CN210897202U - 喷雾处理装置 - Google Patents

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Abstract

一种喷雾处理装置,为了提高基板的品质,从基板的上表面通过抽吸而去除处理液体从而使处理均匀、高效率地使供给槽内的处理液体的组分均匀化。处理单元(10B)的供给槽(13)与用于从处理单元(10B)的供给槽(13)向处理单元(10A)的供给槽(13)输送处理液体的送液通路(54A)连接。送液通路(54A)中设置有送液泵(53)和喷射器(52)。送液泵(53)从处理单元(10B)侧向处理单元(10A)侧输送处理液体(5)。喷射器(52)具有文丘里管、且与处理单元(10A)的抽吸机构(50)连通。喷射器(52)的抽吸侧顶端为由处理单元(10A)的抽吸机构(50)实现的抽吸作用所需的负压。

Description

喷雾处理装置
技术领域
本发明涉及在印刷配线板、引线框架等金属板(以下将作为对象的印刷配线板、引线框架等金属板称为基板)的制造中的喷雾处理装置,特别涉及具备用于抽吸喷射在基板上的处理液体的抽吸装置、和遍及装置整体使处理液体的组分高效地实现均匀性的结构的喷雾处理装置。
背景技术
例如,在基板的制造领域中的基板的蚀刻处理中使用、在基板的表面上形成微细图案的配线部的蚀刻处理中,成为问题的是喷射在沿着水平方向搬运的基板的上表面上的处理液体难以从基板的上表面流去,处理液体大量滞留在基板的中央部,导致基板的不均匀的处理。为了应对该问题,以往的处理装置中,存在向应当处理的基板从上方同时进行喷雾操作和抽吸操作的处理装置。
作为这样的装置的例子,专利文献1中,记载了喷雾处理装置,其够成为:具备向印刷电路板的上侧表面吹附从供给容器(供给槽)供给的液体状的处理介质(处理液体)的喷嘴装置、和在喷雾操作之间抽吸向印刷电路板的上表面吹附的处理介质的抽吸装置,在设置有循环泵的循环回路中具备向循环泵供给处理介质的喷射器,喷射器的抽吸侧顶端为抽吸作用所需要的负压。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-243811号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
专利文献1的装置中,为了进行均匀的蚀刻处理,优选供给槽内的处理液体的组分和温度是均匀的,特别是在设置有多个供给槽的情况下,在供给槽间也要求处理液体的组分和温度的均匀化。为了应对所述要求,除了用于进行喷雾操作的泵和用于进行抽吸操作的泵之外,还需要用于令处理液体在供给槽内和多个供给槽间循环的泵。
本发明为了提高基板的品质而目的在于提供一种喷雾处理装置,能够从基板的上表面上通过抽吸而去除处理液体从而使处理均匀、和能够高效率地使供给槽内的处理液体的组分均匀化。
用于解决问题的手段
为了实现上述目的,本发明的第一方式是沿着基板的搬运方向串联地排布有多个处理单元的喷雾处理装置,多个处理单元包含第一处理单元和第二处理单元。第一和第二处理单元的各自具备供给槽、喷射机构和抽吸机构。供给槽储存处理液体。喷射机构配置在基板的上方,将从供给槽供给的处理液体喷射至基板的上表面。抽吸机构抽吸从喷射机构向基板的上表面上喷射的处理液体。
第二处理单元的供给槽与用于从第二处理单元的供给槽向第一处理单元的供给槽输送处理液体的送液通路连接。送液通路中设置有送液泵和喷射器。送液泵从第二处理单元侧向第一处理单元侧输送处理液体。喷射器具有文丘里管,与第一处理单元的抽吸机构连通。喷射器的抽吸侧顶端形成由第一处理单元的抽吸机构实现的抽吸作用所需的负压。送液通路的排出侧(第一处理单元侧)的端部可以连接于第一处理单元的供给槽,也可以连接于令处理液体流入第一处理单元的供给槽的路径。
本发明的第二方式是沿着基板的搬运方向串联地排布有多个处理单元的喷雾处理装置,多个处理单元包含第一处理单元和第二处理单元。第一和第二处理单元的各自具备供给槽、喷射机构和抽吸机构。供给槽储存处理液体。喷射机构配置在基板的上方,将从供给槽供给的处理液体喷射至基板的上表面。抽吸机构抽吸从喷射机构向基板的上表面上喷射的处理液体。
