TWM644004U - 炒鍋結構 - Google Patents

Abstract

本創作提供一種炒鍋結構，包括一鍋體，大致呈內凹圓弧狀，該鍋體具有一內表面；以及複數條第一凹槽線，設置在該內表面處並呈輻射狀設置。該鍋體的該內表面與該等第一凹槽線佈設有複數個毛細孔，該鍋體的該內表面具有一第一毛細孔密度，各該第一凹槽線具有一第二毛細孔密度，而該第一毛細孔密度小於該第二毛細孔密度。藉由沖壓拉伸製程，使得鍋體與該等第一凹槽線具有不同的毛細孔分布，因此無須經過塗佈而形成塗層的製程工序，可以縮減製程時間與製造材料，不但製造方法簡單，更降低成本，同時能達到不沾烹飪食材的功效。

Description

炒鍋結構

本創作係與鍋體設備有關，特別尤指一種不沾食材的炒鍋結構。

習知全金屬鍋具在烹調時，鍋內的食材容易與鍋具表面沾黏燒焦，因而開發出了不沾鍋。而習知的不沾鍋在金屬鍋體的內壁面(即直接接觸食材的一側面)上塗佈有耐高溫且抗沾黏的聚四氟乙烯塗層，藉以防止食材沾黏內壁面。

聚四氟乙烯塗層在一般烹調狀況下雖然發揮抗沾黏功效，但是當使用者以大火進行煎、炸、炒等高溫烹調時，鍋具的高溫可能會導致聚四氟乙烯塗層損壞或釋放出有毒物質，因此不沾鍋的內壁面及外壁面(即承受烹調火力的一側面)上經常各塗佈有一耐熱塗層，藉以防止聚四氟乙烯塗層在高溫烹調時損壞或釋放出有毒物質。

另外，聚四氟乙烯塗層塗佈在金屬鍋體的內壁面，需要多一個製程工序，製作比較複雜，增加製造成本。

本創作主要目的係提供一種炒鍋結構，以沖壓拉伸方式製作出具有輻射狀設置的複數條第一凹槽線在鍋體的內表面(亦可製作出具有輻射狀設置 的複數條第二凹槽線在鍋體的外表面)，而藉由沖壓拉伸製程，使得鍋體的內表面與該等第一凹槽線(及/或鍋體的外表面與該等第二凹槽線)具有毛細孔的分布，因此無須經過塗佈而形成塗層的製程工序，可以縮減製程時間與製造材料，不但製造方法簡單，更降低成本，同時能達到不沾烹飪食材的功效。

再者，由於鍋體的內表面的第一毛細孔密度小於各該第一凹槽線的第二毛細孔密度，不但可以達到不沾烹飪食材的功效，更能藉由烹飪食材僅接觸到鍋體的內表面(相對於習知鍋具而言，接觸面積較少)，可以達到加熱均勻以及提升不沾烹飪食材的功效。

為了達成上述之目的與功效，本創作一種炒鍋結構，至少包括一鍋體，大致呈內凹圓弧狀，該鍋體具有一內表面；以及複數條第一凹槽線，設置在該內表面處並呈輻射狀設置。該鍋體的該內表面與該等第一凹槽線佈設有複數個毛細孔，該鍋體的該內表面具有一第一毛細孔密度，各該第一凹槽線具有一第二毛細孔密度，而該第一毛細孔密度小於該第二毛細孔密度。

