TWI809906B - 正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔壁 - Google Patents
正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔壁 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI809906B TWI809906B TW111120204A TW111120204A TWI809906B TW I809906 B TWI809906 B TW I809906B TW 111120204 A TW111120204 A TW 111120204A TW 111120204 A TW111120204 A TW 111120204A TW I809906 B TWI809906 B TW I809906B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- acid
- resin composition
- photosensitive resin
- mass
- Prior art date
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 111
- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 173
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 173
- -1 metal complex ions Chemical class 0.000 claims abstract description 156
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 79
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 claims abstract description 54
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims abstract description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 85
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 82
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 56
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 43
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 39
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 38
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 32
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 27
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 24
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 22
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 49
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 32
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 29
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 22
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 18
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 18
- 239000002585 base Substances 0.000 description 17
- 238000011161 development Methods 0.000 description 17
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 17
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 8
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 7
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 6
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N zirconium(4+) ion Chemical compound [Zr+4] GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC=C1O WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 3
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 3
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 150000005165 hydroxybenzoic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 3
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 3
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 3
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- 150000003456 sulfonamides Chemical group 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical class OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-ethyl Chemical group C[CH]OC JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 1-nonene Chemical compound CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKTCBAGSMQIFNL-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrofuran Chemical compound C1CC=CO1 JKTCBAGSMQIFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=CC=C1O AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AISZNMCRXZWVAT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfanylcarbothioylsulfanyl-2-methylpropanenitrile Chemical compound CCSC(=S)SC(C)(C)C#N AISZNMCRXZWVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC(O)=O WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1 UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Natural products CCC=CCC=CCC=CCC=CCCCCC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012987 RAFT agent Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKXYIPEUCVBIB-UHFFFAOYSA-N [[3-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] propane-1-sulfonate Chemical compound CCCS(=O)(=O)ON=C1SC=CC1=C(C#N)C1=CC=CC=C1C PYKXYIPEUCVBIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 2
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBSFWRHWHYMIOG-UHFFFAOYSA-N methyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 FBSFWRHWHYMIOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N tert-butoxycarbonyl anhydride Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OC(=O)OC(C)(C)C DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl formate Chemical group CC(C)(C)OC=O RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001124 (E)-prop-1-ene-1,2,3-tricarboxylic acid Substances 0.000 description 1
- CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N (e)-2-cyano-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=CC=C1 CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- FWUIHQFQLSWYED-ARJAWSKDSA-N (z)-4-oxo-4-propan-2-yloxybut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)OC(=O)\C=C/C(O)=O FWUIHQFQLSWYED-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- CEGRHPCDLKAHJD-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-propanetricarboxylic acid Chemical compound CCC(C(O)=O)(C(O)=O)C(O)=O CEGRHPCDLKAHJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEWWCWZGHNIUBW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-nitrophenyl)propan-2-one Chemical compound CC(=O)CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 GEWWCWZGHNIUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylperoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOOCCCCCCCCCCCC LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methoxyethane Chemical compound CCOCCOC CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Bisphenol F Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1O MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- CDPPYCZVWYZBJH-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetramethylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(C)(C)C(O)=O CDPPYCZVWYZBJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMMYZOSYBMIWIR-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethyl-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-ylperoxy)pentane Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)OOC(C)(C)CC(C)(C)C ZMMYZOSYBMIWIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRRSNXCXLSVPFC-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-Trihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O BRRSNXCXLSVPFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940082044 