TWM320275U - Heat-dissipation auxiliary board for high-speed drilling - Google Patents

Description

'M320275 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係有關-種使用在印刷電路板之鑽孔蓋板板材，尤指一種 .設有-複合材料層之高速鑽簡散熱辅助板材，其可在鑽孔加工中達 到研磨、潤滑鑽針及導熱之作用。 【先前技術】 近年來’隨著電子技術的日新月異，許多高科技產業的相繼問世， •使得更人性化’功能更佳的電子產品不斷地推陳出新，且這些電子產 品更不斷地朝向輕、薄、短、小的趨勢設計發展。各種電子產品均具 有至V主機板，其係由許多電子元件及電路板所構成，而電路板之 功能係在祕叙條連接各_子元件，使得·電子元件能夠彼 b电!·生連接*目剛最常見之電路板係為印刷電路板(p細d circuit Board: PCB) 〇 e印刷電路板能將電子零組件聯接在1，使其發揮整體功能，因 此疋所有電子資訊產品不可或缺的基本構成要件。由於印刷電路板設 …十品料料齊’不但直接鮮電子產品的可織，亦可左右系统產 •品的競爭力，耻PCB經常被稱為是「電子緒產品之母」或「3C 產業之基」。印刷f路板是以不導電材料所製成的平板，在此平板上通 书都.又。十有奴鑽孔以安裝晶片或其他電子元件。元件的孔有助於讓預 先定義在板社印製之麵路独電子方式連接域，將電子元件的 接腳牙過PCB後，再轉電性的金屬焊條獅在pcB而形成電路。 5 ，M320275 然，進行電路板鑽孔時，對於孔徑小的孔洞，相對地需採用較小 的鑽針，也因如此，斷針的發生是時而易見的。現今一般技術之印刷 電路板之鑽孔方法，係在印刷電路板上設有一紹材蓋板(參見第3圖广 —使鑽孔時，供鑽針緩衝及散熱，馳材蓋板—般係祕㈣、多孔纖 -維層以及潤滑層所組成。 此铭材蓋板在進行鑽孔時，由於該多孔纖維層為固態且不易溶 解在鑽孔過私中會產生砰屑於鑽孔中，造成斷針或造成印刷電路板 鲁鑽孔部份之内壁粗糙化。 由於該多孔纖維層在鑽頭的轉速提高以加快鑽孔速度時，無法有 效的將鑽針於高速雜下離生的熱能_，耻造賴針之使用壽 命減短。 再者’該銘材蓋板之銘箱層在鑽孔過程中由於鑽針潤滑不夠，鑽 孔時容易使金屬碎屑在高速下大量散落在印刷電路板上，若未處靴 淨’可能會造成印刷電路板在使用時電路短路，進而影響到產品信賴 胃度。 【新型内容】 本創作之主要目的係提供—種適用於印刷電路板鑽孔加工之高速 鑽孔用散熱輔助板材，其組成簡單，成本低廉。 本創作之又-目的係提供一種高速鑽孔用散熱辅助板材，其可於 鑽孔過程中同時研磨與潤滑鑽針。 本創作之再-目的係提供—種高速鑽細散熱_板材，可避免 6 M320275 鑽孔過程造成鑽孔部份之内壁粗糙或斷針情形。 本創作之再目的係提供一種高速鑽孔用散熱輔助板材，其可 效傳導鑽針之熱能。 ’ • 為達上述之目的’本創作高速鑽制散熱獅板材，包括一支韓 材、π合材料層與i滑層’其中該複合材料層係為包含奈米結構 粉，複合材料層係塗佈於該支翁上，_爾層塗佈於該複合材 料層上藉此使鑽孔加工時，鑽針可藉由上述之高速錢孔用散熱辅助 •板材達到研磨、潤滑鑽針及導熱之目的。 