CN113440013B - 防滴水结构、上盖组件和烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种防滴水结构、上盖组件和烹饪器具。防滴水结构包括：本体；亲水粗糙层，设在本体的底表面上，亲水粗糙层具有凹凸结构。本发明提供的防滴水结构，在本体的底表面设置了亲水粗糙层，亲水粗糙层具有凹凸结构，使得防滴水结构的底表面形成砂质感表面，相较于抛光后的光滑表面，砂质感表面能够显著增加防滴水结构的底表面与水滴的接触面积，从而增强防滴水结构的亲水性，进而致使冷凝水在防滴水结果的底表面扩散形成液膜，而不再形成水滴滴落回米饭上，从而能够避免“滴白”现象，提高产品的使用观感，提升米饭的口感。

Description

防滴水结构、上盖组件和烹饪器具

技术领域

本发明涉及烹饪器具技术领域，具体而言，涉及一种防滴水结构、上盖组件和烹饪器具。

背景技术

目前，现有的电饭煲等烹饪器具，其盖板一般采用抛光后的板体制作。但是，在煮饭过程中，水蒸汽上升至盖板的底表面后，容易冷凝成水并滴落回米饭表面，造成局部米饭水量大，泡发变白，俗称“滴白”。相比于正常米饭，“滴白”米饭的颜色更白，水分多，硬度大，口感差，造成电饭煲等烹饪器具的使用观感差、食用体验差。

发明内容

为了解决上述技术问题至少之一，本发明的第一个目的在于提供一种防滴水结构。

本发明的第二个目的在于提供一种上盖组件。

本发明的第三个目的在于提供一种烹饪器具。

本发明的第四个目的在于提供另一种烹饪器具。

为了实现上述目的，本发明第一方面的技术方案提供了一种防滴水结构，适用于烹饪器具，所述防滴水结构包括：本体；亲水粗糙层，设在所述本体的底表面上，所述亲水粗糙层具有凹凸结构。

本发明第一方面的技术方案提供的防滴水结构，在本体的底表面设置了亲水粗糙层，亲水粗糙层具有凹凸结构，使得防滴水结构的底表面形成砂质感表面，相较于抛光后的光滑表面，砂质感表面能够显著增加防滴水结构的底表面与水滴的接触面积，从而增强防滴水结构的亲水性，进而致使冷凝水在防滴水结果的底表面扩散形成液膜，而不再形成水滴滴落回米饭上，从而能够避免“滴白”现象，提高产品的使用观感，提升米饭的口感。

换言之，本方案巧妙利用了水滴在固体表面的亲水特性，通过将防滴水结构的底表面设计为砂质感表面来增加与水滴的接触面积，使得亲水性更强。这样，当水蒸气上浮至防滴水结构的底表面(即亲水粗糙层的表面)冷凝，但在防滴水结构的底表面还未大量凝结时，受重力影响较小，冷凝水在亲水粗糙层的强亲水特性的影响下，不再形成水滴，而是变成液膜不断向四周流动，从而破坏了冷凝水滴落的聚集条件，能够有效防止米饭局部被滴白，避免了“滴白”现象，提高了烹饪器具的使用观感和煮食效果，提高了用户的烹饪体验。

可以理解的是，防滴水结构可以为电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板，能够有效防止电饭煲、电压力锅等烹饪器具发生滴白现象；防滴水结构也可以为蒸锅、电蒸锅等烹饪器具的锅盖，防止这些烹饪器具在烹饪过程中滴水导致馒头、糕点等食物局部泡发变白而影响观感和口感。

另外，本发明提供的上述技术方案中的防滴水结构还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案中，所述本体的底表面包括平面区，所述亲水粗糙层覆盖所述平面区；和/或所述本体的底表面包括凹坑区，所述亲水粗糙层覆盖所述凹坑区；和/或所述本体的底表面包括曲面区，所述曲面区沿着靠近所述本体的边缘的方向倾斜延伸使所述本体的底表面形成中部隆起的形状，所述亲水粗糙层覆盖所述曲面区；和/或所述本体的底表面包括凸筋区，所述凸筋区限定出凸筋，所述亲水粗糙层覆盖所述凸筋区。

本体的底表面包括平面区，平面区结构简单且规整，便于本体加工成型。亲水粗糙层覆盖平面区，便于液膜在平面区扩展，防止平面区对应的区域发生滴白现象。该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板。

本体的底表面包括凹坑区，亲水粗糙层覆盖凹坑区，便于液膜在凹坑区扩展，防止凹坑区对应的区域发生滴白现象，且凹坑区能够减少冷凝水的滚动，避免形成大的液滴，而在凹坑区设置亲水粗糙层，能够破坏凹坑区中冷凝水的聚集，有利于冷凝水形成液膜而向四周流动。进一步地，凹坑区相较于平面区，有利于增加本体的底表面的面积，有利于提高本体的受热均匀性，进而减少底表面上的冷凝水量，有利于进一步改善“滴白”现象；而在本体底面包括平面区和凹坑区时，亲水粗糙层同时覆盖本体的凹坑区和平面区，能够提高冷凝水在本体底面的扩散，减少冷凝水的聚集，在平面区设置亲水粗糙层，能够减少冷凝水在凹坑区的聚集，从而有利于冷凝水形成的液膜的均匀扩散，在凹坑区设置亲水粗糙层，能够进一步减少凹坑区冷凝水的聚集，有利于冷凝水向平面区的扩散，从而有利于冷凝水形成的液膜的均匀扩散。该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板。

本体的底表面包括曲面区，亲水粗糙层覆盖曲面区，便于液膜在曲面区扩展，防止曲面区对应的区域发生滴白现象。进一步地，曲面区沿着靠近本体的边缘的方向倾斜延伸使得本体的底表面形成中部隆起的形状，则在烹饪器具使用状态下，曲面区沿着靠近本体的边缘的方向倾斜向下延伸，且亲水粗糙层覆盖曲面区，因而既有利于冷凝水在重力的作用下沿着曲面区向本体的边缘方向流动，也有利于液膜向本体的边缘方向扩展延伸，从而有效防止发生“滴白”现象。该方案较为适用电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具的锅盖，一般呈中部隆起的形状。