2,3-dihydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- HGEFWFBFQKWVMY-DUXPYHPUSA-N 2,4-dihydroxy-trans cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1O HGEFWFBFQKWVMY-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUMMBDBTERQYCG-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis(hydroxymethyl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(CO)=C(O)C(CO)=C1 KUMMBDBTERQYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEAVCVNITMWRHQ-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-benzimidazol-2-yl)-4,5,6,7-tetrahydro-1h-indazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2NC(N3NC=4CCCCC=4C3=O)=NC2=C1 PEAVCVNITMWRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical class ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXQGTIUCKGYOAA-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutanoic acid Chemical compound CCC(CC)C(O)=O OXQGTIUCKGYOAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXVXPASMKWYBFD-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-hydroxy-3-(hydroxymethyl)-5-methylphenyl]methyl]-6-(hydroxymethyl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(CO)=C(O)C(CC=2C(=C(CO)C=C(C)C=2)O)=C1 BXVXPASMKWYBFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC(C(C=2C=C(N)C(O)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGDMDBHLKNQPSD-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-amino-3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(O)=C1 ZGDMDBHLKNQPSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2,4,4-trimethylpentane Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)OO MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- LVFFZQQWIZURIO-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 LVFFZQQWIZURIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMOLAGKJZFODRK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylprop-2-enamide Chemical group NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 IMOLAGKJZFODRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONPJWQSDZCGSQM-UHFFFAOYSA-N 2-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 ONPJWQSDZCGSQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMVOQQDNEYOJOK-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C(O)=O)=C1 UMVOQQDNEYOJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPVZPQNFIDDPP-UHFFFAOYSA-N 3-(4-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC(=O)NC1=O SXPVZPQNFIDDPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C2CCCCC2)=C1 UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXVZVCCKUVRGQC-UHFFFAOYSA-N 3-hexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCC1=CC(=O)NC1=O MXVZVCCKUVRGQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLDLRRGZWIEEHT-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C(O)=C1 XLDLRRGZWIEEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJZYHAIUNVAGQP-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2(C(O)=O)[N+]([O-])=O QJZYHAIUNVAGQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 3-{[(4-{[4-(dimethylamino)phenyl](4-{ethyl[(3-sulfophenyl)methyl]amino}phenyl)methylidene}cyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)(ethyl)azaniumyl]methyl}benzene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](C)C)C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 IHZXTIBMKNSJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBKMMNCWHMCICJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)-2-[4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenyl]ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(C(CC=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 GBKMMNCWHMCICJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPDRLQLKHRZIJC-UHFFFAOYSA-N 5-nitrosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1O PPDRLQLKHRZIJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRYSWXFQLFLJTC-UHFFFAOYSA-N 616-82-0 Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C([N+]([O-])=O)=C1 QRYSWXFQLFLJTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HJQMQEKFNGISOG-UHFFFAOYSA-N C(CCC)(=O)OC.OC(C(=O)O)(C)C Chemical compound C(CCC)(=O)OC.OC(C(=O)O)(C)C HJQMQEKFNGISOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVFDADFMKQKAHW-UHFFFAOYSA-N C.[N] Chemical class C.[N] JVFDADFMKQKAHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSPHULWDVZXLIL-UHFFFAOYSA-N Camphoric acid Natural products CC1(C)C(C(O)=O)CCC1(C)C(O)=O LSPHULWDVZXLIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical class S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJUZRXYOEPSWMB-UHFFFAOYSA-N Chloromethyl methyl ether Chemical compound COCCl XJUZRXYOEPSWMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical compound C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012988 Dithioester Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N Ethyl hydrogen fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 1
- SJFUUYIYTZCECB-UHFFFAOYSA-N [[3-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)ON=C(SC=C1)C1=C(C#N)C1=CC=CC=C1C SJFUUYIYTZCECB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical group 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- CQPFMGBJSMSXLP-UHFFFAOYSA-M acid orange 7 Chemical compound [Na+].OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 CQPFMGBJSMSXLP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940091181 aconitic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 239000001518 benzyl (E)-3-phenylprop-2-enoate Substances 0.000 description 1
- NGHOLYJTSCBCGC-QXMHVHEDSA-N benzyl cinnamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C/C(=O)OCC1=CC=CC=C1 NGHOLYJTSCBCGC-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 1
- UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LRRJQNMXIDXNIM-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 LRRJQNMXIDXNIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000001049 brown dye Substances 0.000 description 1
- BRXCDHOLJPJLLT-UHFFFAOYSA-N butane-2-sulfonic acid Chemical group CCC(C)S(O)(=O)=O BRXCDHOLJPJLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- LSPHULWDVZXLIL-QUBYGPBYSA-N camphoric acid Chemical compound CC1(C)[C@H](C(O)=O)CC[C@]1(C)C(O)=O LSPHULWDVZXLIL-QUBYGPBYSA-N 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- BNWKXMCELVEAPW-UHFFFAOYSA-N chembl3305990 Chemical compound O=C1C(=[N+]=[N-])C=CC2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O BNWKXMCELVEAPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940061627 chloromethyl methyl ether Drugs 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical class C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPBPCPJJHKASGQ-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);octanoate Chemical compound [Cr+3].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O RPBPCPJJHKASGQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-IWQZZHSRSA-N cis-aconitic acid Chemical compound OC(=O)C\C(C(O)=O)=C\C(O)=O GTZCVFVGUGFEME-IWQZZHSRSA-N 0.000 description 1