在一些實施例中，該鍋體與該等第一凹槽線係藉由一沖壓拉伸製程所形成。

在一些實施例中，該鍋體係由不鏽鋼或鋼鐵所製。

在一些實施例中，該鍋體具有一外表面，該外表面設置有複數個第二凹槽線，該等第二凹槽線呈輻射狀設置。

在一些實施例中，該鍋體與該等第二凹槽線佈設有複數個毛細孔，該鍋體的該外表面具有一第三毛細孔密度，而該第一毛細孔密度小於該第三毛細孔密度。

在一些實施例中，各該第一凹槽線的一最底端與該鍋體的中心之間具有一距離。

在一些實施例中，各該第一凹槽線的一最高高度係為該鍋體的一最高高度的三分之二。

在一些實施例中，各該第二凹槽線的一最高高度係為該鍋體的一最高高度的三分之二。

在一些實施例中，該炒鍋結構還包括二提把，分別設置在該鍋體邊緣的相對兩側處。

在一些實施例中，該炒鍋結構還包括一提把以及一手把，分別設置在該鍋體邊緣的相對兩側處。

100:炒鍋結構

1:鍋體

11:內表面

12:外表面

13:毛細孔

2:第一凹槽線

3:第二凹槽線

4:提把

5:手把

200:基材

300:下模

310:凹槽

400:上模

D:距離

H1:高度

H2:高度

H3:高度

圖1係本創作炒鍋結構的一實施例的頂視立體示意圖。

圖2係本創作炒鍋結構的一實施例的底視立體示意圖。

圖3係本創作炒鍋結構的一實施例的頂視示意圖。

圖4係本創作炒鍋結構的一實施例的側視示意圖。

圖5係本創作炒鍋結構沿圖3的剖線A-A的剖視示意圖。

圖6係本創作炒鍋結構沿圖3的剖線B-B的剖視示意圖。

圖7係本創作炒鍋結構依據圖6的區域A的部分放大示意圖。

圖8係本創作炒鍋結構的另一實施例的頂視示意圖。

圖9係本創作炒鍋結構的製作示意圖。

圖1係本創作炒鍋結構的一實施例的頂視立體示意圖。圖2係本創作炒鍋結構的一實施例的底視立體示意圖。圖3係本創作炒鍋結構的一實施例的頂視示意圖。圖4係本創作炒鍋結構的一實施例的側視示意圖。

請參考圖1到圖4，本創作炒鍋結構100(亦稱鍋結構)至少包括一鍋體1以及複數條第一凹槽線2。

在一些實施例中，鍋體1大致呈內凹圓弧狀。而鍋體1至少具有一內表面11。複數條第一凹槽線2設置在鍋體1的內表面11處。在一些實施例中，該等第一凹槽線2係呈輻射狀而設置在鍋體1的內表面11。

圖6係本創作炒鍋結構沿圖3的剖線B-B的剖視示意圖。圖7係本創作炒鍋結構依據圖6的區域A的部分放大示意圖。

請同時參考圖6及圖7，鍋體1的內表面11與各第一凹槽線2佈設有複數個毛細孔13。在一些實施例中，鍋體1的內表面11具有一第一毛細孔密度，各第一凹槽線2具有一第二毛細孔密度。較佳者，第一毛細孔密度小於第二毛細孔密度。

請參考圖3，各第一凹槽線2的一最底端與鍋體1的中心之間具有一距離D。換句話說，鍋體1的內表面11的最底部形成具有半徑為該距離D的一區域，且該區域沒有任何第一凹槽線2。

圖5係本創作炒鍋結構沿圖3的剖線A-A的剖視示意圖。請參考圖5，由於在炒菜或烹調食材時，一般比較少使用到鍋體1較外圍以及較上端的部分，因此較佳者，各第一凹槽線2的一最高高度H3係為鍋體1的一最高高度H1的三分之二，但並不以此為限。

請參考圖1到圖7，本創作的炒鍋結構100的鍋體1還具有一外表面12。鍋體1的外表面12設置有複數個第二凹槽線3。較佳者，該等第二凹槽線3係呈輻射狀而設置在鍋體1的外表面12。類似地，各第二凹槽線3的一最底端與鍋體1的中心之間具有一距離(圖中未標示)。換句話說，鍋體1的外表面12的最底部形成具有半徑為該距離的一區域，且該區域沒有任何第二凹槽線3。

在一些實施例中，請參考圖4，各第二凹槽線3的一最高高度H2係為鍋體1的最高高度H1的三分之二，但並不以此為限。

請往回參考圖1到圖5，本創作的炒鍋結構100還可包括二提把4。二提把4係分別設置在鍋體1邊緣的相對兩側處，以方便使用者提拿。

圖8係本創作炒鍋結構的另一實施例的頂視示意圖。請參考圖8，相較於圖7，本創作的炒鍋結構100還可包括一提把4以及一手把(或握把)5。而提把4與手把5分別設置在鍋體1邊緣的相對兩側處，以方便使用者炒菜時用單手前後及左右搖擺，讓食材均勻加熱。

