TWI777949B - 薄膜成形裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種能夠形成隆起或凹陷比較少或者小之薄膜卷體之薄膜成形裝置。本發明的薄膜成形裝置具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向上的薄膜的厚度分佈；複數個調節部，用以使薄膜的厚度分佈變化；及控制裝置(7)，以厚度分佈接近目標厚度分佈之方式控制複數個調節部。控制裝置(7)根據所測定之厚度分佈來使目標厚度分佈變化。

Description

薄膜成形裝置
本發明係有關一種薄膜成形裝置。
已知有一種薄膜成形裝置：使從模具裝置的環狀的吐出口擠出為管狀之熔融樹脂固化而成形薄膜。以往，提出有如下薄膜成形裝置：藉由使環狀的吐出口的徑方向的寬度變化來縮小膜厚的不均(專利文獻1)。
(先前技術文獻) (專利文獻)
專利文獻1：日本特開平6-99472號公報
依專利文獻1中所記載之習知之薄膜成形裝置，能夠某種程度上縮小膜厚的不均，且能夠滿足作為薄膜的精確度。然而，由於多少會殘留膜厚的不均，因此捲取薄膜而形成薄膜卷體時，該不均若堆積，則能够成為較大之隆起或凹陷。
本發明係鑑於該種狀況而完成者，其目的在於，提供一種能夠形成隆起或凹陷比較少或者小之薄膜卷體之薄膜成形裝置。
為了解決上述課題，本發明的一態樣的薄膜成形裝置具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定規定方向上的薄膜的厚度分佈；調節手段，用以使薄膜的厚度分佈變化；及控制裝置，以厚度分佈接近目標厚度分佈之方式控制調節手段。控制裝置根據所測定之厚度分佈來使目標厚度分佈變化。
本發明的另一態樣亦係薄膜成形裝置。該裝置具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定規定方向的各位置中的膜厚；調節手段，用以使各位置中的膜厚變化；及控制裝置，以各位置中的膜厚接近基準膜厚之方式控制調節手段。相對於比基準膜厚厚之薄膜的部分，在任意的時刻，控制裝置暫時以膜厚比基準膜厚薄之方式，控制調節手段，相對於比基準膜厚薄之薄膜的部分，在任意的時刻，控制裝置暫時以膜厚比基準膜厚厚之方式，控制調節手段。
另外，在方法、裝置、系統等之間相互置換以上構成要件的任意的組合或本發明的構成要件和表現之方式亦作為本發明的態樣有效。
依本發明，能夠成形厚度不均小並且物理性質均勻之薄膜。
1‧‧‧薄膜成形裝置
2‧‧‧模具裝置
3‧‧‧冷卻裝置
6‧‧‧厚度感測器
7‧‧‧控制裝置
16‧‧‧調節部
82‧‧‧目標分佈生成部
84‧‧‧調節部控制部
圖1係表示第1實施形態之薄膜成形裝置的概略構成之圖。
圖2係表示圖1的模具裝置及冷卻裝置與其周邊之剖面圖。
圖3係表示圖1的模具裝置之頂視圖。
圖4係模式表示圖1的控制裝置的功能及構成之框圖。
圖5(a)係模式表示保持於分佈保持部之分佈的一例之圖，圖5(b)係模式表示保持於目標分佈保持部之目標厚度分佈之圖。
圖6係表示薄膜成形裝置的處理之流程圖。
圖7(a)係模式表示保持於第2實施形態之薄膜成形裝置的分佈保持部之分佈的一例之圖，圖7(b)係模式表示保持於目標分佈保持部之目標厚度分佈之圖。
以下，對各附圖中所示之相同或相等的構成要件、構件標註相同的符號，並適當省略重複之說明。並且，為了輕鬆地理解，適當放大縮小表示各附圖中的構件的尺寸。 並且，在各附圖中，省略表示說明實施形態之方面上並非重要之構件的一部分。
對完成得到實施形態之薄膜成形裝置之原委進行說明。