- NGHOLYJTSCBCGC-UHFFFAOYSA-N cis-cinnamic acid benzyl ester Natural products C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 NGHOLYJTSCBCGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L disodium;2-amino-5-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 125000005022 dithioester group Chemical group 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000019233 fast yellow AB Nutrition 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004021 humic acid Substances 0.000 description 1
- YPGCWEMNNLXISK-UHFFFAOYSA-N hydratropic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C1=CC=CC=C1 YPGCWEMNNLXISK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003165 hydrotropic effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 229910052806 inorganic carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001853 inorganic hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010813 internal standard method Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBKQQKPQRYUGBJ-UHFFFAOYSA-N methyl gallate Natural products CC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 IBKQQKPQRYUGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N methyl hydrogen fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CCRCUPLGCSFEDV-BQYQJAHWSA-N methyl trans-cinnamate Chemical compound COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N methylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(O)=O ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMWQBWIPOMZVKK-UHFFFAOYSA-N n-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC1=CC(CNC(=O)C=C)=CC(C)=C1O RMWQBWIPOMZVKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001048 orange dye Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001047 purple dye Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001981 tert-butyldimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([H])(C([H])([H])[H])[*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000037 tert-butyldiphenylsilyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[Si]([H])([*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N trans-aconitic acid Natural products OC(=O)CC(C(O)=O)=CC(O)=O GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXNCZXXFRKPEPY-UHFFFAOYSA-N tridecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCCC(O)=O DXNCZXXFRKPEPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMPXDBGVJZCEX-UHFFFAOYSA-N triethylsilyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OS(=O)(=O)C(F)(F)F STMPXDBGVJZCEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012989 trithiocarbonate Substances 0.000 description 1
- HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-L trithiocarbonate Chemical compound [S-]C([S-])=S HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本發明提供包含金屬錯合物染料之高感度之化學增幅系感光性樹脂組成物。一種正型感光性樹脂組成物,其包含具有複數鹼可溶性官能基,且複數鹼可溶性官能基之至少一部分經酸分解性基保護之第1樹脂(A)、光酸產生劑(B)及金屬錯合物染料(C),金屬錯合物染料(C)包含50~94質量%之金屬錯離子。
Description
本發明有關正型感光性樹脂組成物及使用其之有機EL元件隔壁、有機EL元件絕緣膜及有機EL元件。更詳言之,本發明有關含有金屬錯合物染料之正型感光性樹脂組成物及使用其之有機EL元件隔壁、有機EL元件絕緣膜及有機EL元件。
有機EL顯示器(OLED)等之顯示裝置中,為了提高顯示特性,於顯示區域內之著色圖型之間隔部或顯示區域周邊部分之緣等使用隔壁材。有機EL顯示裝置之製造中,為使有機物質之像素彼此不接觸,首先形成隔壁,於該隔壁之間形成有機物質之像素。該隔壁一般藉由使用感光性樹脂組成物之光微影法形成,具有絕緣性。詳言之,使用塗佈裝置於基板上塗佈感光性樹脂組成物,藉加熱等之手段去除揮發成分後,經由遮罩進行曝光,其次於負型之情況將未曝光部分、而於正型之情況將曝光部分,藉由鹼水溶液等之顯像液去除而顯像,所得圖型進行加熱處理,形成隔壁(絕緣膜)。其次藉由噴墨法等,於隔壁之間使發出紅、綠、藍之3色光之有機物質成膜,形成有機EL顯示裝置之像素。
該領域於近幾年來,因顯示裝置之小型化及顯示之內容多樣化,而要求像素之高性能化及高精細化。基於提高顯示裝置之對比度,提升視認性之目的,已嘗試使用著色劑使隔壁材具有遮光性。然而,使隔壁材具有遮光性之情況,有感光性樹脂組成物成為低感度之傾向,其結果,有曝光時間變長生產性降低之虞。因此,包含著色劑之隔壁材之形成中使用之感光性樹脂組成物被要求更高感度。
專利文獻1(日本特開2001-281440號公報)中,作為藉由曝光後之加熱處理而顯示高遮光性之感放射線性樹脂組成物,記載有於含有鹼可溶性樹脂與醌重氮化合物之正型感放射線性樹脂組成物中添加鈦黑之組成物。
專利文獻2(日本特開2002-116536號公報)中,記載於含有[A]鹼可溶性樹脂、[B]1,2-醌重氮化合物及[C]著色劑之感放射線性樹脂組成物中,使用碳黑使隔壁材黑色化之方法。
專利文獻3(日本特開2010-237310號公報)中,作為藉由曝光後之加熱處理而顯示遮光性之感放射線性樹脂組成物,記載有於含有鹼可溶性樹脂與醌重氮化合物之正型感放射線性樹脂組成物中添加感熱色素之組成物。
專利文獻4(國際公開第2017/069172號)記載有含有(A)黏合劑樹脂、(B)醌重氮化合物及(C)選自由溶劑黑27~47之以色彩指數規定之黑色染料中之至少1種黑色染料的正型感光性樹脂組成物。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2001-281440號公報
[專利文獻2]日本特開2002-116536號公報
[專利文獻3]日本特開2010-237310號公報
[專利文獻4]國際公開第2017/069172號
[發明欲解決之課題]
經著色之隔壁材之形成中使用之感光性樹脂組成物,為了使硬化膜之遮光性充分高,必須使用相當量之著色劑。使用如此多量著色劑之情況,由於照射於感光性樹脂組成物之被膜的放射線被著色劑吸收,故被膜中之放射線的有效強度降低,無法使感光性樹脂組成物充分曝光,結果圖型形成性降低。
有機EL元件之隔壁的形成中,基於生產性等之觀點,重要的是形成隔壁的材料為高感度。
作為提高感光性樹脂組成物之感度之方法,將感光性樹脂組成物設為化學增幅系已廣為所知。化學增幅系之感光性樹脂組成物一般包含鹼可溶性官能基經酸分解性基保護之樹脂與光酸產生劑。曝光時自光酸產生劑產生的酸促進酸分解性基之分解(去保護)使鹼可溶性官能基再生。藉此顯像時,促進曝光部分之樹脂的鹼溶解。源自光酸產生劑之酸在使某酸分解性基分解後再生,參與另一個酸分解性基之分解。由於基於上述反應機制之化學增幅系之表觀量子效率係以酸產生之量子效率與反應鏈的乘積表示,故藉由將感光性樹脂組成物設為化學增幅系可實現高感度。
然而,本發明人等發現於化學增幅系之感光性樹脂組成物中使用金屬錯合物染料作為著色劑時,感光性樹脂組成物之感度有降低之情況。所謂金屬錯合物染料係由偶氮染料分子與鉻等之金屬所構成之金屬錯離子(陰離子)與抗衡陽離子所成之可溶性偶氮染料。
本發明之目的係提供包含金屬錯合物染料之高感度之化學增幅系感光性樹脂組成物。
[用以解決課題之手段]
本發明人等發現藉由將構成金屬錯合物染料之金屬錯離子的含量設為特定範圍,可提高化學增幅系感光性樹脂組成物之感度。
亦即,本發明包含如下態樣。
[1]
一種正型感光性樹脂組成物,其包含
具有複數鹼可溶性官能基,且前述複數鹼可溶性官能基之至少一部分經酸分解性基保護之第1樹脂(A),
光酸產生劑(B),及
金屬錯合物染料(C),
前述金屬錯合物染料(C)包含50~94質量%之金屬錯離子。
[2]
如[1]之正型感光性樹脂組成物,其中形成前述金屬錯合物染料(C)所含之前述金屬錯離子的金屬元素係選自由鉻、銅、鈷及鐵所成之群中之至少1種。
[3]
如[1]或[2]之正型感光性樹脂組成物,其中前述金屬錯合物染料(C)係溶劑黑22~47之以顏色指數(C.I.)規定之黑色染料中之至少1種。
[4]
如[1]至[3]中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有複數酚性羥基,且前述複數酚性羥基之至少一部分經前述酸分解性基保護之樹脂。
[5]
如[4]之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有複數酚性羥基,且前述複數酚性羥基之至少一部分經前述酸分解性基保護之具有酚性羥基之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物。
[6]
如[5]之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有以式(3)表示之構造單位,
(式(3)中,R
1為氫原子或碳原子數1~5之烷基,R
5為前述酸分解性基,r為0~5之整數,s為0~5之整數,但r+s為1~5之整數),
且具有至少1個s為1以上之整數的以式(3)表示之構造單位。
[7]
如[5]或[6]之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有以式(2)表示之構造單位,
(式(2)中,R
2及R
3各獨立為氫原子、碳原子數1~3之烷基、完全或部分氟化之碳原子數1~3之氟烷基或鹵原子,R
4為氫原子、碳原子數1~6之直鏈烷基、碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少1種取代之苯基)。
[8]
如[1]至[7]中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中前述正型感光性樹脂組成物進而包含第2樹脂(D),前述第2樹脂(D)係具有鹼可溶性官能基之聚合性單體之均聚物或共聚物,或具有環氧基及酚性羥基之樹脂。
[9]
如[1]至[8]中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中以樹脂成分之合計100質量份為基準,包含10質量份~150質量份之前述金屬錯合物染料(C)。
[10]
如[1]至[9]中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中以樹脂成分之合計100質量份為基準,包含0.1質量份~85質量份之前述光酸產生劑(B)。
[11]
如[1]至[10]中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中前述正型感光性樹脂組成物之硬化被膜之光學密度(OD值)為每膜厚1μm為0.5以上。
