TWM528515U - 溼式製程設備 - Google Patents

Description

溼式製程設備

本創作關於一種溼式製程設備，尤指一種可於製程中減少對基板的磨耗及可對基板進行雙面製程的溼式製程設備。

一般而言，業界多採用溼式製程來對觸控面板的玻璃基板進行加工，溼式製程例如為將玻璃基板經過蝕刻製程進行圖案化的蝕刻或是經過清先製程進行表面清洗等。當玻璃基板在進行上述的溼式製程時，多利用滾輪同時對玻璃基板的板體及從板體延伸的側邊部進行固定與輸送。因此，在玻璃基板與滾輪接觸的一面，滾輪容易對玻璃基板(包含板體及從板體延伸的側邊部)磨耗，另外玻璃基板與滾輪接觸的一面也因滾輪的設置而無法有效進行溼式製程，即習知利用滾輪對玻璃基板進行固定與輸送的作法，僅可對玻璃基板進行單面製程。

因此，本創作提供一種可於製程中減少對基板的磨耗及可對基板進行雙面製程的溼式製程設備，以解決上述問題。

為了達成上述目的，本創作揭露一種溼式製程設備，可用以支撐一基板，該基板具有一板體部及一側邊部，該側邊部延伸於該板體部，該板體部具有一上表面及相對於該上表面之一下表面，該溼式製程設備包含一槽體、複數個導輪、複數個液浮載板以及一水路模組，該槽體用以容置該基板，該複數個導輪設置於該槽體內，該複數個導輪對應於該側邊部並用以支撐該基板的該側邊部，該複數個液浮載板設置於該下表面下方，該複數個液浮載板用以對該下表面噴射一處理液，以於該下表面與該複數個液浮載板間形成一薄膜層流，該薄膜層流用以液浮支撐該板體部，該水路模組耦接於該複數個液浮載板，該水路模組控制該複數個液浮載板產生能沿一輸送方向流動之該薄膜層流或產生能沿相反於該輸送方向之一回復方向流動之該薄膜層流。

根據本創作其中之一實施方式，該水路模組包含複數個第一斜行水流通道以及複數個第二斜行水流通道，該複數個第一斜行水流通道的走向斜交於該輸送方向與該回復方向，該複數個第一斜行水流通道用以將該處理液以一第一出水方向噴出，該第一出水方向與該輸送方向的內積值大於零，該複數個第二斜行水流通道的走向斜交於該輸送方向與該回復方向，該複數個第二斜行水流通道用以將該處理液以一第二出水方向噴出，該第二出水方向與該回復方向的內積值大於零。

根據本創作其中之一實施方式，該水路模組另包含一供水泵、一第一水路以及一第二水路，該供水泵用以供給該處理液，該第一水路連接該複數個第一斜行水流通道與該供水泵，該供水泵所供給的該處理液經由該第一水路進入該複數個第一斜行水流通道，該第二水路連接該複數個第二斜行水流通道與該供水泵，該供水泵所供給的該處理液經由該第二水路進入該複數個第二斜行水流通道。

根據本創作其中之一實施方式，該水路模組另包含一第一止水閥以及一第二止水閥，該第一止水閥耦接於該第一水路，該第一止水閥用以選擇性地阻止該供水泵所供給的該處理液經由該第一水路進入該複數個第一斜行水流通道，該第二止水閥耦接於該第二水路，該第二止水閥用以選擇性地阻止該供水泵所供給的該處理液經由該第二水路進入該複數個第二斜行水流通道。

