磁性金属板に ご く 薄い 絶縁被膜を形成 した も のに あ つ ては真空吸着する方法、
OMPI 押 しっけて密着させる方法 、 は さみつけて密着させる方 法、 マ ス ク 体に粘着剤 をつけて絶縁基板上に粘着させる 方法な どが考え られ る。 第 5 図は真空吸着させる場合の 説明図 であ ]? 、 絶緣基板 1 上に ご く 薄い導電金属層 を全 面に も う け、 しか も ご く 小さ な 貫通穴 6 を 一定間隔で多 数設け、 真空 ポ ン プ 7 を 一端に設けた多数の吸着盤 8 , 8 , ··· を絶緣基板 1 の裏面 l a 側に く つ つけ、 真空 ポ ン プ 7 を作動させ、 前記マ ス ク 体 4 を前記絶緣基板 1 に設け た ご く 小さ な貫通穴 6 , 6 , … を介 して吸着させ る も の であ る。 第 6 図に示す も のは マ ス ク 体 4 を シ ノレク ス ク リ - ン 9 に結合させて 、 この シ ノレ タ ス ク リ — ン 9 を前記ご く 薄い導電金属層上に押 しっけ密着させる場合を示す も の であ る。 12 は シノレ ク ス ク リ ー ン の枠体であ 、 ζ_ の枠 体 ' 12は軸 13 を 中心に して回動可能 と し、 ご く 薄い導電金 属層 2 を形成 した絶緣基板 1 上に押 しつけ る。
しか る後、 第 19図に示す如 く 、 メ ツ キ液 4)をマ ス ク 体 (4)に向 っ てふ き つけ る。
第 20図乃至第 21 図に示す も のは 、 さ らに他の実施例を 示す も のであ っ て絶縁基板 1 と して可撓性の あ る絶緣材 料製帯状 フ ィ /レ ム 1 'を用 い、 連続的に製造するのに適す る方法を示す も のであ っ て、 マ ス ク 体(4)を 円筒状に形成 し、 この円筒伏マ ス ク 体 ^の円筒状外側面に電気配線路 を形成する必要めあ る'部分のパ タ 二 ンを打抜いて拔 き 孔 3 a を設けてい る。 そ して前記可撓性のあ る絶縁 材料製 帯状 フ イ ノレ ム に ご く 薄い導電金属層 2'が形成された フ
ΟΙνίΡΙ ィ ルム を卷取 る ド ラ ム 9 と 前記 フ ィ ル ム 1'に金属 メ ツ キ 層を形成 したの ち前記 フ イ ノレ ム 1'を巻 き 取る ド ラ ム 16 と で引張る よ う に して張力を加え前記円筒状 マ ス ク 体 ^の 表面に密着さ せる。 ド ラ ム 9 にははや く 回転 しな い よ う にする ブ レ キ を ^け、 ド ラ ム I6 を ゆ るやかに回転させ る こ と に よ 前記円筒状 ド ラ ム 4'が前記 フ イ ル ム 1'の移 動に と も つ て支軸 26 を中心に して回転する よ う に構成 する。 したが っ て前記 フ イ ノレ ム ^ と 円筒状 マ ス ク 体 4'の 表面 と の相対位置関係は変わ らず、 マ ス ク 体をい ちいち 密着させた ]9 取 ]? はず した ]) する必要がる く よ ]) 能率的 であ る。 ド ラ ム IS に よ る 前記帯状 フ ィ ル ム 1'の卷取 ]? は 連続的であ っ て も よ く 間欠的に ド ラ ム 16 を回転 して卷き -と るのであ っ て も よ い。 な お、 前記円筒状マ ス ク 体 ^の 両端開 口 4 には補強部材 4 が装着される。 こ の補強 部材 4 には貫通孔 4 d'を備えた支軸 26がー体に形成され ている。 前記貫通孔 4 <Tにはメ ツ キ液 M を送 るパ イ プ 27 が貫通 してお !) 、 ポ ン プ 28 にてメ ツ キ液 M を貯えた槽 29 か ら メ ツ キ液 W を く みあげ、 前記パ イ プ 27 の先端 27a に 設けたメ ツ キ液吹出 し孔 30 , 30 よ ]? 圧力を も っ て吹 き 出 す よ う に構成されてい る。 なお 9 a , 16a を ラ ム 9 , 16 の回転軸であ る。 31 は メ ツ キ液の受皿で メ ツ キ液 M を槽 29 に も どす役 目 をする。 32 はエ ッ チ ン グ液を吹出すノ ズ ルであ つ て表面 露出 した ご ぐ-'薄- 導電金属層 2 を餘去 する も のであ る。 な お支軸 26は回転軸 9 a と 16a を結ぶ線 33 よ D 上方に位置させる こ と が望ま しい。
