JP2001110887A - 被処理体の保管装置及び保管方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平行して立設した被処理体間にも効率良く雰
囲気ガスを供給して被処理体への汚染、吸湿、パーティ
クル付着防止効果を十分に発揮させること。 【解決手段】 保管装置は、保管装置本体１に、雰囲気
ガス供給部１ａ及び雰囲気ガス排出部１ｂを設けて構成
されている。雰囲気ガス供給部１ａは、保管装置本体１
の上面に複数個設けられており、雰囲気ガス排出部１ｂ
は、保管装置本体１の底面に複数個設けられている。ま
た、雰囲気ガス供給部１ａと雰囲気ガス排出部１ｂの位
置は、ほぼ位置合わせされている。したがって、雰囲気
ガスは、雰囲気ガス供給部１ａから保管装置本体１１内
に上方から供給された後に、鉛直方向に保管装置本体１
内を通流し、雰囲気ガス排出部１ｂから下方に排出され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなど
の被処理体の保管装置及び保管方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置製造プロセスにおいては、被
処理体、例えば半導体ウエハに処理を完了した後に、半
導体ウエハの表面に有機物などが付着して汚染されない
ように、半導体ウエハ表面への吸湿を防止するために、
又は半導体ウエハ表面へのパーティクル付着を防止する
ために、半導体ウエハをウエハストッカなどの保管装置
に保管しておく。この場合、ウエハストッカ内に窒素ガ
ス、乾燥空気、クリーンルーム置換用空気などの雰囲気
ガスを通流させている。

【０００３】従来の半導体ウエハの保管装置について図
４を用いて説明する。

【０００４】この半導体ウエハの保管装置は、略直方体
形状の保管装置本体１１に、雰囲気ガス供給部１１ａ及
び雰囲気ガス排出部１１ｂを設けて構成されている。こ
の雰囲気ガス供給部１１ａ及び雰囲気ガス排出部１１ｂ
には、それぞれ雰囲気ガスを保管装置本体１１内に供給
するための配管（図示せず）及び保管装置本体１１の内
部１２を通流した後の雰囲気ガスを外部に排出するため
の配管（図示せず）が接続されている。また、雰囲気ガ
スを保管装置本体１１内に供給するための配管は、雰囲
気ガスを収容するガスタンク（図示せず）に接続されて
いる。

【０００５】この保管装置本体１１の内部１２には、図
示しない載置台が設置されており、この載置台上には、
ウエハカセット１３が載置されている。このウエハカセ
ット１３には、複数枚の半導体ウエハＷがその主面を互
いに平行にして、かつ、所定の間隔をおいて並設されて
いる。通常、半導体ウエハＷの主面は、鉛直方向に沿っ
た状態になっている。

【０００６】雰囲気ガス供給部１１ａは、保管装置本体
１１の上部角部に設けられており、雰囲気ガス排出部１
１ｂは、保管装置本体１１の下部角部に設けられてい
る。すなわち、雰囲気ガス供給部１１ａ及び雰囲気ガス
排出部１１ｂは、保管装置本体１１の対角線上に位置す
るように設けられている。

【０００７】したがって、雰囲気ガスは、雰囲気ガス供
給部１１ａから保管装置本体１１内に供給された後に、
図４の矢印方向に沿って保管装置本体１１内を通流し、
雰囲気ガス排出部１１ｂから排出される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体ウエハの保管装置においては、図４に示すよう
に、保管装置本体１１内での雰囲気ガスの通流経路が矢
印方向となるため、雰囲気ガスが保管装置本体内部１２
で乱流を起こしたり、ウエハカセット１３内に保持され
ている半導体ウエハＷ間への気流の遮断が起こり、半導
体ウエハＷ間に効率良く供給されず、雰囲気ガスが半導
体ウエハＷ間に滞留してしまうことがある。

【０００９】このように半導体ウエハ間に雰囲気ガスが
滞留してしまうと、雰囲気ガスの置換が迅速に行われ
ず、半導体ウエハの表面への有機物汚染防止、半導体ウ
エハ表面への吸湿防止、又は半導体ウエハ表面へのパー
ティクル付着防止などの効果を十分に発揮させることが
できない。