[12]
一種有機EL元件隔壁,其包含如[1]至[11]中任一項之正型感光性樹脂組成物之硬化物。
[13]
一種有機EL元件絕緣膜,其包含如[1]至[11]中任一項之正型感光性樹脂組成物之硬化物。
[14]
一種有機EL元件,其包含如[1]至[11]中任一項之正型感光性樹脂組成物之硬化物。
[發明效果]
依據本發明,可提供包含金屬錯合物染料之高感度之化學增幅系感光性樹脂組成物。
以下針對本發明詳細說明。
本揭示中,所謂「鹼可溶性」及「鹼水溶液可溶性」意指正型感光性樹脂組成物或其成分、或正型感光性樹脂組成物之被膜或硬化被膜於鹼水溶液例如2.38質量%之氫氧化四甲基銨水溶液中可溶解。所謂「鹼可溶性官能基」意指可對正型感光性樹脂組成物或其成分、或正型感光性樹脂組成物之被膜或硬化被膜賦予此等鹼可溶性之基。作為鹼可溶性官能基舉例為例如羧基、醇性羥基、酚性羥基、磺基、磷酸基、酸酐基及巰基。
本揭示中,所謂「酸分解性基」意指於酸存在下根據需要藉由進行加熱而分解(去保護),生成鹼可溶性官能基之基。
本揭示中,所謂「自由基聚合性官能基」意指1或複數的乙烯性不飽和基,所謂「自由基聚合性化合物」意指具有1或複數的乙烯性不飽和基之化合物。
本揭示中,所謂「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸或甲基丙烯酸,「(甲基)丙烯酸酯」意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯,「(甲基)丙烯醯基」意指丙烯醯基或甲基丙烯醯基。
本揭示中,樹脂或聚合物之數平均分子量(Mn)及重量平均分子量(Mw)意指藉由凝膠滲透層析儀(GPC,gel permeation chromatography)測定之標準聚苯乙烯換算值。
本揭示中,所謂「樹脂成分」意指將第1樹脂(A)及第2樹脂(D)予以合計之成分。
本揭示中,所謂「固形分」意指將包含第1樹脂(A)、光酸產生劑(B)、金屬錯合物染料(C)、第2樹脂(D)、溶解促進劑(E)及任意成分(F),且溶劑(G)除外的成分之合計質量。
[正型感光性樹脂組成物]
一實施態樣之正型感光性樹脂組成物包含具有複數鹼可溶性官能基,且複數鹼可溶性官能基之至少一部分經酸分解性基保護之第1樹脂(A),光酸產生劑(B),及金屬錯合物染料(C)。
<第1樹脂(A)>
第1樹脂(A)若為具有複數鹼可溶性官能基,且複數鹼可溶性官能基之至少一部分經酸分解性基保護者,則未特別限定。作為鹼可溶性官能基可舉例為羧基、醇性羥基、酚性羥基、磺基、磷酸基、酸酐基及巰基。其中鹼可溶性官能基較佳為羧基或酚性羥基,更佳為酚性羥基。藉由鹼可溶性官能基之一部分經酸分解性基保護,而抑制第1樹脂(A)於曝光前之鹼溶解性。第1樹脂(A)亦可具有經酸分解性基保護之除鹼可溶性官能基以外之鹼可溶性官能基。藉由曝光時產生之酸的存在下,根據需要進行曝光後烘烤(PEB,post exposure bake),而促進酸分解性基之分解(去保護),使鹼可溶性官能基再生。藉此顯像時促進於曝光部之第1樹脂(A)之鹼溶解。第1樹脂(A)可單獨使用或組合2種以上使用。例如第1樹脂(A)亦可組合2種以上之聚合物的構成單位、酸分解性基、鹼可溶性官能基之保護率或該等之組合不同之樹脂。
<藉由酸分解性基對鹼可溶性官能基之保護>
第1樹脂(A)可藉由以酸分解性基保護具有複數鹼可溶性官能基之基底樹脂(a)之鹼可溶性官能基的一部分而獲得。例如鹼可溶性官能基為酚性羥基時,具有以酸分解性基保護之酚性羥基之第1樹脂(A)具有Ar-O-R
5之部分構造,Ar表示源自酚之芳香環,R
5表示酸分解性基。
酸分解性基係藉由在酸存在下根據需要進行加熱而分解(去保護),生成鹼可溶性官能基之基。具體舉例為例如第三丁基、1,1-二甲基丙基、1-甲基環戊基、1-乙基環戊基、1-甲基環己基、1-乙基環己基、1-甲基金剛烷基、1-乙基金剛烷基、第三丁氧羰基、1,1-二甲基丙氧羰基等之具有第三烷基之基;三甲基矽烷基、三乙基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、三異丙基矽烷基、第三丁基二苯基矽烷基等之矽烷基;及以式(4)表示之基:
(式(4)中,R
6及R
7各獨立為氫原子、碳原子數1~4之直鏈烷基或碳原子數3~4之分支狀烷基,R
8為碳原子數1~12之直鏈烷基、碳原子數3~12之分支狀烷基、碳原子數3~12之環狀烷基、碳原子數7~12之芳烷基、或碳原子數2~12之烯基,R
6或R
7之一者亦可與R
8鍵結形成環員數3~10之環構造,R
6、R
7及R
8亦可經選自由氟、氯、溴及碘所成之群之鹵原子取代)。以式(4)表示之基,於鹼可溶性官能基為醇性羥基或酚性羥基時,與源自鹼可溶性官能基之氧原子一起形成縮醛構造或縮酮構造。該等酸分解性基可單獨使用或組合2種以上使用。
基於獲得即使以低曝光量亦為高感度之感光性樹脂組成物,酸分解性基較佳為以式(4)表示之基。R
6及R
7更佳各獨立為氫原子、碳原子數1~4之直鏈烷基或碳原子數3~4之分支狀烷基,R
8更佳為可經選自由氟、氯、溴及碘所成之群之鹵原子取代之碳原子數1~12之直鏈烷基、碳原子數3~12之分支狀烷基或碳原子數3~12之環狀烷基。作為此等酸分解性基,舉例為例如1-烷氧基烷基。作為1-烷氧基烷基舉例為例如甲氧基甲基、1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-正丙氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基、1-(2-氯乙氧基)乙基、1-(2-乙基己氧基)乙基、1-環己氧基乙基及1-(2-環己基乙氧基)乙基,較佳為1-乙氧基乙基及1-正丙氧基乙基。作為酸分解性基亦可適宜地使用以式(4)表示之基,且R
6或R
7之一者與R
8鍵結形成環員數3~10之環構造者。此時,未參與環構造之形成的R
6或R
7較佳為氫原子。作為此等酸分解性基舉例為例如2-四氫呋喃基及2-四氫吡喃基,較佳為2-四氫呋喃基。
鹼可溶性官能基之保護反應可使用一般保護劑以習知條件進行。例如於無溶劑或於甲苯、己烷等之溶劑中使第1樹脂(A)之基底樹脂(a)與保護劑,於酸或鹼之存在下,於反應溫度-20~50℃反應,可獲得第1樹脂(A)。
作為保護劑可使用可保護鹼可溶性官能基之習知保護劑。作為保護劑於例如酸分解性基為第三丁基之情況,可使用異丁烯,於酸分解性基為第三丁氧羰基之情況可使用二碳酸二第三丁酯。酸分解性基為三甲基矽烷基、三乙基矽烷基等之矽烷基之情況,可使用氯化三甲基矽烷、氯化三乙基矽烷等之含矽氯化物、或三甲基矽烷基三氟甲烷磺酸酯、三乙基矽烷基三氟甲烷磺酸酯等之含矽三氟甲烷磺酸酯化合物。酸分解性基為甲氧基甲基之情況可使用氯甲基甲基醚,為1-乙氧基乙基之情況可使用乙基乙烯基醚,為1-正丙氧基乙基之情況可使用正丙基乙烯基醚,為2-四氫呋喃基之情況可使用2,3-二氫呋喃,為2-四氫吡喃之情況可使用3,4-二氫-2H-吡喃等。
作為酸舉例為例如鹽酸、硫酸、硝酸、過氯酸等之無機酸,及甲烷磺酸、三氟甲烷磺酸、對-甲苯磺酸、苯磺酸等之有機酸。有機酸之鹽例如對-甲苯磺酸之吡啶鎓鹽等亦可使用作為酸供給源。作為鹼舉例為例如氫氧化鈉、氫氧化鉀等之無機氫氧化物、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銫等之無機碳酸鹽、碳酸氫鈉等之無機碳酸氫鹽、氫化鈉等之金屬氫化物及吡啶、N,N-二甲基-4-胺基吡啶、咪唑、三乙胺、二異丙基乙胺等之胺化合物。
其他實施態樣中,具有鹼可溶性官能基之聚合性單體之鹼可溶性官能基經酸分解性基保護後,藉由使具有經酸分解性基保護之鹼可溶性官能基之聚合性單體及根據必要之其他聚合性單體聚合或共聚合,亦可獲得第1樹脂(A)。具有鹼可溶性官能基之聚合性單體之鹼可溶性官能基之保護可藉由與基底樹脂(a)之鹼可溶性官能基之保護同樣方法進行。
(基底樹脂(a))
作為第1樹脂(A)之基底樹脂(a),舉例為例如具有複數鹼可溶性官能基之聚苯乙烯樹脂、環氧樹脂、聚醯胺樹脂、酚樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺酸樹脂、聚苯并噁唑樹脂、聚苯并噁唑樹脂前驅物、聚矽氧樹脂、環狀烯烴聚合物、卡多(cardo)樹脂及該等樹脂之衍生物。例如作為酚樹脂之衍生物,舉例為烯基鍵結於苯環之聚烯基酚樹脂,作為聚苯乙烯樹脂之衍生物舉例為酚性羥基與羥基烷基或烷氧基鍵結於苯環之羥基聚苯乙烯樹脂衍生物等。作為基底樹脂(a),亦可使用具有鹼可溶性官能基之聚合性單體之均聚物或共聚物。該等之基底樹脂(a)可單獨使用或可組合2種以上使用。
基底樹脂(a)亦可聚有自由基聚合性官能基。一實施態樣中,基底樹脂(a)具有(甲基)丙烯醯氧基、烯丙基或甲基烯丙基作為自由基聚合性官能基。
(具有鹼可溶性官能基之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物(a1))
一實施態樣中,第1樹脂(A)之基底樹脂(a)係具有鹼可溶性官能基之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物(a1),共聚物(a1)具有複數鹼可溶性官能基。該實施態樣中,第1樹脂(A)係共聚物(a1)之複數鹼可溶性官能基之至少一部分經酸分解性基保護者。共聚物(a1)亦可具有2種以上之鹼可溶性官能基。作為聚合性單體具有之聚合性官能基可舉例為自由基聚合性官能基,舉例為例如CH
2=CH-、CH
2=C(CH
3)-、CH
2=CHCO-、CH
2=C(CH
3)CO-、-OC-CH= CH-CO-等。
共聚物(a1)可藉由例如具有鹼可溶性官能基之聚合性單體與其他聚合性單體進行自由基聚合而製造。藉由自由基聚合而合成共聚物後,亦可對前述共聚物加成鹼可溶性官能基。作為具有鹼可溶性官能基之聚合性單體舉例為例如馬來酸單甲酯、馬來酸單乙酯、馬來酸單異丙酯等之馬來酸衍生物;(甲基)丙烯酸、α-溴(甲基)丙烯酸、α-氯(甲基)丙烯酸、β-呋喃基(甲基)丙烯酸、β-苯乙烯基(甲基)丙烯酸等之丙烯酸衍生物;及馬來酸、富馬酸、桂皮酸、α-氰基桂皮酸、衣康酸、巴豆酸、丙酸、3-馬來醯亞胺丙酸、4-馬來醯亞胺丁酸、6-馬來醯亞胺己酸等之不飽和羧酸化合物;(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯之具有醇性羥基之聚合性單體;4-羥基苯乙烯、(甲基)丙烯酸4-羥基苯酯、3,5-二甲基-4-羥基苄基丙烯醯胺、4-羥基苯基丙烯醯胺、4-羥基苯基馬來醯亞胺等之具有酚性羥基之聚合性單體;(甲基)烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、苯乙烯磺酸等之具有磺基之聚合性單體;磷酸單(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)酯等之具有磷酸基之聚合性單體;及衣康酸酐、檸康酸酐、馬來酸酐等之具有酸酐基之聚合性單體。作為其他聚合性單體舉例為例如苯乙烯;α-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、對-乙基苯乙烯等之苯乙烯衍生物;丙烯醯胺;丙烯腈;乙烯基-正-丁基醚等之乙烯醇之醚化合物;(甲基)丙烯酸烷酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯等之(甲基)丙烯酸酯;苯基馬來醯亞胺、環己基馬來醯亞胺等之N-取代馬來醯亞胺。基於耐熱性等之觀點,共聚物(a1)較佳具有脂環式構造、芳香族構造、多環式構造、無機環式構造、雜環式構造等之1種或複數種之環式構造。基於感度之觀點,具有鹼可溶性官能基之聚合性單體較佳為丙烯酸衍生物或具有酚性羥基之聚合性單體,更佳為具有酚性羥基之聚合性單體。
作為具有酚性羥基之聚合性單體較佳為聚合後形成以式(1)表示之構造單位者:
式(1)中,R
1為氫原子或碳原子數1~5之烷基,a為1~5之整數。R
1較佳為氫原子或甲基。a較佳為1~3之整數,更佳為1。作為如此之具有酚性羥基之聚合性單體特佳為甲基丙烯酸4-羥基苯酯。
作為其他聚合性單體較佳為聚合後形成以式(2)表示之構造單位者:
式(2)中,R
2及R
3各獨立為氫原子、碳原子數1~3之烷基、完全或部分經氟化之碳原子數1~3之氟烷基、或鹵原子,R
4為氫原子、碳原子數1~6之直鏈烷基或碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少一種取代之苯基。R
2及R
3較佳各獨立為氫原子或碳原子數1~3之烷基,更佳為氫原子。R
4較佳為碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少一種取代之苯基,更佳為碳原子數3~12之環狀烷基或苯基。作為此等其他聚合性單體特佳為苯基馬來醯亞胺及N-環己基馬來醯亞胺。
一實施態樣中,共聚物(a1)具有以式(1)表示之構造單位及以式(2)表示之構造單位:
(式(1)中,R
1為氫原子或碳原子數1~5之烷基,a為1~5之整數)
(式(2)中,R
2及R
3各獨立為氫原子、碳原子數1~3之烷基、完全或部分經氟化之碳原子數1~3之氟烷基、或鹵原子,R
4為氫原子、碳原子數1~6之直鏈烷基或碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少一種取代之苯基)。
共聚物(a1)中,以式(1)表示之構造單位與以式(2)表示之構造單位之莫耳比,較佳為式(1):式(2)=70~95:30~5,更佳為式(1):式(2)=75~90:25~10。
特佳使用甲基丙烯酸4-羥基苯酯作為具有酚性羥基之聚合性單體,使用苯基馬來醯亞胺或N-環己基馬來醯亞胺作為其他聚合性單體。藉由使用使該等聚合性單體經自由基聚合之樹脂,可提高形狀維持性、顯像性,並且亦可減低逸氣。
作為藉由自由基聚合製造基底樹脂(a)或共聚物(a1)之際的聚合起始劑並未限定於如下者,但可使用2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(VAN)等之偶氮聚合起始劑;二異丙苯基過氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(第三丁基過氧基)己烷、第三丁基異丙苯過氧化物、二-第三丁基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化氫、異丙苯過氧化氫等之10小時半衰期溫度為100~170℃之過氧化物聚合起始劑;或過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、1,1’-二(第三丁基過氧基)環己烷、第三丁基過氧基特戊酸酯等之過氧化物聚合起始劑。聚合起始劑之使用量相對於聚合性單體之合計100質量份,一般為0.01質量份以上、0.05質量份以上或0.5質量份以上,40質量份以下、20質量份以下或15質量份以下。