第一处理单元的供给槽与用于从第一处理单元的供给槽向第二处理单元的供给槽输送处理液体的送液通路连接。送液通路中设置有送液泵和喷射器。送液泵从第一处理单元侧向第二处理单元侧输送处理液体。喷射器具有文丘里管,与第一处理单元的抽吸机构连通。喷射器的抽吸侧顶端为由第一处理单元的抽吸机构实现的抽吸作用所需的负压。送液通路的排出侧(第二处理单元侧)的端部可以连接于第二处理单元的供给槽,也可以连接于向第二处理单元的供给槽供给处理液体的路径。
发明效果
根据本发明,能够从基板的上表面上通过抽吸而去除处理液体从而使处理均匀,能够高效率地使供给槽内的处理液体的组分均匀化,能够提高基板的品质。
附图说明
图1是示出本发明的第一实施方式所述的喷雾处理装置的概略结构图。
图2是示出图1的喷雾处理装置的一部分的概略结构图。
图3是示出本发明的第二实施方式所述的喷雾处理装置的概略结构图。
图4是示出其他实施方式所述的喷雾处理装置的概略结构图。
具体实施方式
图1~图4所示的喷雾处理装置2、3、4是用于对基板制造中的基板1进行喷雾处理的装置,例如可以用于基板1的蚀刻处理、显影处理和洗涤处理。
以下,针对本发明的第一实施方式,参照图1和图2来进行说明。
如图1和图2所示那样,本实施方式的喷雾处理装置2具备沿着基板1的搬运方向串联地排列的多个(本实施方式中为两个)处理单元10(10A、10B)。另外,为了区分两个处理单元10A、10B,有时将上游侧(图1中左侧)的处理单元10A称为入口侧处理单元,将下游侧(图1中右侧)的处理单元10B称为出口侧处理单元。
在各处理单元10A、10B的处理室11内,设置有后述的喷雾处理部12、供给槽13和抽吸单元(抽吸机构)50。入口侧处理单元10A的喷雾处理部12的下游端和出口侧处理单元10B的喷雾处理部12的上游端经由连接空间17而连通。分别在入口侧处理单元10A的喷雾处理部12的上游侧设置入口14,在出口侧处理单元10B的下游侧设置出口15。另外,入口侧处理单元10A的供给槽13和出口侧处理单元10B的供给槽13也可以经由槽间连接管18而连通。
在喷雾处理装置2的喷雾处理部12(遍及两个处理单元10A、10B而连续的喷雾处理部12)内,设定从一侧(图1中左侧)的入口14向另一侧(图1中右侧)的出口15水平直线状地延伸的搬运路径,在该搬运路径中设置多个搬运辊(搬运机构)16。搬运辊16将基板1保持为一个表面朝向上方且另一个表面朝向下面的近似水平状而沿着搬运路径搬运。
在喷雾处理部12内的搬运路径(基板1)的上方,设置有多个喷雾喷嘴(喷射机构)20。喷雾喷嘴20可以相对于搬运路径固定(静置),也可以令其摆动(振荡)。
在喷雾处理部12内的搬运路径的下方的底部(处理室11的底部),设置有供给槽13,在供给槽13中储存处理液体5。在蚀刻处理的情况下,储存以氯化铜、氯化铁或碱性物质作为基础的蚀刻液,该蚀刻液通过已知的方法而喷射在基板表面上,形成导体图案。在其他处理方法中,使用适于该处理方法的处理液体。
各喷雾喷嘴20与供给储存于喷雾处理部12内的处理液体5的处理液体供给管路21连接。处理液体供给管路21中设置有喷雾泵22、过滤器24和压力计23,喷雾处理部12内的处理液体5从喷雾泵22被过滤器24过滤后,以规定压力供给给各喷雾喷嘴20。向喷雾喷嘴20供给处理液体5的供给压力由压力计23测量。另外,图1、图3和图4中,省略处理液体供给管路21、喷雾泵22、压力计23和过滤器24的图示。
喷雾喷嘴20向基板1的表面喷射处理液体5。喷雾喷嘴20分别配置在搬运路径的上方和下方。上侧和下侧的喷雾喷嘴20分别将处理液体5喷射于由搬运辊16搬运的基板1的上表面和下表面。
在喷雾处理部12的搬运路径(基板1)的上方,排列设置有抽吸而去除从上侧的喷雾喷嘴20向基板1的上表面上喷射的处理液体5的多个抽吸单元(抽吸机构)50。各抽吸单元50包括以覆盖基板1的整个宽度的方式沿着与搬运路径近似垂直的方向以近似水平状延伸的抽吸管道(省略图示)、以及形成于抽吸管道的外周面(本实施方式中为下表面)且向搬运路径开口的多个狭缝状的抽吸喷嘴(省略图示),抽吸喷嘴配置在从喷雾喷嘴20喷射的处理液体5的喷射区域之间,在该配置区域中产生期望的抽吸作用。
