TWI772701B - 材料的製造方法 - Google Patents

Abstract

一種材料的製造方法，其具有以下步驟：第1步驟，係於基材的表面上配置噴擊轉印材；及第2步驟，係隔著前述噴擊轉印材對前述基材之前述表面進行噴擊處理；並且前述噴擊轉印材之密度、厚度及硬度中之一個以上係不均一。

Description

材料的製造方法

本發明係關於一種材料的製造方法。詳言之，係關於一種具有凹凸等模樣的材料，更詳細地說明，係關於一種具有木紋設計等源自自然的質感之設計材。 本案係依據已於2018年10月30日於日本提申之日本特願2018-203984號主張優先權，並於此援引其內容。

發明背景 對於用於建築物內部及外部裝飾的飾面材及汽車等運輸設備的內裝材料，視情況會要求高設計性。具有木紋設計或自然素材質感的材料由於其自身外觀優異且易於與周圍調和，因此在上述用途中也相較頻繁地被應用。

已知有數種在金屬材料中再現如上述之木紋設計質感的嘗試。例如，專利文獻1中提出了一種金屬材料的製造方法，係切削金屬材料表面以形成木紋設計的細長溝槽模樣，並且對該表面進行塗裝。另外，專利文獻2中提出了一種木紋模樣不鏽鋼裝飾板，其係利用附有模樣的工作軋輥來軋延不鏽鋼帶並轉印至其上而獲得，該不鏽鋼裝飾板的凸部為鏡面加工之面且凹部為粗面加工之面。

另外，作為用以製造由不鏽鋼所構成之具有表面凹凸的構件的方法，專利文獻3中揭示了一種將遮蔽材貼附於起始構件並進行噴擊處理的方法。

先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開第2004-338153號公報 專利文獻2：日本實開昭55-67900號公報 專利文獻3：日本特開2018-28142號公報

發明概要 發明欲解決之課題 然而，在木材木紋或存在於自然素材中的模樣中，不僅存在明確的輪廓，也存在許多沒有清晰邊界的模糊區域。利用專利文獻1~3中記載的方法可形成明確的輪廓、凹凸，但無法形成如上述之模糊區域。並且，在金屬板等基材表面表現如上述之模糊區域的方法至今仍不為人所知。

因此，本發明係有鑑於上述問題而作成者，本發明目的在於：提供一種材料的製造方法，該方法可形成沒有清晰邊界的自然模糊區域，並且可表現出源自素材的模樣。

用以解決課題之手段 為了解決上述課題，本發明人深入研討，結果發現：在作為材料的基材上配置薄木板或纖維片等遮蔽材並從其上進行噴擊處理，藉此便可在基材上形成模樣，該模樣充分反映出該等遮蔽材所具有之模樣，並且進一步加以研討之結果，終至完成了本發明。 又，此處所謂的遮蔽材，目的並非在於保​​護基材，而係以藉由噴擊處理將源自遮蔽材的模樣轉印至基材為目的來加以使用，在本說明書中以下稱之為「噴擊轉印材」。

基於上述知識見解而完成之本發明，其主旨如下。 (1) 一種材料的製造方法，具有以下步驟： 第1步驟，係於基材的表面上配置噴擊轉印材；及 第2步驟，係隔著前述噴擊轉印材對前述基材之前述表面進行噴擊處理；並且 前述噴擊轉印材之密度、厚度及硬度中之一個以上係不均一。 (2) 如(1)之材料的製造方法，其在前述第2步驟後，具有去除前述噴擊轉印材的步驟。 (3) 如(1)或(2)之材料的製造方法，其中前述噴擊轉印材係薄木板、纖維片中之任一者或兩者。 (4) 如(3)之材料的製造方法，其中前述纖維片係布或日本紙。 (5) 如(1)~(4)之材料的製造方法，其中前述基材係玻璃材、陶瓷材、樹脂材、混凝土、石材、石墨、布、紙材、木材、木質材料、皮革材或金屬材。 (6) 如(5)之材料的製造方法，其中前述基材係鈦材、不鏽鋼材或鋁材中之任一種金屬材。 (7) 如(6)之材料的製造方法，其中在前述噴擊處理中係使用平均粒徑為50μm以上且1000μm以下之投射材。 (8) 如(6)或(7)之材料的製造方法，其中前述噴擊處理之投射壓力為0.20MPa以上且0.80MPa以下。 (9) 如(6)~(8)中任一項之材料的製造方法，其中前述噴擊轉印材的厚度係0.10mm以上且1.00mm以下。 (10) 如(6)~(9)之材料的製造方法，其中前述基材係鈦材，並且在前述第1步驟之前，具有將前述鈦材進行真空退火或酸洗的步驟。 (11) 如(1)~(10)中任一項之材料的製造方法，其中前述材料係家電殼體用材料、資訊設備殼體用材料、住宅設備用材料、時鐘用材料、裝飾品用材料、看板用材料、門牌用材料、標誌用材料、文具用材料、器具用材料、住宅內家具用材料、訂製家具用材料、建築用飾面材料或運輸設備用材料。

