TWM613133U

TWM613133U - 基板收納容器

Info

Publication number: TWM613133U
Application number: TW110200877U
Authority: TW
Inventors: 福永司
Original assignee: 日商信越聚合物股份有限公司
Priority date: 2020-01-30
Filing date: 2021-01-25
Publication date: 2021-06-11
Also published as: JP2021120970A; KR20210001813U; JP7421939B2

Abstract

本新型創作提供一種基板收納容器，可抑制因氣體向容器內部的導入造成的基板的浮起或振動引起的不良狀況，且與搬送裝置等的干涉亦得到緩和。本新型創作提供的基板收納容器1至少包括：容器本體10，收納基板W，且形成有使基板W出入的開口14；蓋體20，封閉容器本體10的開口14；氣體供給部17，向容器本體10的內部供給氣體；以及氣流控制部，使自氣體供給部17供給的氣體的流速減少、變更自氣體供給部17供給的氣體的供給方向、或者進行此兩者。

Description

基板收納容器

本新型創作是有關於一種基板收納容器。

於對液晶面板用玻璃基板等進行處理的半導體的製造步驟中，在將基板（例如晶圓、面板等）自規定的步驟移送至另一步驟時或者保管基板時，使用基板收納容器。基板收納容器有於其內部將多個基板隔開一定的間隔而沿上下方向重疊收納者等。並且，於半導體的製造步驟中，為了保護基板不受空氣中的微粒子（顆粒（particle））等影響，不使基板接觸外界氣體而藉由自動搬送裝置等予以搬送。而且，藉由機械臂等從容器內搬出/搬入基板。如此，於半導體製造中，進行使用基板收納容器的自動（automation）化。作為所述基板收納容器，例如使用密閉型的前開式基板收納容器（前開式傳送盒（Front Opening Unify Pod，FOUP））（例如專利文獻1～專利文獻3）。

為了將容器內部維持為低濕度的目的等，基板收納容器會藉由氮氣等非活性氣體或乾燥空氣（dry air）等來對容器內進行置換（氣體吹掃（gas purge））。通常，此種氣體吹掃是藉由於基板收納容器的底面設置氣體導入端口，自此向容器本體的內部導入置換氣體而進行。自所述的保護基板不受空氣中的微粒子等影響的觀點考慮，氣體吹掃亦是重要的。 [現有技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利第5524093號公報專利文獻2：日本專利第5960078號公報專利文獻3：日本專利第6165653號公報

[新型所欲解決之課題]

然而，在進行所述氣體吹掃時，因自氣體導入端口被導入至容器內部的置換氣體碰撞至收納於容器內部的基板，有時會導致基板浮起或者基板發生振動。由此會引發微粒子或引起基板的位置偏離等。此不良狀況成為半導體製品的製品不良的原因。並且，此不良狀況對於收納在基板收納容器的最下層槽位（slot）的基板（位於最下位的基板）尤為顯著。

為了防止此種不良狀況，例如專利文獻1的前表面開放晶圓容器包含至少一個細長的管狀控制元件，其長度以上壁部與底壁部之間的距離而充分延伸，細長的管狀控制元件具有直立的軸，且細長的管狀控制元件經由偏離部而於吹掃端口連接至容器部的底部，吹掃端口是偏離管狀控制元件的軸而配置，因而，細長的管狀控制元件較吹掃端口而位於閉鎖背面的附近。然而，此管狀控制元件於容器內所占的比例大，在機械臂的搬送運動（motion）等時會與搬送裝置引起機械干涉，因此並不實用。或者，為了避免此機械干涉，必須減少基板收納容器的收納片數，或者減小可收納的基板的尺寸。

本新型創作是有鑒於此情況而完成，其主要目的在於提供一種基板收納容器，可抑制因氣體向容器內部的導入造成的基板的浮起或振動引起的不良狀況，且與搬送裝置等的干涉亦得到緩和。 [解決課題之技術手段]

本創作者為了解決所述課題，而完成了以下的本新型創作。

（1）一種基板收納容器，可收納基板，所述基板收納容器至少包括：容器本體，收納所述基板，且形成有使所述基板出入的開口；蓋體，封閉所述容器本體的所述開口；氣體供給部，向所述容器本體的內部供給氣體；以及氣流控制部，使自所述氣體供給部供給的所述氣體的流速減少、變更自所述氣體供給部供給的所述氣體的供給方向、或者進行此兩者。（2）如（1）所述的基板收納容器，其中，所述氣體供給部自所述容器本體的底面朝向上方供給所述氣體，所述氣流控制部至少使所述氣體的垂直方向的流速減少。（3）如（1）或（2）所述的基板收納容器，其中，所述氣流控制部包含多孔質構件，藉由自所述氣體供給部供給的所述氣體碰撞至所述多孔質構件，從而至少使所述氣體的垂直方向的流速減少。（4）如（1）或（2）所述的基板收納容器，其中，所述氣流控制部使所述氣體的垂直方向的流速減少1%～60%。（5）如（1）所述的基板收納容器，其中，所述氣體供給部自所述容器本體的底面朝向上方供給所述氣體，所述氣流控制部使所述氣體的供給方向至少沿水平方向擴散。（6）如（5）所述的基板收納容器，其中，所述氣流控制部包含偏向板或多孔質構件，藉由自所述氣體供給部供給的所述氣體碰撞至所述偏向板或所述多孔質構件，從而使所述氣體的供給方向至少沿水平方向擴散。（7）如（1）或（2）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣流控制部以下述方式連接於所述氣體導入部，即，於垂直方向上，所述氣流控制部的剖視時的垂直方向的中心線低於所述容器本體的所述底面的內表面。（8）如（1）或（2）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣流控制部以下述方式連接於所述氣體導入部，即，於垂直方向上，所述氣流控制部的上表面低於所述容器本體的所述底面的內表面。（9）如（3）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。（10）如（4）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。（11）如（6）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。（12）如（7）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。（13）如（8）所述的基板收納容器，其中，於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。 [新型的效果]

