TWI816082B

TWI816082B - 狹縫噴嘴以及基板處理裝置

Info

Publication number: TWI816082B
Application number: TW110103752A
Authority: TW
Inventors: 安陪裕滋
Original assignee: 日商斯庫林集團股份有限公司
Priority date: 2020-02-26
Filing date: 2021-02-02
Publication date: 2023-09-21
Also published as: JP7162994B2; CN215141551U; KR20210108893A; TW202133313A; JP2021133286A; KR102535156B1

Abstract

本發明使得在狹縫噴嘴及包括所述狹縫噴嘴的基板處理裝置中，能夠有效率地進行用於使吐出量在吐出口的中央部與端部之間均勻化的作業。本發明的狹縫噴嘴包括：噴嘴本體，通過一對唇部隔開間隙地相互相向，形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及調整機構，使一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整吐出口的開口寬度，在一對唇部中的至少一個中，在與和另一個唇部相向的相向面為相反側的面上與吐出口的長邊方向平行地設置有槽，調整機構通過以增減噴嘴本體中的隔著槽而相向的部位的間隔的方式使噴嘴本體變形來調整開口寬度。調整機構具有沿長邊方向排列的多個調整螺絲，調整螺絲與相向面的距離在與吐出口的端部對應的位置處比中央部大。

Description

狹縫噴嘴以及基板處理裝置

本發明關於一種具有狹縫狀的吐出口的狹縫噴嘴、以及使用所述狹縫噴嘴將處理液塗布在基板上的基板處理裝置。再者，所述基板包括：半導體基板、光罩用基板、液晶顯示用基板、有機電致發光(Electroluminescence，EL)顯示用基板、電漿顯示用基板、場發射顯示器(Field Emission Display，FED)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板等。

在半導體裝置或液晶顯示裝置等電子元件等的製造步驟中，使用對基板的表面供給處理液，並將所述處理液塗布在基板上的基板處理裝置。某基板處理裝置一面在使基板浮起的狀態下搬送所述基板，一面將處理液輸送至狹縫噴嘴並自狹縫噴嘴的吐出口朝基板的表面吐出，而將處理液塗布在大致整個基板上。另外，另一種基板處理裝置一面在平臺上吸附保持基板，一面在自狹縫噴嘴的吐出口朝基板的表面吐出的狀態下，使狹縫噴嘴相對於基板進行相對移動來將處理液塗布在大致整個基板上。

近年來，伴隨製品的高品質化，提高通過基板處理裝置來塗布的處理液的膜厚的均勻性變得重要。為了所述目的，提出有一種用於可在沿著狹縫的長邊方向的各位置，個別地調整狹縫狀的吐出口的開口尺寸的結構。例如在專利文獻1中，作為將兩個構件組合並將它們之間的間隙設為吐出口的結構中的調整機構，公開有將差動螺絲在長邊方向上排列多個的現有的結構(圖8)、以及與將其中一個構件在長邊方向上分割，並能夠在吐出口的中央部與端部進行獨立的間隙調整的發明相關的結構(圖2)。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2008-246280號公報

就電子元件的微細化或材料的有效利用等觀點而言，關於塗布的均勻性，要求比目前為止更高的水平。因此，在吐出口的橫跨長邊方向的整個區域中，需要極細緻地調整吐出量。然而，所述現有技術無法應對此種要求。特別是，在長邊方向上的吐出口的中央部附近與端部附近，即使使吐出口的開口寬度以相同的方式變化，吐出量的變化也未必相同。即，吐出量相對於開口寬度的調整的響應靈敏度在吐出口的中央部與端部不同。因此，使吐出量自吐出口的中央部到端部均勻地一致的微調整的作業容易變得繁雜。

本發明是鑒於所述問題而成，其目的在於提供一種在具有狹縫狀的吐出口的狹縫噴嘴及包括所述狹縫噴嘴並將處理液塗布在基板上的基板處理裝置中，可有效率地進行用於使吐出量在吐出口的中央部與端部之間均勻化的作業的技術。

為了實現所述目的，本發明的狹縫噴嘴的一形態包括：噴嘴本體，其中分別具有平坦的相向面的一對唇部以所述相向面彼此隔開間隙地相向的方式配置，而形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及調整機構，使所述一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整所述吐出口的開口寬度，且在所述一對唇部中的至少一個中，在從所述相向面觀看時與另一個所述唇部為相反側的面上，設置有沿著與所述吐出口的長邊方向平行的方向的槽，所述調整機構具有沿著所述長邊方向排列的多個調整螺絲，各個所述調整螺絲在與所述槽的深度方向相交的方向上跨越所述槽而與所述噴嘴本體螺合，通過以增減所述槽的寬度的方式使所述噴嘴本體變形來調整所述開口寬度，與所述相向面正交的正交方向上的所述調整螺絲與所述相向面的距離在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處大。

在如此構成的發明中，由於跨越槽而設置的調整螺絲的擰入量的增減，而在其附近產生唇部的變形，由此，相向面彼此的間隔發生變化，從而結果吐出口的開口寬度發生變化。在此情況下，調整螺絲與相向面的距離越大，則越能以更小的力使唇部變形。其理由在於，在將因調整螺絲的緊固而變形的噴嘴本體的部位考慮為作用點時，所述距離越大，則作用點周圍的力的力矩越大。

在從狹縫噴嘴吐出液體時，難以在吐出口的長邊方向的整個區域實現均勻的吐出量，特別是在吐出口的中央部附近與端部附近，有時吐出量會產生差別。更具體而言，在吐出口的端部附近，例如由於與吐出口周圍的噴嘴內壁的摩擦增加而對液體流通的阻力變大等原因，容易產生吐出量的偏差。因此，為了從吐出口的中央部到端部獲得均勻的吐出量，特別是在端部附近需要開口寬度的微調整。

在具有所述結構的本發明中，與吐出口的中央部相比，在其端部使調整螺絲遠離相向面地配置。因此，能以更小的緊固力使吐出口的開口寬度變化。另一方面，例如若由其旋轉量表示的調整螺絲的擰入量的變化相同，則開口寬度的變化在端部比中央部小。這些特徵具有使端部的微調整容易的效果。即，在本發明中，通過在吐出口的端部附近使其開口寬度的微調整容易，能夠有效率地進行用於使吐出量在吐出口的中央部與端部之間均勻化的作業。

另外，為了實現所述目的，本發明的基板處理裝置的一形態包括：狹縫噴嘴，具有所述結構；相對移動機構，將基板與所述狹縫噴嘴的所述吐出口相向地配置，並且使所述狹縫噴嘴與所述基板在與所述長邊方向相交的方向上相對移動；以及液體供給部，向所述狹縫噴嘴供給處理液，且將自所述吐出口吐出的所述處理液塗布在所述基板的表面。