發明效果 如以上說明，根據本發明可提供一種材料的製造方法，該方法可形成沒有清晰邊界的自然模糊區域，並且可表現出源自素材的模樣。

用以實施發明之形態 以下，參照圖式並詳細說明本發明之較佳實施形態。圖1係用以說明本實施形態之材料的製造方法的流程之示意圖。本實施形態之材料的製造方法具有以下步驟：第1步驟，係於基材10的表面上配置噴擊轉印材20；及第2步驟，係隔著噴擊轉印材20對基材10之前述表面進行噴擊處理。噴擊轉印材20係可覆蓋基材10的表面上之片狀，並且噴擊轉印材20在其面積整體中，密度、厚度及硬度中之一個以上係不均一。例如，噴擊轉印材20的至少一部分區域的密度相對較高，且至少其他一部分區域的密度相對較低。或者，譬如噴擊轉印材20的至少一部分區域的厚度相對較厚，且至少其他一部分區域的厚度相對較薄。或者，譬如噴擊轉印材20的至少一部分區域的硬度相對較高，且至少其他一部分區域的硬度相對較低。如上述之噴擊轉印材20舉例而言係薄木板及/或纖維片。另外，本實施形態中，材料的製造方法更具有在上述第1步驟之前進行以準備基材10之基材準備步驟、及在第2步驟後進行之後處理步驟。以下，詳細說明各步驟。

1.基材準備步驟 在本步驟中，首先準備基材10。 基材10並無特別限定，可舉例：混凝土；大理石或花崗岩等石材；石墨；布；紙材；木材；木質材料；皮革材；鍍敷鋼材、銅材、鈦材、不鏽鋼材、鋁材等金屬材；玻璃材；陶瓷材及樹脂材等。

上述之中，從耐蝕性、耐久性的觀點來看，基材10又以玻璃材、樹脂材、石材或金屬材為佳。而從耐蝕性及成形性的觀點來看，係以鋁材、不鏽鋼材或鈦材較佳。尤其，鈦材在嚴苛的腐蝕環境下具有良好耐蝕性，故適宜用來作為基材。

基材10所用鈦材可使用純鈦或鈦合金。又，純鈦及鈦合金統稱為「鈦」。此種鈦材亦可使用例如工業用鈦。作為可用於基材10之工業用鈦，可舉例JIS H 4600：2012或JIS H 4650：2012中記載的各種工業用鈦。當要求加工性時，係以已減低不純物之JIS1種(譬如JIS H 4600)之工業用純鈦為適宜。而須有強度時，亦可應用JIS2種~4種之工業用純鈦。作為鈦合金，為了提升耐蝕性，可舉例添加了微量貴金屬系元素(鈀、鉑、釕等)的JIS11種至23種、及含有較多添加元素的JIS60種(例如，Ti-6Al-4V系合金)、60E種、61種、61F種、80種等。

惟，如Ti-6Al-4V系合金這般大量含有鋁時，有時耐蝕性會劣化且會對耐變色性造成不良影響。因此，要在作為基材10的鈦合金的表面形成氧化鈦層時，推薦預先調查合金元素對於用途的影響，並依基材10之不同來適當調整各層的組成及厚度。

或者，基材10可為工業用純鈦，該工業用純鈦譬如含有以下元素： 以質量%計， N：0%以上且0.050%以下、 C：0%以上且0.10%以下、 H：0%以上且0.015%以下、 O：0%以上且0.35%以下及 Fe：0%以上且0.50%以下，且 剩餘部分含有Ti及不純物。

另外，基材10可為工業用鈦合金，該工業用鈦合金譬如含有選自於由以下所構成群組中之1種或2種以上元素： 以質量%計， Al：5.0%以上且7.0%以下、 V：3.0%以上且5.0%以下、 Co：0.10%以上且1.0%以下、 Ni：0.10%以上且1.0%以下、 Pd：0.010%以上且0.30%以下及 Ru：0.010%以上且0.30%以下；並且 含有以下元素： N：0%以上且0.050%以下、 C：0%以上且0.10%以下、 H：0%以上且0.015%以下、 O：0%以上且0.35%以下及 Fe：0%以上且0.50%以下，且 剩餘部分含有Ti及不純物。

此處，不純物係無關於添加之意圖而存在於鈦中，且在所得材料中本不須存在之成分。「不純物」之用語係一種包含以下之概念：在工業上製造鈦時，從原料或製造環境等混入之不純物。如上述之不純物可在不會對本發明效果造成不良影響的量下含有。

另外，因後述噴擊處理所造成之投射材的殘存物，可作為不純物被含於使用基材10製出的材料1中。如上述之因噴擊處理所造成之不純物可存在於材料1的表面附近。例如，投射材為氧化鋁粒子時，小於20原子%的Al可作為不純物存在於材料1的表面附近，若為SiC粒子時，則小於20原子%的Si及C可作為不純物存在於材料1的表面附近。