根據本新型創作，能提供一種基板收納容器，可抑制因氣體向容器內部的導入造成的基板的浮起或振動引起的不良狀況，且與搬送裝置等的干涉亦得到緩和。

以下，一邊參照圖式，一邊詳細說明用於實施本新型創作的形態（以下簡稱作「本實施形態」）。以下的本實施形態是用於說明本新型創作的例示，並非旨在將本新型創作限定於以下的內容。本新型創作可在該主旨的範圍內適當變形而實施。

再者，圖式中，對於同一元件附上同一符號，並省略重複說明。而且，上下左右等的位置關係只要未特別說明，則是基於圖式所示的位置關係。進而，圖式的尺寸比率並不限於圖示的比率。

進而，本說明書中，附有「略」的用語表示在本領域技術人員的技術常識的範圍內除了該「略」以外的用語的含義，亦包含除了「略」以外的含義自身。

圖1是本實施形態的基板收納容器的立體圖，圖2是表示本實施形態的基板收納容器的開口狀態的立體圖。

基板收納容器1是可收納一片以上的基板W的容器，包括於正面形成有開口14的容器本體10、及可密封地封閉該開口14的裝卸自如的蓋體20。蓋體20藉由與容器本體10的開口14附近所設的密封部15密接，從而可實現密封。並且，於容器本體10的內部，例如自開口14收納多個半導體晶圓等的基板W，基板W具有規定的間隔且以大致水平狀態而重疊於容器本體10的內部。而且，於容器本體10的外部側面，亦可設有夾持（grip）部11。

於基板W為此種半導體晶圓的情況下，例如於半導體零件的製造步驟中適當實施各種加工或處理，於基板收納容器1的容器本體10的內部大致水平地插入收納多片，並且沿容器本體10的垂直方向排列。並且，於基板W的出入時，將容器本體10搭載於蓋體開閉裝置（未圖示）。

作為基板W的形狀，並無特別限定，例如可列舉矩形狀、圓形狀等。

於基板W為矩形狀的情況下，其大小並無特別限定，例如可列舉250 mm×250 mm～650 mm×650 mm者。例如亦可列舉載體面板（carrier panel）的尺寸即625 mm×615 mm或密封面板的尺寸即600 mm×600 mm等者。於此種矩形狀的基板W的情況下，如圖2所示，基板W被配置於後述的氣體供給部17的上方，因此自氣體供給部17向容器本體10的內部導入的置換氣體容易碰到，基板的浮起或基板的振動等問題顯著。

於基板W為圓形狀的情況下，其大小並無特別限定，例如可列舉具有775 μm厚度的φ300 mm的矽晶圓等。

容器本體10收納基板W，且形成有使基板W出入的開口14。於容器本體10，亦可於其頂面（上表面）設有搬送用的頂部凸緣（top flange）12。而且，此處雖未圖示，但亦可於底面13（下表面），設有作為可選件（option）的板狀的底板（bottom plate）。

於設置底板的情況下，於底板上，例如安裝有多個氣體供給部17及氣體排出部18。例如可分別使用供氣閥30來作為氣體供給部17，使用排氣閥40來作為氣體排出部18。經由供氣閥30，可向基板收納容器1的內部導入置換氣體（例如氮氣等非活性氣體或乾燥空氣等）。並且，經由排氣閥40，可將存在於基板收納容器1內部的氣體排出至外部。圖1中，示意性地表示了將安裝於底面13的供氣閥30及排氣閥40分別取出至圖中下方側而進一步分解的狀態。

容器本體10、蓋體20與供氣閥30及排氣閥40可包含含有樹脂組成物的成形材料。例如亦可藉由射出成形來使零件成形，並藉由該些零件的組合而構成。作為樹脂組成物的樹脂，並無特別限定，例如可列舉聚碳酸酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、聚醚醯亞胺、聚醚酮、聚醚醚酮、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚縮醛、液晶聚合物等熱塑性樹脂及它們的合金（alloy）等。

樹脂組成物亦可根據需要而含有碳纖維、碳粉（carbon powder）、碳奈米管、導電性聚合物等導電物質、陰離子系、陽離子系、非離子系等的各種抗靜電劑等。而且，樹脂組成物亦可根據需要而含有苯并三唑（benzotriazole）系、水楊酸酯（salicylate）系、氰基丙烯酸酯（cyanoacrylate）系、草酸醯苯胺（oxalic acid anilide）系、受阻胺（hindered amine）系等的紫外線吸收劑。進而，樹脂組成物亦可為了提高剛性而含有玻璃纖維、碳纖維等。