【００１０】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、平行して立設した被処理体間にも効率良く雰囲気
ガスを供給して被処理体への汚染、吸湿、パーティクル
付着防止効果を十分に発揮させることができる被処理体
の保管装置及び保管方法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下の手段を講じた。

【００１２】本発明は、主面を有する板状体である被処
理体を収容する保管装置本体と、前記保管装置本体に設
けられ、前記保管装置本体内に雰囲気ガスを通流するた
めの雰囲気ガス供給部及び排出部と、を具備し、前記雰
囲気ガス供給部及び排出部は、前記保管装置本体内にお
いて、前記雰囲気ガスが前記被処理体の前記主面に平行
して通流するように設けられていることを特徴とする被
処理体の保管装置を提供する。

【００１３】この構成によれば、雰囲気ガスを被処理体
の主面に平行して通流させることができるので、複数枚
被処理体を平行して設置しても被処理体間に効率良く雰
囲気ガスを通流させることができ、被処理体間のガス置
換を迅速に行うことができる。その結果、確実に被処理
体表面への有機物汚染を防止することができる。

【００１４】本発明の被処理体の保管装置においては、
前記被処理体は、前記保管装置本体内において、前記主
面が鉛直方向に沿うように設置されることが好ましく、
前記被処理体は、前記保管装置本体内において、前記主
面が水平方向に対して所定の角度傾いた状態で設置され
ることが好ましい。

【００１５】また、本発明は、主面を有する板状体であ
る被処理体を保管装置本体内に設置する工程と、前記保
管装置本体内に雰囲気ガスを供給し、前記保管装置本体
内において、前記雰囲気ガスを前記被処理体の前記主面
に平行して通流させ、前記雰囲気ガスを前記保管装置本
体内から排出させる工程と、を具備することを特徴とす
る被処理体の保管方法を提供する。

【００１６】この方法によれば、雰囲気ガスを被処理体
の主面に平行して通流させることができるので、複数枚
被処理体を平行して設置しても被処理体間に効率良く雰
囲気ガスを通流させることができ、被処理体間のガス置
換を迅速に行うことができる。その結果、確実に被処理
体表面への有機物汚染を防止することができる。

【００１７】本発明の被処理体の保管方法においては、
前記保管装置本体内で、前記雰囲気ガスを鉛直方向に沿
って通流させることが好ましく、前記保管装置本体内
で、前記雰囲気ガスを水平方向に対して所定の角度傾け
て通流させることが好ましい。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明者は、被処理体の保管装置
に供給する雰囲気ガスの気流の流れ及び被処理体の保持
状態に着目し、平行して立設した被処理体間にも効率良
く雰囲気ガスを供給すること見出し本発明をするに至っ
た。

【００１９】すなわち、本発明の骨子は、保管装置本体
内に雰囲気ガスを供給し、この保管装置本体内におい
て、雰囲気ガスを被処理体の主面に平行して通流させ、
雰囲気ガスを保管装置本体内から排出させることであ
る。

【００２０】ここで、被処理体としては、半導体ウエハ
などを用いることができ、雰囲気ガスとしては、窒素ガ
ス、乾燥空気、クリーンルーム置換用空気などを用いる
ことができる。

【００２１】以下、本発明の実施の形態について、添付
図面を参照して詳細に説明する。

【００２２】（実施の形態１）図１は、本発明の実施の
形態１に係る被処理体の保管方法を説明するための図で
ある。この半導体ウエハの保管装置は、略直方体形状の
保管装置本体１に、雰囲気ガス供給部１ａ及び雰囲気ガ
ス排出部１ｂを設けて構成されている。この雰囲気ガス
供給部１ａ及び雰囲気ガス排出部１ｂには、それぞれ雰
囲気ガスを保管装置本体１内に供給するための配管（図
示せず）及び保管装置本体１の内部２を通流した後の雰
囲気ガスを外部に排出するための配管（図示せず）が接
続されている。また、雰囲気ガスを保管装置本体１内に
供給するための配管は、雰囲気ガスを収容するガスタン
ク（図示せず）に接続されている。

