TWI751966B - 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片 - Google Patents

著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片 Download PDF

Info

Publication number
TWI751966B
TWI751966B TW104136914A TW104136914A TWI751966B TW I751966 B TWI751966 B TW I751966B TW 104136914 A TW104136914 A TW 104136914A TW 104136914 A TW104136914 A TW 104136914A TW I751966 B TWI751966 B TW I751966B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
colored photosensitive
meth
acrylate
Prior art date
Application number
TW104136914A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201624130A (zh
Inventor
金蓮玉
崔慶植
朴錫鳳
Original Assignee
南韓商羅門哈斯電子材料韓國公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 南韓商羅門哈斯電子材料韓國公司 filed Critical 南韓商羅門哈斯電子材料韓國公司
Publication of TW201624130A publication Critical patent/TW201624130A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI751966B publication Critical patent/TWI751966B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/24—Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本發明提供一種著色感光性樹脂組成物，包括共聚物；可聚合化合物；光聚合引發劑；著色劑；以及包括烯系不飽和基團以及氯及矽組分兩者之界面活性劑。當所述著色感光性樹脂組成物形成固化膜時，此膜對聚醯亞胺類對準溶液親液且滿足諸如彈性恢復、分辨率、耐化學性以及光密度等特性，且因此可用於製造多種電子部件，諸如LCD及OLED顯示器之面板。

Description

著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片
本發明是有關於一種著色感光性樹脂組成物，適於形成鈍化層、層間介電、隔片、用於液晶顯示器(LCD)或有機發光二極管(OLED)顯示器的面板中的遮光部件以及由所述組成物製備之遮光隔片。
最近，採用由感光性樹脂組成物形成之隔片來維持LCD的液晶單元中之上部透明基板與下部透明基板之間的距離。LCD是一種藉由向注入至兩個透明基板之間的恆定間隙中的液晶材料施加電壓來驅動的電光裝置，其中非常關鍵的是維持兩個基板之間的間隙恆定。若透明基板之間的間隙不恆定，則向其施加之電壓以及穿透此區域之透光率可能變化，導致空間不均勻亮度之缺陷。根據近期對大尺寸LCD面板之需求，甚至更關鍵的是維持兩個透明基板之間的恆定間隙。
可以藉由將感光性樹脂組成物塗佈至基板上且使經塗佈之基板在上面有遮罩的情況下曝露於紫外光等，隨 後使其顯影，來形成隔片。最近，已經致力於對隔片使用遮光材料；因此，已有效地產生多種著色感光性樹脂組成物。另外，已嘗試藉由採用此類著色感光性樹脂組成物製備黑色柱隔片(即遮光隔片)來簡化製造方法，其中柱隔片及黑色基質整合至一個模組中。
日本特許公開專利公開案第2010-250256號披露一種著色抗蝕劑組成物，用於形成對耐鹼顯影劑展現改良之耐侵蝕性的高精確度圖案；且日本特許公開專利公開案第2010-186175號披露一種含有拒液劑之著色組成物，適於藉由噴墨印刷法製備彩色濾光片。然而，這些常規組成物皆致力於改良這些組成物顯影成膜時之拒液特性；因此，其可能是有關於諸如不均勻塗佈(在尚未施加塗佈溶液之區域中)聚醯亞胺以及在所述方法之隨後步驟中當聚醯亞胺類對準溶液施加至由所述組成物形成之膜上時，所述溶液的拒液特性引起的針孔的問題。