在如此構成的發明中，通過自使用如上所述的結構而調整了開口寬度的狹縫噴嘴向基板供給處理液，可在長邊方向上穩定地形成膜厚均勻的膜。

如上所述，在本發明的狹縫噴嘴中，成為如下結構：吐出口的開口寬度的微調整在端部附近比吐出口的中央部更容易進行。因此，能夠有效率地進行用於使吐出量在吐出口的中央部與端部之間均勻化的作業。

1:塗布裝置(基板處理裝置)

2:輸入移載部(相對移動機構)

3:浮起平臺部(相對移動機構)

4:輸出移載部(相對移動機構)

5:基板搬送部(相對移動機構)

7:塗布機構

8:塗布液供給機構(液體供給部)

9:控制單元

21、41、101、111:輥式輸送機

22、42:旋轉/升降驅動機構

31:入口浮起平臺

32:塗布平臺

33:出口浮起平臺

34:頂銷驅動機構

35:浮起控制機構

51:夾盤機構

52:吸附/前行控制機構

61:感測器(板厚測定用的感測器)

62:感測器(浮起高度檢測感測器)

71、71A~71F:狹縫噴嘴

72B、72F:墊片

79:噴嘴清洗待機單元

100:輸入輸送機(相對移動機構)

102、112:旋轉驅動機構

110:輸出輸送機

710、710B、710C:噴嘴本體

710F:本體部

711:第一本體部(噴嘴本體、第一本體構件)

711a:第一平坦面(相向面、主表面)

711b:平坦面

711B、711C、711D、711E、711F:第一本體部

711c:第一唇部

711d、711f、711k、712f:槽

711e、712e:主表面

711g:突出部(第一突出部)

711h、712h:螺絲孔(調整機構)

712:第二本體部(噴嘴本體、第二本體構件)

712a:第二平坦面(相向面)

712B、712C、712D、712E、712F:第二本體部

712c:第二唇部

712g:突出部(第二突出部)

713、713C:第一側板

714、714C:第二側板

715、715a、715b:吐出口

716、716a、716b、716c:調整螺絲(調整機構)

721F:突出部位

791:輥

792:清洗部

793:輥棒

Da、Db:距離

Dt:搬送方向

L1、L2:直線

Rc:中央區域

Re:端部區域

S:基板

Sb:背面

Sf:表面

圖1是示意性地表示本發明的基板處理裝置的一實施方式的圖。

圖2是示意性地表示狹縫噴嘴的第一實施方式的分解組裝圖。

圖3是第一實施方式的狹縫噴嘴的三面圖。

圖4的(a)~圖4的(d)是例示槽的深度分佈的圖。

圖5的(a)、圖5的(b)是狹縫噴嘴的剖面圖。

圖6是表示第一實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。

圖7是示意性地表示狹縫噴嘴的第二實施方式的分解組裝圖。

圖8是示意性地表示狹縫噴嘴的第三實施方式的分解組裝圖。

圖9是第三實施方式的狹縫噴嘴的三面圖。

圖10的(a)、圖10的(b)是表示第三實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。

圖11的(a)、圖11的(b)是表示狹縫噴嘴的第四實施方式的圖。

<塗布裝置的整體結構>

圖1是示意性地表示作為本發明的基板處理裝置的一實施方式的塗布裝置的整體結構的圖。所述塗布裝置1是將塗布液塗布在以水平姿勢自圖1的左手側朝右手側搬送的基板S的表面Sf的狹縫塗布機。例如，出於在玻璃基板或半導體基板等各種基板S的表面Sf塗布包含抗蝕膜的材料的塗布液、包含電極材料的塗布液等各種處理液，並形成均勻的塗布膜的目的，可適合地利用所述塗布裝置1。

再者，在以下的各圖中，為了使裝置各部的配置關係變得明確，如圖1所示，設定右手系XYZ正交坐標。將基板S的搬送方向設為“X方向”，將自圖1的左手側朝向右手側的水平方向稱為“+X方向”，將相反方向稱為“-X方向”。另外，將與X方向正交的水平方向Y之中，裝置的正面側(圖中，跟前側)稱為“-Y方向”，並且將裝置的背面側稱為“+Y方向”。進而，將鉛垂方向Z中的上方向及下方向分別稱為“+Z方向”及“-Z方向”。

首先，使用圖1對所述塗布裝置1的結構及動作的概要進行說明，其後，對包括本發明的技術特徵的狹縫噴嘴的詳細的結構及開口尺寸的調整作業進行說明。在塗布裝置1中，輸入輸送機100、輸入移載部2、浮起平臺部3、輸出移載部4、輸出輸送機110沿著基板S的搬送方向Dt，即(+X)方向，按此順序接近地配置。如以下所詳述那樣，通過這些構件來形成在大致水平方向上延長的基板S的搬送路徑。

作為處理對象的基板S被自圖1的左手側搬入至輸入輸送機100。輸入輸送機100包括輥式輸送機(roller conveyor)101、及對輥式輸送機101進行旋轉驅動的旋轉驅動機構102，通過輥式輸送機101的旋轉來將基板S以水平姿勢朝下游側，即(+X)方向搬送。輸入移載部2包括輥式輸送機21、以及具有對輥式輸送機21進行旋轉驅動的功能及使輥式輸送機21升降的功能的旋轉/升降驅動機構22。通過輥式輸送機21進行旋轉，而將基板S進一步朝(+X)方向搬送。另外，通過輥式輸送機21進行升降，而變更基板S的鉛垂方向位置。通過如此構成的輸入移載部2，而將基板S自輸入輸送機100朝浮起平臺部3移載。

浮起平臺部3包括沿著基板的搬送方向Dt一分為三的平板狀的平臺。即，浮起平臺部3包括入口浮起平臺31、塗布平臺32及出口浮起平臺33，所述各平臺的表面相互形成同一平面的一部分。在入口浮起平臺31及出口浮起平臺33各自的表面，呈矩陣狀地設置有多個噴出自浮起控制機構35供給的壓縮空氣的噴出孔，通過由被噴出的氣流所賦予的浮力來使基板S浮起。如此，基板S的背面Sb在自平臺表面分離的狀態下以水平姿勢得到支撐。基板S的背面Sb與平臺表面的距離即浮起量例如可設為10微米~500微米。