根據本創作其中之一實施方式，該複數個第一斜行水流通道形成於一部分的該複數個液浮載板上，且該複數個第二斜行水流通道形成於另一部分的該複數個液浮載板上。

根據本創作其中之一實施方式，該部分的該複數個液浮載板與該另一部分的該複數個液浮載板交錯設置。

根據本創作其中之一實施方式，該複數個第一斜行水流通道與該複數個第二斜行水流通道分別形成於各液浮載板上。

根據本創作其中之一實施方式，該水路模組包含複數個第一循環水流通道以及複數個第二循環水流通道，該複數個第一循環水流通道用以選擇性地將該處理液噴出或吸入，該複數個第二循環水流通道用以選擇性地將該處理液噴出或吸入，當該複數個第一循環水流通道噴出該處理液時，該複數個第二循環水流通道吸入該複數個第一循環水流通道所噴出的該處理液，使該處理液經由該複數個第一循環水流通道與該複數個第二循環水流通道產生沿該輸送方向流動之該薄膜層流，當該複數個第二循環水流通道噴出該處理液時，該複數個第一循環水流通道吸入該複數個第二循環水流通道所噴出的該處理液，使該處理液經由該複數個第二循環水流通道與該複數個第一循環水流通道產生沿該回復方向流動之該薄膜層流。

根據本創作其中之一實施方式，該水路模組另包含一第一供水泵、一第一水路、一第二供水泵以及一第二水路，該第一供水泵用以供給該處理液或將該處理液吸入，該第一水路連接該複數個第一循環水流通道與該第一供水泵，該第一供水泵所供給的該處理液經由該第一水路進入該複數個第一循環水流通道，或該第一供水泵將該處理液經由該第一水路由該複數個第一循環水流通道吸入，該第二供水泵用以供給該處理液或將該處理液吸入，該第二水路連接該複數個第二循環水流通道與該第二供水泵，該第二供水泵所供給的該處理液經由該第二水路進入該複數個第二循環水流通道，或該第二供水泵將該處理液經由該第二水路由該複數個第二循環水流通道吸入。

綜上所述，本創作溼式製程設備的導輪僅對應基板的側邊部，而基板的板體部係利用液浮載板所產生的薄膜層流來液浮支撐，因此本創作溼式製程設備的導輪便不會接觸基板的板體部，進而減少對基板的板體部的磨耗。除此之外，本創作溼式製程設備的液浮載板所噴射的處理液可為一蝕刻液或一清洗液，亦即本創作溼式製程設備除了可利用一水刀噴頭(未繪示於圖中)對基板的板體部的上表面進行蝕刻或清洗等的溼式製程外，本創作溼式製程設備亦可利用液浮載板對基板的板體部的下表面噴射處理液，以對板體部的下表面也進行蝕刻或清洗等的溼式製程，從而使本創作溼式製程設備達到對基板進行雙面溼式製程的目的。有關本創作之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。

以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本創作。請參閱第1圖以及第2圖，第1圖為本創作第一實施例一溼式製程設備1000的俯視示意圖，第2圖為第1圖所示的溼式製程設備1000沿剖面線X-X且處於一第一液浮態樣的剖視示意圖。如第1圖以及第2圖所示，溼式製程設備1000可用以支撐一基板1，基板1具有一板體部10及一側邊部11，側邊部11延伸於板體部10，板體部10具有一上表面101及相對於上表面101之一下表面102。於此實施例中，基板1可為一觸控面板的玻璃基板，而溼式製程設備1000可用以對該玻璃基板進行一溼式製程，該溼式製程例如可為將該玻璃基板經過蝕刻製程進行圖案化的蝕刻或是經過清先製程進行表面清洗等。

另外，溼式製程設備1000包含一槽體2、複數個導輪3、複數個液浮載板4以及一水路模組5，槽體2用以容置基板1，複數個導輪3設置於槽體2內，且複數個導輪3對應於基板1的側邊部11並用以支撐側邊部11，複數個液浮載板4設置於板體部10的下表面102下方，且複數個液浮載板4用以對下表面102噴射一處理液6，以於下表面102與複數個液浮載板4間形成一薄膜層流6'，其中薄膜層流6'可用以液浮支撐基板1的板體部10，水路模組5耦接於複數個液浮載板4，水路模組5控制複數個液浮載板4產生能沿一輸送方向X1流動之薄膜層流6'或產生能沿相反於輸送方向X1之一回復方向X2流動之薄膜層流6'，其中輸送方向X1為如第1圖所示由虛線所繪示之基板1往由實線所繪示之基板1移動的方向。另外，槽體2上形成有一入口20及一出口21，使導輪3可將基板1經由入口20送入槽體2內，或使導輪3可將基板1經由出口21送出槽體2外。

