TWI795266B - 半導體裝置和操作方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種能夠進行可靠性高的操作的半導體裝置
和操作方法。本發明的電壓監視電路(100)包括:通電檢測部(110),檢測出外部電源端子的供給電壓(EXVDD)是否達到通電電壓電平;計時器(120),在檢測出供給電壓達到通電電壓電平時計時預定時間;貫通(through)電流生成部(130),在計時器(120)對預定時間進行計時的期間,使外部電源端子與GND之間產生貫通電流;以及斷電檢測部(140),檢測在產生貫通電流的期間供給電壓(EXVDD)的下降是否到達斷電電壓電平。
Description
本發明涉及一種快閃記憶體等半導體裝置,特別是涉及一種接通電源時的通電操作。
NAND型快閃記憶體將用於讀取、編程、擦除等的操作電壓、定時、內部電壓等設定資訊儲存在熔絲單元中,在接通電源時,作為通電操作,讀取儲存在熔絲單元中的設定資訊,並將其載入到周邊電路的寄存器中。在通電操作後,控制器參照設置在寄存器中的設定資訊來控制各種操作。
圖1(A)是用於說明向快閃記憶體接通電源時的通電操作的時序圖。在接通電源且外部電源端子的供給電壓EXVDD上升到通電電壓電平時,啟動內部計時器以計時一預定時間,在經過該預定時間後供給電壓EXVDD穩定化,接著從熔絲單元進行設定資訊的讀取。熔絲單元設置在記憶體陣列的使用者不使用的區域,熔絲單元的讀取在通電操作時不使用指令而自動進行。
熔絲單元的讀取可通過控制器讀取儲存在唯讀記憶體中
的命令代碼等進行。在熔絲單元的讀取中,為了生成讀取通過電壓或預充電電壓,需啟動電荷泵。電荷泵與時脈同步地對電壓進行升壓,在操作穩定之前會消耗較大的泵電流。由於所述泵電流占熔絲單元的讀取操作時的消耗電流Icc的大部分,因此在電荷泵的操作時,會使供給電壓EXVDD暫時下降或大幅變動。
在熔絲單元的讀取後,讀取的設定資訊被傳輸到寄存器,接著,從記憶體陣列的第一頁面讀取冗餘資訊等。至此,通電操作結束,快閃記憶體進入待機狀態。
快閃記憶體的操作環境存在未必可以說穩定的狀況。例如,在外部電源端子供給的電流供給不足時,供給電壓EXVDD的變動或雜訊變大,而無法正確地進行熔絲單元的讀取,使得傳輸到寄存器的設定資訊發生錯誤。
圖1(B)表示從外部電源端子供給的電流受到限制時進行的通電操作。如圖所示,在熔絲單元的讀取操作中,由於電荷泵等內部電路消耗大量電流,供給電壓EXVDD下降到斷電電壓電平PDD附近。此時由於供給電壓EXVDD相當低,可能導致熔絲單元的讀取發生錯誤。
圖1(C)表示從外部電源端子供給的電流受到限制時進行的的另一通電操作。如圖所示,在熔絲單元的讀取操作中,由於電荷泵等內部電路消耗大量電流,供給電壓EXVDD下降到低於斷電電壓電平PDD。在達到斷電電壓電平時,快閃記憶體使電荷泵停止,並將CPU或邏輯等重置,使得熔絲單元的讀取被中斷。
之後,快閃記憶體重新接通電源,接著在供給電壓達到通電電壓電平並經過預定時間後,重新進行熔絲單元的讀取。如圖所示,若假設由於電荷泵等的操作環境的消耗電流,供給電壓EXVDD持續下降到低於斷電電壓電平PDD,會反復進行通電與斷電操作。由於重覆進行與中斷熔絲單元的讀取,因此寄存器中可能會儲存有不正確的設定資訊,進而會使後續記憶體的操作發生錯誤。此外,在反復進行通電與斷電操作的情況下,儘管不能存取晶片,仍會間歇地對部分的熔絲單元進行讀取。此種讀取操作會對記憶體陣列帶來無用的應力,降低後續操作的可靠性。