本体的底表面包括凸筋区，亲水粗糙层覆盖凸筋区，便于液膜在凸筋区扩展，防止凸筋区对应的区域发生滴白现象。进一步地，凸筋区限定出凸筋，凸筋可以是加强筋，能够对本体起到加强作用；凸筋也可以是密封筋，与其他结构配合起到密封作用。该方案既适用于电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具的锅盖，也适用于电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板。

进一步地，本体的底表面可以包括上述平面区、凹坑区、曲面区、凸筋区中的任一种或任意多种，比如单纯的平面区、平面区与凹坑区的组合、平面区与曲面区的组合、平面区与凸筋区的组合、平面区及凹坑区及凸筋区的组合等。当然，本体的底表面不局限于上述方案，在实际生产过程中可以根据需要进行调整。

在上述技术方案中，所述本体包括平板，使所述本体的底表面包括平面区；和/或所述本体局部凹陷或者局部隆起形成多个凹坑，使所述本体的底表面包括凹坑区；和/或所述本体呈中部隆起的形状，所述本体包括曲面板，所述曲面板沿着靠近所述本体的边缘的方向倾斜延伸，使所述本体的底表面包括曲面区；和/或所述本体包括主体和凸设在所述主体上的凸筋，使所述本体的底表面包括凸筋区。

本体包括平板，结构简单且规整，便于加工成型。其中，本体可以整体呈平板状，该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板，有利于降低烹饪器具的纵向尺寸。或者，本体的局部为平板，其他部分不是平板，比如为曲面板或者为凹坑。

本体局部凹陷或者局部隆起形成多个凹坑，使得本体的底表面能够形成凹坑区。其中，本体局部凹陷形成的凹坑，凹坑围设出的空间位于本体的底表面的上方，在烹饪器具的使用过程中开口朝上，能够用于容纳冷凝水；本体局部隆起形成的凹坑，凹坑围设出的空间位于本体的顶表面的下方，在烹饪器具的使用过程中开口朝下，有利于防止冷凝水在本体的底表面上的聚集。该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板。对于电饭煲、电压力锅等烹饪器具，水蒸气会穿过盖板上的出气孔到达盖板与上盖之间的空间内，一部分水蒸气会进一步穿过上盖上出气口排出，还有一部分水蒸气会在盖板与上盖之间的空间内冷凝。局部向下凹陷形成的凹坑，便于盖板与上盖之间的空间内的冷凝水在重力的作用下流入凹坑内，防止盖板与上盖之间的空间内的冷凝水穿过盖板回流，从而进一步改善“滴白”现象。

本体包括曲面板，使得本体的底表面能够形成曲面区。该方案较为适用电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具的锅盖，与这些烹饪器具的锅盖的形状适配。

本体包括主体和凸筋，既有利于增加本体的强度，也有利于提高密封性，且使得本体的底表面能够形成凸筋区。进一步地，对于本体的底表面包括平面区和凸筋区的方案，主体呈平板状，以使本体的底表面包括平面区；对于本体的底表面包括凹坑区和凸筋区的方案，主体的局部向下凹陷形成凹坑，以使本体的底表面包括凹坑区；对于本体的底表面包括曲面区和凸筋区的方案，主体包括曲面板，以使本体的底表面包括曲面区。该方案既适用于电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具的锅盖，也适用于电饭煲、电压力锅等烹饪器具的盖板。

在上述技术方案中，所述本体呈中部隆起的形状，所述本体包括平板和与所述平板的周向边缘相连的曲面板，所述曲面板沿着靠近所述本体的边缘的方向倾斜延伸，使所述本体的底表面包括平面区和与所述平面区的外周缘相连的曲面区；其中，所述亲水粗糙层覆盖所述曲面区的部分的厚度D2小于或等于所述亲水粗糙层覆盖所述平面区的部分的厚度D1。

本体包括平板和曲面板，平板位于中部，曲面板环绕平板，与电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具的锅盖的形状适配，结构简单，加工工艺成熟，适用范围广。由于曲面区更适于液膜扩展，也更适于冷凝水向本体的边缘流动，因而在保证防滴水效果的基础上，亲水粗糙层覆盖曲面区的部分的厚度相较于亲水粗糙层覆盖平面区的部分的厚度可以适当减小，平面区冷凝水由于重力作用，容易形成水滴低下，设置亲水粗糙层覆盖曲面区的部分的厚度D2小于或等于亲水粗糙层覆盖平面区的部分的厚度D1，一方面能够促进平面区冷凝水形成液膜向四周扩散，从而破坏冷凝水滴落的聚集条件，另一方面能够避免曲面区的冷凝水形成液滴；另一方面，能够促进冷凝水在曲面区的快速流动，能够促进冷凝水由平面区向曲面区的扩散和流动。当然，亲水粗糙层覆盖曲面区的部分的厚度与亲水粗糙层覆盖平面区的部分的厚度可以保持相等，这样便于加工成型。

在上述技术方案中，所述本体的底表面包括平面区和凹坑区，且所述亲水粗糙层覆盖凹坑区的部分的厚度小于所述亲水粗糙层覆盖所述平面区的部分的厚度。

设置亲水粗糙层覆盖凹坑区的部分的厚度小于亲水粗糙层覆盖平面区的部分的厚度，有利于提高蒸汽在平面区的亲水性能，这有利于促进平面区冷凝水形成液膜向四周流动，从而提高冷凝水液膜在整体防滴水结构上的铺展的均匀性，防止冷凝水的聚集，进而进一步提高防滴白效果。