另一方面，在塗布平臺32的表面，交替地配置有噴出壓縮空氣的噴出孔、及抽吸基板S的背面Sb與平臺表面之間的空氣的抽吸孔。浮起控制機構35控制來自噴出孔的壓縮空氣的噴出量與來自抽吸孔的抽吸量，由此精密地控制基板S的背面Sb與塗布平臺32的表面的距離。由此，將穿過塗布平臺32的上方的基板S的表面Sf的鉛垂方向位置控制成規定值。作為浮起平臺部3的具體結構，例如可應用日本專利第5346643號中記載的結構。再者，關於塗布平臺32上的浮起量，由控制單元9基於後述的感測器61、感測器62的檢測結果來算出，另外，能夠通過氣流控制來高精度地調整。

另外，在入口浮起平臺31，配設有圖中未出現的頂銷(lift pin)，在浮起平臺部3設置有使所述頂銷升降的頂銷驅動機構34。

經由輸入移載部2而搬入至浮起平臺部3的基板S通過輥式輸送機21的旋轉而被賦予朝(+X)方向的推進力，並被搬送至入口浮起平臺31上。入口浮起平臺31、塗布平臺32及出口浮起平臺33將基板S支撐成浮起狀態，但不具有使基板S在水平方向上移動的功能。浮起平臺部3中的基板S的搬送通過配置在入口浮起平臺31、塗布平臺32及出口浮起平臺33的下方的基板搬送部5來進行。

基板搬送部5包括：夾盤機構51，部分地抵接在基板S的下表面邊緣部，由此自下方支撐基板S；以及吸附/前行控制機構52，具有對設置於夾盤機構51上端的吸附構件的吸附墊(省略圖示)給予負壓來吸附保持基板S的功能、及使夾盤機構51在X方向上往返前行的功能。在夾盤機構51保持基板S的狀態下，基板S的背面Sb位於比浮起平臺部3的各平臺的表面高的位置。因此，基板S由夾盤機構51吸附保持邊緣部，並通過由浮起平臺部3所賦予的浮力，整體維持水平姿勢。為了在由夾盤機構51部分地保持基板S的背面Sb的階段檢測基板S的表面的鉛垂方向位置，而在輥式輸送機21的附近配置板厚測定用的感測器61。未保持基板S的狀態的夾盤(省略圖示)位於所述感測器61的正下方位置，由此感測器61能夠檢測吸附構件的表面，即吸附面的鉛垂方向位置。

夾盤機構51保持被自輸入移載部2搬入至浮起平臺部3的基板S，在此狀態下夾盤機構51朝(+X)方向移動，由此將基板S自入口浮起平臺31的上方經由塗布平臺32的上方而朝出口浮起平臺33的上方搬送。經搬送的基板S被交接至配置在出口浮起平臺33的(+X)側的輸出移載部4。

輸出移載部4包括輥式輸送機41、以及具有對輥式輸送機41進行旋轉驅動的功能及使輥式輸送機41升降的功能的旋轉/升降驅動機構42。輥式輸送機41進行旋轉，由此對基板S賦予朝(+X)方向的推進力，而沿著搬送方向Dt進一步搬送基板S。另外，輥式輸送機41進行升降，由此變更基板S的鉛垂方向位置。通過輸出移載部4來將基板S自出口浮起平臺33的上方朝輸出輸送機110移載。

輸出輸送機110包括輥式輸送機111、及對輥式輸送機111進行旋轉驅動的旋轉驅動機構112，通過輥式輸送機111的旋轉來進一步朝(+X)方向搬送基板S，最終朝塗布裝置1外排出。再者，輸入輸送機100及輸出輸送機110可作為塗布裝置1的結構的一部分來設置，但也可與塗布裝置1分體。另外，例如也可將設置於塗布裝置1的上游側的另一單元的基板排出機構用作輸入輸送機100。另外，也可將設置於塗布裝置1的下游側的另一單元的基板接收機構用作輸出輸送機110。

在以所述方式搬送的基板S的搬送路徑上，配置用於將塗布液塗布在基板S的表面Sf的塗布機構7。塗布機構7具有狹縫噴嘴71。另外，雖然省略圖示，但在狹縫噴嘴71連接有定位機構，通過定位機構來將狹縫噴嘴71定位在塗布平臺32的上方的塗布位置(圖1中由實線表示的位置)或保養位置。進而，在狹縫噴嘴71連接有塗布液供給機構8，自塗布液供給機構8供給塗布液，自在噴嘴下部向下開口的吐出口吐出塗布液。再者，關於狹縫噴嘴71，其後進行詳述。

如圖1所示，在狹縫噴嘴71設置有用於以非接觸方式探測基板S的浮起高度的浮起高度檢測感測器62。通過所述浮起高度檢測感測器 62，能夠測定已浮起的基板S與塗布平臺32的平檯面的表面的分離距離，可經由控制單元9，根據浮起高度檢測感測器62的檢測值來調整狹縫噴嘴71下降的位置。再者，作為浮起高度檢測感測器62，可使用光學式感測器、或超聲波式感測器等。

為了對狹縫噴嘴71進行規定的保養，在塗布機構7設置有噴嘴清洗待機單元79。噴嘴清洗待機單元79主要具有輥791、清洗部792、輥棒793等。而且，在狹縫噴嘴71已被定位在保養位置的狀態下，通過這些構件來進行噴嘴清洗及積液形成，將狹縫噴嘴71的吐出口調整成適合於下一次塗布處理的狀態。

除此以外，在塗布裝置1設置有用於控制裝置各部的動作的控制單元9。控制單元9具有：存儲規定的程序或各種方法等的存儲部、通過執行所述程序來使裝置各部執行規定的動作的中央處理器(Central Processing Unit，CPU)等運算處理部、液晶面板等顯示部、以及鍵盤等輸入部。

以下，對狹縫噴嘴71的具體結構例及吐出口的開口尺寸的調整方法等進行詳述。再者，此處所述的開口尺寸的調整並非以開口尺寸成為固定或事先決定的規定值為目標的調整，而是以作為吐出的結果使形成在基板S的表面的塗布膜的厚度變得均勻為目標而操作員增減開口的大小的調整。

<第一實施方式>

圖2是示意性地表示圖1的塗布裝置中所使用的狹縫噴嘴的第一實施方式的主要結構的分解組裝圖，圖3是所述狹縫噴嘴的三面圖。狹縫噴嘴71具有第一本體部711、第二本體部712、第一側板713及第二側板714。如由點劃線箭頭所示，第一本體部711與第二本體部712以在X方向上相向的狀態結合，在其結合體的(-Y)側端面結合第一側板713，且在(+Y)側端面結合第二側板714來構成噴嘴本體710。

所述各構件例如為自不銹鋼或鋁等的金屬塊削出的構件。再者，構成噴嘴本體710的各構件例如通過如螺栓那樣的適宜的固結構件來固結，由此相互結合，此種結合結構是公知的。因此，為了容易觀察圖式，此處省略固定螺栓或用於插通其的螺絲孔等與固結相關的結構的記載。所述方面在後述的其他實施方式中也同樣。

