TWM623931U - 晶片封裝組件 - Google Patents

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TWM623931U
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TW
Taiwan
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die
thermal transfer
transfer structure
chip package
package assembly
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TW110210076U
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阿魅德 賈馬爾 拉菲
蘇芮戌 瑞瑪林嘉
賈斯匹利特 辛格 甘地
慶煌 張
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美商吉林克斯公司
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Abstract

茲提供一種晶片封裝組件和用於製造此晶片封裝組件的方法，其利用電性浮置的複數個熱轉移結構以用於改善的熱管理。在一個實例中，茲提供一種晶片封裝組件。晶片封裝組件包含基板，第一積體電路（IC）晶粒和電性浮置的複數個傳導性熱轉移結構。基板具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒具有第一表面、相對的第二表面和四個側邊。第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面。電性浮置的複數個傳導性熱轉移結構延伸在第一IC晶粒的第一和第二表面之間所定義的第一方向上。電性浮置的複數個傳導性熱轉移結構中的第一傳導性熱轉移結構為第一傳導性熱轉移路徑的部分，第一傳導性熱轉移路徑在第一方向上具有的長度至少與在第一和第二表面之間的距離一樣長。

Description

晶片封裝組件
本創作的實施例一般與晶片封裝組件有關，並且特別是與包括至少一個積體電路(IC)晶粒和複數個熱轉移結構的晶片封裝組件有關，此IC晶粒經佈置在封裝基板或中介件上，並且接觸IC晶粒的此複數個熱轉移結構佈置在IC晶粒的功能性電路系統(circuitry)之外。
諸如平板電腦、電腦、影印機、數位相機、智慧型手機、控制系統和自動櫃員機等之電子裝置經常採用運用電子組件，其將晶片封裝組件用於增加的功能性和提高的組件密度。習用晶片封裝方案經常利用封裝基板，通常結合直通矽穿孔(TSV)中介件，以使複數個積體電路(IC)晶粒能夠安裝至單一封裝基板上。IC晶粒可包括記憶體、邏輯元件或其它IC裝置。
在許多晶片封裝組件中，提供足夠的熱管理已變得越來越具有挑戰性。無法提供足夠冷卻經常導致使用壽命的縮短並且甚至是裝置故障。在將多個晶粒經垂直地堆疊在單一封裝組件中的基板上的應用中，熱管理特別是有問題的。在如此應用中，經定位為較接近基板的IC晶粒經常具有從封裝組件離開的不良熱轉移路徑。缺少從垂直IC堆疊的經定位為中間且下方的IC晶片中移除熱量的有效路徑經常導致此些晶粒操作在非常接近熱接面溫度極限的溫度下。因此，在週遭溫度上的小幅波動(諸如由於空調故障)可快速地造成熱接面溫度極限的超過，而導致裝置故障或系統停機。
因此，存在具有經改善熱管理之晶片封裝組件的需求。
茲提供一種晶片封裝組件和用於製造晶片封裝組件之方法，其利用電性浮置的複數個熱轉移結構以用於改善的熱管理。在一個實例中，茲提供一種晶片封裝組件。晶片封裝組件包含基板、第一積體電路(IC)晶粒和電性浮置的複數個傳導性熱轉移結構。基板具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒具有第一表面、相對的第二表面和四個側邊。第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面。電性浮置的複數個傳導性熱轉移結構延伸在第一IC晶粒的第一和第二表面之間所定義的第一方向上。電性浮置的複數個傳導性熱轉移結構中的第一傳導性熱轉移結構為第一傳導性熱轉移路徑的部分，第一傳導性熱轉移路徑在第一方向上具有的長度至少與在第一和第二表面之間的距離一樣長。
在另一實例中，茲提供一種晶片封裝組件，其包括第一積體電路(IC)晶粒、第一熱轉移結構、第二IC晶粒、第二熱轉移結構和第三熱轉移結構。第二IC晶粒安裝至第一IC晶粒。第一熱轉移結構佈置在第一IC晶粒的第一側上，且製造自第一IC晶粒的金屬化層。第二熱轉移結構佈置在第二IC晶粒的第一側上，且製造自第二IC晶粒的金屬化層。第三熱轉移結構將第一熱轉移結構連接至第二熱轉移結構。
在另一實例中，茲提供一種晶片封裝組件，其包括第一積體電路(IC)晶粒、傳導性部件和第一複數個熱轉移結構。基板具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面。第一IC晶粒的第一表面具有沿著至少一個邊緣所形成的凹部。傳導性部件佈置在凹部中。電性浮置的第一複數個熱轉移結構平行於第一IC晶粒的一側延伸，且耦合到傳導性部件。
在另一實例中，茲提供一種晶片封裝組件，其包括基板、第一積體電路(IC)晶粒、電性浮置的第一複數個熱轉移結構、第二IC晶粒、電性浮置的第二複數個熱轉移結構和將電性浮置的第一複數個熱轉移結構耦合到電性浮置的第二複數個熱轉移結構之第三複數個傳導性熱轉移結構。基板具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面。電性浮置的第一複數個熱轉移結構形成自第一IC晶粒的金屬化層形成。第二IC晶粒具有第一表面和相對的第二表面。第二IC晶粒的第二表面安裝在第一IC晶粒的第一表面上。電性浮置的第二複數個熱轉移結構形成自第二IC晶粒的金屬化層。
在另一實例中，茲提供一種晶片封裝組件，其包括基板、第一積體電路(IC)晶粒、第二IC晶粒和電性浮置的第一熱轉移結構。基板具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒具有第一表面和相對的第二表面。第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面。第二IC晶粒具有第一表面和相對的第二表面。第二IC晶粒的第二表面安裝在第一IC晶粒的第一表面上。電性浮置的第一熱轉移結構在第一IC晶粒和第二IC晶粒之間側向地延伸離開。
100:晶片封裝組件
102:蓋罩
104:中介件
106:積體電路(IC)晶粒
108:封裝基板
110:熱轉移結構
110A:熱轉移結構
110B:熱轉移結構
112:介電填料
114:熱介面材料(TIM)
116:印刷電路板(PCB)
118:銲料連接
120:加強件
122:銲料球
130:頂部表面
132:底部表面
134:頂部表面
136:底部表面
138:頂部表面
140:底部表面
142:頂部表面
144:底部表面
146:頂部表面
150:電子裝置
160:側
170:孔
204:功能性電路系統
206:作用電路區域
208:邊界區域
210:孔
400:晶片封裝組件
402:熱轉移結構
502:外壁
504:內壁
506:孔
508:孔
510:外緣
600:熱轉移結構
602:孔徑
700:晶片封裝組件
702:凹部
706:熱轉移結構
708:內緣
710:頂部表面
712:底部表面
716:內部分
718:外部分
720:熱管
722:管
724:第一末端
726:第二末端
728:空腔
730:相變材料
740:外緣
800:晶片封裝組件
810:熱轉移結構
912:熱傳導性跨接件
1000:晶片封裝組件
1100:晶片封裝組件
1200:晶片封裝組件
1210:熱轉移結構
1220:劃線
1302:元件和金屬化區(DAMR)
1304:基板
1502:側壁
1504:孔
1700:晶片封裝組件
1800:晶片封裝組件
為了可詳細地理解本創作的上述列舉特徵的方式，可藉由參考實施例來對本創作的上文簡要概述進行更詳細的描述，其中一些實施例例示在後附圖式中。然而，要注意到的是後附圖式僅例示本創作的典型實施例，並且因此不應被認定為對本創作範圍的限制，因為本創啜可允許其它等效實施例。