亦可與聚合起始劑併用RAFT(Reversible Addition Fragmentation Transfer,可逆加成開裂型鏈轉移)劑。作為RAFT劑不限於如下者,但可使用二硫酯、二硫代胺基甲酸酯、三硫代碳酸酯、黃原酸酯等之硫羰基硫化合物。RAFT劑相對於聚合性單體合計100質量份,可以0.005~20質量份之範圍使用,較佳以0.01~10質量份之範圍使用。
基底樹脂(a)或共聚物(a1)之重量平均分子量(Mw)可為3000~80000,較佳為4000~70000,更佳為5000~60000。數平均分子量(Mn)可為1000~30000,較佳為1500~25000,更佳為2000~20000。多分散度(Mw/Mn)可為1.0~3.5,較佳為1.1~3.0,更佳為1.2~2.8。藉由將重量平均分子量、數平均分子量及多分散度設為上述範圍,可獲得鹼溶解性及顯像性優異之正型感光性樹脂組成物。
一實施態樣中,第1樹脂(A)之鹼可溶性官能基之1莫耳%~99莫耳%,較佳5莫耳%~98莫耳%,更佳10莫耳%~97莫耳%經酸分解性基保護。第1樹脂(A)中,經酸分解性基保護之鹼可溶性官能基之比例若為1莫耳%以上,則可對感光性樹脂組成物賦予化學增幅機能,可實現高感度。經酸分解性基保護之鹼可溶性官能基之比例若為99莫耳%以下,則可減低曝光時未反應之酸分解性基之殘存量,提高曝光部之溶解性可實現高感度。經酸分解性基保護之鹼可溶性官能基之比例可由熱重量示差熱分析裝置(TG/DTA)測定之第1樹脂(A)之重量減少率(%)而算出。本揭示中,第1樹脂(A)為組合保護率不同之2種以上樹脂之情況,第1樹脂(A)之鹼可溶性官能基之保護比例係將2種以上之樹脂全體視為一個第1樹脂(A)時之數值。
第1樹脂(A)較佳具有以式(3)表示之構造單位,
(式(3)中,R
1為氫原子或碳原子數1~5之烷基,R
5為酸分解性基,r為0~5之整數,s為0~5之整數,但r+s為1~5之整數),較佳具有至少1個s為1以上之整數的以式(3)表示之構造單位。R
5之酸分解性基較佳為以式(4)表示之基:
式(4)中,更佳R
6及R
7各獨立為氫原子、或碳原子數1~4之直鏈烷基或碳原子數3~4之分支狀烷基。更佳R
8為碳原子數1~12之直鏈烷基、碳原子數3~12之分支狀烷基或碳原子數3~12之環狀烷基、碳原子數7~12之芳烷基、或碳原子數2~12之烯基,或R
6或R
7之一者亦可與R
8鍵結形成環員數3~10之環構造。R
6、R
7及R
8亦可經選自由氟、氯、溴及碘所成之群之鹵原子取代。作為此等酸分解性基,舉例為例如1-烷氧基烷基。作為1-烷氧基烷基舉例為例如甲氧基甲基、1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-正丙氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基、1-(2-氯乙氧基)乙基、1-(2-乙基己氧基)乙基、1-環己氧基乙基及1-(2-環己基乙氧基)乙基,較佳為1-乙氧基乙基及1-正丙氧基乙基。作為R
6或R
7之一者與R
8鍵結形成環員數3~10之環構造的酸分解性基舉例為例如2-四氫呋喃基及2-四氫吡喃基,較佳為2-四氫呋喃基。式(3)中,R
5之酸分解性基舉例為例如第三丁基、1,1-二甲基-丙基、1-甲基環戊基、1-乙基環戊基、1-甲基環己基、1-乙基環己基、1-甲基金剛烷基、1-乙基金剛烷基、第三丁氧基羰基、1,1-二甲基-丙氧基羰基等之具有三級烷基之基;三甲基矽烷基、三乙基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、三異丙基矽烷基、第三丁基二苯基矽烷基等之矽烷基。
第1樹脂(A)較佳具有以式(2)表示之構造單位:
(式(2)中,R
2及R
3各獨立為氫原子、碳原子數1~3之烷基、完全或部分經氟化之碳原子數1~3之氟烷基、或鹵原子,R
4為氫原子、碳原子數1~6之直鏈烷基、碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少一種取代之苯基)。R
2及R
3較佳各獨立為氫原子或碳原子數1~3之烷基,更佳為氫原子。R
4較佳為碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少一種取代之苯基,更佳為碳原子數3~12之環狀烷基或苯基。
一實施形態中,以式(3)表示且s為1以上之整數的構造單位,亦即至少1個鹼可溶性官能基經酸分解性基保護之以式(3)表示之構造單位之數,為第1樹脂(A)之全構造單位數的5%~95%,較佳為15%~90%,更佳為25%~85%。藉由使上述構造單位之比例為5%以上,可對感光性樹脂組成物賦予化學增幅機能,可實現高感度。藉由使上述構造單位之比例為95%以下,可減低未反應之酸分解性基之殘存量,可提高曝光部之溶解性,實現高感度。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物以固形分100質量%為基準,第1樹脂(A)含有0.5質量%~80質量%,較佳為1質量%~65質量%,更佳為2質量%~50質量%。第1樹脂(A)之含量,以固形分100質量%為基準為0.5質量%以上時,可對感光性樹脂組成物賦予化學增幅機能,可實現高感度。第1樹脂(A)之含量,以固形分100質量%為基準為80質量%以下時,可減低未反應之酸分解性基的殘存量,提高曝光部之溶解度,可實現高感度。
<光酸產生劑(B)>
正型感光性樹脂組成物包含光酸產生劑(B)。光酸產生劑(B)係若照射可見光、紫外光、γ射線、電子束等之放射線則可產生酸之化合物。光酸產生劑(B)可促進第1樹脂(A)之酸分解性基之分解,使鹼可溶性官能基再生,增大第1樹脂(A)之鹼溶解性。且,藉由於放射線所照射之部分存在由光酸產生劑(B)產生之酸,而容易使該部分之樹脂與酸一起溶解於鹼水溶液。其結果,即使為低曝光量亦可以高感度形成高解像度之圖型。光酸產生劑(B)可單獨使用1種,或可組合2種以上使用。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物,以樹脂成分之合計100質量份為基準,含有0.1質量份~85質量份,較佳10質量份~60質量份,更佳15質量份~42質量份之光酸產生劑(B)。光酸產生劑(B)之含量若以上述合計100質量份為基準為0.1質量份以上,則可實現高感度。光酸產生劑(B)之含量若以上述合計100質量份為基準為85質量份以下,則鹼顯像性良好。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物包含醌重氮化合物作為光酸產生劑(B)。醌重氮化合物若照射可見光、紫外光、γ射線、電子束等之放射線,則經過下述反應式1所示之反應產生鹼可溶性之羧酸化合物。產生之羧酸化合物藉由促進第1樹脂(A)之酸分解性基之分解而使鹼可溶性官能基再生,增大第1樹脂(A)之鹼溶解性。醌重氮化合物於感光前與酚醛清漆樹脂等之黏合劑樹脂之官能基相互作用(例如形成氫鍵),使該黏合劑樹脂對鹼水溶液不溶化。另一方面,藉由於經照射放射線之部分存在鹼可溶性羧酸化合物,容易使位於該部分之樹脂與羧酸化合物一起溶解於鹼水溶液中。進而,羧酸化合物與由化學增幅阻劑中通常使用之光酸產生劑產生的酸,例如對-甲苯磺酸、1-丙烷磺酸等相比,分子構造相對較大,難以在被膜中擴散。該等相乘作用之結果,可增大未曝光部與曝光部之鹼可溶性差異,藉此即使以低曝光量亦為高感度可形成高解像度之圖型。醌重氮化合物可單獨使用,或可組合2種以上使用。
一實施形態中,即使不進行一般化學增幅阻劑所需之曝光後的加熱處理(PEB),仍可形成高解像度之圖案。醌重氮化合物係量子收率較高,於曝光部效率良好地產生羧酸化合物。於周圍存在可藉羧酸化合物分解之酸分解性基時,因所生成之羧酸化合物即使於室溫亦會引起酸分解性基的分解使鹼可溶性官能基再生,其結果,可增大未曝光部與曝光部之鹼可溶性差異。藉由省略PEB,可抑制自光酸產生劑產生之酸於PEB時之高溫環境下過度擴散到未曝光部而導致圖型形成性降低。又,使用後述之具有環氧基及酚性羥基之樹脂作為任意成分時,若省略PEB,則具有環氧基及酚性羥基之樹脂由於不進行環氧基的開環聚合,故於顯像時可維持具有環氧基及酚性羥基之樹脂的鹼溶解性。
作為醌重氮化合物舉例為對於聚羥基化合物以酯鍵結有醌重氮之磺酸者、對於聚胺基化合物以磺醯胺鍵結有醌重氮之磺酸者、對於聚羥基聚胺基化合物以酯鍵結或磺醯胺鍵結有醌重氮之磺酸者等。基於曝光部與未曝光部之對比度之觀點,較佳聚羥基化合物、聚胺基化合物或聚羥基聚胺基化合物之官能基全體之20莫耳%以上經醌重氮取代。
作為聚羥基化合物可舉例為Bis-Z、BisP-EZ、TekP-4HBPA、TrisP-HAP、TrisP-PA、TrisP-SA、TrisOCR-PA、BisOCHP-Z、BisP-MZ、BisP-PZ、BisP-IPZ、BisOCP-IPZ、BisP-CP、BisRS-2P、BisRS-3P、BisP-OCHP、亞甲基三-FR-CR、BisRS-26X、DML-MBPC、DML-MBOC、DML-OCHP、DML-PCHP、DML-PC、DML-PTBP、DML-34X、DML-EP、DML-POP、二羥甲基-BisOC-P、DML-PFP、DML-PSBP、DML-MTrisPC、TriML-P、TriML-35XL、TML-BP、TML-HQ、TML-pp-BPF、TML-BPA、TMOM-BP、HML-TPPHBA、HML-TPHAP(以上為商品名,本州化學工業股份有限公司製)、BIR-OC、BIP-PC、BIR-PC、BIR-PTBP、BIR-PCHP、BIP-BIOC-F、4PC、BIR-BIPC-F、TEP-BIP-A、46DMOC、46DMOEP、TM-BIP-A(以上為商品名,旭有機材股份有限公司製)、四羥基二苯甲酮、沒食子酸甲酯、雙酚A、雙酚E、亞甲基雙酚、BisP-AP(商品名,本州化學工業股份有限公司製)等,但不限定於該等。
作為聚胺基化合物可舉例為1,4-苯二胺、1,3-苯二胺、4,4’-二胺基二苯醚、4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基二苯基碸、4,4’-二胺基二苯基亞碸等,但不限定於該等。
作為聚羥基聚胺基化合物可舉例為2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷、3,3’-二羥基聯苯胺等,但不限定於該等。
醌重氮化合物較佳為聚羥基化合物之1,2-萘醌重氮-4-磺酸酯或1,2-萘醌重氮-5-磺酸酯。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物,以樹脂成分之合計100質量份為基準,含有5質量份~60質量份,較佳10質量份~50質量份,更佳15質量份~42質量份之醌重氮化合物。醌重氮化合物之含量,以上述合計100質量份為基準,含有5質量份以上時,可實現高感度。醌重氮化合物之含量,以上述合計100質量份為基準,含有60質量份以下時,鹼顯像性良好。
作為醌重氮化合物以外之光酸產生劑(B),較佳為藉由照射放照線產生pKa為4以下的酸者,更佳為產生pKa為3以下的酸者。此等光酸產生劑(B)可生成具有酸分解性基之分解能力的酸。
作為醌重氮化合物以外之光酸產生劑(B),較佳為藉由照射放照線產生pKa為-15以上的酸者,更佳為產生pKa為-5以上的酸者。此等光酸產生劑(B),於曝光及曝光後之加熱處理(PEB)時,不會過度進行作為任意成分之後述具有環氧基及酚性羥基之樹脂的環氧基的開環聚合,顯像時可維持具有環氧基及苯氧基的樹脂之鹼溶解性。
作為此等光酸發生劑(B),舉例為例如三氯甲基-s-三嗪化合物、鋶鹽、鏻鹽、重氮鎓鹽、碘鎓鹽等之鎓鹽、四級銨鹽、重氮甲烷化合物、醯亞胺磺酸鹽化合物及肟磺酸鹽化合物。該等中,基於高感度且絕緣性高,較佳使用肟磺酸鹽化合物。
作為肟磺酸鹽化合物舉例為以式(5)表示之化合物。
式(5)中,R
9為取代或非取代之烷基、烷氧基、芳基或鹵原子,R
10及R
11各獨立為取代或非取代之芳基、取代或非取代之雜環基、氰基、醯氧基、羧基、烷氧羰基或氟烷基。R
10及R
11亦可鍵結形成環構造。環構造之環員數較佳為3~10。
作為R
9之取代或非取代之烷基,舉例為例如碳原子數1~10之直鏈狀烷基或碳原子數3~10之分支狀烷基,較佳為甲基、乙基或正丙基。作為R
9之取代或非取代之烷氧基,舉例為例如碳原子數1~5之直鏈狀烷氧基或碳原子數3~5之分支狀烷氧基,較佳為甲氧基或乙氧基。作為R
9之烷基及烷氧基之取代基舉例為例如鹵原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)、氰基、硝基、碳原子數6~20之芳基、碳原子數1~10之烷氧基及碳原子數3~10之環烷基。R
9之取代烷基較佳為氟烷基,更佳為三氟甲基、五氟乙基或七氟丙基,又更佳為三氟甲基。作為R
9之取代或非取代之芳基,舉例為例如碳原子數6~20之芳基,較佳為苯基、4-甲基苯基或萘基。作為R
9之芳基的取代基,舉例為例如碳原子數1~5之烷基、碳原子數1~5之烷氧基及鹵原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)。作為R
9之鹵原子,舉例為氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為R
10及R
11之取代或非取代之芳基舉例為例如碳原子數6~20之芳基,較佳為苯基或萘基。作為R
10及R
11之取代或非取代之雜環基舉例為例如2-苯并呋喃基、3-苯并呋喃基、2-苯并咪唑基、2-苯并噁唑基、2-苯并噻唑基、2-吲哚基、3-香豆素基、4-香豆素基、3-異香豆素基及4-異香豆素基。作為R
10及R
11之芳基及雜環基之取代基舉例為例如碳原子數1~4之烷基、碳原子數1~4之烷氧基、碳原子數2~4之醯氧基及鹵原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)。作為R
10及R
11之醯氧基舉例為例如乙醯氧基及苯甲醯氧基。作為R
10及R
11之烷氧羰基舉例為例如乙氧羰基。作為R
10及R
11之氟烷基舉例為例如三氟甲基、五氟乙基及七氟丙基。R
10較佳為氰基、羧基、烷氧羰基或氟烷基,更佳為氰基或三氟甲基。R
11較佳為取代或非取代之芳基或取代或非取代之雜環基,較佳為4-甲氧基苯基或取代或非取代之2-苯并呋喃基、3-苯并呋喃基、3-香豆素基、4-香豆素基、3-異香豆素基或4-異香豆素基。
作為具有R
10與R
11鍵結形成環構造之肟磺酸鹽化合物舉例為例如以式(5a)表示之肟磺酸鹽化合物。
式(5a)中,R
9如式(5)之說明,R
12分別獨立為烷基、烷氧基或鹵原子,m表示0~5之整數。
作為R
12之烷基,舉例為例如碳原子數1~10之直鏈狀烷基或碳原子數3~10之分支狀烷基,較佳為甲基、乙基或正丙基。作為R
12之烷氧基,舉例為例如碳原子數1~5之直鏈狀烷氧基或碳原子數3~5之分支狀烷氧基,較佳為甲氧基或乙氧基。作為R
12之鹵原子,舉例為氟原子、氯原子、溴原子及碘原子,較佳為氯原子或氟原子。m較佳為0或1。