入口侧处理单元10A的供给槽13和出口侧处理单元10B的供给槽13通过处理液体5所流通的抽吸主配管路径(送液通路)54而连接。本实施方式中,设置有彼此独立的两个系统的抽吸主配管路径54(第一抽吸主配管路径54A、第二抽吸主配管路径54B)。如后所述,第一抽吸主配管路径54A构成从出口侧处理单元10B的供给槽13向入口侧处理单元10A的供给槽13输送处理液体5的送液通路,第二抽吸主配管路径54B构成从入口侧处理单元10A的供给槽13向出口侧处理单元10B的供给槽13输送处理液体5的送液通路。即,出口侧处理单元10B的供给槽13与用于从出口侧处理单元10B的供给槽13向入口侧处理单元10A的供给槽13输送处理液体5的第一抽吸主配管路径54A连接,入口侧处理单元10A的供给槽13与用于从入口侧处理单元10A的供给槽13向出口侧处理单元10B的供给槽13输送处理液体5的第二抽吸主配管路径54B连接。
入口侧处理单元10A的抽吸单元50的各抽吸管道经由抽吸管路51而连接于在第一抽吸主配管路径54A的途中设置的喷射器52的抽吸口55。喷射器52具有一个以上的文丘里管(省略图示)。第一抽吸主配管路径54A是一端与入口侧处理单元10A的供给槽13内连通、另一端与出口侧处理单元10B的供给槽13内连通、且在途中设置有抽吸泵(送液泵)53的封闭回路。抽吸泵53吸入出口侧处理单元10B的供给槽13的处理液体5,通过喷射器52而令其为施加了压力的状态,将处理液体5向入口侧处理单元10A的供给槽13输送。在第一抽吸主配管路径54A中流通(循环)的处理液体5在通过喷射器52时,令喷射器52的抽吸口55为负压,因此在入口侧处理单元10A中喷射于基板1的上表面的处理液体5从抽吸喷嘴经过抽吸管路51而被抽吸。
出口侧处理单元10B的抽吸单元50的各抽吸管道经由抽吸管路51而连接于在第二抽吸主配管路径54B的途中设置的喷射器52的抽吸口55。喷射器52具有一个以上的文丘里管(省略图示)。第二抽吸主配管路径54B是一端与入口侧处理单元10A的供给槽13内连通、另一端与出口侧处理单元10B的供给槽13内连通、且在途中设置有抽吸泵(送液泵)53的封闭回路。抽吸泵53吸入入口侧处理单元10A的供给槽13的处理液体5,通过喷射器52而令其为施加了压力的状态,将处理液体5向出口侧处理单元10B的供给槽13输送。在第二抽吸主配管路径54B中流通(循环)的处理液体5在通过喷射器52时,令喷射器52的抽吸口55为负压,因此在出口侧处理单元10B中喷射于基板1的上表面的处理液体5从抽吸喷嘴经过抽吸管路51而被抽吸。
这样地从喷雾喷嘴20喷射的处理液体5从基板1的上表面尽快被去除,因此能够预先防止对处理液体5的喷射可能成为障碍的处理液体5的滞留的发生,能够进行面内均匀性高的蚀刻。
此外,喷雾处理装置2构成为喷雾处理模块,如果为大规模的装置则组合多个模块(处理单元10)。如果装置为大规模则需要多个供给槽13,为了使各供给槽13中储存的处理液体5的液体组分均匀,需要多个循环泵,必须增多液体循环量。
为了解决所述缺陷,本实施方式中,以将从出口侧处理单元10B的供给槽13由抽吸泵53吸入的处理液体5向入口侧处理单元10A的供给槽13排出的方式构成配管(第一抽吸主配管路径54A、抽吸泵53)。此外,由入口侧处理单元10A的喷雾处理部12的抽吸喷嘴而抽吸的处理液体5也经由喷射器52而向入口侧处理单元10A的供给槽13排出。
同样地,以将从入口侧处理单元10A的供给槽13由抽吸泵53吸入的处理液体5向出口侧处理单元10B的供给槽13排出的方式构成配管(第二抽吸主配管路径54B、抽吸泵53)。此外,由出口侧处理单元10B的喷雾处理部12的抽吸喷嘴而抽吸的处理液体5也经由喷射器52而向出口侧处理单元10B的供给槽13排出。
通过这样地在不同的供给槽13之间替换处理液体5,能够辅助液体循环,液体循环效率也提高,各供给槽13内的液体组分的均匀性提高。此外,借助用于抽吸处理液体的抽吸泵53来进行液体循环,因此能够省略用于液体循环的专用泵,能够抑制泵个数的增大。