藉由薄膜成形裝置而成形之薄膜中，一般地多少會產生膜厚的不均。該不均即使滿足作為薄膜的精確度，利用捲取機來捲取薄膜而形成薄膜卷體時，若該不均堆疊，更詳細而言，膜厚厚之部分彼此或者薄之部分彼此堆疊，則亦能夠在薄膜卷體中會出現隆起或凹陷。薄膜卷體的隆起或凹陷成為薄膜的應變的原因。
以往，藉由使從模具裝置擠出之熔融樹脂的周方向的位置及捲取薄膜時堆疊之薄膜的位置相對慢慢地挪動，換言之，藉由扭轉薄膜來抑制在薄膜卷體中出現隆起或凹陷。具體而言，藉由以下的1~4的方法來扭轉薄膜，抑制在薄膜卷體中產生隆起或凹陷。
1．使捲取機的夾送部旋轉來扭轉薄膜
2．藉由在轉台搭載捲取機的夾送部與捲取機本身並使其旋轉來扭轉薄膜
3．使模具裝置旋轉來扭轉薄膜
4．藉由在轉台搭載模具裝置與擠出機並使其旋轉來扭轉薄膜
然而，上述1、2的方法中，能夠產生如下故障：在薄膜中會產生瑕疵，或者薄膜的折疊寬度變動，或者在薄膜中會出現折皺或鬆動。上述3的方法中存在如下問題： 由於需要使從擠出機供給到模具裝置之熔融樹脂的連結部滑動，因此熔融樹脂會洩漏或者耐久性降低。並且，上述3的方法中，由於使模具裝置相對於中心軸旋轉，因此連結部亦必需沿著中心軸而設置，只能應用於單層擠出。上述1~4的方法中，需要旋轉設備，成本變高。並且，裝置的設置空間變大。尤其在上述4的方法中，由於使擠出機及模具裝置旋轉，因此旋轉設備的規模大。
由以上的見解，本發明人完成得到本實施形態之薄膜成形裝置。以下，進行具體說明。
(第1實施形態)
圖1表示第1實施形態之薄膜成形裝置1的概略構成。薄膜成形裝置1成形管狀的薄膜。薄膜成形裝置1具備：模具裝置2、冷卻裝置3、一對穩定板4、一對夾送輥5、厚度感測器6、控制裝置7及捲取機20。
模具裝置2將由擠出機(未圖示)供給之熔融樹脂成形為管狀。尤其，模具裝置2藉由從環狀的狹縫18(圖2中後述)擠出熔融樹脂來將熔融樹脂成形為管狀。冷卻裝置3配置於模具裝置2的上方。相對於從模具裝置2所擠出之熔融樹脂，冷卻裝置3從外側噴吹冷卻風。熔融樹脂被冷卻，且成形有薄膜。
一對穩定板4配置於冷卻裝置3的上方，且向一對夾送輥5之間引導所成形之薄膜。夾送輥5配置於穩定板4的上方，且提起所引導之薄膜的同時將其扁平地折疊。捲 取機20捲取所折疊之薄膜，且形成薄膜卷體11。
厚度感測器6配置於冷卻裝置3與穩定板4之間。厚度感測器6繞過管狀的薄膜的周圍的同時，持續性地測定周方向的各位置中的膜厚。亦即，厚度感測器6持續性地測定周方向上的薄膜的厚度分佈。厚度感測器6向控制裝置7發送所測定之厚度分佈。另外，厚度感測器6亦可以向控制裝置7發送使2周以上的測定結果平均之厚度分佈。控制裝置7向模具裝置2發送與從厚度感測器6接收之厚度分佈相應之控制指令。模具裝置2接收該控制指令，以厚度的不均變小之方式，調節狹縫18(尤其該吐出口)的寬度。
圖2係表示模具裝置2及冷卻裝置3與其周邊之剖面圖。圖3係模具裝置2的頂視圖。圖3中，省略冷卻裝置3的表示。
冷卻裝置3具備環形墊8及環狀的整流構件9。環形墊8係內周部向下方凹陷之環狀的殼體。在環形墊8的內周部形成有向上側開口之環狀的吹出口8a。尤其，吹出口8a與以中心軸A為中心之環狀的狹縫18同心之方式形成。
另外，之後如下進行說明：將與中心軸A平行之方向作為軸方向，將在與中心軸A垂直之平面上通過中心軸A之任意的方向作為徑方向，將在徑方向上接近中心軸A之一側作為內周側，將遠離中心軸A之一方作為外周側，將在與中心軸A垂直之平面上沿著以中心軸A為中心之圓 的圓周之方向作為周方向。
在環形墊8的外周部，在周方向上等間隔地形成有複數個軟管口8b。在複數個軟管口8b的每一個連接有軟管(未圖示)，冷卻風經由該軟管從鼓風機(未圖示)送入至環形墊8內。送入至環形墊8內之冷卻風從吹出口8a吹出，並噴吹於熔融樹脂。