作為肟磺酸鹽化合物舉例為例如(Z,E)-2-(4-甲氧基苯基)([((4-甲基苯基)磺醯基)氧基]亞胺基)乙腈、2-[2-(丙基磺醯氧基亞胺基)噻吩-3(2H)-亞基]-2-(2-甲基苯基)乙腈、2-[2-(4-甲基苯基磺醯氧基亞胺基)噻吩-3(2H)-亞基]-2-(2-甲基苯基)乙腈等。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物,以樹脂成分之合計100質量份為基準,含有0.5質量份~60質量份,較佳5質量份~50質量份,更佳10質量份~45質量份之醌重氮化合物以外之光酸產生劑(B)。醌重氮化合物以外之光酸產生劑(B)之含量若以上述合計100質量份為基準為0.5質量份以上,則可實現高感度。醌重氮化合物以外之光酸產生劑(B)之含量若以上述合計100質量份為基準為60質量份以下,則鹼顯像性良好。
<金屬錯合物染料(C)>
正型感光性樹脂組成物包含金屬錯合物染料(C)。典型的金屬錯合物染料(C)係具有如羥基、羧基及胺基之具有配位能之官能基的單偶氮染料,係由對於鉻、銅、鈷、鐵、鎳等之金屬離子配位鍵結之金屬錯離子(陰離子)與抗衡陽離子構成。金屬錯合物染料(C)一般分為兩類,即1:1型金屬錯合物染料(對金屬1原子配位鍵結有單偶氮染料1分子)及1:2型金屬錯合物染料(對金屬1原子配位鍵結有單偶氮染料2分子)。單偶氮染料一般為具有鄰,鄰’-二羥基偶氮、鄰-羥基-鄰’-胺基偶氮、或鄰-羥基-鄰’-羧基偶氮之任一構造。金屬錯合物染料(C)與顏料相比,顯像時之殘渣較少,可於被膜形成高精細之圖型。且,金屬錯合物染料(C)容易溶解於有機溶劑,即使以高濃度調配亦不易於溶液中析出。此外,由於曝光後之加熱處理時不易褪色,故可有效提高硬化被膜之光學密度(OD值)。金屬錯合物染料(C)可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
金屬錯合物染料(C)包含50~94質量%之金屬錯離子。雖然不受任何理論的約束,但金屬錯離子與樹脂之相互作用,例如金屬錯離子與樹脂之鹼可溶性官能基之相互作用程度,被認為會影響到未曝光部與曝光部之溶解性。具體而言,包含50質量%以上之金屬錯離子的金屬錯合物染料(C),可提供能解開樹脂之高分子鏈彼此之糾纏,可使樹脂之鹼可溶性官能基與顯像液之鹼成分有效相互作用之程度的量的金屬錯離子。藉此,藉由提高曝光部之溶解性,可提高正型感光性樹脂組成物之感度。另一方面,包含94質量%以下之金屬錯離子之金屬錯合物染料(C),可適度維持樹脂之高分子鏈彼此之糾纏,可對未曝光部賦予圖型形成所需程度的不溶性。因此,藉由使金屬錯合物染料(C)之金屬錯離子含量為50~94質量%,可提供高感度之正型感光性樹脂組成物。
金屬錯合物染料(C)中之金屬錯離子含量(質量%)係藉以下順序決定。於金屬錯合物染料(C)中添加作為內部標準物質之苯甲酸甲酯及作為稀釋溶劑之碳酸二乙酯,根據需要添加氣相層析儀用之前處理劑調製試料。所得試料經攪拌後,以GC或GC-MS使用內部標準法進行分析,自下述式算出金屬錯離子含量(質量%)。
金屬錯離子含量(質量%)=100-以GC檢測之各物質的含量合計(質量%)
金屬錯合物染料(C)組合2種以上時,金屬錯合物染料(C)的金屬錯離子含量係由該2種以上金屬錯合物染料(C)的金屬錯離子之合計質量除以2種以上金屬錯合物染料(C)之合計質量而決定。
金屬錯合物染料(C)較佳含有金屬錯離子60質量%以上,更佳為70質量%以上,又更佳為80質量%以上。金屬錯合物染料(C)較佳包含93質量%以下之金屬錯離子,更佳包含92質量%以下。金屬錯合物染料(C)較佳包含金屬錯離子60~94質量%,更佳為80~94質量%或60~92質量%,更佳包含80~92質量%。
形成金屬錯合物染料(C)中所含的金屬錯離子之金屬元素較佳為選自由鉻、銅、鈷及鐵所成之群中之至少1種,更佳為鉻。
作為金屬錯合物染料(C)中所含之抗衡陽離子,可舉例為Na
+、Li
+、K
+、H
+、NH
4 +、一級銨陽離子、二級銨陽離子、三級銨陽離子、四級銨陽離子等。
作為金屬錯合物染料(C)舉例為例如溶劑黑22~47之以色彩指數(C.I.)規定的黑色染料、溶劑藍137之以C.I.規定的藍色染料、溶劑黃色13、19、21、25、25:1、62、79、81、82、83、83:1、88、89、90、151、161之以C.I.規定的黃色染料、溶劑橙5、11、20、40:1、41、45、54、56、58、62、70、81、99之以C.I.規定的橙色染料、溶劑紅8、35、83:1、84:1、90、90:1、91、92、118、119、122、124、125、127、130、132、160、208、212、214、225、233、234、243之以C.I.規定的紅色染料、溶劑紫2、21、21:1、46、49、58、6之以C.I.規定的紫色染料、溶劑棕28、42、43、44、53、62、63之以C.I.規定的棕色染料、酸性黃59、121、酸性橙74、162、酸性紅211之以C.I.規定之染料等。金屬錯合物染料(C)較佳為溶劑黑22~47之以C.I.規定的黑色染料之至少1種,更佳為溶劑黑27、29或34之以C.I.規定的黑色染料之至少1種。使用上述金屬錯合物染料(C)時,可維持燒成後之正型感光性樹脂組成物之被膜的遮光性。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物以樹脂成分合計100質量份為基準,包含金屬錯合物染料(C)10質量份~150質量份,較佳為30質量份~100質量份,更佳為40質量份~60質量份。金屬錯合物染料(C)之含量,於將上述合計100質量份為基準為10質量份以上時,可維持燒成後之被膜的遮光性。金屬錯合物染料(C)之含量,於將上述合計100質量份為基準為150質量份以下時,可不損及鹼顯像性而使被膜著色。
<第2樹脂(D)>
正型感光性樹脂組成物可進而包含第2樹脂(D)。第2樹脂(D)係與第1樹脂(A)不同的樹脂。第2樹脂(D)未特別限制,但較佳具有鹼可溶性官能基,為鹼可溶性。作為鹼可溶性官能基未特別限制,但舉例為例如羧基、酚性羥基、磺基、磷酸基及巰基。亦可使用2種以上之具有鹼可溶性官能基之第2樹脂(D)。但,第2樹脂(D)不具有經酸分解性基保護之鹼可溶性官能基。
作為第2樹脂(D),舉例為例如具有鹼可溶性官能基之聚合性單體的均聚物或共聚物,以及具有環氧基及酚性羥基的樹脂。作為其他第2樹脂(D),舉例為例如丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、環氧樹脂、聚醯胺樹脂、酚樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺酸樹脂、聚苯并噁唑樹脂、聚苯并噁唑樹脂前驅物、聚矽氧樹脂、環狀烯烴聚合物、卡多樹脂及該等樹脂衍生物以及對該等樹脂鍵結有鹼可溶性官能基者。例如,作為酚樹脂之衍生物,舉例為於苯環鍵結烯基之聚烯基酚樹脂,作為聚苯乙烯樹脂之衍生物,舉例為於苯環鍵結有酚性羥基與羥基烷基或烷氧基之羥基聚苯乙烯樹脂衍生物。該等樹脂可單獨使用,亦可組合2種以上使用。
第2樹脂(D)亦可具有自由基聚合性官能基。一實施態樣中,第2樹脂(D)具有(甲基)丙烯醯氧基、烯丙基或甲基烯丙基作為自由基聚合性官能基。
一實施態樣中,第2樹脂(D)包含可使用作第1樹脂(A)的基底樹脂(a)之上述具有酚性羥基之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物(a1)。作為第2樹脂(D)之共聚物(a1)與作為第1樹脂(A)的基底樹脂(a)的共聚物(a1),關於該等的數平均分子量Mn、重量平均分子量Mw及多分散度Mw/Mn、及構成該等之聚合性單體的種類及質量比中的1個或複數個,可相同亦可不同。
一實施態樣中,第2樹脂(D)係具有以式(1)表示之構造單位及使式(2)表示之構造單位之共聚物(a1),
(式(1)中,R
1為氫原子或碳原子數1~5之烷基,a為1~5之整數)
(式(2)中,R
2及R
3各獨立為氫原子、碳原子數1~3之烷基、完全或部分經氟化之碳原子數1~3之氟烷基或鹵原子,R
4為氫原子、碳原子數1~6之直鏈烷基、碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群之至少1種取代之苯基)。
一實施態樣中,第2樹脂(D)包含具有環氧基及酚性羥基之樹脂。具有環氧基及酚性羥基之樹脂係鹼水溶液可溶性樹脂。具有環氧基及酚性羥基之樹脂亦可具有酚性羥基以外之鹼可溶性官能基。具有環氧基及酚性羥基之樹脂可藉由使例如1分子中具有至少2個環氧基之化合物(以下有時記載為「環氧化合物」)之環氧基之一部分與羥基苯甲酸化合物之羧基反應而獲得。具有環氧基及酚性羥基之樹脂的環氧基於顯像後之加熱處理(後烘烤)時藉由與酚性羥基反應而形成交聯,藉此可提高被膜之耐藥品性、耐熱性等。酚性羥基由於有助於顯像時對鹼水溶液之可溶性,故具有環氧基及酚性羥基之樹脂以低曝光量曝光時,亦可作為酸分解性基未充分分解(去保護)之第1樹脂(A)的溶解促進劑發揮功能,藉此可使感光性樹脂組成物為高感度。
環氧化合物具有之環氧基的1個與羥基苯甲酸化合物之羧基反應,而成為具有酚性羥基之化合物的反應例示於如下之反應式2。
作為1分子中具有至少2個環氧基之化合物可舉例為例如酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚型環氧樹脂、聯酚型環氧樹脂、含有萘骨架之環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、雜環式環氧樹脂等。該等環氧化合物只要1分子中具有2個以上的環氧基即可,可僅使用1種,亦可組合2種以上使用。由於該等化合物為熱硬化型,故作為本技藝者之常識,基於環氧基之有無、官能基種類、聚合度等之差異,其構造無法一概記載。酚醛清漆型環氧樹脂之構造的一例示於式(6)。式(6)中,例如R
13為氫原子、碳原子數1~5之烷基、碳原子數1~2之烷氧基或羥基,n為1~50之整數。
作為酚酚醛清漆型環氧樹脂舉例為例如EPICLON(註冊商標)N-770(DIC股份有限公司製)、jER(註冊商標)-152(三菱化學股份有限公司製)等。作為甲酚酚醛清漆型環氧樹脂舉例為例如EPICLON(註冊商標)N-695(DIC股份有限公司製)、EOCN(註冊商標)-102S(日本化藥股份有限公司製)等。作為雙酚型環氧樹脂舉例為例如jER(註冊商標)828、jER(註冊商標)1001(三菱化學股份有限公司製)、YD-128(商品名,日鐵化學暨材料股份有限公司製)等之雙酚A型環氧樹脂、jER(註冊商標)806(三菱化學股份有限公司製)、YDF-170(商品名,日鐵化學暨材料股份有限公司製)等之雙酚F型環氧樹脂等。作為聯酚型環氧樹脂舉例為例如jER(註冊商標)YX-4000、jER(註冊商標)YL-6121H(三菱化學股份有限公司製)等。作為含有萘骨架之環氧樹脂舉例為例如NC-7000(商品名,日本化藥股份有限公司製)、EXA-4750(商品名,DIC股份有限公司製)等。作為脂環式環氧樹脂舉例為例如EHPE(註冊商標)-3150(DAICEL化學工業股份有限公司製)等。作為雜環式環氧樹脂舉例為例如TEPIC(註冊商標)、TEPIC-L、TEPIC-H、TEPIC-S(日產化學工業股份有限公司製)等。
1分子中具有至少2個的環氧基之化合物較佳為酚醛清漆型環氧樹脂,更佳為選自由酚酚醛清漆型環氧樹脂及甲酚酚醛清漆型環氧樹脂所成之群之至少1種。包含源自酚醛清漆型環氧樹脂之具有環氧基及酚性羥基的樹脂之正型感光性樹脂組成物係圖型形成性優異,鹼溶解性之調節容易,逸氣少。
羥基苯甲酸化合物係苯甲酸之2~6位之至少1個經羥基取代的化合物,可舉例為例如水楊酸、4-羥基苯甲酸、2,3-二羥基苯甲酸、2,4-二羥基苯甲酸、2,5-二羥基苯甲酸、2,6-二羥基苯甲酸、3,4-二羥基苯甲酸、3,5-二羥基苯甲酸、2-羥基-5-硝基苯甲酸、3-羥基-4-硝基苯甲酸、4-羥基-3-硝基苯甲酸等,就提高鹼顯像性之觀點,較佳為二羥基苯甲酸化合物。羥基苯甲酸化合物可單獨使用或組合2種以上使用。
一實施態樣中,具有環氧基及酚性羥基的樹脂係1分子中具有至少2個環氧基之化合物與羥基苯甲酸化合物之反應物,且具有式(7)之構造,
式(7)中,b為1~5之整數,*表示與1分子中具有至少2個環氧基之化合物之與反應有關之環氧基除外的殘基之鍵結部。
自環氧化合物與羥基苯甲酸化合物獲得具有環氧基及酚性羥基的樹脂之方法,係相對於環氧化合物之環氧基1當量,可使用羥基苯甲酸化合物0.2~0.95當量,較佳使用0.3~0.9當量,更佳使用0.4~0.8當量。羥基苯甲酸化合物若為0.2當量以上,則可獲得充分之鹼溶解性,若為0.95當量以下,則可抑制副反應所致之分子量增加。
為了促進環氧化合物與羥基苯甲酸化合物之反應,亦可使用觸媒。觸媒之使用量,以由環氧化合物與羥基苯甲酸化合物所成之反應原料混合物100質量份為基準,可為0.1~10質量份。反應溫度可為60~150℃,反應時間為3~30小時。作為該反應所使用之觸媒舉例為例如三乙胺、苄基二甲基胺、氯化三乙基銨、溴化苄基三甲基銨、碘化苄基三甲基銨、三苯基膦、辛酸鉻、辛酸鋯等。
具有環氧基及酚性羥基之樹脂的數平均分子量(Mn)較佳為500~8000,更佳為800~6000,又更佳為1000~5000。數平均分子量若為500以上,則由於鹼溶解性適當,故作為感光性材料之樹脂為良好,若為8000以下,則塗佈性及顯像性良好。
一實施態樣中,具有環氧基及酚性羥基之樹脂之環氧當量為300~7000,較佳為400~6000,更佳為500~5000。具有環氧基及酚性羥基之樹脂之環氧當量若為300以上,則可使具有環氧基及酚性羥基之樹脂展現充分之鹼溶解性。具有環氧基及酚性羥基之樹脂之環氧當量若為7000以下,則可提高硬化後之塗膜強度及耐熱性。環氧當量係藉由JIS K 7236:2009決定。
一實施態樣中,具有環氧基及酚性羥基之樹脂之羥基當量為160~500,較佳為170~400,更佳為180~300。具有環氧基及酚性羥基之樹脂之羥基當量若為160以上,則可提高硬化後之塗膜強度及耐熱性。具有環氧基及酚性羥基之樹脂之羥基當量若為500以下,則可使具有環氧基及酚性羥基之樹脂展現充分之鹼溶解性。羥基當量係藉由JIS K 0070:1992決定。
一實施態樣中,正型感光性樹脂組成物以固形分100質量%為基準,包含5質量%~80質量%,較佳10質量%~75質量%,更佳15質量%~70質量%之第2樹脂(D)。第2樹脂(D)之含量,於將固形分100質量%為基準為5質量%以上時,可促進曝光部之溶解可實現高感度,可確保熱硬化後之被膜的安定性及耐久性。第2樹脂(D)之含量,於將固形分100質量%為基準為80質量%以下時,可將未曝光部之溶解性抑制為較低,可使殘膜率保持較高。
<溶解促進劑(E)>
正型感光性樹脂組成物為了提高顯像時鹼可溶性部分對於顯像液之溶解性,亦可進而含有溶解促進劑(E)。作為溶解促進劑(E),舉例為選自由具有羧基之化合物及具有酚性羥基之化合物所成之群之有機低分子化合物。溶解促進劑(E)可單獨使用或組合2種以上使用。
本揭示之「低分子化合物」意指分子量1000以下之化合物。上述有機低分子化合物具有羧基或複數酚性羥基而為鹼可溶性。