容器本體10亦可為正面開口的前開盒式（front open box type），在使正面的開口14朝向大致水平橫向的狀態下由半導體製造工廠的天花板搬送機構等抓持而在步驟間受到搬送。或者，亦可定位並搭載至附屬於半導體加工裝置的加載端口上。

容器本體10於其內部表面中的相向的一對表面，具有支持基板W的支持部16。例如，於容器本體10的相向的內部的側壁，分別相對設置有大致水平地支持基板W的左右一對支持片。左右一對支持片沿垂直方向以規定的間距間隔而排列。藉此，能以於垂直方向上隔開規定的間隔而重合的方式來收納基板W。

繼而，對供氣閥30及排氣閥40進行說明。

供氣閥30分別嵌接於容器本體10的底面13上的多個安裝部17J（參照圖3），從而構成氣體供給部17。供氣閥30被配置於容器本體10的底面13。例如，當將容器本體10搭載於蓋體開閉裝置時，供氣閥30連接於與蓋體開閉裝置並設的吹掃裝置的供氣端口，向容器本體10的內部供給置換氣體。此處，於圖1中，將供氣閥30自箭頭F1的方向連接於容器本體10的底面的情況例示為一例，但連接形態並不限定於此。例如，亦可為自箭頭F1的反方向，進而自來自上下的兩方向連接的結構。例如，亦可為將第一殼體33自容器內側插入，將除此以外的構件自箭頭F1的方向嵌合的結構。

排氣閥40分別嵌接於容器本體10的底面13上的多個安裝部18J（參照圖3），從而構成氣體排出部18。排氣閥40被配置於容器本體10的底面13。例如，當將容器本體10搭載於蓋體開閉裝置時，排氣閥40連接於與蓋體開閉裝置並設的吹掃裝置的排氣端口，自容器本體10的內部向外部排出氣體。此處，於圖1中，將排氣閥40自箭頭F2的方向連接於容器本體10的底面的情況例示為一例，但連接形態並不限定於此。例如，亦可為自箭頭F2的反方向，進而自來自上下的兩方向連接的結構。例如，亦可為將第一殼體43自容器內側插入，將除此以外的構件自箭頭F2的方向嵌合的結構。

供氣閥30至少具有止回閥體31、彈性體32、第一殼體33、凸肋（rib）34及O型環35，它們可滑動地嵌入。供氣閥30亦可包括以止回閥體31藉由彈性體32的背壓來防止逆流的方式而運轉的止回閥機構。作為該彈性體32，例如可使用螺旋彈簧等。

排氣閥40至少具有止回閥體41、彈性體42、第一殼體43、凸肋44及O型環45，它們可滑動地嵌入。排氣閥40亦可包括以止回閥體41藉由彈性體42的背壓來防止逆流的方式而運轉的止回閥機構。作為該彈性體42，例如可使用螺旋彈簧等。

並且，供氣閥30及排氣閥40可不增減變更零件個數，而既用作供氣閥30，亦用作排氣閥40。兩者只要根據閥的功能（供排氣）而變更止回閥體31、止回閥體41及彈性體32、彈性體42的朝向即可（參照圖1）。例如，於作為自基板收納容器1的外部向內部供給置換氣體的供氣閥30發揮功能的情況下，止回閥體31位於彈性體32的上方。另一方面，於作為自基板收納容器1的內部向外部排出置換氣體的排氣閥40發揮功能的情況下，彈性體42位於止回閥體41的上方。

於所述結構中，例如在將基板收納容器1的內部置換為氮氣等置換氣體，並將容器本體10內維持為低濕度的情況下，只要將容器本體10搭載於蓋體開閉裝置，將供氣閥30連接於蓋體開閉裝置的吹掃裝置的供氣端口，並且將排氣閥40連接於吹掃裝置的排氣端口，隨後，自供氣端口向供氣閥30導入置換氣體即可。

繼而，置換氣體充滿至供氣閥30內，一邊壓縮彈性體32一邊上推止回閥體31，而形成流路。置換氣體流通供氣閥30的內部而被導入至容器本體10的內部，將存在於容器本體10內部的氣體朝排氣閥40的方向擠出。

朝排氣閥40的方向被擠出的氣體流通排氣閥40的內部，一邊壓縮彈性體42一邊下推止回閥體41，而形成流路。當如此般形成流路時，氣體經由該流路而流出至基板收納容器1的外部，從而被排出。

圖3是本實施形態的基板收納容器的底面圖，是未安裝閥的狀態，圖4是本實施形態的基板收納容器的底面圖，是安裝有閥的狀態。

圖3是從底面13側觀察基板收納容器1的圖，表示了各供氣閥30的安裝部17J及排氣閥40的安裝部18J。即，圖3表示了未安裝供氣閥30及排氣閥40的基板收納容器1。各安裝部17J、安裝部18J於蓋體20側（圖式的上側）的兩肋安裝有一對（各一個），且於縱深後部側（圖式的下側）的兩肋安裝有一對（各一個）。各安裝部17J、安裝部18J藉由形成於底面13的安裝孔17H、安裝孔18H而露出。再者，安裝部17J、安裝部18J於底面13上的配置場所並無特別限定，亦可考慮裝置結構等而適當地安裝於理想的場所。

