TWM455561U - 臥式點／線鍍機及其中之水囊 - Google Patents

Description

臥式點/線鍍機及其中之水囊

本創作是有關於一種電鍍機具，且特別是有關於一種臥式點/線鍍機。

電鍍是電子元件加工過程中攸關品質良莠之一重要步驟，其可於電子元件表面鍍上例如是金、銀、鎳或錫等之原料薄層，以提供電子元件所需之導電或再加工性能。一般而言，如所需電鍍之元件的表面都要鍍上一層電鍍原料時，傳統上是使用所謂浸鍍之加工技術來進行，以達成元件表面電鍍加工之目的。

然，如印刷電路板、金手指、軟性基板、導線架與連接器等電子元件，為了提昇其接觸傳導性能同時並可節約原料成本，通常只需在元件的傳導接觸部位，鍍上例如是金等貴金屬原料薄層即可，此時即無法使用傳統之浸鍍加工技術來完成。

因此，一種利用包覆羊毛布或PP不織布之刷鍍桿來進行局部刷鍍，或利用點/線鍍輪來進行局部點鍍或線鍍之電鍍加工技術乃應運而生。習知雖已有多種局部電鍍之機具與電鍍技術，惟，尚無可適用於多種點/線鍍輪規格之臥式點/線鍍機，且所提供之機具仍有電鍍效能不足等多項缺失亟待改善。

有鑑於此，本創作之目的是提供一種臥式點/線鍍機，其可在相同壓力泵的壓力下，藉由增加水囊之噴壓來提高槽液交換率，進而增進機具電鍍之效能。

本創作之另一目的是提供一種臥式點/線鍍機，其可適用於多種規格之點/線鍍輪，以利於因應各種不同需求之使用。

本創作之又一目的是提供一種臥式點/線鍍機，其可方便地調整臥式點/線鍍機之基座的水平度，有利於使用者之安裝與操作。

本創作之再一目的是提供一種臥式點/線鍍機，其可有效地防止臥式點/線鍍機之點/線鍍輪的傾斜偏移，避免影響機具之電鍍效能。

為達上述及其他目的，本創作提供一種臥式點/線鍍機，包括基座、多個輪軸、水囊、點/線鍍輪、多個導料輪、皮帶輪與皮帶。

其中，基座具有分散配置之多個軸孔、中心輪軸、張力調整座與至少一入水口。多個輪軸係分別裝置於軸孔上，水囊係環繞中心輪軸地配置於基座上並連接於基座之入水口，其外圍具有間隔設置之多個噴出孔，裡面則設有位於入水口與噴出孔間之多個增壓塊。點/線鍍輪環繞水囊地樞設於中心輪軸上，並具有對應於水囊噴出孔之電鍍開孔圖樣，多個導料輪與皮帶輪分別樞設於那些輪軸上，皮帶則環繞於點/線鍍輪與皮帶輪上，並藉由基座上之張力調 整座來調節皮帶貼附於點/線鍍輪之張力。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機之水囊包括下水囊板、上水囊板與導電陽極。下水囊板係具下中心孔與至少一連接孔之圓板所構成，其環繞下中心孔設有封閉之下內環壁與具下弧形缺口之下外環壁，並沿著下弧形缺口間隔設置有多數個下增壓塊，其中，連接孔係用以連接基座之入水口，以便引入電鍍液。上水囊板用以蓋合下水囊板，其係具上中心孔之圓板所構成，並環繞上中心孔設有封閉之上內環壁與具上弧形缺口之上外環壁，沿著上弧形缺口則設置有對應於下增壓塊之多數個上增壓塊。導電陽極則裝置於上弧形缺口與下弧形缺口之位置，用以封閉上外環壁與下外環壁，其係一弧形導電板所構成，並於弧形導電板之弧形圍繞邊間隔設置有前述之噴出孔。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機之上水囊板於上外環壁與上內環壁間並設置有上導流肋，而下水囊板於下外環壁與下內環壁間則設置有錯開上導流肋之下導流肋，用以進一步增加水囊之噴壓，進而能進一步提高機具電鍍之效能。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機之下水囊板於下導流肋兩側各設置有一下減壓塊，上水囊板則對應於下減壓塊分別設置有一上減壓塊，用以避免兩側電鍍液之噴濺所造成之溢鍍。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機更包括電性連接導電陽極之下導電板，用以連接直流電源之正極，以將電力導入水囊之導電陽極。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機之基座的軸孔包括調位軸孔與固定軸孔，而前述之輪軸則分別可移位地裝置於調位軸孔或固定於固定軸孔上。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機更包括兩個平衡輪與另兩輪軸，而基座更具有用以裝置另兩輪軸之另兩調位軸孔，且兩平衡輪係貼靠點/線鍍輪地樞設於前述之另兩輪軸上，用以防止臥式點/線鍍機操作時，其點/線鍍輪因皮帶張力之壓迫而造成傾斜偏移，進而能避免影響機具之電鍍效能。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機更包括螺設於基座上之多個基座水平調整錐，用以提供使用者藉由基座上之基座水平調整錐的簡單旋轉動作，即可調整基座之水平度，十分有利於使用者之安裝與操作。