接着,针对本发明的第二实施方式,参照图3来进行说明。
第一实施方式中,构成为将从入口侧处理单元10A的抽吸单元50吸入的处理液体5返回入口侧处理单元10A的供给槽13、将从出口侧处理单元10B的抽吸单元50吸入的处理液体5返回出口侧处理单元10B的供给槽13,但在第二实施方式中,构成为将从入口侧处理单元10A的抽吸单元50吸入的处理液体5向出口侧处理单元10B的供给槽13输送、将从出口侧处理单元10B的抽吸单元50吸入的处理液体5向入口侧处理单元10A的供给槽13输送。另外,针对与第一实施方式相同的结构,附加相同的标记而省略其说明。
如图3所示那样,本实施方式的第一抽吸主配管路径54A构成从入口侧处理单元10A的供给槽13向出口侧处理单元10B的供给槽13输送处理液体5的送液通路,第二抽吸主配管路径54B构成从出口侧处理单元10B的供给槽13向入口侧处理单元10A的供给槽13输送处理液体5的送液通路。即,入口侧处理单元10A的供给槽13与用于从入口侧处理单元10A的供给槽13向出口侧处理单元10B的供给槽13输送处理液体5的第一抽吸主配管路径54A连接,出口侧处理单元10B的供给槽13与用于从出口侧处理单元10B的供给槽13向入口侧处理单元10A的供给槽13输送处理液体5的第二抽吸主配管路径54B连接。
入口侧处理单元10A的抽吸单元50的各抽吸管道经由抽吸管路51而与设置于第一抽吸主配管路径54A的途中的喷射器52的抽吸口55连接。喷射器52具有一个以上的文丘里管(省略图示)。第一抽吸主配管路径54A是一端与入口侧处理单元10A的供给槽13内连通、另一端与出口侧处理单元10B的供给槽13内连通、且在途中设置有抽吸泵(送液泵)53的封闭回路。抽吸泵53吸入入口侧处理单元10A的供给槽13的处理液体5,通过喷射器52而令其为施加了压力的状态,将处理液体5向出口侧处理单元10B的供给槽13输送。在第一抽吸主配管路径54A中流通(循环)的处理液体5在通过喷射器52时,令喷射器52的抽吸口55为负压,因此在入口侧处理单元10A中喷射于基板1的上表面的处理液体5从抽吸喷嘴经过抽吸管路51而被抽吸。
出口侧处理单元10B的抽吸单元50的各抽吸管道经由抽吸管路51而与设置于第二抽吸主配管路径54B的途中的喷射器52的抽吸口55连接。喷射器52具有一个以上的文丘里管(省略图示)。第二抽吸主配管路径54B是一端与入口侧处理单元10A的供给槽13内连通、另一端与出口侧处理单元10B的供给槽13内连通、且在途中设置有抽吸泵(送液泵)53的封闭回路。抽吸泵53吸入出口侧处理单元10B的供给槽13的处理液体5,通过喷射器52而令其为施加了压力的状态,将处理液体5向入口侧处理单元10A的供给槽13输送。在第二抽吸主配管路径54B中流通(循环)的处理液体5在通过喷射器52时,令喷射器52的抽吸口55为负压,因此在出口侧处理单元10B中喷射于基板1的上表面的处理液体5从抽吸喷嘴经过抽吸管路51而被抽吸。
即,以将从入口侧处理单元10A的供给槽13由抽吸泵53吸入的处理液体5向出口侧处理单元10B的供给槽13排出的方式构成配管(第一抽吸主配管路径54A、抽吸泵53)。此外,由入口侧处理单元10A的喷雾处理部12的抽吸喷嘴抽吸的处理液体5也经由喷射器52而向出口侧处理单元10B的供给槽13排出。
同样地,以将从出口侧处理单元10B的供给槽13由抽吸泵53吸入的处理液体5向入口侧处理单元10A的供给槽13排出的方式构成配管(第二抽吸主配管路径54B、抽吸泵53)。此外,由出口侧处理单元10B的喷雾处理部12的抽吸喷嘴抽吸的处理液体5也经由喷射器52而向入口侧处理单元10A的供给槽13排出。
以上,针对本发明基于上述实施方式进行了说明,但本发明不限定于上述实施方式的内容,当然能够在不脱离本发明的范围内进行适当的变更。