进一步地，对于本体的底表面包括凹坑区和平面区的情况，亲水粗糙层覆盖凹坑区的部分与亲水粗糙层覆盖平面区的部分之间过渡连接，这有利于提高亲水粗糙层的强度和连接可靠性，也便防滴白结构的清洗。其中，制造时既可以采用先喷砂再冲压形成凹坑，也可以采用先形成凹坑再喷砂的工艺。

在上述任一技术方案中，所述亲水粗糙层完全覆盖所述本体的底表面。

亲水粗糙层完全覆盖本体的底表面，便于本体的底表面各部位接触的水蒸气冷凝后扩展并连为一体，形成液膜，有效破坏冷凝水滴落的聚集条件，进一步防止发生“滴白”现象。

在上述任一技术方案中，所述亲水粗糙层的粗糙度的Ra值在1至16的范围内；和/或所述亲水粗糙层的厚度在10μm至200μm的范围内；和/或所述亲水粗糙层的维氏硬度在HV250至HV350之间的范围内；和/或所述亲水粗糙层的水接触角在0°至40°的范围内。

将亲水粗糙层的粗糙度限定在Ra1至Ra16的范围内，既保证了亲水粗糙层能够起到良好的亲水效果，有利于液膜扩展，且有利于导热均匀，进一步避免了冷凝水的聚集；又避免了粗糙过高导致加工难度过高，便于加工成型；且避免了粗糙度过高导致液膜被撕裂而不易扩展。

将亲水粗糙层的厚度(即凹凸结构的最高处与最低处的垂直深度)限定在10μm至200μm的范围内，既保证了能够起到良好的亲水效果，有利于液膜扩展，又避免了厚度过大导致加工难度过高，便于加工成型；且避免了厚度过高导致粗糙度过高致使液膜被撕裂而不易扩展。

将亲水粗糙层的维氏硬度限定在HV250至HV350的范围内，既避免了硬度过高导致液膜容易被划破，有利于液膜稳定扩展，又避免了硬度值过低导致亲水粗糙层容易发生变形，提高了防滴水结构的使用可靠性。

将亲水粗糙层的水接触角限定在0°至40°的范围内，保证了亲水粗糙层具有优异的亲水效果，从而有利于液膜扩展，防止“滴白”现象。

在上述任一技术方案中，所述亲水粗糙层为喷砂层；或者所述亲水粗糙层为化学蚀刻层；或者所述亲水粗糙层为激光蚀刻层；或者所述亲水粗糙层为涂层；或者所述亲水粗糙层组装在所述本体上。

亲水粗糙层可以采用喷砂工艺制备，形成喷砂层。喷砂工艺成熟，且便于根据需要来合理控制亲水粗糙层的参数。并且，本方案对产品改动小，对成本要求低，对产品的耐磨可靠性有保障。具体地，喷砂采用的砂粒种类可以为但不局限于：白刚玉、锆刚玉、二氧化硅、不锈钢球等。使用砂粒的直径在45μm至300μm的范围内，但不局限于该范围。喷砂压力在0.1MPa至0.3MPa的范围内，但不局限于该范围。喷枪出口距本体的底表面的直线距离在5mm至100mm的范围内，但不局限于该范围。喷砂时间在5秒至60秒的范围内，但不局限于该范围。

亲水粗糙层也可以采用化学蚀刻的工艺制备，利用化学试剂对本体进行腐蚀，进而形成亲水粗糙层。

亲水粗糙层也可以采用激光蚀刻的工艺制备，利用激光照射本体，进而形成亲水粗糙层。

亲水粗糙层也可以采用冷喷涂、热喷涂、涂覆等工艺制备，在本体的底表面上形成涂层，只要涂层的表面是凹凸不平的即可。

亲水粗糙层也可以与本体分开成型，然后将亲水粗糙层组装在本体上。比如：采用耐温的塑料膜，塑料膜具有砂质感的表面，将该塑料膜粘贴在本体的底表面上，使塑料膜具有砂质感的表面朝下即可。

在上述任一技术方案中，所述本体为金属件；或者所述本体为塑料件；或者所述本体为陶瓷件。

本体采用金属件，金属强度高，耐高温、耐腐蚀，且便于利用喷砂、化学蚀刻、激光蚀刻、喷涂、涂覆等各种工艺来制备亲水粗糙层，也可以通过粘贴等方式组装亲水粗糙层。同时，金属导热性好，在烹饪过程中可以受热具有较高的温度，从而减少水蒸气的冷凝量，进而进一步防止“滴白”现象。

本体采用塑料件，塑料件便于根据产品需要加工成各种所需的形状，有利于满足产品需求，且便于采用化学蚀刻、激光蚀刻、喷涂、涂覆等工艺来制备亲水粗糙层，也可以通过粘贴等方式组装亲水粗糙层。同时，塑料件的生产成本相对较低，有利于降低产品成本。

本体采用陶瓷件，陶瓷件强度高，且耐高温、耐腐蚀。同时，陶瓷导热性好，在烹饪过程中可以受热具有较高的温度，从而减少水蒸气的冷凝量，进而进一步防止“滴白”现象。

本发明第二方面的技术方案提供了一种上盖组件，适用于烹饪器具，所述上盖组件包括：上盖；和如第一方面技术方案中任一项所述的防滴水结构，所述防滴水结构形成为所述上盖组件的盖板，所述盖板与所述上盖相连。

本发明第二方面的技术方案提供的上盖组件，因包括第一方面技术方案中任一项所述的防滴水结构，因而具有上述任一技术方案所具有的一切有益效果，在此不再赘述。

本发明第三方面的技术方案提供了一种烹饪器具，包括：锅体；和如第二方面的技术方案所述的上盖组件，被配置为适于盖设在所述锅体上。

本发明第三方面的技术方案提供的烹饪器具，因包括第二方面技术方案中任一项所述的上盖组件，因而具有上述任一技术方案所具有的一切有益效果，在此不再赘述。

在上述技术方案中，所述烹饪器具为电饭煲或电压力锅。

本发明第四方面的技术方案提供了一种烹饪器具，包括：锅体；和如第一方面技术方案中任一项所述的防滴水结构，所述防滴水结构形成所述烹饪器具的锅盖，所述锅盖被配置为适于盖设在所述锅体上。