在一實施例中，此臥式點/線鍍機之點/線鍍輪包括環形輪與上蓋。環形輪具有環形配置之圍繞壁，圍繞壁上則環繞配置有例如是點或線之電鍍開孔圖樣，上蓋則密合地蓋覆於環形輪上方，用以防止電鍍液自點/線鍍輪之上方噴濺所導致之溢鍍。

本創作另提供一種臥式點/線鍍機之水囊，包括下水囊板、上水囊板與導電陽極。下水囊板係具下中心孔與至少一連接孔之圓板所構成，其環繞下中心孔設有封閉之下內環壁與具下弧形缺口之下外環壁，並沿著下弧形缺口間隔設置有多數個下增壓塊，其中，連接孔係用以連接基座之入水口，以便引入電鍍液。上水囊板用以蓋合下水囊板，其係具上中心孔之圓板所構成，並環繞上中心孔設有封閉 之上內環壁與具上弧形缺口之上外環壁，沿著上弧形缺口則設置有對應於下增壓塊之多數個上增壓塊。導電陽極則裝置於上弧形缺口與下弧形缺口之位置，用以封閉上外環壁與下外環壁，其係一弧形導電板所構成，並於弧形導電板之弧形圍繞邊間隔設置有多數個噴出孔。

在一實施例中，此水囊之上水囊板於上外環壁與上內環壁間並設置有上導流肋，而下水囊板於下外環壁與下內環壁間則設置有錯開上導流肋之下導流肋，用以進一步增加水囊之噴壓，進而能進一步提高機具電鍍之效能。

在一實施例中，此水囊之下水囊板於下導流肋兩側各設置有一下減壓塊，上水囊板則對應於下減壓塊分別設置有一上減壓塊，用以避免兩側電鍍液之噴濺所造成之溢鍍。

在一實施例中，此水囊更包括電性連接導電陽極之下導電板，用以連接直流電源之正極，以將電力導入水囊之導電陽極。

綜上所述，本創作所提供之一種臥式點/線鍍機，由於在水囊中設置有增壓塊與導流肋，而可在相同壓力泵的壓力下，藉由增加水囊之噴壓來提高槽液交換率，進而增進機具之電鍍效能。

此外，本創作所提供之一種臥式點/線鍍機，由於其基座上設有多個可移位之調位軸孔，用以裝置協同點/線鍍輪運作之多個導料輪與皮帶輪，故可因應不同尺寸之點/線鍍輪，來調整導料輪與皮帶輪之裝置位置，達成適用於多種不同規格之點/線鍍輪的功效。實施例中，可適用之點/線鍍輪的直徑係介於150mm至410mm之間。

為讓本創作之上述和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂，下文特以較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：

請參圖1至圖4所示，其係顯示根據本創作較佳實施例之一種臥式點/線鍍機的圖示。圖中，此臥式點/線鍍機10包括基座11、多個輪軸12、水囊13、點/線鍍輪15、多個導料輪16、皮帶輪17、皮帶18、平衡輪191與基座水平調整錐192。

如圖所示，基座11具有分散配置之多個調位軸孔111與固定軸孔112、中心輪軸113、張力調整座115與3個入水口116。多個輪軸12係分別可移位地裝置於調位軸孔111或固定於固定軸孔112上，調位軸孔111之寬度約略等於輪軸12之直徑，其長度及形狀則依所欲適用之各種點/線鍍輪15的規格而定，以便能夠依實際裝置之點/線鍍輪15的大小，來調整樞設於輪軸12上之部分導料輪16與皮帶輪17的位置，達成適用於多種規格之點/線鍍輪15的臥式點/線鍍機10功能。本實施例中，調位軸孔111之長度及形狀的構成，係為了適用直徑介於150mm至410mm間之點/線鍍輪15而設計。