整流構件9以包圍吹出口8a之方式配置於環形墊8內。整流構件9對送入至環形墊8內之冷卻風進行整流。藉此，在周方向上冷卻風藉由均勻的流量、風速，而從吹出口8a吹出。
模具裝置2具備：模具本體10、內周構件12、外周構件14及複數個(在此為32個)調節部16。內周構件12係載置於模具本體10的上表面之大致圓柱狀的構件。外周構件14係環狀的構件，且環繞內周構件12。在內周構件12與外周構件14之間，形成有以環狀之方式向上下方向延伸之狹縫18。熔融樹脂朝向上側而流經該狹縫18，且熔融樹脂從狹縫18的吐出口(亦即上端開口)18a擠出，且在冷卻裝置3中進行冷卻，從而形成有與吐出口18a的寬度相應之厚度的薄膜。
複數個調節部16以圍繞外周構件14的上端側之方式在周方向上大致無間隙地配置。尤其，調節部16以懸臂狀安裝於外周構件14。在複數個調節部16的上方固定有冷卻裝置3。複數個調節部16分別以能夠向外周構件14賦予向徑方向內的按壓載荷或向徑方向外的拉伸載荷之方 式構成。外周構件14藉由能夠賦予按壓載荷或拉伸載荷來進行彈性變形。因此，藉由調節複數個調節部16，能夠在周方向上局部性地調整吐出口18a的寬度，且能夠在周方向上局部性地控制薄膜的厚度。在薄膜中產生厚度的不均之情況下，例如，從與壁厚較薄之部分對應之(例如位於壁厚較薄之部分的下方)調節部16向外周構件14賦予拉伸載荷，且加大壁厚較薄之部分的下方的吐出口18a的間隙。藉此，薄膜厚度的不均變小。
如圖2所示，作為一例，調節部16具有：操縱桿34，以轉動軸32為支點而被支撐，且接受驅動器24的旋轉力；及動作桿36，能夠藉由模具裝置2支撐為可位移至軸線方向，且支撐於操縱桿34的作用點。而且，操縱桿34的旋轉力轉換為動作桿36的軸線方向的力，該軸線方向的力成為相對於內周構件12或外周構件14之載荷，在操縱桿34的作用點，操縱桿34直接向動作桿36賦予力。
圖4係模式表示控制裝置7的功能及構成之框圖。在此所示之各框在硬體上能夠由以計算機的CPU為代表之元件或機械裝置來實現，在軟體上能夠由計算機程式等來實現，在此，描繪藉由該些協同來實現之功能框。因此，本領域技術人員能夠理解該些功能框藉由硬體、軟體的組合以各種形式實現。
控制裝置7包括：獲取部80、分佈保持部81、目標分佈生成部82、目標分佈保持部83及調節部控制部84。 獲取部80獲取由厚度感測器6進行之測定結果、亦即周方向上的薄膜的厚度分佈。
分佈保持部81保持藉由獲取部80而獲取之厚度分佈。如後所述，目標分佈保持部83保持藉由目標分佈生成部82而生成之目標厚度分佈。
圖5(a)係模式表示保持於分佈保持部81之分佈的一例之圖，圖5(b)係模式表示保持於目標分佈保持部83之目標厚度分佈之圖。在圖5(a)、圖5(b)中，橫軸表示周方向的角度位置，縱軸表示膜厚。一點虛線的橫線90表示由用戶設定之理想性的膜厚之基準膜厚。二點虛線的橫線92表示根據基準膜厚而確定之容許厚度範圍。
目標分佈生成部82生成目標厚度分佈。如後所述，使厚度分佈限制在容許厚度範圍內，以使基準膜厚被設為膜厚的目標亦即目標厚度分佈，且作為目標厚度分佈而接近基準膜厚之方式，控制模具裝置2。在厚度分佈限制在容許厚度範圍內之後，以接近藉由目標分佈生成部82而生成之目標厚度分佈之方式，控制模具裝置2。在此，若在厚度分佈限制在容許厚度範圍內之後，亦以接近基準膜厚之方式控制模具裝置2，則能夠將膜厚維持在容許厚度範圍內。然而，在薄膜中多少會含有膜厚的不均。因此，即使膜厚維持在容許厚度範圍內，亦能夠在薄膜卷體11中出現隆起或凹陷。因此，本實施形態中，在厚度分佈限制在容許厚度範圍內之後，目標分佈生成部82使目標厚 度分佈變化，以免在薄膜卷體11中出現隆起或凹陷，亦即薄膜卷體11的厚度在寬度方向上均勻。
