TWI756436B

TWI756436B - 環境光感測器用光學濾波器、環境光感測器以及電子機器

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Publication number: TWI756436B
Application number: TW107118205A
Authority: TW
Inventors: 大橋幸恵; 長屋勝也; 大月敏敬
Original assignee: 日商Ｊｓｒ股份有限公司
Priority date: 2017-05-29
Filing date: 2018-05-29
Publication date: 2022-03-01
Also published as: JP7031665B2; TW201901198A; KR20200011944A; CN110678785A; JPWO2018221424A1; KR102575309B1; KR20230051613A; KR102619325B1; WO2018221424A1; CN110678785B

Abstract

本發明的課題在於提供一種伴隨各種設有環境光感測器的機器的薄型化，即便於入射角度變大時亦可兼顧優異的可見光透過率與近紅外線截止性能，並減少翹曲或應變而可實現大型化的光學濾波器。一種環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於：具有滿足必要條件(a)的基材，且滿足特定的光學特性：(a)具有包含於波長650nm以上且未滿800nm的區域具有最大吸收的化合物(A)、以及於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收的化合物(B)的層。

Description

環境光感測器用光學濾波器、環境光感測器以及電子機器

本發明是有關於一種環境光感測器用光學濾波器。詳細而言，本發明是有關於一種包含在特定的波長區域中具有吸收的化合物且具有特定的光學特性的環境光感測器用光學濾波器、使用該光學濾波器的環境光感測器、及具有該光學濾波器的電子機器。

近年來，作為於智慧型手機或平板終端機等資訊終端機裝置中的用途，不斷推進環境光感測器的開發。資訊終端機裝置中的環境光感測器用作對放置有資訊終端機裝置的環境的照度進行感知並對顯示器的明亮度進行調光的照度感測器、或對放置有資訊終端機裝置的環境的色調進行感知並對顯示器的色調進行調整的彩色感測器等。

為了以自然的形態使人的視感度與顯示器的亮度或色調相適應，重要的是僅使可見光線到達環境光感測器。例如，環境光感測器藉由設置近紅外線截止濾波器等光學濾波器而可使分光感度特性接近視感度。

另一方面，根據重視資訊終端機裝置的設計性的請求，要求降低使光入射至環境光感測器的透過窗的透過率(設為發黑的外觀)，但存在如下問題：可見光相對於紅外光的入射量減少，難以檢測出準確的照度或色調而產生誤動作。另外，不斷推進資訊終端機裝置的薄型化(low profile)，光自入射窗至環境光感測器的距離變短。因此，例如自入射角度60°等高入射角的入射光的比例增加，從而要求即便對於高入射角的入射光，到達環境光感測器的光的分光特性(特別是近紅外線的強度)亦不會發生變化。

作為用於使環境光感測器的分光特性與人的視感度相適應的機構，揭示一種設置在玻璃板上形成有金屬多層膜的近紅外線截止濾波器的裝置(例如參照專利文獻1)。然而，於玻璃板上形成金屬多層薄膜而成的近紅外線截止濾波器的光學特性因入射光的入射角度而大幅變化，因此存在環境光感測器的檢測精度降低的問題。另外，若藉由蒸鍍形成金屬多層膜，則存在於將光學濾波器大型化時產生翹曲或應變的情況。

另一方面，作為無論入射角度如何均可截止廣範圍的近紅外線的材料，已知有各種近紅外線吸收粒子(例如，參照專利文獻2、專利文獻3)。為了使用此種近紅外線吸收粒子來達成作為環境光感測器的用途的充分的近紅外線截止性能，需要增多近紅外線吸收粒子的添加量。但是，於近紅外線截止濾波器中，若增多近紅外線吸收粒子的添加量，則存在可見光透過率降低的問題。

相對於此，具有降莰烯(Norbornene)系樹脂製基板、對特定波長具有最大吸收的近紅外線吸收色素、及近紅外線反射膜的近紅外線截止濾波器具有光線自傾斜方向入射時可見區域的透過率變化少的特性(參照專利文獻4)。於將該近紅外線截止濾波器用作環境光感測器用途時，認為理想的是進一步提昇入射角度60°等高入射角的紅外線截止性能。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2011-060788號公報

[專利文獻2]國際公開第2005/037932號說明書

[專利文獻3]日本專利特開2011-118255號公報

[專利文獻4]日本專利特開2011-100084號公報

本發明的目的在於提供一種伴隨各種設有環境光感測器的機器的薄型化，即便於入射角度變大時亦可兼顧優異的可見光透過率與近紅外線截止性能，並減少翹曲或應變而可實現大型化的光學濾波器。

以下示出本發明的實施方式的例子。

[1]一種環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於：具有滿足下述必要條件(a)的基材，且滿足下述必要條件(b)、必要條件(c)及必要條件(d)：(a)具有包含於波長650nm以上且未滿800nm的區域具有最大吸收的化合物(A)、以及於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收的化合物(B)的層；(b)波長800nm~1000nm的區域中，光學濾波器的其中一面的自相對於垂直方向傾斜5度的方向入射的光的反射率的平均值Rf_a-5、及另一面的自相對於垂直方向傾斜5度的方向入射的光的反射率的平均值Rf_b-5均為15%以下；(c)波長430nm~580nm的區域中，自光學濾波器的垂直方向入射的光的透過率的平均值T_a-0、自相對於垂直方向傾斜30度的方向入射的光的透過率的平均值T_a-30、以及自相對於垂直方向傾斜60度的方向入射的光的透過率的平均值T_a-60均為20%以上且未滿75%；(d)波長800nm~1200nm的區域中，光學濾波器的相對於自垂直方向入射的光的光密度(optical density；OD值)的平均值OD_a-0、相對於自相對於垂直方向傾斜30度的方向入射的光的光密度(OD值)的平均值OD_a-30、以及相對於自相對於垂直方向傾斜60度的方向入射的光的光密度(OD值)的平均值OD_a-60均為1.5以上。

[2]如項[1]所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，不具有介電體多層膜。

[3]如項[1]或項[2]所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，包含所述化合物(A)的層為透明樹脂層。

[4]如項[3]所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，所述透明樹脂層進而包含在波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收的化合物(B)。

[5]如項[1]至項[4]中任一項所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，所述化合物(A)為選自由方酸內鎓鹽(squarylium)系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。

[6]如項[1]至項[5]中任一項所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，所述化合物(B)為選自由近紅外線吸收微粒子、方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、花青系化合物、二亞銨系化合物、金屬二硫醇鹽系化合物及吡咯并吡咯系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。

[7]如項[6]所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，所述近紅外線吸收微粒子為選自由包含下述式(P-1)所表示的化合物的第1微粒子、及包含下述式(P-2)所表示的化合物的第2微粒子所組成的群組中的至少一種。

A_1/nCuPO₄...(P-1)

式(P-1)中，A為選自由鹼金屬、鹼土金屬及NH₄所組成的群組中的至少一種，於A為鹼金屬或NH₄的情況下，n為1，於A為鹼土金屬的情況下，n為2。

M_xW_yO_z...(P-2)

式(P-2)中，M為選自H、鹼金屬、鹼土金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi及I中的至少一種元素，x、y及z滿足0.001≦x/y≦1及2.2≦z/y≦3.0的條件。

[8]如項[3]或項[4]所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，構成所述透明樹脂層的樹脂為選自由環狀聚烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、芳族聚醯胺系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂、馬來醯亞胺系樹脂、脂環環氧熱硬化型樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚芳酯系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂、乙烯基系紫外線硬化型樹脂、及藉由溶膠凝膠法形成的將二氧化矽作為主成分的樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。

[9]如項[1]至項[8]中任一項所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，所述基材包含含有銅成分的氟磷酸鹽系玻璃層或包含磷酸鹽系玻璃的基板。

[10]如項[1]至項[9]中任一項所述的環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於，對於所述環境光感測器用光學濾波器而自垂直方向入射的情況、自相對於垂直方向為30°的方向入射的情況以及自相對於垂直方向為60°的方向入射的情況下，由下述式(1)導出的紅色(R)透過率的比的變化率、由下述式(2)導出的綠色(G)透過率的比的變化率、及由下述式(3)導出的藍色(B)透過率的比的變化率均為0.6~1.1的範圍。

(R透過率的比)=(R透過率)×100/((R透過率)+(G透過率)+(B透過率))...式(1)

(G透過率的比)=(G透過率)×100/((R透過率)+(G透過率)+(B透過率))...式(2)

(B透過率的比)=(B透過率)×100/((R透過率)+(G透過率)+(B透過率))...式(3)

式(1)~式(3)中，R透過率為波長580nm~650nm中的平均透過率，G透過率為波長500nm~580nm中的平均透過率，B透過率為波長420nm~500nm中的平均透過率。

[11]一種環境光感測器，其特徵在於，具備如項[1]至項[10]中任一項所述的環境光感測器用光學濾波器。

[12]一種電子機器，其特徵在於，具有如項[11]所述的環境光感測器。

根據本發明，可提供一種對自垂直方向的入射光及自傾斜方向的入射光雙方均具有高的可見光透過率與近紅外線截止性能，且可減少翹曲或應變的環境光感測器用光學濾波器。使用此種光學濾波器的環境光感測器對入射光的入射角依存性小而可高精度地測定照度或色溫。

1、1'、1"、11:光

2、100:光學濾波器

3:分光光度計

200、200a、200b:環境光感測器

202、202a、202b、202c:光電轉換元件

204、302:框體

206:第1電極

208:光電轉換層

210:第2電極

212a、212b、212c:彩色濾波器

214:元件分離絕緣層

216:鈍化膜

300:電子機器

304:顯示面板

306:麥克風部

308:揚聲器部

310:表面面板

D:區域

圖1是說明本發明的一實施形態的環境光感測器的構成的圖。

圖2是說明本發明的一實施形態的環境光感測器的構成的圖。

圖3A~圖3C是說明具備本發明的一實施形態的環境光感測器的電子機器的一例的圖。

圖4A~圖4C是表示自垂直方向、傾斜30度的方向及傾斜60度的方向測定透過光譜的構成的圖。

圖5是表示對自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度入射的光的反射率進行測定的方法的例子的概略圖。

圖6是表示實施例1中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖7是表示實施例2中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖8是表示實施例3中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖9是表示實施例4中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖10是表示實施例5中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖11是表示實施例6中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖12是表示實施例7中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖13是表示實施例8中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖14是表示比較例1中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖15是表示比較例2中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖16是表示比較例3中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

圖17是表示比較例4中所獲得的光學濾波器的自垂直方向、距垂直方向為30°的角度及距垂直方向為60°的角度進行測定而得的分光透過率的圖表。

以下，視需要參照圖式等對本發明的實施形態進行說明。其中，本發明可以許多不同的實施方式來實施，並不限定於以下所例示的實施形態的記載內容來進行解釋。為了使說明變得更明確，圖式與實際的實施方式相比，有時示意性地表示各部分的寬度、厚度、形狀等，但始終為一例，並不限定本發明的解釋。另外，於本說明書與各圖中，關於已示出的圖，對於與所述相同的要素標註相同的符號或標註類似的符號(於數字後僅標註A、B等的符號)，並有時適宜省略詳細的說明。

本說明書中，所謂「上」，是指以支撐基板的主面(感測器的光接收面)為基準的相對的位置，離開支撐基板的主面的方向為「上」。於本申請案圖式中，面向紙面時上方為「上」。另外，「上」包括相接於物體上的情況(即「在...上面」(on)的情況)以及位於物體的上方的情況(即「在...上方」(over)的情況)。相反地，所謂「下」，是指以支撐基板的主面為基準的相對的位置，靠近支撐基板的主面的方向為「下」。於本申請案圖式中，面向紙面時下方為「下」。

[光學濾波器]

本發明的光學濾波器的特徵在於：具有滿足下述必要條件(a) 的基材(i)，且滿足下述必要條件(b)、必要條件(c)及必要條件(d)。

必要條件(a)：具有包含於波長650nm以上且未滿800nm的區域具有最大吸收的化合物(A)、以及於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收的化合物(B)的層。

必要條件(b)：波長800nm~1000nm的區域中，光學濾波器的其中一面的自相對於垂直方向傾斜5度的方向入射的光的反射率的平均值Rf_a-5、及另一面的自相對於垂直方向傾斜5度的方向入射的光的反射率的平均值Rf_b-5均為15%以下，較佳為0.1%~12%，更佳為1%~10%。

作為滿足必要條件(b)的方法、即各反射率的平均值的調整方法，例如可列舉：因反射率是由光所通過的物質的折射率來決定，故選定具有可獲得規定範圍的反射率的平均值的折射率的基材的方法、或者對基材賦予用以調整折射率的層的方法。另外，於在不損害本發明的效果的範圍內賦予介電體多層膜的情況下，亦可列舉使用光學薄膜設計軟體(例如，核心麥克勞德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin Film Center)公司製造)，以獲得規定範圍的反射率的平均值的方式進行設計的方法。

藉由滿足必要條件(b)，可減少光感測器模組內的多重反射光，因此可抑制光感測器的誤動作且可獲得高功能的光感測器，故較佳。

必要條件(c)：波長430nm~580nm的區域中，自光學濾波器的垂直方向入射的光的透過率的平均值T_a-0、自相對於垂直方向傾斜30度的方向入射的光的透過率的平均值T_a-30、以及自相對於垂直方向傾斜60度的方向入射的光的透過率的平均值T_a-60均為20%以上且未滿75%，較佳為25%~70%。

作為滿足必要條件(c)的方法、即各透過率的平均值的調整方法，例如可列舉以可獲得規定範圍的透過率的平均值的方式，適宜選定及調整化合物(A)及視需要的後述的化合物(B)的種類及添加量的方法。