[圖1]是具有經佈置在積體電路(IC)晶粒的周圍的複數個熱轉移結構的晶片封裝組件的示意截面視圖。
[圖2]是圖1的晶片封裝組件的IC晶粒的示意俯視圖，其顯露熱轉 移結構經佈置在IC晶粒的邊界區域的周圍的例示性幾何設置。
[圖3]是圖2的IC晶粒的示意部分截面視圖，其經由經佈置為穿過IC晶粒的邊界區域的熱轉移結構中的一個熱轉移結構所截取。
[圖4]是具有經佈置在積體電路(IC)晶粒的周圍的複數個熱轉移結構的晶片封裝組件的另一實例的示意截面視圖。
[圖5到6]是在其所有部分中特別是可利用在圖4的晶片封裝組件中的熱轉移結構的各種替代實例的示意截面視圖。
[圖7到8]是具有經佈置在積體電路(IC)晶粒的周圍的複數個熱轉移結構的晶片封裝組件的其它實例的示意截面視圖。
[圖9]是在其所有部分中特別是可利用在圖8的晶片封裝組件中的熱轉移結構的一個實例的示意截面視圖。
[圖10到12]是具有經佈置在積體電路(IC)晶粒的周圍的複數個熱轉移結構的晶片封裝組件的其它實例的示意截面視圖。
[圖13到14]是在其所有部分中特別是例示可利用在圖12的晶片封裝組件中的熱轉移結構的IC晶粒的示意截面和俯視圖。
[圖15到16]是在其所有部分中特別是例示可利用在圖12的晶片封裝組件中的另一熱轉移結構的IC晶粒的示意俯視和截面視圖，。
[圖17到18]是具有經佈置在積體電路(IC)晶粒的周圍的複數個熱轉移結構的晶片封裝組件的其它實例的示意截面視圖。
為了便於理解，在可能的情況下，說明書中已使用的相同元件符號來指定圖式中所共有的相同元件。理解到的是一個實施例的元件可有利地併入其它實施例中。
茲提供一種晶片封裝組件和用於製造晶片封裝組件之方法，其利用經配置以將熱自積體電路(IC)晶粒移除之電性浮置的複數個熱轉移結構。在本文所敘述的晶片封裝組件包含經佈置在基板上的至少一個積體電路(IC)晶粒。基板可以是封裝基板或中介件。熱轉移結構提供垂直地、且在一些實例中為側向地、遠離IC晶粒的穩固(robust)熱轉移路徑。有利地，自晶片封裝組件垂直地離開之經強化熱轉移改善可靠性和效能。再者，熱轉移結構可經配置以增強橫跨整個晶片封裝組件的熱轉移，例如藉由在相對於彼此的一個區域上使用更多結構，因而降低可能誘發翹曲或提供IC晶粒的不充足溫度控制的熱點。再者，提供自IC晶粒之側向熱轉移的結構允許熱從在另一IC晶粒之下的IC晶粒被引導(channeled)遠離，而對上覆的IC晶粒具有最小加熱。有利地，熱轉移結構的自IC晶粒垂直堆疊的中間和底部的IC晶粒移除熱的能力顯著地降低在晶片封裝組件的內部之內的熱耦合和溫度上升，其有利地改善電遷移(EM：electromigration)的生命週期。
現在轉為參考圖1，茲例示具有複數個熱轉移結構的晶片封裝組件100的示意截面視圖，此些熱轉移結構提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。穿過晶片封裝組件100的熱轉移路徑一般由熱轉移結構來定義，其藉由單一熱轉移結構或替代地由一個熱轉移結構直接地接觸另一個熱轉移結構。在一些實施例中，在相鄰的熱轉移結構之間的熱連接可透過少量的介電填料或熱介面材料(TIM)來製成，如之後在下文所述。圖1的熱轉移結構總體地被稱為利用元件符號110，且在圖1的實例中例示為熱轉移結構110A和熱轉移結構110B。晶片封裝組件100亦包含蓋罩102，中介件104和封裝基板108。
儘管在圖1顯示兩個IC晶粒106，然而IC晶粒的總數之範圍可從一個到能在晶片封裝組件100內所容納的最多個。熱轉移結構110的使用特別有利於其中較遠離蓋罩102的IC晶粒106(其在傳統上會有風險操作在最大操作溫度 或接近)與上覆的IC晶粒106(即：較靠近蓋罩102的晶粒)相比具有相同或較小的投影面積的配置中，從而允許熱轉移結構110接觸下層的IC晶粒106，而沒有出現上覆的IC晶粒106阻礙至蓋罩102的有效熱轉移路徑。可利用在晶片封裝組件100中的IC晶粒106的實例可包含但是不限於可程式邏輯裝置(諸如場可程式閘陣列(FPGA))，記憶體裝置(諸如高頻寬記憶體(HBM))、光學裝置、處理器或其它IC邏輯結構。任選地，IC晶粒106中的一個或更多可包含光學裝置，諸如光偵測器、雷射、光源和等同者。
每一IC晶粒106包含經佈置為相對頂部表面142的底部表面140。底部表面140和頂部表面142未必代表IC晶粒106的作用側和基板側。所意旨是一個IC晶粒106的底部表面140經安裝至第二個IC晶粒106的頂部表面142可造成每一IC晶粒106的作用側面向相同方向或面向相對方向。舉例來說，一個IC晶粒106的作用側可直接地安裝至相鄰的IC晶粒106的作用側。
最上部的IC晶粒106的頂部表面142面向蓋罩102，而最上部的IC晶粒106的底部表面140面向最下部的IC晶粒106的頂部表面142。藉由銲料連接118或其它合適的電性連接(諸如經佈置在介電薄層中包括金屬電路連接材料的混合式連接器)，將暴露在IC晶粒106的底部表面140上的接觸墊耦合到暴露在相鄰且下層的IC晶粒106的頂部表面142上的接觸墊。
最上部的IC晶粒106的頂部表面142相鄰蓋罩102，而最下部的IC晶粒106的底部表面140相鄰中介件104。藉由銲料連接118或其它合適的電性連接，最下部的IC晶粒106的底部表面140耦合到中介件104的頂部表面138。最上部的IC晶粒106的頂部表面142面向蓋罩102的底部表面144。熱介面材料(TIM)114可佈置在最上部的IC晶粒106(即最接近蓋罩102的IC晶粒106)的頂部表面142和蓋罩102的底部表面144之間，以增強在兩者之間的熱轉移。在一個實例中，TIM 114可以是熱膠或熱環氧樹脂，諸如封裝構件附接膠黏劑。
在一些實施方式中，蓋罩102由剛性材料製造。在其它實施方式中，特別是期望利用蓋罩102以接收自IC晶粒106透過熱轉移結構110所傳送的熱的情況下，蓋罩102由熱傳導性材料製造(諸如不鏽鋼、銅、鍍鎳銅或鋁，以及其它合適的材料)。任選地，散熱片(未圖示)可安裝至蓋罩102的頂部表面146。在此些實施方式中，熱傳導性的蓋罩102以及連接的熱轉移結構110A和熱轉移結構110B可被視為離開晶片封裝組件100的熱轉移路徑的一部分。
蓋罩102可在結構上耦合到封裝基板108以增加晶片封裝組件100的剛性。任選地，加強件(stiffener)120可經利用以在結構上將蓋罩102耦合到封裝基板108。當在使用時，加強件120可由陶瓷、金屬或其它各種非有機材料製造，諸如氧鋁化物(Al2O3)、鋁氮化物(AlN)、矽氮化物(SiN)、矽(Si)、銅(Cu)、鋁(Al)和不鏽鋼，以及其他材料。加強件120亦能由有機材料製造，諸如包銅疊層。
IC晶粒106的功能性電路系統透過銲料連接118以連接到中介件104的電路系統。中介件104的電路系統類似地連接到封裝基板108的電路系統。在圖1所繪示的實例中，藉由銲料連接118或其它合適的連接，中介件104的底部表面136電性且機械地耦合到封裝基板108的頂部表面134。
晶片封裝組件100可安裝至印刷電路板(PCB)116以形成電子裝置150。依此方式，封裝基板108的電路系統經由銲料球122或其它合適的連接而耦合到封裝基板108的電路系統。在圖1所繪示的實例中，封裝基板108的底部表面132藉由銲料球122以電性且機械地耦合到PCB的頂部表面130。
介電填料112佈置在中介件104上，且至少部分側向地侷限IC晶粒106。介電填料112亦可囊封IC晶粒106而抵靠中介件104。介電填料112對晶片封裝組件100提供額外剛性，同時亦保護在IC晶粒106之間的銲料連接118。介電填料112可以是基於環氧樹脂的材料或其它合適的材料。介電填料112可額外地包 含例如非有機填料的填料，諸如二氧化矽(SiO2)。在一個實例中，介電填料112可具有在約20到約40ppm/degree(攝氏)之間的CTE(熱膨脹係數)，在約5到約20帕-秒之間的黏度，以及在約6到約15十億帕(GPa：gigapascal)之間的楊式模數(Young’s modulus)。