本發明的半導體裝置的操作方法包括:監視外部電源端子的供給電壓,檢測出通電電壓電平的步驟;回應於通電電壓電平的檢測而測量一預定時間的步驟;在所述預定時間的計時期間,使外部電源端子與基準電位之間產生貫通(through)電流的步驟;以及在產生所述貫通電流時,檢測出供給電壓的下降的步驟。
本發明的半導體裝置包括通電檢測機構、測量機構、貫通電流生成機構以及電壓下降檢測機構。通電檢測機構檢測出外部電源端子的供給電壓達到通電電壓電平。測量機構在檢測出供給電壓達到通電電壓電平的情況下計時一預定時間。貫通電流生成機構在測量機構進行預定時間的測量中,使外部電源端子與基準電位之間產生貫通電流。電壓下降檢測機構檢測出產生貫通電
流的期間,所述供給電壓的下降是否到達斷電電壓電平。
根據本發明,在供給電壓上升到通電電壓電平後,計時器計時的預定時間中,在外部電源端子與基準電位之間產生貫通電流,該貫通電流可根據於操作環境的消耗電流(例如圖1(B)及圖1(C)的電荷泵的消耗電流)進行設定,因此在從外部供給端子供給的電流不足的情況下,可使半導體裝置的通電操作在進入熔絲單元的讀取操作前停止,進而避免自熔絲單元讀取至寄存器的設定資訊發生錯誤。
100:電壓監視電路
110:通電檢測部
120:計時器
130、130A、130B:貫通電流生成部
140:斷電檢測部
200:快閃記憶體
210:記憶體陣列
220:輸入輸出緩衝器
230:位址寄存器
240:控制器
250:字元線選擇電路
260:頁面緩衝器/讀出電路
270:列選擇電路
280:寄存器
290:內部電壓發生電路
Ax:行位址資訊
Ay:列位址資訊
BLK(0)、BLK(1)、…、BLK(m-1):塊
BGR:恒電流電路
CLK1、CLK2、CLK3、...、CLKn:時脈
DET:檢測信號
EN、EN1、EN2:使能信號
EXVDD:供給電壓
GND:基準電位
Icc:消耗電流
Id、Id1、Id2、Idn:汲極電流
Im:裕度
INTVDD:內部供給電壓
Isp:電流
NBIAS:節點
PDD:斷電電壓電平
PDDRST:重置信號
POR:計時結束信號
Q1、Q2:NMOS電晶體
Qa、Qb:電晶體
t1、t2:時刻
T1:週期
T1/2:脈衝寬度
T1*n/2:脈衝寬度
Va:電壓電平
Vers:擦除電壓
Vpass:通過電壓
Vpgm:編程電壓
Vread:讀取電壓
圖1(A)至圖1(C)分別說明習知的快閃記憶體的通電操作的時序圖。
圖2是表示進行本發明的實施例的半導體裝置的通電操作的電壓監視電路的結構圖。
圖3是說明圖2所示的計時器的結構的圖。
圖4(A)至圖4(B)分別是表示本發明的實施例的貫通電流生成部的結構圖。
圖5是表示本發明的實施例的貫通電流生成部的結構圖。
圖6(A)、圖6(B)分別是用於說明本發明的實施例的電壓監視電路的操作的時序圖。
圖7是表示本發明的實施例的快閃記憶體的結構圖。
圖8(A)、圖8(B)分別是用於說明在本發明的實施例的快閃記憶體中應用電壓監視電路時的通電操作的時序圖。
本發明的半導體裝置例如是NAND型快閃記憶體,或者嵌入此種快閃記憶體的微處理器、微控制器、邏輯、專用積體電路、處理圖像或聲音的處理器、處理無線信號等信號的處理器等。在以下的說明中,例示NAND型快閃記憶體。
