TWI821964B - 液晶顯示面板的改良結構 - Google Patents

Abstract

本發明關於一種液晶顯示面板的改良結構，包含一第一基板及一第二基板。第二基板設置於第一基板之相對側。第一基板具有一顯示區、一非顯示區及一抗蝕刻金屬層。顯示區具有一反射區，非顯示區具有一外環部、一第一非顯示區及一第二非顯示區。抗蝕刻金屬層設置於非顯示區。

Description

液晶顯示面板的改良結構

本發明係關於一種液晶顯示面板，詳細而言，係關於一種液晶顯示面板的改良結構。

於液晶顯示面板的反射金屬層之蝕刻製程中，由於載板邊緣處的面板接觸蝕刻液的時間較長，導致其顯示區周圍的反射金屬層會有過蝕刻現象，且連帶使下方的透明導電層容易被側蝕。

上述情況將導致載板邊緣處的面板具有邊角不良的現象，從而使該處的面板的良率偏低。

有鑑於此，如何提供一種液晶顯示面板的改良結構，使其可於反射金屬層之蝕刻製程中避免反射金屬層的過蝕刻及透明導電層的側蝕，從而提高載板邊緣處的面板良率，乃為此一業界亟待解決之問題。

為了解決上述技術問題，本發明是這樣實現的：提供一種液晶顯示面板的改良結構，包含一第一基板及一第二基板。第二基板設置於第一基板之相對側。其中，第一基板具有一顯示區、一非顯示區及一抗蝕刻金屬層。顯示區具有一反射區，反射區具有複數反射金屬層，複數反射金屬層為陣列設置。非顯示區具有一外環部、一第一非顯示區及一第二非顯示區。外環部環繞並設置於顯示區的周緣。第一非顯示區環繞並設置於外環部的周緣，第一非顯示區朝向第二基板的一側具有一第一透明導電層。第二非顯示區環繞並設置於第一非顯示區的周緣，第二非顯示區朝向第二基板的一側具有一第二透明導電層。抗蝕刻金屬層設置於非顯示區。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，抗蝕刻金屬層至少設置於非顯示區具有的外環部、第一非顯示區的第一透明導電層、或第二非顯示區的第二透明導電層的其中之一。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，複數反射金屬層彼此於一第一方向上具有一第一間隙，複數反射金屬層彼此於一第二方向上具有一第二間隙。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，第一間隙與第二間隙介於1微米~200微米之間。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，當抗蝕刻金屬層設置於外環部時，抗蝕刻金屬層於第一方向與顯示區之間具有一第三間隙，抗蝕刻金屬層於第二方向與顯示區之間具有一第四間隙，且第三間隙等於第一間隙，第四間隙等於第二間隙。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，抗蝕刻金屬層為一環狀金屬層。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，於外環部內，第一基板朝向第二基板的一側具有一第一金屬層、一絕緣層、一第二金屬層及一保護層，第一金屬層及第二金屬層彼此間隔設置於第一基板上，絕緣層設置於第一金屬層上，保護層設置於絕緣層、第二金屬層及部分露出的第一基板上，且抗蝕刻金屬層設置於保護層上。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，於第一非顯示區內，第一基板朝向第二基板的一側具有一第一金屬層、一絕緣層、一第二金屬層、一保護層及第一透明導電層，第一金屬層設置於第一基板上且部分覆蓋第一基板，絕緣層設置於第一基板及第一金屬層上並部分露出第一金屬層，第二金屬層設置於絕緣層上，保護層設置於絕緣層上且不與第一金屬層及第二金屬層接觸，第一透明導電層設置於第二金屬層、絕緣層及部分露出之第一金屬層上。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，抗蝕刻金屬層與第一透明導電層對應設置。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，於第二非顯示區內，第一基板朝向第二基板的一側具有一第一金屬層、一絕緣層、一第二金屬層、一保護層及第二透明導電層，第一金屬層設置於第一基板上且部分露出第一基板，絕緣層設置於第一金屬層上，第二金屬層設置於絕緣層上，保護層設置於第二金屬層及部分露出的第一基板上，第二透明導電層設置於保護層上且部分露出保護層。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，於第二非顯示區內，第一基板朝向第二基板的一側更具有一非顯示區柱狀隔墊物，非顯示區柱狀隔墊物設置於露出之保護層上且不與第二透明導電層接觸。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，抗蝕刻金屬層設置於該保護層及第二透明導電層上。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，抗蝕刻金屬層與顯示區內的一反射金屬層具有尺寸相對應的圖案。