另，不鏽鋼材並無特別限定，可使用例如：JIS G 4305：2012中記載的各種沃斯田鐵系、沃斯田鐵・肥粒鐵系、肥粒鐵系、麻田散鐵系、析出硬化系不鏽鋼。具體而言，可使用SUS304、SUS316、SUS329J1、SUS430、SUS410、SUS630等來作為基材10。

另外，鋁材並無特別限定，可使用例如工業用純鋁及鋁合金。具體而言，工業用純鋁可舉出JIS H 4000：2006中記載的A1085P、A1080P、A1070P、A1050P、A1100P、A1200P、A1N00P、A1N30P等。鋁合金則可舉出：JIS H4000：2006中記載的A2014P、A2014PC、A2017P、A2219P、A2024P、A2024PC、A3003P、A3103P、A3203P、A3004P、A3104P、A3005P、A3105P、A5005P、A5052P、A5652P、A5154P、A5254P、A5454P、A5082P、A5083P、A5083PS、A5086P、A5N01P、A6061P、A7075P、A7075PC、A7N01P、A8021P、A8079P等。

另外，鍍敷鋼材可使用經施行例如鍍鋁、鋅系鍍敷或合金化鍍鋅之各種鍍敷鋼材。鋅系鍍敷及合金化鍍鋅可舉例：熔融鍍Zn、合金化熔融鍍Zn、熔融Zn-55%Al-1.6%Si鍍敷、熔融Zn-11%Al鍍敷、熔融Zn-11%Al-3%Mg鍍敷、熔融Zn-6%Al-3%Mg鍍敷、熔融Zn-11%Al-3%Mg-0.2%Si鍍敷、電鍍Zn、電鍍Zn-Ni、電鍍Zn-Co。另，鍍鋁可舉例：熔融鍍鋁、熔融鋁矽合金等。

銅材亦無特別限定，可使用例如JIS H 3100：2012中記載的工業用銅及銅合金。銅材具體而言可舉出：以JIS H 3100：2012中記載的C1020、C1100、C1201、C1220、C1441、C1510、C1921、C1940、C2051、C2100、C2200、C2300、C2400、C2600、C2680、C2720、C2801、C3710、C3713、C4250、C4450、C4621、C4640、C6140、C6161、C6280、C7060、C7150、C7250之合金編號表示的各種板材及條材等。

玻璃材可使用例如鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、石英玻璃、水晶玻璃等。 樹脂材可使用例如丙烯酸、聚乙烯、聚氯乙烯、聚胺甲酸乙酯、聚碳酸酯、聚四氟乙烯等。

木質材料可使用例如膠合板(plywood)、集成材(laminated wood)、塑合板(particle board)及纖維板等。 木材並無特別限定，可使用例如可用作家具材、建築材料之任意樹種的木材，具體來說可使用：杉木、松木、櫟木、榆木、櫸木、橡木、桐木、柏木、桃花心木、胡桃木、柚木、紫檀、黑檀等。

天然石墨及人造石墨皆可作為石墨使用，也可使用以樹脂等作為黏結材料進行黏結而成之其等的塊狀物。 紙材可舉例：紙板、塗佈紙、特殊紙、雜用紙等西洋紙及各種日本紙。又，構成紙材的紙材料並無特別限定，可為例如以木材為代表的周知之紙的各種原料。

陶瓷材可使用例如陶瓷製品、石膏、水泥、氧化鋁、氧化鋯等。 另外，布可使用例如：棉、麻、絹、羊毛等天然纖維；或尼龍、維尼綸、聚酯等合成纖維；或以天然纖維及合成纖維的混合纖維所成的織布、不織布及橡膠布等。 皮革材可使用人工皮革、合成皮革等人造皮革；及天然皮革。

另外，基材10的形狀並無特別限定，通常為板、卷、條、管、棒線，或呈適當加工該等後所成形狀。然而，基材10亦可具有任意形狀，例如球狀、長方體狀。又，本實施形態中，以基材10為板來代表該等進行說明。

又，上述基材10亦可視需要施行前處理。前處理可舉例：基材10表面之清洗、塗敷、陽極氧化等各種表面處理或退火處理等。

基材10為鈦材時，在第1步驟之前，宜具有將鈦材進行真空退火或酸洗的步驟。藉此，可減少存在於基材10表面附近的碳化鈦(TiC)的量，而可提升所得材料1的耐變色性。

作為基材10的鈦材為薄板形狀時，在透過冷軋延將該鈦材軋延至預定厚度後，施行退火處理。在大氣中施行退火處理時，可透過酸洗去除氧化皮。另一方面，若在真空中進行退火，則可省略去除退火時形成的氧化皮等的步驟。與後述的真空退火相比，基材的加工性雖會受限(可加工範圍變窄)但可不進行退火(維持冷軋的狀態)，亦可施行熱處理，該熱處理係在因相變態而β組織化的溫度下，例如在900℃以上維持1分鐘以上。該等處理可適當採用發明所述技術領域之通常知識者可選擇的條件來實施。