藉由滿足必要條件(c)，可獲得感測器感度優異的環境光感測器。若於波長430nm~580nm的區域中透過率的平均值過高，則入射至光感測器的光接收部的光的強度變得過強，光感測器產生飽和(saturation)，因此存在無法正常地發揮功能的情況。另外，若透過率的平均值過低，則存在入射至光感測器的光接收部的光的強度變弱，無法充分確保通過光學濾波器的光的強度的情況。

必要條件(d)：波長800nm~1200nm的區域中，光學濾波器的相對於自垂直方向入射的光的光密度(OD值)的平均值OD_a-0、相對於自相對於垂直方向傾斜30度的方向入射的光的光密度(OD值)的平均值OD_a-30、以及相對於自相對於垂直方向傾斜60度的方向入射的光的光密度(OD值)的平均值OD_a-60均為1.5以上，較佳為2.0~6.0。

於將波長800nm~1200nm的區域中的所述OD_a-0、OD_a-30及OD_a-60的值未滿1.5的光學濾波器用於環境光感測器模組的情況下，所述波長區域的光未充分地截止而進入環境光感測器中。環境光感測器對所述波長區域的光亦具有感度，因此若所述波長區域的光進入環境光感測器，則成為雜訊，並成為引起色調控制的誤動作等的原因。於使所述OD_a-0、OD_a-30及OD_a-60的值超過6.0的情況下，需要使化合物(B)的濃度為高濃度，或增大介電體多層膜的層數，有時產生可見光透過率下降、翹曲變大等問題。

作為滿足必要條件(d)的方法、即光密度的平均值的調整方法，例如可列舉以可獲得規定範圍的透過率的平均值的方式，適宜選定及調整化合物(A)及化合物(B)的種類及添加量的方法。

藉由滿足必要條件(d)，光學濾波器不僅可將垂直方向上透過的近紅外線亦可將以高入射角透過的近紅外線充分地截止。於將此種光學濾波器用於行動電話或平板的光感測器的情況下，可防止畫面的亮度或顏色校正功能的誤動作。特別是於光感測器模組中，即便於本發明的光學濾波器的上部具備光擴散膜的情況下亦可較佳地截止近紅外光。

OD值為透過率的常用對數值，且可藉由下述式(4)來算出。若指定波長範圍的平均OD值高，則表示光學濾波器對所述波長區域的光的截止特性高。

某波長區域中的平均OD值=-Log₁₀(某波長區域中的平均透過率(%)/100)...式(4)

就防止環境光感測器的誤動作的觀點而言，理想的是自光學濾波器的垂直方向入射時的可見光的RGB平衡、自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的方向入射時的可見光的RGB平衡、及自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的方向入射時的可見光的RGB平衡的變化小。即，由下述式(1)導出的紅色(R)透過率的比的變化率、由下述式(2)導出的綠色(G)透過率的比的變化率、及由下述式(3)導出的藍色(B)透過率的比的變化率較佳為均為0.6~1.1的範圍。該變化率越接近1.0，則RGB平衡的入射角依存變化越小。

自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的R透過率的比除以自光學濾波器的垂直方向進行測定時的R透過率的比而得的值(0°→30°時的R透過率的比的變化率)可由下述式(5)導出。

(0°→30°時的R透過率的比的變化率)=(自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的角度入射時的R透過率的比)/(自光學濾波器的垂直方向入射時的R透過率的比)...式(5)

另外，自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的G透過率的比除以自光學濾波器的垂直方向進行測定時的G透過率的比而得的值(0°→30°時的G透過率的比的變化率)可由下述式(6)導出。

(0°→30°時的G透過率的比的變化率)=(自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的角度入射時的G透過率的比)/(自光學濾波器的垂直方向入射時的G透過率的比)...式(6)

進而，自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的B透過率的比除以自光學濾波器的垂直方向進行測定時的B透過率的比而得的值(0°→30°時的B透過率的比的變化率)可由下述式(7)導出。

(0°→30°時的B透過率的比的變化率)=(自相對於光學濾波器的垂直方向為30°的角度入射時的B透過率的比)/(自光學濾波器的垂直方向入射時的B透過率的比)...式(7)

同樣地，自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的角度進行測定時的R透過率的比除以自光學濾波器的垂直方向進行測定時的R透過率的比而得的值(0°→60°時的R透過率的比的變化率)可由下述式(8)導出。

(0°→60°時的R透過率的比的變化率)=(自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的角度入射時的R透過率的比)/(自光學濾波器的垂直方向入射時的R透過率的比)...式(8)

另外，自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的角度進行測定時的G透過率的比除以自光學濾波器的垂直方向進行測定時的G透過率的比而得的值(0°→60°時的G透過率的比的變化率)可由下述式(9)導出。

(0°→60°時的G透過率的比的變化率)=(自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的角度入射時的G透過率的比)/(自光學濾波器的垂直方向入射時的G透過率的比)...式(9)

0°→60°時的G透過率的比的變化率較佳為0.4以上且2.0以下，更佳為0.5以上且1.8以下，進而佳為0.6以上且1.6以下，該變化率越接近1.0，則RGB平衡的入射角依存變化越小。

進而，自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的角度進行測定時的B透過率的比除以自光學濾波器的垂直方向進行測定時的B透過率的比而得的值(0°→60°時的B透過率的比的變化率)可由下述式(10)導出。

(0°→60°時的B透過率的比的變化率)=(自相對於光學濾波器的垂直方向為60°的角度入射時的B透過率的比)/(自光學濾波器的垂直方向入射時的B透過率的比)...式(10)

若將此種光學濾波器用於行動電話或平板的環境光感測器，則容易進行畫面的亮度或顏色的校正，因此可消除於明亮的環境中顯示器的亮度不足而難以辨視、或者無法於畫面上正常地顯示特定的顏色等不良情況。

本發明的光學濾波器較佳為不具有介電體多層膜。於將光學濾波器貼附於矽晶圓的類型的環境光感測器的情況下，於將矽晶圓進行大型化時，有可能由用以形成介電體多層膜的蒸鍍所引起的應變或翹曲成為問題。藉由不具有介電體多層膜，與具有介電體多層膜的光學濾波器相比，可減少翹曲或應變。其結果，可實現光學濾波器的大型化。另外，本發明的光學濾波器即便不具有介電體多層膜，亦可表現出與現有的環境光感測器同等的光學特性。

本發明的光學濾波器的厚度並無特別限制，較佳為40μm~1000μm，更佳為50μm~800μm，進而佳為80μm~500μm，特佳為90μm~250μm。若光學濾波器的厚度處於所述範圍內，則可將光學濾波器加以小型化及輕量化。

<基材(i)>

所述基材(i)只要具有包含於波長650nm以上且未滿800nm的區域具有最大吸收的化合物(A)的層，則可為單層亦可為多層。另外，所述基材(i)較佳為含有於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收的化合物(B)，化合物(B)可與化合物(A)包含於相同的層中，亦可包含於不同的層中。以下，將含有選自化合物(A)及化合物(B)中的至少一種化合物與透明樹脂的層亦稱為「透明樹脂層」，將其以外的樹脂層亦簡稱為「樹脂層」。

於包含化合物(A)的層與包含化合物(B)的層相同的情況下，例如可列舉：包含含有化合物(A)及化合物(B)的透明樹脂製基板的基材、於包含化合物(A)及化合物(B)的透明樹脂製基板上積層包含硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材、於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體上積層包含含有化合物(A)及化合物(B)的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材。

於包含化合物(A)的層與包含化合物(B)的層不同的情況下，例如可列舉：於包含化合物(B)的透明樹脂製基板上積層包含含有化合物(A)的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材、於包含化合物(A)的透明樹脂製基板上積層包含含有化合物(B)的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材、於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體上積層包含含有化合物(A)的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層與包含含有化合物(B)的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材、於包含化合物(B)的玻璃基板上積層包含含有化合物(A)的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材等。

<化合物(A)>

所述化合物(A)只要於波長650nm以上且未滿800nm的區域具有最大吸收，則並無特別限定，但較佳為選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物及花青系化合物所組成的群組中的至少一種化合物，特佳為方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物。再者，化合物(A)可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。

化合物(A)的最大吸收波長較佳為660nm以上且795nm以下，更佳為680nm以上且790nm以下。

關於化合物(A)的使用量，可對應於所期望的特性來適宜選擇，例如於使用包含含有化合物(A)的透明樹脂製基板的基材、或於含有化合物(A)的透明樹脂製基板上積層包含硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材的情況下，相對於透明樹脂100重量份，較佳為0.01重量份~2.0重量份，更佳為0.03重量份~1.5重量份，進而佳為0.05重量份~1.0重量份，於使用於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體上積層含有化合物(A)的透明樹脂層而成的基材作為所述基材的情況下，相對於形成透明樹脂層的樹脂100重量份，較佳為0.4重量份~20.0重量份，更佳為0.6重量份~15.0重量份，進而佳為0.8重量份~12.5重量份。

《方酸內鎓鹽系化合物》

所述方酸內鎓鹽系化合物並無特別限定，但較佳為選自由下述式(I)所表示的方酸內鎓鹽系化合物及下述式(II)所表示的方酸內鎓鹽系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。以下，亦分別稱為「化合物(I)」及「化合物(II)」。

式(I)中，R^a、R^b及Ya滿足下述條件(α)或(β)。

條件(α)：

存在多個的R^a分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基；存在多個的R^b分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基；存在多個的Ya分別獨立地表示-NR^jR^k基；L¹表示L^a、L^b、L^c、L^d、L^e、L^f、L^g或L^h；R^e及R^f分別獨立地表示氫原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e；R^g及R^h分別獨立地表示氫原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)；R^j及R^k分別獨立地表示氫原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e；L^a表示可具有取代基L的碳數1~12的脂肪族烴基；L^b表示可具有取代基L的碳數1~12的經鹵素取代的烷基；L^c表示可具有取代基L的碳數3~14的脂環式烴基；L^d表示可具有取代基L的碳數6~14的芳香族烴基；L^e表示可具有取代基L的碳數3~14的雜環基；L^f表示可具有取代基L的碳數1~9的烷氧基；L^g表示可具有取代基L的碳數1~9的醯基；L^h表示可具有取代基L的碳數1~9的烷氧基羰基；L表示選自由碳數1~12的脂肪族烴基、碳數1~12的經鹵素取代的烷基、碳數3~14的脂環式烴基、碳數6~14的芳香族烴基、碳數3~14的雜環基、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及胺基所組成的群組中的至少一種取代基。

條件(β)：

一個苯環上的兩個R^a中的至少一個與相同的苯環上的Y相互鍵結，形成包含至少一個氮原子的構成原子數為5或6的雜環；所述雜環可具有取代基，R^b及未參與所述雜環的形成的R^a的含義分別獨立地與所述條件(α)的R^b及R^a相同。

所述L^a~L^h中，包含取代基的碳數的合計較佳為分別為50以下，進而佳為碳數40以下，特佳為碳數30以下。若碳數多於該範圍，則存在難以合成化合物的情況，並且有每單位重量的光的吸收強度變小的傾向。

作為所述L^a及L中的碳數1~12的脂肪族烴基，例如可列舉：甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基(n-Pr)、異丙基(i-Pr)、正丁基(n-Bu)、第二丁基(s-Bu)、第三丁基(t-Bu)、戊基、己基、辛基、壬基、癸基及十二烷基等烷基；乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、丁烯基、1,3-丁二烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-戊烯基、己烯基及辛烯基等烯基；以及乙炔基、丙炔基、丁炔基、2-甲基-1-丙炔基、己炔基及辛炔基等炔基。

作為所述L^b及L中的碳數1~12的經鹵素取代的烷基，例如可列舉：三氯甲基、三氟甲基、1,1-二氯乙基、五氯乙基、五氟乙基、七氯丙基及七氟丙基。

作為所述L^c及L中的碳數3~14的脂環式烴基，例如可列舉：環丁基、環戊基、環己基、環庚基及環辛基等環烷基；降莰烷基及金剛烷基等多環脂環式基。

作為所述L^d及L中的碳數6~14的芳香族烴基，例如可列舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、1-萘基、2-萘基、蒽基、菲基、苊基、丙烯合萘基(phenalenyl)、四氫萘基、二氫茚基及聯苯基。

作為所述L^e及L中的碳數3~14的雜環基，例如可列舉：包含呋喃、噻吩、吡咯、吡唑、咪唑、三唑、噁唑、噁二唑、噻唑、噻二唑、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、咔唑、二苯并呋喃、二苯并噻吩、吡啶、嘧啶、吡嗪、噠嗪、喹啉、異喹啉、吖啶、嗎啉及吩嗪等雜環的基。

作為所述L^f中的碳數1~9的烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基。

作為所述L^g中的碳數1~9的醯基，例如可列舉：乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、戊醯基、異戊醯基及苯甲醯基。

作為所述L^h中的碳數1~9的烷氧基羰基，例如可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、異丙氧基羰基、丁氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基及辛氧基羰基。

所述L^a較佳為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、4-苯基丁基、2-環己基乙基，更佳為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基。

所述L^b較佳為三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基、 5-環己基-2,2,3,3-四氟戊基，更佳為三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基。

所述L^c較佳為環丁基、環戊基、環己基、4-乙基環己基、環辛基、4-苯基環庚基，更佳為環戊基、環己基、4-乙基環己基。

所述L^d較佳為苯基、1-萘基、2-萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯(Cumene)基、3,5-二-第三丁基苯基、4-環戊基苯基、2,3,6-三苯基苯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基，更佳為苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、2,3,4,5,6-五苯基苯基。

