TWM644005U - 森平鼎鍋結構 - Google Patents

Abstract

本創作提供一種森平鼎鍋結構，包括一平面單元，該平面單元的一上表面具有一皺摺區以及一非皺摺區，該皺摺區具有一第一毛細孔密度，該非皺褶區具有一第二毛細孔密度，而該第一毛細孔密度大於該第二毛細孔密度；以及一鍋緣單元，從該平面單元的一周圍朝外且朝上延伸而形成。藉由沖壓拉伸製程，使得平面單元具有毛細孔的分布，因此無須經過塗佈而形成塗層的製程工序，可以縮減製程時間與製造材料，不但製造方法簡單，更降低成本，同時能達到不沾烹飪食材的功效。

Description

森平鼎鍋結構

本創作係與鍋體設備有關，特別尤指一種不沾食材的森平鼎鍋結構。

習知全金屬鍋具在烹調時，鍋內的食材容易與鍋具表面沾黏燒焦，因而開發出了不沾鍋。而習知的不沾鍋在金屬鍋體的內壁面(即直接接觸食材的一側面)上塗佈有耐高溫且抗沾黏的聚四氟乙烯塗層，藉以防止食材沾黏內壁面。

聚四氟乙烯塗層在一般烹調狀況下雖然發揮抗沾黏功效，但是當使用者以大火進行煎、炸、炒等高溫烹調時，鍋具的高溫可能會導致聚四氟乙烯塗層損壞或釋放出有毒物質，因此不沾鍋的內壁面及外壁面(即承受烹調火力的一側面)上經常各塗佈有一耐熱塗層，藉以防止聚四氟乙烯塗層在高溫烹調時損壞或釋放出有毒物質。

另外，聚四氟乙烯塗層塗佈在金屬鍋體的內壁面，需要多一個製程工序，製作比較複雜，增加製造成本。

本創作主要目的係提供一種森平鼎鍋結構，以沖壓拉伸方式製作出具有一皺摺區以及一非皺摺區的一平面單元以及從該平面單元的一周圍朝外且朝上延伸而形成的一鍋緣單元，而藉由沖壓拉伸製程，使得平面單元具有毛細孔的分布，因此無須經過塗佈而形成塗層的製程工序，可以縮減製程時間與製造材料，不但製造方法簡單，更降低成本，同時能達到不沾烹飪食材的功效。

再者，由於皺摺區的第一毛細孔密度大於非皺摺區的第二毛細孔密度，不但可以達到不沾烹飪食材的功效，更能藉由烹飪食材僅接觸到非皺摺區(相對於習知鍋具而言，接觸面積較少)，可以達到加熱均勻以及提升不沾烹飪食材的功效。

為了達成上述之目的與功效，本創作一種森平鼎鍋結構，至少包括一平面單元，該平面單元的一上表面具有一皺摺區以及一非皺摺區，該皺摺區具有一第一毛細孔密度，該非皺褶區具有一第二毛細孔密度，而該第一毛細孔密度大於該第二毛細孔密度；以及一鍋緣單元，從該平面單元的一周圍朝外且朝上延伸而形成。

在一些實施例中，該皺褶區與該非皺褶區係藉由一沖壓拉伸製程所形成。

在一些實施例中，該皺褶區形成一紋路，該紋路係由複數條平行線所構成。

在一些實施例中，該皺褶區形成一紋路，該紋路係由複數條不均勻的第一波浪線所構成。

在一些實施例中，該皺褶區形成一紋路，該紋路具有一中心區以及一周圍區，該中心區由複數條不均勻的第二波浪線所構成，該周圍區由複數條輻射線所構成。

在一些實施例中，該皺褶區的該紋路係呈一凹槽結構。

在一些實施例中，該平面單元與該鍋緣單元為一體成形。

在一些實施例中，該平面單元與該鍋緣單元係由不鏽鋼或鋼鐵所製。

在一些實施例中，該平面單元的一下表面具有另一皺摺區以及另一非皺摺區，該另一皺摺區的毛細孔密度大於該另一非皺褶區的毛細孔密度。

在一些實施例中，該平面單元係呈一圓型形狀，且該鍋緣單元係呈一環形形狀。

圖1係本創作森平鼎鍋結構的一實施例的頂視立體示意圖。圖2係本創作森平鼎鍋結構的一實施例的底視立體示意圖。圖3係本創作森平鼎鍋結構的一實施例的頂視示意圖。

請參考圖1到圖3，本創作森平鼎鍋結構100(亦稱鍋結構)可包括一平面單元1以及一鍋緣單元2。鍋緣單元2係從平面單元1的一周圍朝外且朝上延伸而形成。在一些實施例中，平面單元1可呈一圓型形狀，且鍋緣單元2可呈一環形形狀。本創作以此為圖例進行說明，但並不以此為限。

圖4係本創作森平鼎鍋結構沿圖3的剖線A-A的剖視示意圖。圖5係本創作森平鼎鍋結構依據圖3的區域A的部分放大示意圖。圖6係本創作森平鼎鍋結構依據圖4的區域B的部分放大示意圖。

請同時參考圖1以及圖3到圖6，平面單元1的一上表面具有一皺摺區11以及一非皺摺區12。皺摺區11與非皺摺區12均佈設有毛細孔19。在本創作的一些實施例中，皺摺區11具有一第一毛細孔密度，非皺褶區12具有一第二毛細孔密度，而第一毛細孔密度大於第二毛細孔密度。

