TWI906339B - 表面處理液及表面處理方法 - Google Patents

表面處理液及表面處理方法

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Abstract

本發明提供一種產生對表面處理對象物之被處理物的表面處理效果之成分的密接性良好，而容易獲得期望之表面處理效果之表面處理液，與使用該表面處理液之表面處理方法。 本發明使用一種表面處理液，其包含樹脂(A)與溶媒(S)，樹脂(A)係包含構成單元(a1)與構成單元(a2)，構成單元(a1)係衍生自具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵之化合物；構成單元(a2)係衍生自具有含氮雜環基、乙烯性不飽和雙鍵與特定種類之極性基之化合物。

Description

表面處理液及表面處理方法
本發明係有關於一種表面處理液與使用該表面處理液之表面處理方法。
傳統上，為了將各種物品的表面性質改質，而使用各類的表面處理液來進行表面處理。表面改質之中，對於物品表面之親水性調整的要求極高，已有人提出多種親水化用或疏水化用之藥劑或表面處理液。透過使用親水化用或疏水化用之藥劑或表面處理液將對象物進行表面處理，於對象物的表面的形成被膜，而使對象物的表面親水化或疏水化。
作為所述藥劑或表面處理液，例如有人提出包含至少含有丙烯醯胺單體與單(甲基)丙烯酸酯單體之單體的共聚物作為供展現親水性之成分的表面處理劑(專利文獻1)，或包含含有具巰基之聚乙烯醇樹脂嵌段與聚陰離子樹脂嵌段之嵌段共聚物及聚丙烯酸的表面處理劑(專利文獻2)。專利文獻2中的聚陰離子樹脂嵌段係1分子中具有至少1個羧基及/或磺酸基之聚合性單體聚合而成的嵌段。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第5437523號公報 [專利文獻2]日本特開2009-126948號公報
[發明所欲解決之課題]
然而，專利文獻1或專利文獻2等記載之習知表面處理劑所含之樹脂其對被處理物的表面的密接性未必充分。其結果，專利文獻1或專利文獻2等所記載之習知表面處理劑有不易獲得期望之表面處理效果，或因樹脂由被處理物的表面剝離而容易損及表面處理效果的問題。
本發明係有鑑於上述課題而完成者，茲以提供一種產生對表面處理對象物之被處理物的表面處理效果之成分的密接性良好，而容易獲得期望之表面處理效果之表面處理液，與使用該表面處理液之表面處理方法為目的。 [解決課題之手段]
本案發明人等發現，藉由下述表面處理液，可解決上述課題，而臻至完成本發明；該表面處理液包含樹脂(A)與溶媒(S)，樹脂(A)係包含構成單元(a1)與構成單元(a2)，構成單元(a1)係衍生自具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵之化合物；構成單元(a2)係衍生自具有含氮雜環基、乙烯性不飽和雙鍵與特定種類之極性基之化合物。更詳而言之，本發明係提供以下者。
本發明第1樣態為一種表面處理液，其包含樹脂(A)與溶媒(S)， 樹脂(A)係包含衍生自具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵之化合物之構成單元(a1)，與衍生自下述式(a-2)表示之化合物之構成單元(a2)； (式(a-2)中，R A1為具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基，R A2為單鍵或碳原子數1以上10以下之伸烷基，R A3為氫原子或選自胺基、羧基、巰基、羥基及氰基之極性基，n為1或2，X為n+1價含氮雜環基，當n為1時，R A3為前述極性基；當n為2時，其中至少一R A3為前述極性基)。
本發明第2樣態為一種對被處理物的表面之表面處理方法，其包含塗佈如第1樣態之表面處理液，而於被處理物的表面形成被膜。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種產生對表面處理對象物的表面處理效果之成分的密接性良好，而容易獲得期望之表面處理效果之表面處理液，與使用該表面處理液之表面處理方法。
[實施發明之形態] ≪表面處理液≫
表面處理液係包含樹脂(A)與溶媒(S)。所述表面處理液可調整表面處理之對象物之被處理物的表面的親水性。 以下就表面處理液，說明任意成分、必需成分等。
＜樹脂(A)＞ 以藉由表面處理來調整被處理物表面的親水性為目的，樹脂(A)係包含衍生自具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵之化合物之構成單元(a1)。 此外，樹脂(A)顯示絕對的親水性性質。然而，根據樹脂(A)的親水性與被處理物表面的親水性的相對關係，有時表面處理後之被處理物表面的親水性會低於表面處理前之被處理物表面的親水性。 以使樹脂(A)良好地密接於被處理物的表面為目的，樹脂(A)係包含衍生自下述式(a-2)表示之化合物的構成單元(a2)。 在不妨害本發明目的之範圍，樹脂(A)亦可包含構成單元(a1)及構成單元(a2)以外的其他構成單元(a3)。 (式(a-2)中，R A1為具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基，R A2為單鍵或碳原子數1以上10以下之伸烷基，R A3為氫原子或選自胺基、羧基、巰基、羥基及氰基之極性基，n為1或2，X為n+1價含氮雜環基，當n為2時，其中至少一R A3為前述極性基)。