因此，本發明之一個目的為提供一種著色感光性樹脂組成物，所述組成物在形成遮光隔片時具有改良之可塗佈性以及對聚醯亞胺類對準溶液的親液性。
根據本發明之一個態樣，提供一種著色感光性樹脂組成物，包括(a)共聚物；(b)可聚合化合物；(c)光聚合引發劑；(d)著色劑；以及(e)包括烯系不飽和基團以及氟及矽組分兩者之界面活性劑。
根據本發明之另一個態樣，提供一種遮光隔片， 由著色感光性樹脂組成物形成。
根據本發明之另一態樣，提供一種包括遮光隔片之電子部件。
本發明之著色感光性樹脂組成物當顯影成固化膜時可形成對聚醯亞胺類對準溶液親液之膜；且呈現改良之分辨率界限及光照界限，使得固化膜不僅滿足柱隔片之特性，諸如彈性恢復、分辨率、耐化學性以及塗佈厚度，而且滿足黑色基質之特性，諸如透過率及光密度。因此，所述組成物適用於製備遮光隔片及類似物，其可用於製造多種電子部件，諸如OLED顯示器及LCD之面板。
A‧‧‧柱隔片部件的厚度
B‧‧‧黑色基質部件的厚度
C‧‧‧柱隔片部件的臨界尺寸
本發明之上述以及其他目標及特徵將自結合附圖給出之以下實施方式變得顯而易知，附圖顯示：
圖1：遮光隔片(即黑色柱隔片)之例示性橫截面的示意圖(A：柱隔片部件的厚度，B：黑色基質部件的厚度，C：柱隔片部件的臨界尺寸(CD))。
在下文中，將對本發明進行更詳細描述。
著色感光性樹脂組成物
根據本發明之實施例，著色感光性樹脂組成物包括(a)共聚物；(b)可聚合化合物；(c)光聚合引發劑；(d)著色劑；以及(e)界面活性劑，以及視情況存在之(f)環氧樹脂化合物或由其衍生之化合物，(g)溶劑，及/或(h)矽烷偶合劑。
在本說明書中，「(甲基)丙烯醯基」意謂「丙烯醯基」及/或「甲基丙烯醯基」，且「(甲基)丙烯酸酯基」意謂「丙烯酸酯基」及/或「甲基丙烯酸酯基」。
下文中，將具體解釋著色感光性樹脂組成物之各組分。
(a)共聚物
本發明中所用之共聚物可包括(a-1)衍生自烯系不飽和羧酸、烯系不飽和羧酸酐或其混合物之單元，以及(a-2)衍生自含有芳族環之烯系不飽和化合物的單元。共聚物可更包括(a-3)與(a-1)及(a-2)不同的衍生自烯系不飽和化合物之單元。
共聚物為在顯影步驟中提供顯影功能之鹼可溶性樹脂，同時用作形成塗層之鹼以及用作形成最終圖案之結構。
(a-1)源自烯系不飽和羧酸、烯系不飽和羧酸酐或其混合物之單元
在本發明中，單元(a-1)衍生自烯系不飽和羧酸、烯系不飽和羧酸酐或其混合物。烯系不飽和羧酸及烯系不飽和羧酸酐為分子中具有至少一個羧酸基團之可聚合不飽和單體。其實例包含不飽和一元羧酸，諸如(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸及類似物；不飽和二羧酸及其氫化物，諸如順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、衣康酸(itaconic acid)、衣康酸酐、檸康酸(citraconic acid)、檸康酸酐、中康酸(mesaconic acid)及類似物；三價或更高價之 不飽和聚羧酸及其酸酐；二價或更高價之聚羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯，諸如單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]丁二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]鄰苯二甲酸酯及類似物。衍生自上述例示性化合物之單元可以單一化合物形式或其兩者或更多者之組合的形式含於共聚物中。
按構成共聚物之單元的總莫耳數計，單元(a-1)之量可為5莫耳%至65莫耳%，較佳10莫耳%至50莫耳%。在此量範圍內，樹脂組成物可能容易維持其顯影特性。
(a-2)衍生自含有芳族環之烯系不飽和化合物之單元