綜上所述，本創作溼式製程設備1000的液浮載板4所產生的薄膜層流6'可液浮支撐基板1的板體部10，且本創作溼式製程設備1000的導輪3可支撐基板1的側邊部11，進而使基板1可穩固地於槽體2內進行溼式製程。另外，本創作溼式製程設備1000的導輪3僅對應基板1的側邊部11，而基板1的板體部10係利用液浮載板4所產生的薄膜層流6'來液浮支撐，因此本創作溼式製程設備1000便可減少對基板1的板體部10的接觸，進而減少對基板1的板體部10的磨耗。除此之外，本創作溼式製程設備1000的液浮載板4所噴射的處理液6可為一蝕刻液或一清洗液，亦即本創作溼式製程設備1000除了可利用一水刀噴頭(未繪示於圖中)對基板1的板體部10的上表面101進行蝕刻或清洗等的溼式製程外，本創作溼式製程設備1000亦可利用液浮載板4對基板1的板體部10的下表面102噴射處理液6，以對板體部10的下表面102也進行蝕刻或清洗等的溼式製程，從而使本創作溼式製程設備1000達到對基板1進行雙面溼式製程的目的。

請參閱第1圖至第3圖，第3圖為本創作第一實施例溼式製程設備1000處於一第二液浮態樣的剖視示意圖。如第1圖至第3圖所示，水路模組5包含複數個第一斜行水流通道50、複數個第二斜行水流通道51、一供水泵52、一第一水路53、一第二水路54、一第一止水閥55以及一第二止水閥56，各第一斜行水流通道50的走向斜交於輸送方向X1與回復方向X2，使第一斜行水流通道50可用以將處理液6以一第一出水方向Y1噴出，其中第一出水方向Y1與輸送方向X1的內積值大於零，即第一出水方向Y1在輸送方向X1的投影分量與輸送方向X1同向。各第二斜行水流通道51的走向斜交於輸送方向X1與回復方向X2，使第二斜行水流通道51可用以將處理液6以一第二出水方向Y2噴出，其中第二出水方向Y2與回復方向X2的內積值大於零，即第二出水方向Y2在回復方向X2的投影分量與回復方向X2同向。

另外，供水泵52用以供給處理液6，第一水路53連接第一斜行水流通道50與供水泵52，使供水泵52所供給的處理液6能經由第一水路53進入第一斜行水流通道50，第二水路54連接第二斜行水流通道51與供水泵52，使供水泵52所供給的處理液6能經由第二水路54進入第二斜行水流通道51。第一止水閥55耦接於第一水路53，且第一止水閥55可用以選擇性地阻止供水泵52所供給的處理液6經由第一水路53進入第一斜行水流通道50，第二止水閥56耦接於第二水路54，且第二止水閥56可用以選擇性地阻止供水泵52所供給的處理液6經由第二水路54進入第二斜行水流通道51。

如第2圖所示，當第一止水閥55開啟而第二止水閥56關閉時，第一止水閥55不阻止供水泵52所供給的處理液6能經由第一水路53進入第一斜行水流通道50，因此第一斜行水流通道50便可將處理液6以第一出水方向Y1噴出，而第二止水閥56阻止供水泵52所供給的處理液6經由第二水路54進入第二斜行水流通道51，因此第二斜行水流通道51便無處理液6供應。此時，由第一斜行水流通道50以第一出水方向Y1噴出的處理液6便可在板體部10的下表面102與液浮載板4間形成沿輸送方向X1流動的薄膜層流6'，使基板1能被薄膜層流6'帶動而往輸送方向X1移動。