【００２３】この保管装置本体１の内部２には、図示し
ない載置台が設置されており、この載置台上には、ウエ
ハカセット３が載置されている。このウエハカセット３
には、複数枚の半導体ウエハＷがその主面を互いに平行
にして、かつ、所定の間隔をおいて並設されている。し
たがって、半導体ウエハＷの主面は、鉛直方向に沿った
状態になっている。

【００２４】雰囲気ガス供給部１ａは、保管装置本体１
の上面に複数個設けられており、雰囲気ガス排出部１ｂ
は、保管装置本体１の底面に複数個設けられている。ま
た、雰囲気ガス供給部１ａと雰囲気ガス排出部１ｂの位
置は、ほぼ位置合わせされている。したがって、雰囲気
ガスは、雰囲気ガス供給部１ａから保管装置本体１内に
上方から供給された後に、図１の矢印方向に沿って鉛直
方向に保管装置本体１内を通流し、雰囲気ガス排出部１
ｂから下方に排出される。

【００２５】このように主面が鉛直方向に沿って立設さ
れた半導体ウエハＷを収容した保管装置本体１内を雰囲
気ガスが鉛直方向に沿って通流することにより、半導体
ウエハＷ間に雰囲気ガスを滞留させずに効率良く半導体
ウエハＷ間に雰囲気ガスを供給することができる。この
ため、半導体ウエハＷ間においても雰囲気ガスの置換が
迅速に行われ、半導体ウエハの表面への有機物汚染防
止、半導体ウエハ表面への吸湿防止、又は半導体ウエハ
表面へのパーティクル付着防止などの効果を十分に発揮
させることができる。

【００２６】（実施の形態２）図２及び図３は、本発明
の実施の形態２に係る被処理体の保管方法を説明するた
めの図である。この半導体ウエハの保管装置は、略直方
体形状の保管装置本体１に、雰囲気ガス供給部１ａ及び
雰囲気ガス排出部１ｂを設けて構成されている。この雰
囲気ガス供給部１ａ及び雰囲気ガス排出部１ｂには、そ
れぞれ雰囲気ガスを保管装置本体１内に供給するための
配管（図示せず）及び保管装置本体１の内部２を通流し
た後の雰囲気ガスを外部に排出するための配管（図示せ
ず）が接続されている。また、雰囲気ガスを保管装置本
体１内に供給するための配管は、雰囲気ガスを収容する
ガスタンク（図示せず）に接続されている。

【００２７】この保管装置本体１の内部２には、載置台
４が設置されている。この載置台４は、水平方向に対し
て所定の角度傾いた状態で設置される。この載置台４上
には、ウエハカセット３が締結部材５により取り付けら
れている。このウエハカセット３には、複数枚の半導体
ウエハＷがその主面を互いに平行にして、かつ、所定の
間隔をおいて並設されている。したがって、半導体ウエ
ハＷの主面は、水平方向に対して所定の角度傾いた状態
になっている。

【００２８】雰囲気ガス供給部１ａは、保管装置本体１
の上部角部に設けられており、雰囲気ガス排出部１ｂ
は、保管装置本体１の下部角部に設けられている。すな
わち、雰囲気ガス供給部１ａ及び雰囲気ガス排出部１ｂ
は、保管装置本体１の対角線上に位置するように設けら
れている。なお、雰囲気ガス供給部１ａは、上記載置台
４の上方側を支持する部分の上方に位置するように設け
る。

【００２９】したがって、雰囲気ガスは、雰囲気ガス供
給部１ａから保管装置本体１内に供給された後に、図
２，図３の矢印方向に沿って鉛直方向に保管装置本体１
内を通流し、雰囲気ガス排出部１ｂから排出される。