請再參考圖2，在另一實施例中，平面單元1的一下表面具有另一皺摺區11’以及另一非皺摺區12’。另一皺摺區11’的毛細孔密度大於另一非皺褶區12’的毛細孔密度

請再參考圖1到圖3，在一些實施例中，皺褶區11形成一紋路，而該紋路係由複數條平行線13所構成。

圖7係本創作森平鼎鍋結構的另一實施例的頂視示意圖。圖8係本創作森平鼎鍋結構的另一實施例的頂視示意圖。

請參考圖7，在一些實施例中，皺褶區11形成一紋路，該紋路係由複數條不均勻的第一波浪線14所構成。請再參考圖8，皺褶區11形成一紋路，該紋路具有一中心區15以及一周圍區16。中心區15係由複數條不均勻的第二波浪線17所構成，而周圍區16係由複數條輻射線18所構成。意即，皺褶區11所形成的紋路，可以依據需求而架以變化進行設計，並不以本創作上述實施例為限。

圖9係本創作森平鼎鍋結構的製作示意圖。請一併參考圖9，本創作的森平鼎鍋結構100可以一基材200放置在具有與森平鼎鍋結構100共形的一凹槽310的一下模300上，並以一上模400對基材200朝向凹槽310進行沖壓拉伸(製程)，藉此以將基材200成形為本創作的森平鼎鍋結構100。而基材200被拉伸之後，即會形成多個毛細孔19在基材200中。

而在上模400對應基材200的一面處；在上模400對基材200進行沖壓拉伸(製程)之後，該基材200的上表面經沖壓拉伸使材料延伸而形成上述的皺褶區11(即紋路)(如圖1及圖3所示)。請在同時參考圖6，皺褶區11的紋路係呈一凹槽結構。但本創作並不以此為限。

另外，藉由沖壓拉伸(製程)，而在基材200(或平面單元1)的下表面經沖壓拉伸使材料延伸而形成另一皺褶區11’與另一非皺褶區12’的紋路(如圖2所示)。

在一些實施例中，藉由上述的沖壓拉伸製程，平面單元1與鍋緣單元2係為一體成形。在一些實施例中，基材200或是平面單元1與鍋緣單元2係由不鏽鋼或鋼鐵等類似的金屬所製，但並不以此為限。

綜上所述，以沖壓拉伸方式製作出具有皺摺區11、11'以及非皺摺區12、12'的平面單元1以及從平面單元1的周圍朝外且朝上延伸而形成的鍋緣單元2，而藉由沖壓拉伸製程，使得平面單元1具有毛細孔19的分布，因此無須經過塗佈而形成塗層的製程工序，可以縮減製程時間與製造材料，不但製造方法簡單，更降低成本，同時能達到不沾烹飪食材的功效。

再者，由於皺摺區11、11'的第一毛細孔密度大於非皺摺區12、12'的第二毛細孔密度，不但可以達到不沾烹飪食材的功效，更能藉由烹飪食材僅接觸到非皺摺區12(相對於習知鍋具而言，接觸面積較少)，可以達到加熱均勻以及提升不沾烹飪食材的功效。

100:森平鼎鍋結構 1:平面單元 11:皺摺區 11’:皺摺區 12:非皺摺區 12’:非皺摺區 13:平行線 14:第一波浪線 15:中心區 16:周圍區 17:第二波浪線 18:輻射線 19:毛細孔 2:鍋緣單元 200:基材 300:下模 310:凹槽 400:上模

圖1係本創作森平鼎鍋結構的一實施例的頂視立體示意圖。 圖2係本創作森平鼎鍋結構的一實施例的底視立體示意圖。 圖3係本創作森平鼎鍋結構的一實施例的頂視示意圖。 圖4係本創作森平鼎鍋結構沿圖3的剖線A-A的剖視示意圖。 圖5係本創作森平鼎鍋結構依據圖3的區域A的部分放大示意圖。 圖6係本創作森平鼎鍋結構依據圖4的區域B的部分放大示意圖。 圖7係本創作森平鼎鍋結構的另一實施例的頂視示意圖。 圖8係本創作森平鼎鍋結構的另一實施例的頂視示意圖。 圖9係本創作森平鼎鍋結構的製作示意圖。

100:森平鼎鍋結構

1:平面單元

11:皺摺區

12:非皺摺區

13:平行線

2:鍋緣單元

Claims (10)

1. 一種森平鼎鍋結構，至少包括： 一平面單元(1)，該平面單元(1)的一上表面具有一皺摺區(11)以及一非皺摺區(12)，該皺摺區(11)具有一第一毛細孔密度，該非皺褶區(12)具有一第二毛細孔密度，而該第一毛細孔密度大於該第二毛細孔密度；以及 一鍋緣單元(2)，從該平面單元(1)的一周圍朝外且朝上延伸而形成。
2. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該皺褶區(11)與該非皺褶區(12)係藉由一沖壓拉伸製程所形成。
3. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該皺褶區(11)形成一紋路，該紋路係由複數條平行線(13)所構成。
4. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該皺褶區(11)形成一紋路，該紋路係由複數條不均勻的第一波浪線(14)所構成。
5. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該皺褶區(11)形成一紋路，該紋路具有一中心區(15)以及一周圍區(16)，該中心區(15)由複數條不均勻的第二波浪線(17)所構成，該周圍區(16)由複數條輻射線(18)所構成。
6. 如請求項3到5其中一項所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該皺褶區(11)的該紋路係呈一凹槽結構。
7. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該平面單元(1)與該鍋緣單元(2)為一體成形。
8. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該平面單元(1)與該鍋緣單元(2)係由不鏽鋼或鋼鐵所製。
9. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該平面單元(1)的一下表面具有另一皺摺區(11’)以及另一非皺摺區(12’)，該另一皺摺區(11’)的毛細孔密度大於該另一非皺褶區(12’)的毛細孔密度。
10. 如請求項1所述之森平鼎鍋結構(100)，其中該平面單元(1)係呈一圓型形狀，且該鍋緣單元(2)係呈一環形形狀。

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