圖4是與圖3對應的圖，表示了於供氣閥30的安裝部17J安裝有供氣閥30的氣體供給部17、及於排氣閥40的安裝部18J安裝有排氣閥40的氣體排出部18。即，於蓋體20側安裝有一個供氣閥30與一個排氣閥40，於縱深後部側的兩肋安裝有一個供氣閥30與一個排氣閥40。再者，於圖3及圖4中，例示了於底面13配置有兩對（兩個×2）氣體供給部17及氣體排出部18的情況，但氣體供給部17及氣體排出部18的個數及配置並不限定於該些。例如，亦可為於容器本體的底面13設置三處氣體供給部17，且於底面13設置一處氣體排出部18的形態等。而且，亦可考慮與基板W的配置關係等而配置於置換氣體難以碰撞至基板W的理想部位。

於底面13的使供氣閥30的安裝部17J露出的安裝孔17H，亦可形成有凸肋。該凸肋亦可設為以安裝孔17H為中心而半徑不同的圓筒狀或圓弧狀的凸肋。同樣地，於底面13的使排氣閥40的安裝部18J露出的安裝孔18H，亦可形成有凸肋。該凸肋亦可設為以安裝孔18H為中心而半徑不同的圓筒狀或圓弧狀。

再者，雖未圖示，但於底面13亦可設有定位構件，所述定位構件用於進行將基板收納容器1配置於加工裝置（未圖示）時的定位。定位構件例如亦可為具有大致V字狀的傾斜面，且可與加工裝置的銷嵌合的形狀。定位構件較佳為至少設置三處。

（氣流控制部）

基板收納容器1具有：氣體供給部17（例如供氣閥30），向容器本體10的內部供給氣體（例如置換氣體）；以及氣流控制部（例如後述的多孔質構件331或偏向板340），使自氣體供給部17供給的氣體的流速減少、變更自氣體供給部17供給的氣體的供給方向、或者進行此兩者。基板收納容器1藉由具有所述氣流控制部，從而可緩和置換氣體碰撞至收容在容器本體10內部的基板W的勢頭。

作為氣流控制部，例如可列舉使置換氣體的流速減少的機構、變更置換氣體的供給方向的機構、或者包括該兩者的機構。該些機構均是緩和置換氣體直接碰撞至基板W的機構，由此可防止基板W的浮起及振動。並且，如後所述，氣流控制部可設為簡便且省空間的結構以免造成基板收納容器1的結構上的限制，因此既無與搬送裝置等的干涉，亦不需要減少基板收納容器1的基板W的收納片數。

氣體供給部17較佳為下述結構，即，自容器本體10的底面朝向上方供給置換氣體，且氣流控制部至少使置換氣體的垂直方向的流速減少。藉由採用此種結構，可有效地防止因被導入至容器本體10內部的置換氣體碰撞至所收納的基板W（尤其是收納在最下位的基板W），而導致基板浮起或者基板發生振動的現象。

或者，氣體供給部17較佳為下述結構，即，自容器本體10的底面朝向上方供給置換氣體，且氣流控制部使置換氣體的供給方向至少沿水平方向擴散。藉由採用此種結構，亦可有效地防止因被導入至容器本體10內部的置換氣體碰撞至所收納的基板W（尤其是收納在最下位的基板W），而導致基板浮起或者基板發生振動的現象。

以下，對所述的各結構的具體例進行說明。

圖5是用於說明本實施形態的基板收納容器的氣流控制的示意圖。

圖5示意性地表示了使自氣體供給部17供給的置換氣體的垂直方向的流速減少的氣流控制部的周邊區域。該氣流控制部連接於底面13的開口，於吹掃端口殼體19的內側，包括止回閥體31、配置於該止回閥體31上方的空氣過濾器（air filter）332、以及配置於空氣過濾器332上方的多孔質構件331。多孔質構件331是形成有大量細孔的構件，藉由將置換氣體導入至該細孔，從而置換氣體的流速下降。

氣流控制部較佳為包括多孔質構件331，藉由自氣體供給部17（供氣閥30）供給的置換氣體碰撞至多孔質構件331，從而使置換氣體的流速減少的結構。置換氣體自容器本體10的下方被導入向容器本體10的內部（參照箭頭F3），在被導入至容器本體10內部之後，被送往上方（參照箭頭F4）。並且，藉由碰撞至多孔質構件331，至少可使置換氣體的垂直方向的流速減少。當垂直方向的流速減少時，碰撞至沿著上下方向收納於基板收納容器1內部的基板W的置換氣體的勢頭得以減弱，因此既可將置換氣體的供給速度維持為固定，又可更有效地抑制基板W的浮起及振動。

氣流控制部較佳為使置換氣體的垂直方向的流速減少1%～60%。該比例的下限進而較佳為10%以上，更較佳為20%以上。而且，該比例的上限進而較佳為50%以下，更佳為40%以下。藉由使置換氣體的垂直方向的流速以此種範圍減少，既可將置換氣體的供給速度維持為固定，又可更有效地抑制基板W的浮起及振動。該比例是指自氣流控制部排出的置換氣體（參照箭頭F4）的垂直方向的流速相對於對氣流控制部供給的置換氣體（參照箭頭F3）的垂直方向的流速的減少率。