單元(a-2)衍生自含有芳族環之烯系不飽和化合物。其實例可包含(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯；苯乙烯；具有烷基取代基的苯乙烯，諸如甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯及類似物；具有鹵素的苯乙烯，諸如氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、碘苯乙烯及類似物；具有烷氧基取代基的苯乙烯，諸如甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、丙氧基苯乙烯及類似物；4-羥基苯乙烯、對羥基-α-甲基苯乙烯、乙醯基苯乙烯；乙烯基甲苯、二乙烯基苯、乙烯基苯酚、鄰乙烯基苯甲基甲基醚、間乙烯基苯甲基甲基醚、對乙烯基苯甲基甲基醚、鄰乙烯基苯甲基縮水甘油醚、間乙烯基苯甲基縮水甘油 醚、對乙烯基苯甲基縮水甘油醚及類似物。
衍生自上述例示性化合物之單元可作為單一化合物或其兩者或更多者之組合形式含於其中。
在所述化合物中，苯乙烯類化合物鑒於其聚合性而較佳。
按構成共聚物之單元的總莫耳數計，單元(a-2)之量可為2莫耳%至70莫耳%，較佳3莫耳%至60莫耳%。在所述量範圍內，樹脂組成物可具有有利的耐化學性。
(a-3)與(a-1)及(a-2)不同的衍生自烯系不飽和化合物之單元
除(a-1)及(a-2)之外，本發明所用之共聚物可更包括與(a-1)及(a-2)不同的衍生自烯系不飽和化合物之單元。
與(a-1)及(a-2)不同的烯系不飽和化合物之實例可包含不飽和羧酸酯，諸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、丙三醇(甲基)丙烯酸酯、α-羥基甲基丙烯酸甲酯、α-羥基甲基丙烯酸乙酯、α-羥基甲基丙烯酸丙酯、α-羥基甲基丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸 酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲基醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸異冰片基酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸環戊烯氧基乙酯及類似物；具有N-乙烯基的三級胺，諸如N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基嗎啉及類似物；不飽和醚，諸如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚及類似物；具有環氧基的烯系不飽和化合物，諸如(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4,5-環氧基戊酯、(甲基)丙烯酸5,6-環氧基己酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧基庚酯、(甲基)丙烯酸2,3-環氧環戊酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己酯、丙烯酸α乙基縮水甘油基酯、丙烯酸α-正丙基縮水甘油基酯、丙烯酸α-正丁基縮水甘油基酯、N-(4-(2,3-環氧基丙氧基)-3,5-二甲基苯甲基)丙烯醯胺、N-(4-(2,3-環氧基丙氧基)-3,5-二甲基苯基丙基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯縮水甘油醚、烯丙基縮水甘油醚、2-甲基烯丙基縮水甘油醚及類似物；不飽和醯亞胺，諸如N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-(4-氯苯基)順丁烯二醯亞胺、N-(4-羥基苯基)順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺以及類似物。
衍生自上述例示性化合物之單元可以單一化合物形式或其兩者或更多者之組合的形式含於共聚物中。
較佳地，衍生自具有環氧基及/或不飽和醯亞胺的烯系不飽和化合物之單元，更佳衍生自(甲基)丙烯酸縮水甘 油基酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯縮水甘油醚及/或N-經取代的順丁烯二醯亞胺的單元鑒於其可共聚合性而可使用，並且用於改良介電層之強度。
按構成共聚物之單元的總莫耳數計，單元(a-3)的量可為10莫耳%至80莫耳%，較佳20莫耳%至75莫耳%。在所述量範圍內，樹脂組成物可具有長存放期並且形成膜時具有改良之膜保留率。