此外，胺基、羧基及羥基係屬親水性基。因此，當構成單元(a2)為屬衍生自式(a-2)表示之化合物，且具有作為R A1之具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基與作為R A3之胺基、羧基、巰基或羥基的化合物之基時，構成單元(a2)亦可稱為構成單元(a1)。 此時，對於屬式(a-2)表示之化合物，且具有作為R A1之具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基與作為R A3之胺基、羧基、巰基或羥基的化合物的1種均聚物或前述化合物的2種以上之共聚物，方便上係定為包含構成單元(a1)與構成單元(a2)的樹脂(A)。 由容易獲得使用上述表面處理液所產生之期望效果而言，就樹脂(A)，作為彼此不同的構成單元，較佳包含構成單元(a1)及構成單元(a2)。更具體而言，樹脂(A)較佳包含非屬構成單元(a2)之構成單元(a1)與構成單元(a2)。
[構成單元(a1)] 構成單元(a1)為衍生自具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵之化合物的構成單元。
親水性基只要是向來由本業者認知為親水性基的官能基則不特別限定，可由其中適宜選出。 親水性基的具體例可舉出聚氧伸烷基(例如聚氧伸乙基、聚氧伸丙基、氧伸乙基與氧伸丙基經嵌段或隨機鍵結而成之聚氧伸烷基等)、羧基、一級胺基、二級胺基、羥基、膦酸基、次膦酸基及磺酸基等。又，包含此等基之有機基亦較佳作為親水性基。
由親水化效果優良而言，親水性基較佳為下述式(ai)： (式(ai)中，R 1為經選自胺基、磺酸基、膦酸基及羥基所成群組的1個以上之基所取代之碳原子數1以上4以下的烷基或氫原子) 表示之基。 對於R 1，胺基係屬陽離子性基，磺酸基及膦酸基則屬陰離子性基。羥基當中，酚性羥基係屬陰離子性基。
式(ai)表示之親水性基的具體例可舉出胺基與下述式表示之基：
上述式(ai)表示之親水性基的具體例中，更佳之基可舉出以下之基：
上述式(ai)表示之親水性基的具體例中，特佳之基可舉出以下之基：
諸如前述，提供構成單元(a1)之化合物係具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵。因此，提供構成單元(a1)之化合物係具有具乙烯性不飽和雙鍵之基。具乙烯性不飽和雙鍵之基可舉出乙烯基、1-丙烯基、2-n-丙烯基(烯丙基)、1-n-丁烯基、2-n-丁烯基、3-n-丁烯基等烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、丙烯醯胺基及甲基丙烯醯胺基。
由聚合性、合成或取得容易性等而言，提供構成單元(a1)之化合物較佳為下述式(a1-a)表示之(甲基)丙烯醯胺化合物。 (式(a1-a)中，R 1為經選自胺基、磺酸基、膦酸基及羥基所成群組的1個以上之基所取代之碳原子數1以上4以下的烷基或氫原子，R 2為氫原子或甲基)。
式(a1-a)中，R 1係如前述。
衍生自式(a1-a)表示之單體之構成單元(a1)的較佳具體例可舉出下述a1-a-1~a1-a-5之單元。下述單元中，更佳為a1-a-1~a1-a-4之單元。
又，樹脂(A)較佳包含衍生自具有陽離子性基、陰離子性基與具乙烯性不飽和雙鍵之基的甜菜鹼單體之構成單元作為構成單元(a1)。陽離子性基及陰離子性基均發揮作為親水性基之作用。 經表面處理之被處理物的表面常會接觸到富含具疏水性基之陰離子或具疏水性基之陽離子的洗淨液。表面處理液中之樹脂僅具有羧基、羧酸鹽基、磺酸基及磺酸鹽基等陰離子性基作為親水性基時，此等親水性基會與具疏水性基之陽離子產生交互作用，而無法發揮作為親水性基之作用。又，表面處理液中之樹脂(A)僅具有如四級銨基之陽離子性基作為親水性基時，陽離子性基會與具疏水性基之陰離子產生交互作用，而無法發揮作為親水性基之作用。 然而，樹脂(A)若具有陽離子性基及陰離子性基此兩者作為親水性基，即使經表面處理之被處理物的表面與富含具疏水性基之陽離子的洗淨劑接觸，或與富含具疏水性基之陰離子的洗淨劑接觸，陽離子性基及陰離子性基之任一者仍可維持作為親水性基之作用，而不易使被處理物表面的親水性降低。
提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體中的陽離子性基數與陰離子性基數不特別限定。 提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體中，陽離子性基數與陰離子性基數較佳相同。 由容易合成或取得提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體而言，提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體中的陽離子性基數與陰離子性基數宜分別為1。
提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體中，例如具乙烯性不飽和雙鍵之基、陽離子性基與陰離子性基較佳視需求經由連結基依序鍵結。
陽離子性基較佳為四級氮陽離子之陽離子性基。 陰離子性基較佳為磺酸陰離子基、膦酸陰離子基或羧酸陰離子基。
提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體中之具乙烯性不飽和雙鍵之基可舉出乙烯基、1-丙烯基、2-n-丙烯基(烯丙基)、1-n-丁烯基、2-n-丁烯基及3-n-丁烯基等烯基。此等基中，較佳為乙烯基及2-n-丙烯基(烯丙基)。 提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體中的乙烯性不飽和雙鍵數不特別限定，較佳為1個或2個。
提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體較佳為例如下述式(a1-i)或式(a1-ii)表示之化合物。下述式(a1-i)或式(a1-ii)表示之甜菜鹼單體係包含含N +之陽離子性基與R之陰離子性基。陽離子性基及陰離子性基均發揮作為親水性基之作用。 (式(a1-i)中， R a1為包含乙烯性不飽和雙鍵之烴基， R a2為碳原子數1以上10以下之二價烴基， R為陰離子性基， 環A為雜環)。 (式(a1-ii)中，R a3、R a4及R a5分別獨立為具乙烯性不飽和雙鍵之烴基或碳原子數1以上10以下之烴基， R a3、R a4及R a5中的至少1個為具乙烯性不飽和雙鍵之烴基， R a6為碳原子數1以上10以下之二價烴基， R為陰離子性基)。