圖2是表示本發明的實施例的電壓監視電路的結構圖。本實施例的電壓監視電路100具有監視從半導體裝置的外部電源端子供給的供給電壓EXVDD的功能,包括通電檢測部110、計時器120、貫通(through)電流生成部130以及斷電檢測部140。
通電檢測部110用於檢測外部電源端子的供給電壓EXVDD是否已達到通電電壓電平,並在通電檢測部110檢測出供給電壓EXVDD達到通電電壓電平時,將表示其檢測結果的檢測信號DET提供給計時器120。
計時器120回應於檢測信號DET計時直至供給電壓EXVDD穩定為止的一預定時間。計時器120例如包括對時脈進行計數的計數器,通過對時脈進行計數來進行計時。如圖3所示,計時器120輸入作為最小的基準的時脈CLK1(週期=T1),生成將所述時脈CLK1倍頻的時脈CLK2、CLK3、...、CLKn,並根據這些時脈對所需測量的一預定時間進行計時。
如圖所示,計時器120在通電檢測部110輸出的檢測信號DET轉變為H電平的時刻t1起開始進行計時,在經過預定時間後的時刻t2時結束計時,並輸出表示供給電壓EXVDD達到穩定的H電平的計時結束信號POR。接著,內部電路回應於計時結束信號POR而開始操作。
另外,計時器120可包括邏輯電路(未顯示)。所述邏輯電路用於根據時間測量用時脈CLK1~CLKn等生成用於驅動貫通電流生成部130的使能信號EN。例如可根據時脈CLK1生成具有脈衝寬度(T1/2)的使能信號EN,或者根據時脈CLKn生成具有脈衝寬度(T1*n/2)的使能信號EN等。進而,邏輯電路也可通過組合多個時脈來生成脈衝寬度不同的多個使能信號,也可生成具有多個脈衝的使能信號。值得一提的是,與計時器120測量供給電壓EXVDD達到穩定的預定時間(T2-T1)相比,使能信號EN驅動貫通電流生成部130的期間會非常小。
貫通電流生成部130在外部電源端子與基準電位GND之間回應使能信號EN而生成貫通電流路徑。圖4(A)中表示貫通電流生成部130的一例。貫通電流生成部130包括連接於外部電源端子與GND之間的NMOS電晶體Q1,在電晶體Q1的閘極連接有使能信號EN。電晶體Q1在通過使能信號EN接通時,使汲極電流Id從供給電壓EXVDD向基準電位GND放電。
另外,如圖4(B)所示,貫通電流生成部130也可在外部電源端子與基準電位GND之間生成多個並聯的貫通電流路徑。如
圖所示,貫通電流生成部130A包括:NMOS電晶體Q1,並聯連接在外部電源端子與GND之間,由使能信號EN1驅動;以及NMOS電晶體Q2,由使能信號EN2驅動。電晶體Q1在由使能信號EN1驅動時流通汲極電流Id1,電晶體Q2在由使能信號EN2驅動時流通汲極電流Id2,由此使Id1+Id2的汲極電流(貫通電流)從供給電壓EXVDD向基準電位GND放電。貫通電流Id1與Id2的大小可通過個別設置使能信號EN1與EN2的脈衝寬度或個別設置電晶體Q1與Q2的尺寸來調整。
進而,如圖5所示,貫通電流生成部130B也可使用電流鏡使恒電流放電。貫通電流生成部130B在內部供給電壓INTVDD與基準電位GND之間包括生成不依賴於內部供給電壓INTVDD的變動的恒電流的恒電流電路BGR、構成電流鏡的電晶體Qa、以及由使能信號EN驅動的電晶體Q1,進而在供給電壓EXVDD與基準電位GND之間包括構成電流鏡的電晶體Qb、以及由使能信號EN驅動的電晶體Q2。電晶體Qa、電晶體Qb的閘極經由節點NBIAS共同連接於恒電流電路BGR的輸出,電晶體Qa、電晶體Qb以具有電流鏡比n的方式構成。由此,在由使能信號EN驅動貫通電流生成部130B時,使通過電流鏡生成的汲極電流Idn從供給電壓EXVDD向基準電位GND放電。