較佳地，具有上述單元(a-1)至(a-3)之共聚物可包含(甲基)丙烯酸/苯乙烯共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸苯甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯/N-苯基順丁烯二醯亞胺共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯/N-環己基順丁烯二醯亞胺共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸正丁酯/(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯/N-苯基順丁烯二醯亞胺共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯/N-苯基順丁烯二醯亞胺共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯縮水甘油醚/N-苯基順丁烯二醯亞胺共聚物以及類似物。
著色感光性樹脂組成物中可含有一種或多種共聚物。
藉由凝膠滲透層析法(溶離劑：四氫呋喃等)量測之共聚物的聚苯乙烯參考的重量平均分子量(Mw)可為 3,000至50,000，較佳5,000至40,000。在此範圍內，樹脂組成物可具有良好的與基板的黏附性、物理/化學特性以及黏度。
按除溶劑之外的著色感光性樹脂組成物之總量(即按固體含量)計，著色感光性樹脂組成物中的共聚物的量可為0.5重量%至60重量%，較佳5重量%至50重量%。在上述範圍內，樹脂組成物在顯影時產生良好圖案形狀，以及改良之特性，諸如耐化學性。
可以藉由將分子量控制劑、自由基聚合引發劑、溶劑以及單元(a-1)至(a-3)置於反應器中，向其中注入氮氣且緩慢攪拌混合物進行聚合，來製備本發明之共聚物。
分子量控制劑不受特定限制且可包含硫醇，諸如丁基硫醇、辛基硫醇及類似物；或α-甲基苯乙烯二聚體。
自由基聚合引發劑不受特定限制且可包含偶氮基化合物，諸如2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)及類似物；過氧化苯甲醯；十二烷基過氧化物；過氧丙酮酸第三丁基、1,1-雙(第三丁基過氧基)環己烷以及類似物。自由基聚合引發劑可單獨使用或以其兩者或更多者之組合形式使用。
另外，可使用用於製備共聚物之任何溶劑，可包含例如丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)。
(b)可聚合化合物
本發明所用之可聚合化合物可為可通過聚合引發劑聚合的任何化合物，並且可為通常用於製備著色感光性樹脂組成物之多官能單體、寡聚物或聚合物。
具體而言，可聚合化合物可包含丙烯酸或甲基丙烯酸之單官能或多官能酯化合物，具有至少一個烯系不飽和雙鍵，並且可為具有至少兩個針對所要耐化學性之官能基的多官能化合物。
可聚合化合物可選自(但不限於)由以下組成的群組：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與丁二酸的單酯、異戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與丁二酸的單酯、己內酯改性的二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯(異戊四醇三丙烯酸酯與六亞甲基二異氰酸酯的反應物)、三異戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三異戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧基丙烯酸酯、乙二醇單甲醚丙烯酸酯以及其混合物。
按除溶劑之外的著色感光性樹脂組成物之總量(即按固體含量)計，可聚合化合物的量可為1重量%至60重量%，較佳5重量%至45重量%。在所述範圍內，樹脂組成物在顯影期間容易形成圖案形狀無缺陷(諸如底部的浮渣)之圖案。
(c)光聚合引發劑
任何已知聚合引發劑可用作本發明中之光聚合引發劑。
光聚合引發劑可選自由以下組成的群組：苯乙酮、非咪唑、三嗪、鎓鹽、安息香、二苯甲酮、二酮、α-二酮、多核醌、噻噸酮、重氮化合物、醯亞胺磺酸酯、肟、咔唑、硼酸鋶以及其混合物。