第一本體部711的與第二本體部712相向之側的主表面，即(+X)側的主表面中的下半部分以成為與YZ平面平行的平坦面711a的方式得到精加工。以下，將所述平坦面711a稱為“第一平坦面”。第一本體部711的與第二本體部712相向之側的主表面中的上半部分也以成為與YZ平面平行的平坦面711b的方式得到精加工。另外，第一本體部711的下部以向下的錐形形狀突出而形成第一唇部711c。平坦面711a、平坦面711b由將Y方向作為長邊方向、將X方向作為深度方向的大致半圓柱形狀的槽711d來隔開。所述槽711d作為塗布液的流路中的歧管發揮功能。

另一方面，第二本體部712的與第一本體部711相向之側的主表面，即(-X)側的主表面成為與YZ平面平行的單一的平坦面712a。以下，將所述平坦面712a稱為“第二平坦面”。另外，第二本體部712的下部以向下的錐形形狀突出而形成第二唇部712c。以平坦面711b與第二平坦面712a中的上半部分密接的方式，將第一本體部711與第二本體部712結合。

第一平坦面711a與平坦面711b相比略微朝(-X)側後退。因此，在第一本體部711與第二本體部712結合的狀態下，第一平坦面711a與第二平坦面712a隔開微小的間隙平行地相向。如此相互相向的相向面(第一平坦面711a、第二平坦面712a)之間的間隙部分成為來自歧管的塗布液的流路，其下端作為朝向基板S的表面Sf向下開口的吐出口715(圖3)發揮功能。吐出口715是將Y方向作為長邊方向且X方向上的開口尺寸微小的狹縫狀的開口。

在第二本體部712的主表面中的與第二平坦面712a為相反側的主表面712e上，設置有沿著Y方向延長的槽712f。關於槽712f的深度將在後面敘述。槽712f在Y方向上橫跨第二本體部712的整個區域而連續地設置。因此，第二本體部712中的比槽712f更下部成為在Y方向上具有大致相同的剖面形狀並向(+X)方向突出的突出部712g。

在突出部712g的下表面上設置有沿上下方向貫通突出部712g的螺絲孔712h。螺絲孔712h在突出部712g的下表面沿著Y方向且以均等的間距設置多個。如後所述，在各螺絲孔712h安裝有用於調整吐出口715在X方向的開口尺寸的調整螺絲716。調整螺絲716在與槽712f的深度方向(X方向)相交的Z方向上跨越所述槽712f而設置，其上端到達槽712f的上表面。

相對於螺絲孔712h的調整螺絲716跨越槽712f而設置，因此當使其擰入量變化時，第二本體部712繞槽712f的延伸方向(Y方向)的軸略微變形，隔著槽712f相互相向的兩側部位的間隔、即槽712f的寬度增減。具體而言，相對於第二本體部712中的比槽712f更靠上側的部位，比槽712f更靠下側的突出部712g相對地向接近或分離的方向位移，由此兩者的間隔發生變化。

隨著此種位移，與突出部712g連接的第二唇部712c向X方向、即向相對於相向的第一唇部711c接近、分離的方向位移。如此，相互相向的第一唇部711c與第二唇部712c相對地向接近方向及分離方向位移，由此，兩者的間隔、即吐出口715的開口寬度發生變化。因此，可通過調整螺絲716的擰入量來調整吐出口715的開口寬度。通過沿著吐出口715的長邊方向排列多個調整螺絲716，能夠在所述方向上的各位置進行開口寬度的調整。

調整螺絲716例如是差動螺絲。關於使用差動螺絲作為調整螺絲時的調整吐出口的開口尺寸的方法的原理，例如記載在日本專利特開平09-131561號公報中，在本實施方式中也可使用同樣的原理，因此此處省略詳細的說明。

再者，為了容易理解圖式，在圖2及圖3中記載了比實際少的調整螺絲716的配置數量。即，在實際的裝置中，以比這些圖更細微的排列間距配置更多的調整螺絲716。

圖4的(a)~圖4的(d)是例示調整螺絲的配置的圖。更具體而言，圖4的(a)至圖4的(d)是相當於圖3的A-A線剖面的噴嘴本體710的剖面圖，分別表示調整螺絲716的配置與槽712f的深度分佈的關係的一例。如這些圖所示，調整螺絲716並非在Y方向上配置成一列，在長邊方向(Y方向)上的吐出口715的中央部與兩端部配置不同。

更具體而言，在圖4的(a)所示的例子中，調整螺絲716以在長邊方向上的中央區域Rc中在沿Y方向延伸的假想的直線L1上排列的方式配置成一列。另一方面，在與中央區域Rc鄰接的兩側的端部區域Re中，在從第二平坦面712a觀看時比直線L1遠的位置，即在向(+X)方向偏移的位置沿Y方向延伸的假想的直線L2上，配置調整螺絲716。以下，在需要特別區別的情況下，利用符號716a表示配置在中央區域Rc的調整螺絲，另一方面，利用符號716b表示配置在端部區域Re的調整螺絲。

若利用Da表示調整螺絲716a與第二平坦面712a的距離，利用Db表示調整螺絲716b與第二平坦面712a的距離，則Db>Da的關係成立。再者，此處利用調整螺絲716的中心軸與第二平坦面712a的間隔來定義距離Da、距離Db，但也可代替此，例如利用調整螺絲716中的最接近第二平坦面712a的部位與第二平坦面712a的間隔來表示。另一方面，槽712f的深度一定。換言之，從槽712f的底部到第二平坦面712a的第二本體部712的厚度(壁厚)在Y方向上一定。

在圖4的(b)所示的例子中，中央區域Rc中的調整螺絲716a的配置與所述相同，但在端部區域Re中，以越Y方向上的外側距第二平坦面712a的距離越大的方式配置調整螺絲716b、調整螺絲716c。如此，在著眼於在Y方向上相互鄰接的任意兩個調整螺絲716時，在它們之間，只要如下關係成立即可：在Y方向上位於外側其中一個的調整螺絲716與第二平坦面712a的距離和另一個調整螺絲716與第二平坦面712a的距離相等或更大。再者，在所述例子中，第二本體部712的厚度(壁厚)也在Y方向上一定。

另外，在圖4的(c)及圖4的(d)所示的例子中，調整螺絲716(716a、716b)的配置與圖4的(a)所示的例子相同。另一方面，槽712f的深度在中央區域Rc與端部區域Re不同。在圖4的(c)所示的例子中，與中央區域Rc相比，在端部區域Re中槽712f變深。即，槽712f的底部與第二平坦面712a之間的第二本體部712的壁厚在端部區域Re中比中央區域Rc更薄。