式(a1-i)中，作為R a1之包含乙烯性不飽和雙鍵的烴基可舉出乙烯基、1-丙烯基、2-n-丙烯基(烯丙基)、1-n-丁烯基、2-n-丁烯基、3-n-丁烯基等烯基。
式(a1-i)中，作為R a2之二價烴基可舉出伸烷基、伸芳基及伸烷基與伸芳基組合而成之基，較佳為伸烷基。 作為R a2之伸烷基的合宜具體例可舉出亞甲基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基及癸烷-1,10-二基。
式(a1-i)中，作為環A之雜環可為芳香族雜環或脂肪族雜環。 芳香族雜環可舉出咪唑環、吡唑環、1,2,3-三唑環、1,2,4-三唑環、吡啶環、嘧啶環、噠嗪環及吡嗪環等含氮芳香族雜環中，該含氮芳香族雜環中的任意1個氮原子經四級化之環。 脂肪族雜環可舉出吡咯烷環、哌啶環及哌嗪環等含氮雜環中，該含氮雜環中的任意1個氮原子經四級化之環。
式(a1-ii)中，作為R a3~R a5之包含乙烯性不飽和雙鍵的烴基可舉出乙烯基、1-丙烯基、2-n-丙烯基(烯丙基)、1-n-丁烯基、2-n-丁烯基、3-n-丁烯基等烯基。
式(a1-ii)中，作為R a3~R a5之烴基可舉出烷基、芳基及芳烷基等，較佳為烷基。 作為R a3~R a5之烴基亦可具有取代基。作為R a3~R a5之烴基可具有之取代基，在不妨害本發明目的之範圍不特別限定。該取代基之實例可舉出鹵素原子、羥基、碳原子數1以上4以下之烷氧基、碳原子數2以上4以下之醯基、碳原子數2以上4以下之醯氧基、胺基及經1個或2個碳原子數1以上4以下之烷基取代的烷胺基等。 作為R a3~R a5之烷基的合宜具體例可舉出甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、n-戊基、n-己基、n-庚基、n-辛基、2-乙基己基、n-壬基及n-癸基。
式(a1-ii)中，作為R a6之二價烴基可舉出伸烷基、伸芳基及伸烷基與伸芳基組合而成之基，較佳為伸烷基。 作為R a6之伸烷基的合宜具體例可舉出亞甲基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基及癸烷-1,10-二基。
作為陰離子性基為磺酸陰離子基的甜菜鹼單體，由容易合成或取得而言，較佳為下述式(a1-iii)或式(a1-iv)表示之單體。 (式(a1-iii)中，R a1、R a2及環A係與式(a1-i)中的R a1、R a2及環A相同)。 (式(a1-iv)中，R a3、R a4、R a5及R a6係與式(a1-ii)中的R a3、R a4、R a5及R a6相同)。
上述式(a1-iii)或式(a1-iv)表示之單體可舉出下述式(a1-v)、(a1-vi)或(a1-vii)表示之單體。 (式(a1-v)、(a1-vi)及(a1-vii)中，R a2係與式(a1-iii)中的R a2相同，R a5及R a6係與式(a1-iv)中的R a5及R a6相同，R a11及R a12分別獨立氫原子或甲基，R a13及R a14分別獨立為單鍵或碳原子數1以上4以下之伸烷基)。
式(a1-v)、(a1-vi)及(a1-vii)中，作為R a13及R a14之碳原子數1以上4以下之伸烷基可舉出伸甲基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基及丁烷-1,4-二基。
陰離子性基為膦酸陰離子基或羧酸陰離子基的甜菜鹼單體可舉出上述式(a1-iii)或式(a1-iv)表示之單體，或上述式(a1-v)、(a1-vi)或(a1-vii)表示之單體中的磺酸陰離子基(-SO 3 -)經膦酸陰離子基(-(PO 3) 2-)或羧酸陰離子基(-COO -)取代之單體。
式(a1-i)或式(a1-ii)表示之甜菜鹼單體的具體例可舉出下述式化合物，或下述式化合物中的磺酸陰離子基(-SO 3 -)經膦酸陰離子基(-(PO 3) 2-)或羧酸陰離子基(-COO -)取代之單體。
式(a1-i)或式(a1-ii)表示之甜菜鹼單體可藉由週知反應來合成。例如可藉由使具有陰離子性基的化合物與具有具乙烯性不飽和雙鍵之基與屬陽離子性基之基的化合物反應而得。作為具體例，例如式(a1-iii)表示之化合物可藉由使下述化合物與磺內酯於溶媒中反應而得。磺內酯可舉出4員環以上10員環以下之磺內酯，較佳為1,3-丙烷磺內酯及1,4-丁烷磺內酯。 (式中，R a1係與上述(a1-i)中的R a1相同，環A為雜環)。
又，下述式(a1-viii)表示之化合物亦較佳作為提供構成單元(a1)之甜菜鹼單體。下述式(a1-viii)表示之甜菜鹼單體係包含含N +之陽離子性基與作為R a20之陰離子性基。陽離子性基及陰離子性基均發揮作為親水性基之作用。 (式(a1-viii)中，R a15為氫原子或甲基，R a16及R a19分別獨立為碳原子數1以上10以下之二價烴基，R a17及R a18分別獨立為可具有取代基之碳原子數1以上10以下之烴基，R a20為磺酸陰離子基(-SO 3 -)、膦酸陰離子基(-(PO 3) 2-)或羧酸陰離子基(-COO -))。
式(a1-viii)中，作為R a16及R a19之二價烴基可舉出伸烷基、伸芳基及伸烷基與伸芳基組合而成之基，較佳為伸烷基。 作為R a16及R a19之伸烷基的合宜具體例可舉出亞甲基、乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基及癸烷-1,10-二基。