進行真空退火時，可視所要求之基材10的機械特性適當調整退火溫度，而係以650℃以上為佳。為了使不因相變態而β組織化，退火溫度之上限宜低於820℃。處理時間宜為12小時以上。進行多次真空退火時，在650℃以上的維持時間合計宜為12小時以上。維持時間之上限並無特別限制，而從生產性的觀點來看，宜為24小時以下。在施行真空退火處理前，宜藉由鹼脫脂來去除油分。

另，進行酸洗時，可使用例如硝酸與氫氟酸的混合水溶液，並在處理溫度(水溶液溫度)為5℃以上且80℃以下、處理時間為10秒以上且30秒以下的條件下進行。另，上述混合水溶液中的硝酸濃度係例如10g/L以上，氫氟酸濃度係例如0.5g/L以上。並且，硝酸濃度宜為80g/l以下，較佳係50g/l以下。藉此，可抑制氟化物在酸洗後殘留於基材10的表面。

另外，作為退火及酸洗以外的前步驟，亦可進行消光軋延處理、或在酸洗後進行消光軋延處理。例如，可依建築師的要求變更前步驟。

2.第1步驟 接下來，在第1步驟中，於基材10的表面11上配置噴擊轉印材20(S-101)。此處，噴擊轉印材20係可覆蓋基材10的表面上之片狀，並且噴擊轉印材20在其面積整體中，密度、厚度及硬度中之一個以上係不均一。本實施形態中，噴擊轉印材20係譬如薄木板及纖維片中之任一者或兩者。

薄木板及纖維片由於其結構，而在面方向上密度、厚度及硬度等物理性質不均一。本發明人等發現：透過使用此種不均質的薄木板或纖維片來作為噴擊轉印材20，並藉由隔著噴擊轉印材20進行噴擊處理，可在基材10上形成源自不均質的薄木板或纖維片的模樣。推測此係由以下所致：在噴擊處理時，因噴擊轉印材20的不均質性使得噴擊轉印材20的磨削不均質地進行，從而基材10所受的噴擊處理也不均質。

薄木板係藉由將木材薄薄地切片而獲得的片狀板材。薄木板具有源自原料木材的木紋。木紋係由密度及硬度較低的早材部分與密度及硬度較高的晚材部分所構成，因此薄木板的密度及硬度係對應木紋模樣而不均質。因此，透過使用薄木板作為噴擊轉印材20，便可在第2步驟中於基材10的表面11形成木紋模樣。

另，成為薄木板原料的木材種類並無特別限定，可舉例：杉木、松木、櫟木、榆木、櫸木、橡木、桐木、柏木、桃花心木、胡桃木、柚木、紫檀、黑檀等，可視就材料1設為目標的木紋模樣適當選擇。

纖維片係藉由規則地或不規則地配置纖維而形成。纖維片會依其纖維材料及纖維的配置方法，而使其在面方向之密度、厚度及硬度變得不均質。因此，使用纖維片作為噴擊轉印材20時，在後述第2步驟中，會於基材10的表面11形成因纖維片的纖維配置所致之模樣。

纖維片可列舉：織布、不織布及對其等施以花邊針織、刺繡而成之布等布；及日本紙、西洋紙等紙。上述之中，又因日本紙具有獨特的質感及模樣而設計性優異，可適合用來作為噴擊轉印材20。另外，由於布可製作並取得大面積之物，因此在處理大面積的基材10時是有利的。

纖維片的原料並無特別限定，可舉例：化學纖維、木棉、絹、麻等纖維系；及楮、結香、竹、草桿、亞麻、甘蔗、馬尼拉麻、洋麻、香蕉、油棕櫚、紙草(Papyrus)、木材紙漿(機械紙漿、化學紙漿)等各種纖維材料。纖維片的原料可視材料1所要求之模樣及質感，單獨使用該等中之1種或組合該等中之2種以上來使用。

另外，噴擊轉印材20的厚度並無特別限定，而係例如0.10mm以上且1.00mm以下，以0.20mm以上且0.60mm以下為佳。藉此，在第2步驟中，便不會過度削去基材10的表面，而可更確實地形成設計性優異的模樣，該設計性優異的模樣係對應於噴擊轉印材20之模樣。又，本實施形態中，噴擊轉印材20的厚度係指噴擊轉印材20的平均厚度，其可藉由利用遊標卡尺或測微器計測而得之10點的算術平均來測定。

對基材10的表面11上之噴擊轉印材20的配置，一般係透過將噴擊轉印材20貼附在基材10之表面來進行。要對基材10貼附噴擊轉印材20時，可使用周知的接著劑。考慮到在後續步驟中去除殘留的噴擊轉印材20，則此種接著劑宜使用水溶性接著劑，具體而言宜使用水溶性膠。

又，對一個基材10，可同時使用多種薄木板與纖維片作為噴擊轉印材20。藉此，可在材料1形成多個模樣，或可從材料1製出多個零件、製品。

3.第2步驟 接下來，在第2步驟中，隔著噴擊轉印材20對基材10之表面11進行噴擊處理(S-103)。噴擊處理係透過對基材10之配置有噴擊轉印材20的表面投射投射材來進行。

