TWM503953U

TWM503953U - 非接觸式表面清潔設備及表面清潔設備的承載裝置

Info

Publication number: TWM503953U
Application number: TW104200767U
Authority: TW
Inventors: shui-quan Wang; Jun-Zhi Huang; xiu-ming Liu
Original assignee: Nano Bit Tech Co Ltd
Priority date: 2015-01-16
Filing date: 2015-01-16
Publication date: 2015-07-01
Also published as: CN204564674U

Description

非接觸式表面清潔設備及表面清潔設備的承載裝置

本創作是有關一種清潔設備，且特別是有關於一種非接觸式表面清潔設備及表面清潔設備的承載裝置。

隨著電子產品的日新月異，各式電子產品(如：手機、隨身裝置、電腦、影像顯示裝置、觸控面板、或太陽能面板)除了一般多層印刷電路基板外，更常需搭配軟性基板。所述軟性基板例如是排線或是結合電子零件的多層軟性基板，而構成上述軟性基板的軟質膠片於製程上其表面清潔甚為重要，尤其是應用於光學等級用途時，軟質膠片表面之潔淨度更為品質要求重點。

一般應用於軟質膠片表面之清潔裝置可大致區分為接觸式清潔裝置與非接觸式清潔裝置兩種。所述接觸式清潔裝置包含有乾式(如：毛刷)、濕式(如：沾濕溶劑擦拭)、預浸式(如：以溶劑浸泡)、黏貼式(如：黏貼表面)。而非接觸式清潔裝置則是以氣流式清除為主。

然而，不論是接觸式清潔裝置或是非接觸式清潔裝置，皆須透過特定的固定手段進行軟質膠片之平整固定，藉以對抗清潔裝置所使用的髒污清除手段之力道(如：毛刷之刷除力、擦拭力、或氣流之風力)。但，軟質膠片被固定時，習用的固定手段常會因此造成軟質膠片表面損傷(如：壓痕)。

於是，本創作人有感上述缺失之可改善，乃特潛心研究並配合學理之運用，終於提出一種設計合理且有效改善上述缺失之本創作。

本創作實施例在於提供一種非接觸式表面清潔設備及表面清潔設備的承載裝置，其能有效地避免膠片被平整定位時所產生的損傷。

本創作實施例提供一種非接觸式表面清潔設備，用以清除一軟質膠片表面上所沾附的至少一粒子，該非接觸式表面清潔裝置包括：一承載裝置，包含：一承載基座，其具有一多孔質檯面；一多孔質緩衝片，其固定於該多孔質檯面上，並且該多孔質緩衝片的孔隙密度大於該多孔質檯面的孔隙密度，該多孔質緩衝片用以供該軟質膠片設置於其上；及一吸氣定位模組，其設置於該承載基座，並且該吸氣定位模組位於該多孔質檯面設有該多孔質緩衝片的相反側，用以於吸氣時經由該多孔質檯面之孔隙與該多孔質緩衝片之孔隙，而將該軟質膠片平整地吸附定位於該多孔質緩衝片上；以及一清潔裝置，設置於該承載裝置，並且該清潔裝置包含：一清潔模組，其大致位於該多孔質緩衝片的上方，並且該清潔模組包含有一吹氣單元及鄰設於該吹氣單元的一集塵單元，該清潔模組用以在該軟質膠片設置於該多孔質緩衝片上時，能透過該吹氣單元之吹氣於該軟質膠片，以使該粒子脫離該軟質膠片表面，並透過該集塵單元之吸氣而使脫離該軟質膠片的粒子被吸入於其內。

本創作實施例另提供一種表面清潔設備的承載裝置，包括：一承載基座，其具有一多孔質檯面；一多孔質緩衝片，其固定於該多孔質檯面上，並且該多孔質緩衝片的孔隙密度大於該多孔質檯面的孔隙密度，該多孔質緩衝片用以供一軟質膠片設置於其上；以及一吸氣定位模組，其設置於該承載基座，並且該吸氣定位模組位於該多孔質檯面設有該多孔質緩衝片的相反側，用以於吸氣時經由該多孔質檯面之孔隙與該多孔質緩衝片之孔隙，而將該軟質膠片平整地吸附定位於該多孔質緩衝片上。