圖中，基座11兩側翼用以裝置輪軸12之調位軸孔111，係設置於基座11兩側所鎖固之側翼板119上，以利於樞設兩側翼輪軸12之導料輪16，使得以依前後製程料 件20之進料或出料方向與位置，來調整導料輪16導入或導出料件20之位置，使此一臥式點/線鍍機10易於搭配其前後不同之製程機具設備而使用。

水囊13環繞中心輪軸113地配置於基座11上，其係藉由設置於下水囊板131之3個連接孔1315(請參圖5)，來連接基座11之3個入水口116而固定於基座11上，其外圍具有間隔設置之多個噴出孔1331，以便經壓力泵導入之電鍍液，得以自噴出孔1331噴射而出。其中為搭配基座11之3個入水口116的突出式設計，並使水囊13得以平穩地固定於基座11上，基座11之中心輪軸113的周邊，也同時配置有鎖合於下水囊板131上之兩固定柱117，用以將水囊13平穩地撐持於基座11上。

點/線鍍輪15包括環形輪151與上蓋152，環形輪151具有環形配置之圍繞壁，圍繞壁上則環繞配置有一定間隔之點狀電鍍開孔圖樣1511。上蓋152則藉由螺絲153而密合地鎖固蓋覆於環形輪151之上方，以便可以防止自水囊13之噴出孔1331噴出的電鍍液，從點/線鍍輪15之上方噴濺，造成不想要之溢鍍。

此外，點/線鍍輪15並藉由相應設計之軸承155而環繞水囊13地樞設於中心輪軸113上，其電鍍開孔圖樣1511於組裝後，乃係對應於水囊13之噴出孔1331，以利於進行料件20之點鍍。

皮帶18環繞於點/線鍍輪15與皮帶輪17上，用以將繞附於點/線鍍輪15與導料輪16之料件20，壓合而緊貼於點/線鍍輪15之電鍍開孔圖樣1511中，以便將水囊13 噴出之電鍍液限制噴灑在料件20位於電鍍開孔圖樣1511內之部分，以進行料件20之點狀局部電鍍。其中，皮帶18壓合料件20之緊密度，乃是藉由基座11上之張力調整座115調節皮帶18貼附於點/線鍍輪15之張力來達成。調節時，係操作旋轉旋鈕1151以帶動螺桿1152，進而帶動裝置有皮帶輪17之軸塊1153前後移動，以調整皮帶18之鬆緊度而成。

其中，為了能夠改善臥式點/線鍍機10操作時，其點/線鍍輪15因皮帶18張力之壓迫而造成傾斜偏移，致影響機具之電鍍效能的缺點，乃於此臥式點/線鍍機10增設兩個平衡輪191、兩輪軸12與兩調位軸孔111，增設之兩調位軸孔111係用以裝置輪軸12與樞設於其上之平衡輪191，並調整平衡輪191使貼靠於點/線鍍輪15之一側，藉以抵靠防止點/線鍍輪15之傾斜偏移。

另外，在將臥式點/線鍍機10裝置於子槽(圖中未示)中以進行操作時，通常也需調校基座11之水平度，以順暢其運轉操作。因此，為了簡化調校程序，乃於基座11上之四個角落，各螺設有一基座水平調整錐192，以提供使用者藉由基座11上之基座水平調整錐192的簡單旋轉動作，即能調整基座11之水平度，此一設計十分有利於使用者之安裝與操作。

請參圖5與6所示，此臥式點/線鍍機10之水囊13係由螺絲135依序鎖合上水囊板132、導電陽極133、下水囊板131與下導電板136所構成。其中，下導電板136係藉由螺絲135而電性連接於導電陽極133，以方便連接直流 電源之正極，進而將電力導至水囊13之導電陽極133。

圖中，下水囊板131係為具有下中心孔1319與對應基座11入水口116之3個連接孔1315的圓板所構成，其環繞下中心孔1319設有封閉之下內環壁1312與具下弧形缺口1318之下外環壁1313，並於連接孔1315與導電陽極133之噴出孔1331間位置、沿著下弧形缺口1318處間隔設置有多數個下增壓塊1311。

上水囊板132係為具有上中心孔1329之圓板所構成，並環繞上中心孔1329設有封閉之上內環壁1322與具上弧形缺口1328之上外環壁1323，並沿著上弧形缺口1328設置有對應於下增壓塊1311之多數個上增壓塊1321。導電陽極133則裝置於上弧形缺口1328與下弧形缺口1318之位置，用以封閉上外環壁1323與下外環壁1313，其係一弧形導電板所構成，並於弧形導電板之弧形圍繞邊間隔設置有噴出孔1331。