隔著噴擊轉印材20對基材10之表面11進行噴擊處理，藉此源自素材的模樣便會與沒有清晰邊界的自然模糊區域一同形成。亦即，在噴擊處理開始時，首先投射材會衝撞噴擊轉印材20，而磨削噴擊轉印材20。此時，噴擊轉印材20其厚度、硬度及密度中之一個以上係不均質，因此噴擊轉印材20中每個部位的磨削的進行或消失的程度亦會依其等之厚度、硬度及密度而變得不均質。其後，隨著噴擊處理的進行，在噴擊轉印材20的磨削容易進行之部分中，基材10之表面11會優先露出，並且投射材會衝撞基材10之表面11。如上所述，依噴擊轉印材20的不均質性不同，噴擊處理之投射材的衝撞頻率在基材10的每個部位會有所不同，而噴擊處理的程度在基材10的每個部位便會不同。藉此，在基材10之表面11，源自噴擊轉印材20的模樣便會伴隨著沒有清晰邊界的自然模糊區域一同形成。

噴擊處理的方法可列舉：機械式(葉輪投射)、空氣式(氣體噴嘴式)及濕式，利用任一種方式進行皆可。其等之中，由於空氣式可將投射材均勻地投射在涵蓋目標部位之全體，並且容易調節條件，因此係有利的。在圖示之態樣中係採用空氣式，藉由氣體噴嘴100來進行投射材的噴射，而進行基材10的噴擊處理。

噴擊處理中使用的投射材並無特別限定，可利用例如：氧化鋯粒子、玻璃粒子、氧化鋁粒子、SiC粒子等陶瓷系投射材。上述之中，又以氧化鋁粒子、氧化鋯粒子可更提升於基板10的表面11形成之模樣的設計性。另外，藉由組合基材10之種類、所用投射材之種類及噴擊轉印材20之種類，所獲得的材料1的質感亦會變化，因此亦可考量該等來選擇投射材。

另，投射材之平均粒徑並無特別限定，當基材係例如鈦材、不鏽鋼材及鋁材中之任一種金屬材時，會適度地磨削噴擊轉印材20之與投射材的衝撞部分，而從於基材10的表面形成模樣的觀點來看，係以50μm以上且1000μm以下為佳。投射材之平均粒徑的較佳下限為70μm，更佳係100μm。投射材之平均粒徑的較佳上限為800μm，更佳係500μm。此處，投射材之平均粒徑可依據例如JIS 8827-01：2008來測定。

另，投射材之形狀並無特別限定，可視要製造之材料1的質感適當選擇，例如投射材使用砂材(grit)、球珠(shot)、珠粒(beads)、切線粒(cut wire)等任一種。所謂的砂材，係指具有尖角之角的非球形粒子(多角形粒子)。所謂的球珠，一般係指如珠粒這類為球狀且無角的粒子。所謂的珠粒係指球形粒子。所謂的切線粒狀，係指切斷金屬線而成的圓筒狀粒子。砂材係在要於基材10的表面11形成尖銳的凹凸時使用。並且，砂材係適於以下之投射材：當基材為例如鈦材、不鏽鋼材及鋁材等金屬材時，會破壞薄木板的脆弱部分，並進一步在已破壞部分的金屬鈦表面形成凹凸。

另外，噴擊處理時投射材的投射壓力並無特別限定，而當基材係例如鈦材、不鏽鋼材及鋁材中之任一種金屬材時，則以0.20MPa以上且0.80MPa以下為佳。投射材的投射壓力的較佳下限為0.30MPa，更佳係0.40MPa。並且，投射材的投射壓力的較佳上限為0.70MPa，更佳係0.6MPa。藉此，便能以適度的投射強度將投射材投射於基材10表面及噴擊轉印材20，而可涵蓋經噴擊處理之部位的整體形成源自噴擊轉印材20的模樣，並且可防止因投射材而產生傷痕等缺陷。

投射角並無特別限定，可相對於基材10的被投射面為45~90°(垂直)。 又，可進行噴擊處理直到去除所有的噴擊轉印材20為止，而即便在噴擊轉印材20已部分消失的狀況下，亦可配合對基材10的表面之模樣的形成狀況來結束噴擊處理。

此處，以使用薄木板作為噴擊轉印材20之情況為例，進一步詳細說明。如圖1所示，由薄木板所構成之噴擊轉印材20係由密度及硬度較低的早材部分21與密度及硬度較高的晚材部分22所構成，因此薄木板在其面積整體中係對應木紋模樣而密度及硬度不均質。

如上述對應木紋模樣而密度及硬度不均質的噴擊轉印材20(薄木板)，在第1步驟中係如圖2所示地配置於基材10的表面11上(S-101)。然後，在第2步驟中，隔著噴擊轉印材20對基材10之表面11進行噴擊處理(S-103)。