綜上所述，本創作實施例所提供的非接觸式表面清潔設備及表面清潔設備的承載裝置，其能透過設有多孔質緩衝片，以使軟質膠片定位於多孔質緩衝片上時，能有效地避免吸附面產生損傷(如：壓痕)。再者，由於所述多孔質緩衝片的孔隙密度高且分布平均，所以軟質膠片在被吸氣定位模組吸附的過程中，吸附面的各區塊能被均勻地吸附，進而使軟質膠片平整地定位於多孔質緩衝片上。

為能更進一步瞭解本創作之特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，並非用來對本創作的權利範圍作任何的限制。

100‧‧‧非接觸式表面清潔設備

1‧‧‧承載裝置

11‧‧‧承載基座

111‧‧‧多孔質檯面

12‧‧‧多孔質緩衝片(如：鐵氟龍編織布)

13‧‧‧黏合層

14‧‧‧吸氣定位模組

15‧‧‧壓條

2‧‧‧清潔裝置

21‧‧‧位移模組

22‧‧‧清潔模組

221‧‧‧吹氣單元

2211‧‧‧氣流入口

2212‧‧‧吹氣口

222‧‧‧集塵單元

2221‧‧‧氣流出口

2222‧‧‧吸氣口

223‧‧‧去靜電單元

224‧‧‧超音波單元

200‧‧‧軟質膠片

201‧‧‧待清潔面

圖1為本創作非接觸式表面清潔設備的立體示意圖。

圖2為本創作非接觸式表面清潔設備的平面示意圖。

圖3為圖2中的A區塊放大示意圖。

圖4為本創作非接觸式表面清潔設備的清潔模組示意圖。

圖5為本創作非接觸式表面清潔設備用以清潔軟質膠片之待清潔面的立體示意圖。

圖6為本創作非接觸式表面清潔設備用以清潔軟質膠片之待清潔面的平面示意圖。

請參閱圖1至圖6，其為創作的一實施例，需先說明的是，本實施例對應圖式所提及之相關數量與外型，僅用以具體地說明本創作的實施方式，以便於了解其內容，而非用以侷限本創作的權利範圍。

本實施例為一種非接觸式表面清潔設備100，尤指一種氣流式表面清潔設備100。所述非接觸式表面清潔設備100用以清除一軟質膠片200表面上所沾附的至少一粒子(圖略，例如是粉塵)。其中，所述軟質膠片200於本實施例中是指可彎折的軟質塑膠片體，但不受限於此。再者，所述軟質膠片200具有位於相反側的一吸附面(未標示，如圖5中的軟質膠片200底面)與一待清潔面201(如圖5中的軟質膠片200頂面)，並且本實施例是以粒子沾附於軟質膠片200的待清潔面201為例。

所述非接觸式表面清潔裝置2包括一承載裝置1與裝設於上述承載裝置1的一清潔裝置2，以下將先分別就上述承載裝置1與清潔裝置2的構造作一說明，而後再介紹承載裝置1與清潔裝置2間的連結關係。

請參閱圖1至圖3，所述承載裝置1包含一承載基座11、一多孔質緩衝片12、一黏合層13、及一吸氣定位模組14。其中，所述承載基座11是用以置放於地面上，並且承載基座11於其頂面處設有一多孔質檯面111，而多孔質檯面111以外的承載基座11頂面部位則可用以供清潔裝置2安裝之用。

所述多孔質緩衝片12固定於上述承載基座11的多孔質檯面111上，用以供軟質膠片200的吸附面設置於其上，而軟質膠片200的待清潔面201則面向遠離多孔質檯面111之一側。其中，上述多孔質緩衝片12完整地覆蓋於多孔質檯面111之孔隙上，並且多孔質緩衝片12的孔隙密度大於多孔質檯面111的孔隙密度。