於本發明液晶顯示面板的改良結構中，抗蝕刻金屬層的金屬材料相同於顯示區內的反射金屬層的金屬材料。

在本發明實施例中，乃是透過將抗蝕刻金屬層至少設置於非顯示區具有的外環部、第一非顯示區的第一透明導電層、或第二非顯示區的第二透明導電層等區域的其中之一的方式，讓反射金屬層之蝕刻製程中過多的蝕刻液可被抗蝕刻金屬層阻擋於顯示區的外側，使過多的蝕刻液不會接觸及蝕刻到顯示區中的透明導電層，繼而提高載板邊緣處的面板良率。

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬本發明保護的範圍。

本發明提供一種液晶顯示面板的改良結構，其可應用於反射式面板或半穿透半反射面板。以下之描述將以應用於反射式面板為例進行說明，但並非以此作為限制。如圖1至圖6所示，本發明的液晶顯示面板的改良結構100包含一第一基板110及一第二基板120，且第二基板120設置於第一基板110之相對側。

第一基板110具有一顯示區200A、一非顯示區200B及一抗蝕刻金屬層600。顯示區200A具有一反射區210，反射區210具有複數反射金屬層220，且複數反射金屬層220為陣列設置。非顯示區200B具有一外環部300、一第一非顯示區400及一第二非顯示區500。其中，外環部300環繞並設置於顯示區200A的周緣。第一非顯示區400環繞並設置於外環部300的周緣，且第一非顯示區400朝向第二基板120的一側具有一第一透明導電層411（如圖5所示）。第二非顯示區500環繞並設置於第一非顯示區400的周緣，且第二非顯示區500朝向第二基板120的一側具有一第二透明導電層511（如圖6所示）。抗蝕刻金屬層600設置於非顯示區200B。

如圖2至圖6所示，前述之抗蝕刻金屬層600乃是透過至少設置於非顯示區200B具有的外環部300、第一非顯示區400的第一透明導電層411、或第二非顯示區500的第二透明導電層511的其中之一的設置方式，使反射金屬層之蝕刻製程中過多的蝕刻液可於顯示區200A的外圍被抗蝕刻金屬層600所阻擋，使得過多的蝕刻液不會接觸及蝕刻到顯示區200A中的反射金屬層220，從而有效避免反射金屬層220的過蝕刻現象並提高載板邊緣處的面板良率。

以下將針對外環部300、第一非顯示區400的第一透明導電層411、及第二非顯示區500的第二透明導電層511等各區域中的抗蝕刻金屬層600的設置方式進行說明。

首先，圖2為圖1中A區域的放大圖，如圖2的第一實施例所示，顯示區200A內具有複數反射金屬層220，複數反射金屬層220為陣列設置，且複數反射金屬層220彼此於一第一方向X上具有一第一間隙D1，且彼此於一第二方向Y上具有一第二間隙D2。當抗蝕刻金屬層600設置於外環部300時，抗蝕刻金屬層600於第一方向X與顯示區200A之間具有一第三間隙D3，抗蝕刻金屬層600於第二方向Y與顯示區200A之間具有一第四間隙D4。

於一較佳實施例中，第一間隙D1與第二間隙D2介於1微米~200微米之間。因此，可使第三間隙D3等於第一間隙D1，且第四間隙D4等於第二間隙，以使抗蝕刻金屬層600可有效地進行過多蝕刻液的阻擋。

於另一較佳實施例中，則可使第三間隙D3等於第一間隙D1±10微米，第四間隙D4等於第二間隙D2±10微米，而同樣使抗蝕刻金屬層600具有可有效地阻擋過多蝕刻液的功效。