反之，如第3圖所示，當第一止水閥55關閉而第二止水閥56開啟時，第一止水閥55阻止供水泵52所供給的處理液6能經由第一水路53進入第一斜行水流通道50，因此第一斜行水流通道50便無處理液6供應，而第二止水閥56不阻止供水泵52所供給的處理液6經由第二水路54進入第二斜行水流通道51，因此第二斜行水流通道51便可將處理液6以第二出水方向Y2噴出。此時，由第二斜行水流通道51以第二出水方向Y2噴出的處理液6便可在板體部10的下表面102與液浮載板4間形成沿回復方向X2流動的薄膜層流6'，使基板1能被薄膜層流6'帶動而往回復方向X2移動。如此一來，本創作溼式製程設備1000便於槽體2內將基板1沿輸送方向X1移動，或本創作溼式製程設備1000亦可於槽體2內將基板1沿輸送方向X1與回復方向X2作往復運動，以增加溼式製程的作用時間，端視實際需求而定。

於此實施例中，第一斜行水流通道50是形成於一部分的液浮載板4上，第二斜行水流通道51是形成於另一部分的液浮載板4上，且該部分的液浮載板4與該另一部分的液浮載板4彼此交錯，即第一斜行水流通道50與第二斜行水流通道51是形成於不同的液浮載板4上，且形成有第一斜行水流通道50的液浮載板4與形成有第二斜行水流通道51的液浮載板4彼此交錯設置。而本創作第一斜行水流通道50與第二斜行水流通道51的設置可不侷限於此實施例圖式所繪示。

舉例來說，請參閱第4圖以及第5圖，第4圖為本創作第二實施例一溼式製程設備1000'處於一第一液浮態樣的剖視示意圖，第5圖為本創作第二實施例溼式製程設備1000'處於一第二液浮態樣的剖視示意圖。如第4圖以及第5圖所示，溼式製程設備1000'與上述溼式製程設備1000的主要不同處在於，溼式製程設備1000'的第一斜行水流通道50與第二斜行水流通道51分別形成於各液浮載板4上，即溼式製程設備1000'的各液浮載板4上分別形成有第一斜行水流通道50與第二斜行水流通道51。而此實施例與上述實施例中具有相同標號之元件，其具有相同之結構設計與作用原理，為求簡潔，於此不再贅述。

請參閱第6圖以及第7圖，第6圖為本創作第三實施例一溼式製程設備1000''處於一第一液浮態樣的剖視示意圖，第7圖為本創作第三實施例溼式製程設備1000''處於一第二液浮態樣的剖視示意圖。如第6圖以及第7圖所示，溼式製程設備1000''的一水路模組5'包含複數個第一循環水流通道57、複數個第二循環水流通道58、一第一供水泵59、一第一水路5A、一第二供水泵5B以及一第二水路5C，第一循環水流通道57用以選擇性地將處理液6噴出或吸入，第二循環水流通道58用以選擇性地將處理液6噴出或吸入，第一供水泵59與第二供水泵5B用以供給處理液6或將處理液6吸入，第一水路5A連接第一循環水流通道57與第一供水泵59，使第一供水泵59所供給的處理液6能經由第一水路5A進入第一循環水流通道57，或者是第一供水泵59能將處理液6經由第一水路5A由第一循環水流通道57吸入，第二水路5C連接第二循環水流通道58與第二供水泵5B，使第二供水泵5B所供給的處理液6能經由第二水路5C進入第二循環水流通道58，或者是第二供水泵5B能將處理液6經由第二水路5C由第二循環水流通道58吸入。而此實施例與上述實施例中具有相同標號之元件，其具有相同之結構設計與作用原理，為求簡潔，於此不再贅述。

綜上所述，當第一循環水流通道57噴出處理液6時，第二循環水流通道58可用以吸入第一循環水流通道57所噴出的處理液6，使處理液6經由第一循環水流通道57與第二循環水流通道58產生沿輸送方向X1流動之薄膜層流6'，如此基板1便能被薄膜層流6'帶動而往輸送方向X1移動。另一方面，當第二循環水流通道58噴出處理液6時，第一循環水流通道57可用以吸入第二循環水流通道58所噴出的處理液6，使處理液6經由第二循環水流通道58與第一循環水流通道57產生沿回復方向X2流動之薄膜層流6'，如此基板1便能被薄膜層流6'帶動而往回復方向X2移動。