本发明第四方面的技术方案提供的烹饪器具，因包括第一方面技术方案中任一项所述的防滴水结构，因而具有上述任一技术方案所具有的一切有益效果，在此不再赘述。

在上述技术方案中，所述烹饪器具为电蒸锅、普通蒸锅等。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本发明一些实施例所述的防滴水结构的仰视示意图；

图2是本发明一些实施例所述的亲水粗糙层的微观示意图及局部放大示意图；

图3是本发明一些实施例所述的盖板的仰视结构图及局部放大示意图；

图4是本发明一些实施例所述的锅盖的局部剖视示意图及局部放大示意图；

图5是本发明一些实施例所述的上盖组件的示意框图；

图6是本发明一些实施例所述的烹饪器具的局部结构示意图；

图7是本发明一些实施例所述的烹饪器具的示意框图。

其中，图1至图7中的附图标记与部件名称之间的对应关系为：

1本体，11平板，111平面区，12凹坑，121凹坑区，13曲面板，131曲面区，14凸筋，2亲水粗糙层；

10上盖组件，102上盖，104盖板；

20烹饪器具，202锅体，204锅盖。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

下面参照图1至图7描述本发明一些实施例所述的防滴水结构、上盖组件及烹饪器具。

本发明第一方面的实施例提供的防滴水结构，如图1所示，适用于烹饪器具20，防滴水结构包括：本体1和亲水粗糙层2。

具体地，亲水粗糙层2设在本体1的底表面上，亲水粗糙层2具有凹凸结构，如图2所示。

本发明第一方面的实施例提供的防滴水结构，在本体1的底表面设置了亲水粗糙层2，亲水粗糙层2具有凹凸结构，使得防滴水结构的底表面形成砂质感表面，相较于抛光后的光滑表面，砂质感表面能够显著增加防滴水结构的底表面与水滴的接触面积，从而增强防滴水结构的亲水性，进而致使冷凝水在防滴水结果的底表面扩散形成液膜，而不再形成水滴滴落回米饭上，从而能够避免“滴白”现象，提高产品的使用观感，提升米饭的口感。

换言之，本方案巧妙利用了水滴在固体表面的亲水特性，通过将防滴水结构的底表面设计为砂质感表面来增加与水滴的接触面积，使得亲水性更强。这样，当水蒸气上浮至防滴水结构的底表面(即亲水粗糙层2的表面)冷凝，但在防滴水结构的底表面还未大量凝结时，受重力影响较小，冷凝水在亲水粗糙层2的强亲水特性的影响下，不再形成水滴，而是变成液膜不断向四周流动，从而破坏了冷凝水滴落的聚集条件，能够有效防止米饭局部被滴白，避免了“滴白”现象，提高了烹饪器具20的使用观感和煮食效果，提高了用户的烹饪体验。

可以理解的是，防滴水结构可以为电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104，能够有效防止电饭煲、电压力锅等烹饪器具20发生滴白现象。防滴水结构也可以为蒸锅、电蒸锅等烹饪器具20的锅盖204，防止这些烹饪器具20在烹饪过程中滴水导致馒头、糕点等食物局部泡发变白而影响观感和口感。

在本发明的一些实施例中，本体1的底表面包括平面区111，如图3和图4所示，亲水粗糙层2覆盖平面区111。

本体1的底表面包括平面区111，平面区111结构简单且规整，便于本体1加工成型。亲水粗糙层2覆盖平面区111，便于液膜在平面区111扩展，防止平面区111对应的区域发生滴白现象。该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104。

在本发明的一些实施例中，本体1的底表面包括凹坑区121，如图3所示，亲水粗糙层2覆盖凹坑区121。

本体1的底表面包括凹坑区121，亲水粗糙层2覆盖凹坑区121，便于液膜在凹坑区121扩展，防止凹坑区121对应的区域发生滴白现象，且凹坑区121能够减少冷凝水的滚动，避免形成大的液滴，而在凹坑区121覆盖有亲水粗糙层2，能够破坏凹坑区121对应的区域中冷凝水的聚集，有利于冷凝水形成液膜而向四周流动。进一步地，凹坑区121相较于平面区111，有利于增加本体1的底表面的面积，有利于提高本体1的受热均匀性，进而减少底表面上的冷凝水量，有利于进一步改善“滴白”现象。而在本体1底面包括平面区111和凹坑区121时，亲水粗糙层2同时覆盖本体1的凹坑区121和平面区111，能够提高冷凝水在本体1底面的扩散，减少冷凝水的聚集，在平面区111对应的区域设置亲水粗糙层2，能够减少冷凝水在凹坑区121对应的区域的聚集，从而有利于冷凝水形成的液膜的均匀扩散，在凹坑区121对应的区域设置亲水粗糙层2，能够进一步减少凹坑区121对应的区域冷凝水的聚集，有利于冷凝水向平面区111对应的区域的扩散，从而有利于冷凝水形成的液膜的均匀扩散。该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104。

在本发明的一些实施例中，本体1的底表面包括曲面区131，如图4所示。曲面区131沿着靠近本体1的边缘的方向倾斜延伸使本体1的底表面形成中部隆起的形状，亲水粗糙层2覆盖曲面区131，如图4所示。

本体1的底表面包括曲面区131，亲水粗糙层2覆盖曲面区131，便于液膜在曲面区131扩展，防止曲面区131对应的区域发生滴白现象。

进一步地，曲面区131沿着靠近本体1的边缘的方向倾斜延伸使得本体1的底表面形成中部隆起的形状，则在烹饪器具使用状态下，则曲面区131沿着靠近本体1的边缘的方向倾斜向下延伸，且亲水粗糙层2覆盖曲面区131，因而既有利于冷凝水在重力的作用下沿着曲面区131向本体1的边缘方向流动，也有利于液膜向本体1的边缘方向扩展延伸，从而有效防止发生“滴白”现象。该方案较为适用电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具20的锅盖204，一般呈中部隆起的形状。