斷電檢測部140用於檢測供給電壓EXVDD是否下降到斷電電壓電平PDD,並在檢測出供給電壓EXVDD下降到斷電電壓電平PDD時,將重置信號PDDRST輸出到內部電路、電壓監視
電路100的通電檢測部110或貫通電流生成部130等。內部電路或電壓監視電路100在接收到重置信號PDDRST時,使時脈發生器等停止,或者將寄存器或CPU等全部重置。
圖6(A)、圖6(B)說明本實施例的電壓監視電路的操作。其中,貫通電流例如是以與內部電路的消耗電流Icc大致相等的方式進行設置(Id≒Icc)。
圖6(A)表示與內部電路運行時的消耗電流Icc相比從外部電源端子供給的電流Isp充分大時的操作(Isp>>Icc)。通過接通電源,外部電源端子的供給電壓EXVDD上升,在檢測出供給電壓EXVDD達到通電電壓電平時,計時器120啟動,同時從供給電壓EXVDD向GND流通貫通電流。此例中,由於供給電流Isp充分大,因此供給電壓EXVDD雖會由於貫通電流Id而下降,但不會下降到斷電電壓電平PDD。進而,在計時器120在結束預定時間的計時時,可正常地進行熔絲單元的讀取。
圖6(B)表示從外部電源端子供給的電流Isp受到限制時的操作。類似地,在檢測出供給電壓EXVDD達到通電電壓電平時,計時器120啟動,同時從供給電壓EXVDD向GND流通貫通電流Id。此例中,由於內部電路的消耗電流Icc佔供給電流Isp相對大,因此在流通貫通電流Id時,供給電壓EXVDD會在對預訂時間計時的期間就下降到斷電電壓電平PDD。斷電檢測部140在檢測出供給電壓EXVDD下降到斷電電壓電平PDD時輸出重置信號PDDRST。回應於從斷電檢測部140輸出的重置信號PDDRST,
通電檢測部110、計時器120和貫通電流生成部130被重置。如此,在從外部電源端子供給的電流Isp受到限制的情況下,通過在計時器120對預定時間計時的期間,流通與消耗電流Icc大致相同大小的貫通電流Id來確保供給電壓EXVDD即便在貫通電流Id的影響下亦不會下降到斷電電壓電平PDD,進而確保在計時器120對預定時間的計時結束後,對熔絲單元的讀取以及後續對半導體裝置的操作可以正確進行,避免錯誤的發生。
前述實施例中,是以貫通電流Id≒消耗電流Icc為例進行說明。然而,貫通電流Id也可設定為Id=Icc+Im(Im是確保半導體裝置的操作的裕度)。裕度Im的大小例如可根據內部電路運行時的峰值電流來進行設置。舉例來說,裕度Im例如可設置為大於峰值電流。
值得一提的是,貫通電流Id也可用於檢測出來自外部電源端子的供給電流Isp的供給狀況。舉例來說,除了斷電檢測部140外,可另外設置用於檢測供給電壓EXVDD是否下降到低於欲監測的一電壓電平Va的電壓下降檢測部。進而,也可基於電壓下降檢測部的檢測結果來判定供給電流Isp的供給狀況。所述判定結果例如可儲存於旗標中,使用者通過參照旗標來獲知半導體裝置所處的電力環境。
參照圖7說明將本實施例的電壓監視電路100應用在快閃記憶體中的例子。如圖所示,快閃記憶體200包括:形成有多個記憶體的記憶體陣列210;連接到外部輸入輸出端子的輸入輸出