如圖所示，為了進一步增加水囊13之噴壓，進而能進一步提高機具電鍍之效能，上水囊板132於上外環壁1323與上內環壁1322間並設置有上導流肋1327，而下水囊板131於下外環壁1313與下內環壁1312間則設置有錯開上導流肋1327之下導流肋1317。此外，下水囊板131於下導流肋1317兩側各設置有一下減壓塊1316，上水囊板132則對應於下減壓塊1316分別設置有一上減壓塊1326，用以避免兩側電鍍液之噴濺所造成之溢鍍。

請參圖7所示，其為圖1之臥式點/線鍍機的水囊噴流效果示意圖。圖中顯示，當電鍍液30自水囊13之連接孔 1315導入時，將依序受到上水囊板132之上導流肋1327下壓、下水囊板131之下導流肋1317上推、以及下增壓塊1311與上增壓塊1321之擠壓後，方自其噴出孔1331噴瀉而出。因此，所噴流於點/線鍍輪15上之電鍍液水膜31的長度較長，而可提高槽液交換率，進而增進此臥式點/線鍍機10之電鍍效能。

雖然本創作已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本創作，任何熟習此技藝者，在不脫離本創作之精神和範圍內所作之各種更動與潤飾，亦屬本創作之範圍。因此，本創作之保護範 圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧臥式點/線鍍機

11‧‧‧基座

111‧‧‧調位軸孔

112‧‧‧固定軸孔

113‧‧‧中心輪軸

115‧‧‧張力調整座

1151‧‧‧旋鈕

1152‧‧‧螺桿

1153‧‧‧軸塊

116‧‧‧入水口

117‧‧‧固定柱

119‧‧‧側翼板

12‧‧‧輪軸

13‧‧‧水囊

131‧‧‧下水囊板

1311‧‧‧下增壓塊

1312‧‧‧下內環壁

1313‧‧‧下外環壁

1315‧‧‧連接孔

1316‧‧‧下減壓塊

1317‧‧‧下導流肋

1318‧‧‧下弧形缺口

1319‧‧‧下中心孔

132‧‧‧上水囊板

1321‧‧‧上增壓塊

1322‧‧‧上內環壁

1323‧‧‧上外環壁

1326‧‧‧上減壓塊

1327‧‧‧上導流肋

1328‧‧‧上弧形缺口

1329‧‧‧上中心孔

133‧‧‧導電陽極

1331‧‧‧噴出孔

135、153‧‧‧螺絲

136‧‧‧下導電板

15‧‧‧點/線鍍輪

151‧‧‧環形輪

1511‧‧‧電鍍開孔圖樣

152‧‧‧上蓋

155‧‧‧軸承

16‧‧‧導料輪

17‧‧‧皮帶輪

18‧‧‧皮帶

191‧‧‧平衡輪

192‧‧‧基座水平調整錐

20‧‧‧料件

31‧‧‧電鍍液水膜

圖1係顯示根據本創作較佳實施例之一種臥式點/線鍍機的組合立體圖。

圖2係顯示圖1之臥式點/線鍍機的上視圖。

圖3係顯示圖1之臥式點/線鍍機的分解立體圖。

圖4係顯示圖3之臥式點/線鍍機的基座上視圖。

圖5係顯示圖3之臥式點/線鍍機的水囊分解立體圖。

圖6係顯示圖5之水囊的上水囊板另一角度立體圖。

圖7係顯示圖1之臥式點/線鍍機的水囊噴流效果示意圖。

13‧‧‧水囊

131‧‧‧下水囊板

1311‧‧‧下增壓塊

1312‧‧‧下內環壁

1313‧‧‧下外環壁

1315‧‧‧連接孔

1316‧‧‧下減壓塊

1317‧‧‧下導流肋

1318‧‧‧下弧形缺口

1319‧‧‧下中心孔

132‧‧‧上水囊板

1329‧‧‧上中心孔

133‧‧‧導電陽極

1331‧‧‧噴出孔

135‧‧‧螺絲

136‧‧‧下導電板

Claims (13)