式(a1-viii)中，作為R a17及R a18之烴基可舉出烷基、芳基及芳烷基等，較佳為烷基。 作為R a17及R a18之烴基亦可具有取代基。作為R a17及R a18之烴基可具有之取代基，在不妨害本發明目的之範圍不特別限定。該取代基之實例可舉出鹵素原子、羥基、碳原子數1以上4以下之烷氧基、碳原子數2以上4以下之醯基、碳原子數2以上4以下之醯氧基、胺基及經1個或2個碳原子數1以上4以下之烷基取代的烷胺基等。 作為R a17及R a18之烷基的合宜具體例可舉出甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、n-戊基、n-己基、n-庚基、n-辛基、2-乙基己基、n-壬基及n-癸基。
式(a1-viii)中，R a20為磺酸陰離子基(-SO 3 -)、膦酸陰離子基(-PO 3 2-)或羧酸陰離子基(-COO -)，較佳為磺酸陰離子基(-SO 3 -)。
式(a1-viii)表示之N取代(甲基)丙烯醯胺的合宜實例可舉出下述式之化合物。下述式中，R a15為氫原子或甲基。
構成單元(a1)亦可為衍生自具有陰離子性基、可陰離子化之官能基、陽離子性基或可陽離子化之官能基的非甜菜鹼單體的構成單元。樹脂(A)中之此等官能基可對被處理物賦予親水性。
衍生自陽離子性基之陽離子較佳為包含例如N +、C +、B +及P +等之陽離子，更佳為包含N +之陽離子。 作為陽離子性基，由樹脂(A)的取得容易性或容易獲得良好的表面處理效果而言，較佳為環式或非環式之胺基或四級銨鹽基。
具有上述陽離子性基或可經陽離子化之官能基的非甜菜鹼單體較佳為例如下述式(a1-ix)表示之化合物。 (式(a1-ix)中，R a21為氫原子或甲基，R a22為-Y-R a23-R a24表示之基或胺基，Y為-O-或-NH-，R a23為可具有取代基之二價有機基，R a24為可經碳原子數1以上6以下之烴基取代之胺基或-N +R a25R a26R a27・Z -表示之四級銨鹽基，R a25、R a26及R a27分別獨立為氫原子或碳原子數1以上6以下之烴基，Z -為對陰離子，p為0或1)。
上述式(a1-ix)中，當R a22為-Y-R a23-R a24表示之基時，R a23為可具有取代基之二價有機基。二價有機基不特別限定，較佳為二價烴基。二價烴基的碳原子數，在不妨害本發明目的之範圍不特別限定。由容易取得或調製樹脂(A)而言，當R a23為二價烴基時，二價烴基的碳原子數較佳為1以上20以下，更佳為1以上12以下，特佳為1以上10以下，最佳為1以上6以下。
作為R a23之二價烴基可為脂肪族基、芳香族基或包含脂肪族部分與芳香族部分之烴基。當二價烴基為脂肪族基時，該脂肪族基可為飽和脂肪族基或不飽和脂肪族基。又，該脂肪族基之結構可為直鏈狀、支鏈狀、環狀或此等結構之組合。
R a23的合宜具體例可舉出亞甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基、正丁烷-1,4-二基、正戊烷-1,5-二基、正己烷-1,6-二基、正庚烷-1,7-二基、正辛烷-1,8-二基、正壬烷-1,9-二基、正癸烷-1,10-二基、鄰-伸苯基、間-伸苯基、對-伸苯基、萘-2,6-二基、萘-2,7-二基、萘-1,4-二基、聯苯-4,4’-二基等。
作為R a23之二價烴基具有取代基時，該取代基可舉出羥基、碳原子數1以上6以下之烷氧基、碳原子數2以上6以下之脂肪族醯基、鹵素原子、硝基及氰基等。
當R a24為可經碳原子數1以上6以下之烴基取代之胺基時，其合宜具體例可舉出胺基、甲胺基、乙胺基、n-丙胺基、異丙胺基、n-丁胺基、n-戊胺基、n-己胺基、苯胺基、二甲胺基、二乙胺基、二-n-丙胺基、二異丙胺基、二-n-丁胺基、二-n-戊胺基、二-n-己胺基及二苯胺基。
當R a24為-N +R a25R a26R a27・Z -表示之4級銨鹽基時，R a25、R a26及R a27分別獨立為氫原子或碳原子數1以上6以下之烴基，Z -為對陰離子。 碳原子數1以上6以下之烴基的合宜實例可舉出甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、n-戊基、n-己基及苯基。 作為Z -之對陰離子只要是一價陰離子則不特別限定，較佳為鹵化物離子。鹵化物離子的合宜實例可舉出氯化物離子、溴化物離子及碘化物離子。
衍生自以上說明之式(a1-ix)表示之化合物的構成單元的合宜具體例可舉出下述構成單元a1-ix-1~a1-ix-24。此等構成單元中，由容易取得單體化合物或容易獲得良好的表面處理效果而言，較佳為構成單元a1-ix-1~a1-ix-4、a1-ix-17及a1-ix-18。
可陰離子化之官能基典型上為顯示布忍斯特酸性之官能基及顯示布忍斯特酸性之官能基的鹽。顯示布忍斯特酸性之官能基的合宜實例可舉出羧基、磺酸基、亞磺酸基、膦酸基、次膦酸基及酚性羥基。
此等布忍斯特酸性基可與對陽離子共同形成鹽。對陽離子不特別限定，可為有機陽離子或如金屬離子之無機陽離子，較佳為金屬離子。金屬離子較佳為鹼金屬離子，較佳為例如Li +、Na +、K +及Sr +。
作為可陰離子化之官能基而具有布忍斯特酸性基的非甜菜鹼單體較佳為下述式(a1-x)表示之化合物。 (式(a1-x)中，R a31為氫原子或甲基，R a32為羥基或-A 1-R a33-R a34表示之基，A 1為單鍵、-O-或-NH-，R a33為可具有取代基之二價有機基，R a34為布忍斯特酸性基，b為0或1；惟，當b為0時，R a32非為羥基，且A 1為單鍵)。
上述式(a1-x)中，當R a32為-A 1-R a33-R a34表示之基時，R a33為可具有取代基之二價有機基。二價有機基不特別限定，較佳為二價烴基。二價烴基的碳原子數，在不妨害本發明目的之範圍不特別限定。由容易取得或調製樹脂(A)而言，當R a33為二價烴基時，二價烴基的碳原子數較佳為1以上20以下，更佳為1以上12以下，特佳為1以上10以下，最佳為1以上6以下。