所述L^e較佳為包含呋喃、噻吩、吡咯、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、嗎啉的基，更佳為包含呋喃、噻吩、吡咯、嗎啉的基。

所述L^f較佳為甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、甲氧基甲基、甲氧基乙基、2-苯基乙氧基、3-環己基丙氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基，更佳為甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基。

所述L^g較佳為乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、苯甲醯基、4-丙基苯甲醯基、三氟甲基羰基，更佳為乙醯基、丙醯基、苯甲醯基。

所述L^h較佳為甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、異丙氧基羰基、丁氧基羰基、2-三氟甲基乙氧基羰基、2-苯基乙氧基羰基，更佳為甲氧基羰基、乙氧基羰基。

所述L^a~L^h可進而具有選自由鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及胺基所組成的群組中的至少一種原子或基。作為此種例子，可列舉：4-磺基丁基、4-氰基丁基、5-羧基戊基、5-胺基戊基、3-羥基丙基、2-磷醯基乙基、6-胺基-2,2-二氯己基、2-氯-4-羥基丁基、2-氰基環丁基、3-羥基環戊基、3-羧基環戊基、4-胺基環己基、4-羥基環己基、4-羥基苯基、五氟苯基、2-羥基萘基、4-胺基苯基、4-硝基苯基、3-甲基吡咯的基、2-羥基乙氧基、3-氰基丙氧基、4-氟苯甲醯基、2-羥基乙氧基羰基、4-氰基丁氧基羰基。

所述條件(α)中的R^a較佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基、羥基、胺基、二甲基胺基、硝基，更佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、羥基。

所述條件(α)中的R^b較佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基、羥基、胺基、二甲基胺基、氰基、硝基、乙醯基胺基、丙醯基胺基、N-甲基乙醯基胺基、三氟甲醯基胺基、五氟乙醯基胺基、第三丁醯基胺基、環己醯基胺基，更佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、羥基、二甲基胺基、硝基、乙醯基胺基、丙醯基胺基、三氟甲醯基胺基、五氟乙醯基胺基、第三丁醯基胺基、環己醯基胺基。

所述Ya較佳為胺基、甲基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、二-正丙基胺基、二異丙基胺基、二-正丁基胺基、二-第三丁基胺基、N-乙基-N-甲基胺基、N-環己基-N-甲基胺基，更佳為二甲基胺基、二乙基胺基、二-正丙基胺基、二異丙基胺基、二-正丁基胺基、二-第三丁基胺基。

作為所述式(I)的條件(β)中的、一個苯環上的兩個R^a中的至少一個與相同的苯環上的Y相互鍵結而形成的包含至少一個氮原子的構成原子數為5或6的雜環，例如可列舉：吡咯啶、吡咯、咪唑、吡唑、哌啶、吡啶、哌嗪、噠嗪、嘧啶及吡嗪等。該些雜環中，較佳為構成該雜環、且構成所述苯環的碳原子的鄰近的一個原子為氮原子的雜環，進而佳為吡咯啶。

式(II)中，X獨立地表示O、S、Se、N-R^c或C(R^dR^d)；存在多個的R^c分別獨立地表示氫原子、L^a、L^b、L^c、L^d或L^e；存在多個的 R^d分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，相鄰的R^d彼此可連結而形成可具有取代基的環；L^a~L^e、L¹、R^e及R^f的含義與所述式(I)中所定義的L^a~L^e、L¹、R^e及R^f相同。

所述式(II)中的R^c較佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、環己基、苯基、三氟甲基、五氟乙基，更佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基。

所述式(II)中的R^d較佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、環己基、苯基、甲氧基、三氟甲基、五氟乙基、4-胺基環己基，更佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、三氟甲基、五氟乙基。

所述X較佳為O、S、Se、N-Me、N-Et、CH₂、C-Me₂、C-Et₂，更佳為S、C-Me₂、C-Et₂。

所述式(II)中，相鄰的R^d彼此可連結而形成環。作為此種環，例如可列舉：苯并假吲哚環、α-萘并咪唑環、β-萘并咪唑環、α-萘并噁唑環、β-萘并噁唑環、α-萘并噻唑環、β-萘并噻唑環、α-萘并硒唑環、β-萘并硒唑環。

化合物(I)及化合物(II)除了如下述式(I-1)及下述式 (II-1)的記載方法外，亦可如下述式(I-2)及下述式(II-2)般藉由如取得共振結構的記載方法表示結構。即，下述式(I-1)與下述式(I-2)的差異、及下述式(II-1)與下述式(II-2)的差異僅為結構的記載方法，均表示同一化合物。本發明中，只要無特別說明，藉由如下述式(I-1)及下述式(II-1)的記載方法表示方酸內鎓鹽系化合物的結構。

進而，例如下述式(I-3)所表示的化合物與下述式(I-4)所表示的化合物可視為同一化合物。

[化4]

所述化合物(I)及化合物(II)只要分別滿足所述式(I)及式(II)的必要條件，則結構並無特別限定。例如，於如所述式(I-1)及式(II-1)般表示結構的情況下，鍵結於中央的四元環的左右的取代基可相同亦可不同，但相同者於合成上容易，故較佳。

作為所述化合物(I)及化合物(II)的具體例，可列舉具有下述式(I-A)~式(I-H)所表示的基本骨架的下述表1~表3中記載的化合物(a-1)~化合物(a-36)。

[化5]

[化6]

[表1]表1

[表3]表3

所述化合物(I)及化合物(II)只要藉由一般為人所知的方法來合成即可，例如可參照日本專利特開平1-228960號公報、日本專利特開2001-40234號公報、日本專利第3196383號公報等中所記載的方法等來合成。

《酞菁系化合物》

所述酞菁系化合物並無特別限定，但較佳為下述式(III)所表示的化合物(以下亦稱為「化合物(III)」)。

式(III)中，M表示2個氫原子、2個一價的金屬原子、二價的金屬原子、或者包含三價或四價的金屬原子的取代金屬原子，存在多個的R_a、R_b、R_c及R_d分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N=N-L⁴、或選自由R_a與R_b、R_b與R_c及R_c與R_d中至少一個組合鍵結而成的下述式(A)~式(H)所表示的基所組成的群組中的至少一種基。其中，鍵結於相同的芳香環的R_a、R_b、R_c及R_d中至少一個不為氫原子。

所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基亦可具有所述式(I)中所定義的取代基L，L¹的含義與所述式(I)中所定義的L¹相同，L²表示氫原子或所述式(I)中所定義的L^a~L^e的任一者，L³表示羥基或所述L^a~L^e的任一者，L⁴表示所述L^a~L^e的任一者。

式(A)~式(H)中，R_x及R_y表示碳原子，存在多個的R_A~R_L分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N=N-L⁴，所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有所述式(I)中所定義的取代基L，L¹~L⁴的含義與所述式(III)中所定義的L¹~L⁴相同。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為可具有取代基L的胺基，可列舉：胺基、乙基胺基、二甲基胺基、甲基乙基胺基、二丁基胺基、二異丙基胺基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為可具有取代基L的醯胺基，可列舉：醯胺基、甲基醯胺基、二甲基醯胺基、二乙基醯胺基、二丙基醯胺基、二異丙基醯胺基、二丁基醯胺基、α-內醯胺基、β-內醯胺基、γ-內醯胺基、δ-內醯胺基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為可具有取代基L的醯亞胺基，可列舉：醯亞胺基、甲基醯亞胺基、乙基醯亞胺基、二乙基醯亞胺基、二丙基醯亞胺基、二異丙基醯亞胺基、二丁基醯亞胺基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為可具有取代基L的矽烷基，可列舉：三甲基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、三苯基矽烷基、三乙基矽烷基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為-S-L²，可列舉：硫醇基、甲基硫醚基、乙基硫醚基、丙基硫醚基、丁基硫醚基、異丁基硫醚基、第二丁基硫醚基、第三丁基硫醚基、苯基硫醚基、2,6-二-第三丁基苯基硫醚基、2,6-二苯基苯基硫醚基、4-枯基苯基硫醚基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為-SS-L²，可列舉：二硫醚基、甲基二硫醚基、乙基二硫醚基、丙基二硫醚基、丁基二硫醚基、異丁基二硫醚基、第二丁基二硫醚基、第三丁基二硫醚基、苯基二硫醚基、2,6-二-第三丁基苯基二硫醚基、2,6-二苯基苯基二硫醚基、4-枯基苯基二硫醚基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為-SO₂-L³，可列舉：磺基、甲磺醯基、乙基磺醯基、正丁基磺醯基、對甲苯磺醯基等。

所述R_a~R_d及R_A~R_L中，作為-N=N-L⁴，可列舉：甲基偶氮基、苯基偶氮基、對甲基苯基偶氮基、對二甲基胺基苯基偶氮基等。

所述M中，作為一價的金屬原子，可列舉：Li、Na、K、Rb、Cs等。

所述M中，作為二價的金屬原子，可列舉：Be、Mg、Ca、Ba、Ti、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Cu、Zn、Cd、Hg、Sn、Pb等。

所述M中，作為包含三價的金屬原子的取代金屬原子，可列舉：Al-F、Al-Cl、Al-Br、Al-I、Ga-F、Ga-Cl、Ga-Br、Ga-I、In-F、 In-Cl、In-Br、In-I、Tl-F、Tl-Cl、Tl-Br、Tl-I、Fe-Cl、Ru-Cl、Mn-OH等。

所述M中，作為包含四價的金屬原子的取代金屬原子，可列舉：TiF₂、TiCl₂、TiBr₂、TiI₂、ZrCl₂、HfCl₂、CrCl₂、SiF₂、SiCl₂、SiBr₂、SiI₂、GeF₂、GeCl₂、GeBr₂、GeI₂、SnF₂、SnCl₂、SnBr₂、SnI₂、Zr(OH)₂、Hf(OH)₂、Mn(OH)₂、Si(OH)₂、Ge(OH)₂、Sn(OH)₂、TiR₂、CrR₂、SiR₂、GeR₂、SnR₂、Ti(OR)₂、Cr(OR)₂、Si(OR)₂、Ge(OR)₂、Sn(OR)₂(R表示脂肪族基或芳香族基)、TiO、VO、MnO等。

所述M較佳為歸屬於元素週期表第5族~第11族、且第4週期~第5週期的二價的過渡金屬、三價或四價的金屬鹵化物或四價的金屬氧化物，其中，就可達成高的可見光透過率或穩定性而言，特佳為Cu、Ni、Co及VO。

所述酞菁系化合物藉由如下述式(V)的鄰苯二甲腈衍生物的環化反應合成的方法一般為人所知，所獲得的酞菁系化合物成為如下述式(VI-1)~式(VI-4)的四種異構物的混合物。本發明中，只要無特別說明，對一種酞菁系化合物僅例示一種異構物，對於其他三種異構物亦可同樣地使用。再者，該些異構物亦可視需要分開來使用，本發明中是對異構物混合物統一進行處理。

[化9]

作為所述化合物(III)的具體例，可列舉具有下述式(III-A)~式(III-J)所表示的基本骨架的下述表4~表7中記載的(b-1)~(b-61)等。

[化11]

[表4]表4

[表5]表5

[表7]表7

化合物(III)只要藉由一般為人所知的方法來合成即可，例如可參照日本專利第4081149號公報或「酞菁-化學與功能-」(IPC、1997年)中所記載的方法來合成。

《花青系化合物》

所述花青系化合物並無特別限定，但較佳為下述式(IV-1)~式(IV-3)的任一者所表示的化合物(以下亦稱為「化合物(IV-1)~化合物(IV-3)」)。

[化12]

式(IV-1)~式(IV-3)中，X_a ^-表示一價的陰離子，存在多個的D獨立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，存在多個的R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g、R_h及R_i分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L³、-SO₂-L³、-N=N-L⁴、或選自由R_b與R_c、R_d與R_e、R_e與R_f、R_f與R_g、R_g與R_h及R_h與R_i中至少一個組合鍵結而成的所述式(A)~式(H)所表示的基所組成的群組中的至少一種基，所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基亦可具有所述式(I)中所定義的取代基L，L¹的含義與所述式(I)中所定義的L¹相同，L²表示氫原子或所述式(I)中所定義的L^a~L^e的任一者，L³表示氫原子或所述L^a~L^e的任一者， L⁴表示所述L^a~L^e的任一者，Z_a~Z_c及Y_a~Y_d分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N=N-L⁴(L¹~L⁴的含義與所述R_a~R_i中的L¹~L⁴相同)、或者選自該些中鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的碳數6~14的芳香族烴基；可包含至少一個氮原子、氧原子或硫原子的5元環或6元環的脂環式烴基；或者包含至少一個氮原子、氧原子或硫原子的碳數3~14的雜芳香族烴基，該些芳香族烴基、脂環式烴基及雜芳香族烴基亦可具有碳數1~9的脂肪族烴基或鹵素原子。

作為所述Z_a~Z_c及Y_a~Y_d中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的碳數6~14的芳香族烴基，例如可列舉由所述取代基L中的芳香族烴基例示的化合物。

作為所述Z_a~Z_c及Y_a~Y_d中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的可包含至少一個氮原子、氧原子或硫原子的5元環或6元環的脂環式烴基，例如可列舉由所述取代基L中的脂環式烴基及雜環例示的化合物(雜芳香族烴基除外)。

作為所述Z_a~Z_c及Y_a~Y_d中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的碳數3~14的雜芳香族烴基，例如可列舉作為所述取代基L中的雜環基而例示的化合物(包含至少一個氮原子、氧原子或硫原子的脂環式烴基除外)。