詳細而言，目標分佈生成部82將如下分佈作為目標厚度分佈而設定：關於膜厚比基準膜厚厚之位置，使膜厚比基準膜厚薄，關於膜厚比基準膜厚薄之位置，使膜厚比基準膜厚厚(參閱圖5(a)、圖5(b))。在本實施形態中，目標分佈生成部82將使所測定之厚度分佈(保持於分佈保持部81之厚度分佈)相對於基準膜厚而反轉之分佈作為目標厚度分佈而生成。
返回圖4，調節部控制部84根據基準膜厚及保持於目標分佈保持部83之目標厚度分佈來控制複數個調節部16。首先，調節部控制部84根據作為目標厚度分佈的基準膜厚來控制複數個調節部16，若膜厚限制在容許厚度範圍內，則根據所測定之厚度分佈而生成之目標厚度分佈、亦即保持於目標分佈保持部83之目標厚度分佈來控制複數個調節部16。
詳細而言，調節部控制部84參閱目標厚度分佈(亦即基準膜厚或保持於目標分佈保持部83之目標厚度分佈)，在與所測定之膜厚超過目標厚度分佈(亦即壁厚較厚)之周方向的部分對應之調節部16中，以向外周構件14賦予與目標厚度分佈的差異相應之按壓載荷之方式發送控制指令。藉此，對應之吐出口18a的部分的徑方向的間隙變窄，對應之部分的膜厚變薄，從而接近目標厚度分佈。並且，在與膜厚低於目標厚度分佈(亦即壁厚較薄) 之周方向的部分對應之調節部16中，調節部控制部84以向外周構件14賦予與目標厚度分佈的差異相應之拉伸載荷之方式發送控制指令。藉此，對應之吐出口18a的部分的徑方向的間隙變寬，對應之部分的膜厚變厚，從而接近目標厚度分佈。
對如以上構成之薄膜成形裝置1的動作進行說明。
圖6係表示薄膜成形裝置1的處理之流程圖。圖6所示之處理係按一定間隔重複執行之環處理。例如，在測定厚度感測器6使5周分的測定結果平均之厚度分佈之情況下，只要厚度感測器6按繞薄膜5圈所需之時間重複執行即可。
厚度感測器6測定周方向上的薄膜的厚度分佈(S10)。在膜厚未限制在基於基準膜厚之容許厚度範圍之情況下(S12的N)，控制裝置7以膜厚接近作為目標厚度分佈的基準膜厚之方式，根據基準膜厚來控制模具裝置2(S14)。若膜厚限制在容許厚度範圍(S12的Y)，則控制裝置7根據所測定之厚度分佈而生成之目標厚度分佈、亦即生成使所測定之厚度分佈相對於基準膜厚而反轉之目標厚度分佈(S16)，且以膜厚接近所生成之目標厚度分佈之方式，根據所生成之目標厚度分佈來控制模具裝置2(S18)。
以上，依所說明之本實施形態之薄膜成形裝置1，按規定的時刻，薄膜的厚度分佈相對於基準膜厚反轉。藉此，在形成薄膜卷體11時，比基準膜厚厚之部分與比基 準膜厚之部分堆疊而被平均化，因此薄膜卷體11的厚度在寬度方向上均勻。因此，如以往，即使不扭轉薄膜，亦能夠減少或者縮小薄膜卷體11的隆起或凹陷。
(第2實施形態)
第2實施形態之薄膜成形裝置與第1實施形態之薄膜成形裝置1的主要區別係目標厚度分佈的生成方法。
本實施形態中，目標分佈生成部82將所測定之厚度分佈(保持於分佈保持部81之厚度分佈)分割為複數個區間分佈，且將所分割之複數個區間分佈的每一個作為另一區間的目標厚度分佈而設定。
圖7(a)係模式表示保持於分佈保持部81之分佈的一例之圖，圖7(b)係模式表示保持於目標分佈保持部83之目標厚度分佈之圖。
該例子中，將厚度分佈分割為0°~90°、90°~180°、180°~270°、270°~360°的4個區間分佈，將0°~90°的區間分佈設為90°~180°的目標厚度分佈，將90°~180°的區間分佈設為180°~270°的目標厚度分佈，將180°~270°的區間分佈設為270°~360°的目標厚度分佈，將270°~360°的區間分佈設為0°~90°的目標厚度分佈。亦即，使所測定之厚度分佈的相位偏離90°而成為目標厚度分佈。該情況下，每當目標分佈生成部82重複執行圖6所示之處理，會使厚度分佈的相位偏離90°而生成目標厚度分佈。