1. 一種臥式點/線鍍機，包括：一基座，具有分散配置之多個軸孔、一中心輪軸、一張力調整座與至少一入水口；多個輪軸，分別裝置於該些軸孔上；一水囊，環繞該中心輪軸地配置於該基座上並連接於該入水口，具有間隔設置之多個噴出孔及位於該入水口與該些噴出孔間之多個增壓塊；一點/線鍍輪，環繞該水囊地樞設於該中心輪軸上，並具有對應於該些噴出孔之一電鍍開孔圖樣；多個導料輪與皮帶輪，分別樞設於該些輪軸上；以及一皮帶，環繞於該點/線鍍輪與該些皮帶輪上，並藉由該張力調整座以調節該皮帶貼附該點/線鍍輪之張力。
2. 如申請專利範圍第1項所述之臥式點/線鍍機，其中該些增壓塊係由多數個下增壓塊與多數個上增壓塊所構成，該水囊包括：一下水囊板，係具一下中心孔與至少一連接孔之圓板所構成，並環繞該下中心孔設有封閉之一下內環壁與具一下弧形缺口之一下外環壁，沿著該下弧形缺口則間隔設置有該些下增壓塊，該連接孔用以連接該基座之該入水口；一上水囊板，用以蓋合該下水囊板，係具一上中心孔之圓板所構成，並環繞該上中心孔設有封閉之一上內環壁與具一上弧形缺口之一上外環壁，沿著該上弧形缺口則設置有對應於該些下增壓塊之該些上增壓塊；以及 一導電陽極，裝置於該上弧形缺口與該下弧形缺口之位置，用以封閉該上外環壁與該下外環壁，係一弧形導電板所構成，並於該弧形導電板之弧形圍繞邊間隔設置該些噴出孔。
3. 如申請專利範圍第2項所述之臥式點/線鍍機，其中該上水囊板於該上外環壁與該上內環壁間設置有一上導流肋，該下水囊板於該下外環壁與該下內環壁間則設置有錯開該上導流肋之一下導流肋。
4. 如申請專利範圍第3項所述之臥式點/線鍍機，其中該下水囊板於該下導流肋兩側各設置有一下減壓塊，該上水囊板則對應於該下減壓塊分別設置有一上減壓塊。
5. 如申請專利範圍第2項所述之臥式點/線鍍機，更包括電性連接該導電陽極之一下導電板。
6. 如申請專利範圍第1項所述之臥式點/線鍍機，其中該基座之該些軸孔包括調位軸孔與固定軸孔，而該些輪軸則分別可移位地裝置於該些調位軸孔或固定於固定軸孔上。
7. 如申請專利範圍第6項所述之臥式點/線鍍機，更包括兩個平衡輪與另兩輪軸，該基座更具有用以裝置另兩輪軸之另兩調位軸孔，而該兩平衡輪則貼靠該點/線鍍輪地樞設於該另兩輪軸上。
8. 如申請專利範圍第1項所述之臥式點/線鍍機，更包括螺設於該基座上之多個基座水平調整錐，用以調整該基座之水平。
9. 如申請專利範圍第1項所述之臥式點/線鍍機，其中 該點/線鍍輪包括：一環形輪，具有環形配置之一圍繞壁，該圍繞壁上則環繞配置有該電鍍開孔圖樣；以及一上蓋，密合地蓋覆於該環形輪上方。
10. 一種臥式點/線鍍機之水囊，包括：一下水囊板，係具一下中心孔與至少一連接孔之圓板所構成，並環繞該下中心孔設有封閉之一下內環壁與具一下弧形缺口之一下外環壁，沿著該下弧形缺口則間隔設置有多數個下增壓塊；一上水囊板，用以蓋合該下水囊板，係具一上中心孔之圓板所構成，並環繞該上中心孔設有封閉之一上內環壁與具一上弧形缺口之一上外環壁，沿著該上弧形缺口則設置有對應於該些下增壓塊之多數個上增壓塊；以及一導電陽極，裝置於該上弧形缺口與該下弧形缺口之位置，用以封閉該上外環壁與該下外環壁，係一弧形導電板所構成，並於該弧形導電板之弧形圍繞邊間隔設置多數個噴出孔。
11. 如申請專利範圍第10項所述之水囊，其中該上水囊板於該上外環壁與該上內環壁間設置有一上導流肋，該下水囊板於該下外環壁與該下內環壁間則設置有錯開該上導流肋之一下導流肋。
12. 如申請專利範圍第11項所述之水囊，其中該下水囊板於該下導流肋兩側各設置有一下減壓塊，該上水囊板則對應於該下減壓塊分別設置有一上減壓塊。
13. 如申請專利範圍第10項所述之水囊，更包括電性 連接該導電陽極之一下導電板。