所述式(IV-1)~式(IV-3)中，作為-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N=N-L⁴、可具有取代基L的胺基、醯胺基、醯亞胺基、矽烷基，可列舉與所述式(III)所例示的基同樣的基等。

X_a ^-只要為一價的陰離子，則並無特別限定，可列舉：I^-、Br^-、PF₆ ^-、N(SO₂CF₃)₂ ^-、B(C₆F₅)₄ ^-、鎳二硫醇鹽系錯合物、銅二硫醇鹽系錯合物等。

作為所述化合物(IV-1)~化合物(IV-3)的具體例，可列舉下述表8所記載的(c-1)~(c-24)等。

[表8]表8

所述化合物(IV-1)~化合物(IV-3)只要藉由一般為人所知的方法來合成即可，例如可藉由日本專利特開2009-108267號公報中所記載的方法來合成。

<化合物(B)>

所述化合物(B)只要於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收，則並無特別限定，較佳為選自由近紅外線吸收微粒子、方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、花青系化合物、二亞銨系化合物、金屬二硫醇鹽系化合物及吡咯并吡咯系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。環境光感測器通常即便於可見光區域以外至1200nm附近亦具有感度，若可見光區域以外的波長的光進入環境光感測器，則存在進行誤動作或無法適當地進行對應於周邊光環境的色澤控制的問題。因此，化合物(B)較佳為使用於近紅外線區域具有廣範圍的吸收的化合物，進而佳為所述化合物中的近紅外線吸收微粒子、花青系化合物、二亞銨系化合物及方酸內鎓鹽系化合物，最佳為作為近紅外線吸收微粒子的Cs_xW_yO_z。再者，化合物(B)可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。藉由使用此種化合物(B)，可達成廣範圍的近紅外波長區域中的吸收特性與優異的可見光透過率。

所述化合物(B)的最大吸收波長為800nm以上且1850nm以下，較佳為810nm以上且1800nm以下，更佳為820nm以上且1750nm以下。若所述化合物(B)的最大吸收波長處於此種範圍內，則可效率佳地將不需要的近紅外線截止，並且可降低入射光的入射角依存性。再者，近紅外線吸收微粒子以外的化合物(B)的最大吸收波長較佳為800nm以上且1200nm以下，更佳為810nm以上且1180nm以下，特佳為820nm以上且1150nm以下。另一方面，近紅外線吸收微粒子的最大吸收波長較佳為800nm以上且1850nm以下，更佳為840nm以上且1800nm以下，特佳為870nm以上且1750nm以下。

關於所述化合物(B)(其中，近紅外線吸收微粒子除外)的使用量，可對應於所期望的特性來適宜選擇，例如於使用包含含有化合物(A)及化合物(B)的透明樹脂製基板的基材作為所述基材的情況下，相對於透明樹脂100重量份，較佳為0.01重量份~5.0重量份，更佳為0.02重量份~3.0重量份，特佳為0.03重量份~2.0重量份，於使用於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體上積層含有化合物(A)及化合物(B)的透明樹脂層而成的基材，或於含有化合物(A)的透明樹脂製基板上積層含有化合物(B)的樹脂層而成的基材作為所述基材的情況下，相對於形成包含化合物(A)的透明樹脂層的樹脂100重量份，較佳為0.1重量份~30.0重量份，更佳為1.0重量份~28.0重量份，特佳為2.0重量份~25.0重量份。若化合物(B)的含量處於所述範圍內，則可獲得兼顧良好的近紅外線吸收特性與高的可見光透過率的光學濾波器。再者，關於使用近紅外線吸收微粒子作為所述化合物(B)時的該微粒子的使用量將於後敘述。

所述化合物(B)只要藉由一般為人所知的方法來合成即可，例如可參照日本專利第4168031號公報、日本專利第4252961號公報、日本專利特表2010-516823號公報、日本專利特開昭63-165392號公報等中所記載的方法等來合成。

《二亞銨系化合物》

所述二亞銨系化合物並無特別限定，例如較佳為下述式(s1)所表示的化合物。

式(s1)中，R¹及R²分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NR^gR^h基、-SRⁱ基、-SO₂Rⁱ基、-OSO₂Rⁱ基或下述L^a~L^h的任一者，R^g及R^h分別獨立地表示氫原子、-C(O)Rⁱ基或下述L^a~L^e的任一者，Rⁱ表示下述L^a~L^e的任一者，

(L^a)碳數1~12的脂肪族烴基

(L^b)碳數1~12的經鹵素取代的烷基

(L^c)碳數3~14的脂環式烴基

(L^d)碳數6~14的芳香族烴基

(L^e)碳數3~14的雜環基

(L^f)碳數1~12的烷氧基

(L^g)可具有取代基L的碳數1~12的醯基

(L^h)可具有取代基L的碳數1~12的烷氧基羰基

取代基L為選自由碳數1~12的脂肪族烴基、碳數1~12的經鹵素取代的烷基、碳數3~14的脂環式烴基、碳數6~14的芳香族烴基及碳數3~14的雜環基所組成的群組中的至少一種，n為0~4的整數，X表示使電荷中和所必需的陰離子。

所述R¹較佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基、苄基，更佳為異丙基、第二丁基、第三丁基、苄基。

所述R²較佳為氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基、羥基、胺基、二甲基胺基、氰基、硝基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、乙醯基胺基、丙醯基胺基、N-甲基乙醯基胺基、三氟甲醯基胺基、五氟乙醯基胺基、第三丁醯基胺基、環己醯基胺基、正丁基磺醯基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、正丁硫基，更佳為氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、羥基、二甲基胺基、甲氧基、乙氧基、乙醯基胺基、丙醯基胺基、三氟甲醯基胺基、五氟乙醯基胺基、第三丁醯基胺基、環己醯基胺基，特佳為甲基、乙基、正丙基、異丙基。鍵結於相同的芳香環的R²的個數(n的值)只要為0~4，則並無特別限制，較佳為0或1。

所述X為對電荷進行中和所必需的陰離子，於陰離子為二價的情況下，需要一分子，於陰離子為一價的情況下，需要二分子。於為後者的情況下，兩個陰離子可相同亦可不同，但就合成上的觀點而言，較佳為相同。X只要為此種陰離子，則並無特別限制，作為一例，可列舉下述表9中記載的陰離子。

[表9]表9

X若為製成酸時的酸性度高者，則具有可於作為二亞銨系化合物的陰離子時提高二亞銨系化合物的耐熱性的傾向，特佳為所述表9中的(X-10)、(X-16)、(X-17)、(X-21)、(X-22)、(X-24)、(X-28)。

《金屬二硫醇鹽系化合物》

所述金屬二硫醇鹽系化合物並無特別限定，例如較佳為下述式(s2)所表示的化合物。

式(s2)中，R³的含義與所述式(s1)中的R¹及R²相同，相鄰的R³彼此亦可形成可具有取代基L的環。Z表示D(Rⁱ)₄，D表示氮原子、磷原子或鉍原子，y表示0或1。

所述R³較佳為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、苯基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、正丁硫基、苯硫基、苄硫基，於相鄰的R³彼此形成環的情況下，較佳為於環中包含至少一個以上的硫原子或氮原子的雜環。

所述M較佳為過渡金屬，進而佳為Ni、Pd、Pt。

所述D較佳為氮原子、磷原子，所述Rⁱ較佳為乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、苯基。

《市售品》

作為所述化合物(B)(其中，近紅外線吸收微粒子除外)的市售品，可列舉：S2058(大昌華嘉(DKSH)製造)、CIR-108x、CIR-96x、CIR-RL、CIR-1080(日本卡利特(Carlit)製造)、T090821、T091021、T89021、T090721、T090122(特易購(Tosco)製造)、B4360、D4773、D5013(東京化成工業製造)、S4253、S1426、S1445(光譜資訊(Spectrum Info)製造)、埃克斯卡勒(Excolor)IR1、IR2、IR3、IR4(日本觸媒製造)等。

《近紅外線吸收微粒子》

所述近紅外線吸收微粒子只要於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有吸收，則並無特別限制。作為此種近紅外線吸收微粒子，例如可列舉：摻錫氧化銦(Indium Tin Oxide，ITO)、摻銻氧化錫(Antimony Tin Oxide，ATO)、摻鎵氧化鋅(Gallium Zinc Oxide，GZO)等透明導電性氧化物、或包含下述式(P-1)所表示的化合物的第1微粒子或包含下述式(P-2)所表示的化合物的第2微粒子，就吸收-透過特性的觀點而言，特佳為第1微粒子及第2微粒子。

A_1/nCuPO₄...(P-1)

式(P-1)中，A為選自由鹼金屬、鹼土金屬及NH₄所組成的群組中的至少一種，於A為鹼金屬或NH₄的情況下，n為1，於A 為鹼土金屬的情況下，n為2。

M_xW_yO_z...(P-2)

式(P-2)中，M為H、鹼金屬、鹼土金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I，於M存在多個的情況下，可為分別不同原子，x、y及z滿足0.001≦x/y≦1及2.2≦z/y≦3.0的條件。

本發明中，所謂鹼金屬，是指Li、Na、K、Rb、Cs，所謂鹼土金屬，是指Ca、Sr、Ba，所謂稀土元素，是指Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu。

近紅外線吸收微粒子的粒子直徑的平均值為1nm~200nm，即較佳為200nm以下，進而佳為150nm以下，特佳為100nm以下。近紅外線吸收微粒子的粒子直徑是藉由使用動態光散射光度計(大塚電子公司製造，型號DLS-8000HL/HH)的動態光散射法(使用He-Ne雷射，單元室溫度為25℃)對近紅外線吸收微粒子為分散狀態的懸浮液(以下，亦簡稱為「分散液」)進行測定而得者。若近紅外線吸收微粒子的粒子直徑的平均值處於該範圍，則可降低成為可見光透過率降低的原因的幾何散射或米氏散射(Mie scattering)，成為瑞利散射(Rayleigh scattering)區域。於瑞利散射區域中，散射光與粒子直徑的6乘方成反比地減少，故伴隨粒子直徑的減少，散射減少，可見光透過率提昇。因此，若粒子直徑處於所述範圍，則散射光非常少，可達成良好的可見光透過率，故較佳。就散射光的觀點而言，粒子直徑較佳為小，但若考慮到工業製造的容易性或製造成本等，則粒子直徑的平均值的下限較佳為1nm以上，特佳為2nm以上。

相對於構成包含近紅外線吸收微粒子的層的樹脂成分100重量份，近紅外線吸收微粒子的含量較佳為5重量份~60重量份。含量的上限值進而佳為55重量份，特佳為50重量份。含量的下限值進而佳為10重量份，特佳為15重量份。若近紅外線吸收微粒子的含量小於5重量份，則存在無法獲得充分的近紅外線吸收特性的情況，若大於60重量份，則具有因可見光透過率的下降或近紅外線吸收微粒子的凝聚而容易引起霧值增大的傾向。

作為近紅外線吸收微粒子的分散媒，可列舉：水、醇、酮、醚、酯、醛、胺、脂肪族烴、脂環族烴、芳香族烴等。分散媒可單獨使用一種，亦可混合使用兩種以上。就維持近紅外線吸收微粒子的分散性的方面而言，相對於分散液100重量份，分散媒的量較佳為50重量份~95重量份。

視需要可於近紅外線吸收微粒子的分散媒中調配分散劑，以改良近紅外線吸收微粒子的分散狀態。作為分散劑，可使用對於近紅外線吸收微粒子的表面顯示出改質效果者，例如可使用界面活性劑、矽烷化合物、矽酮樹脂、鈦酸鹽系偶合劑、鋁系偶合劑、鋯鋁酸鹽系偶合劑等。

作為界面活性劑，可列舉：陰離子系界面活性劑(特殊多羧酸型高分子界面活性劑、烷基磷酸酯等)、非離子系界面活性劑(聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯酚醚、聚氧乙烯羧酸酯、脫水山梨糖醇高級羧酸酯等)、陽離子系界面活性劑(聚氧乙烯烷基胺羧酸酯、烷基胺、烷基銨鹽等)、兩性界面活性劑(高級烷基甜菜鹼等)。

作為矽烷化合物，可列舉：矽烷偶合劑、氯矽烷、烷氧基矽烷、矽氮烷等。作為矽烷偶合劑，可列舉具有官能基(縮水甘油氧基、乙烯基、胺基、烯基、環氧基、巰基、氯基、銨基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等)的烷氧基矽烷等。

作為矽酮樹脂，可列舉甲基矽酮樹脂、甲基苯基矽酮樹脂等。

作為鈦酸鹽系偶合劑，可列舉具有醯氧基、磷醯氧基、焦磷醯氧基、磺酸氧基、芳氧基等者。

作為鋁系偶合劑，可列舉乙醯基烷氧基二異丙酸鋁。

作為鋯鋁酸鹽系偶合劑，可列舉具有胺基、巰基、烷基、烯基等者。

分散劑的量亦視分散劑的種類而定，相對於分散液100重量份，較佳為0.5重量份~10重量份。若分散劑的量為該範圍內，則近紅外線吸收微粒子的分散性良好，不會損害透明性，且可抑制經時性的近紅外線吸收微粒子的沈降。

作為近紅外線吸收微粒子的市售品，可列舉：三菱材料(股)製造的P-2(ITO)、三井金屬(股)製造的帕斯特朗(pastran)(ITO)、三菱材料(股)製造的T-1(ATO)、石原產業(股)製造的SN-100P(ATO)、哈庫斯科技(Hakusui tech)(股)製造的帕在特(pazet)GK(GZO)、住友金屬礦山(股)製造的YMF-02A(第2微粒子)等。