進一步地說，所述多孔質緩衝片12所具備的孔隙需足以使氣流貫通其相反兩表面(如圖2中的多孔質緩衝片12之頂面與底面)。而本實施例中的多孔質緩衝片12是以一能避免沾附黏粒子的鐵氟龍編織布為例，且所謂編織布例如是針扎不織布或透過經緯紗編織而成，但多孔質緩衝片12的類型不受限於此。舉例來說，多孔質緩衝片12亦可是海綿或泡棉等具有多孔隙與緩衝功能之材料所製成。

再者，所述多孔質緩衝片12與多孔質檯面111之間的固定方式，於本實施例是透過黏合層13以黏合方式固定為例(如圖3)，也就是說，黏合層13位於多孔質檯面111與多孔質緩衝片12之間，以使多孔質緩衝片12被黏貼於多孔質檯面111。但於實際應用時，多孔質緩衝片12與多孔質檯面111之間的固定方式亦可以透過其他方式實施，在此不加以侷限。

所述吸氣定位模組14設置於承載基座11，並且吸氣定位模組14位於多孔質檯面111設有多孔質緩衝片12的相反側，亦即，多孔質緩衝片12位於多孔質檯面111的頂側，而吸氣定位模組14位於多孔質檯面111的底側。藉此，於所述吸氣定位模組14進行由上往下之吸氣作業時，能經由多孔質檯面111之孔隙與多孔質緩衝片12之孔隙，而將軟質膠片200的吸附面平整地吸附定位於多孔質緩衝片12上。

其中，由於所述多孔質緩衝片12相較於多孔質檯面111，其材質較軟並具緩衝性、且孔隙密度較大，因而使軟質膠片200吸附面定位於多孔質緩衝片12上時，更能避免吸附面產生損傷(如：壓痕)。再者，由於所述多孔質緩衝片12的孔隙密度高且分布平均，所以軟質膠片200在被吸氣定位模組14吸附的過程中，吸附面的各區塊能被均勻地吸附，進而使軟質膠片200平整地定位於多孔質緩衝片12上。

請參閱圖1和圖2，所述清潔裝置2包含一位移模組21與一清潔模組22，上述位移模組21設置於承載基座11之多孔質檯面111以外的部位，而清潔模組22大致呈長條狀且其裝設於位移模組21，上述清潔模組22位於多孔質緩衝片12的上方且面向多孔質緩衝片12。其中，所述位移模組21能驅使清潔模組22相對於多孔質緩衝片12移動，以使在軟質膠片200設置於多孔質緩衝片12上時，清潔模組22所能清潔的範圍完整涵蓋軟質膠片200的待清潔面201。

再者，所述位移模組21於本實施例中是以能夠驅使清潔模組22單軸移動(如圖2中之清潔模組22水平橫向移動)之機構為例，但本創作不排除所述位移模組21以能夠驅使清潔模組22多軸移動之機構實施。

更詳細地說，如圖1和圖4，所述清潔模組22包含有一吹氣單元221、鄰設於吹氣單元221的一集塵單元222。其中，上述吹氣單元221具有一氣流入口2211及鄰近多孔質緩衝片12的一吹氣口2212，所述吹氣單元221能透過一打氣單元(圖略)，使氣流自氣流入口2211進入清潔模組22而由吹氣口2212吹出。所述集塵單元222具有一氣流出口2221及鄰近多孔質緩衝片12的一吸氣口2222，所述吹氣單元221能透過一排氣單元(圖略)，使氣流自吸氣口2222吸入清潔模組22而由氣流出口2221排出。

再者，所述集塵單元222的吸氣口2222是圍繞地設置於吹氣單元221的吹氣口2212外側(如圖4中的集塵單元222設於吹氣單元221之相反兩側)，藉以使自吹氣口2212吹出之氣流能迅速地自吸氣口2222吸入清潔模組22。