關於多孔質構件331的種類，並無特別限定，可考慮置換氣體的流速及流量、基板收納容器1的形狀、大小及其他構件的配置與基板W的形狀及大小等來適當地選擇理想者。例如，作為多孔質構件331，可列舉微孔（microporous）材料、中孔（mesoporous）材料、大孔（macroporous）材料等。作為其具體例，例如可列舉微孔二氧化矽、中孔二氧化矽、大孔二氧化矽、二氧化矽凝膠、活性炭、沸石、塑膠燒結多孔質體、陶瓷材等。作為塑膠燒結多孔質體，例如可列舉高密度聚乙烯（High Density Polyethylene，HDPE）、低密度聚乙烯（Low Density Polyethylene，LDPE）、聚丙烯（Polypropylene，PP）等烯烴系樹脂、聚四氟乙烯（Polytetrafluorethylene，PTFE）等氟系樹脂等。作為陶瓷材，例如可列舉氧化鋁、氧化鋯、鈦酸鋇等。該些中，考慮到置換氣體的流速控制、耐熱性、強度及材料穩定性等的觀點，尤佳為塑膠燒結多孔質體及陶瓷材。塑膠燒結多孔質體中，更佳為高密度聚乙烯（HDPE）、聚丙烯（PP）。陶瓷材中，更佳為氧化鋯等。

多孔質構件331的氣孔率並無特別限定，較佳為20體積%～75體積%。氣孔率的下限進而較佳為25體積%以上，更佳為30體積%以上。而且，氣孔率的上限進而較佳為60體積%以下，更佳為50體積%以下。此處所說的氣孔率，是指氣孔部分的體積相對於多孔質構件331的包含材料部分及氣孔部分的整個外形的體積的比例。

而且，根據本實施形態，亦可根據需要來設置空氣過濾器332。藉由設置空氣過濾器332，可防止空氣中的微粒子（顆粒）侵入基板收納容器1的內部。空氣過濾器332的材質並無特別限定，可採用公知者。例如可列舉四氟乙烯、聚酯纖維、氟系樹脂、玻璃纖維、活性碳纖維等。

此處，例示了於止回閥體31與多孔質構件331之間設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332。而且，除了空氣過濾器332以外，亦可根據需要而進一步設置其他零件。

較佳為，於容器本體10的底面13，設有自氣體供給部17（例如供氣閥30）向容器本體10的內部導入置換氣體的氣體導入部（例如底面13的安裝部17J），且氣流控制部以下述方式連接於氣體導入部，即，於垂直方向上，氣流控制部的剖視時的垂直方向的中心線L低於容器本體10的底面13的內表面13s。例如，藉由將氣流控制部配置於較底面13的內表面13s更低的位置，可更有效地減弱碰撞至基板W（尤其是位於最下位的基板W）的氣流的勢頭。例如，於圖5的情況下，只要多孔質構件331的中心線L位於較底面13的內表面13s更低的位置即可。再者，關於此處所說的中心線L，例如於氣流控制部為多孔質構件331的情況下，該中心線L是指通過多孔質構件331的重心的水平線。

而且，較佳為，於容器本體10的底面13，設有自氣體供給部17（供氣閥30）向容器本體10的內部導入置換氣體的氣體導入部（例如底面13的安裝部17J），且氣流控制部以下述方式連接於氣體導入部，即，於垂直方向上，氣流控制部的上表面331s低於容器本體10的底面13的內表面13s。藉由將氣流控制部的上表面331s配置於較底面13的內表面13s更低的位置，可更有效地減弱碰撞至基板W（尤其是位於最下位的基板W）的氣流的勢頭。

繼而，對使用供氣閥30作為氣體供給部17時的具體例進行說明。

圖6是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第一例的剖面圖。

供氣閥30a具有：第一殼體33，連接於容器本體10的底面13的安裝部17J；安裝壁335，被嵌入至該第一殼體33；以及第二殼體334，螺嵌於第一殼體33。並且，於第一殼體33的上部配置有多孔質構件331a。供氣閥30a為多孔質構件331a露出於殼體（例如第一殼體33或第二殼體334）的上部表面的結構。

再者，圖6中例示了設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332，還可根據需要將空氣過濾器332配置於例如多孔質構件331a的下方。

進而，於由安裝壁335與第二殼體334所形成的空間內部，包括止回閥機構，所述止回閥機構以與閥座體333接觸/分離的止回閥體31藉由彈性體32的背壓來防止逆流的方式而運轉。

並且，於安裝壁335的外周面的上方，嵌合有與第一殼體33的內周面密接的密封用的O型環336。而且，於第一殼體33的外周面的上方，嵌合有與容器本體10的底面13及塊體（block）132嵌合卡止的密封用的O型環35。

供氣閥30a藉由設於第一殼體33的突起338及設於第二殼體334的突起339夾持塊體132，從而連接於容器本體10的底面13。塊體132形成於底面13與底板131之間。

包括此種結構的供氣閥30a自形成於供氣閥30a下方的開口337導入置換氣體（參照箭頭F5），置換氣體通過位於供氣閥30a內部的止回閥機構，並經由空氣過濾器332而被導向多孔質構件331a。並且，藉由置換氣體碰撞至多孔質構件331a，置換氣體的流速得以減弱，而朝上方供給向基板收納容器1的容器本體10的內部（參照箭頭F6）。此時，至少垂直方向上的置換氣體的勢頭得以減弱（垂直方向的置換氣體的流速減少），因此收納於基板收納容器1的基板W不會因置換氣體而浮起或振動。