如此，在圖4的(c)所示的例子中，調整螺絲716的配置變化、槽712f的深度的變化產生在大致相同的位置。另一方面，在圖4的(d)所示的例子中，槽712f的深度的變化在中央區域Rc中也是在更靠近中央處產生。因此，產生調整螺絲716的配置變化的位置與產生槽712f的深度變化的位置不同。

調整螺絲716的配置與狹縫噴嘴71的槽712f所具有的深度分佈的關係可以是它們中的任一個。另外，也可將圖4的(b)所示的調整螺絲716的配置與圖4的(c)或圖4的(d)所示的槽712f的深度分佈組合。另外，在這些例子中，沿Y方向排列的調整螺絲716中的從外側起兩個配置在比中央區域Rc的調整螺絲716a更靠(+X)側。然而，所述數量可為1個，另外也可為3個以上。

接下來，對通過如此那樣設定調整螺絲716的配置及槽712f的深度而獲得的作用效果如下述進行說明。首先，以圖4的(a)所示的結構為代表例進行說明。

圖5的(a)、圖5的(b)是狹縫噴嘴的剖面圖。更詳細而言，圖5的(a)是圖3的B-B線剖面圖，圖5的(b)是圖3的C-C線剖面圖。再者，圖4的(a)的B-B線與圖3的B-B線對應，圖4的(a)的C-C線與圖3的C-C線對應。如圖5的(a)所示，在吐出口715的與Y方向上的中央部對應的B-B線剖面中，第二平坦面712a與調整螺絲716(716a)的距離Da相對較小。另一方面，如圖5的(b)所示，在吐出口715的與Y方向上的中央部對應的C-C線剖面中，第二平坦面712a與調整螺絲716(716b)的距離Db更大。槽712f的深度(第二本體部712的壁厚)均相同。

關於因調整螺絲716的緊固力的變化而在第二本體部712中實際變形的變形部位(槽712f的底部與第二平坦面712a之間的部位)周圍產生的力的力矩，到調整螺絲716為止的距離大的圖5的(b)的情況更大。因此，在比中央區域Rc更靠端部區域Re中，能夠以更小的力使第二本體部712變形。

另一方面，與吐出口715的開口尺寸的變化直接相關的第二唇部712c的位移量如下所述。使中央區域Rc的調整螺絲716a與端部區域Re的調整螺絲716b以相同的旋轉角度旋轉時的開口寬度的變化在到變形部位為止的距離大的端部區域Re中，比中央區域Rc小一些。

由於這些特徵，與中央區域Rc相比，端部區域Re更容易進行開口尺寸的微調整。其結果，在與中央區域Rc相比，吐出量的偏差c容易變大的端部區域Re中，也能夠通過細緻地調整開口尺寸，而使吐出量在與中央區域Rc之間一致。由此，對操作員來說，能夠效率良好地進行用於使吐出量均勻化的調整作業。在吐出量的偏差相對較小的中央區域Rc中，可將調整螺絲716a配置於Y方向的一直線上，即，使距第二平坦面712a的距離相互相等。

在圖4的(b)所示的例子中，在端部區域Re中成為如下配置：越外側的調整螺絲716位於越遠離第二平坦面712a的位置。若如此，則使得在端部區域Re中，可越Y方向的外側越細緻地調整開口尺寸，這也有益於調整作業的效率化。

另外，在圖4的(c)及圖4的(d)所示的例子中，除了所述調整螺絲716的配置以外，還使槽712f的深度(第二本體部712的壁厚)變化。所述壁厚越小，則所述部位中的第二本體部712的彎曲剛性越小，因此比壁厚大的部分更容易變形。這與如上所述那樣將調整螺絲716遠離第二平坦面712a地配置的對策同樣，有助於端部區域Re中的開口尺寸的調整。

在圖4的(c)及圖4的(d)所示的例子中，通過將調整螺絲716的配置變化與槽712f的深度變化組合，欲實現端部區域Re中的調整作業的進一步的效率化。其中，在圖4的(c)所示的結構中，調整螺絲716的配置帶來的影響與槽712f的深度變化帶來的影響在Y方向上出現在大致相同的位置。因此，基於操作員的作業性在中央區域Rc與端部區域Re之間急劇地變化。另一方面，在圖4的(d)所示的結構中，調整螺絲716的配置帶來的影響與槽712f的深度變化帶來的影響在Y方向上出現在不同的位置，因此可進一步緩和此種作業性的變化。

關於調整螺絲716的配置、具體而言為如何設定與第二平坦面712a的距離、而且如何與槽712f的深度分佈組合，理想的是根據吐出口715的開口寬度的大小或所使用的塗布液的黏度、所需要的塗膜的厚度等而適宜最佳化。

再者，在所述第一實施方式的狹縫噴嘴71中，在Y方向上在第二本體部712以一定的排列間距配置有調整螺絲716。然而，如以下作為變形例所示，也可使調整螺絲的排列間距不均等。另外，作為基於同樣的技術思想而構成的狹縫噴嘴，除了所述以外，還可考慮其他實施方式。以下，依序對此種其他結構例進行說明。在以下的說明中，為了容易理解與其他實施方式的對比，對與現有的結構相同、或雖有輕微的差異但具有相當的功能的結構標注相同的符號。

圖6是表示第一實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。在圖6所示的變形例的狹縫噴嘴71A中，在吐出口715的Y方向上的中央部的中央區域Rc中以相對較粗的排列間距配置調整螺絲716a，另一方面，在吐出口715的Y方向上的端部附近的端部區域Re中以更細微的排列間距配置調整螺絲716b。而且，配置在端部區域Re的調整螺絲716b與配置在中央區域Rc的調整螺絲716a相比，在X方向上配置得更遠離吐出口715。

在使用狹縫噴嘴的塗布中，在所形成的塗布膜的中央部容易獲得相對較均勻的膜，但在端部附近，容易產生由高黏度的塗布液的隆起或低黏度的塗布液向外側流出等引起的塗布膜的紊亂。為了抑制此種紊亂，理想的是在長邊方向上的吐出口715的端部附近能夠以比中央部更精細的分辨率進行調整。本變形例的狹縫噴嘴71A能夠滿足此種要求。

換言之，通過在容易獲得相對較均勻性的中央區域Rc增大調整螺絲716a的排列間距，可實現零件數及調整工時的削減，從而能夠還有助於裝置成本及運行成本的降低。

<第二實施方式>

圖7是示意性地表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第二實施方式的主要結構的分解組裝圖。對於此種狹縫噴嘴，成為在由高剛性的材料形成的兩個本體構件之間夾入薄板狀的墊片的結構。圖7所示的第二實施方式的狹縫噴嘴71B具有此種結構。