《第1微粒子》

第1微粒子具有由所述式(P-1)所表示的化合物的結晶結構(微晶)引起的近紅外線吸收特性。

此處，所謂「微晶」，是指視為單晶的單位結晶，「粒子」是由多個微晶構成。所謂「包含式(1)所表示的化合物的微晶」，是指例如可藉由X射線繞射確認到A_1/nCuPO₄的結晶結構，且由X射線繞射鑒定為實質上包含A_1/nCuPO₄的微晶，所謂「實質上包含A_1/nCuPO₄的微晶」，是指亦可於微晶可充分維持A_1/nCuPO₄的結晶結構(藉由X射線繞射可確認到A_1/nCuPO₄的結晶結構)的範圍內包含雜質。再者，X射線繞射是對於粉末狀態的近紅外線吸收微粒子使用X射線繞射裝置進行測定。

採用鹼金屬(Li、Na、K、Rb、Cs)、鹼土金屬(Ca、Sr、Ba)、或NH₄作為式(1)中的A的理由如下述(i)~(iii)般。

(i)近紅外線吸收微粒子中的微晶的結晶結構為包含PO₄ ^3-與Cu²⁺的交替鍵結的網孔狀三維骨架，於骨架的內部具有空間。該空間的尺寸與鹼金屬離子(Li⁺：0.090nm、Na⁺：0.116nm、K⁺：0.152nm、Rb⁺：0.166nm、Cs⁺：0.181nm)、鹼土金屬離子(Ca²⁺：0.114nm、Sr²⁺：0.132nm、Ba²⁺：0.149nm)及NH₄ ⁺(0.166nm)的離子半徑相符合，故可充分維持結晶結構。

(ii)鹼金屬離子、鹼土金屬離子及NH₄ ⁺可於溶液中作為一價或二價的陽離子而穩定地存在，故於近紅外線吸收微粒子的製造過程中，於生成前驅物時容易於結晶結構中導入陽離子。

(iii)於PO₄ ^3-的配位鍵結性強的陽離子(例如過渡金屬離子等)中，存在供給表現出充分的近紅外線吸收特性的、與本實施形態中的結晶結構不同的結晶結構的可能性。

就陽離子尺寸最適合於包含PO₄ ^3-與Cu²⁺的骨架內所導入的離子且獲得熱力學穩定結構的方面而言，A特佳為K。

藉由微晶充分維持A_1/nCuPO₄的結晶結構，近紅外線吸收微粒子可表現出充分的近紅外線吸收特性。因此，於在微晶的表面附著有水或羥基的情況下，無法維持A_1/nCuPO₄的結晶結構，故可見光區域與近紅外波長區域的光的透過率的差減小，無法較佳地用作光學濾波器用途。

因此，關於近紅外線吸收微粒子，於顯微紅外(infrared，IR)光譜中，於將從屬於磷酸基的1000cm^-1附近的峰值的吸收強度設為基準(100%)時，較佳為從屬於水的1600cm^-1附近的峰值的吸收強度為8%以下且從屬於羥基的3750cm^-1附近的峰值的吸收強度為26%以下，更佳為從屬於水的1600cm^-1附近的峰值的吸收強度為5%以下且從屬於羥基的3750cm^-1附近的峰值的吸收強度為15%以下。再者，顯微IR光譜是對於粉末狀態的近紅外線吸收微粒子使用傅立葉轉換紅外分光光度計進行測定。具體而言，例如使用賽默飛世爾科技(Thermo Fisher Scientific)公司製造的傅立葉轉換紅外分光光度計麥格納(Magna)760，於其金剛石板上放置一片第1微粒子，利用輥使其平坦，並利用顯微傅立葉轉換紅外光譜(Fourier-transform infrared spectrum，FT-IR)法進行測定。

《第2微粒子》

已知藉由將三氧化鎢(WO₃)的氧相對於鎢的比率較3而言減小並設為特定的組成範圍，而於該鎢氧化物中生成自由電子，可達成作為近紅外線吸收材料的良好的特性。

於氧相對於鎢的組成比為3以下且進而將該鎢氧化物記載為W_yO_z時，該鎢與氧的組成範圍較佳為2.2≦z/y≦2.999。若該z/y的值為2.2以上，則可避免該鎢氧化物中出現目標以外的WO₂結晶相，同時可獲得作為材料的化學穩定性，因此可應用為有效的近紅外線吸收材料。另一方面，若該z/y的值為2.999以下，則於該鎢氧化物中生成所需量的自由電子，成為效率佳的近紅外線吸收材料。

另外，將該鎢氧化物微粒子化而成的鎢氧化物微粒子中，於設為通式W_yO_z時，具有2.45≦z/y≦2.999所表示的組成比的、所謂「馬格內利相(Magneli phase)」化學穩定，且近紅外線區域的吸收特性亦良好，因此作為近紅外線吸收材料而較佳。

進而，藉由對該鎢氧化物添加元素M而製成複合鎢氧化物，於該複合鎢氧化物中生成自由電子，於近紅外線區域表現出源自自由電子的吸收特性，並且作為波長1000nm附近的近紅外線吸收材料而有效，故較佳。

此處，對表示元素M的添加量的x/y的值進行說明。若x/y的值大於0.001，則可生成充分量的自由電子而獲得作為目標的紅外線遮蔽效果。而且，元素M的添加量越多，自由電子的供給量越增加，紅外線遮蔽效率亦上昇，但於x/y的值為1左右時該效果亦飽和。另外，若x/y的值小於1，則可避免於該紅外線遮蔽材料中生成雜質相，故較佳，進而佳為0.2以上且0.5以下。另外，元素M較佳為選自H、鹼金屬、鹼土金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中的一種以上。此處，就添加有元素M的該M_xW_yO_z中的穩定性的觀點而言，元素M更佳為選自鹼金屬、鹼土金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re中的一種以上的元素，就提昇作為近紅外線吸收材料的光學特性、耐候性的觀點而言，所述元素M中進而佳為歸屬於鹼金屬、鹼土金屬元素、過渡金屬元素、4 族元素、5族元素者。

其次，對表示氧量的控制的z/y的值進行說明。關於z/y的值，M_xW_yO_z所表述的近紅外線吸收材料中，除與所述W_yO_z所表述的近紅外線吸收材料相同的機構發揮作用以外，於z/y=3.0時，亦存在因所述元素M的添加量引起的自由電子的供給，故較佳為2.2≦z/y≦3.0。

<透明樹脂>

所述透明樹脂只要不損害本發明的效果，則並無特別限制，例如為了確保熱穩定性及對膜的成形性，可列舉玻璃轉移溫度(Tg)較佳為110℃~380℃、更佳為110℃~370℃、進而佳為120℃~360℃的樹脂。另外，為了適於回焊步驟，所述樹脂的玻璃轉移溫度較佳為140℃以上，更佳為230℃以上。

作為透明樹脂，於形成包含該樹脂的厚度為0.1mm的樹脂板的情況下，可使用該樹脂板的總光線透過率(JIS K7105)較佳為成為75%~95%，進而佳為成為78%~95%，特佳為成為80%~95%的樹脂。若使用總光線透過率成為此種範圍的樹脂，則所獲得的基板作為光學膜而顯示出良好的透明性。

透明樹脂的藉由凝膠滲透層析(Gel Permeation Chromatography，GPC)法所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)通常為15,000~350,000，較佳為30,000~250,000，數量平均分子量(Mn)通常為10,000~150,000，較佳為20,000~100,000。

作為透明樹脂，例如可列舉：環狀聚烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、芳族聚醯胺系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂、馬來醯亞胺系樹脂、脂環環氧熱硬化型樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚芳酯系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂、乙烯基系紫外線硬化型樹脂及藉由溶膠凝膠法形成的將二氧化矽作為主成分的樹脂。該些中，就可獲得透明性(光學特性)、耐熱性、耐回焊性等的平衡優異的光學濾波器的方面而言，較佳為使用環狀聚烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚芳酯系樹脂。

《環狀聚烯烴系樹脂》

環狀聚烯烴系樹脂較佳為由選自由下述式(X₀)所表示的單體及下述式(Y₀)所表示的單體所組成的群組中的至少一種單體所獲得的樹脂、及藉由將該樹脂加以氫化所獲得的樹脂。

[化15]

式(X₀)中，R^x1~R^x4分別獨立地表示選自下述(i')~(ix')中的原子或基，k^x、m^x及p^x分別獨立地表示0或正的整數。

(i')氫原子

(ii')鹵素原子

(iii')三烷基矽烷基

(iv')具有包含氧原子、硫原子、氮原子或矽原子的連結基的經取代或未經取代的碳數1~30的烴基

(v')經取代或未經取代的碳數1~30的烴基

(vi')極性基(其中(iv')除外)

(vii')R^x1與R^x2或R^x3與R^x4相互鍵結而形成的亞烷基(其中，不參與所述鍵結的R^x1~R^x4分別獨立地表示選自所述(i')~(vi')中的原子或基)

(viii')R^x1與R^x2或R^x3與R^x4相互鍵結而形成的單環或多環的烴環或雜環(其中，不參與所述鍵結的R^x1~R^x4分別獨立地表示選自所述(i')~(vi')中的原子或基)

(ix')R^x2與R^x3相互鍵結而形成的單環的烴環或雜環(其中，不參與所述鍵結的R^x1與R^x4分別獨立地表示選自所述(i')~(vi') 中的原子或基)

式(Y₀)中，R^y1及R^y2分別獨立地表示選自所述(i')~(vi')中的原子或基，或者表示R^y1與R^y2相互鍵結所形成的單環或多環的脂環式烴、芳香族烴或雜環，k^y及p^y分別獨立地表示0或正的整數。

《芳香族聚醚系樹脂》

芳香族聚醚系樹脂較佳為具有選自由下述式(1)所表示的結構單元及下述式(2)所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。

式(1)中，R¹~R⁴分別獨立地表示碳數1~12的一價有機基，a~d分別獨立地表示0~4的整數。

式(2)中，R¹~R⁴及a~d的含義分別獨立地與所述式(1)中的R¹~R⁴及a~d相同，Y表示單鍵、-SO₂-或>C=O，R⁷及R⁸分別獨立地表示鹵素原子、碳數1~12的一價有機基或硝基，g及h分別獨立地表示0~4的整數，m表示0或1。其中，於m為0時，R⁷不為氰基。

另外，所述芳香族聚醚系樹脂較佳為進而具有選自由下述式(3)所表示的結構單元及下述式(4)所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。

式(3)中，R⁵及R⁶分別獨立地表示碳數1~12的一價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO₂-、>C=O、-CONH-、-COO-或碳數1~12的二價有機基，e及f分別獨立地表示0~4的整數，n表示0或1。

式(4)中，R⁷、R⁸、Y、m、g及h的含義分別獨立地與所述式(2)中的R⁷、R⁸、Y、m、g及h相同，R⁵、R⁶、Z、n、e及f的含義分別獨立地與所述式(3)中的R⁵、R⁶、Z、n、e及f相同。

《聚醯亞胺系樹脂》

聚醯亞胺系樹脂並無特別限制，只要是於重複單元中包含醯亞胺鍵的高分子化合物即可，例如可藉由日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報中所記載的方法來合成。

《茀聚碳酸酯系樹脂》

茀聚碳酸酯系樹脂並無特別限制，只要是包含茀部位的聚碳酸酯樹脂即可，例如可藉由日本專利特開2008-163194號公報中所記載的方法來合成。

《茀聚酯系樹脂》

茀聚酯系樹脂並無特別限制，只要是包含茀部位的聚酯樹脂即可，例如可藉由日本專利特開2010-285505號公報或日本專利特開2011-197450號公報中所記載的方法來合成。

《氟化芳香族聚合物系樹脂》

氟化芳香族聚合物系樹脂並無特別限制，但較佳為含有具有至少一個氟原子的芳香族環、及包含選自由醚鍵、酮鍵、碸鍵、醯胺鍵、醯亞胺鍵及酯鍵所組成的群組中的至少一個鍵的重複單元的聚合物，例如可藉由日本專利特開2008-181121號公報中所記載的方法來合成。

《丙烯酸系紫外線硬化型樹脂》

丙烯酸系紫外線硬化型樹脂並無特別限制，可列舉：由含有分子內具有一個以上的丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合物、及藉由紫外線而分解並產生活性自由基的化合物的樹脂組成物所合成者。於使用於玻璃支撐體上或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含化合物(A)及硬化性樹脂的透明樹脂層(光吸收層)而成的基材、或於含有化合物(A)的透明樹脂製基板上積層包含硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材(i)的情況下，丙烯酸系紫外線硬化型樹脂可特別較佳地用作該硬化性樹脂。

《藉由溶膠凝膠法形成的將二氧化矽作為主成分的樹脂》

作為藉由溶膠凝膠法而得的將二氧化矽作為主成分的樹脂，可將藉由如下的溶膠凝膠反應而獲得的化合物用作樹脂：所述溶膠凝膠反應是利用選自四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、二甲氧基二乙氧基矽烷、甲氧基三乙氧基矽烷等四烷氧基矽烷，苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷等苯基烷氧基矽烷等中的一種以上的矽烷類的加水分解來進行。