藉由將抗蝕刻金屬層600設置於外環部300，且使抗蝕刻金屬層600與顯示區200A在第一方向X及第二方向Y之間分別存在第三間隙D3及第四間隙D4，當針對本發明液晶顯示面板的改良結構100進行反射金屬層之蝕刻製程時，過多的蝕刻液在接觸抗蝕刻金屬層600後便會被阻擋，從而無法繼續流入至內側的顯示區200A。如此一來，即便本發明之液晶顯示面板的改良結構100在蝕刻製程中遭遇較高濃度且過多的蝕刻液，其導致的過蝕刻現象也僅會發生在抗蝕刻金屬層600的周緣，並不會對顯示區200A內所具有的透明導電層造成側蝕現象。

此外，抗蝕刻金屬層600為一環狀金屬層，其僅會設置於顯示區200A周緣的外環部300，並不會覆蓋於顯示區200A上。又，第一實施例中的抗蝕刻金屬層600需與面板結構中的參考電壓（Vcom）電性連接，藉此避免產生電性浮接（floating）的問題而影響液晶的充放電。

圖3為圖2中B-B’線段的剖面圖，如圖3所示，於第一實施例中，於外環部300內，第一基板110朝向第二基板120的一側具有一第一金屬層710、一絕緣層720、一第二金屬層730及一保護層740。其中，第一金屬層710及第二金屬層730沿第一方向X彼此間隔地設置於第一基板110，絕緣層720設置於第一金屬層710上，保護層740則設置於絕緣層720、第二金屬層730及部分露出的第一基板110上。

由於外環部300內並不存在透明導電層，故抗蝕刻金屬層600僅需設置於保護層740上便可有效地阻擋過多的蝕刻液，使過多的蝕刻液無法對位在外環部300內側的顯示區200A的反射金屬層220下方的透明導電層造成側蝕影響。

需說明的是，於第一實施例中，於外環部300內，第二基板120在朝向第一基板110的一側依序設置有一彩色濾光片層750及一平坦層760，以構成完整的外環部300。

顯示區200A的剖視圖如圖4所示，其為圖2中C-C’線段的剖面。顯示區200A具有第一基板110、與第一基板110相對的第二基板120及位於第一基板110、第二基板120之間的液晶層LC。其中，第一基板110朝向第二基板120的一側依序設置主動元件130、保護層140（與外環部300、第一非顯示區400、第二非顯示區500的保護層740同層）、平坦層150、畫素電極160（與第一非顯示區400的第一透明導電層411、第二非顯示區500的第二透明導電層511同膜層）、反射金屬層220（與抗蝕刻金屬層600同層），且主動元件130由下而上依序設有第一金屬層131（閘極）、絕緣層132、半導體層133、第二金屬層134（源極、汲極）等組件。

請參閱圖5，圖5為圖1中D-D’線段的剖面圖。於本發明液晶顯示面板的改良結構100的第二實施例中，由於第一非顯示區400為具有跳層電性的非顯示區，故具有相對複雜的疊層結構。

詳細而言，於第一非顯示區400內，第一基板110朝向第二基板120的一側具有一第一金屬層710、一絕緣層720、一第二金屬層730、一保護層740及第一透明導電層411。其中，第一金屬層710設置於第一基板110上且部分覆蓋第一基板110。絕緣層720設置於第一基板110及第一金屬層710上並部分露出第一金屬層710。第二金屬層730設置於絕緣層720上，且較佳地，第二金屬層730可選擇性地設置於絕緣層720之一凹陷部721內。保護層740設置於絕緣層720上且不與第一金屬層710及第二金屬層730接觸。第一透明導電層411則設置於第二金屬層730、絕緣層720及部分露出之第一金屬層710上。也就是說，於第二實施例中，透過第一透明導電層411使第一金屬層710及第二金屬層730電性連接之方式，即構成第一非顯示區400的跳層電性。

如此一來，當抗蝕刻金屬層600設置於第一非顯示區400的第一透明導電層411上，藉此確保在進行反射金屬層的蝕刻過程中，過多的蝕刻液會被抗蝕刻金屬層600阻擋而不會對顯示區200A內的反射金屬層220下方的透明導電層造成側蝕現象時，由於第一非顯示區400具有跳層電性，一旦蝕刻液對抗蝕刻金屬層600造成過蝕刻，且同時側蝕位於抗蝕刻金屬層600下方的第一透明導電層411，該側蝕現象便會影響到位於第一透明導電層411下方的第一金屬層710與第二金屬層730之間的電性連接關係，導致出現電性浮接之情況而波及到顯示區200A內液晶的正常翻轉，這使得第二實施例於設計上須考慮在將抗蝕刻金屬層600設置於第一透明導電層411上時，抗蝕刻金屬層600還需進一步對應覆蓋第一透明導電層411，透過此種設置方式來確保即便出現蝕刻液對抗蝕刻金屬層600造成過蝕刻的現象，蝕刻液也無法由側向方向上對位於抗蝕刻金屬層600下方的第一透明導電層411造成影響。