在本发明的一些实施例中，本体1的底表面包括凸筋区，如图1所示，凸筋区限定出凸筋14，亲水粗糙层2覆盖凸筋区。

本体1的底表面包括凸筋区，亲水粗糙层2覆盖凸筋区，便于液膜在凸筋区扩展，防止凸筋区对应的区域发生滴白现象。

进一步地，凸筋区限定出凸筋14，凸筋14可以是加强筋，能够对本体1起到加强作用。凸筋14也可以是密封筋，与其他结构配合起到密封作用。该方案既适用于电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具20的锅盖204，也适用于电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104。

进一步地，本体1的底表面可以包括上述平面区111、凹坑区121、曲面区131、凸筋区中的任一种或任意多种，比如单纯的平面区111、平面区111与凹坑区121的组合(如图3所示)、平面区111与曲面区131的组合(如图4所示)、平面区111与凸筋区的组合(如图1所示)、平面区111及凹坑区121及凸筋区的组合(如图3所示)等。

当然，本体1的底表面不局限于上述方案，在实际生产过程中可以根据需要进行调整。

在本发明的一些实施例中，本体1包括平板11，如图1所示，使本体1的底表面包括平面区111。

本体1包括平板11，结构简单且规整，便于加工成型。其中，本体1可以整体呈平板11状，该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104，有利于降低烹饪器具20的纵向尺寸。或者，本体1的局部为平板11，其他部分不是平板11，比如为曲面板13或者为凹坑12。

在本发明的一些实施例中，本体1局部凹陷或者局部隆起形成多个凹坑12，如图3所示，使本体1的底表面包括凹坑区121。

本体1局部向下凹陷或者局部向上隆起形成多个凹坑12，使得本体1的底表面能够形成凹坑区121。其中，本体1局部凹陷形成的凹坑12，凹坑12围设出的空间位于本体1的底表面的上方，在烹饪器具的使用过程中开口朝上，能够用于容纳冷凝水；本体1局部隆起形成的凹坑12，凹坑12围设出的空间位于本体1的顶表面的下方，在烹饪器具的使用过程中开口朝下，有利于防止冷凝水在本体1的底表面上的聚集。该方案较为适用电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104。对于电饭煲、电压力锅等烹饪器具20，水蒸气会穿过盖板104上的出气孔到达盖板104与上盖102之间的空间内，一部分水蒸气会进一步穿过上盖102上出气口排出，还有一部分水蒸气会在盖板104与上盖102之间的空间内冷凝。局部向下凹陷形成的凹坑12，便于盖板104与上盖102之间的空间内的冷凝水在重力的作用下流入凹坑12内，防止盖板104与上盖102之间的空间内的冷凝水穿过盖板104回流，从而进一步改善“滴白”现象。

在本发明的一些实施例中，本体1呈中部隆起的形状，本体1包括曲面板13，如图4所示，曲面板13沿着靠近本体1的边缘的方向倾斜向下延伸，使本体1的底表面包括曲面区131。

本体1包括曲面板13，使得本体1的底表面能够形成曲面区131。该方案较为适用电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具20的锅盖204，与这些烹饪器具20的锅盖204的形状适配。

在本发明的一些实施例中，本体1包括主体和凸设在主体上的凸筋14，如图1和图3所示，使本体1的底表面包括凸筋区。

本体1包括主体和凸筋14，既有利于增加本体1的强度，也有利于提高密封性，且使得本体1的底表面能够形成凸筋区。

进一步地，对于本体1的底表面包括平面区111和凸筋区的方案，主体呈平板11状，以使本体1的底表面包括平面区111；对于本体1的底表面包括凹坑区121和凸筋区的方案，主体的局部向下凹陷形成凹坑12，以使本体1的底表面包括凹坑区121；对于本体1的底表面包括曲面区131和凸筋区的方案，主体包括曲面板13，以使本体1的底表面包括曲面区131。该方案既适用于电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具20的锅盖204，也适用于电饭煲、电压力锅等烹饪器具20的盖板104。

在本发明的一个实施例中，本体1包括平板11和与平板11的周向边缘相连的曲面板13，如图4所示，曲面板13沿着靠近本体1的边缘的方向倾斜向下延伸，使本体1的底表面包括平面区111和与平面区111的外周缘相连的曲面区131。其中，亲水粗糙层2覆盖曲面区131的部分的厚度D2小于或等于亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分的厚度D1。

本体1包括平板11和曲面板13，平板11位于中部，曲面板13环绕平板11，与电蒸锅、普通蒸锅等烹饪器具20的锅盖204的形状适配，结构简单，加工工艺成熟，适用范围广。由于曲面区131更适于液膜扩展，也更适于冷凝水向本体1的边缘流动，因而在保证防滴水效果的基础上，亲水粗糙层2覆盖曲面区131的部分的厚度相较于亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分的厚度可以适当减小，平面区111冷凝水由于重力作用，容易形成水滴低下，设置亲水粗糙层2覆盖曲面区131的部分的厚度D2小于或等于亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分的厚度D1，一方面能够促进平面区111冷凝水形成液膜向四周扩散，从而破坏冷凝水滴落的聚集条件，另一方面能够避免曲面区131的冷凝水形成液滴；另一方面，能够促进冷凝水在曲面区131的快速流动，能够促进冷凝水由平面区111向曲面区131的扩散和流动。

当然，亲水粗糙层2覆盖曲面区131的部分的厚度与亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分的厚度可以保持相等，这样便于加工成型。

在本发明的另一个实施例中，本体的底表面包括平面区111和凹坑区121，如图3所示，且亲水粗糙层2覆盖凹坑区121的部分的厚度小于亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分的厚度。