為便於對本創作能有更深人崎解，茲藉―實施例詳述於後： 【實施方式】 明 > 閱第1圖’圖示内容為本創作高速鑽孔用散熱輔助板材⑴之 -較佳實施例，其包含一支撐材(13)、一複合材料層(11)與一潤滑層 (12)〇 " 该複合材料層(11)係包含奈米結構粉，塗佈於該支撐材(13)上。在 ♦本創作之較佳實施例中，該奈米結構粉係為鹵化物或選自於包括二硫 -化鉬(MoS2)、二硒化鉬(M〇Se2)、二硫化鎢(Ws2)、二硒化鎢(WSe2)、 _二硫化銳(Nbs2)、二砸化銳(NbSe2)、二硫化组(TaS2)、二袖化组(TaSe2) 及二硫化鈦(TlS2)其中一種，而該鹵化物係選自於包括氟化鈽(CeF3)、 氣化録(Cdcy、氯化銘(C0C12)、氯化錯(ZrCl2)、氯化錯(pbcl2)。藉此 可將鑽孔加工所產生之熱能帶離，以減少鑽孔摩擦發熱而對印刷電路 板(2)材質產生影響並延長鑽針之使用壽命。 7 M320275 每 " 該潤滑層(12)係塗佈於前述之複合材料層(n)表面上，在本創作之 較佳實施例中，該潤滑層(12)係選自於包括脂肪醇聚合物、聚多醇脂 肪酸脂、酮與酸類之共聚合物和酮與酯類之共聚合物，並與界面活性 •劑合併使用，其中，該脂肪醇聚合物係為聚乙二醇、聚氧乙烷或聚乙 _烯醇其中一種；該聚多醇脂肪酸脂係硬脂酸、丙三醇硬脂酸酯或聚氧 乙烧其中-種；賴與酸類之躲合物贿乙烯咖各細、喻各曝 酸鈉、乙烯吡咯烷酮或乙烯醋酸酯共聚物其中一種；該酮與酯類之共 •聚合物係乙烯吼嘻細或甲基丙烯酸共聚物其中一種，而界面活性劑 可為磺基琥珀酸酯類、烷基磷酸酯塩、烷基醚硫酸塩、烷基磺酸塩、 烧基麵、烧細胺、？錄氧乙胸、聚聚氧乙湘旨等陰離子、陽離 子或非離子型其中一種者。 该支撐材(13)可為一塑料板材或一金屬箔板，本實施例以金屬箔 板作為-最佳實施方式，該支撐材⑽侧以支撐上述之複合材料層 (11)與潤滑層(12)。 鲁 因此’如第2圖所示，實施時’將前述完成之高速鑽孔用散熱輔 -助板材⑴置於印刷t路板⑵上，以進行鑽孔作業，當鑽孔裝置達到預 -定鑽孔位置時’即令鑽針⑷下降鑽孔，鑽針⑷下降後，經由本創作所 设之潤滑層(12)，故可先使該鑽針(4)潤滑並緩衝貫穿之力道，以避免 孔偏或斷針’而騎⑷持續下降時，便會經過本創作所設之複合材料 層(11) ’其中該複合材料層(11)包含奈米結構粉，因奈米結構粉的特殊 結構’具有f子尺核應、宏觀量子随道效應、表面效應、體積效應 8 M320275 等四大效應’因此更具有潤滑抗磨之特性，故可同時研磨與潤滑鑽針 ⑷’使鑽針(4)保持銳利，並適時將鑽針⑷高速轉動所產生之熱能帶離。 當鑽針再持_下降時，便會經過本創作之支撐材(13)。在本創作 之較佳實施例中，該支撐材(13)係為一金屬箱板，當鑽針貫穿該支擇 材(13)時，有效減少金屬碎屑噴濺至四周。 因此，本創作具有以下之優點： I本創作提供-種適用於印刷電路板鑽孔加工之高速鑽孔用 ►散熱辅助板材，其組成簡單，成本低廉。 2·本創作提供-種高速鑽孔用散熱輔助板材，其複合材料層 a又有奈米結構粉，使可在鑽孔過程中同時研磨與潤滑鑽針。 3·本創作提供一種高速鑽孔用散熱輔助板材，該支撐材為_ 塑料板材日守，除可以有效降低製作成本外，其不導電之特 I*生可避免4用銘材蓋板於鑽孔加工時，掉落金屬碎屑所 .