進而，供氣閥30a是多孔質構件331a設於第一殼體33表面的緊湊零件，並非大規模的零件，因此即使將供氣閥30a安裝於基板收納容器1，亦無與機械臂等搬送裝置的機械干涉。

藉由多孔質構件331a來控制置換氣體的流速的基板收納容器1於其構成零件的省空間化方面亦優異。因而，可收納至基板收納容器1的基板W的片數亦多，基板W的搬送效率優異。

進而，多孔質構件331a藉由於整個構件形成空孔，不僅可使置換氣體的流速減少，還能變更置換氣體的供給方法。例如，可使置換氣體的垂直方向的流速減少，且可使置換氣體的供給方向至少沿水平方向，進而向四方擴散。

圖7是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第二例的剖面圖。

供氣閥30b中，多孔質構件331b的配置不同於圖6的供氣閥30a。圖7的供氣閥30b是將多孔質構件331b保存於第一殼體33的內部。即，供氣閥30b具有：第一殼體33，連接於容器本體10的底面13的安裝部17J；安裝壁335，被嵌入至該第一殼體33；以及第二殼體334，螺嵌於第一殼體33。並且，於由第一殼體33與安裝壁335所形成的空間內部，配置有多孔質構件331b。進而，於由安裝壁335與第二殼體334所形成的空間內部，配置有止回閥機構，所述止回閥機構以與閥座體333接觸/分離的止回閥體31藉由彈性體32的背壓來防止逆流的方式而運轉。

供氣閥30b為將多孔質構件331b配置於第一殼體33與第二殼體334的內部的結構，因此更為緊湊，包括該供氣閥30b的基板收納容器1可進一步抑制與機械臂等搬送裝置的機械干涉。即，多孔質構件331b的上表面是以較容器本體10的底面13的內表面更低的方式而設置的狀態。

包括此種結構的供氣閥30b自形成於供氣閥30b下方的開口337導入置換氣體（參照箭頭F7），置換氣體通過位於供氣閥30b內部的止回閥機構，並經由空氣過濾器332而被導向多孔質構件331b。並且，藉由置換氣體碰撞至多孔質構件331b，置換氣體的流速得以減弱，而朝上方供給向基板收納容器1的容器本體10的內部（參照箭頭F8）。此時，至少垂直方向上的置換氣體的勢頭得以減弱（垂直方向的置換氣體的流速減少），因此收納於基板收納容器1的基板W不會因置換氣體而浮起或振動。

再者，圖7中例示了設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332，還可根據需要而將空氣過濾器332配置於例如多孔質構件331b的下方。

圖8是用於說明本實施形態的基板收納容器的氣流控制的示意圖。

圖8示意性地表示了使自氣體供給部17（供氣閥30）供給的置換氣體的供給方向沿容器本體10內部的水平方向擴散的氣流控制部。該氣流控制部與圖5的氣流控制部的不同之處在於，藉由使用偏向板340來變更置換氣體的氣流的方向。

該氣流控制部連接於底面13的開口，且於吹掃端口殼體19的內側包括止回閥體31、配置於該止回閥體31上方的空氣過濾器332、及配置於空氣過濾器332上方的偏向板340。偏向板340具有剖視時沿水平方向延伸設置的導引部（guide）。

本實施形態中，偏向板340的導引部的延伸設置方向並不限定於水平方向，亦可考慮裝置結構等進行變形。例如，亦可使導引部的延伸設置方向相對於水平方向為45°以下。即，偏向板340亦可為具有以相對於水平方向成45°以下的角度的方式延伸設置的導引部的結構。若相對於水平方向的角度為45°以下，則可使置換氣體的氣流的大部分沿水平成分擴散。考慮到此種觀點，導引部的相對於水平方向的角度較佳為45°以下，進而較佳為40°以下，更佳為30°以下，進而更佳為0°（水平方向）。藉由設為水平方向，可使氣流控制部的結構省空間化，因此在與搬送裝置等的干涉的抑制、及基板收納容器1的基板W的收納片數方面理想。

較佳為，氣流控制部包含偏向板340，藉由自氣體供給部17（供氣閥30）供給的置換氣體碰撞至偏向板340，從而使置換氣體的供給方向至少沿水平方向擴散。置換氣體自容器本體10的下方導入向容器本體10的內部（參照箭頭F9），導入至容器本體10內部後，被送往上方（參照箭頭F10）。此時，撞擊至偏向板340的置換氣體的氣流沿水平方向分支，且朝向底面13的水平方向（圖式的左方向及右方向）而送出（參照箭頭F11）。並且，可使置換氣體的供給方向沿容器本體10內部的水平方向擴散。藉由採用此種結構，亦能抑制被導入至容器本體10內部的置換氣體碰撞至所收納的基板W（尤其是收納於最下位的基板W），因此可有效地防止基板浮起或基板發生振動。再者，此種朝向水平方向的擴散亦可藉由使用多孔質構件331取代偏向板340而進行。例如，可自形成於多孔質構件331的細孔朝向四方噴射置換氣體。