在一個實例中，在硬化之前，介電填料112具有適合的黏度，以流動進入且填充在IC晶粒106的底部表面140和中介件104的頂部表面138之間圍繞銲料連接118的填隙空間。或者，個別的底填料(underfill)材料可被用來填充在IC晶粒106的底部表面140和中介件104的頂部表面138之間圍繞銲料連接118的填隙空間，同時介電填料112佈置在底填料上方且填充在相鄰的IC晶粒106之間的填隙空間。
如上文所討論，茲提供熱轉移結構110以在遠離至少一個IC晶粒106以及在一些實例中為到蓋罩102的底部表面144之間提供穩固的傳導性熱轉移路徑。可在結構110和蓋罩102之間利用TIM以在結構110和蓋罩102的底部表面144之間提供穩固的熱轉移介面。在此實例中，熱轉移結構110A例示為經佈置以穿過IC晶粒106，而熱轉移結構110B例示為經佈置以穿過介電填料112。設想到的是熱轉移結構110A可與熱轉移結構110B一起利用或不與其一起利用，而熱轉移結構110B可與熱轉移結構110A一起利用或不與其一起利用。
圖2描述具有熱轉移結構110A經形成穿過IC晶粒106的一個的截面視圖。IC晶粒106包含作用電路區域206，其含有IC晶粒106的所有功能性電路系統204。在作用電路區域206和IC晶粒的側160之間定義邊界區域208。邊界區域208一般不含有任何功能性電路系統204。
孔210經形成以在邊界區域208中穿過IC晶粒106。孔210可藉由蝕刻、雷射鑽孔、鑽鑿或其它合適的技術而形成以穿過IC晶粒。每一孔210具有經佈置在其中的熱轉移結構110A中的一個。孔210和後繼的熱轉移結構110A具有軸 向定向，其大致上平行於IC晶粒106的側160的平面，且大致上垂直於IC晶粒106的頂部表面142的平面。儘管填充有熱轉移結構110A的孔210經例示在IC晶粒106的相對側，填充有熱轉移結構110A的一個或更多孔210可替代地佈置在IC晶粒106的一個、三個或甚至四個側160。
熱轉移結構110A一般為金屬或其它高熱傳導性材料。舉例來說，熱轉移結構110A可由銅或其它合適的金屬形成。或者，熱轉移結構110A可由高熱轉移率的物件製造，如進一步在下文所述。熱轉移結構110A可佈置在孔210中以直接地接觸其中形成有孔210的IC晶粒106。或者，熱轉移結構110A的一個或更多可由熱傳導性粉末、金屬絨、個別的金屬形狀、銲料膏、金屬纖維、金屬粉末、金屬顆粒、金屬球和熱傳導性膠黏劑形成。在一個實例中，形成熱轉移結構110A的熱傳導性材料為金屬，諸如銅、金、銀、鈦或其它合適的金屬。在另一個實例中，熱傳導性材料包括複數個銅球，其將形成穿過IC晶粒106的孔210填充。在又另一個實例中，熱傳導性材料包括整塊金屬，其鍍製或以其它方式沉積在種子層上。舉例來說，整塊金屬可以是經鍍製在銅或鈦種子層上的銅。在仍又另一個實例中，在銅球(或填充在熱轉移結構110中的孔的其它傳導性材料)之間的間隙空間可被TIM或其它熱轉移材料所填充。
或者，如上文所提及，在晶片封裝組件100上所利用熱轉移結構110A中的一個或更多可呈高熱轉移率的物件的形式，其經配置以在物件的端部之間提供高速率的熱轉移率。高熱轉移率的物件使用超熱傳導性特質以在物件的端部之間移動熱。高熱轉移率的物件可包含(1)振動且接觸在物件內之顆粒以轉移熱，諸如工業用鑽石，或者是(2)藉由提供兩個被動流功能性來移動在物件內之顆粒，諸如熱管，或者是(3)藉由在物件內引入的流體循環而用強制的流動來移動物件，其將自外部物件來泵送(即在封裝件之外泵送)。
熱轉移結構110A可具有任何合適的截面輪廓，且一般具有大約與 IC晶粒106的高度相同的長度。在一個實例中，熱轉移結構110A的截面輪廓為圓形。熱轉移結構110A的數目、尺寸、密度和位置可經挑選以提供穿過IC晶粒106的所欲熱轉移輪廓，例如來對IC晶粒106的一個區比IC晶粒106的另一個部分產生更多熱進行補償。經佈置在邊界區域208中的熱轉移結構110A的數目可從一個到所欲的許多個。熱轉移結構110A的位置，尺寸和密度可經挑選以增強在所欲位置中的熱轉移，且控制晶片封裝組件100的翹曲。儘管不是必要的，但是熱轉移結構110A一般具有軸向定向，其垂直於IC晶粒106的頂部表面142的平面。
熱轉移結構110A一般延伸至少到IC晶粒106的頂部表面142。在一些實例中，熱轉移結構110A延伸超出IC晶粒106的頂部表面142，且可直接地接觸蓋罩102的底部表面144。任選地，可使用TIM 114來製作在熱轉移結構110A和蓋罩102的底部表面144之間的熱連接。熱轉移結構110B可以類似方式配置。
一般來說，形成傳導性熱轉移路徑之熱轉移結構110A，110B的每一者具有在頂部表面142和底部表面140之間所定義的第一方向上的長度，其至少與在單一晶粒的頂部表面142和底部表面140之間的距離一樣長。在一些案例中，形成傳導性熱轉移路徑跨越一整個晶粒的堆疊之熱轉移結構110A，110B具有在第一方向上的長度，其至少與在IC晶粒106的堆疊中的最上部的IC晶粒106的頂部表面142和最下部的IC晶粒106的底部表面140之間的距離一樣長，此IC晶粒106的堆疊包括晶片封裝組件100。
額外地參考圖3中所描述的晶片封裝組件100的兩個IC晶粒106的部份截面視圖，一個IC晶粒106的熱轉移結構110A可連接到另一個IC晶粒106的熱轉移結構110A。舉例來說，經堆疊的兩個IC晶粒106的熱轉移結構110A可經由銲料或其它傳導性連接而連接至彼此，或者是單一熱轉移結構110A可延伸穿過經堆疊的兩個或更多IC晶粒106。舉例來說，在IC晶粒106經過堆疊之後，孔210可填充有傳導性材料以製作單一熱轉移結構110A，其呈延伸穿過經堆疊的IC晶 粒106中每一者的經對齊的孔210之柱的形式。
隨著將熱轉移結構110A佈置在作用電路區域206之外所佈置的邊界區域208中，熱轉移結構110A不觸及將兩個IC晶粒106的功能性電路系統204耦合的銲料連接118。任選地，銲料連接118可以是利用金屬接合至金屬和介電質接合至介電質的混合式接合，以連接兩個IC晶粒106的功能性電路系統204。
現在再次回到圖1，選用額外的熱轉移結構110B可呈現為延伸穿過經形成穿過介電填料112的孔170，以提供垂直地延伸穿過晶片封裝組件100的傳導性熱轉移路徑。熱轉移結構110B傳導熱離開IC晶粒106的側160穿過介電填料112到蓋罩102的底部表面144。可在熱轉移結構110B和蓋罩102之間利用TIM以提供在熱轉移結構110和蓋罩102的底部表面144之間穩固的熱轉移介面。熱轉移結構110B可由用來製造熱轉移結構110A的相同材料製造。
孔170可藉由蝕刻、雷射鑽孔、鑽鑿或其它合適的技術而形成穿過介電填料112，接著填充有熱轉移結構110B。或者，熱轉移結構110B首先可定位或形成在中介件104的頂部表面138上，而介電填料112沉積在熱轉移結構110B的周圍。熱轉移結構110B可具有任何合適的截面輪廓，且一般具有大約與IC晶粒106的高度一樣或更長的長度。在一個實例中，熱轉移結構110B的截面輪廓為圓形。熱轉移結構110B的數目、尺寸、密度和位置可經挑選以在蓋罩102和中介件104之間提供所欲的熱轉移輪廓，例如來補償一個IC晶粒106比另一個IC晶粒106產生更多熱。儘管不是必要的，但是熱轉移結構110B一般具有軸向定向，其垂直於IC晶粒106的頂部表面142的平面。
熱轉移結構110B且因而熱轉移路徑一般具有等於或大於IC晶粒106的厚度。一些結構可具有長度，其等於或大於經佈置在中介件104和蓋罩102之間的IC晶粒106的厚度的總和。熱轉移結構110B經佈置穿過介電填料112的數目可從一個到所欲的許多個。熱轉移結構110B的位置、尺寸和密度可經挑選以增強 在所欲位置中的熱轉移，且控制晶片封裝組件100的翹曲。
圖4是具有複數個熱轉移結構以提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑的另一個晶片封裝組件400的示意截面視圖。晶片封裝組件400基本上與上述的晶片封裝組件100相同，不同之處在於其中熱轉移結構402佈置在IC晶粒106之間，且側向地向外延伸超出IC晶粒106的側160到介電填料112。在圖4的實例中，任選地，至少一個熱轉移結構110A及/或至少一個熱轉移結構110B可與熱轉移結構402一起利用，如進一步在下文所述。由於將先前已在上文參考圖1所述的100系列的元件符號識別如在圖4中所示的晶片封裝組件400的元件，因此為了簡潔起見而省略對這些元件的進一步敘述。