緩衝器220;從輸入輸出緩衝器220接收位址資料的位址寄存器230;從輸入輸出緩衝器220接收指令資料等並控制各部的控制器240;基於來自位址寄存器230的行位址資訊Ax進行塊的選擇和字元線的選擇等的字元線選擇電路250;保持由字元線選擇電路250選擇的頁面的讀取資料或者在所選擇的頁面上保持要編程的編程資料的頁面緩衝器/讀出電路260;基於來自位址寄存器230的列位址資訊Ay來選擇頁面緩衝器/讀出電路260的列等的列選擇電路270;儲存從熔絲單元讀取的設定資訊的寄存器280;監視外部電源端子的供給電壓EXVDD的電壓監視電路100;以及生成編程電壓Vpgm、讀取電壓Vread、擦除電壓Vers、通過電壓Vpass等內部電壓的內部電壓發生電路290。
記憶體陣列210包括多個塊BLK(0、1、…、m-1),在各塊中形成多個NAND串。另外,在記憶體陣列110中使用者不能使用的區域(或無法存取的區域)中形成有用於儲存操作電壓或定時等設定資訊的熔絲單元。在通電操作時,控制器240讀取儲存在熔絲單元中的設定資訊,並將其設置在寄存器280中。
控制器240例如包含CPU或ROM/RAM等微控制器或狀態機。例如在ROM中儲存有用於執行通電操作、讀取操作、編程操作、擦除操作等的編程,控制器240通過執行這些編程來控制各操作。
在讀取操作中,向位元線施加正電壓,向選擇字元線施加例如0V,向非選擇字元線施加通過電壓。在編程操作中,向選
擇字元線施加高電壓的編程電壓Vpgm,向非選擇字元線施加中間電位,向位元線供給與“0”或“1”的資料對應的電壓。在擦除操作中,向塊內的選擇字元線施加0V,向P阱施加高電壓,以塊為單位擦除數據。
圖8(A)、圖8(B)說明快閃記憶體200的通電操作。其中,貫通電流Id例如是基於在通電操作中進行的讀取記憶體陣列時的消耗電流Icc大小來設定(Id≒Icc)。舉例來說,消耗電流Icc可設定為在讀取操作中可能達到的最大電流,其例如是啟動電荷泵時的最大電流。
圖8(A)表示來自外部電源端子的電流Isp充分大時的狀態。參照圖8(A),通過接通電源,外部電源端子的供給電壓EXVDD上升,在電壓監視電路100的通電檢測部110檢測出供給電壓EXVDD達到通電電壓電平時,計時器120開始預定時間的計時,並在計時期間輸出使能訊號EN至貫通電流生成部130。回應於使能訊號EN,貫通電流生成部130在供給電壓EXVDD與GND之間生成貫通電流路徑。
此例中,由於Id≒Icc,因此在供給電流Isp充分大的情況下,即使流通貫通電流Id,供給電壓EXVDD也不會下降到斷電電壓電平PDD。因此在計時器120的計時結束後,控制器240可正常從記憶體陣列210的熔絲單元讀取設定資訊,並將讀取的設定資訊傳輸到寄存器280。進而根據需要,控制器240從記憶體陣列210的第一頁面讀取冗餘資訊等。前述熔絲讀取、第一頁面
讀取可作為通電操作的一部分預先設定,控制器240在沒有來自外部的指令的情況下自動地實施這些操作。之後,快閃記憶體進入待機狀態。
圖8(B)表示來自外部電源端子的供給電流Isp受到限制時的狀態。如圖所示,在檢測出供給電壓EXVDD達到通電電壓電平後,計時器120開始計時並流通貫通電流,供給電壓EXVDD因而下降到斷電電壓電平PDD。斷電檢測部140接著檢測出供給電壓EXVDD下降到斷電電壓電平,並輸出重置信號PDDRST。回應於重置信號PDDRST,計時器120、通電檢測部110或貫通電流生成部130等內部電路被重置,因此可避免快閃記憶體200在供給電流Isp受到限制的狀態下進入熔絲單元的讀取操作,進而防止錯誤的發生。此外,此例中有於不會反覆進行與中斷熔絲單元的讀取操作,可避免對記憶體陣列施加不必要的應力,進而提升記憶體的可靠度。