關於偏向板340的材質，並無特別限定，可適當選擇理想的材料。例如，既可為樹脂製，亦可為金屬製。作為樹脂，例如可列舉聚碳酸酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、聚醚醯亞胺、聚醚醚酮、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚縮醛、它們的合金等。而且，亦可根據需要來搭配碳纖維、碳粉、碳奈米管、導電性聚合物等導電性材料或者陰離子系、陽離子系、非離子系等的抗靜電劑等。作為金屬，並無特別限定，可考慮成形容易性或穩定性等而適當選擇理想的種類。進而，關於偏向板340的形狀，並無特別限定，可考慮裝置的結構等而適當選擇理想的形狀。

此處，例示了於止回閥體31與偏向板340之間設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332。而且，雖未圖示，但氣流控制部亦可根據需要而進一步包括其他零件。

圖9是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第三例的剖面圖。

供氣閥30c具有：第一殼體33，連接於容器本體10的底面13的安裝部17J；安裝壁335，被嵌入至該第一殼體33；以及第二殼體334，螺嵌於第一殼體33。並且，於第一殼體33的上表面，設有使置換氣體的流速方向自垂直方向變更為水平方向的偏向板340a。即，供氣閥30c為偏向板340a設於第一殼體33的上部表面的結構。並且，偏向板340a設有支持其外周部的支持部，且為其端部的一部分被封閉的形狀，因此可高精度地控制置換氣體的供給方向。

偏向板340a的形狀及大小並不限定於所述形狀，可考慮置換氣體的流速及流量、收納於基板收納容器1的基板W的收納片數、形狀及大小與基板收納容器1的結構等，而適當決定為理想的形狀及大小。

關於構成供氣閥30c的其他構件，可根據需要而適當採用理想的構件。

包括此種結構的供氣閥30c自形成於供氣閥30c下方的開口337導入置換氣體（參照箭頭F12），置換氣體通過位於供氣閥30c內部的止回閥機構，並經由空氣過濾器332而被導向偏向板340a。並且，藉由置換氣體碰撞至偏向板340a的導引部，置換氣體的供給方向沿水平方向分支，朝向底面13的水平方向（圖式的左方向及右方向）而送出（參照箭頭F13）。並且，可使置換氣體的供給方向沿容器本體10內部的水平方向擴散。藉此，可抑制置換氣體碰撞至基板W（尤其是收納於最下位的基板W），因此可有效地抑制基板浮起或基板發生振動。

再者，圖9中例示了設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332，還可根據需要而將空氣過濾器332配置於例如偏向板340a的下方。

圖10是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第四例的剖面圖。

供氣閥30d的偏向板340b的形狀不同於圖9的供氣閥30c的偏向板340a。圖10的供氣閥30d於第一殼體33的上部表面設有偏向板340b。偏向板340b未形成有支持偏向板340b的外周部的支持部，導引部的端部被解放。偏向板340b由於導引部的端部被解放，因此可容易地調節導引部相對於水平方向的角度。

包括此種結構的供氣閥30d自形成於供氣閥30d下方的開口337導入置換氣體（參照箭頭F14），置換氣體通過位於供氣閥30d內部的止回閥機構，並經由空氣過濾器332而被導向偏向板340b。並且，藉由置換氣體碰撞至偏向板340b的導引部，從而置換氣體的供給方向沿水平方向分支，朝向底面13的水平方向（圖式的左方向及右方向）而送出（參照箭頭F15）。並且，可使置換氣體的供給方向沿容器本體10內部的水平方向擴散。藉此，可抑制置換氣體碰撞至基板W（尤其是收納於最下位的基板W），因此可有效地防止基板浮起或基板發生振動。

再者，圖10中例示了設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332，還可根據需要而將空氣過濾器332配置於例如偏向板340b的下方。

圖11是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的安裝的另一例的剖面圖。

至此為止所說明的供氣閥30a、供氣閥30b、供氣閥30c、供氣閥30d均例示了在具有底面13、設於底面13下部的塊體132及底板131的容器本體10中，藉由利用第一殼體33的突起338與第二殼體334的突起339來夾持塊體132而安裝的情況，但供氣閥30a、供氣閥30b、供氣閥30c、供氣閥30d的安裝方法並不限定於此。

例如，如圖11所示，於容器本體10不包括底板131的情況下，亦可藉由第一殼體33的突起338及第二殼體334的突起339來夾持塊體133。或者，雖未圖示，但亦可利用螺絲等來固定底板131或塊體133。

底板131及塊體132的材質並無特別限定，可適當選擇理想的材料。例如，既可為樹脂製，亦可為金屬製。

再者，圖11中例示了設有空氣過濾器332的情況，但亦可未必設置空氣過濾器332，還可根據需要而將空氣過濾器332配置於例如多孔質構件331a的下方。

如以上所說明般，於包括所述供氣閥30a、供氣閥30b、供氣閥30c、供氣閥30d作為氣體供給部17的情況下，較佳為，於容器本體10的底面，設有自氣體供給部17向容器本體10的內部導入置換氣體的氣體導入部（例如安裝部17J），氣體供給部17至少包括殼體（例如第一殼體33或第二殼體334）、保存於殼體的閥座體333、以及與閥座體333接觸/分離且以防止氣體逆流的方式而運轉的止回閥體31，氣流控制部以多孔質構件331、多孔質構件331a、多孔質構件331b或偏向板340、偏向板340a、偏向板340b被配置於止回閥體31上方的方式，而連接於氣體導入部（例如安裝部17J）。再者，氣流控制部亦可與氣體供給部17一同連接於氣體導入部。而且，如上所述，多孔質構件331、多孔質構件331a、多孔質構件331b或偏向板340、偏向板340a、偏向板340b亦可被保存於殼體內。