如上所述，熱轉移結構402佈置在IC晶粒106之間。熱轉移結構402可呈金屬箔、金屬網或其它薄的熱導體之形式，其具有的厚度少於被利用來固接且電性連接IC晶粒106的銲料連接118或混合式連接。在圖4所描述的實例中，熱轉移結構402在大致上平行於IC晶粒106的頂部表面142的定向上從IC晶粒106之間突出。另或者，熱轉移結構402可在另一個定向上從IC晶粒106之間突出，此另一個定向例如為沿著IC晶粒106的側160而在熱轉移結構402的正上方向上地折疊。任選地，TIM(未圖示)可佈置在熱轉移結構402和IC晶粒106的頂部表面142及底部表面140之間，以夾著此熱轉移結構402。
在一個實例中，單一熱轉移結構402可利用在IC晶粒106的僅一個側160上。在其它實例中，單一熱轉移結構402可利用在IC晶粒106的兩個或三個側160上。在又其它實例中，數個熱轉移結構402可利用在IC晶粒106的一個、兩個或三個側160上。
圖5描述經佈置在IC晶粒106的頂部表面142上的熱轉移結構402的一個實例的平面視圖。熱轉移結構402具有環形，且可包含一個或更多區段。在圖5的實例中，熱轉移結構402包含內壁504和外壁502。內壁504界定由環形的 熱轉移結構402所形成的孔徑。內壁504界定一區域，其小於由IC晶粒106的側160所界定的區域。換言之，內壁504在IC晶粒106的側160之內，而外壁502在IC晶粒106的側160之外。儘管不是必要的，內壁504可終止於其中存在銲料連接118(圖5未圖示)的IC晶粒106的作用電路區域206之前。依此方式，熱轉移結構402重疊邊界區域208的至少一部分，同時亦延伸超出IC晶粒106的側160到介電填料112，而沒有電性連接到任何的銲料連接118。儘管不是必要的，外壁502可終止於介電填料112的外緣510之內。
當加以利用時，熱轉移結構110A耦合到熱轉移結構402。因此，熱轉移結構402有效地自IC晶粒106之間移除熱，且將經移除熱傳導到熱轉移結構110A，其輕易地將熱從熱轉移結構402垂直地轉移離開晶片封裝組件100而例如到蓋罩102。熱轉移結構110A可藉由形成穿過熱轉移結構402的孔506而耦合到熱轉移結構402，孔506與經形成穿過IC晶粒106的一個或更多的孔210對齊，接著用熱轉移結構110A來填充孔210、506。另或者但不具限制性，熱轉移結構402可延伸到孔210、506，且熱轉移結構110A經形成在熱轉移結構402的在孔210內經暴露的部分上。
當與或不與熱轉移結構110A一起加以利用時，熱轉移結構110B可耦合或未耦合到熱轉移結構402。在圖5的實例中，熱轉移結構110B可耦合到熱轉移結構402。熱轉移結構110B改善利用熱轉移結構402而能將熱自IC晶粒106之間移除的效率和速度，其藉由增加垂直地離開晶片封裝組件100的熱轉移路徑的區域。熱轉移結構110B可藉由形成孔508穿過熱轉移結構402而耦合到熱轉移結構402，其中孔508與經形成穿過介電填料112的孔170(顯示在圖中)對齊，接著用熱轉移結構110B來填充孔170、508。另或者但不具限制性，熱轉移結構402可延伸到孔170，且熱轉移結構110B經形成在熱轉移結構402的在孔170內經暴露的部分上。
圖6描述熱轉移結構600的另一個實施例，其可利用來代替在圖4中所例示的熱轉移結構402。熱轉移結構600基本上與熱轉移結構402相同，不同之處在於其中熱轉移結構600延伸在作用電路區域206上方。任選地，熱轉移結構600可具有環形，其具有內壁504(如呈現在圖5中所描述的熱轉移結構402)，或作為連續的材料薄層。
在圖6的實例中，延伸跨越作用電路區域206的熱轉移結構600的部分包含複數個孔徑。每一孔徑602與銲料連接118的相對應一個對齊。孔徑602具有的直徑大於銲料連接118的直徑，以避免在銲料連接118之間的電性短路。
熱轉移結構600可與或不與熱轉移結構110A、110B中的任一者或兩者一起利用。
圖7為具有至少一個熱轉移結構的另一個晶片封裝組件700的示意截面視圖，其提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。晶片封裝組件700基本上與上述的晶片封裝組件400相同，不同之處在於其中熱轉移結構706佈置在凹部702中，凹部702形成在最接近蓋罩102的IC晶粒106的頂部表面142和蓋罩102之間。熱轉移結構706接觸IC晶粒106，且側向地延伸超出到最上部的IC晶粒106(即最接近蓋罩102的IC晶粒106)的側160之外。在圖4的實例中，任選地，熱轉移結構110A、熱轉移結構110B及/或熱轉移結構402、600中的一個或更多可與熱轉移結構706一起利用，如進一步在下文所述。由於將先前已在上文參考圖1和圖4所述的100和400系列的元件符號識別如在圖7中所示的晶片封裝組件700的元件，因此為了簡潔起見而省略對這些元件的進一步敘述。
如上文所討論，最接近蓋罩102的IC晶粒106的頂部表面142包含凹部702，其沿著在IC晶粒106的頂部表面142和側160之交會處所定義的至少一個邊緣來形成，其配置以接受經佈置在凹部702中的熱轉移結構706。任選地，熱轉移結構706可連接到在IC晶粒106和介電填料112內向上地延伸之熱轉移結構 110A、熱轉移結構110B的一個或更多。
在圖7的實例中，熱轉移結構706為熱傳導性板、箔、網和其它合適的熱傳導性結構。舉例來說，熱轉移結構706可以是金屬板，諸如金、銀、鈦或銅。熱轉移結構706結構具有內緣708，其重疊最上部的IC晶粒106(即最接近蓋罩102的IC晶粒)的側160。熱轉移結構706可自內緣708延伸到外緣740以增加可取用來在熱轉移結構706和蓋罩102之間傳導熱的熱轉移區域，最終改善遠離最上部的IC晶粒106的熱轉移效率。
在一個實例中，熱轉移結構706具有環形。當具有環形時，熱轉移結構706的內緣708重疊最上部的IC晶粒106的所有四個側160。換言之，熱轉移結構706的內緣708駐留在凹部702的部分中，其形成在最上部的IC晶粒106的四個側160的每一者中。或者，熱轉移結構706的內緣708可駐留在最上部的IC晶粒106的僅一個、兩個或三個側160中的凹部702裡。
熱轉移結構706包含頂部表面710和底部表面712。熱轉移結構706的頂部表面710面向蓋罩102。在圖7所描述的實例中，可在熱轉移結構706的頂部表面710和蓋罩102的底部表面144之間佈置TIM 114以增強在兩者之間的熱轉移。熱轉移結構706的底部表面712的內部分716接觸凹部702，其形成在IC晶粒106中且來自熱轉移結構110A的上部末端(當利用時)。熱轉移結構706的底部表面712的外部分718接觸介電填料112。熱轉移結構706的底部表面712的外部分718提供一表面，以接收從熱轉移結構110B的上部末端(當利用時)轉移到熱轉移結構706的熱。任選地，熱轉移結構402、600亦可與熱轉移結構110A，110B中的一個或兩個一起利用，以增加遠離IC晶粒106且特別是離蓋罩102最遠的IC晶粒106的整體熱轉移效率，後述的IC晶粒106可被較靠近蓋罩102之中間的IC晶粒106所“隔絕”。
熱轉移結構110A、110B、402、600可如上所述或藉由另一個合適 的技術來製造。熱轉移結構110A、110B、402、600可佈置為在IC晶粒106的所有側160上接觸熱轉移結構706。另或者，熱轉移結構110A、110B、402、600可佈置為在IC晶粒106的至少一對相對的側160上接觸熱轉移結構706。在又另一個實例中，熱轉移結構110A、110B、402、600可佈置為在最上部的IC晶粒106的至少一側或三側160上接觸熱轉移結構706。一般來說，熱轉移結構110B、402、600被介電填料112側向地環繞。
或者，在本文中所述利用在晶片封裝組件上的熱轉移結構110A、110B的一個或更多呈物件的形式，其經配置以在物件的末端之間提供高速率的熱轉移率。高熱轉移率的物件使用超熱傳導性特質以在物件的末端之間移動熱。高熱轉移率的物件能包含(1)振動且接觸在物件內之顆粒以轉移熱，諸如工業用鑽石，或者是(2)藉由提供兩個被動流功能性來移動在物件內之顆粒，諸如熱管，或者是(3)藉由在物件內引入的流體循環而用強制的流動來移動物件，其將自外部物件來泵送(即在封裝件之外泵送)。