OMPI T WIPO ¾ お第 21 図乃至第 22 図に示す如 く 第 2 マ ス ク 体 igrを 円 筒状に形成 し、 この円筒状の第 2 マ ス ク 体 1STは第 1 マ ス ク 体 の抜 き 孔 3 a 相当する と ころ を部分的に打ち 抜 き して抜 き 孔 34が設け られてい て、 支軸 35 を 中心に して 回-転可能に軸支されてい て 、 こ の円筒状マ ス ク 体 19'の内 側力 ら耐蝕性のあ,る メ づ キ液、 .半田付性の よ い メ 、ジ キ液 な どを吹出 して、 前記第 1 の メ ツ キ層 '上に第 2 の金属 メ ツ キ層 22'を形成する。 こ こ で We'は円筒状マ ス ク 体 19' の両端の開 口 W b' に挿着される補強部材であ 支軸 35 を 備え る。 こ の支軸 35 の中央には貫通孔 ig< を有 し この 貫 通孔 19<Τにパ イ プ 27'を通す。 パ イ プ 2Tの先端 27a'には メ ッ キ液吹出孔 30' , 30' , '" を有 してい る。
おメ ッ キ液 14 の飛散を防止するためパ イ プ 27又は 2T の先端 27a 又は 27a' に第 23図 に示す如 き メ ツ キ液飛散防止 板 36 , 36 を設けて も よ い。
上記する如 く マ ス ク 体(4) と して、 円筒状マ ス ク 体(4 と し、 絶緣基板(1)と して可撓性の あ る絶緣材料製帯状 フ ィ ル ム ひ と し、 こ の帯状 フ ィ ル ム (1 に常時張力を加え 前記円筒状 マ ス ク 体 ( ) と 密着させる よ う に した場合に は、 前述の効果の他に 、 マ ス ク 体を ご く 薄い導電金属層 に密着させた 取 はず した ]? する こ と を しな く て も 前 記帯状 フ イ ム 1'を ド ラ ム IS で巻き と る こ と ですむので 連続前に電路'が形成で'き量産性 と 'い,'面で 舊の効 :果が あ る。 図面の簡単る説明 - 第 1 図は この発明の表面に ご く 薄い導電金属層(2)を形. 成 した絶緣基板ひ)の縦断面図 、 第 2 図は同上の マ ス ク 体 の斜視図、 第 3 図は同 上の マ ス ク体の他の実施例を示す 断面図 、 第 4 図(a)は同上の第 2 工程の概略図 、 第 4 図(b) (c)は電磁石の斜視図、 第 5 図乃至第 6 図は同 上の第 2 ェ 程の他の実施例を示す概略図、 第 7 図は同 上の第 3 工程 の概略図、 第 8 図(a) (b)は特定発明の第 4 工程の概略図、 第 9 図は発明の他の展開 における第 4 工程の概略図 、 第 10 図は同 上の第 2 マ ス ク 体の斜視図、 第 11 図(a) (b)は同 上 の第 6 工程の概略図 、 第 ' 12 図は同上の絶緣基板の斜視図、 第 13図は同上の部分拡大図、 第 14 図は従来例の部分斜視 図 、 第 図(a) (b)乃至第 16 図は絶緣被覆付金属製パ タ ニ ン よ る マ ス ク 体の部分断面図 、 第 17 図は金属製パ タ ー ン上にポ リ パ ラ キ シ リ レ ン の被覆を蒸着に よ J? 形成する 工程を示す概,略図.、 M is 図 (a) (b)は mm被覆付金属製バ タ
• " ン ょ な る マ ス ク 体の耐久試験装置の概略図、 第 I9 図 はマ ス ク 体(4)上か ら メ ッ キ液 M を吹 き つけてメ つ キ層 15 を形成する工程を説明する概略図であ る。 第 20 図は円筒 状 マ ス ク 体 の分解斜視図 、 第, 21 図は可撓性のある絶縁 材料製帯状 フ ィ ノレ ム 1'上に電気配線路を形成する工程概 略図 、 第 22 図は第 2 の円筒状マ ス ク 体 分解斜視図、 第 23図はパ イ プ 27 も し く は 27 'の先端 27 , の他の実施例 を示す部分斜視図 を示す。
! 一 Ο ΡΙ
'、U IPO 発明 を実施するための最良の形態
厚さ 0.3 職 の鉄製素材に所定の電気配線路パ タ - ン を 打抜 き 加工に よ っ て形成 した上、 その全面に ポ リ パ ラ キ シ リ レ ンを蒸着法に よ 厚さ 30 と な る よ う に蒸着させ 全面絶緣被覆を させたマ ス ク 体、 及び厚さ 1.6 丽 の フ エ ノ ー 樹脂板の表面 を パ ラ ジ ウ ム に よ っ て活性化 し、 そ れに 0.5 // の厚さ の無電解銅メ ッ キ を施 した電気絶緣 基 板を用奪 し、 前記の マ ス ク 体を前記配線基板の無電解 メ ツ キ層側に重ね、 前記電気配線基板の他方の面、 全面に 電磁石の極面を当接させる。