在狹縫噴嘴71B中，具有相互相向的平坦面的第一本體部711B與第二本體部712B夾著墊片72B而結合，由此構成噴嘴本體710B。在第一本體部711B中，在與第二本體部712B相向之側的平坦的主表面711a上，設置有作為塗布液的歧管發揮功能的大致半圓柱形狀的槽711k。墊片72B是將成為塗布液的流路的部分切開的例如金屬制的薄板，通過夾入在第一本體部711B與第二本體部712B之間，規定兩者之間的間隙並且形成塗布液的流路。

除了這些方面以外，第一本體部711B及第二本體部712B的形狀與第一實施方式的對應的結構711、結構712相同。即，在第二本體部712B的主表面中的與和第一本體部711B相向的面712a為相反側的面712e上設置有槽712f，多個調整螺絲716(716a、716b)以跨越所述槽712f的方式沿Y方向排列。槽712f的形狀及調整螺絲716(716a、716b)的配置以及功能與所述實施方式相同，由此帶來的作用效果也相同。

如此，基於本發明的技術思想的吐出口開口寬度的調整機構也能夠應用於使用墊片來規定間隙的噴嘴、不使用墊片的噴嘴中的任一個。

<第三實施方式>

圖8是示意性地表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第三實施方式的主要結構的分解組裝圖，圖9是所述狹縫噴嘴的三面圖。本實施方式的狹縫噴嘴71C具有第一本體部711C、第二本體部712C、第一側板713C及第二側板714C。其中，第二本體部712C的結構與所述第一實施方式的第二本體部712相同。與第一實施方式同樣地，將它們結合而構成噴嘴本體710C。

在第一實施方式中，僅在第二本體部712上設置有用於調整吐出口的開口寬度的機構(具體而言是槽712f及調整螺絲716)。另一方面，在所述實施方式中，在第一本體部711C、第二本體部712C的雙方設置有同樣的調整機構。更具體而言，在第一本體部711C的主表面中的與第一平坦面711a為相反側的主表面711e上，設置有沿著Y方向延長的槽711f。槽711f在Y方向上橫跨第一本體部711的整個區域以均勻的剖面形狀設置。因此，第一本體部711C中的比槽711f更下部成為在Y方向上具有大致相同的剖面形狀並向(-X)方向突出的突出部711g。在需要區分分別設置於兩個本體部711C、712C的突出部的情況下，有時分別將其稱為“第一突出部”、“第二突出部”。

在第一突出部711g及第二突出部712g的下表面，設置有沿上下方向貫穿它們的螺絲孔711h、螺絲孔712h。螺絲孔711h在第一突出部711g的下表面，沿著Y方向設置有多個。另外，螺絲孔712h在第二突出部712g的下表面，沿著Y方向設置有多個。關於螺絲孔711h、螺絲孔712h中的位於Y方向上的端部附近的幾個螺絲孔，相較於位於更靠中央側的螺絲孔而在X方向上配設在更外側。在各螺絲孔711h、螺絲孔712h，安裝用於調整吐出口715的X方向的開口尺寸的調整螺絲716。調整螺絲716跨越槽711f、槽712f，其上端到達槽711f、槽712f的上表面。

如圖9下部的仰視圖所示，在第一本體部711C與第二本體部712C之間，調整螺絲716的配設位置在Y方向上不同。具體而言，在Y方向上，以第一本體部711C側的調整螺絲716位於在第二本體部712C側相鄰的兩個調整螺絲716、716之間的方式，配置各螺絲孔711h、螺絲孔712h。因此，在自下表面側觀察狹縫噴嘴71C時，各調整螺絲716沿著Y方向成為所謂的交錯配置。

通過將調整螺絲716設為此種配置，獲得如下所述的效果。即，在沿著Y方向延長的吐出口715中，於在第一本體部711C設置有調整螺絲716的位置附近，通過第一唇部711c的位移來調整開口尺寸，另一方面，於在第二本體部712C設置有調整螺絲716的位置附近，通過第二唇部712c的位移來調整開口尺寸。

因此，與僅在第一本體部711C或第二本體部712C的一個配置調整螺絲的結構相比，能夠更細緻地進行開口尺寸的調整。即，通過在第一本體部711C及第二本體部712C分別排列調整螺絲716，且將這些調整螺絲716設為交錯配置的結構，與僅在任一個配置調整螺絲的情況相比，能夠將調整的“分辨率”提高至2倍。另外，若為了獲得同等的分辨率，則可將必要的調整螺絲的排列間距擴大至2倍，因此各構件的機械強度的確保也容易。

在所述實施方式中，設置在第一本體部711C的槽711f與跨越所述槽711f的調整螺絲716的關係、及設置在第二本體部712C的槽712f與跨越所述槽712f的調整螺絲716的關係中的一者或兩者為與圖4的(a)至圖4的(d)所示的第二本體部712相同的關係。由此，與所述實施方式同樣地，可使吐出口715的端部附近的開口尺寸的調整容易，實現用於使吐出量在中央部與端部一致的調整作業的效率化。端部的調整螺絲716b的配置數可在第一本體部711C與第二本體部712C之間相同，也可如圖9所示那樣不同。這一點在後述的變形例中也相同。

再者，出於僅獲得與第一實施方式同等的效果的目的出發，當在第一本體部711及第二本體部712的雙方排列調整螺絲716時，也可考慮使其配設位置在Y方向上相同。然而，在此情況下，無法獲得通過如上所述那樣將調整螺絲設為交錯配置而獲得的分辨率的提高效果。另外，由於兩個調整機構相對於吐出口中的長邊方向上的一個位置獨立地發揮作用，因此有時調整作業反而會變得麻煩。

圖10的(a)、圖10的(b)是表示第三實施方式的狹縫噴嘴的變形例的圖。在圖10的(a)所示的變形例的狹縫噴嘴71D及圖10的(b)所示的變形例的狹縫噴嘴71E中，與圖6所示的第一實施方式的變形例的狹縫噴嘴71A同樣地，調整螺絲716的排列間距變得不均等。具體而言，在圖10的(a)所示的變形例的狹縫噴嘴71D中，在第一本體部711D及第二本體部712D的各者中，在吐出口715的Y方向上的中央區域Rc以相對較粗的排列間距配置調整螺絲716a，另一方面，在吐出口715的Y方向上的端部區域Re以更細微的排列間距配置調整螺絲716b。