相較於先前技術，本創作溼式製程設備的導輪僅對應基板的側邊部，而基板的板體部係利用液浮載板所產生的薄膜層流來液浮支撐，因此本創作溼式製程設備的導輪便不會接觸基板的板體部，進而減少對基板的板體部的磨耗。除此之外，本創作溼式製程設備的液浮載板所噴射的處理液可為一蝕刻液或一清洗液，亦即本創作溼式製程設備除了可利用一水刀噴頭(未繪示於圖中)對基板的板體部的上表面進行蝕刻或清洗等的溼式製程外，本創作溼式製程設備亦可利用液浮載板對基板的板體部的下表面噴射處理液，以對板體部的下表面也進行蝕刻或清洗等的溼式製程，從而使本創作溼式製程設備達到對基板進行雙面溼式製程的目的。以上所述僅為本創作之較佳實施例，凡依本創作申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本創作之涵蓋範圍。

1000、1000'、1000''‧‧‧溼式製程設備
1‧‧‧基板
10‧‧‧板體部
101‧‧‧上表面
102‧‧‧下表面
11‧‧‧側邊部
2‧‧‧槽體
20‧‧‧入口
21‧‧‧出口
3‧‧‧導輪
4‧‧‧液浮載板
5、5'‧‧‧水路模組
50‧‧‧第一斜行水流通道
51‧‧‧第二斜行水流通道
52‧‧‧供水泵
53、5A‧‧‧第一水路
54、5C‧‧‧第二水路
55‧‧‧第一止水閥
56‧‧‧第二止水閥
57‧‧‧第一循環水流通道
58‧‧‧第二循環水流通道
59‧‧‧第一供水泵
5B‧‧‧第二供水泵
6‧‧‧處理液
6'‧‧‧薄膜層流
X1‧‧‧輸送方向
X2‧‧‧回復方向
Y1‧‧‧第一出水方向
Y2‧‧‧第二出水方向
X-X‧‧‧剖面線

第1圖為本創作第一實施例溼式製程設備的俯視示意圖。 第2圖為第1圖所示的溼式製程設備沿剖面線X-X且處於第一液浮態樣的剖視示意圖。 第3圖為本創作第一實施例溼式製程設備處於第二液浮態樣的剖視示意圖。 第4圖為本創作第二實施例溼式製程設備處於第一液浮態樣的剖視示意圖。 第5圖為本創作第二實施例溼式製程設備處於第二液浮態樣的剖視示意圖。 第6圖為本創作第三實施例溼式製程設備處於第一液浮態樣的剖視示意圖。 第7圖為本創作第三實施例溼式製程設備處於第二液浮態樣的剖視示意圖。

1000‧‧‧溼式製程設備

1‧‧‧基板

101‧‧‧上表面

102‧‧‧下表面

2‧‧‧槽體

20‧‧‧入口

21‧‧‧出口

3‧‧‧導輪

4‧‧‧液浮載板

5、5'‧‧‧水路模組

50‧‧‧第一斜行水流通道

51‧‧‧第二斜行水流通道

52‧‧‧供水泵

53‧‧‧第一水路

54‧‧‧第二水路

55‧‧‧第一止水閥

56‧‧‧第二止水閥

6‧‧‧處理液

6'‧‧‧薄膜層流

X1‧‧‧輸送方向

Y1‧‧‧第一出水方向

Claims (9)