在圖7所描述的實例中，熱轉移結構110A、110B中的一個或更多配置作為呈熱管720的形式之高熱轉移率的物件。熱管720包含密封的管722，其具有第一末端724和第二末端726。管722包含密封的空腔728，其中佈置有相變材料730。在操作上，相變材料730以液態相來接觸熱傳導性固態表面(即管722的第一末端724)，藉由吸收自IC晶粒106中的一個所轉移的熱而轉變成蒸氣。舉例來說，管722的第一末端724可接收自IC晶粒106之外的熱轉移結構402、600所側向地轉移之熱。蒸氣(例如，相變材料730)在空腔728內部接著行進在管722的第一末端724到冷卻介面(即管722的第二末端726)之間，且冷凝回到液態，此如在圖1中所示將潛熱透過TIM以釋放到蓋罩102上，或者是如在圖7中所示將潛熱釋放到熱傳導性部件706上且最終透過TIM 114到蓋罩102上。處於液態形式之相變材料730接著透過毛細作用及/或重力以返回到管722之第一末端724處的熱 介面，且此循環重複進行。由於針對沸騰和冷凝的非常高的熱轉移效率，呈熱管720的形式之熱轉移結構高度有效力地將熱傳導離開距蓋罩102的底部表面144較遠的IC晶粒106，以有利地改善在本文中所述的晶片封裝組件的熱轉移效能。
圖8是具有至少一個熱轉移結構之另一個晶片封裝組件800的示意截面視圖，其提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。晶片封裝組件800基本上與上述的晶片封裝組件100相同，不同之處在於其中一個或更多熱轉移結構810佈置為接觸IC晶粒106的一個或更多側160。在圖8的實例中，任選地，熱轉移結構110A、熱轉移結構110B及/或熱轉移結構402、600(顯示在圖4到5中)中的一個或更多可與熱轉移結構810一起利用。在圖8的實例中，僅顯示選用的熱轉移結構110B可與熱轉移結構810一起利用。由於將先前已在上文參考圖1所述的100系列的元件符號識別如在圖8中所示的晶片封裝組件800的元件，因此為了簡潔起見而省略對這些元件的進一步敘述。
如上所述，熱轉移結構810佈置為接觸IC晶粒106的側160。熱轉移結構810可呈金屬箔、金屬網、傳導性膏、傳導性膠黏劑、金屬板、金屬塗層、其它薄的熱導體之形式。在圖8所描述的的實例中，熱轉移結構810在一定向上遮蓋IC晶粒106的側160，此定向大致上垂直於IC晶粒106的頂部表面142，且當然平行於側160。
在一個實例中，單一熱轉移結構810可利用在IC晶粒106的僅一個側160上。在其它實例中，單一熱轉移結構810可利用在IC晶粒106的兩個或三個側160上。在又其它實例中，數個熱轉移結構810可利用在IC晶粒106的一個、兩個或三個側160上。
圖9是晶片封裝組件800的兩個晶粒106的部份截面視圖，其例示熱轉移結構810在IC晶粒106的一個側160上。在圖9的實例中，固接IC晶粒106的銲料連接118顯示為具有金屬接合至金屬和介電質接合至介電質的混合式接合， 以連接經堆疊的IC晶粒106的功能性電路系統204。
單一熱轉移結構810可利用在IC晶粒106的一個、兩個或三個側160上。在又其它實例中，數個熱轉移結構810可利用在IC晶粒106的一個、兩個或三個側160上。在圖9所例示的實例中，IC晶粒106的每一側160具有個別且分開的熱轉移結構810。熱轉移結構810可藉由介電材料而與混合式接合或介電填料間隔且分開，或者是經由熱傳導性跨接件912加以熱耦合。熱傳導性跨接件912可以是金屬，諸如來自混合式接合，銲料連接，TIM或其它良好熱導體。或者，單一熱轉移結構810可垂直地跨距在垂直堆疊的兩個IC晶粒106的經堆疊的相鄰側160上，如在圖8中所示。
圖10是具有至少一個熱轉移結構之另一個晶片封裝組件1000的示意截面視圖，其提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。晶片封裝組件1000基本上與上述的晶片封裝組件800相同，不同之處在於其中經佈置在IC晶粒106之間的一個或更多熱轉移結構402、600接觸一個或更多熱轉移結構810，其接觸IC晶粒106的側160。在圖8的實例中，任選地，熱轉移結構110A和熱轉移結構110B中的一個或更多可與熱轉移結構810一起利用。在圖10所描述的實例中，選用的僅熱轉移結構110B顯示出與熱轉移結構810一起利用。為了簡潔起見而省略在圖10中所示之先前已在上文參考前述圖式所述的晶片封裝組件1000的某些元件的多餘敘述。
如上所述，熱轉移結構402、600佈置在IC晶粒106之間。熱轉移結構402、600可呈金屬箔、金屬網或其它薄的熱導體之形式，其具有的厚度少於被利用來固接且電性連接IC晶粒106的銲料連接118或混合式連接。在圖10所描述的實例中，熱轉移結構402、600在大致上平行於IC晶粒106的頂部表面142的定向上從IC晶粒106之間突出。另或者，熱轉移結構402、600可在另一個定向上從IC晶粒106之間突出，此另一個定向例如在將IC晶粒106的側160遮蓋的熱轉移結 構810上向上地折疊而在熱轉移結構402、600的正上方。任選地，TIM(未圖示)可佈置在熱轉移結構402、600和IC晶粒106的頂部表面142及底部表面140之間，以夾設此熱轉移結構402、600。
熱轉移結構402、600藉由直接地接觸或透過諸如TIM的熱轉移居間件而良好熱接觸熱轉移結構810。在一個實例中，熱轉移結構402、600作用為熱傳導性跨接件912(顯示在圖9中)以連接經佈置在垂直堆疊的相鄰IC晶粒106上的熱轉移結構810。
當任選地利用熱轉移結構110A時，熱轉移結構402、600可耦合到熱轉移結構110A，如參考圖4到6所述。因此，熱轉移結構402、600、810有效地自IC晶粒106的表面移除熱，且將經移除熱傳導到熱轉移結構110A，其輕易地將熱從熱轉移結構402、600垂直地轉移離開晶片封裝組件100而例如到蓋罩102。熱轉移結構110A可如上所述或藉由其它合適的技術而耦合到熱轉移結構402、600。
當與或不與選用的熱轉移結構110A一起利用時，選用的熱轉移結構110B可耦合或未耦合到熱轉移結構402、600，如參考圖5所述。當熱轉移結構402、600接觸熱轉移結構810時，熱轉移結構110B亦耦合到熱轉移結構810，從而改善將熱從IC晶粒106的表面垂直地轉移離開晶片封裝組件100的效率和速度。
圖11是具有至少一個熱轉移結構之另一個晶片封裝組件1100的示意截面視圖，其提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。晶片封裝組件1100基本上與上述的晶片封裝組件1000相同，不同之處在於其中利用到熱轉移結構706和熱轉移結構810，同時一個或更多其它的熱轉移結構(110A、110B、402、600)為選用的。為了簡潔起見而省略在圖11中所示之先前已在上文參考前述圖式所述的晶片封裝組件1100的某些元件的多餘敘述。
熱轉移結構706佈置在凹部702中，其形成在最接近蓋罩102的IC晶粒106的頂部表面142和蓋罩102之間。熱轉移結構706接觸IC晶粒106，且側向 地延伸超出到最上部的IC晶粒106(即最接近蓋罩102的IC晶粒106)的側160之外。熱轉移結構706耦合到經佈置在IC晶粒106的側160上的熱轉移結構810。熱轉移結構810可如上所述加以配置。
任選地，熱轉移結構110A、熱轉移結構110B及/或熱轉移結構402、600中的一個或更多可如上文參考圖7所述的方式而與熱轉移結構706、810一起利用。
如上文所討論，最接近蓋罩102的IC晶粒106的頂部表面142包含凹部702，其沿著在IC晶粒106的頂部表面142和側160之交會處所定義的至少一個邊緣來形成，其配置以接受經佈置在凹部702中的熱轉移結構706。熱轉移結構706連接到熱轉移結構810。任選地，熱轉移結構706亦可連接到在IC晶粒106內向上地延伸之一個或更多熱轉移結構110A，及/或連接到延伸穿過介電填料112的一個或更多熱轉移結構110B。