此處，在第2步驟中，投射材會衝撞噴擊轉印材20，噴擊轉印材20便被磨削(S-103)。此時，由薄木板所構成之噴擊轉印材20因具有密度及硬度較低的早材部分21、與密度及硬度較高的晚材部分22，故密度及硬度較低的早材部分21在噴擊處理中會被磨削掉較多。另一方面，密度及硬度較高的晚材部分22在噴擊處理中則被磨削掉較少(S-103(a))。

之後，在第2步驟中，隨著噴擊處理的進行，密度及硬度較低的早材部分21會優先被磨削，從而基材10的表面11部分性地露出(S-103)。如此一來，在原存在由薄木板所構成之噴擊轉印材20的早材部分21的部分，投射材會衝撞基材10的表面11，而進行部分性的噴擊處理(S-103(b))。 另一方面，密度及硬度較高的晚材部分22並未被完全磨削，而呈晚材部分22仍部分性地殘留在基材10的表面11的狀態。如此一來，在存在由薄木板所構成之噴擊轉印材20的晚材部分22的部分，投射材不會衝撞基材10的表面11，而不會進行噴擊處理。

如此一來，在基材10的表面11中，在對應於由薄木板所構成之噴擊轉印材20的早材部分21之部分會進行藉由噴擊處理所行加工，而在對應於早材部分21的部分便會形成與投射條件相應的凹凸(粗面)12。另一方面，在基材10的表面11中，在對應於由薄木板所構成之噴擊轉印材20的晚材部分22之部分不會進行藉由噴擊處理所行加工，而不會在對應於晚材部分22的部分形成凹凸(粗面)。如上所述，視噴擊轉印材20的不均質性，會在基材10的表面11部分性地形成凹凸(粗面)12，從而會於基材10的表面11形成與用作噴擊轉印材20的薄木板所具有的木紋相應的模樣(凹凸(粗面)12)。

另外，就由薄木板所構成之噴擊轉印材20，於早材部分21與晚材部分22的邊界附近，有時密度及硬度較高的晚材部分22會有一部分被磨削。亦即，就由薄木板所構成之噴擊轉印材20，早材部分21與晚材部分22的邊界並不一定會垂直於基材10的表面11，舉例而言係如圖3(a)所示，有時也會有晚材部分22傾斜地進入到早材部分21下方的情形。

當如上述地晚材部分22傾斜地進入到早材部分21下方時，藉由噴擊處理，因晚材部分22的前端側(圖3中的左側)變薄故其一部分會被磨削，而如圖3(b)所示地原被晚材部分22覆蓋的部分13(屬基材10的表面11的一部分)就露出。於是，在露出後投射材便會衝撞原被該晚材部分22覆蓋的部分13，而進行噴擊處理。

另一方面，與原僅由早材部分21覆蓋的部分相較之下，原被該晚材部分22覆蓋的部分13在直到露出基材10的表面11為止花費較多時間，因此進行噴擊處理的時間也較短。其結果，相較於最初僅由早材部分21覆蓋且已藉由噴擊處理形成了凹凸(粗面)12的部分，原被該晚材部分22覆蓋的部分13係形成較小的凹凸。

如上所述，當早材部分21與晚材部分22的邊界係相對於基材10的表面11呈傾斜時，在凹凸(粗面)12的周緣部，原被該晚材部分22覆蓋的部分13會以輕微的凹凸模樣出現。藉此，在基材10之表面11，源自噴擊轉印材20的模樣便會伴隨著沒有清晰邊界的自然模糊區域一同形成。

圖4係顯示無邊界的模糊區域的說明示意圖。如圖4所示，在基材10的表面11，於凹凸(粗面)12的周緣部，會出現輕微的凹凸模樣(係相當於原被晚材部分22覆蓋的部分13之區域)13'，該輕微的凹凸模樣13'與凹凸(粗面)12相較之下，凹凸程度較弱。如上所述，在基材10的表面11，源自噴擊轉印材20的模樣便伴隨著沒有清晰邊界的自然模糊區域一同形成。

4.後處理步驟 視需要對噴擊處理後的基材10進行後處理，以獲得材料1，該材料1具有已形成有源自噴擊轉印材20的模樣之表面11(圖1 S-105)。後處理可舉例：清洗處理、陽極氧化處理、塗裝等。就清洗處理而言，可使用例如5~100℃的水來進行，藉此將殘留的噴擊轉印材20與水溶性接著劑一起去除。另外，當接著劑不是水溶性時，亦可適當地選擇可膨潤及溶解接著劑的溶劑。 又，亦可省略本步驟。

藉由以上說明的本實施形態之材料的製造方法製出的材料1，係在表面11形成有源自噴擊轉印材20之素材的模樣。另外，在形成於該表面11之模樣中，因係歷經上述第1步驟及第2步驟而形成，從而會在每個部位產生濃淡，並且存在沒有清晰邊界的自然模糊區域。如上述之沒有清晰邊界的自然模糊區域存在於自然素材等中，而另一方面，係難以利用以往已知的方法來形成。相對於此，本實施形態之材料的製造方法中，可製造充分反映出源自素材的模樣且設計性優異的材料1。 亦即，藉由本實施形態之材料的製造方法製出之材料1，係按裝飾及其他目的而刻意施加有模樣及質感之設計材，該模樣及質感係源自噴擊轉印材20且由點、線、凹凸及其等之組合等所構成。