1. 一種溼式製程設備，可用以支撐一基板，該基板具有一板體部及一側邊部，該側邊部延伸於該板體部，該板體部具有一上表面及相對於該上表面之一下表面，該溼式製程設備包含： 一槽體，用以容置該基板； 複數個導輪，設置於該槽體內，該複數個導輪對應於該側邊部並用以支撐該基板的該側邊部； 複數個液浮載板，設置於該下表面下方，該複數個液浮載板用以對該下表面噴射一處理液，以於該下表面與該複數個液浮載板間形成一薄膜層流，該薄膜層流用以液浮支撐該板體部；以及 一水路模組，耦接於該複數個液浮載板，該水路模組控制該複數個液浮載板產生能沿一輸送方向流動之該薄膜層流或產生能沿相反於該輸送方向之一回復方向流動之該薄膜層流。
2. 如請求項1所述之溼式製程設備，其中該水路模組包含： 複數個第一斜行水流通道，其走向斜交於該輸送方向與該回復方向，該複數個第一斜行水流通道用以將該處理液以一第一出水方向噴出，該第一出水方向與該輸送方向的內積值大於零；以及 複數個第二斜行水流通道，其走向斜交於該輸送方向與該回復方向，該複數個第二斜行水流通道用以將該處理液以一第二出水方向噴出，該第二出水方向與該回復方向的內積值大於零。
3. 如請求項2所述之溼式製程設備，其中該水路模組另包含： 一供水泵，用以供給該處理液； 一第一水路，連接該複數個第一斜行水流通道與該供水泵，該供水泵所供給的該處理液經由該第一水路進入該複數個第一斜行水流通道；以及 一第二水路，連接該複數個第二斜行水流通道與該供水泵，該供水泵所供給的該處理液經由該第二水路進入該複數個第二斜行水流通道。
4. 如請求項3所述之溼式製程設備，其中該水路模組另包含： 一第一止水閥，耦接於該第一水路，該第一止水閥用以選擇性地阻止該供水泵所供給的該處理液經由該第一水路進入該複數個第一斜行水流通道；以及 一第二止水閥，耦接於該第二水路，該第二止水閥用以選擇性地阻止該供水泵所供給的該處理液經由該第二水路進入該複數個第二斜行水流通道。
5. 如請求項2所述之溼式製程設備，其中該複數個第一斜行水流通道形成於一部分的該複數個液浮載板上，且該複數個第二斜行水流通道形成於另一部分的該複數個液浮載板上。
6. 如請求項5所述之溼式製程設備，其中該部分的該複數個液浮載板與該另一部分的該複數個液浮載板交錯設置。
7. 如請求項2所述之溼式製程設備，其中該複數個第一斜行水流通道與該複數個第二斜行水流通道分別形成於各液浮載板上。
8. 如請求項1所述之溼式製程設備，其中該水路模組包含： 複數個第一循環水流通道，用以選擇性地將該處理液噴出或吸入；以及 複數個第二循環水流通道，用以選擇性地將該處理液噴出或吸入，當該複數個第一循環水流通道噴出該處理液時，該複數個第二循環水流通道吸入該複數個第一循環水流通道所噴出的該處理液，使該處理液經由該複數個第一循環水流通道與該複數個第二循環水流通道產生沿該輸送方向流動之該薄膜層流，當該複數個第二循環水流通道噴出該處理液時，該複數個第一循環水流通道吸入該複數個第二循環水流通道所噴出的該處理液，使該處理液經由該複數個第二循環水流通道與該複數個第一循環水流通道產生沿該回復方向流動之該薄膜層流。
9. 如請求項8所述之溼式製程設備，其中該水路模組另包含： 一第一供水泵，用以供給該處理液或將該處理液吸入； 一第一水路，連接該複數個第一循環水流通道與該第一供水泵，該第一供水泵所供給的該處理液經由該第一水路進入該複數個第一循環水流通道，或該第一供水泵將該處理液經由該第一水路由該複數個第一循環水流通道吸入； 一第二供水泵，用以供給該處理液或將該處理液吸入；以及 一第二水路，連接該複數個第二循環水流通道與該第二供水泵，該第二供水泵所供給的該處理液經由該第二水路進入該複數個第二循環水流通道，或該第二供水泵將該處理液經由該第二水路由該複數個第二循環水流通道吸入。