か く して、 電磁石の電磁吸引力に よ っ て 、 電気配線基 板に密着されたマ ス ク 体に向けて、 銅 メ ツ キ液 を 6 i¾/sec の流速で約 · 4 分間 、 前記の電気配線基板 を陰極 と して、 約 1 0 OA の電流を供給 しつ 吹 き つけ し、 マ ス ク 体の 電 気配線路バ タ 一 ンを通 して露出 した電気配線基板の無電 解銅 メ ツ キ層.上に約 35 の銅 メ ツ キ層を形成する。 次い で、 電磁石の励磁を解 き 、 マ ス ク 体を電気配線基板の無 電解銅 メ ッ キ層 よ J9 剥離する。
その後、 前記の無電解銅 メ ッ キ層のマ ス キ ン ギされた 部分を塩化第二鉄溶液に て エ ツ チ ン グ除去する こ と に よ 、 電気絶緣基板上 銅 メ ッ キ層 よ D な る電気配線路を 形成する。

Claims

5H 求 の 範 囲
(1) 絶緣基板上に導電金属層 よ ]? ¾ る金属 メ ツ キ下地層 を形成する第 一工程 と 、 電路を形成する必要の あ る部 分を除去 した少 な く と も表面が絶緣材料であ る マ ス ク 体を前記 ご く 薄い導電金属層上に密着させる第二工程 と 、 前記マ ス ク 体の上か ら前記 ご く 薄い導電金属層上 に金属 メ ッ キ層を形成する第三工程 と 、 前記マ ス ク 体 を前記 ご く 薄い導電金属層か ら取 !) 外 した後、 表面に- 露出 した ご く 薄い金属 メ ッ キ下地層 を除去する第四 ェ 程 と か ら成る こ と を特徵 とす る絶緣基板上への電気配 線路形成方法。
(2) 絶緣基板上に導電金属層 よ ]) な る金属 メ ッ キ下地層 を形成する第 1 工程 と 、 電気配線路を形成する必要の あ る部分を除去 した少 く と も 表面が絶緣材料であ る 第 1 マ ス ク 体を ご く 薄い導電金属層上に密着させ'る第
2 工程 と 、 第 1 マ ス ク 体の上か ら ご く 薄い導
上に第 1 メ ツ キ層 を形成する第 3 工程 と 、 第 1 メ ツ キ 層の特定部分のみを除去 した形状の少 く と ffiが 絶緣材料製の第 2 マ ス ク体を第 1 メ ツ キ層の表面に密 さ せる第 4 工程 と 、 第 2 マ ス ク 体の上か ら第 1 メ ッ キ層上に第 2 メ ツ キ層を形成する第 5 工程 と 、 第 1 マ ス ク 体 と第 2 マ ス ク 体を取 ]) 外 した後 、 表面に露出す る く 薄い導電'金属層を除去する'第 6 工程かち成る こ と を特徵 とする絶緣基板上への電気配線路形成方法。
(3) 導電金属層 よ ]) る金属 メ ッ キ下地層 を形成 法 と して無電解金属 メ ッ キ法を採用 した こ と を特徴 と する請求範囲第 1 項乃至第 2 項の絶緣基板上への電気 配線路形成方法。
(4) マ ス ク 体 と して表面に絶緣被覆を形成 した金属材料
で構成 した こ と を特徴 と する請求範囲第 1 項乃至第 2 項の絶縁基板上への電気配線路形成方法。
(5) 金属材料 と して磁性材料 と した こ と を特徵 と する請
求範囲第 4 項記載の絶緣基板上への電気配線路形成方 法。
(6) 絶緣被覆 と して ポ リ パ ラ キ シ リ レ ンの絶緣被覆 と し
た こ と を特徴 と する請求範囲第 4 項乃至第 5 項の絶緣 基板上への電気配線路形成方法。
'
(7) 第 2 メ ツ キ層が耐蝕性 も し く は接触信頼性の あ る メ
キ層 であ る こ と を特徵 と する請求の範囲第 2 項記載 の プ リ ン ト 板電気配線路形成方法。
(8) 第 2 メ ツ キ層が半田 メ ツ キ層で あ る こ と を特徴 と す
る請求の範囲第 2 項記載の プ リ ン ト 板電気配線路形成 方法。
(9) 第 2 メ ツ キ層が第 1 メ ツ キ層 と 同 じ金属の メ ッ キ層
であ る こ と を特徵 と する請求の範囲第 2 項記載の プ リ ン ト板電気配線路形成方法。
10) 絶縁基板 と して可撓性 フ イ ノレ ム と した こ と を特徵 と
す ''請:求'範囲第 Γ項乃室'第 2 項の絶緣基板上への電気 配線路形成方法。
(Π) マ ス ク 体 して円筒状マ ス ク 体 と した こ と を特徵.と τ
· し
Ο ΡΙ
、 0 する特許請求範囲第 10項記載の絶縁基板上への電気配 線路形成方法。
■Τ/. WIP A
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