例如,上述实施方式中,在处理室11内的搬运路径(基板1)的下方配置供给槽13,但也可以在偏离搬运路径的下方的位置(例如处理室11的外部)配置供给槽。在处理室11的外部配置供给槽的情况下,例如将搬运路径的下方空间(处理室11内的底部)和供给槽通过返回管路进行连接,将未被抽吸单元50抽吸而落下的处理液体从处理室11内的底部经由返回管路而向供给槽供给(返回)。用于从一侧的处理单元10的供给槽向另一侧的处理单元10的供给槽输送处理液体的主配管路径54的两端中,抽吸侧(一侧的处理单元10侧)的端部连接于一侧的处理单元10的供给槽。排出侧(另一侧的处理单元10侧)的端部可以连接于另一侧的处理单元10的供给槽,也可以连接于向另一侧的处理单元10的供给槽供给处理液体的路径(例如处理室11内的底部、返回管路等)。
此外,上述实施方式中,针对由两个处理单元10A、10B构成喷雾处理装置2的情况进行说明,但也可以由三个以上的处理单元10构成喷雾处理装置。图4是由4个处理单元10A、10B、10C、10D构成喷雾处理装置3、4的例子。
图4(a)的例子中,以在上游侧的两个处理单元10A、10B之间与第一实施方式同样地替换处理液体5的方式构成配管(第一抽吸主配管路径54A、第二抽吸主配管路径54B、喷射器52、抽吸泵53),以在下游侧的两个处理单元10C、10D之间替换处理液体5的方式构成配管(第三抽吸主配管路径54C、第四抽吸主配管路径54D、喷射器52、抽吸泵53)。此外,设置有用于从最上游的处理单元10A向最下游的处理单元10D输送处理液体5的循环路径56和循环泵57。
图4(b)的例子中,以从下游侧的处理单元10向在上游侧相邻的处理单元10(例如从最下游的处理单元10D向相邻的处理单元10C)依次流通处理液体5,从最上游的处理单元10A向最下游的处理单元10D流通处理液体5的方式构成配管(抽吸主配管路径54、抽吸泵53)。
附图标记说明
1:基板(处理对象物)
2、3、4:喷雾处理装置
10、10A、10B、10C、10D:处理单元
11:处理室
12:喷雾处理部
13:供给槽
16:搬运辊(搬运机构)
20:喷雾喷嘴(喷射机构)
21:处理液体供给管路
22:喷雾泵
50:抽吸单元(抽吸机构)
51:抽吸管路
52:喷射器
53:抽吸泵
54、54A、54B、54C、54D:抽吸主配管路径(送液通路)。

Claims (2)

1.一种喷雾处理装置,是沿着基板的搬运方向串联地排布有多个处理单元的喷雾处理装置,其特征在于,
前述多个处理单元包含第一处理单元和第二处理单元;
前述第一处理单元和第二处理单元的各自具备:处理室、储存处理液体的供给槽、配置在前述基板的上方且将从前述供给槽供给的处理液体向前述基板的上表面喷射的喷射机构、抽吸从前述喷射机构喷射于前述基板的上表面的处理液体的抽吸机构;
前述第二处理单元的前述供给槽与送液通路连接,所述送液通路用于从前述第二处理单元的前述供给槽向前述第一处理单元的前述供给槽输送处理液体;
在前述送液通路中设置有从前述第二处理单元侧向前述第一处理单元侧输送处理液体的送液泵、以及具有文丘里管且与前述第一处理单元的前述抽吸机构连通的喷射器;
前述喷射器的抽吸侧顶端为由前述第一处理单元的前述抽吸机构实现的抽吸作用所需的负压。
2.一种喷雾处理装置,是沿着基板的搬运方向串联地排布有多个处理单元的喷雾处理装置,其特征在于,
前述多个处理单元包含第一处理单元和第二处理单元;
前述第一处理单元和第二处理单元的各自具备:处理室、储存处理液体的供给槽、配置在前述基板的上方且将从前述供给槽供给的处理液体向前述基板的上表面喷射的喷射机构、抽吸从前述喷射机构喷射于前述基板的上表面的处理液体的抽吸机构;
前述第一处理单元的前述供给槽与送液通路连接,所述送液通路用于从前述第一处理单元的前述供给槽向前述第二处理单元的前述供给槽输送处理液体;
前述送液通路中设置有从前述第一处理单元侧向前述第二处理单元侧输送处理液体的送液泵、以及具有文丘里管且与前述第一处理单元的前述抽吸机构连通的喷射器;
前述喷射器的抽吸侧顶端为由前述第一处理单元的前述抽吸机构实现的抽吸作用所需的负压。
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