另外，在圖10的(b)中所示的變形例的狹縫噴嘴71E中，自同樣的觀點出發，在中央附近，僅在第二本體部712E配置調整螺絲716a，在第一本體部711E中省略調整螺絲716。由此，實用上能夠保持塗布膜的均勻性，並進一步削減零件數及調整工時。再者，與此相對，即便省略第二本體部712E側的調整螺絲，當然也無妨。

<第四實施方式>

接著，對可應用於塗布裝置1的狹縫噴嘴的第四實施方式進行說明。在所述各實施方式中，在狹縫噴嘴的長邊方向(Y方向)上設置有單一的吐出口。然而，在此種塗布裝置中，也存在如將吐出口在長邊方向上分割成多個，同時形成多個塗布膜那樣的利用形態。接下來所示的第四實施方式的狹縫噴嘴71F對應於此種需求。

圖11的(a)、圖11的(b)是表示在圖1的塗布裝置中使用的狹縫噴嘴的第四實施方式的圖。更具體而言，圖11的(a)是示意性地表示本實施方式的狹縫噴嘴71F的主要結構的分解組裝圖。另外，圖11的(b)是狹縫噴嘴71F的仰視圖及以包含與槽712f對應的位置的水平面為切斷面的狹縫噴嘴71F的剖面圖，其中，剖面圖是相當於第一實施方式中圖3所示的A-A線剖面圖的圖。

在所述實施方式中，通過在第一本體部711F與第二本體部712F之間夾入墊片72F而構成本體部710F。在墊片72F的中央部設置有作為流路的間隔壁發揮作用的突出部位721F，由此，塗布液的流路被劃分為兩個。突出部位721F延長到第一唇部711c及第二唇部712c的下端為止，在這些下端分別形成有將Y方向作為長邊方向且沿Y方向排列的兩個吐出口715a、715b。

在此情況下，為了在兩個吐出口715a、715b的各者實現“實現使吐出量在中央部與端部一致的調整動作的效率提高”的目的，調整螺絲716的配設位置在各吐出口715a、吐出口715b的中央區域Rc與端部區域Re不同。具體而言，如圖11的(b)所示，在吐出口715a、吐出口715b各自的中央區域Rc中，調整螺絲716a在Y方向上配置成一列。另一方面，在吐出口715a、吐出口715b各自的端部區域Re中，調整螺絲716b配置在比中央區域Rc的調整螺絲716a更向(+X)方向偏移的位置。

再者，在圖11的(b)中，槽712f的深度分佈一定，其作為與吐出口的關係而與圖4的(a)對應，但當然也可為圖4的(b)~圖4的(d)所示的形狀。在此情況下，在吐出口715a、吐出口715b的各者中，只要槽712f在其端部區域Re中比中央區域Rc深即可。

再者，由於同樣的概念在圖2、圖6、圖8等中已經示出，因此省略圖示，但在第四實施方式中，作為其變形例考慮如下結構。即，所述第四實施方式的狹縫噴嘴71F由被第一本體部711F及第二本體部712F夾持的墊片72F形成兩個流路及兩個吐出口。然而，如圖2所示的例子那樣，通過變更第一本體部及第二本體部中的至少一個的形狀，在不使用墊片且形成流路及吐出口的噴嘴中也能夠應用與所述同樣的想法。

另外，如圖6所示的例子那樣，也可使調整螺絲716的排列間距在與各吐出口的中央部對應的區域寬，在與端部相當的區域窄。進而，如圖8所示的例子那樣，也可在兩個本體部分別設置調整機構(槽及調整螺絲)。

如此，在所述各實施方式中，根據目的，而且根據裝置或塗布液的特性，適宜設定增減設置於噴嘴本體的槽的寬度的調整螺絲716的配置，進行開口尺寸的調整，由此，能夠進一步效率良好地實現可獲得均勻的塗布膜的塗布條件。

<其他>

如以上說明那樣，在所述各實施方式中，第一唇部711c與第二唇部712c構成“一對唇部”，第一本體部711及第二本體部712分別作為本發明的“第一本體構件”及“第二本體構件”發揮功能。另外，相互相向的第一本體部的第一平坦面711a及第二本體部的第二平坦面712a相當於本發明的“相向面”。另外，設置於第一本體部711的螺絲孔711h、調整螺絲716等一體地作為本發明的“調整機構”發揮功能。另外，關於設置於第二本體部712的螺絲孔712h、調整螺絲716等，它們也一體地作為本發明的“調整機構”發揮功能。另外，槽711f、槽712f相當於本發明的“槽”。

另外，所述實施方式的塗布裝置1相當於本發明的“基板處理裝置”，輸入輸送機100、輸入移載部2、浮起平臺部3、輸出移載部4、輸出輸送機110、基板搬送部5等一體地構成本發明的“相對移動機構”。另外，塗布液供給機構8作為本發明的“液體供給部”發揮功能。

再者，本發明並不限定於所述實施方式，只要不脫離其主旨，則除所述實施方式以外，可進行各種變更。例如在所述實施方式中，在第二本體部712的側面設置槽712f，通過自下方安裝的調整螺絲716來調整吐出口715的開口尺寸。然而，並不限定於此，也可為利用其他方式來調整開口尺寸的結構。例如，也可在噴嘴的下表面設置槽，利用設置於水平方向上的調整螺絲使噴嘴進行彈性變形來增減開口尺寸。

另外，例如在所述實施方式中，作為調整螺絲，使用對於使開口尺寸擴大的方向及縮小的方向的任一方向均主動地發揮作用的差動螺絲，但例如通過如將事先設定得大的開口尺寸縮小、或相反地將事先設定得小的開口尺寸擴大那樣僅具有單方向的調整功能的調整螺絲，也可進行適當的開口尺寸的調整。

另外，在所述實施方式中，通過在狹縫噴嘴71的下方搬送基板S來實現狹縫噴嘴71與基板S的相對移動。然而，兩者的相對移動的實現方法並不限定於所述方法。例如在狹縫噴嘴相對於保持在平臺上的基板進行掃描移動的結構中，本發明也有效地發揮功能。另外，基板的搬送形式並不限定於如上所述那樣的浮起式的搬送形式，例如可應用輥式搬送、帶式搬送、利用移動平臺的搬送等各種搬送形式。

進而，在所述實施方式中，對將塗布液供給至基板S的表面Sf的塗布裝置1應用本發明，但本發明的應用對象並不限定於此，可應用於一面通過對狹縫噴嘴輸送處理液來自所述狹縫噴嘴朝基板的表面供給處理液，一面相對於狹縫噴嘴進行相對移動來實施規定的處理的所有基板處理技術。