產生之短路問題，若本創作之支撐材選擇金屬猪板，鑽孔 可藉由本創作之潤滑層潤滑設計，達到良好之潤滑，使得 鑽孔時，有效減少金屬碎屑喷濺至四周。 紅上，依以上所揭示之說明與圖示，本創作確可達到創作之預期 目的，提供一種咼速鑽孔用散熱辅助板材，其可在鑽孔加工中具有導 熱散熱之作用。以上係就本創作之具體實施例及所運用之技術手段之 況明’根據本文的揭露或教導可衍生推導出若干的變化與修飾，若依 本創作之技術手丨又所作之等效變化，其所產生之作用仍未超出說明書 9 M320275 及圖式所/¾盖之貫質精神時，均應視為在本創作之技術範傳内。 【圖式簡單說明】 21圖係為本創作高速鑽孔用散熱辅助板材之剖示圖。 第2圖係為本創作高速鐵孔用散熱輔助板材置^ 孔時之使用狀態剖示圖。 P刷电路板J： 第3圖係為習用鑽孔蓋板之剖示圖。 【主要元件符號說明】 複合材料層11 支撐材13 習用鑽孔蓋板3 潤滑層32 鑽針4 高速鑽孔用散熱輔助板材1 潤滑層12 印刷電路板2 多孔纖維層31 鋁箔層33

Claims (1)

1. M320275 九、申請專利範圍： 1· 一種南速鑽孔用散熱輔助板材，係用於印刷電路板上方以供鑽孔使 用’其包括： 一複合材料層’包含奈米結構粉，其中該奈米結構粉係為鹵化 物或選自於包括二硫化翻(M〇s2)、二石西化糾M〇Se2)、二硫化鎢 (WS2)、二砸化鶬(wse2)、二硫化鈮(NbS2)、二硒化鈮(NbSe2)、二硫 化鈕(TaS2)、二硒化钽(TaSeJ及二硫化鈦(TiS2)其中一種； 一支撐材，係供上述之複合材料層結合於上；以及 一潤滑層，係塗佈於上述複合材料層表面上； 藉此在印刷電路板之鑽孔加工中同時研磨、潤滑鑽針及導熱。 2·如申請範圍第1項所述之高速鑽孔用散熱輔助板材，其中該支撐材 為'一塑料。 3·如申清範圍第1項所述之高速鑽孔用散熱辅助板材，其中該支撐材 為一金屬箔板。 4·如申請範圍第1項所述之高速鑽孔用散熱辅助板材，其中該潤滑層 係送自於包括脂肪醇聚合物、聚多醇脂肪酸脂、酮與酸類之共聚合 物和酮與酯類之共聚合物，並與界面活性劑合併使用。 5·如申明範圍第4項所述之高速鑽孔用散熱辅助板材，其中該脂肪醇 聚合物係為聚乙二醇、聚氧乙烷或聚乙烯醇其中一種。 6·如申請範圍第4項所述之高速鑽孔用散熱辅助板材，其中該聚多醇 月曰肪酸脂係硬脂酸、丙三醇硬脂酸酯或聚氧乙烧其中一種。 11 M320275 7·如申清關第4彻述之高速鑽制散熱獅板材 ，其中該酮與酸 颂之/、來口物係聚乙烯吡咯烷酮、吡咯酮羧酸鈉、乙烯吡咯烷酮或 乙烯醋酸酯共聚物其中一種。 &如申—目第4項所述之高速鑽孔用散熱辅助板材 ，其中該酮與酯 類之共聚合物係乙烯吼咯烷酮或甲基丙烯酸共聚物其中一種。 9·如申^圍第4項所述之高麵孔肢熱獅板材，其巾該界面活 |±钟]可為飧基琥珀酸酯類、烷基磷酸酯塩、烷基醚硫酸塩、烷基磺 酉欠垣、烧基胺類、烷基醯胺、聚聚氧乙烯醚、聚聚氧乙烯酯等陰離 子、陽離子或非離子型其中一種者。 1〇·如申請範圍第1項所狀高速舰用散難祕材，其巾該複合材 料層係以塗佈方式結合於支撐材上。 11 ·如申請範圍第1項所述之高速鑽孔用散熱辅助板材，其中該齒化物 係選自於包括氟化飾(CeF3)、氯化鑛(cdci2)、氯化钻(c〇cl2)、氯化 錯(ZrCl2)及氯化錯(pbQj。 12