進一步地，所述清潔模組22在吹氣單元221、集塵單元222旁更鄰設有一去靜電單元223或鄰設有一超音波單元224(如圖5所示)，其中去靜電單元223是對應上述吹氣單元221而設置，藉以使去靜電單元223能去靜電化吹氣單元221所吹出之氣體。其中超音波單元224則是對應集塵單元222而設置，藉以在軟質膠片200設置於多孔質緩衝片12上時，能透過超音波單元224震動軟質膠片200沾附有粒子的待清潔面201。

據此，如圖5和圖6，所述清潔模組22用以在軟質膠片200設置於多孔質緩衝片12上時，能透過吹氣單元221吹氣於軟質膠片200的待清潔面201，以使粒子脫離軟質膠片200的待清潔面201，並透過集塵單元222之吸氣而使脫離軟質膠片200的粒子被吸入於其內；同時藉由位移模組21使清潔模組22相對於軟質膠片200進行移動，藉以清潔軟質膠片200的整個待清潔面201。其中，所述清潔模組22所能清潔的範圍為吹氣單元221之吹氣處與集塵單元222之吸氣處的大致0.5~5公分之範圍內。換言之，軟質膠片200的待清潔面201相對於吹氣單元221之吹氣口2212與集塵單元222之吸氣口2222的距離，較佳為大致0.5~5公分之範圍內。

需補充說明的是，不過由於軟質膠片200是利用負壓方式定位於多孔質緩衝片12上，進而使軟質膠片200不致受損傷，但也因此，當清潔模組22之吹氣與吸氣力度較大時，在清潔模組22剛開始運作的時間點，所述軟質膠片200待清除之邊緣處可能因氣流動作而產生掀起之情事。

有鑑於此，所述承載裝置1可進一步包含有一長型的壓條15，並且壓條15能選擇性地設置於多孔質檯面111上，用以在軟質膠片200設置於多孔質緩衝片12上時，壓抵於軟質膠片200的至少一邊緣(如圖5中的軟質膠片200右邊緣)。其中，壓條15是輕抵於軟質膠片200之邊緣，並且壓條15所壓抵的軟質膠片200邊緣通常是軟質膠片200的無效邊緣。亦即，上述無效邊緣在軟質膠片200的後續應用上並不具備任何作用。藉此，透過壓條15壓抵於軟質膠片200之邊緣，以使軟質膠片200在清潔模組22剛開始運作的時間點免於被掀起，並能進一步提供軟質膠片200之定位效果。

此外，本實施例所述之承載裝置1是以應用於上述非接觸式表面清潔設備100為例，但不以此為限。舉例來說，本實施例之承載裝置1亦可是一種表面清潔設備的承載裝置1，其可運用在接觸式表面清潔設備。

[本創作實施例的可能效果]

綜上所述，本創作實施例所提供的非接觸式表面清潔設備，其能透過承載裝置設有多孔質緩衝片，以使軟質膠片定位於多孔質緩衝片上時，能有效地避免吸附面產生損傷(如：壓痕)。並且由於所述多孔質緩衝片的孔隙密度高且分布平均，所以軟質膠片在被吸氣定位模組吸附的過程中，吸附面的各區塊能被均勻地吸附，進而使軟質膠片平整地定位於多孔質緩衝片上。

再者，經由所述清潔模組可設有去靜電單元或超音波單元，藉以透過去靜電單元使吹氣單元所吹出之氣體被去靜電化，或透過超音波單元震動軟質膠片沾附有粒子的待清潔面，進而提升清潔模組對於軟質膠片的清潔效果。

另，所述承載裝置可設有壓條，藉以透過壓條壓抵於軟質膠片之邊緣，以使軟質膠片在清潔模組剛開始運作的時間點免於被掀起，並能進一步提供軟質膠片之定位效果。

以上所述僅為本創作之較佳可行實施例，其並非用以侷限本創作之專利範圍，凡依本創作申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本創作之涵蓋範圍。