设置亲水粗糙层2覆盖凹坑区121的部分的厚度小于亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分的厚度，有利于提高蒸汽在平面区111的亲水性能，这有利于促进平面区111冷凝水形成液膜向四周流动，从而提高冷凝水液膜在整体防滴水结构上的铺展的均匀性，防止冷凝水的聚集，进而进一步提高防滴白效果。

进一步地，对于本体的底表面包括凹坑区121和平面区111的情况，亲水粗糙层2覆盖凹坑区121的部分与亲水粗糙层2覆盖平面区111的部分之间过渡连接，这有利于提高亲水粗糙层2的强度和连接可靠性，也便防滴白结构的清洗。其中，制造时既可以采用先喷砂再冲压形成凹坑，也可以采用先形成凹坑再喷砂的工艺。

在上述任一实施例中，进一步地，亲水粗糙层2完全覆盖本体1的底表面。

亲水粗糙层2完全覆盖本体1的底表面，便于本体1的底表面各部位接触的水蒸气冷凝后扩展并连为一体，形成液膜，有效破坏冷凝水滴落的聚集条件，进一步防止发生“滴白”现象。

在上述任一实施例中，亲水粗糙层2的粗糙度的Ra值在1至16的范围内。

将亲水粗糙层2的粗糙度限定在Ra1至Ra16的范围内，如Ra1、Ra3、Ra5、Ra8、Ra10、Ra12、Ra15、Ra16等，既保证了亲水粗糙层2能够起到良好的亲水效果，有利于液膜扩展，且有利于导热均匀，进一步避免了冷凝水的聚集；又避免了粗糙过高导致加工难度过高，便于加工成型；且避免了粗糙度过高导致液膜被撕裂而不易扩展。

在上述任一实施例中，亲水粗糙层2的厚度在10μm至200μm的范围内。

将亲水粗糙层2的厚度(即凹凸结构的最高处与最低处的垂直深度)限定在10μm至200μm的范围内，如10μm、30μm、50μm、80μm、100μm、120μm、150μm、180μm、200μm等，既保证了能够起到良好的亲水效果，有利于液膜扩展，又避免了厚度过大导致加工难度过高，便于加工成型；且避免了厚度过高导致粗糙度过高致使液膜被撕裂而不易扩展。当然，亲水粗糙层2的厚度不局限于上述范围，在实际生产过程中可以根据需要调整。

在上述任一实施例中，亲水粗糙层2的维氏硬度在HV250至HV350之间的范围内。

将亲水粗糙层2的维氏硬度限定在HV250至HV350的范围内，如HV250、HV280、HV300、HV320、HV350等，既避免了硬度过高导致液膜容易被划破，有利于液膜稳定扩展，又避免了硬度值过低导致亲水粗糙层2容易发生变形，提高了防滴水结构的使用可靠性。当然，亲水粗糙层2的维氏硬度不局限于上述范围，在实际生产过程中可以根据需要调整。

在上述任一实施例中，亲水粗糙层2的水接触角在0°至40°的范围内。

将亲水粗糙层2的水接触角限定在0°至40°的范围内，如0°、10°、20°、30°、40°、50°等，保证了亲水粗糙层2具有优异的亲水效果，从而有利于液膜扩展，防止“滴白”现象。当然，亲水粗糙层2的水接触角不局限于上述范围，在实际生产过程中可以根据需要调整。

在本发明的一个实施例中，亲水粗糙层2为喷砂层。

亲水粗糙层2可以采用喷砂工艺制备，形成喷砂层。喷砂工艺成熟，且便于根据需要来合理控制亲水粗糙层2的参数。并且，本方案对产品改动小，对成本要求低，对产品的耐磨可靠性有保障。

具体地，喷砂采用的砂粒种类可以为但不局限于：白刚玉、锆刚玉、二氧化硅、不锈钢球等。

使用砂粒的直径在45μm至300μm的范围内，如45μm、60μm、80μm、100μm、150μm、200μm、250μm、300μm等，但不局限于该范围。

喷砂压力在0.1MPa至0.3MPa的范围内，如0.1MPa、0.15MPa、0.2MPa、0.25MPa、0.3MPa等，但不局限于该范围。

喷枪出口距本体1的底表面的直线距离在5mm至100mm的范围内，如5mm、10mm、20mm、30mm、40mm、50mm、60mm、70mm、80mm、90mm、100mm等，但不局限于该范围。

喷砂时间在5秒至60秒的范围内，如5秒、10秒、20秒、30秒、40秒、50秒、60秒等，但不局限于该范围。

在本发明的一个实施例中，亲水粗糙层2为化学蚀刻层。

亲水粗糙层2也可以采用化学蚀刻的工艺制备，利用化学试剂对本体1进行腐蚀，进而形成亲水粗糙层2。

在本发明的一个实施例中，亲水粗糙层2为激光蚀刻层。

亲水粗糙层2也可以采用激光蚀刻的工艺制备，利用激光照射本体1，进而形成亲水粗糙层2。

在本发明的一个实施例中，亲水粗糙层2为涂层。

亲水粗糙层2也可以采用冷喷涂、热喷涂、涂覆等工艺制备，在本体1的底表面上形成涂层，只要涂层的表面是凹凸不平的即可。

在本发明的一个实施例中，亲水粗糙层2组装在本体1上。

亲水粗糙层2也可以与本体1分开成型，然后将亲水粗糙层2组装在本体1上。

比如：采用耐温的塑料膜，塑料膜具有砂质感的表面，将该塑料膜粘贴在本体1的底表面上，使塑料膜具有砂质感的表面朝下即可。

在本发明的一些实施例中，本体1为金属件。

本体1采用金属件，金属强度高，耐高温、耐腐蚀，且便于利用喷砂、化学蚀刻、激光蚀刻、喷涂、涂覆等各种工艺来制备亲水粗糙层2，也可以通过粘贴等方式组装亲水粗糙层2。同时，金属导热性好，在烹饪过程中可以受热具有较高的温度，从而减少水蒸气的冷凝量，进而进一步防止“滴白”现象。