【００３０】このように、主面を平行に立設された半導
体ウエハＷを収容した保管装置本体１内を雰囲気ガスが
その半導体ウエハＷの主面に沿って通流することによ
り、半導体ウエハＷ間に雰囲気ガスを滞留させずに効率
良く半導体ウエハＷ間に雰囲気ガスを供給することがで
きる。このため、半導体ウエハＷ間においても雰囲気ガ
スの置換が迅速に行われ、半導体ウエハの表面への有機
物汚染防止、半導体ウエハ表面への吸湿防止、又は半導
体ウエハ表面へのパーティクル付着防止などの効果を十
分に発揮させることができる。

【００３１】なお、本実施の形態において、載置台４を
傾ける角度に制限はなく、この角度は、雰囲気ガスがそ
の半導体ウエハＷの主面に沿って通流できるように適宜
設定する。

【００３２】本発明は上記実施の形態１，２に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。例えば、
上記実施の形態１，２においては、被処理体として半導
体ウエハを用いた場合について説明しているが、本発明
は、被処理体が半導体ウエハ以外のもの、例えばガラス
基板などである場合にも適用することができる。また、
上記実施の形態１，２においては、雰囲気ガスとして窒
素ガス、乾燥空気、クリーンルーム置換用空気を用いた
場合について説明しているが、本発明は、雰囲気ガスが
窒素ガス、乾燥空気、クリーンルーム置換用空気以外の
ものである場合にも適用することができる。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明の被処理体の
保管装置及び保管方法は、雰囲気ガスを被処理体の主面
に平行して通流させることができるので、複数枚被処理
体を平行して設置しても被処理体間に効率良く雰囲気ガ
スを通流させることができ、被処理体間のガス置換を迅
速に行うことができる。その結果、確実に被処理体表面
への有機物汚染を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１に係る被処理体の保管方
法を説明するための図である。

【図２】本発明の実施の形態２に係る被処理体の保管方
法を説明するための図である。

【図３】本発明の実施の形態２に係る被処理体の保管方
法を説明するための図である。

【図４】従来の被処理体の保管方法を説明するための図
である。

【符号の説明】

１…ウエハストッカ １ａ…雰囲気ガス供給部 １ｂ…雰囲気ガス排出部 ２…ストッカ内部 ３…ウエハカセット ４…載置台 ５…締結部材

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 主面を有する板状体である被処理体を保
   管する保管装置本体と、 前記保管装置本体に設けられ、前記保管装置本体内に雰
   囲気ガスを通流するための雰囲気ガス供給部及び雰囲気
   ガス排出部と、を具備し、 前記雰囲気ガス供給部及び雰囲気ガス排出部は、前記保
   管装置本体内において、前記雰囲気ガスが前記被処理体
   の前記主面に平行して通流するように設けられているこ
   とを特徴とする被処理体の保管装置。
2. 【請求項２】 前記被処理体は、前記保管装置本体内に
   おいて、前記主面が鉛直方向に沿うように設置されるこ
   とを特徴とする請求項１記載の被処理体の保管装置。
3. 【請求項３】 前記被処理体は、前記保管装置本体内に
   おいて、前記主面が水平方向に対して所定の角度に傾け
   た状態で設置されることを特徴とする請求項１記載の被
   処理体の保管装置。
4. 【請求項４】 主面を有する板状体である被処理体を保
   管装置本体内に設置する工程と、 前記保管装置本体内に雰囲気ガスを供給し、前記保管装
   置本体内において、前記雰囲気ガスを前記被処理体の前
   記主面に平行して通流させ、前記雰囲気ガスを前記保管
   装置本体内から排出させる工程と、を具備することを特
   徴とする被処理体の保管方法。
5. 【請求項５】 前記保管装置本体内において、前記雰囲
   気ガスを鉛直方向に沿って通流させることを特徴とする
   請求項４記載の被処理体の保管方法。
6. 【請求項６】 前記保管装置本体内において、前記雰囲
   気ガスを水平方向に対して所定の角度傾けて通流させる
   ことを特徴とする請求項４記載の被処理体の保管方法。