作為R a33之二價烴基可為脂肪族基、芳香族基或包含脂肪族部分與芳香族部分之烴基。當二價烴基為脂肪族基時，該脂肪族基可為飽和脂肪族基或不飽和脂肪族基。又，該脂肪族基之結構可為直鏈狀、支鏈狀、環狀或此等結構之組合。
R a33的合宜具體例可舉出亞甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基、正丁烷-1,4-二基、正戊烷-1,5-二基、正己烷-1,6-二基、正庚烷-1,7-二基、正辛烷-1,8-二基、正壬烷-1,9-二基、正癸烷-1,10-二基、鄰-伸苯基、間-伸苯基、對-伸苯基、萘-2,6-二基、萘-2,7-二基、萘-1,4-二基、聯苯-4,4’-二基等。
作為R a33之二價烴基具有取代基時，該取代基可舉出羥基、碳原子數1以上6以下之烷氧基、碳原子數2以上6以下之脂肪族醯基、鹵素原子、硝基及氰基等。
作為R a34之布忍斯特酸性基較佳為羧基、磺酸基、亞磺酸基、膦酸基、次膦酸基及酚性羥基，更佳為羧基、磺酸基、膦酸基及酚性羥基。
當R a34非為酚性羥基時，-R a33-R a34表示之基較佳為以下之基。下述結構式中，R a34為酚性羥基以外的布忍斯特酸性基。
衍生自以上說明之式(a1-x)表示之化合物的構成單元的合宜具體例可舉出下述構成單元a1-x-1~a1-x-20。此等構成單元中，由容易取得單體化合物或容易獲得良好的表面處理效果而言，較佳為構成單元a1-x-1~a1-x-10、a1-x-19及a1-x-20。
構成單元(a1)相對於樹脂(A)之總構成單元的比率，由兼具樹脂(A)對被處理物表面的密接性與良好的表面處理效果而言，較佳為30莫耳%以上99.9莫耳%以下，更佳為40莫耳%以上99莫耳%以下，更佳為50莫耳%以上95莫耳%以下。
[構成單元(a2)] 以使樹脂(A)良好地密接於被處理物的表面為目的，樹脂(A)係包含衍生自下述式(a-2)表示之化合物的構成單元(a2)。 (式(a-2)中，R A1為具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基，R A2為單鍵或碳原子數1以上10以下之伸烷基，R A3為氫原子或選自胺基、羧基、巰基、羥基及氰基之極性基，n為1或2，X為n+1價含氮雜環基，當n為1時，R A3為前述極性基；當n為2時，其中至少一R A3為前述極性基)。
構成單元(a2)需具有選自胺基、羧基、巰基、羥基及氰基之極性基。因此，當樹脂(A)包含具有所述極性基之構成單元(a2)時，有樹脂(A)對被處理物表面的密接性良好的傾向。 此外，具有羧基作為布忍斯特酸性基之前述構成單元理當屬於具有羧基之構成單元。
式(a-2)中，R A1為具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基。具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基的合宜實例可舉出下述式(a-2i)~式(a-2vii)表示之基。下述式(a-2i)~式(a-2vii)中，R A01為碳原子數1以上10以下之烯基，R A02為碳原子數1以上10以下之烴基。
作為R A01之烯基的碳原子數較佳為1以上6以下，更佳為1以上4以下。作為R A01之烯基可為直鏈烯基或支鏈烯基。 作為R A02之烴基可為脂肪族基、芳香族基或脂肪族基與芳香族基之組合。作為R A02之烴基的碳原子數較佳為1以上6以下，更佳為1以上4以下，再更佳為1以上3以下。
作為R A1之具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基的合宜具體例可舉出乙烯基、1-丙烯基、2-n-丙烯基(烯丙基)、1-n-丁烯基、2-n-丁烯基及3-n-丁烯基等烯基；N-乙烯基胺基、N-1-丙烯基胺基、N-烯丙基胺基、N-1-n-丁烯基胺基、N-2-n-丁烯基胺基及N-3-n-丁烯基胺基等單烯基胺基；N,N-二乙烯基胺基、N,N-二(1-丙烯基)胺基、N,N-二烯丙基胺基、N,N-二(1-n-丁烯基)胺基、N,N-二(2-n-丁烯基)胺基、N,N-二(3-n-丁烯基)胺基等二烯基胺基；烯丙基氧基、2-n-丁烯基氧基、3-n-丁烯基氧基等烯基氧基；乙烯基胺基羰基、1-丙烯基胺基羰基、烯丙基胺基羰基、1-n-丁烯基胺基羰基、2-n-丁烯基胺基羰基、3-n-丁烯基胺基羰基等烯基胺基羰基；乙烯基氧羰基、1-丙烯基氧羰基、烯丙基氧羰基、1-n-丁烯基氧羰基、2-n-丁烯基氧羰基、3-n-丁烯基氧羰基等烯基氧羰基；丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、丙烯醯胺基及甲基丙烯醯胺基等含(甲基)丙烯醯基之基。 此等基中，較佳為乙烯基、烯丙基、N,N-二烯丙基胺基、烯丙基氧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基及甲基丙烯醯氧基，更佳為N,N-二烯丙基胺基。
式(a-2)中，R A2為單鍵或碳原子數1以上10以下之伸烷基。伸烷基的碳原子數較佳為1以上6以下，更佳為1以上4以下，再更佳為1以上3以下。碳原子數1以上10以下之伸烷基的具體例可舉出伸甲基、乙烷-1,2-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基、n-丁烷-1,4-二基、n-戊烷-1,5-二基、n-己烷-1,6-二基、n-庚烷-1,7-二基、n-辛烷-1,8-二基、n-壬烷-1,9-二基及n-癸烷-1,10-二基。 此等伸烷基當中，較佳為伸甲基、乙烷-1,2-二基及丙烷-1,3-二基，更佳為伸甲基及乙烷-1,2-二基。
式(a-2)中，R A2為，X為n+1價含氮雜環基。n為1或2。含氮雜環可為芳香族基或脂肪族基。 含氮雜環可為單環，且單環式含氮雜環可為與選自單環式芳香族烴環及單環式含氮雜環的1個以上之單環縮合而成的縮合多環。 又，含氮雜環可為選自單環式含氮雜環及縮合多環式含氮雜環的2個以上之環經由單鍵鍵結而成的環。