作為此等有機低分子化合物可舉例為例如甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、特戊酸、己酸、二乙基乙酸、庚酸、辛酸等之脂肪族單羧酸;草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十三烷二酸(brassylic acid)、甲基丙二酸、乙基丙二酸、二甲基丙二酸、甲基琥珀酸、四甲基琥珀酸、檸康酸等之脂肪族二羧酸;丙烷三羧酸(tricarballylic acid)、烏頭酸、樟腦酸等之脂肪族三羧酸;苯甲酸、甲苯甲酸、腐植酸、二甲苯甲酸(mesitylenic acid)等之芳香族單羧酸;鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、偏苯三甲酸、均苯三甲酸、偏苯四甲酸、均苯四甲酸、連苯三酸等之芳香族多羧酸;二羥基苯甲酸、三羥基苯甲酸、沒食子酸等之芳香族羥基羧酸;苯基乙酸、氫阿托酸(hydratropic acid)、氫桂皮酸、扁桃酸、苯基琥珀酸、阿托酸、桂皮酸、桂皮酸甲酯、桂皮酸苄酯、苯基戊二烯乙酸、香豆酸、傘酸(umbellic acid)等之其他羧酸;兒茶酚、間苯二酚、對苯二酚、1,2,4-苯三酚、連苯三酚、間苯三酚、雙酚等之芳香族多元醇等。
正型感光性樹脂組成物中之溶解促進劑(E)之含量,以樹脂成分之合計100質量份為基準,可為0.1質量份~50質量份,較佳為1質量份~35質量份,更佳為2質量份~20質量份。溶解促進劑(E)之含量,以上述合計100質量份為基準,若為0.1質量份以上,則可有效促進樹脂成分之溶解,若為50質量份以下,則可抑制樹脂成分過度溶解,可提高被膜之圖型形成性、表面品質等。
<任意成分(F)>
正型感光性樹脂組成物可含有作為任意成分(F)之熱硬化劑、界面活性劑、成分(C)以外之著色劑等。本揭示中,任意成分(F)定義為不相當於(A)~(E)之任一者。
作為熱硬化劑,可使用熱自由基產生劑。作為較佳之熱自由基產生劑舉例為有機過氧化物,具體可舉例為二異丙苯過氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(第三丁基過氧基)己烷、第三丁基異丙苯過氧化物、二-第三丁基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化氫、異丙苯過氧化氫等之10小時半衰期溫度為100~170℃之有機過氧化物等。
熱硬化劑之含量,以熱硬化劑除外之固形分之合計100質量份為基準,較佳為5質量份以下,更佳為4質量份以下,又更佳為3質量份以下。
正型感光性樹脂組成物為了提高例如塗佈性,為了提高被膜之平滑性,或為了提高被膜之顯像性,可含有界面活性劑。作為界面活性劑可舉例為例如聚氧伸乙基月桂醚、聚氧伸乙基硬脂醚、聚氧伸乙基油醚等之聚氧伸乙基烷基醚類;聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚等之聚氧伸乙基芳基醚類;聚氧伸乙基二月桂酸酯、聚氧伸乙基二硬脂酸酯等之聚氧伸乙基二烷基酯類等之非離子系界面活性劑;MEGAFAC(註冊商標) F-251、同F-281、同F-430、同F-444、同R-40、同F-553、同F-554、同F-555、同F-556、同F-557、同F-558、同F-559(以上為商品名,DIC股份有限公司製)、SURFLON(註冊商標) S-242、同S-243、同S-386、同S-420、同S-611(以上為商品名,ACG Semichemical股份有限公司製)等之氟系界面活性劑;有機矽氧烷聚合物KP323、KP326、KP341(以上為商品名,信越化學工業股份有限公司製)等。界面活性劑可單獨使用或組合2種以上使用。
界面活性劑之含量,以界面活性劑除外之固形分之合計100質量份為基準,較佳為2質量份以下,更佳為1質量份以下,又更佳為0.5質量份以下。
[塗佈組成物]
<溶劑(G)>
正型感光性樹脂組成物可作為溶解於溶劑(G)之溶液狀態的塗佈組成物使用。例如,藉由於將第1樹脂(A)及任意成分的第2樹脂(D)溶解於溶劑(G)所得之溶液中,以特定比例混合光酸產生劑(B)及金屬錯合物染料(C)、以及根據需要之溶解促進劑(E)、熱硬化劑、界面活性劑等之任意成分(F),可調製包含正型感光性樹脂組成物之塗佈組成物。塗佈組成物可藉由變化溶劑(G)之量而調整為適於所使用塗佈方法之黏度。
作為溶劑(G)可舉例為例如乙二醇單甲醚、乙二醇二甲醚、乙二醇甲基乙基醚、乙二醇單乙醚等之二醇醚,甲基溶纖素乙酸酯、乙基溶纖素乙酸酯等之乙二醇烷醚乙酸酯,二乙二醇單甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚等之二乙二醇化合物,丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯等之丙二醇烷醚乙酸酯化合物,甲苯、二甲苯等之芳香族烴,甲基乙基酮、甲基戊基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、環己酮等之酮類;2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯等之酯,N-甲基-2-吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等之醯胺化合物。溶劑可單獨使用或組合2種以上使用。
塗佈組成物之固形分濃度可根據使用目的適當決定。例如塗佈組成物之固形分濃度可設為1~60質量%,亦可為3~50質量%或5~40質量%。
所調製之塗佈組成物通常於使用前過濾。作為過濾手段舉例為例如經過孔徑0.05~1.0μm之微孔過濾器等。
如此調製之塗佈組成物長期間之儲存安定性亦優異。
[正型感光性樹脂組成物之使用方法]
正型感光性樹脂組成物使用於放射線微影術之情況,首先將正型感光性樹脂組成物溶解或分散於溶劑中,調製塗佈組成物。其次,將塗佈組成物塗佈於基板表面,藉由加熱等之手段去除溶劑,可形成被膜。塗佈組成物對基板表面之塗佈方法未特別限定,可舉例為例如噴霧法、輥塗佈法、狹縫法、旋轉塗佈法等。
塗佈組成物塗佈於基板表面後,通常藉由加熱去除溶劑形成被膜(預烘烤)。加熱條件係隨各成分之種類、調配比例等而異,但通常於70~130℃例如於加熱板上加熱處理30秒~20分鐘,於烘箱中加熱處理1~60分鐘,而可獲得被膜。
其次對經預烘烤之被膜經由具有特定圖型之光罩照射放射線(例如可見光、紫外線、遠紫外線、X射線、電子束、伽瑪射線、同步加速放射線等)(曝光步驟)。較佳之放射線為具有250~450nm波長之紫外線至可見光。一實施態樣中,放射線為i線。其他實施態樣中,放射線為ghi線。
曝光步驟後,可進行加熱處理(PEB)以促進酸分解性基的分解。藉由PEB可促進曝光部之第1樹脂(A)中經保護之鹼可溶性官能基之去保護,可更提高鹼可溶性。加熱條件亦隨各成分之種類、調配比例等而異,但通常於70~140℃例如於加熱板上加熱處理30秒~20分鐘,於烘箱中加熱處理1~60分鐘,而可進行PEB。一實施態樣中,曝光步驟後的PEB可省略。
曝光步驟或PEB步驟之後,藉由將被膜與顯像液接觸而顯像,去除不需要部分,於被膜形成圖型(顯像步驟)。作為顯像液,可使用例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水等之無機鹼化合物;乙胺、正丙胺等之一級胺;二乙胺、二-正丙胺等之二級胺;三乙胺、甲基二乙胺等之三級胺;二甲基乙醇胺、三乙醇胺等之醇胺;氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼等之四級銨鹽;吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯等之環狀胺等之鹼化合物之水溶液。亦可使用於鹼水溶液中適當添加甲醇、乙醇等之水溶性有機溶劑、界面活性劑等之水溶液作為顯像液。顯像時間通常為30~180秒。顯像方法可為覆液法、淋洗法、浸漬法等之任一者。顯像後,進行流水洗淨30~90秒,去除不需要之部分,藉由壓縮空氣或壓縮氮氣風乾,可於被膜形成圖型。
隨後,將形成圖型之被膜藉由加熱板、烘箱等之加熱裝置於例如100~350℃加熱處理20~200分鐘,可獲得硬化被膜(後烘烤、加熱處理步驟)。加熱處理中,可將溫度維持固定,亦可使溫度連續上升,亦可階段性上升。加熱處理較佳於氮氣環境下進行。
正型感光性樹脂組成物之硬化被膜之光學密度(OD值)於膜厚每1μm較佳為0.5以上,更佳為0.7以上,又更佳為1.0以上。硬化被膜之OD值若於膜厚每1μm為0.5以上,則可獲得充分遮光性。
一實施態樣之有機EL元件隔壁或絕緣膜之製造方法,包含:將正型感光性樹脂組成物溶解或分散於溶劑而調製塗佈組成物;將塗佈組成物塗佈於基材形成被膜;去除被膜中所含之溶劑使被膜乾燥;對經乾燥之被膜透過光罩照射放射線使被膜曝光;將曝光後之被膜與顯像液接觸進行顯像,於被膜形成圖型;及將形成有圖型之被膜於100℃~350℃之溫度進行加熱處理,形成有機EL元件隔壁或絕緣膜。曝光後且顯像前亦可進行上述PEB。
一實施態樣係有機EL元件隔壁,其包含正型感光性樹脂組成物之硬化物。
一實施態樣係有機EL元件絕緣膜,其包含正型感光性樹脂組成物之硬化物。
一實施態樣係有機EL元件,其包含正型感光性樹脂組成物之硬化物。
[實施例]
以下基於實施例及比較例具體說明本發明,但本發明不限定於該實施例。
(1)原料
實施例及比較例所使用之原料係如以下製造或取得。
關於第1樹脂(A)及第2樹脂(D)之重量平均分子量及數平均分子量,係藉以下測定條件,利用使用聚苯乙烯之標準物質作成之校正線而算出。
裝置名:Shodex(註冊商標) GPC-101
管柱:Shodex(註冊商標) LF-804
移動相:四氫呋喃
流速:1.0mL/分鐘
檢測器:Shodex(註冊商標) RI-71
溫度:40℃
[製造例1] 具有鹼可溶性官能基(酚性羥基)之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物(PCX-02e)之製造
分別將甲基丙烯酸4-羥基苯酯(昭和電工股份有限公司製「PQMA」) 25.5g及N-環己基馬來醯亞胺(日本觸媒股份有限公司製) 4.50g完全溶解於溶劑的乙酸1-甲氧基-2-丙酯(DAICEL股份有限公司製) 77.1g中,及將作為聚合起始劑之V-601(富士軟片和光純藥股份有限公司製) 3.66g完全溶解於乙酸1-甲氧基-2-丙酯(DAICEL股份有限公司製) 14.6g中。所得之2種溶液於300mL之3口型燒瓶中,於氮氣環境下同時以2小時滴加於加熱至85℃之乙酸1-甲氧基-2-丙酯(DAICEL股份有限公司製) 61.2g中,隨後於85℃反應3小時。將冷卻至室溫之反應溶液滴加於815g甲苯中,使共聚物沉澱。經沉澱之共聚物藉由過濾回收,於90℃真空乾燥4小時,回收白色粉體32.4g。所得PCX-02e之數平均分子量為3100,重量平均分子量為6600。
[製造例2] 鹼可溶性官能基(酚性羥基)經2-四氫呋喃基保護之第1樹脂(A)(PCX-02e-THF97)之製造
於100mL之3口型燒瓶中,將具有酚性羥基之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物(PCX-02e) 10.00g及作為酸觸媒之對-甲苯磺酸之吡啶鎓鹽(東京化成工業股份有限公司製) 0.60g溶解於四氫呋喃(富士軟片和光純藥股份有限公司製) 50.00g中。隨後於氮氣環境下冰冷,以1小時滴加2,3-二氫呋喃(東京化成工業股份有限公司製) 6.68g。隨後於室溫攪拌4小時。以飽和碳酸氫鈉水溶液中和酸觸媒後,去除水層。進而有機層以水洗淨2次。隨後,餾除四氫呋喃。所得固體溶解於乙酸乙酯50.0g中,滴加於200g己烷中,使生成物沉澱。沉澱物藉由過濾回收,於80℃真空乾燥4小時,回收白色粉體9.86g。所得粉體溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯中,獲得酚性羥基經2-四氫呋喃基保護之第1樹脂(A)(PCX-02e-THF97)之固形分20質量%溶液。所得PCX-02e-THF97之數平均分子量為3098,重量平均分子量為5958,以酸分解性基保護之酚性羥基之比例為97莫耳%,至少1個酚性羥基經酸分解性基保護之式(3)表示之構造單位的數,為第1樹脂(A)之全部構成單位數之77%。以酸分解性基保護之酚性羥基之比例係由使用熱重量示差熱分析裝置(TG-DTA6200,日立高科技股份有限公司製),於氮氣流中,以升溫速度10℃/分鐘之條件下自室溫升溫至250℃,保持10分鐘,進而以升溫速度10℃/分鐘之條件升溫至400℃時之於260℃下之第1樹脂(A)之重量減少率(%)而算出。
[製造例3] 鹼可溶性官能基(羧基)經第三丁基保護之第1樹脂(A)(PCX-02e-TBMA50)之製造
分別將甲基丙烯酸4-羥基苯酯(昭和電工股份有限公司製「PQMA」)17.3g、甲基丙烯酸第三丁酯(三菱化學股份有限公司製「丙烯酸酯TB」)13.8g及N-環己基馬來醯亞胺(東京化成工業股份有限公司製)6.15g完全溶解於溶劑的乙酸異丙酯(神港有機化學工業股份有限公司製) 56.0g,及將作為聚合起始劑之V-601(富士軟片和光純藥股份有限公司製)2.69g完全溶解於乙酸異丙酯(神港有機化學工業股分有限公司製) 4.05g中。所得2種溶液同時以2小時滴加於300mL的三口型燒瓶中、在氮氣環境下經加熱至89℃之乙酸異丙酯(神港有機化學工業股分有限公司製)90.4g中,隨後於89℃反應4小時。將冷卻至室溫之反應溶液50g滴加於將50g甲苯與200g己烷混合之溶劑中,使共聚物沉澱。沉澱之共聚物藉由過濾回收,於80℃真空乾燥5小時,回收8.98g白色粉體。所得PCX-02e-TBMA50之數平均分子量為4122,重量平均分子量為7583,以酸分解性基保護之羧基之比例為50莫耳%。
作為第1樹脂(A),使用PCX-02e-THF97及PCX-02e-TBMA50。
作為光酸產生劑(B)使用醌重氮化合物的TS-150A及TS-200A (4,4’-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(TrisP-PA)與6-重氮-5,6-二氫-5-氧代萘-1-磺酸(1,2-萘醌重氮-5-磺酸)之酯,東洋合成工業股份有限公司製)。TS-150A及TS-200A之構造示於下。TS-150A係每1分子的3個R中,平均1.5個R具有醌重氮構造。TS-200A係每1分子的3個R中,平均2.0個R具有醌重氮構造。
作為光酸產生劑(B)係使用肟系光酸產生劑的PAG-103(2-[2-(丙基磺醯氧基亞胺基)噻吩-3(2H)-亞基]-2-(2-甲基苯基)乙腈,BASF公司製,CAS No. 852246-55-0)及PAG-169(BASF公司製)。PAG-103藉由光照射而產生1-丙烷磺酸(pKa=-2.8)。PAG-169藉由光照射而產生三氟甲烷磺酸(pKa=-13)。