《市售品》

作為透明樹脂的市售品，可列舉以下的市售品等。作為環狀聚烯烴系樹脂的市售品，可列舉：JSR(股)製造的阿通(Arton)、日本瑞翁(Zeon)(股)製造的瑞翁諾阿(Zeonor)、三井化學(股)製造的阿派爾(APEL)、寶理塑膠(Polyplastics)(股)製造的托帕斯(TOPAS)等。作為聚醚碸系樹脂的市售品，可列舉住友化學(股)製造的斯密卡愛克塞爾(Sumikaexcel)PES等。作為聚醯亞胺系樹脂的市售品，可列舉三菱瓦斯化學(股)製造的尼歐普利姆(Neopulim)L等。作為聚碳酸酯系樹脂的市售品，可列舉帝人(股)製造的普艾斯(PURE-ACE)等。作為茀聚碳酸酯系樹脂的市售品，可列舉三菱瓦斯化學(股)製造的優比澤塔(Iupizeta)EP-5000等。作為茀聚酯系樹脂的市售品，可列舉大阪燃氣化學(Osaka Gas Chemicals)(股)製造的OKP4HT等。作為丙烯酸系樹脂的市售品，可列舉日本觸媒(股)製造的阿庫利維阿(Acryviewa)等。作為矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂的市售品，可列舉新日鐵化學(股)製造的希魯普拉斯(Silplus)等。

<其他成分>

於不損害本發明的效果的範圍內，所述基材(i)可進而含有抗氧化劑、近紫外線吸收劑及螢光消光劑等添加劑。該些其他成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

作為所述近紫外線吸收劑，例如可列舉：甲亞胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。

作為所述抗氧化劑，例如可列舉：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧基-3,3'-二-第三丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、四[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷、及三(2,4-二-第三丁基苯基)亞磷酸酯等。

再者，該些添加劑可於製造所述透明樹脂時與樹脂等一同混合，亦可於合成樹脂時添加。另外，添加量可對應於所期望的特性來適宜選擇，但相對於所述透明樹脂100重量份，通常為0.01重量份~5.0重量份，較佳為0.05重量份~2.0重量份。

<支撐體>

《樹脂製支撐體》

所述透明樹脂製基板或樹脂製支撐體中所使用的樹脂可使用與所述透明樹脂層相同者。

《玻璃支撐體》

所述玻璃支撐體並無特別限定，例如可列舉：硼矽酸鹽系玻璃、矽酸鹽系玻璃、鈉鈣玻璃、及近紅外線吸收玻璃等。所述近紅外線吸收玻璃就可提高近紅外截止特性的方面與可減少入射角依存性的方面而言較佳，作為其具體例，可列舉含有銅成分的氟磷酸鹽系玻璃及磷酸鹽系玻璃等。

<基材(i)的製造方法>

於所述基材(i)為包含含有所述化合物(A)等的透明樹脂製基板的基材的情況下，該透明樹脂製基板例如可藉由熔融成形或澆鑄成形來形成，進而，視需要可於成形後塗佈抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑，藉此製造積層有外塗層的基材。

於所述基材(i)為於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含含有化合物(A)等的硬化性樹脂或熱塑性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材的情況下，例如於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上對包含化合物(A)等的樹脂溶液進行熔融成形或澆鑄成形，較佳為利用旋塗、狹縫塗佈、噴墨等方法進行塗敷後將溶媒乾燥去除，視需要進而進行光照射或加熱，藉此可製造於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上形成有透明樹脂層的基材。

《熔融成形》

作為所述熔融成形，具體而言，可列舉：對將樹脂與化合物(A)等熔融混練所獲得的顆粒進行熔融成形的方法；對含有樹脂與化合物(A)等的樹脂組成物進行熔融成形的方法；或對自包含化合物(A)等、樹脂及溶劑的樹脂組成物中去除溶劑所獲得的顆粒進行熔融成形的方法等。作為熔融成形方法，可列舉：射出成形、熔融擠出成形或吹塑成形等。

《澆鑄成形》

作為所述澆鑄成形，亦可藉由如下的方法等來製造：將包含化合物(A)等、樹脂及溶劑的樹脂組成物澆鑄於適當的支撐體上並去除溶劑的方法；或將包含化合物(A)等與光硬化性樹脂及/或熱硬化性樹脂的硬化性組成物澆鑄於適當的支撐體上並去除溶媒後，藉由紫外線照射或加熱等適當的方法來使其硬化的方法。

於所述基材(i)為包含含有化合物(A)等的透明樹脂製基板的基材的情況下，該基材(i)可藉由在澆鑄成形後自支撐體剝離塗膜而獲得，另外，於所述基材(i)為於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體等上積層包含含有化合物(A)等的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材的情況下，該基材(i)可藉由在澆鑄成形後不剝離塗膜而獲得。

作為所述支撐體，例如可列舉：玻璃板、鋼帶、鋼桶及透明樹脂(例如，聚酯膜、環狀烯烴系樹脂膜)製支撐體。

進而，亦可藉由如下方法等而於光學零件上形成透明樹脂層：將所述樹脂組成物塗佈於玻璃板、石英或透明塑膠製等的光學零件上後對溶劑進行乾燥的方法，或塗佈所述硬化性組成物後進行硬化及乾燥的方法。

藉由所述方法所獲得的透明樹脂層(透明樹脂製基板)中的殘留溶劑量較佳為儘可能少。具體而言，相對於透明樹脂層(透明樹脂製基板)的重量，所述殘留溶劑量較佳為3重量%以下，更佳為1重量%以下，進而佳為0.5重量%以下。若殘留溶劑量處於所述範圍，則可獲得變形或特性難以變化、可容易地發揮出所期望的功能的透明樹脂層(透明樹脂製基板)。

<介電體多層膜>

如所述般，就翹曲減少的觀點而言，本發明的光學濾波器較佳為不具有介電體多層膜，但於不損害本發明的效果的範圍內，亦可於所述基材(i)的至少一面具有介電體多層膜。所謂本發明中的介電體多層膜，是指具有反射近紅外線的能力的膜或具有可見區域中的抗反射效果的膜。本發明中，於要求光學濾波器的高可見光透過率的情況下，就可於不使翹曲大幅惡化的情況下提高可見光透過率的觀點而言，較佳為於所述基材(i)的兩面含有具有1層~9層左右的可見區域的抗反射效果的膜(抗反射膜)的構成。

作為介電體多層膜，可列舉使高折射率材料層與低折射率材料層交替地積層而成者。作為構成高折射率材料層的材料，可使用折射率為1.7以上的材料，且選擇折射率通常為1.7~2.5的材料。作為此種材料，例如可列舉將氧化鈦、氧化鋯、五氧化鉭、五氧化鈮、氧化鑭、氧化釔、氧化鋅、硫化鋅或氧化銦等作為主成分，且含有少量(例如相對於主成分為0重量%~10重量%)的氧化鈦、氧化錫及/或氧化鈰等者。

作為構成低折射率材料層的材料，可使用折射率為1.6以下的材料，且選擇折射率通常為1.2~1.6的材料。作為此種材料，例如可列舉：二氧化矽、氧化鋁、氟化鑭、氟化鎂及六氟化鋁鈉。

關於將高折射率材料層與低折射率材料層積層的方法，只要形成將該些材料層積層而成的介電體多層膜，則並無特別限制。例如可藉由化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、濺鍍法、真空蒸鍍法、離子輔助蒸鍍法或離子鍍法等，於基材(i)上直接形成使高折射率材料層與低折射率材料層交替地積層而成的介電體多層膜。

若將欲阻斷的近紅外線波長設為λ(nm)，則高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度通常較佳為0.1λ~0.5λ的厚度。作為λ(nm)的值，例如為700nm~1400nm，較佳為750nm~1300nm。若厚度為該範圍，則折射率(n)與膜厚(d)的積(n×d)成為與藉由λ/4所算出的光學膜厚、以及高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度大致相同的值，根據反射/折射的光學特性的關係，有可容易地控制特定波長的阻斷/透過的傾向。

作為光學濾波器整體，介電體多層膜中的高折射率材料層與低折射率材料層的合計的積層數較佳為1層~20層，更佳為2層~12層。

於本發明中，結合化合物(A)或化合物(B)的吸收特性來適當地選擇構成高折射率材料層及低折射率材料層的材料種類、高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度、積層的順序、積層數，藉此可於可見區域中確保充分的透過率後，於近紅外波長區域中具有充分的光線截止特性，而且可減少近紅外線自傾斜方向入射時的反射率。

此處，於使所述條件最佳化時，例如只要使用光學薄膜設計軟體(例如，核心麥克勞德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin Film Center)公司製造)，以可兼顧可見區域的抗反射效果與近紅外區域的光線截止效果的方式設定參數即可。於所述軟體的情況下，例如可列舉：於第一光學層的設計時，將波長400nm~700nm的目標透過率設為100%，並將目標公差(Target Tolerance)的值設為1後，將波長705nm~950nm的目標透過率設為0%，將目標公差的值設為0.5等的參數設定方法。該些參數亦可結合基材(i)的各種特性等而更細地劃分波長範圍來改變目標公差的值。

<其他功能膜>

出於提昇基材(i)或介電體多層膜的表面硬度、提昇耐化學品性、抗靜電及消除損傷等目的，本發明的光學濾波器可於不損害本發明的效果的範圍內，在基材(i)與介電體多層膜之間、基材(i)的與設有介電體多層膜的面為相反側的面、或介電體多層膜的與設有基材(i)的面為相反側的面上適宜設置抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。

本發明的光學濾波器可含有一層包含所述功能膜的層，亦可含有兩層以上。於本發明的光學濾波器含有兩層以上的包含所述功能膜的層的情況下，可含有兩層以上的相同的層，亦可含有兩層以上的不同的層。

積層功能膜的方法並無特別限制，可列舉：與所述同樣地，於基材(i)或介電體多層膜上對抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑等進行熔融成形或澆鑄成形的方法等。

另外，亦可藉由利用棒塗機等將包含所述塗佈劑等的硬化性組成物塗佈於基材(i)或介電體多層膜上後，利用紫外線照射等進行硬化來製造。

作為所述塗佈劑，可列舉紫外線(Ultraviolet，UV)/電子束(Electron Beam，EB)硬化型樹脂或熱硬化型樹脂等，具體而言，可列舉：乙烯基化合物類或胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系樹脂等。作為包含該些塗佈劑的所述硬化性組成物，可列舉：乙烯基系、胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系硬化性組成物等。

另外，所述硬化性組成物亦可包含聚合起始劑。作為所述聚合起始劑，可使用公知的光聚合起始劑或熱聚合起始劑，亦可併用光聚合起始劑與熱聚合起始劑。聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

所述硬化性組成物中，於將硬化性組成物的總量設為100重量%的情況下，聚合起始劑的調配比例較佳為0.1重量%~10重量%，更佳為0.5重量%~10重量%，進而佳為1重量%~5重量%。若聚合起始劑的調配比例處於所述範圍內，則硬化性組成物的硬化特性及處理性優異，可獲得具有所期望的硬度的抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。

進而，亦可向所述硬化性組成物中加入作為溶劑的有機溶劑，作為有機溶劑，可使用公知者。作為有機溶劑的具體例，可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚等醚類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等醯胺類。

該些溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。

所述功能膜的厚度較佳為0.1μm~30μm，進而佳為0.5μm~20μm，特佳為0.7μm~5μm。

另外，出於提昇基材(i)與功能膜及/或介電體多層膜的密接性、或功能膜與介電體多層膜的密接性的目的，亦可對基材(i)、功能膜或介電體多層膜的表面進行電暈處理或電漿處理等表面處理。

[光學濾波器的用途]

本發明的光學濾波器即便於入射角度大的情況下亦具有優異的可見光透過率與近紅外線截止性能。因此，有效用作照度感測器或顏色校正用感測器等各種環境光感測器用途。特別是有效用作搭載於數位靜態照相機、智慧型手機、平板終端機、行動電話、可穿戴設備、汽車、電視機、遊戲機等中的環境光感測器用途。進而，亦有效用作安裝於汽車或建築物等的窗用玻璃板等上的熱線截止濾波器等。

[環境光感測器]

可將所述本發明的光學濾波器與光電轉換元件組合而用作環境光感測器。此處，所謂環境光感測器，是指照度感測器或顏色校正用感測器等可感知周圍的明亮度或色調(於傍晚的時間段中紅色強等)的感測器，例如可根據由環境光感測器所感知的資訊來控制搭載於機器上的顯示器的照度或色澤。

圖1是表示偵測周圍的明亮度的環境光感測器200a的一例。環境光感測器200a具備光學濾波器100及光電轉換元件202。若光入射至光接收部，則光電轉換元件202藉由光伏打效應(photovoltaic effect)而產生電流或電壓。光學濾波器100設於光電轉換元件202的光接收面側。藉由光學濾波器100，入射至光電轉換元件202的光接收面的光成為可見光範圍的光，近紅外線範圍(800nm~2500nm)的光被阻斷。環境光感測器200a感應可見光而輸出信號。

再者，環境光感測器200a中，於光學濾波器100與光電轉換元件202之間亦可介隔存在其他透光性的層。例如，於光學濾波器100與光電轉換元件202之間亦可設置具有透光性的樹脂層作為密封材。

光電轉換元件202具有第1電極206、光電轉換層208、以及第2電極210。另外，於光接收面側設有鈍化膜216。光電轉換層208是由表現出光電效應的半導體形成。例如，光電轉換層208是使用矽半導體而形成。光電轉換層208為二極體型的元件，並藉由內置電場而表現出光伏打。再者，光電轉換元件202並不限定於二極體型的元件，可為光導電型的元件(亦稱為光敏電阻、光依存性電阻、光導電體、光電池)或光電晶體型的元件。