式(a-2)中，R A1表示之基及R A3-R A2-表示之基可鍵結於作為X表示之含氮雜環基之環構成原子的碳原子上，亦可鍵結於作為環構成原子的氮原子上。
提供X之含氮雜環的具體例可舉出吡咯烷環、吡唑啶環、咪唑啶環、三唑啶環、四唑啶環、吡咯啉環、吡唑啉環、咪唑啉環、三唑啉環、四唑啉環、吡咯環、吡唑環、咪唑環、三唑環及四唑環等含氮5員環；哌啶環、伸哌啶環、哌嗪環、三嗪烷環、四嗪烷環、五嗪烷環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環、吡嗪環、三嗪環、四嗪環及五嗪環等含氮6員環；吖庚環、二吖庚環、三吖庚環、四吖庚環、吖庚因環、二吖庚因環及三吖庚因環等含氮7員環；吲哚環、假吲哚環、吲哚啉環、異吲哚環、異假吲哚環、異吲哚啉環、苯并咪唑環、吲哚嗪環、嘌呤環、吲哚嗪啶環、苯并二吖庚因環、喹啉環、異喹啉環、喹啶環、喹㗁啉環、噌啉環、喹唑啉環、酞嗪環、萘啶環及蝶啶環等含氮縮合多環；選自此等含氮雜環的2個以上之環經由單鍵鍵結而成的多環。 作為衍生自此等含氮雜環之X，由樹脂(A)對被處理物表面的密接性良好等而言，較佳為包含含氮6員環之2價或3價基，更佳為包含三嗪環之二價或三價基，再更佳為1,3,5-三嗪-2,4-二基及1,3,5-三嗪-2,4,6-三基。
作為X之二價或三價含氮雜環的合宜具體例可舉出以下之基。
式(a-2)表示之化合物之較佳具體例可舉出下述化合物。
以上化合物中，較佳為下述化合物。
構成單元(a2)相對於樹脂(A)之總構成單元的比率，由兼具樹脂(A)對被處理物表面的密接性與良好的表面處理效果而言，較佳為0.1莫耳%以上70莫耳%以下，更佳為1莫耳%以上60莫耳%以下，再更佳為5莫耳%以上50莫耳%以下。
[構成單元(a3)] 在不妨害本發明目的之範圍，樹脂(A)亦可包含構成單元(a1)及構成單元(a2)以外的其他構成單元(a3)。 提供樹脂(A)中的構成單元(a3)之化合物可舉出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸-n-丙酯、(甲基)丙烯酸-n-丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸-tert-丁酯、(甲基)丙烯酸-n-戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸苯酯、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-n-丙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-n-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-n-戊基(甲基)丙烯醯胺、N-異戊基(甲基)丙烯醯胺、N-苯基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二-n-丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二-n-丁基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二-n-戊基(甲基)丙烯醯胺、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、β-甲基苯乙烯、o-甲基苯乙烯、m-甲基苯乙烯、p-甲基苯乙烯及氯苯乙烯、甲基二烯丙胺、乙基二烯丙胺、三烯丙胺等。
(樹脂(A)之合成方法) 樹脂(A)可藉由使提供構成單元(a1)之化合物與提供構成單元(a2)之式(a-2)表示之化合物，依循週知方法進行聚合來調製。較佳之方法可舉出使提供構成樹脂(A)之構成單元的單體在聚合起始劑的存在下進行自由基聚合之方法。 聚合起始劑可舉出例如偶氮聚合起始劑。此種聚合起始劑可舉出2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽(dihydrochloride)、2,2’-偶氮雙[2-(苯基脒基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙{2-[N-(4-氯苯基)脒基]丙烷}二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙{2-[N-(4-羥基苯基)脒基]丙烷}二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(N-苄基脒基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(N-烯丙基脒基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙{2-[N-(4-羥乙基)脒基]丙烷}二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙[2-(4,5,6,7-四氫-1H-1,3-二氮呯-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙[2-(3,4,5,6-四氫嘧啶-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙[2-(5-羥基-3,4,5,6-四氫嘧啶-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙{2-[1-(2-羥乙基)-2-咪唑啉-2-基]丙烷}二鹽酸鹽、2,2-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]。此等聚合起始劑可單獨使用，亦可組合2種以上使用。聚合起始劑的用量，只要可良好地進行聚合反應則不特別限定。聚合起始劑的用量，相對於單體全體的莫耳數，較佳為0.1莫耳%以上20莫耳%以下，更佳為0.1莫耳%以上15莫耳%以下。