作為金屬錯合物染料(C),使用表1記載之C-1~C-5。C-1~C-5中,形成金屬錯離子之金屬元素為鉻。C-1、C-3及C-5分別為批號不同之溶劑黑27。金屬錯合物染料C-1~C-5的金屬錯離子含量(質量%)藉以下順序決定。金屬錯合物染料稱重0.1g,添加苯甲酸甲酯(東京化成工業股份有限公司製)0.1g及碳酸二乙酯(東京化成工業股份有限公司製)6.0g,根據需要添加氣相層析儀用之前處理劑而調製試料。所得試料以混合旋轉器(AS ONE製VMR-5)攪拌30分鐘至1天後,以GC(Agilent製GC6850系列)或GC-MS (Agilent製7890A,JEOL製Q-1000)分析,由下述式算出金屬錯離子含量(質量%)。
金屬錯離子含量(質量%)=100-以GC檢測之各物質的含量合計(質量%)
作為第2樹脂(D),使用PCX-02e。
作為溶解促進劑(E)使用間苯三酚。
作為任意成分(F),使用界面活性劑(調平劑)的MEGAFAC(註冊商標) F-559(氟系界面活性劑,DIC股份有限公司製)。
作為溶劑(G)使用γ-丁內酯(GBL)及丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)之混合溶劑(GBL:PGMEA=40:60(質量比)。
(2)評價方法
實施例及比較例使用之評價方法如以下。
[未曝光部溶解性]
於玻璃基板(大小100mm×100mm×1mm)棒塗佈正型感光性樹脂組成物以成為乾燥膜厚為2.6μm,於常溫真空乾燥60秒後,於附蓋之加熱板上於100℃加熱100秒進行預烘烤。進而於附蓋之加熱板上於115℃加熱200秒進行PEB。使用光學式膜厚測定裝置(F20-NIR,FILMETRICS股份有限公司製)測定乾燥膜厚後,使用旋轉顯像裝置(AD-1200,瀧澤產業股份有限公司製)以2.38質量%氫氧化四甲銨水溶液進行80秒鹼顯像。再度使用光學式膜厚測定裝置(F20-NIR,FILMETRICS股份有限公司製)測定鹼顯像後之膜厚,算出顯像前後溶解之膜厚(μm)作為未曝光部溶解性之指標。顯像前後溶解的膜厚為0.3~1.9μm範圍之正型感光性樹脂組成物,由於未曝光部之耐鹼溶解性較高,於未曝光部與曝光部容易產生膜厚差,故判斷為高感度。
[孔徑]
於玻璃基板(大小100mm×100mm×1mm)棒塗佈正型感光性樹脂組成物以成為乾燥膜厚為2.6μm,真空乾燥90秒後,於附蓋之加熱板上於100℃加熱100秒進行預烘烤。以組裝有超高壓汞燈之曝光裝置(商品名MULTILIGHT ML-251A/B,Ushio電機股份有限公司製)透過石英製光罩(具有φ10μm圖型者),以150mJ/cm
2曝光。曝光量係使用紫外線累積光量計(商品名UIT-150受光部UVD-S365,Ushio電機股份有限公司製)測定。曝光後,於附蓋之加熱板上於115℃加熱200秒進行PEB。然後,使用旋轉顯像裝置(AD-1200,瀧澤產業股份有限公司製)以2.38質量%氫氧化四甲銨水溶液進行60秒鹼顯像。進而,將被膜於惰性烘箱(DN411I,YAMATO科學股份有限公司製)內於250℃加熱60分鐘硬化。於硬化後塗膜上形成之孔以顯微鏡(VHX-6000,KEYENCE股份有限公司製)觀察而獲得之孔徑(μm)作為感度之指標。孔徑在9.0~11.0μm範圍之正型感光樹脂組成物判斷為圖型形成性良好。
[硬化被膜之OD值]
於玻璃基板(大小100mm×100mm×1mm)旋轉塗佈正型感光性樹脂組成物以成為乾燥膜厚約1.5μm,於加熱板上於120℃加熱80秒使溶劑乾燥。隨後於氮氣環境下於250℃硬化60分鐘而獲得被膜。以透過密度計(BMT-1,SAKATA INX ENGINEERING股份有限公司製)測定硬化後之被膜的OD值,以僅玻璃的OD值進行修正,換算為被膜膜厚每1μm之OD值。被膜厚度使用光學式膜厚測定裝置(F20-NIR,FILMETRICS股份有限公司製)進行測定。
(3)正型感光性樹脂組成物之調製及評價
[實施例1~5、比較例1~3]
以表2記載之組成,混合第1樹脂(A)及第2樹脂(D)並溶解,於所得溶液中添加表2中記載之光酸產生劑(B)、金屬錯合物染料(C)、溶解促進劑(E)、界面活性劑(F)及GBL/PGMEA混合溶劑(G),進一步混合。以目視確認成分溶解後,以孔徑0.22μm之微孔過濾器過濾,調製固形分濃度12質量%之正型感光性樹脂組成物。表2中之組成質量份係固形分換算值。實施例1~5及比較例1~3之正型感光性樹脂組成物的評價結果示於表2。
[產業上之可利用性]
本揭示之正型感光性樹脂組成物可適於利用於形成有機EL元件之隔壁或絕緣膜之放射線微影術。具備由本揭示之正型感光性樹脂組成物形成之隔壁或絕緣膜之有機EL元件可適於使用作為顯示良好對比度之顯示裝置之電子零件。
Claims (14)
- 一種正型感光性樹脂組成物,其包含 具有複數鹼可溶性官能基,且前述複數鹼可溶性官能基之至少一部分經酸分解性基保護之第1樹脂(A), 光酸產生劑(B),及 金屬錯合物染料(C), 前述金屬錯合物染料(C)包含50~94質量%之金屬錯離子。
- 如請求項1之正型感光性樹脂組成物,其中形成前述金屬錯合物染料(C)所含之前述金屬錯離子的金屬元素係選自由鉻、銅、鈷及鐵所成之群中之至少1種。
- 如請求項1之正型感光性樹脂組成物,其中前述金屬錯合物染料(C)係溶劑黑22~47之以顏色指數(C.I.)規定之黑色染料中之至少1種。
- 如請求項1至3中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有複數酚性羥基,且前述複數酚性羥基之至少一部分經前述酸分解性基保護之樹脂。
- 如請求項4之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有複數酚性羥基,且前述複數酚性羥基之至少一部分經前述酸分解性基保護之具有酚性羥基之聚合性單體與其他聚合性單體之共聚物。
- 如請求項5之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有以式(3)表示之構造單位, (式(3)中,R 1為氫原子或碳原子數1~5之烷基,R 5為前述酸分解性基,r為0~5之整數,s為0~5之整數,但r+s為1~5之整數), 且具有至少1個s為1以上之整數的以式(3)表示之構造單位。
- 如請求項5之正型感光性樹脂組成物,其中前述第1樹脂(A)係具有以式(2)表示之構造單位, (式(2)中,R 2及R 3各獨立為氫原子、碳原子數1~3之烷基、完全或部分氟化之碳原子數1~3之氟烷基或鹵原子,R 4為氫原子、碳原子數1~6之直鏈烷基、碳原子數3~12之環狀烷基、苯基或經選自由羥基、碳原子數1~6之烷基及碳原子數1~6之烷氧基所成之群中之至少1種取代之苯基)。
- 如請求項1至3中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中前述正型感光性樹脂組成物進而包含第2樹脂(D),前述第2樹脂(D)係具有鹼可溶性官能基之聚合性單體之均聚物或共聚物,或具有環氧基及酚性羥基之樹脂。
- 如請求項1至3中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中以樹脂成分之合計100質量份為基準,包含10質量份~150質量份之前述金屬錯合物染料(C)。
- 如請求項1至3中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中以樹脂成分之合計100質量份為基準,包含0.1質量份~85質量份之前述光酸產生劑(B)。
- 如請求項1至3中任一項之正型感光性樹脂組成物,其中前述正型感光性樹脂組成物之硬化被膜之光學密度(OD值)為每膜厚1μm為0.5以上。
- 一種有機EL元件隔壁,其包含如請求項1至11中任一項之正型感光性樹脂組成物之硬化物。
- 一種有機EL元件絕緣膜,其包含如請求項1至11中任一項之正型感光性樹脂組成物之硬化物。
- 一種有機EL元件,其包含如請求項1至11中任一項之正型感光性樹脂組成物之硬化物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021-093068 | 2021-06-02 | ||
JP2021093068 | 2021-06-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202311322A TW202311322A (zh) | 2023-03-16 |
TWI809906B true TWI809906B (zh) | 2023-07-21 |
Family
ID=84323192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111120204A TWI809906B (zh) | 2021-06-02 | 2022-05-31 | 正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔壁 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2022255171A1 (zh) |
KR (1) | KR20230162069A (zh) |
CN (1) | CN117480451A (zh) |
TW (1) | TWI809906B (zh) |
WO (1) | WO2022255171A1 (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW202113483A (zh) * | 2019-06-03 | 2021-04-01 | 日商昭和電工股份有限公司 | 正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔板 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58122533A (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-21 | Somar Corp | 感光性材料 |
JP2841161B2 (ja) * | 1994-01-27 | 1998-12-24 | 株式会社巴川製紙所 | パターン形成用感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 |
JP2001281440A (ja) | 2000-04-03 | 2001-10-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 遮光膜、その製造方法及びその用途 |
JP2002116536A (ja) | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、その硬化物および素子。 |
JP5343664B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-11-13 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、有機el表示素子用隔壁及び絶縁膜、並びにその形成方法 |
US10866512B2 (en) | 2015-10-21 | 2020-12-15 | Showa Denko K.K. | Positive photosensitive resin composition |
-
2022
- 2022-05-24 WO PCT/JP2022/021293 patent/WO2022255171A1/ja active Application Filing
- 2022-05-24 JP JP2023525746A patent/JPWO2022255171A1/ja active Pending
- 2022-05-24 KR KR1020237037008A patent/KR20230162069A/ko unknown
- 2022-05-24 CN CN202280039577.6A patent/CN117480451A/zh active Pending
- 2022-05-31 TW TW111120204A patent/TWI809906B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW202113483A (zh) * | 2019-06-03 | 2021-04-01 | 日商昭和電工股份有限公司 | 正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022255171A1 (ja) | 2022-12-08 |
JPWO2022255171A1 (zh) | 2022-12-08 |
TW202311322A (zh) | 2023-03-16 |
KR20230162069A (ko) | 2023-11-28 |
CN117480451A (zh) | 2024-01-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI621919B (zh) | 正型感光性樹脂組成物 | |
TWI736307B (zh) | 正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔板 | |
TWI810578B (zh) | 正型感光性樹脂組成物,及有機el元件隔膜 | |
TWI836710B (zh) | 正型感光性樹脂組成物 | |
TWI809906B (zh) | 正型感光性樹脂組成物及有機el元件隔壁 | |
JP2017078799A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
TWI821974B (zh) | 感光性樹脂組成物及有機el元件間隔壁 | |
TWI775465B (zh) | 正型感光性樹脂組成物,及有機el元件隔膜 | |
JP2023098296A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁 | |
TWI802158B (zh) | 感光性樹脂組成物及有機el元件隔壁 | |
JP2023098241A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁 | |
JP2023080993A (ja) | 感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁 | |
WO2024009732A1 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP2023049935A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁 | |
JP2023098345A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁 | |
JP2023098315A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物、及び有機el素子隔壁 |