雖然詳細敘述了本發明的優選的實施方式,但本發明並不限定於特定的實施方式,能夠在權利要求書所記載的發明主旨的範圍內進行各種變形、變更。
100:電壓監視電路
110:通電檢測部
120:計時器
130:貫通電流生成部
140:斷電檢測部
DET:檢測信號
EN:使能信號
EXVDD:供給電壓
GND:基準電位
PDDRST:重置信號
POR:計時結束信號
Claims (14)
- 一種操作方法,是半導體裝置的操作方法,包括:監視外部電源端子的供給電壓,檢測通電電壓電平的步驟;回應於所述通電電壓電平的檢測而計時預定時間的步驟;在所述預定時間的計時期間,使所述外部電源端子與基準電位之間產生貫通(through)電流的步驟;以及在產生所述貫通電流時,檢測出所述供給電壓的下降的步驟。
- 如請求項1所述的操作方法,其中檢測出所述供給電壓的下降的步驟包括檢測出所述供給電壓是否達到斷電電壓電平,其中所述操作方法還包括在檢測出所述供給電壓達到所述斷電電壓電平時將所述半導體裝置重置的步驟。
- 如請求項1所述的操作方法,其中檢測出所述供給電壓的下降的步驟包括檢測出所述供給電壓是否達到斷電電壓電平,其中所述操作方法還包括在檢測出所述供給電壓沒有達到所述斷電電壓電平時,在所述預定時間的計時期間後使內部電路實施正常操作的步驟。
- 如請求項3所述的操作方法,其中所述正常操作是從預定的儲存區域讀取與所述半導體裝置的操作有關的設定資訊的操作。
- 如請求項1或2所述的操作方法,其中產生所述貫通電流的步驟包括控制所述貫通電流的大小和流通所述貫通電流的期間中的至少一者。
- 如請求項5所述的操作方法,其中所述控制利用在計時所述預定時間的步驟中所使用的至少一時脈信號來實施。
- 如請求項1或2所述的操作方法,其中產生所述貫通電流的步驟使用恒電流電路產生所述貫通電流。
- 一種半導體裝置,包括:通電檢測機構,檢測出外部電源端子的供給電壓是否達到通電電壓電平;測量機構,在檢測出所述供給電壓達到所述通電電壓電平的情況下計時預定時間;貫通(through)電流生成機構,在所述測量機構對所述預定時間進行計時的期間,使所述外部電源端子與基準電位之間產生貫通電流;以及電壓下降檢測機構,檢測出產生所述貫通電流的期間,所述供給電壓的下降是否到達斷電電壓電平。
- 如請求項8所述的半導體裝置,其中所述半導體裝置還包括重置機構,所述重置機構在利用所述電壓下降檢測機構檢測出所述斷電電壓電平時將所述半導體裝置重置。
- 如請求項8或9所述的半導體裝置,其中所述半導體裝置還包括實施機構,所述實施機構在利用所述電壓下降檢測 機構未檢測出供給電壓下降到所述斷電電壓電平的情況下,在計時所述預定時間結束後,使內部電路實施正常操作。
- 如請求項10所述的半導體裝置,其中所述正常操作是從預定的儲存區域讀取與所述半導體裝置的操作相關的設定資訊的操作。
- 如請求項9所述的半導體裝置,其中所述貫通電流生成機構包括控制所述貫通電流的大小和流通所述貫通電流的期間中的至少一者。
- 如請求項12所述的半導體裝置,其中所述貫通電流生成機構利用在所述測量機構中使用的時脈信號控制所述貫通電流的大小和/或流通所述貫通電流的期間。
- 如請求項9所述的半導體裝置,其中所述貫通電流生成機構使用恒電流電路生成所述貫通電流。
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