在本发明的一些实施例中，本体1为塑料件。

本体1采用塑料件，塑料件便于根据产品需要加工成各种所需的形状，有利于满足产品需求，且便于采用化学蚀刻、激光蚀刻、喷涂、涂覆等工艺来制备亲水粗糙层2，也可以通过粘贴等方式组装亲水粗糙层2。同时，塑料件的生产成本相对较低，有利于降低产品成本。

在本发明的一些实施例中，本体1为陶瓷件。

本体1采用陶瓷件，陶瓷件强度高，且耐高温、耐腐蚀。同时，陶瓷导热性好，在烹饪过程中可以受热具有较高的温度，从而减少水蒸气的冷凝量，进而进一步防止“滴白”现象。

本发明第二方面的实施例提供的上盖组件10，如图5所示，适用于烹饪器具20，上盖组件10包括：上盖102和如第一方面实施例中任一项的防滴水结构，防滴水结构形成为上盖组件10的盖板104，盖板104与上盖102相连。

本发明第二方面的实施例提供的上盖组件10，因包括第一方面实施例中任一项的防滴水结构，因而具有上述任一实施例所具有的一切有益效果，在此不再赘述。

本发明第三方面的实施例提供的烹饪器具20，如图6所示，包括：锅体202和如第二方面的实施例的上盖组件10，被配置为适于盖设在锅体202上。

本发明第三方面的实施例提供的烹饪器具20，因包括第二方面实施例中任一项的上盖组件10，因而具有上述任一实施例所具有的一切有益效果，在此不再赘述。

在上述实施例中，烹饪器具20为电饭煲或电压力锅。

本发明第四方面的实施例提供的烹饪器具20，如图7所示，包括：锅体202和如第一方面实施例中任一项的防滴水结构，防滴水结构形成烹饪器具20的锅盖204，锅盖204被配置为适于盖设在锅体202上。

本发明第四方面的实施例提供的烹饪器具20，因包括第一方面实施例中任一项的防滴水结构，因而具有上述任一实施例所具有的一切有益效果，在此不再赘述。

在上述实施例中，烹饪器具20为电蒸锅、普通蒸锅等。

下面介绍一些具体示例，并与现有技术进行对比。

现有电饭煲的盖板104多使用抛光后的不锈钢或者铝制作，上述传统盖板104具有不足之处：那就是在煮饭过程中，水蒸气在盖板104表面冷凝后，容易滴落回米饭表面，造成局部滴落的米饭含水量大，泡发变白，俗称“滴白”。相比于正常米饭，“滴白”米饭的颜色更白，水分多，硬度低，口感差。

本申请提供的解决方案是：在金属盖板104表面制造凹凸结构的砂质感表面，由于金属盖板104原本表现为亲水性，砂质感表面结构使盖板104与水滴接触面积更大，亲水性更强，从而致使冷凝水在盖板104表面扩散流向边缘，而不再形成水滴落回米饭上，避免“滴白”现象。

具体示例1

一种电饭煲，包括盖板104(即防滴水结构形成的盖板104)和锅体202，如图6所示。盖板104包含盖板104底面。盖板104位于锅体202的正上方，盖板104底面在锅体202中水蒸气上浮的路径上。

盖板104位于锅体202的正上方，如图6所示。在电饭煲锅体202内煮饭时，锅体202内部的水受热蒸发，部分水蒸气上浮从盖板104的孔洞逸出进入蒸汽阀，但会有大量水蒸气直接接触盖板104的底面，在盖板104底面冷凝成水。而盖板104底面的亲水凹凸结构具有很强的亲水性，造成冷凝水不再形成水珠滴落，而是与盖板104底面充分结合，水珠向四周扩散，形成水膜，最终流到盖板104底面的边缘处，防止在盖板104底面上滴落到锅体202中的米饭表面，避免了“滴白”现象。

具体地，在盖板104底面，使用喷砂技术，制造出凹凸结构。凹凸结构需要布满整个盖板104底面，如在盖板104底面上有其他筋位等结构，可使本凹凸结构直接覆盖于其他筋位结构之上。使用砂粒种类可为白刚玉、锆刚玉、二氧化硅、不锈钢球等(本例中使用白刚玉)。使用砂粒的直径可在45μm-300μm之间(本例中使用直径约为200μm)。所使用喷砂压力可在0.1MPa-0.3MPa之间(本例中所使用压力为0.2MPa)。喷枪出口距盖板104底面的直线距离可在5mm-100mm之间(本例中所使用距离为20mm)。喷砂时间可在5s-60s之间(本例中喷砂时间为35s)。

通过上述工艺，最终构造出的凹凸结构如下：盖板104底面在整体上均匀平整，呈现砂质感；使用形状测量激光显微系统进行粗糙度测量，其粗糙度Ra值在1-16之间(本例中测量Ra值为5.6)；使用形状测量激光显微系统测量喷砂处理深度D(即整个平面上最高处-最低处的垂直深度)在10μm-200μm之间(本例中测量D值平均约为43μm)；使用维氏硬度计测量凹凸结构的硬度值可在HV 250-350之间(本例中测量硬度值平均约为HV293)；使用光学接触角测量仪测量凹凸结构的水接触角可在0°-40°之间(本例中测量水接触角平均为18°)。可使用具有同功能的仪器测量代替本例中所使用的测量仪器。

具体示例2

与具体示例1的区别在于：盖板104为凹坑12盖板104，即设有多个凹坑12的盖板104，如图3所示。

在凹坑12盖板104上，有许多冲压成型的凹坑12结构，凹坑12结构上的亲水凹凸结构与盖板104底面上的平面凹凸结构尺寸一致，如图3所示，使用形状测量激光显微系统测量喷砂处理深度D(即整个平面上最高处-最低处的垂直深度)在10μm-200μm之间。