依本實施形態之薄膜成形裝置，可發揮與藉由第1實 施形態之薄膜成形裝置1而發揮之作用效果相同的作用效果。
(第3實施形態)
第3實施形態之薄膜成形裝置與第1實施形態之薄膜成形裝置的主要區別在於，即使膜厚限制在容許厚度範圍內，調節部控制部亦基本上根據基準薄膜來控制複數個調節部16。
本實施形態中，與第1實施形態同樣地，目標分佈生成部82將如下分佈作為目標分佈而設定：關於所測定之膜厚比基準膜厚厚之位置，使膜厚比基準膜厚薄，關於所測定之膜厚比基準膜厚薄之位置，使膜厚比基準膜厚厚(參閱圖5(a)、圖5(b))。
與第1實施形態不同，調節部控制部84基本上根據基準膜厚來控制複數個調節部16。亦即，首先，調節部控制部84根據作為目標厚度分佈的基準膜厚來控制複數個調節部16，在膜厚限制在容許厚度範圍內之後，亦根據基準膜厚來控制複數個調節部16。但是，若膜厚限制在容許厚度範圍內，則在任意的時刻，調節部控制部84會暫時根據藉由目標分佈生成部82而生成之目標厚度分佈來控制調節部16。
亦即，本實施形態中，以膜厚基本上接近基準膜厚之方式，控制複數個調節部16。但是，相對於比基準膜厚厚之薄膜的部分，在任意的時刻，會暫時以膜厚比基準膜 厚薄之方式，控制複數個調節部16。並且，相對於比基準膜厚薄之薄膜的部分，在任意的時刻，會暫時以膜厚比基準膜厚厚之方式，控制複數個調節部16。
依本實施形態之薄膜成形裝置，可發揮與藉由第1實施形態之薄膜成形裝置1而發揮之作用效果相同的作用效果。
另外，在膜厚限制在容許厚度範圍內之後，亦根據基準膜厚來控制複數個調節部16，並且在任意的時刻，可以暫時地將周方向的各位置中的目標的膜厚分別變更為規定的範圍內的任意的厚度。該情況下，無需由目標分佈生成部82而引起之目標分佈的生成。
以上，對實施形態之薄膜成形裝置的構成與動作進行了說明。該些實施形態係例示，本領域技術人員能夠理解，該些各構成要件的組合中能夠進行各種變形例，並且該種變形例亦落在本發明的範圍。
(變形例1)
第2實施形態中，對目標分佈生成部82使厚度分佈偏離90°相位而生成目標厚度分佈之情況進行了說明，但並不限定於此。目標分佈生成部82例如可以使每隔30°、每隔45°、每隔60°、每隔120°、或每隔其他規定的角度使相位偏離而生成目標厚度分佈。
並且，第2實施形態中，對目標分佈生成部82使厚度分佈偏離90°相位，亦即，使分割為4個之區間分佈的 每一個作為滑動而相鄰之區間的目標厚度分佈之情況進行了說明，但並不限於此。分割之區間分佈被設定為任意的區間的目標厚度分佈。並且，亦可以將厚度分佈分割為2個、3個、或5個以上的區間分佈。
(變形例2)
第1~3的實施形態中，對藉由利用調節部16來使狹縫18的吐出口18a的徑方向的間隙變大或者變窄，從而使膜厚在周方向上局部性地變更而使薄膜的厚度分佈變化之情況進行了說明，但並不限於此。可以藉由使從冷卻裝置3吹出之冷卻風的風量及風溫中的至少一方在周方向上局部性地變化，從而使膜厚在周方向上局部性地變化且使薄膜的厚度分佈變化。該情況下，冷卻裝置3可以在環形墊8內具備用以調節風量之複數個閥或複數個加熱器。
(變形例3)
第1~3的實施形態中，對模具裝置2係吐出口18a為環狀之所謂圓模之情況進行了說明，但並不限於此。實施形態的技術思想亦能夠應用於吐出口為直線狀之所謂T模。
上述之實施形態及變形例的任意的組合亦作為本發明的實施形態而有用。藉由組合而產生之新的實施形態兼具所組合之每個實施形態及變形例的效果。
7‧‧‧控制裝置
80‧‧‧獲取部
81‧‧‧分佈保持部