樹脂(A)的質量相對於表面處理液的質量之比率不特別限定，較佳為0.1質量%5質量%以下，更佳為0.1質量%以上3.0質量%以下，再更佳為0.1質量%以上1.5質量%以下。
＜電解質(B)＞ 表面處理液亦可包含電解質(B)。當表面處理液包含電解質(B)時，易使樹脂(A)均勻且穩定地溶解於表面處理液。 此外，電解質(B)為樹脂(A)以外的物質。例如對於屬樹脂(A)且於表面處理液中可解離之高分子化合物，係定義為樹脂(A)而非電解質(B)。
電解質(B)的種類只要是不使樹脂(A)分解之物質則不特別限定。 電解質(B)的種類不特別限定。電解質(B)可為鹽酸、氯化鈉及氯化鉀等一般視為強電解質的物質，亦可為陰離子性界面活性劑(例如十二烷基硫酸鈉等)或陽離子性界面活性劑(例如氯化苄烷銨等)等一般視為弱電解質的物質。
由容易取得且價廉等而言，電解質(B)的合宜實例可舉出氯化鈉、氯化鉀、過氯酸鈉、過氯酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、過氯酸、鹽酸及硫酸等。
電解質(B)的含量，在不妨害本發明目的之範圍不特別限定，可斟酌對表面處理液之溶解性等而適宜決定。 電解質(B)的含量，例如相對於樹脂(A)100質量份，較佳為0質量份以上700質量份以下，更佳為0質量份以上600質量份以下，再更佳為0質量份以上500質量份以下。
[溶媒(S)] 表面處理液係包含溶媒(S)。溶媒(S)可為水、有機溶劑或有機溶劑的水溶液。作為溶媒(S)，基於樹脂(A)的溶解性、表面處理作業的安全性及低成本等，較佳為水。 作為溶媒(S)使用之有機溶劑的合宜實例可舉出醇。該醇可舉出脂肪族醇，較佳為碳原子數1以上3以下之醇。具體而言，可舉出甲醇、乙醇、n-丙基醇及異丙基醇(IPA)，較佳為甲醇、乙醇、異丙基醇。該醇可使用1種或組合使用2種以上。
溶媒(S)中的水的含量較佳為50質量%以上，更佳為80質量%以上，特佳為100質量%。
[其他成分] 在不妨害本發明目的之範圍，表面處理液亦可含有各種添加劑。所述添加劑之實例可舉出熱聚合抑制劑、光聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、著色劑、消泡劑及黏度調整劑等。此等添加劑的含量係斟酌此等添加劑一般所使用的量而適宜決定。
≪表面處理方法≫ 表面處理方法只要是可將被處理物表面對水的親和性調整成期望之程度，而使樹脂(A)結合或附著於被處理物的表面之方法則不特別限定。 典型上，表面處理方法係包含塗佈前述之表面處理液，而於被處理物的表面形成被膜。惟，只要可將被處理物表面對水的親和性調整成期望之程度，則無需於被處理物之經表面處理的整個表面形成均勻的被膜。 表面處理方法較佳進一步於表面處理液的塗佈後，藉由沖洗液沖洗被處理物的表面。
以下將塗佈表面處理液，而於被處理物的表面形成被膜記載為「塗佈步驟」。又，將於表面處理液的塗佈後，藉由沖洗液沖洗被處理物的表面記載為「沖洗步驟」。 以下就塗佈步驟、沖洗步驟及表面處理液詳細加以說明。
＜塗佈步驟＞ 於塗佈步驟中，係將前述之表面處理液塗佈於被處理物的表面而形成被膜。 塗佈方法不特別限定。塗佈方法的具體例可舉出旋轉塗佈法、噴霧法、輥塗法、浸漬法等。當被處理物為基板時，由容易在基板的表面均勻地形成膜厚均等的被膜而言，塗佈方法較佳為旋轉塗佈法。
被處理物之塗佈表面處理液的面的材質不特別限定，可為有機材料或無機材料。 有機材料可舉出PET樹脂或PBT樹脂等聚酯樹脂、各種尼龍、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚乙烯或聚丙烯等聚烯烴、聚苯乙烯、(甲基)丙烯酸樹脂、環烯烴聚合物(COP)、環烯烴共聚物(COC)及聚矽氧樹脂(例如聚二甲基矽氧烷(PDMS)等聚有機矽氧烷等)等、各種樹脂材料。 又，各種阻劑材料所含感光性樹脂成分或鹼可溶性樹脂成分亦較佳作為有機材料。 無機材料可舉出玻璃、矽、或銅、鋁、鐵、鎢等各種金屬。金屬可為合金。
被處理物的形狀不特別限定。被處理物的形狀可為平坦的形狀，例如可為球狀或柱狀等立體形狀。
被處理物有時會曝露於洗淨劑等藥品下。附著於被處理物表面的被膜曝露於各種藥品下時，有些藥品的種類有可能大幅損及被膜所產生的表面處理效果。然而，透過使用上述之表面處理液，可抑制經表面處理之表面接觸及各種藥品時之表面處理效果的降低。因此，將常曝露於洗淨液等藥品之被處理物，例如窗、鏡、傢俱、具備光學裝置(例如具有透鏡之裝置)之玻璃構件或透光性樹脂構件作為被處理物，尤其可發揮針對表面處理效果之耐藥品性。
將表面處理液塗佈於被處理物的表面後，亦可藉由週知之乾燥方法，視需求從表面處理液所構成之被膜去除溶媒(S)的至少一部分。
塗佈步驟中形成之被膜的膜厚不特別限定。塗佈步驟中形成之被膜的厚度例如較佳為1μm以下，更佳為300nm以下，再更佳為100nm以下。
藉由塗佈步驟所形成之被膜的厚度可藉由調整表面處理液的固含量濃度、塗佈條件等來調整。
＜沖洗步驟＞ 於沖洗步驟中，係於表面處理液的塗佈後，藉由沖洗液沖洗被處理物的表面。藉由沖洗，可將形成於被處理物表面的被膜薄膜化。 就沖洗液而言，只要可形成期望膜厚的被膜則不特別限定。沖洗液可使用水、有機溶劑及有機溶劑的水溶液。沖洗液較佳為水。 作為沖洗被膜之方法，不特別限定。典型上係藉由與前述之塗佈方法相同的方法使沖洗液接觸被膜來進行沖洗。
此外，進行沖洗前，亦可將被膜加熱而去除被膜所含溶媒(S)的一部分或全部。加熱溫度只要是不發生被處理物或樹脂(A)之劣化或分解的溫度則不特別限定。典型的加熱溫度可舉出50℃以上300℃以下左右之溫度。加熱時間不特別限制，較佳為例如5秒以上24小時以下，10秒以上6小時以下。