在圖11的實例中，熱轉移結構706為熱傳導性板、箔、網和其它合適的熱傳導性結構。熱轉移結構706結構具有內緣708，其重疊最上部的IC晶粒106(即最接近蓋罩102的IC晶粒)的側160。熱轉移結構706可自內緣708延伸到外緣740以增加可取用來在熱轉移結構706和蓋罩102之間傳導熱的熱轉移區域，最終改善遠離最上部的IC晶粒106的熱轉移效率。
在一個實例中，熱轉移結構706具有環形。熱轉移結構706的內緣708駐留在凹部702的部分中，其形成在最上部的IC晶粒106的四個側160的每一者中。另或者，熱轉移結構706的內緣708可駐留在最上部的IC晶粒106的僅一個，兩個或三個側160中的凹部702裡。
熱轉移結構706包含頂部表面710和底部表面712。熱轉移結構706的頂部表面710面向蓋罩102。在圖11所描述的實例中，可在熱轉移結構706的頂部表面710和蓋罩102的底部表面144之間佈置TIM 114以增強在兩者之間的熱轉 移。熱轉移結構706的底部表面712的內部分716接觸經形成在IC晶粒106中的凹部702，以及經佈置在IC晶粒106的側160上而直接在凹部702下方的熱轉移結構810。熱轉移結構706的底部表面712的內部分716亦提供一表面，以接收從熱轉移結構110A的上部末端(當利用時)轉移到熱轉移結構706的熱。熱轉移結構706的底部表面712的外部分718接觸介電填料112。熱轉移結構706的底部表面712的外部分718提供一表面，以接收從熱轉移結構110B的上部末端(當利用時)轉移到熱轉移結構706的熱。任選地，熱轉移結構402，600亦可與熱轉移結構110A、110B中的一個或兩個一起利用，以增加遠離IC晶粒106且特別是離蓋罩102最遠的IC晶粒106的整體熱轉移效率，後述的IC晶粒106可被較靠近蓋罩102之中間的IC晶粒106所“隔絕”。
熱轉移結構110A、110B、402、600、706、810可如上所述或藉由另一個合適的技術來製造。熱轉移結構110A、110B可佈置為在IC晶粒106的所有側160上接觸熱轉移結構706。另或者，熱轉移結構110A、110B、810可佈置為在IC晶粒106的至少一對相對的側160上接觸熱轉移結構706。在又另一個實例中，熱轉移結構110A、110B、810可佈置為在最上部的IC晶粒106的至少一側或三側160上接觸熱轉移結構706。一般來說，熱轉移結構110B被介電填料112側向地環繞，而熱轉移結構810在其一側上被介電填料112側向地定界且在其另一側上被IC晶粒106的側160側向地定界。
圖12是具有至少一個熱轉移結構之另一個晶片封裝組件1200的示意截面視圖，其提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。晶片封裝組件1200基本上與上述的晶片封裝組件相同，不同之處在於其中一個或更多熱轉移結構1210沿著IC晶粒106的一個或更多側160水平地延伸(即平行於頂部表面142)。熱轉移結構1210可以佈置在IC晶粒106內的形式來利用，或以自IC晶粒106的側160延伸的形式來利用。
熱轉移結構1210可利用在晶片封裝組件1200內而無需其它的熱轉移結構，或者是一起利用在本文中所述其它類型的熱轉移結構的一個或更多。在圖12的實例中，任選地，熱轉移結構110A(顯示在圖1中)，熱轉移結構110B、熱轉移結構402、600(顯示在圖4中)，及/或熱轉移結構1210中的一個或更多可與熱轉移結構1210一起利用。在圖12所描述的實例中，選用的熱轉移結構110B和1210顯示出與熱轉移結構1210一起利用。為了簡潔起見而省略在圖12中所示之先前已在上文參考前述圖式所述的晶片封裝組件1200的某些元件的多餘敘述。
如上所述，熱轉移結構1210自IC晶粒106的側160延伸。熱轉移結構1210形成自包括IC晶粒106的一個或更多金屬化層。在一個實例中，熱轉移結構1210形成自IC晶粒106的一個或更多銅金屬化層。在圖12所描述的此實例中，熱轉移結構1210延伸在一定向上，其大致上平行於IC晶粒106的頂部表面142且當然垂直於側160。
圖13到14描述具有熱轉移結構1210的一個實例的晶粒106，有熱轉移結構佈置在晶粒106的側160內。晶粒106和熱轉移結構1210可利用在各種晶片封裝組件中之如圖12所例示的晶片封裝組件1200中。熱轉移結構1210配置為使更多熱遠離晶粒106的中心。在圖13中所描述的晶粒106包含在基板1304上所形成的元件和金屬化區(DAMR)1302。DAMR 1032包括使用由前端(FEOL：front-end-of-line)處理所形成的材料層來製造的元件，以及使用由後端(BEOL：back-end-of-line)處理所形成的材料層來製造的金屬化。含有晶粒106的功能性電路系統204的作用電路區域206形成在DAMR 1302中。
熱轉移結構1210形成自DAMR 1302內的一個或更多金屬層，且佈置在邊界區域208中。任選地，熱轉移結構1210的厚度可建構為與DAMR 1302的高度一樣，或甚至是與IC晶粒106的高度一樣。如上文參考圖2所討論，邊界區域208駐留在晶粒106的作用電路區域206和側160之間，且一般未含有功能性電 路系統204。在一個實例中，熱轉移結構1210延伸跨越邊界區域208到晶粒106的側160。熱轉移結構1210可或可不透過晶粒106的側160而暴露。在諸如例示在圖12的一個實例中，熱轉移結構1210延伸跨越邊界區域208到劃線1220，晶粒106在此處單粒化自晶圓基板。任選地，熱轉移結構1210可延伸到晶粒106的作用電路區域206，但是電性隔離自晶粒106的功能性電路系統204。
在圖13和14所描述的實例中，熱轉移結構1210延伸到邊界區域208。孔210形成在邊界區域208而穿過熱轉移結構1210。孔210可延伸穿過DAMR 1302和基板1304兩者。諸如上文參考圖4所述，熱轉移結構110A佈置在孔210中且因此接觸熱轉移結構1210。依此方式，熱轉移結構110A、1210有效力且有效率地自晶粒106的內部移除熱而垂直地離開晶片封裝組件。
為了進一步增加在圖13和14中所描述的熱轉移結構1210和晶粒106的熱轉移效率，熱轉移結構810可形成在晶粒的側160上以接觸熱轉移結構1210。任選地，熱轉移結構110B和402、600亦可利用來增加離開晶片封裝組件1200的熱轉移路徑的尺寸。
圖15到16描述具有熱轉移結構1210的替代實例的晶粒106，此熱轉移結構1210側向地自晶粒106的側160延伸。晶粒106和熱轉移結構1210可利用在各種晶片封裝組件中之如圖12所例示的晶片封裝組件1200中。如上所述，熱轉移結構1210形成自DAMR 1302內的金屬層的一個。然而，在圖15到16所描述的實例中，包括邊界區域208的某一材料移除自熱轉移結構1210的周圍，而使熱轉移結構1210的一部分自晶粒106之新的側壁1502懸臂伸出。包括邊界區域208的材料可藉由選擇性蝕刻，雷射燒蝕，研磨或其它合適的技術而移除。晶粒106的側壁1502保持在邊界區域208中，與晶粒106的作用電路區域206和功能性電路系統204間隔開。熱轉移結構1210可或可不透過晶粒106的側160而暴露。任選地，熱轉移結構1210可延伸到晶粒106的作用電路區域206，但是電性隔離自晶粒106 的功能性電路系統204。
儘管未在圖15到16中所描述，晶粒106的側壁1502可足夠地與作用電路區域206間隔開，而使孔210可形成穿過邊界區域208和熱轉移結構1210。諸如上文參考圖4和圖13到14所述，熱轉移結構110A佈置在孔210中且因此接觸熱轉移結構1210。依此方式，熱轉移結構110A，1210有效力且有效率地自晶粒106的內部移除熱而垂直地離開晶片封裝組件。
任選地，在圖15到16中所描述的熱轉移結構1210可與一個或更多熱轉移結構810一起利用，而使用或不使用熱轉移結構110A、110B、402、600中的任一個或更多。如上文所討論，熱轉移結構810可形成在晶粒106的側160上且接觸熱轉移結構1210。因此，熱轉移結構810提供遠離晶粒106的垂直熱轉移路徑，以使熱藉由熱轉移結構1210而側向地自晶粒106移除。此設置特別有效力地自最遠離蓋罩102的晶粒106移除熱，此晶粒106可被較靠近蓋罩102之中間的IC晶粒106所“隔絕”。
任選地，熱轉移結構1210之經暴露部分亦可利用經佈置穿過熱轉移結構1210之孔1504而連接到熱轉移結構110B，在熱轉移結構1210中插入有熱轉移結構110B。另或者，熱轉移結構110B可連接到熱轉移結構1210的一表面，而沒有穿過此熱轉移結構1210。