在本實施形態之材料的製造方法中，可藉由選擇噴擊轉印材20的種類，來選擇材料1的模樣及質感。亦即，本實施形態之材料的製造方法在形成源自各種素材的模樣上，其廣用性優異。

此外，本實施形態之材料的製造方法係歷經第1步驟及第2步驟，而可以較少的工時來製出材料1。並且，上述第1步驟及第2步驟亦可對具有較大面積之基材10加以應用。因此，本實施形態之材料的製造方法在生產性上亦優異。尤其，在使用了卷料作為基材10時、亦即使用了帶狀之基材10時，可連續進行第1步驟與第2步驟，生產性可更加提升。

如以上方式而獲得的材料1可作為例如以下來利用：內裝材料、外裝材料等建築用飾面材料、車輛(尤其是汽車、鐵路車輛)、船舶、飛機等運輸設備的材料(內裝材料及外裝材料)、器具(例如餐具)、訂製家具或住宅內家具(例如櫃子類、架子類、椅子類、桌子類、寢具)、家電殼體、資訊設備(IT設備)殼體、住宅設備、時鐘、裝飾品、看板、門牌、標誌、文具。因此，材料1可為：家電殼體用材料、資訊設備殼體用材料、住宅設備用材料、時鐘用材料、裝飾品用材料、看板用材料、門牌用材料、標誌用材料、文具用材料、器具用材料、住宅內家具用材料、訂製家具用材料、建築用飾面材料或運輸設備用材料。尤其，在本實施形態之材料的製造方法中，可有效率地製造具有較大面積的材料1，故適合應用來作為建築用飾面材料或運輸設備用材料。

以上，已說明了本發明之適宜實施形態，惟本發明不限於上述實施形態。譬如，上述實施形態中係設定為僅對基材10的單面實施第1步驟及第2步驟來加以說明，惟本發明並不限於此，亦可對基材兩面實施第1步驟及第2步驟。此時，各步驟可於每單面進行，亦可對兩面同時進行。

另外，噴擊轉印材可使用由於其結構而在面方向上密度、厚度及硬度等物理性質不均一的片狀構件。例如，可在基材10的表面11上變換位置來配置薄木板與纖維片，亦可將薄木板與纖維片重疊配置在相同位置。另外，作為噴擊轉印材的例子亦可想到：帶有花邊模樣凹凸的乙烯製品或桌布等之密度、厚度及硬度等物理性質不均一的樹脂等。

又，在本發明中，「噴擊轉印材」並非會完全妨礙基板10之表面11上的噴擊處理之物，而係一種手段(構件)，該手段(構件)會將基材10之表面11上各區域的噴擊處理調整成不均質，使基板10之表面11上的一部分區域進行噴擊處理，並且使其他部分的區域不進行噴擊處理。

另外，當基材係例如鈦材、不鏽鋼材及鋁材等金屬材時，亦可於第1步驟及第2步驟前後，利用陽極氧化處理等對基材進行著色。藉此，可製出與僅歷經第1步驟及第2步驟之材料不同質感的材料。 實施例

以下，顯示實施例並且具體說明本發明實施形態。又，以下所示實施例僅為本發明之一條件例，本發明並非限定於下述例。

1.製造材料 1.1.基材準備步驟 首先，針對各例準備了表1所示之板狀基材。當基材為鈦時，在表1所示條件下進行退火，並視需要進行了酸洗處理。又，表1中，係將根據JIS H 4600之純鈦1種標記為「Ti-1」、純鈦2種標記為「Ti-2」。並且，表中分別列示「SUS」為不鏽鋼鋼板(SUS304)、「Al」為鋁板(A3105P)、「玻璃」為玻璃板(鈉鈣玻璃)、「樹脂板」為丙烯酸樹脂製之塑膠板、「布」為綿、「陶瓷」為水泥、「石材」為大理石、「石墨」為人造石墨、「混凝土」為混凝土。

此外，表中還針對退火記載了係進行真空退火或大氣退火之何者。真空退火處理係將真空度設為1.0×10-3Torr以下、溫度設為650℃且將處理時間設為12小時來進行。另，大氣退火係將溫度設為730℃以上且將處理時間設為2分鐘來進行。另，酸洗係藉由以下方式進行：使用氫氟酸濃度為50g/L且硝酸濃度為10g/L的硝酸水溶液，並在處理溫度50℃下處理基板30秒。

1.2.第1步驟 接著，針對各例，對準備好的基材之表面貼附了表1所示噴擊轉印材。又，表中「薄木板」係表示由天然木材(柳杉)製成之薄木板，「日本紙」係表示以山茶為原材料製得之日本紙，「拉門紙」係表示以楮為原料之手工製日本紙。「壁紙」係表示紙製的壁紙原紙，「皮革材」表示人工皮革，「木材」表示櫟木板材。另，對基材貼附噴擊轉印材係使用水溶性膠來進行。又，實施例1~37中作為噴擊轉印材使用的「薄木板」、「日本紙」、「拉門紙」及「布」，其等之密度、厚度及硬度中之一個以上係不均一。