具体示例3

与具体示例1的区别在于：盖板104为具有弧度的盖板104，即盖板104中部为平缓区域，周围为具有弧度的区域，即平板11与曲面板13的结合。

在有弧度的盖板104上，可分为平缓区域和弧度区域，如图4所示。平缓区域的亲水凹凸结构喷砂处理深度D1，与盖板104底面上的平面凹凸结构尺寸一致，使用形状测量激光显微系统测量喷砂处理深度D1在10-200μm之间。使用形状测量激光显微系统测量弧度区域的亲水凹凸结构喷砂处理深度D2在10μm-200μm之间。但相比平缓区域，弧度区域更利于冷凝水向四周流动，但深度D2可比深度D1浅。

工作原理：

盖板104位于锅体202的正上方，盖板104底面在锅体202中水蒸气上浮的路径上。在电饭煲锅体202内煮饭时，锅体202内部的水受热蒸发，水蒸气上浮。部分水蒸气会从盖板104的孔洞逸出，通过蒸汽阀逸出到大气中，但同时会有大量水蒸气直接接触盖板104底面，在盖板104底面冷凝成水。而盖板104底面的凹凸结构具有很强的亲水性，造成冷凝水不再形成水珠滴落，而是与盖板104底面充分接触，冷凝水不断紧贴着盖板104底面向四周扩散，形成水膜，最终流到盖板104底面的边缘处，防止在盖板104底面上滴落到锅体202中的米饭表面，避免了“滴白”现象。

现有技术中，电饭煲内煮饭时，水蒸气不断生成，其在接触到盖板104表面时，由于温差较大造成水蒸气冷凝，冷凝的水珠在盖板104底面不具有良好的流动性，在重力的作用下，容易滴落回米饭表面，造成局部滴落的米饭含水量大，泡发变白，俗称“滴白”。相比于正常米饭，“滴白”米饭的颜色更白，造成整锅米饭有颜色差异；水分多，硬度低，口感差，从而造成电饭煲的使用观感差及米饭的食用体验差。

而本申请运用水滴在固体表面的亲水特性，在盖板104底面上的水滴还未大量凝结时，受重力影响较小，冷凝水在盖板104底面的亲水特性影响下，不再形成水滴，而是变成液膜不断向四周流动，从而破坏冷凝水滴落的聚集条件。

此方案所运用的喷砂工艺，对产品改动小，对成本要求低，对产品的耐磨可靠性有保障。

进一步地，盖板104材质可由不锈钢、铝等金属更换为塑料、陶瓷等其他材质。

进一步地，喷砂工艺可替换为化学刻蚀、激光刻蚀等表面加工工艺。

在本发明中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本发明的限制。

在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种防滴水结构，适用于烹饪器具，其特征在于，所述防滴水结构包括：

本体；

亲水粗糙层，设在所述本体的底表面上，所述亲水粗糙层具有凹凸结构；

所述本体呈中部隆起的形状，所述本体包括平板和与所述平板的周向边缘相连的曲面板，所述本体的底表面包括平面区和曲面区， 所述曲面板沿着靠近所述本体的边缘的方向倾斜延伸，使所述本体的底表面包括所述平面区和与所述平面区的外周缘相连的所述曲面区；所述亲水粗糙层覆盖所述平面区和所述曲面区；所述亲水粗糙层覆盖所述曲面区的部分的厚度D2小于或等于所述亲水粗糙层覆盖所述平面区的部分的厚度D1；和/或

所述本体的底表面包括平面区和凹坑区，所述亲水粗糙层覆盖所述平面区和所述凹坑区；且所述亲水粗糙层覆盖所述凹坑区的部分的厚度小于所述亲水粗糙层覆盖所述平面区的部分的厚度。

2.根据权利要求1所述的防滴水结构，其特征在于，

所述本体的底表面还包括凸筋区，所述凸筋区限定出凸筋，所述亲水粗糙层覆盖所述凸筋区。

3.根据权利要求2所述的防滴水结构，其特征在于，

所述本体包括平板，使所述本体的底表面包括平面区；和/或

所述本体局部凹陷或者局部隆起形成多个凹坑，使所述本体的底表面包括凹坑区；和/或

所述本体呈中部隆起的形状，所述本体包括曲面板，所述曲面板沿着靠近所述本体的边缘的方向倾斜延伸，使所述本体的底表面包括曲面区；和/或

所述本体包括主体和凸设在所述主体上的凸筋，使所述本体的底表面包括凸筋区。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的防滴水结构，其特征在于，

所述亲水粗糙层完全覆盖所述本体的底表面。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的防滴水结构，其特征在于，

所述亲水粗糙层的粗糙度的Ra值在1至16的范围内；和/或

所述亲水粗糙层的厚度在10μm至200μm的范围内；和/或

所述亲水粗糙层的维氏硬度在HV250至HV350之间的范围内；和/或

所述亲水粗糙层的水接触角在0°至40°的范围内。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的防滴水结构，其特征在于，

所述亲水粗糙层为喷砂层；或者

所述亲水粗糙层为化学蚀刻层；或者

所述亲水粗糙层为激光蚀刻层；或者

所述亲水粗糙层为涂层；或者

所述亲水粗糙层组装在所述本体上。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的防滴水结构，其特征在于，

所述本体为金属件；或者

所述本体为塑料件；或者

所述本体为陶瓷件。

8.一种上盖组件，适用于烹饪器具，其特征在于，所述上盖组件包括：

上盖；和

如权利要求1至7中任一项所述的防滴水结构，所述防滴水结构形成为所述上盖组件的盖板，所述盖板与所述上盖相连。

9.一种烹饪器具，其特征在于，包括：

锅体；和

如权利要求8所述的上盖组件，被配置为适于盖设在所述锅体上。

10.一种烹饪器具，其特征在于，包括：

锅体；和

如权利要求1至7中任一项所述的防滴水结构，所述防滴水结构形成所述烹饪器具的锅盖，所述锅盖被配置为适于盖设在所述锅体上。

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