圖17描述具有自晶粒106側向地延伸之熱轉移結構706、1210的另一個晶片封裝組件1700。熱轉移結構706可如上文參考圖7所述或藉由另一個合適的技術來製造。熱轉移結構1210可如上文參考圖12到16所述或藉由另一個合適的技術來製造。如在圖17中所例示，熱轉移結構706、1210與一個或更多熱轉移結構110B一起利用，且可或可不利用熱轉移結構110A、402、600、810中的任一個或更多。熱轉移結構1210的經暴露部分連接到熱轉移結構110B。熱轉移結構110B可形成在熱轉移結構1210的表面上，或者是如在圖17中所例示，熱轉移結構 110B可通過經形成穿過熱轉移結構1210的孔1504。當熱轉移結構110B佈置為穿過一個晶粒106的熱轉移結構1210的孔1504時，熱轉移結構110B能接觸包括晶片封裝組件1700的晶粒堆疊中之另一個晶粒106的熱轉移結構1210，從而提供垂直地離開晶片封裝組件1700之有效熱轉移路徑，以用於位在其它晶粒下方且與蓋罩102間隔開的晶粒106。任選地，額外的熱轉移結構110B可佈置在經耦合到熱轉移結構1210的熱轉移結構110B之外，以提供離開晶片封裝組件1700之額外的垂直熱轉移路徑。
圖18是具有至少一個熱轉移結構之另一個晶片封裝組件1800的示意截面視圖，其提供遠離一個或更多積體電路(IC)晶粒106的有效熱轉移路徑。晶片封裝組件1800基本上與上述的晶片封裝組件1200和1700相同，不同之處在於其中利用到熱轉移結構706和熱轉移結構1210，同時一個或更多其它的熱轉移結構(110A、110B、402、600、810)為選用的。為了簡潔起見而省略在圖18中所示之先前已在上文參考前述圖式所述的晶片封裝組件1800的某些元件的多餘敘述。
熱轉移結構706佈置在凹部702中，其形成在最接近蓋罩102的IC晶粒106的頂部表面142和蓋罩102之間。熱轉移結構706接觸IC晶粒106，且側向地延伸超出到最上部的IC晶粒106(即最接近蓋罩102的IC晶粒106)的側160之外。熱轉移結構706耦合到經佈置在IC晶粒106的側160上的熱轉移結構810。儘管熱轉移結構706可與熱轉移結構1210一起使用，利用熱轉移結構110A、110B和810中的一個或更多將熱轉移結構1210耦合到熱轉移結構706增加離開晶片封裝組件1800的垂直熱轉移率，其特別有利於在空間上與蓋罩102分開有一個或更多其它中間的晶粒106之晶粒106的效能。亦可利用熱轉移結構402、600。
熱轉移結構110A、熱轉移結構110B及/或熱轉移結構810中的一個或更多可如上文所述之方式或藉由另一個合適的技術而與熱轉移結構706，1210 一起利用。
在圖18所描述的實例中，最接近蓋罩102的IC晶粒106的頂部表面142包含凹部702，其沿著在IC晶粒106的側160和頂部表面142之交會處所定義的至少一個邊緣來形成，其配置以接受經佈置在凹部702中的熱轉移結構706。熱轉移結構706經由一個或更多熱轉移結構110B而連接到熱轉移結構810。額外地或替代地，熱轉移結構110A、810中的一個或兩個亦可利用來將熱轉移結構706連接到熱轉移結構1210。任選地，熱轉移結構706亦可連接到在IC晶粒106內向上地延伸之連接到熱轉移結構1210的一個或更多熱轉移結構110A，及/或連接到延伸穿過介電填料112之並未直接地連接到熱轉移結構1210的一個或更多熱轉移結構110B。
熱轉移結構706可如上述來構造。熱轉移結構706可具有環形。另或者，熱轉移結構706的內緣708可在最上部的IC晶粒106的僅一個，兩個或三個側160中而駐留在凹部702中。熱轉移結構706可如上述耦合到其它熱轉移結構。
因此，茲提供一種晶片封裝組件和用於製造此晶片封裝組件之方法，其利用電性浮置的複數個熱轉移結構以改善自包括晶片封裝組件的積體電路(IC)晶粒之側向地和垂直地熱轉移。有利地，熱轉移結構提供來自IC晶粒的側之穩固傳導性的熱轉移路徑。熱轉移結構亦能選擇性地定位以改善跨越封裝組件的熱轉移輪廓。垂直地離開晶封裝組件之經強化熱轉移顯著地改善可靠性和效能，同時亦降低可能誘發翹曲或提供IC晶粒的不充足溫度控制的熱點。顯著地，熱轉移結構之用以自晶粒的側移除熱的能力有利於增強垂直晶粒堆疊的中間和底部晶粒的熱控制，從而顯著地降低在晶片封裝組件內的熱耦合和溫度上升，其有利地改善電遷移(EM)的生命週期。
除了下文所述之申請專利範圍，上述之術語亦可藉由以下非限制性實例中的一個或多個來例示。
實例1，一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面，第一IC晶粒的第一表面具有沿著至少一個邊緣所形成的凹部；傳導性部件，其佈置在凹部中；以及電性浮置的第一複數個熱轉移結構，其平行於第一IC晶粒的一側延伸且耦合到傳導性部件。
實例2，如實例1所述的晶片封裝組件，其中凹部沿著第一IC晶粒的第一表面的所有邊緣延伸。
實例3，如實例2所述的晶片封裝組件，其中傳導性部件具有環形且沿著第一IC晶粒的第一表面的所有邊緣來佈置。
實例4，如實例1所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的第一複數個熱轉移結構通過第一晶粒。
實例5，如實例1所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的第一複數個熱轉移結構佈置在第一晶粒的此一側之外。
實例6，如實例5所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的第一複數個熱轉移結構佈置為接觸第一晶粒的此一側。
實例7，如實例5所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的第一複數個熱轉移結構與第一晶粒的此一側間隔開。
實例8，如實例1所述的晶片封裝組件，其更包括：傳導性熱轉移結構，其自第一晶粒側向地延伸。
實例9，一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面； 第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面；電性浮置的第一複數個熱轉移結構，其經形成自第一IC晶粒的金屬化層；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第二IC晶粒的第二表面安裝在第一IC晶粒的第一表面上；電性浮置的第二複數個熱轉移結構，其經形成自第二IC晶粒的金屬化層；以及第三複數個傳導性熱轉移結構，其將電性浮置的第一複數個熱轉移結構耦合到電性浮置的第二複數個熱轉移結構。
實例10，如實例9所述的晶片封裝組件，其中第三複數個傳導性熱轉移結構通過第一晶粒。
實例11，如實例9所述的晶片封裝組件，其中第三複數個傳導性熱轉移結構的通過佈置在第一晶粒的此一側之外。
實例12，如實例11所述的晶片封裝組件，其中第三複數個傳導性熱轉移結構的通過佈置為接觸第一晶粒的此一側。
實例13，如實例11所述的晶片封裝組件，其中第三複數個傳導性熱轉移結構與第一晶粒的此一側間隔開。
實例14，如實例9所述的晶片封裝組件，其中第三複數個傳導性熱轉移結構自第一晶粒的此一側懸臂式地延伸。
實例15，一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第二IC晶粒的第二表面安 裝在第一IC晶粒的第一表面上；以及電性浮置的第一熱轉移結構，其在第一IC晶粒和第二IC晶粒之間側向地延伸出。
實例16，如實例15所述的晶片封裝組件，其更包括：第二傳導性熱轉移結構，其佈置為穿過第二IC晶粒且耦合到電性浮置的第一熱轉移結構。
實例17，如實例15所述的晶片封裝組件，其更包括：第二傳導性熱轉移結構，其佈置在第二IC晶粒的一側之外且耦合到電性浮置的第一熱轉移結構。
實例18，如實例17所述的晶片封裝組件，其中第二傳導性熱轉移結構佈置為接觸第二IC晶粒的此一側。
實例19，如實例17所述的晶片封裝組件，其中第二傳導性熱轉移結構與第二IC晶粒的此一側間隔開。