需說明的是，於第二實施例中，於第一非顯示區400內，第二基板120在朝向第一基板110的一側依序設置有一彩色濾光片層750、一平坦層760及一第三透明導電層770，以構成完整的第一非顯示區400。

請參閱圖6，圖6為圖1中E-E’線段的剖面圖。於本發明液晶顯示面板的改良結構100的第三實施例中，由於第二非顯示區500為不具有跳層電性的非顯示區，故具有相對簡單的疊層結構。

詳細而言，於第二非顯示區500內，第一基板110朝向第二基板120的一側具有一第一金屬層710、一絕緣層720、一第二金屬層730、一保護層740及第二透明導電層511。其中，第一金屬層710設置於第一基板110上且部分露出第一基板110，絕緣層720設置於第一金屬層710上，第二金屬層730設置於絕緣層720上，保護層740設置於第二金屬層730及部分露出的第一基板110上，第二透明導電層511設置於保護層740上且部分露出保護層740。

如圖6所示，保護層740上朝向第二基板120的一側更具有一非顯示區柱狀隔墊物790，且非顯示區柱狀隔墊物790設置於露出之保護層740上且不與第二透明導電層511接觸。

如此一來，當抗蝕刻金屬層600設置於第二非顯示區500的第二透明導電層511上，藉此確保在進行反射金屬層的蝕刻過程中，過多的蝕刻液會被抗蝕刻金屬層600阻擋而不會對顯示區200A內所具有的反射金屬層220造成側蝕現象時，由於第二非顯示區500不具有跳層電性，即便蝕刻液會對抗蝕刻金屬層600造成過蝕刻，且蝕刻液也會同時側蝕位於抗蝕刻金屬層600下方的第二透明導電層511時，該側蝕現象並不會影響到位於保護層740下方的第一金屬層710與第二金屬層730之間的電性關係，使得第三實施例在設計上僅須考慮使抗蝕刻金屬層600設置於保護層740及第二透明導電層511的上方，以提高第二非顯示區500的抗蝕刻金屬層600之面積，抗蝕刻金屬層600可無須包覆到第二透明導電層511的側邊，且抗蝕刻金屬層600也可無須設置於非顯示區柱狀隔墊物790的周緣。也就是說，當抗蝕刻金屬層600設置於不具有跳層電性的第二非顯示區500時，抗蝕刻金屬層600與顯示區200A內的反射金屬層220具有尺寸相對應的圖案，也即是抗蝕刻金屬層600與顯示區200A內的反射金屬層220具有相同面積、吋法的圖案。

於第三實施例的其他態樣中，抗蝕刻金屬層600亦可具有大於第二透明導電層511的面積，以進一步避免第二透明導電層511被蝕刻。

需說明的是，於第三實施例中，於第二非顯示區500內，第二基板120在朝向第一基板110的一側依序設置有一彩色濾光片層750及一平坦層760，以構成完整的第二非顯示區500。