82‧‧‧目標分佈生成部
83‧‧‧目標分佈保持部
84‧‧‧調節部控制部

Claims (7)

  1. 一種薄膜成形裝置，其特徵為，具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向的各位置上的膜厚；調節手段，用以使膜厚變化；及控制裝置，以使膜厚接近目標膜厚之方式控制前述調節手段，前述控制裝置，是直到膜厚成為容許厚度範圍為止，以將基準膜厚作為目標膜厚使膜厚接近目標膜厚的方式進行控制，膜厚到達容許厚度範圍之後，更對於所測量的膜厚是比前述基準膜厚更厚的位置，將目標膜厚變更成比前述基準膜厚更薄，並以使接近變更後的目標膜厚的方式進行控制。
  2. 一種薄膜成形裝置，其特徵為，具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向的各位置上的膜厚；調節手段，用以使膜厚變化；及控制裝置，以使膜厚接近目標膜厚之方式控制前述調節手段，前述控制裝置，是直到膜厚成為容許厚度範圍為止，以將基準膜厚作為目標膜厚使膜厚接近目標膜厚的方式進行控制，膜厚到達容許厚度範圍之後，更對於所測量的膜厚是比前述基準膜厚更薄的位置，將目標膜厚變更成比前述基準膜厚更厚，並以使接近變更後的目標膜厚的方式進 行控制。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之薄膜成形裝置，其中前述控制裝置將使所測定之膜厚相對於前述基準膜厚而反轉之膜厚作為目標厚度而設定。
  4. 一種薄膜成形裝置，其特徵為，具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向的各位置上的膜厚；調節手段，用以使膜厚變化；及控制裝置，以使膜厚接近目標膜厚之方式控制前述調節手段，前述控制裝置，是將所測定之周方向的各位置中的膜厚，設定作為朝周方向滑動之後的滑動目的地的位置上的目標膜厚。
  5. 一種薄膜成形裝置，其特徵為，具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向的各位置上的膜厚；調節手段，用以使膜厚變化；及控制裝置，以使膜厚接近目標膜厚之方式控制前述調節手段，前述控制裝置，是將所測定之周方向的各位置中的膜厚，設定作為朝規定的角度錯開規定相位之後的位置上的目標膜厚。
  6. 一種薄膜成形裝置，其特徵為，具備： 模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向的各位置中的膜厚；調節手段，用以使各位置中的膜厚變化；及控制裝置，以各位置中的膜厚接近基準膜厚之方式控制前述調節手段，前述控制裝置，是直到膜度成為容許厚度範圍為止，以將基準膜厚作為目標膜厚使膜厚接近目標膜厚的方式進行控制，膜厚到達容許厚度範圍之後，更對於所測量的膜厚是比前述基準膜厚更厚的位置，將目標膜厚變更成比前述基準膜厚更薄，並以使接近變更後的目標膜厚的方式進行控制。
  7. 一種薄膜成形裝置，其特徵為，具備：模具裝置，將熔融樹脂擠出為管狀而成形薄膜；測定部，測定周方向的各位置中的膜厚；調節手段，用以使各位置中的膜厚變化；及控制裝置，以各位置中的膜厚接近基準膜厚之方式控制前述調節手段，前述控制裝置，是直到膜厚成為容許厚度範圍為止，以將基準膜厚作為目標膜厚使膜厚接近目標膜厚的方式進行控制，膜厚到達容許厚度範圍之後，更對於所測量的膜厚是比前述基準膜厚更薄的位置，將目標膜厚變更成比前述基準膜厚更厚，並以使接近變更後的目標膜厚的方式進行控制。
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