實例20，如實例15所述的晶片封裝組件，其更包括：第二傳導性熱轉移結構，其佈置為垂直於第一傳導性熱轉移結構；以及第三傳導性熱轉移結構，其佈置在經形成在第二IC晶粒的第一表面的凹部中，第二傳導性熱轉移結構將電性浮置的第一熱轉移結構耦合到第三傳導性熱轉移結構。
實例21，一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第二IC晶粒的第二表面安裝在第一IC晶粒的第一表面上；以及 電性浮置的第一熱轉移結構，其經佈置以在第一和第二表面之間接觸第一IC晶粒的一側。
實例22，如實例22所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的第一熱轉移結構佈置為接觸第二IC晶粒的此一側。
實例23，一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第一IC晶粒的第二表面安裝至基板的第一表面；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，第二IC晶粒的第二表面安裝在第一IC晶粒的第一表面上；介電填料，其側向地環繞第一和第二IC晶粒；以及電性浮置的第一熱轉移結構，其經佈置以在第一IC晶粒的一側之外穿過介電填料。
實例24，如實例22所述的晶片封裝組件，其更包括：電性浮置的第二熱轉移結構，其佈置為接觸第一IC晶粒，介電填料和電性浮置的第一熱轉移結構。
儘管前述說明針對本新型的實施例，然而可預想到本新型的其它和另外實施例而未背離其基本範疇，並且由後隨的申請專利範圍來決定其範疇。
100:晶片封裝組件
102:蓋罩
104:中介件
106:積體電路(IC)晶粒
108:封裝基板
110:熱轉移結構
110A:熱轉移結構
110B:熱轉移結構
112:介電填料
114:熱介面材料(TIM)
116:印刷電路板(PCB)
118:銲料連接
120:加強件
122:銲料球
130:頂部表面
132:底部表面
134:頂部表面
136:底部表面
138:頂部表面
140:底部表面
142:頂部表面
144:底部表面
146:頂部表面
150:電子裝置
160:側
170:孔

Claims (24)

  1. 一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第一IC晶粒的所述第二表面安裝至所述基板的所述第一表面，所述第一IC晶粒的所述第一表面具有沿著至少一個邊緣所形成的凹部；傳導性部件，其佈置在所述凹部中；以及電性浮置的第一複數個熱轉移結構，其平行於所述第一IC晶粒的一側延伸且耦合到所述傳導性部件。
  2. 如請求項1所述的晶片封裝組件，其中所述凹部沿著所述第一IC晶粒的所述第一表面的所有邊緣延伸。
  3. 如請求項2所述的晶片封裝組件，其中所述傳導性部件具有環形且沿著所述第一IC晶粒的所述第一表面的所有邊緣來佈置。
  4. 如請求項1所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的所述第一複數個熱轉移結構通過所述第一IC晶粒。
  5. 如請求項1所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的所述第一複數個熱轉移結構佈置在所述第一IC晶粒的所述側之外。
  6. 如請求項5所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的所述第一複數個熱轉移結構佈置為接觸所述第一IC晶粒的所述側。
  7. 如請求項5所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的所述第一複數個熱轉移結構與所述第一IC晶粒的所述側間隔開。
  8. 如請求項1所述的晶片封裝組件，其更包括：傳導性熱轉移結構，其自所述第一IC晶粒側向地延伸。
  9. 一種晶片封裝組件，其包括： 基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第一IC晶粒的所述第二表面安裝至所述基板的所述第一表面；電性浮置的第一複數個熱轉移結構，其經形成自所述第一IC晶粒的金屬化層；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第二IC晶粒的所述第二表面安裝在所述第一IC晶粒的所述第一表面上；電性浮置的第二複數個熱轉移結構，其經形成自所述第二IC晶粒的金屬化層；以及第三複數個傳導性熱轉移結構，其將電性浮置的所述第一複數個熱轉移結構耦合到電性浮置的所述第二複數個熱轉移結構。
  10. 如請求項9所述的晶片封裝組件，其中所述第三複數個傳導性熱轉移結構通過所述第一IC晶粒。
  11. 如請求項9所述的晶片封裝組件，其中所述第三複數個傳導性熱轉移結構的通過佈置在所述第一IC晶粒的一側之外。
  12. 如請求項11所述的晶片封裝組件，其中所述第三複數個傳導性熱轉移結構的通過佈置為接觸所述第一IC晶粒的所述側。
  13. 如請求項11所述的晶片封裝組件，其中所述第三複數個傳導性熱轉移結構與所述第一IC晶粒的所述側間隔開。
  14. 如請求項9所述的晶片封裝組件，其中所述第三複數個傳導性熱轉移結構自所述第一IC晶粒的一側懸臂式地延伸。
  15. 一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第一IC 晶粒的所述第二表面安裝至所述基板的所述第一表面；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第二IC晶粒的所述第二表面安裝在所述第一IC晶粒的所述第一表面上；以及電性浮置的第一熱轉移結構，其在所述第一IC晶粒和所述第二IC晶粒之間側向地延伸出。
  16. 如請求項15所述的晶片封裝組件，其更包括：第二傳導性熱轉移結構，其佈置為穿過所述第二IC晶粒且耦合到電性浮置的所述第一熱轉移結構。
  17. 如請求項15所述的晶片封裝組件，其更包括：第二傳導性熱轉移結構，其佈置在所述第二IC晶粒的一側之外且耦合到電性浮置的所述第一熱轉移結構。
  18. 如請求項17所述的晶片封裝組件，其中所述第二傳導性熱轉移結構佈置為接觸所述第二IC晶粒的所述側。
  19. 如請求項17所述的晶片封裝組件，其中所述第二傳導性熱轉移結構與所述第二IC晶粒的所述側間隔開。
  20. 如請求項15所述的晶片封裝組件，其更包括：第二傳導性熱轉移結構，其佈置為垂直於電性浮置的所述第一熱轉移結構；以及第三傳導性熱轉移結構，其佈置在經形成在所述第二IC晶粒的所述第一表面的凹部中，所述第二傳導性熱轉移結構將電性浮置的所述第一熱轉移結構耦合到所述第三傳導性熱轉移結構。
  21. 一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第一IC 晶粒的所述第二表面安裝至所述基板的所述第一表面；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第二IC晶粒的所述第二表面安裝在所述第一IC晶粒的所述第一表面上；以及電性浮置的第一熱轉移結構，其經佈置以在所述第一IC晶粒的所述第一表面和所述第二表面之間接觸所述第一IC晶粒的一側。
  22. 如請求項21所述的晶片封裝組件，其中電性浮置的所述第一熱轉移結構佈置為接觸所述第二IC晶粒的一側。
  23. 一種晶片封裝組件，其包括：基板，其具有第一表面和相對的第二表面；第一積體電路(IC)晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第一IC晶粒的所述第二表面安裝至所述基板的所述第一表面；第二IC晶粒，其具有第一表面和相對的第二表面，所述第二IC晶粒的所述第二表面安裝在所述第一IC晶粒的所述第一表面上；介電填料，其側向地環繞所述第一IC晶粒和所述第二IC晶粒；以及電性浮置的第一熱轉移結構，其經佈置以在所述第一IC晶粒的一側之外穿過所述介電填料。
  24. 如請求項23所述的晶片封裝組件，其更包括：電性浮置的第二熱轉移結構，其佈置為接觸所述第一IC晶粒，所述介電填料和電性浮置的所述第一熱轉移結構。
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