以上，如例示具體的實施方式並進行了說明那樣，本發明的狹縫噴嘴中，槽的底部與相向面之間的唇部的壁厚可在長邊方向上一定，另外，例如與端部對應的位置處的壁厚也可比與中央部對應的位置處的壁厚小。在任一種結構中均可獲得本發明的效果。若在端部減小壁厚，則噴嘴本體的彎曲剛性在端部中比中央部小，因此能夠進一步減小調整所需要的力。

另外，例如，也可為如下結構：多個調整螺絲的各者與相向面在正交方向上的距離沿著長邊方向呈多階段地變化。具體而言，只要如下關係成立即可：在長邊方向上鄰接的兩個調整螺絲中的位於長邊方向的外側的其中一個調整螺絲與相向面的距離和另一個調整螺絲與相向面的距離相等或更大，只有在此條件下，作為調整螺絲的配置，考慮各種配置。

另外，例如，也可為如下結構：在與中央部對應的位置上所配置的多個調整螺絲之間，正交方向上的與相向面的距離相等。在長邊方向上的吐出口的中央部中吐出量相對較穩定。因此，關於配置在所述部分的調整螺絲，即使為與相向面的距離相互相等那樣的配置，也能夠良好地進行吐出量的調整。

另外，例如，槽及調整機構也可與一對唇部分別對應地設置。根據此種結構，可在構成吐出口的一對唇部的各者進行開口寬度的調整，因此與僅調整其中一個唇部的結構相比，能夠更細緻地進行調整作業。

在此情況下，在設置於其中一個唇部的調整螺絲與設置於另一個唇部的調整螺絲之間，長邊方向上的配設位置互不相同。根據此種結構，其中一個唇部的調整位置與另一個唇部的調整位置在長邊方向上不同，因此可以更細微的調整間距調整開口寬度。

進而，多個調整螺絲的排列間距例如可在與吐出口在長邊方向上的端部對應的位置處，比在與吐出口在長邊方向上的中央部對應的位置處小。根據此種結構，能夠在容易產生吐出量的偏差的吐出口的端部中極細緻地調整開口寬度，從而能夠效率良好地進行使吐出量均勻化的作業。

另外，例如，噴嘴本體也可為通過將分別具有唇部的第一本體構件與第二本體構件結合而形成的結構。根據所述結構，可使設置於第一本體構件與第二本體構件之間的間隙作為液體的流路及吐出口發揮功能。在此情況下，第一本體構件與第二本體構件也可隔著規定間隙的墊片而結合。

另外，本發明的基板處理裝置也可利用處理液在基板的表面形成均勻的塗布膜。在使用狹縫噴嘴形成均勻的塗布膜的情況下，在噴嘴的吐出口的中央部與端部吐出量不同，由此有時塗布膜的厚度會產生偏差。通過將本發明應用於此種裝置，能夠在吐出口的整個區域有效率地進行用於形成均勻的塗布膜的調整作業。

[產業上的可利用性]

本發明可應用於具有狹縫狀的吐出口的狹縫噴嘴、以及使用所述狹縫噴嘴將處理液塗布在基板上的所有基板處理裝置。

71:狹縫噴嘴

711:第一本體部(噴嘴本體、第一本體構件)

712:第二本體部(噴嘴本體、第二本體構件)

712a:第二平坦面(相向面)

712f:槽

713:第一側板

714:第二側板

716、716a、716b、716c:調整螺絲(調整機構)

Da、Db:距離

Rc:中央區域

Re:端部區域

L1、L2:直線

Claims

一種狹縫噴嘴，其特徵在於包括：噴嘴本體，其中分別具有平坦的相向面的一對唇部以所述相向面彼此隔開間隙地相向的方式配置，而形成呈狹縫狀開口的吐出口；以及調整機構，使所述一對唇部相對地向接近方向及分離方向位移來調整所述吐出口的開口寬度，且在所述一對唇部中的至少一個中，在從所述相向面觀看時與另一個所述唇部為相反側的面上，設置有沿著與所述吐出口的長邊方向平行的方向的槽，所述調整機構具有沿著所述長邊方向排列的多個調整螺絲，各個所述調整螺絲在與所述槽的深度方向相交的方向上跨越所述槽而與所述噴嘴本體螺合，通過以增減所述槽的寬度的方式使所述噴嘴本體變形來調整所述開口寬度，與所述相向面正交的正交方向上的所述調整螺絲與所述相向面的距離在與所述吐出口在所述長邊方向上的端部對應的位置處，比在與所述吐出口在所述長邊方向上的中央部對應的位置處大。
如請求項1所述的狹縫噴嘴，其中所述槽的底部與所述相向面之間的所述唇部的壁厚在所述長邊方向上一定。
如請求項1所述的狹縫噴嘴，其中與所述端部對應的位置處的、所述槽的底部與所述相向面之間的所述唇部的壁厚比與所述中央部對應的位置處的所述壁厚小。
如請求項1至3中任一項所述的狹縫噴嘴，其中所述多個調整螺絲的各者與所述相向面在所述正交方向上的距離沿著所述長邊方向呈多階段地變化。
如請求項1至3中任一項所述的狹縫噴嘴，其中在所述長邊方向上鄰接的兩個所述調整螺絲中的位於所述長邊方向的外側的其中一個所述調整螺絲與所述相向面的距離和另一個所述調整螺絲與所述相向面的距離相等或更大。
如請求項1至3中任一項所述的狹縫噴嘴，其中在與所述中央部對應的位置上所配置的多個所述調整螺絲之間，所述正交方向上的與所述相向面的距離相等。
如請求項1至3中任一項所述的狹縫噴嘴，其中所述槽及所述調整機構與所述一對唇部分別對應地設置。
如請求項7所述的狹縫噴嘴，其中在設置於所述一對唇部中的其中一個所述唇部的所述調整螺絲與設置於另一個所述唇部的所述調整螺絲之間，所述長邊方向上的配設位置互不相同。
如請求項1至3中任一項所述的狹縫噴嘴，其中所述噴嘴本體通過將分別具有所述唇部的第一本體構件與第二本體構件結合而形成。
如請求項9所述的狹縫噴嘴，其中所述第一本體構件與所述第二本體構件隔著規定所述間隙的墊片而結合。
一種基板處理裝置，其特徵在於包括：如請求項1至10中任一項所述的狹縫噴嘴；相對移動機構，將基板與所述狹縫噴嘴的所述吐出口相向地配置，並且使所述狹縫噴嘴與所述基板在與所述長邊方向相交的方向上相對移動；以及液體供給部，向所述狹縫噴嘴供給處理液，且將自所述吐出口吐出的所述處理液塗布在所述基板的表面。
如請求項11所述的基板處理裝置，其中利用所述處理液在所述基板的表面形成均勻的塗布膜。