此外，比較例1中係在基材上形成了噴擊轉印材，該噴擊轉印材使用了印刷有模樣之鋁箔。另外，比較例2中係在基材上形成了噴擊轉印材，該噴擊轉印材使用了印刷有模樣之聚矽氧樹脂片。又，比較例1、2中，該等印刷有模樣之鋁箔及聚矽氧樹脂片係使用了密度、厚度及硬度等物理性質均一者。

1.3.第2步驟 接下來，對貼附有噴擊轉印材之基材，以表1所示條件從噴擊轉印材上進行了噴擊處理。 1.4 後處理步驟 以50℃的水清洗噴擊處理後各例之基材，將殘留的噴擊轉印材與水溶性接著劑一起去除，而獲得各例之材料。

2.評估 對各例之材料實施以下評估：目視觀察預先拍攝照片的噴擊轉印材的模樣與形成於基材表面的模樣之相似性，極為相似時設為「A」，很相似時設為「B」，有點相似時設為「C」，幾乎不相似時設為「D」。 將所得評價整合列示於表1。

[表1]

如表1所示，實施例1~32所示之本實施形態之材料係評估為有點相似時的「C」、很相似時的「B」及極為相似時的「A」中之任一者。另一方面，如表1所示，比較例1~2所示之材料係被評估為幾乎不相似時的「D」。由以上實施例顯示出：藉由本實施形態之材料的製造方法，可形成沒有清晰邊界的自然模糊區域，並且可表現出源自素材的模樣。於圖5顯示實施例1之材料的照片。

以上，已詳細說明了本發明之適宜實施形態，惟本發明不受該等例限定。且顯而易見地，只要係具有本發明所屬技術領域之通識人士，皆可在申請專利範圍中所記載之技術思想範疇內思及各種變更例或修正例，並知悉該等亦理當歸屬於本發明之技術範圍。

1:材料 10:基材 11:表面 12:凹凸(粗面) 13:原被晚材部分覆蓋的部分 13’:輕微的凹凸模樣(相當於原被晚材部分覆蓋的部分之區域) 20:噴擊轉印材 21:早材部分 22:晩材部分 100:氣體噴嘴 S-101,S-103,S-105,S-103(a),S-103(b):步驟

圖1係用以說明本發明一實施形態之材料的製造方法的流程之示意圖。 圖2係用以說明形成模樣的過程之示意圖。 圖3係用以說明形成無邊界的模糊區域的過程之示意圖。 圖4係顯示無邊界的模糊區域的說明示意圖。 圖5係實施例1之材料的照片。

1:材料

10:基材

11:表面

20:噴擊轉印材

21:早材部分

22:晚材部分

100:氣體噴嘴

S-101,S-103,S-105:步驟

Claims (11)

1. 一種材料的製造方法，具有以下步驟：第1步驟，係於基材的表面上配置噴擊轉印材；及第2步驟，係隔著前述噴擊轉印材對前述基材之前述表面進行噴擊處理；且前述噴擊轉印材之密度、厚度及硬度中之一個以上係不均一；並且前述第2步驟中包含：磨削前述噴擊轉印材的至少一部分並於部分露出之前述基材表面進行噴擊處理之步驟。
2. 如請求項1之材料的製造方法，其在前述第2步驟後，具有去除前述噴擊轉印材的步驟。
3. 如請求項1或2之材料的製造方法，其中前述噴擊轉印材係薄木板、纖維片中之任一者或兩者。
4. 如請求項3之材料的製造方法，其中前述纖維片係布或日本紙。
5. 如請求項1或2之材料的製造方法，其中前述基材係玻璃材、陶瓷材、樹脂材、混凝土、石材、石墨、布、紙材、木材、木質材料、皮革材或金屬材。
6. 如請求項5之材料的製造方法，其中前述基材係鈦材、不鏽鋼材或鋁材中之任一種金屬材。
7. 如請求項6之材料的製造方法，其中在前述噴擊處理中係使用平均粒徑為50μm以上且1000μm以下之投射材。
8. 如請求項6之材料的製造方法，其中前述 噴擊處理之投射壓力為0.20MPa以上且0.80MPa以下。
9. 如請求項6之材料的製造方法，其中前述噴擊轉印材的厚度係0.10mm以上且1.00mm以下。
10. 如請求項6之材料的製造方法，其中前述基材係鈦材，並且在前述第1步驟之前，具有將前述鈦材進行真空退火或酸洗的步驟。
11. 如請求項1或2之材料的製造方法，其中前述材料係家電殼體用材料、資訊設備殼體用材料、住宅設備用材料、時鐘用材料、裝飾品用材料、看板用材料、門牌用材料、標誌用材料、文具用材料、器具用材料、住宅內家具用材料、訂製家具用材料、建築用飾面材料或運輸設備用材料。

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