光電轉換層208除使用矽半導體以外，亦可使用鍺半導體、矽鍺半導體。另外，作為光電轉換層208，亦可使用GaP、GaAsP、CdS、CdTe、CuInSe₂等化合物半導體材料。由半導體材料形成的光電轉換元件202對自可見光線範圍至近紅外線範圍的光具有感度。例如，於光電轉換層208由矽半導體形成的情況下，矽半導體的帶隙能量為1.12eV，因此原理上可吸收作為近紅外光的波長700nm~1100nm的光。但是，藉由具備光學濾波器100，環境光感測器200a不會感應近紅外光，對可見光區域的光具有感度。再者，光電轉換元件202較佳為以選擇性地照射有透過光學濾波器100的光的方式由遮光性的框體204包圍。環境光感測器200a藉由具備光學濾波器100而可阻斷近紅外光並對周圍光進行偵測。藉此，環境光感測器200a可消除感應近紅外光而進行誤動作等不良情況。

圖2是表示除偵測周圍的明亮度以外亦偵測色調的環境光感測器200b的一例。環境光感測器200b包含光學濾波器100、光電轉換元件202a~光電轉換元件202c、彩色濾波器212a~彩色濾波器212c而構成。於光電轉換元件202a的光接收面上設有使紅色光範圍的光透過的彩色濾波器212a，於光電轉換元件202b的光接收面上設有使綠色光範圍的光透過的彩色濾波器212b，於光電轉換元件202c的光接收面上設有使藍色光範圍的光透過的彩色濾波器212c。光電轉換元件202a~光電轉換元件202c除藉由元件分離絕緣層214而絕緣以外，具備與圖1所示者相同的構成。藉由該構成，光電轉換元件202a~光電轉換元件202c可獨立地偵測照度。再者，於彩色濾波器212a~彩色濾波器212c與光電轉換元件202a~光電轉換元件202c之間亦可設置鈍化膜216。

光電轉換元件202a~光電轉換元件202c遍及可見光線波長區域至近紅外線波長區域的廣範圍而具有感度。因此，除光學濾波器100以外，與光電轉換元件202a~光電轉換元件202c對應地設置彩色濾波器212a~彩色濾波器212c，藉此環境光感測器200b可阻斷近紅外光並防止感測器的誤動作，並且可偵測與各顏色對應的光。環境光感測器200b藉由具備阻斷近紅外區域的光的光學濾波器100與彩色濾波器212a~彩色濾波器212c，不僅可將周圍光分光為多個波長範圍的光來加以偵測，而且亦可應用於先前的彩色感測器中受到近紅外線的影響而無法準確地進行偵測的暗環境下。

[電子機器]

本發明的電子機器包含所述本發明的環境光感測器。以下，參照圖式並對本發明的電子機器進行說明。

圖3A~圖3C是表示具有本發明的一實施形態的環境光感測器200的電子機器300的一例。再者，圖3A為正視圖，圖3B為俯視圖，圖3C表示示出於圖3B中以虛線包圍的區域D的構成例的詳細圖。電子機器300包含框體302、顯示面板304、麥克風部306、揚聲器部308、以及環境光感測器200。顯示面板304採用觸控面板，除顯示功能以外亦兼具輸入功能。

環境光感測器200設置於設於框體302上的表面面板310背面。即，環境光感測器200並不暴露於電子機器300的外觀，並且光透過透光性的表面面板310而入射。表面面板310藉由光學濾波器100而阻斷近紅外線區域的光，而使可見光區域的光入射至光電轉換元件202。電子機器300可藉由環境光感測器200來控制顯示面板304的照度或色澤。

根據本實施形態，環境光感測器200中，光學濾波器100接近光電轉換元件202的光接收面而設置，藉此即便相對於以廣角入射的光亦可準確地測定照度。

[實施例]

以下，基於實施例對本發明更具體地進行說明，但本發明不受該些實施例任何限定。再者，只要無特別說明，則「份」是指「重量份」。另外，各物性值的測定方法及物性的評價方法如以下般。

<分子量>

樹脂的分子量是考慮到各樹脂於溶劑中的溶解性等並利用下述(a)或(b)的方法來進行測定。

(a)使用沃特斯(WATERS)公司製造的凝膠滲透層析(GPC)裝置(150C型，管柱：東曹(Tosoh)公司製造的H型管柱，展開溶劑：鄰二氯苯)，測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。

(b)使用東曹公司製造的GPC裝置(HLC-8220型，管柱：TSKgelα-M，展開溶劑：四氫呋喃(Tetrahydrofuran，THF))，測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。

<玻璃轉移溫度(Tg)>

使用SII奈米技術(SII Nanotechnologies)股份有限公司製造的示差掃描熱量計(DSC6200)，於昇溫速度為每分鐘20℃、氮氣流下進行測定。

<分光透過率>

光學濾波器的各波長區域中的透過率是使用日立先端科技(Hitachi High-Technologies)股份有限公司製造的分光光度計(U-4100)來測定。

此處，關於自光學濾波器的垂直方向進行測定時的透過率，如圖4A般利用分光光度計3測定相對於光學濾波器2垂直地透過的光1，關於自相對於光學濾波器的垂直方向為30度的角度進行測定時的透過率，如圖4B般利用分光光度計3測定以相對於光學濾波器2的垂直方向為30度的角度透過的光1'，關於自相對於光學濾波器的垂直方向為60度的角度進行測定時的透過率，如圖4C般利用分光光度計3測定以相對於光學濾波器2的垂直方向為60度的角度透過的光1"。

<分光反射率>

光學濾波器的各波長區域中的反射率是使用日立先端科技(Hitachi High-Technologies)股份有限公司製造的分光光度計(U-4100)來測定。

此處，關於光學濾波器的自相對於垂直方向為5度的角度進行測定時的反射率，如圖5般利用分光光度計3測定光學濾波器2的以相對於垂直方向為5度的角度反射的光11。

<光密度(OD)值>

光學濾波器的光密度(OD)值是根據使用日本分光股份有限公司的紫外可見紅外分光光度計V-7300而測定的透過率的值並藉由計算來求出。

<翹曲評價>

將縱200mm×橫200mm的光學濾波器靜置於平坦的玻璃板上，將光學濾波器的角部於玻璃板上翹曲的垂直高度設為翹曲，並使用規尺來測定。對光學濾波器的四角落測定翹曲，並將四角落的翹曲的平均值設為翹曲量。於翹曲量為10mm以下的情況下，評價為翹曲特性「○」，於為10mm以上的情況下，評價為翹曲特性「×」。

<環境光感測器性能(顏色校正性能)評價>

取出蘋果(Apple)公司製造的「iPad(註冊商標)Pro 9.7吋」的環境光感測器模組的近紅外線截止濾波器，代替其而將後述的實施例及比較例中製作的光學濾波器組入至環境光感測器模組中，觀察晝間的外部光、傍晚的外部光、明亮的室內、及昏暗的室內的畫面的色調變化，並根據與外部光環境(明亮度、色調)相對應的色澤的控制情況來評價環境光感測器性能。將可對應於外部光環境而適當地進行色澤控制的情況設為「○」，將於一部分色澤控制存在問題的情況設為「△」，將色澤控制不良的情況設為「×」。

下述實施例中所使用的近紅外線吸收色素藉由一般為人所知的方法來合成。作為一般的合成方法，例如可列舉：日本專利第3366697號公報、日本專利第2846091號公報、日本專利第2864475號公報、日本專利第3703869號公報、日本專利特開昭60-228448號公報、日本專利特開平1-146846號公報、日本專利特開平1-228960號公報、日本專利第4081149號公報、日本專利特開昭63-124054號公報、「酞菁-化學與功能-」(IPC、1997年)、日本專利特開2007-169315號公報、日本專利特開2009-108267號公報、日本專利特開2010-241873號公報、日本專利第3699464號公報、日本專利第4740631號公報等中所記載的方法。

<樹脂合成例1>

於3L的四口燒瓶中添加35.12g(0.253mol)的2,6-二氟苯甲腈、87.60g(0.250mol)的9,9-雙(4-羥基苯基)茀、41.46g(0.300 mol)的碳酸鉀、443g的N,N-二甲基乙醯胺(以下亦稱為「DMAc」)以及111g的甲苯。繼而，於四口燒瓶中安裝溫度計、攪拌機、帶有氮氣導入管的三通旋塞、迪安-斯塔克(Dean-Stark)管及冷卻管。繼而，對燒瓶內進行氮氣置換後，使所獲得的溶液於140℃下反應3小時，並隨時將所生成的水自迪安-斯塔克管去除。於看不到水的生成的時間點，使溫度緩慢地上昇至160℃為止，並於該溫度下反應6小時。冷卻至室溫(25℃)為止後，利用濾紙去除所生成的鹽，將濾液投入至甲醇中進行再沈澱，並藉由濾取來分離濾物(殘渣)。將所獲得的濾物於60℃下真空乾燥一晚，獲得白色粉末(以下亦稱為「樹脂A」)(產率為95%)。所獲得的樹脂A的數量平均分子量(Mn)為75,000，重量平均分子量(Mw)為188,000，玻璃轉移溫度(Tg)為285℃。

<樹脂合成例2>

將下述式(8)所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四環[4.4.0.1^2,5.1^7,10]十二-3-烯(以下亦稱為「DNM」)100份、1-己烯(分子量調節劑)18份及甲苯(開環聚合反應用溶媒)300份裝入經氮氣置換的反應容器中，並將該溶液加熱至80℃。繼而，於反應容器內的溶液中添加作為聚合觸媒的三乙基鋁的甲苯溶液(0.6mol/liter)0.2份、以及甲醇改質的六氯化鎢的甲苯溶液(濃度為0.025mol/liter)0.9份，將該溶液於80℃下加熱攪拌3小時，藉此進行開環聚合反應而獲得開環聚合體溶液。該聚合反應中的聚合轉化率為97%。

將以所述方式獲得的開環聚合體溶液1,000份裝入高壓釜中，於該開環聚合體溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C₆H₅)₃]₃，於氫氣壓100kg/cm²、反應溫度165℃的條件下加熱攪拌3小時來進行氫化反應。將所獲得的反應溶液(氫化聚合體溶液)加以冷卻後，對氫氣進行放壓。將該反應溶液注入至大量的甲醇中後分離回收凝固物，並對其進行乾燥，獲得氫化聚合體(以下亦稱為「樹脂B」)。所獲得的樹脂B的數量平均分子量(Mn)為32,000，重量平均分子量(Mw)為137,000，玻璃轉移溫度(Tg)為165℃。

[實施例1]

於實施例1中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100重量份、作為化合物(A)的下述式(a-1)所表示的化合物(a-1)(於二氯甲烷中的最大吸收波長為713nm)0.04份、下述式(a-2)所表示的化合物(a-2)(於二氯甲烷中的最大吸收波長為736nm)0.08份、及下述式(a-3)所表示的化合物(a-3)(於二氯甲烷中的最大吸收波長為776nm)0.10份、作為化合物(B)的日本卡利特(Carlit)公司製造的光吸收劑「CIR-RL」(最大吸收波長：1095nm，以下亦稱為「化合物(b-1)」)1.50份、以及N,N-二甲基乙醯胺，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將下述組成的樹脂組成物(1)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(1)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(1)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

樹脂組成物(1)：三環癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羥基環己基苯基酮5重量份、近紅外線吸收微粒子分散液(住友金屬礦山(股)製造的YMF-02A，最大吸收波長：1715nm，第2微粒子的市售分散液)117重量份(以固體成分換算計為約33重量份)、甲基乙基酮(溶劑，固體成分濃度(total solid concentration，TSC)：30%)

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖6及表13中。

[實施例2]

於實施例2中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含透明玻璃基板的基材的光學濾波器。

<樹脂溶液(D-1)的製備>

向容器中加入樹脂合成例2中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)2.00份、化合物(a-2)4.00份、以及化合物(a-3)5.00份、作為化合物(B)的化合物(b-1)15.00份、以及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為10重量%的溶液。之後，利用孔徑5μm的微孔過濾器(millipore filter)進行過濾而獲得樹脂溶液(D-1)。

<基材的製作>

繼而，利用棒塗機將所述樹脂組成物(1)塗佈於切割為縱200mm、橫200mm的大小的松波硝子工業(股)製造的近紅外線吸收玻璃基板「BS-11」(厚度120μm)的單面上，於烘箱中以70℃加熱2分鐘而將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為4μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(1)硬化，而於玻璃基板上形成樹脂層。

其次，使用旋塗機，並於乾燥後的厚度成為2μm的條件下將樹脂溶液(D-1)塗佈於該樹脂層上，於加熱板上以80℃加熱5分鐘，將溶劑揮發去除而形成透明樹脂層，之後於烘箱中以 230℃煅燒20分鐘，從而獲得縱200mm、橫200mm的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖7及表13中。

[實施例3]

於實施例3中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例2中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-3)0.04份、作為化合物(B)的化合物(b-1)0.15份、及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將所述樹脂組成物(1)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為4μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(1)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(1)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖8及表13中。

[實施例4]

於實施例4中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含玻璃基板的基材的光學濾波器。

<樹脂溶液(D-2)的製備>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-3)10.00份、作為化合物(B)的化合物(b-1)22.50份、及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為10重量%的溶液。之後，利用孔徑5μm的微孔過濾器進行過濾而獲得樹脂溶液(D-2)。

<樹脂組成物(2)的製備>

將異三聚氰酸環氧乙烷改質三丙烯酸酯(商品名：亞羅尼斯(Aronix)M-315，東亞合成化學(股)製造)30重量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯20重量份、甲基丙烯酸20重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯30重量份、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份、1-羥基環己基二苯甲酮(商品名：豔佳固(IRGACURE)184，汽巴精化(股)製造)5重量份及桑艾德(San-Aid)SI-110主劑(三新化學工業(股)製造)1重量份混合，以固體成分濃度成為50wt%的方式溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯中後，利用孔徑0.2μm的微孔過濾器進行過濾，從而製備樹脂組成物(2)。