前述之第一金屬層710較佳為一柵極金屬層，絕緣層720較佳為於一柵極絕緣層，且第二金屬層730較佳為一源漏極金屬層，但於此並不加以限制。

綜上所述，在本發明實施例中，乃是透過將抗蝕刻金屬層600由內而外的設置方式，使抗蝕刻金屬層600可擇一地被設置於非顯示區200B具有的外環部300、第一非顯示區400的第一透明導電層411、或第二非顯示區500的第二透明導電層511等區域，從而讓抗蝕刻金屬層600可用於阻擋過多蝕刻液的蝕刻，避免反射金屬層之蝕刻製程中的蝕刻液會對載板邊緣處之面板顯示區200A內的反射金屬層220造成過蝕刻、或對非顯示區200B內的透明導電層造成側蝕，繼而提高載板邊緣處的面板良率。需說明的是，抗蝕刻金屬層600除了上述以擇一的方式設置於外環部300、第一非顯示區400的第一透明導電層411、或第二非顯示區500的第二透明導電層511等三個區域外，抗蝕刻金屬層600也可同時設置於外環部300、第一非顯示區400的第一透明導電層411、或第二非顯示區500的第二透明導電層511等三個區域中的任兩區，抑或使抗蝕刻金屬層600同時設置於外環部300、第一非顯示區400的第一透明導電層411、或第二非顯示區500的第二透明導電層511等三個區域。另一方面，當抗蝕刻金屬層600被設置於第一非顯示區400的第一透明導電層411或是第二非顯示區500的第二透明導電層511等區域時，則需進一步依據有無電性跳層的情況考慮抗蝕刻金屬層600覆蓋各透明導電層的方式，從而避免過蝕刻現象發生在第一非顯示區400或第二非顯示區500時可能導致的液晶轉動問題。此外，抗蝕刻金屬層600的金屬材料相同於顯示區200A內的反射金屬層220的金屬材料，且該金屬材料較佳為銀或鋁釹合金，但並非以此作為限制。

以上所述之實施例僅係為說明本發明之技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本發明之內容並據以實施，當不能以之限定本發明之專利範圍，即但凡依本發明所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本發明之專利範圍內。

100:液晶顯示面板的改良結構 110:第一基板 120:第二基板 130:主動元件 131:第一金屬層 132:絕緣層 133:半導體層 134:第二金屬層 140:保護層 150:平坦層 160:畫素電極 200A:顯示區 200B:非顯示區 210:反射區 220:反射金屬層 300:外環部 400:第一非顯示區 411:第一透明導電層 500:第二非顯示區 511:第二透明導電層 600:抗蝕刻金屬層 710:第一金屬層 720:絕緣層 721:凹陷部 730:第二金屬層 740:保護層 750:彩色濾光片層 760: 平坦層 770: 第三透明導電層 790:非顯示區柱狀隔墊物 X:第一方向 Y:第二方向 D1:第一間隙 D2:第二間隙 D3:第三間隙 D4:第四間隙 LC:液晶層

此處所說明的附圖用來提供對本發明的進一步理解，構成本發明的一部分，本發明的示意性實施方式及其說明用於解釋本發明，並不構成對本發明的不當限定。在附圖中： 圖1為本發明液晶顯示面板的改良結構的上視圖。 圖2為本發明液晶顯示面板的改良結構之第一實施例，其為圖1中A區域的放大圖。 圖3為圖2中B-B’線段的剖面圖。 圖4為本發明液晶顯示面板的改良結構的顯示區示意圖，其為圖2中C-C’線段的剖面。 圖5為本發明液晶顯示面板的改良結構之第二實施例，其為圖1中D-D’線段的剖面圖。 圖6為本發明液晶顯示面板的改良結構之第三實施例，其為圖1中E-E’線段的剖面圖。

200A:顯示區 210:反射區 220:反射金屬層 300:外環部 600:抗蝕刻金屬層 X:第一方向 Y:第二方向 D1:第一間隙 D2:第二間隙 D3:第三間隙 D4:第四間隙

Claims (10)