圖9係本創作炒鍋結構的製作示意圖。請一併參考圖9，本創作的炒鍋結構100可以一基材200放置在具有與炒鍋結構100共形的一凹槽310的一下模300上，並以一上模400對基材200朝向凹槽310進行沖壓拉伸(製程)，藉此以將基材200成形為本創作的炒鍋結構100。而基材200被拉伸之後，即會形成多個毛細孔在基材200中。

而在上模400對應基材200的一面處；在上模400對基材200進行沖壓拉伸(製程)之後，該基材200的上表面經沖壓拉伸使材料延伸而形成上述的輻射狀設置的複數個第一凹槽線2(如圖1到圖5所示)。

另外，藉由沖壓拉伸(製程)，而在基材200的下表面(或是鍋體1的外表面12)經沖壓拉伸使材料延伸而形成上述的輻射狀設置的複數個第二凹槽線3(如圖2到圖5所示)。

在一些實施例中，藉由上述的沖壓拉伸製程，鍋體1與該等第一凹槽線2以及該等第二凹槽線3係為一體成形。在一些實施例中，基材200或是鍋體1(包括該等第一凹槽線2以及該等第二凹槽線3)係由不鏽鋼或鋼鐵等類似的金屬所製，但並不以此為限。

綜上所述，以沖壓拉伸方式製作出具有輻射狀設置的複數條第一凹槽線2在鍋體1的內表面11(亦可製作出具有輻射狀設置的複數條第二凹槽線3在鍋體1的外表面12)，而藉由沖壓拉伸製程，使得鍋體1的內表面11與該等第一凹槽線2(及/或鍋體1的外表面12與該等第二凹槽線3)具有毛細孔13的分布，因此無須經過塗佈而形成塗層的製程工序，可以縮減製程時間與製造材料，不但製造方法簡單，更降低成本，同時能達到不沾烹飪食材的功效。

再者，由於鍋體1的內表面11的第一毛細孔密度小於各第一凹槽線2的第二毛細孔密度，不但可以達到不沾烹飪食材的功效，更能藉由烹飪食材僅接觸到鍋體1的內表面11而未接觸到該等第一凹槽線2(相對於習知鍋具而言，接觸面積較少)，可以達到加熱均勻以及提升不沾烹飪食材的功效。

100:炒鍋結構

1:鍋體

11:內表面

12:外表面

2:第一凹槽線

3:第二凹槽線

4:提把

Claims (10)

1. 一種炒鍋結構，至少包括：一鍋體(1)，大致呈內凹圓弧狀，該鍋體(1)具有一內表面(11)；以及複數條第一凹槽線(2)，設置在該內表面(11)處並呈輻射狀設置；其中，該鍋體(1)的該內表面(11)與該等第一凹槽線(2)佈設有複數個毛細孔(13)，該鍋體(1)的該內表面(11)具有一第一毛細孔密度，各該第一凹槽線(2)具有一第二毛細孔密度，而該第一毛細孔密度小於該第二毛細孔密度。
2. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，其中該鍋體(1)與該等第一凹槽線(2)係藉由一沖壓拉伸製程所形成。
3. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，其中該鍋體(1)係由不鏽鋼或鋼鐵所製。
4. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，其中該鍋體(1)具有一外表面(12)，該外表面(12)設置有複數個第二凹槽線(3)，該等第二凹槽線(3)呈輻射狀設置。
5. 如請求項4所述之炒鍋結構(100)，其中該鍋體(1)與該等第二凹槽線(3)佈設有複數個毛細孔(13)，該鍋體(1)的該外表面(12)具有一第三毛細孔密度，而該第一毛細孔密度小於該第三毛細孔密度。
6. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，其中各該第一凹槽線(2)的一最底端與該鍋體(1)的中心之間具有一距離(D)。
7. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，其中各該第一凹槽線(2)的一最高高度(H3)係為該鍋體(1)的一最高高度(H1)的三分之二。
8. 如請求項4所述之炒鍋結構(100)，其中各該第二凹槽線(3)的一最高高度(H2)係為該鍋體(1)的一最高高度(H1)的三分之二。
9. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，還包括二提把(4)，分別設置在該鍋體(1)邊緣的相對兩側處。
10. 如請求項1所述之炒鍋結構(100)，還包括一提把(4)以及一手把(5)，分別設置在該鍋體(1)邊緣的相對兩側處。

Images