<基材的製作>

繼而，藉由旋塗將樹脂組成物(2)塗佈於切割為縱200mm、橫200mm的大小的松波硝子工業(股)製造的近紅外線吸收玻璃基板「BS-11」(厚度120μm)的單面上後，於加熱板上以80℃加熱2分鐘而將溶劑揮發去除，從而形成作為與後述的透明樹脂層的接著層發揮功能的樹脂層。此時，以該樹脂層的膜厚成為0.8μm左右的方式調整旋塗機的塗佈條件。其次，使用旋塗機，並於乾燥後的膜厚成為2μm的條件下將樹脂溶液(D-2)塗佈於樹脂層上，於加熱板上以80℃加熱5分鐘，將溶劑揮發去除而形成透明樹脂層。繼而，使用輸送機式曝光機自玻璃面側進行曝光(曝光量為1J/cm²、照度為200mW)，之後於烘箱中以230℃煅燒20分鐘，從而獲得縱200mm、橫200mm的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖9及表13中。

[實施例5]

於實施例5中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例2中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-3)0.10份、作為化合物(B)的化合物(b-1)1.50份、及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將下述組成的樹脂組成物(3)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(3)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(3)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

樹脂組成物(3)：三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羥基環己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮(溶劑，固體成分濃度(TSC)：30%)

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖10及表13中。

[實施例6]

於實施例6中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)0.02份及化合物(a-2)0.04份、及N,N-二甲基乙醯胺，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將所述樹脂組成物(1)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為6μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(1)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(1)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖11及表13中。

[實施例7]

於實施例7中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)0.03份及化合物(a-2)0.06份、作為化合物(B)的化合物(b-1)0.60份、及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將所述樹脂組成物(3)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200 mW)，使樹脂組成物(3)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(3)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖12及表13中。

[實施例8]

於實施例8中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂B100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)0.04份、化合物(a-2)0.08份、及化合物(a-3)0.10份、作為化合物(B)的化合物(b-1)1.50份、以及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將所述樹脂組成物(1)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(1)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(1)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

<光學濾波器的製作>

於所獲得的基材的單面上形成介電體多層膜(I)作為第一光學層，進而於基材的另一面上亦形成相同的介電體多層膜(I)，而獲得厚度為約0.104mm的光學濾波器。

介電體多層膜(I)是於蒸鍍溫度120℃下使二氧化矽(SiO₂)層與二氧化鈦(TiO₂)層交替地積層而成(合計4層)。於介電體多層膜(I)的二氧化矽層及二氧化鈦層均自基材側起以二氧化鈦層、二氧化矽層、二氧化鈦層、二氧化矽層的順序交替地積層，並將光學濾波器的最外層設為二氧化矽層。

於實施例8中，介電體多層膜(I)設為將膜厚33nm~88nm的二氧化矽層與膜厚13nm~111nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為4的多層蒸鍍膜。將膜構成的一例示於下述表10中。

*λ=550nm

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖13及表13中。

[實施例9]

於實施例9中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-3)0.10份、作為化合物(B)的化合物(b-1)1.00份與下述式(b-2)所表示的化合物(於二氯甲烷中的最大吸收波長為850nm)0.30份及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

利用棒塗機將所述樹脂組成物(3)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面，於烘箱中以70℃加熱2分鐘，將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm²、200mW)，使樹脂組成物(3)硬化，而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物(3)的樹脂層，而獲得於包含化合物(A)的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將評價結果示於表13中。

[實施例10]

於實施例10中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例2中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-3)0.10份、作為化合物(B)的化合物(b-1)1.00份與下述式(b-3)所表示的化合物(於二氯甲烷中的最大吸收波長為886nm)0.10份及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

[比較例1]

與實施例1相同的方法中，於所獲得的基材的單面上形成介電體多層膜(II)作為第一光學層，進而於基材的另一面上形成介電體多層膜(III)作為第二光學層，從而獲得厚度為約0.109mm的光學濾波器。

介電體多層膜(II)是於蒸鍍溫度120℃下使二氧化矽(SiO₂)層與二氧化鈦(TiO₂)層交替地積層而成(合計26層)。介電體多層膜(III)是於蒸鍍溫度120℃下使二氧化矽(SiO₂)層與二氧化鈦(TiO₂)層交替地積層而成(合計20層)。於介電體多層膜(II)及介電體多層膜(III)的任一者中，二氧化矽層及二氧化鈦層均自基材側起以二氧化鈦層、二氧化矽層、二氧化鈦層、...二氧化矽層、二氧化鈦層、二氧化矽層的順序交替地積層，並將光學濾波器的最外層設為二氧化矽層。

介電體多層膜(II)及介電體多層膜(III)的設計以如下方式進行。

關於各層的厚度與層數，以可達成可見區域的抗反射效果與近紅外區域的選擇性的透過/反射性能的方式，結合基材折射率的波長依存特性、或所應用的化合物(A)及化合物(B)的吸收特性，使用光學薄膜設計軟體(核心麥克勞德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin Film Center)公司製造)進行最佳化。於進行最佳化時，本實施例中，將針對軟體的輸入參數(目標(Target)值)設為如下述表11般。

膜構成最佳化的結果，於比較例1中，介電體多層膜(II)成為膜厚31nm~155nm的二氧化矽層與膜厚10nm~94nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為26的多層蒸鍍膜，介電體多層膜(III)成為膜厚38nm~189nm的二氧化矽層與膜厚11nm~109nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為20的多層蒸鍍膜。將進行了最佳化的膜構成的一例示於下述表12中。

[表12]表12

*λ=550nm

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖14及表13中。

比較例1中所獲得的光學濾波器的R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率成為0.6以下，並未顯示良好的RGB平衡。另外，比較例1中所獲得的光學濾波器的翹曲量成為17mm，並未顯示良好的翹曲特性。

[比較例2]

於比較例2中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)0.04份及化合物(a-2)0.08份、作為化合物(B)的化合物(b-1)0.15份、以及N,N-二甲基乙醯胺，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖15及表13中。

比較例2中所獲得的光學濾波器的800nm~1200nm下的光密度於0度、30度、60度的任一情況下均成為1.5以下，並未顯示良好的近紅外線截止特性，關於環境光感測器性能，與外部光環境相對應的色澤控制亦不良。

[比較例3]

於比較例3中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材的光學濾波器。

<透明樹脂製基板的製作>

向容器中加入樹脂合成例2中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)0.04份及化合物(a-2)0.08份、以及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以60℃乾燥8小時後，以60℃乾燥8小時，進而於減壓下以140℃乾燥8小時後自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚度0.100mm、縱200mm、橫200mm的透明樹脂製基板。

<基材的製作>

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖16及表13中。

比較例3中所獲得的光學濾波器的800nm~1200nm下的光密度於0度、30度、60度的任一情況下均成為1.5以下，並未顯示良好的近紅外線截止特性，關於環境光感測器性能，與外部光環境相對應的色澤控制亦不良。

[比較例4]

於比較例4中，藉由以下的順序及條件來製作具有包含玻璃基板的基材的光學濾波器。

<樹脂溶液(D-3)的製備>

向容器中加入樹脂合成例2中所獲得的樹脂B 100重量份、作為化合物(A)的化合物(a-1)0.8份及化合物(a-2)1.6份、以及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為10重量%的溶液。之後，利用孔徑5μm的微孔過濾器進行過濾而獲得樹脂溶液(D-3)。

<基材的製作>

繼而，藉由旋塗將所述樹脂組成物(2)塗佈於切割為縱200mm、橫200mm的大小的松波硝子工業(股)製造的近紅外線吸收玻璃基板「BS-11」(厚度120μm)的單面上後，於加熱板上以80℃加熱2分鐘而將溶劑揮發去除，從而形成作為與後述的透明樹脂層的接著層發揮功能的樹脂層。此時，以該樹脂層的膜厚成為0.8μm左右的方式調整旋塗機的塗佈條件。其次，使用旋塗機，並於乾燥後的膜厚成為5μm的條件下將樹脂溶液(D-3)塗佈於樹脂層上，於加熱板上以80℃加熱5分鐘，將溶劑揮發去除而形成透明樹脂層。繼而，使用輸送機式曝光機自玻璃面側進行曝光(曝光量為1J/cm²、照度為200mW)，之後於烘箱中以230℃煅燒20分鐘，從而獲得縱200mm、橫200mm的基材。

將所獲得的基材設為光學濾波器，測定自光學濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°及60°的角度的分光透過率、自相對於光學濾波器的垂直方向為5°的角度的分光反射率、以及另一面的自相對於垂直方向為5°的角度的分光反射率，並評價各波長區域中的光學特性及R透過率的比的變化率、G透過率的比的變化率、B透過率的比的變化率。另外，評價所獲得的光學濾波器的翹曲特性及環境光感測器性能(顏色校正性能)。將結果示於圖17及表13中。

比較例4中所獲得的光學濾波器的800nm~1200nm下的光密度於0度、30度、60度的任一情況下均成為1.5以下，並未顯示良好的近紅外線截止特性，關於環境光感測器性能，與外部光環境相對應的色澤控制亦不良。

[表13]表13

100:光學濾波器

200a:環境光感測器

202:光電轉換元件

204:框體

206:第1電極

208:光電轉換層

210:第2電極

216:鈍化膜

Claims

一種環境光感測器用光學濾波器，其特徵在於：具有滿足下述必要條件(a)的基材，且滿足下述必要條件(b)、必要條件(c)及必要條件(d)：(a)具有包含於波長650nm以上且未滿800nm的區域具有最大吸收的化合物(A)、以及於波長800nm以上且1850nm以下的區域具有最大吸收的化合物(B)的層；(b)波長800nm~1000nm的區域中，所述光學濾波器的其中一面的自相對於垂直方向傾斜5度的方向入射的光的反射率的平均值Rf_a-5、及另一面的自相對於垂直方向傾斜5度的方向入射的光的反射率的平均值Rf_b-5均為1%~15%；(c)波長430nm~580nm的區域中，自所述光學濾波器的垂直方向入射的光的透過率的平均值T_a-0、自相對於垂直方向傾斜30度的方向入射的光的透過率的平均值T_a-30、以及自相對於垂直方向傾斜60度的方向入射的光的透過率的平均值T_a-60均為20%以上且未滿75%；(d)波長800nm~1200nm的區域中，所述光學濾波器的相對於自垂直方向入射的光的光密度的平均值OD_a-0、相對於自相對於垂直方向傾斜30度的方向入射的光的光密度的平均值OD_a-30、以及相對於自相對於垂直方向傾斜60度的方向入射的光的光密度的平均值OD_a-60均為1.5以上。
如申請專利範圍第1項所述的環境光感測器用光學濾波器，其不具有介電體多層膜。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中包含所述化合物(A)的層為透明樹脂層。
如申請專利範圍第3項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中所述透明樹脂層進而包含所述化合物(B)。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中所述化合物(A)為選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中所述化合物(B)為選自由近紅外線吸收微粒子、方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、花青系化合物、二亞銨系化合物、金屬二硫醇鹽系化合物及吡咯并吡咯系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。
如申請專利範圍第6項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中所述近紅外線吸收微粒子為選自由包含下述式(P-1)所表示的化合物的第1微粒子、及包含下述式(P-2)所表示的化合物的第2微粒子所組成的群組中的至少一種，A_1/nCuPO₄...(P-1)[式(P-1)中，A為選自由鹼金屬、鹼土金屬及NH₄所組成的群組中的至少一種，於A為鹼金屬或NH₄的情況下，n為1，於A為鹼土金屬的情況下，n為2]M_xW_yO_z...(P-2)[式(P-2)中，M為選自H、鹼金屬、鹼土金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi及I中的至少一種元素，x、y及z滿足0.001≦x/y≦1及2.2≦z/y<3.0的條件]。
如申請專利範圍第3項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中構成所述透明樹脂層的樹脂為選自由環狀聚烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、芳族聚醯胺系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂、馬來醯亞胺系樹脂、脂環環氧熱硬化型樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚芳酯系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂、乙烯基系紫外線硬化型樹脂、及藉由溶膠凝膠法形成的將二氧化矽作為主成分的樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中所述基材包含含有銅成分的氟磷酸鹽系玻璃層或包含磷酸鹽系玻璃的基板。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的環境光感測器用光學濾波器，其中對於所述環境光感測器用光學濾波器而自垂直方向入射的情況、自相對於垂直方向為30°的方向入射的情況以及自相對於垂直方向為60°的方向入射的情況下，由下述式(1)導出的紅色(R)透過率的比的變化率、由下述式(2)導出的綠色(G)透過率的比的變化率、及由下述式(3)導出的藍色(B)透過率的比的變化率均為0.6~1.1的範圍，(R透過率的比)=(R透過率)×100/((R透過率)+(G透過率)+(B透過率))...式(1) (G透過率的比)=(G透過率)×100/((R透過率)+(G透過率)+(B透過率))...式(2) (B透過率的比)=(B透過率)×100/((R透過率)+(G透過率)+(B透過率))...式(3)[式(1)~式(3)中，R透過率為波長580nm~650nm中的平均透過率，G透過率為波長500nm~580nm中的平均透過率，B透過率為波長420nm~500nm中的平均透過率]。
一種環境光感測器，其特徵在於，包括如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的環境光感測器用光學濾波器。
一種電子機器，其特徵在於，具有如申請專利範圍第11項所述的環境光感測器。