沖洗後所得被膜的膜厚較佳為例如10nm以下，更佳為0.1nm以上10nm以下，再更佳為0.1nm以上8nm以下，又更佳為0.5nm以上5nm以下，特佳為0.5nm以上3nm以下。
被膜的厚度可藉由調整表面處理液的固含量濃度、塗佈條件、沖洗液的用量、沖洗液的種類及沖洗液的溫度等來調整。
沖洗後，視需求將被處理物乾燥後，被處理物係適用於各種用途。 [實施例]
以下示出實施例更具體地說明本發明，惟本發明之範圍非限定於此等實施例。
[實施例1~8及比較例1~4] 實施例及比較例中，提供前述構成單元(a1)之單體化合物係使用下述A1-1~A1-5。提供構成單元(a2)之單體化合物係使用下述A2-1。提供構成單元(a3)之單體化合物係使用下述A3-1。
實施例1~8及比較例1~4中，係將表1所記載之組成的單體進行均聚合或共聚合而得到樹脂。 具體而言，係將表1所記載之種類及量(mmol)的單體化合物及聚合起始劑調成單體濃度為40質量%的水溶液，於80℃、氮氣環境下進行自由基聚合4小時，而得到樹脂的水溶液或懸浮液。聚合起始劑係使用2,2’-偶氮(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽。
對各實施例、比較例中所得之樹脂的水溶液或懸浮液添加樹脂質量之4倍的氯化鈉而得到表面處理液。藉由添加氯化鈉，使表面處理液澄清化。使用所得表面處理液，進行以下評估。
＜水接觸角＞ 將表面處理液以1000rpm、60秒的條件旋轉塗佈於矽晶圓上後，將晶圓以80℃加熱60秒。其次，用水清洗晶圓表面，而於晶圓上形成由上述樹脂構成之單分子膜層次之膜厚的被膜。 使用Dropmaster700(協和界面科學股份有限公司製)，對矽晶圓之經表面處理的表面滴加純水液滴(2.0μL)，作為滴加10秒後的接觸角，測定水的接觸角。將矽晶圓上3點之水的接觸角的平均值記載於表1。 此外，未處理之矽晶圓的水的接觸角為13.8°。
＜耐藥液性＞ 將以與水接觸角之測定相同之方法經表面處理的矽晶圓浸漬於陰離子性藥液之濃度1質量%的十二烷基硫酸鈉水溶液1分鐘。其後，將矽晶圓的表面以純水進行1分鐘噴淋洗淨。洗淨後之矽晶圓之經表面處理之表面的水接觸角係依上述方法測定。將測得之水的接觸角記載於表1。 又，針對以實施例4的表面處理液經表面處理之矽晶圓、以實施例6的表面處理液經表面處理之矽晶圓、以實施例7的表面處理液經表面處理之矽晶圓與以比較例2的表面處理液經表面處理之矽晶圓，除將濃度1質量%的十二烷基硫酸鈉水溶液改為陽離子性藥液之濃度1質量%的十二烷基三甲基氯化銨水溶液外，係與上述方法同樣的方式進行對陽離子性藥液的耐藥液性之試驗。將浸漬於陽離子性藥液及純水洗淨後之矽晶圓的水接觸角記載於表1。 此外，對於未經表面處理之矽晶圓，亦進行對上述陽離子性藥液之試驗。其結果，浸漬於陽離子性藥液及純水洗淨後之矽晶圓的水接觸角為71.2°。未經處理之矽晶圓的表面由於存在活性Si-OH基，而使十二烷基三甲基氯化銨吸附或結合於矽晶圓的表面，其結果研判水接觸角值變大。
＜N1s強度＞ 針對以與水接觸角之測定同樣的方法經表面處理之矽晶圓的表面，藉由X射線光電子光譜法(XPS)進行測定，測定樹脂所具有之氮原子所衍生之N1s峰的強度。N1s峰強度值愈大，可稱樹脂愈良好地結合於基板。
根據實施例1~8，由N1s強度的測定結果可知，若使用含有包含前述之構成單元(a1)與構成單元(a2)的樹脂(A)之表面處理液進行表面處理，表面處理液中之樹脂會良好地結合於被處理物表面。 又，根據實施例1~6與實施例7之比較，當樹脂(A)包含衍生自甜菜鹼單體之構成單元作為構成單元(a1)時，即使被處理物之經表面處理的面接觸陰離子性或陽離子性雜質，水接觸角值也不會改變，可知表面處理效果不易降低。 根據比較例1及比較例2，由N1s強度的測定結果可知，樹脂(A)若具有對被處理物表面的結合性，即使包含具有一般認為之水解性矽烷基的構成單元，樹脂(A)對被處理物表面的密接性，比起包含前述之構成單元(a1)與構成單元(a2)的樹脂(A)明顯較差。

Claims (11)

  1. 一種表面處理液，其包含樹脂(A)與溶媒(S)，前述樹脂(A)係包含衍生自具有親水性基與乙烯性不飽和雙鍵之化合物之構成單元(a1)，與衍生自下述式(a-2)表示之化合物之構成單元(a2)；(RA3-RA2)n-X-RA1…(a-2)(式(a-2)中，RA1為具有1個以上之乙烯性不飽和雙鍵的有機基，RA2為單鍵或碳原子數1以上10以下之伸烷基，RA3為氫原子或胺基，n為1或2，X為包含三嗪環之二價或三價基，當n為1時，RA3為胺基；當n為2時，其中至少一RA3為胺基)。
  2. 如請求項1之表面處理液，其中前述構成單元(a1)係衍生自具有陽離子性基、陰離子性基與具乙烯性不飽和雙鍵之基的甜菜鹼單體。
  3. 如請求項2之表面處理液，其中前述陽離子性基為四級氮陽離子基。
  4. 如請求項2或3之表面處理液，其中前述陰離子性基為磺酸陰離子基、膦酸陰離子基或羧酸陰離子基。
  5. 如請求項1~3中任一項之表面處理液，其中RA1為N,N-二烯丙基胺基。
  6. 如請求項1~3中任一項之表面處理液，其中X為1,3,5-三嗪-2,4-二基或1,3,5-三嗪-2,4,6-三基。
  7. 如請求項1~3中任一項之表面處理液，其中前述構成單元(a2)相對於前述樹脂(A)之總構成單元的比率為0.1莫耳%以上70莫耳%以下。
  8. 如請求項1~3中任一項之表面處理液，其中前述表面處理液中之前述樹脂(A)的含量為0.1質量%以上5質量%以下。
  9. 如請求項1~3中任一項之表面處理液，其進一步包含電解質(B)。
  10. 如請求項1~3中任一項之表面處理液，其中前述溶媒(S)進一步含有水。
  11. 一種對被處理物的表面之表面處理方法，其包含塗佈如請求項1~10中任一項之表面處理液，而於被處理物的表面形成被膜。
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