並且，本實施形態的基板收納容器1可理想地作為被用於半導體封裝用等的FOUP等而使用。例如，於包含關聯裝置的系統及國際半導體設備與材料（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）規格中，與置換氣體的吹掃等相關的改善期望尤其多，而根據本實施形態，不僅裝置結構簡單，而且可抑制因置換氣體向容器內部的導入造成的基板W的浮起或振動引起的不良狀況，且與搬送裝置等的干涉亦得到緩和。因而可應對所述改善期望。進而，由於機械干涉少，因此可有效地活用容器本體10的內部空間，亦能增加基板W的收納片數。並且，亦可作為亦能應對300 mm晶圓向450 mm晶圓的大口徑化趨勢的技術而備受期待。

1:基板收納容器 10:容器本體 11:夾持部 12:頂部凸緣 13:底面 13s:內表面 14:（容器本體的）開口 15:密封部 16:支持部 17:氣體供給部 18:氣體排出部 17H、18H:安裝孔 17J、18J:安裝部 19:吹掃端口殼體 20:蓋體 30、30a、30b、30c、30d:供氣閥 40:排氣閥 31、41:止回閥體 32、42:彈性體 33、43:第一殼體 34、44:凸肋 35、45、336:O型環 131:底板 132、133:塊體 331、331a、331b:多孔質構件 331s:上表面 332:空氣過濾器 333:閥座體 334:第二殼體 335:安裝壁 337:開口 338、339:突起 340、340a、340b:偏向板 F1、F2、F3、F4、F5、F6、F7、F8、F9、F10、F11、F12、F13、F14、F15:箭頭 L:中心線 W:基板

圖1是本實施形態的基板收納容器的立體圖。圖2是表示本實施形態的基板收納容器的開口狀態的立體圖。圖3是本實施形態的基板收納容器的底面圖，是未安裝閥的狀態。圖4是本實施形態的基板收納容器的底面圖，是安裝有閥的狀態。圖5是用於說明本實施形態的基板收納容器的氣流控制的示意圖。圖6是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第一例的剖面圖。圖7是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第二例的剖面圖。圖8是用於說明本實施形態的基板收納容器的氣流控制的示意圖。圖9是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第三例的剖面圖。圖10是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的第四例的剖面圖。圖11是作為本實施形態的氣體供給部而使用的供氣閥的安裝的另一例的剖面圖。

13:底面

13s:內表面

19:吹掃端口殼體

31:止回閥體

331:多孔質構件

331s:上表面

332:空氣過濾器

L:中心線

F3、F4:箭頭

Claims

一種基板收納容器，可收納基板，所述基板收納容器至少包括：容器本體，收納所述基板，且形成有使所述基板出入的開口；蓋體，封閉所述容器本體的所述開口；氣體供給部，向所述容器本體的內部供給氣體；以及氣流控制部，使自所述氣體供給部供給的所述氣體的流速減少、變更自所述氣體供給部供給的所述氣體的供給方向、或者進行此兩者。
如請求項1所述的基板收納容器，其中所述氣體供給部自所述容器本體的底面朝向上方供給所述氣體，所述氣流控制部至少使所述氣體的垂直方向的流速減少。
如請求項1或請求項2所述的基板收納容器，其中所述氣流控制部包含多孔質構件，藉由自所述氣體供給部供給的所述氣體碰撞至所述多孔質構件，從而至少使所述氣體的垂直方向的流速減少。
如請求項1或請求項2所述的基板收納容器，其中所述氣流控制部使所述氣體的垂直方向的流速減少1%～60%。
如請求項1所述的基板收納容器，其中所述氣體供給部自所述容器本體的底面朝向上方供給所述氣體，所述氣流控制部使所述氣體的供給方向至少沿水平方向擴散。
如請求項5所述的基板收納容器，其中所述氣流控制部包含偏向板或多孔質構件，藉由自所述氣體供給部供給的所述氣體碰撞至所述偏向板或所述多孔質構件，從而使所述氣體的供給方向至少沿水平方向擴散。
如請求項1或請求項2所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣流控制部以下述方式連接於所述氣體導入部，即，於垂直方向上，所述氣流控制部的剖視時的垂直方向的中心線低於所述容器本體的所述底面的內表面。
如請求項1或請求項2所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣流控制部以下述方式連接於所述氣體導入部，即，於垂直方向上，所述氣流控制部的上表面低於所述容器本體的所述底面的內表面。
如請求項3所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。
如請求項4所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。
如請求項6所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。
如請求項7所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。
如請求項8所述的基板收納容器，其中於所述容器本體的底面，設有自所述氣體供給部向所述容器本體的內部導入所述氣體的氣體導入部，所述氣體供給部至少包括殼體、保存於所述殼體的閥座體以及止回閥體，所述止回閥體與所述閥座體接觸/分離，以防止所述氣體逆流的方式而運轉，所述氣流控制部以多孔質構件或偏向板配置於所述止回閥體上方的方式而連接於所述氣體導入部。