1. 一種液晶顯示面板的改良結構，包含：一第一基板；以及一第二基板，設置於該第一基板之相對側；其中，該第一基板具有：一顯示區，具有一反射區，該反射區具有複數反射金屬層，該些反射金屬層為陣列設置；一非顯示區，具有：一外環部，環繞並設置於該顯示區的周緣；一第一非顯示區，環繞並設置於該外環部的周緣，該第一非顯示區朝向該第二基板的一側具有一第一透明導電層；以及一第二非顯示區，環繞並設置於該第一非顯示區的周緣，該第二非顯示區朝向該第二基板的一側具有一第二透明導電層；以及一抗蝕刻金屬層，設置於該非顯示區；其中於該外環部內，該第一基板朝向該第二基板的一側具有一第一金屬層、一絕緣層、一第二金屬層及一保護層，該第一金屬層及該第二金屬層彼此間隔設置於該第一基板上，該絕緣層設置於該第一金屬層上，該保護層設置於該絕緣層、該第二金屬層及部分露出的該第一基板上，且該抗蝕刻金屬層設置於該保護層上。
2. 如請求項1所述之液晶顯示面板的改良結構，其中該些反射金屬層彼此於一第一方向上具有一第一間隙，該些反射金屬層彼此於一第二方向上具有一第二間隙。
3. 如請求項2所述之液晶顯示面板的改良結構，其中該第一間隙與該第二間隙介於1微米~200微米之間。
4. 如請求項2所述之液晶顯示面板的改良結構，其中當該抗蝕刻金屬層設置於該外環部時，該抗蝕刻金屬層於該第一方向與該顯示區之間具有一第三間隙，該抗蝕刻金屬層於該第二方向與該顯示區之間具有一第四間隙，且該第三間隙等於該第一間隙，該第四間隙等於該第二間隙。
5. 如請求項1或4所述之液晶顯示面板的改良結構，其中該抗蝕刻金屬層為一環狀金屬層。
6. 一種液晶顯示面板的改良結構，包含：一第一基板；以及一第二基板，設置於該第一基板之相對側；其中，該第一基板具有：一顯示區，具有一反射區，該反射區具有複數反射金屬層，該些反射金屬層為陣列設置；一非顯示區，具有：一外環部，環繞並設置於該顯示區的周緣；一第一非顯示區，環繞並設置於該外環部的周緣，該第一非顯示區朝向該第二基板的一側具有一第一透明導電層；以及一第二非顯示區，環繞並設置於該第一非顯示區的周緣，該第二非顯示區朝向該第二基板的一側具有一第二透明導電層；以及一抗蝕刻金屬層，設置於該非顯示區， 其中於該第一非顯示區內，該第一基板朝向該第二基板的一側具有一第一金屬層、一絕緣層、一第二金屬層、一保護層及該第一透明導電層，該第一金屬層設置於該第一基板上且部分覆蓋該第一基板，該絕緣層設置於該第一基板及該第一金屬層上並部分露出該第一金屬層，該第二金屬層設置於該絕緣層上，該保護層設置於該絕緣層上且不與該第一金屬層及該第二金屬層接觸，該第一透明導電層設置於該第二金屬層、該絕緣層及部分露出之該第一金屬層上，其中該抗蝕刻金屬層與該第一透明導電層對應設置。
7. 一種液晶顯示面板的改良結構，包含：一第一基板；以及一第二基板，設置於該第一基板之相對側；其中，該第一基板具有：一顯示區，具有一反射區，該反射區具有複數反射金屬層，該些反射金屬層為陣列設置；一非顯示區，具有：一外環部，環繞並設置於該顯示區的周緣；一第一非顯示區，環繞並設置於該外環部的周緣，該第一非顯示區朝向該第二基板的一側具有一第一透明導電層；以及一第二非顯示區，環繞並設置於該第一非顯示區的周緣，該第二非顯示區朝向該第二基板的一側具有一第二透明導電層；以及一抗蝕刻金屬層，設置於該非顯示區，其中於該第二非顯示區內，該第一基板朝向該第二基板的一側具有一第一金屬層、一絕緣層、一第二金屬層、一保護層及該第二透明導電層，該第一金 屬層設置於該第一基板上且部分露出該第一基板，該絕緣層設置於該第一金屬層上，該第二金屬層設置於該絕緣層上，該保護層設置於該第二金屬層及部分露出的該第一基板上，該第二透明導電層設置於該保護層上且部分露出該保護層，其中該抗蝕刻金屬層設置於該保護層及該第二透明導電層上。
8. 如請求項7所述之液晶顯示面板的改良結構，其中於該第二非顯示區內，該第一基板朝向該第二基板的一側更具有一非顯示區柱狀隔墊物，該非顯示區柱狀隔墊物設置於露出之該保護層上且不與該第二透明導電層接觸。
9. 如請求項7所述之液晶顯示面板的改良結構，其中該抗蝕刻金屬層與該顯示區內的該些反射金屬層具有尺寸相對應的圖案。
10. 如請求項1至9中任一項所述之液晶顯示面板的改良結構，其中該抗蝕刻金屬層的金屬材料相同於該顯示區內的該些反射金屬層的金屬材料。