在上述化合物中，較佳地，韓國特許公開專利公開案第2004-7700號、第2005-84149號、第2008-83650號、第2008-80208號、第2007-44062號、第2007-91110號、第2007-44753號、第2009-9991號、第2009-93933號、第2010-97658號、第2011-59525號、第2011-91742號、第2011-26467號以及第2011-15683號以及PCT公開案第WO 2010/102502號及第WO 2010/133077號中所披露的一種或多種肟可因高靈敏度而使用。另外，其可商購材料(諸如OXE-01(巴斯夫(BASF))、OXE-02(巴斯夫)、N-1919(艾迪科公司(ADEKA Co.))、NCI-930(艾迪科(ADEKA))、NCI-831(艾迪科)及類似物)對高靈敏度及分辨率而言較佳。
按除溶劑之外的著色感光性樹脂組成物之總量(即按固體含量)計，聚合引發劑之量可為0.1重量%至10重量%，較佳0.2重量%至5重量%。在所述範圍內，樹脂組成物在曝露於光時可充分固化，由此容易形成圖案。因此形成之圖案在顯影期間可以保持與基板充分黏著。
(d)著色劑
本發明之著色感光性樹脂組成物中含有著色劑 來賦予遮光特性。
本發明中所用之著色劑可為兩種或更多種無機或有機著色劑(較佳具有高顯色特性及耐熱性之著色劑)的混合物。具體而言，兩種或更多種有機著色劑之混合物的用途適宜為防止通過黑色基質漏光以及保持遮罩對準之透過率。
另外，著色劑包括黑色著色劑及藍色著色劑。黑色著色劑可為黑色無機著色劑及/或黑色有機著色劑。
根據一個實施例，著色感光性樹脂組成物包括黑色有機著色劑作為著色劑；並且視情況而言，更包括黑色無機著色劑及藍色著色劑。
此項技術中已知的任何黑色無機著色劑、黑色有機著色劑以及藍色著色劑均可使用，例如《顏色指數》(英國染色工作者學會(Society of Dyers and Colourists)印刷)中分類為顏料的化合物以及此項技術中已知的任何染料。
黑色無機著色劑之具體實例可包含碳黑、鈦黑、金屬氧化物，諸如Cu-Fe-Mn類氧化物以及合成鐵黑及類似物。其中針對所要圖案特性及耐化學性，較佳為碳黑。
另外，黑色有機著色劑之具體實例可包含苯胺黑、內醯胺黑、苝黑及類似物。其中針對所要光密度、介電常數、透過率及類似物，較佳為內醯胺黑(例如巴斯夫的Black 582)。
藍色著色劑之具體實例可包含C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍16以及類似物。 其中針對預防漏光，較佳為C.I.顏料藍15：6。
按除溶劑之外的著色感光性樹脂組成物的總量(即按固體含量)計，黑色無機著色劑、黑色有機著色劑以及藍色著色劑之量可分別為0至20重量%，10重量%至40重量%以及0至15重量%；較佳分別大於0至20重量%或更低，10重量%至40重量%以及大於0至15重量%或更低；更佳分別大於0至10重量%或更低，10重量%至40重量%以及1重量%至15重量%。在所述範圍內，樹脂組成物可具有防止漏光之高光密度以及遮罩對準所必需之透過率。
同時，用於分散著色劑之分散劑可用於製備本發明之著色感光性樹脂組成物。分散劑之實例可包含針對著色劑的任何已知分散劑。具體實例可包含陽離子界面活性劑、陰離子界面活性劑、非離子界面活性劑、兩性離子界面活性劑、矽類界面活性劑、氟類界面活性劑及類似物。可商購分散劑可包含來自畢克公司(BYK Co)之迪斯畢克(Disperbyk)-182、迪斯畢克-183、迪斯畢克-184、迪斯畢克-185、迪斯畢克-2000、迪斯畢克-2150、迪斯畢克-2155、迪斯畢克-2163或迪斯畢克-2164。這些化合物可以單獨或與其兩者或更多者組合使用。可以藉由用分散劑對著色劑進行表面處理向著色劑添加分散劑，或者在製備著色感光性樹脂組成物期間與著色劑一起添加。
或者，著色劑可與黏合劑混合並且用於製備著色感光性樹脂組成物。在此情形下，黏合劑可為本發明中描述之共聚物(a)、已知共聚物或其混合物。
因此，本發明所用之著色劑可以著色分散液(即著色漆漿)的形式添加至著色感光性樹脂組成物中，所述著色分散液藉由混合著色劑與分散劑、黏合劑、溶劑及類似物獲得。
(e)界面活性劑
本發明之著色感光性樹脂組成物可更包括界面活性劑來改良可塗佈性並且防止產生缺陷。
界面活性劑包括烯系不飽和基團以及氟及矽組分兩者。
可商購界面活性劑之具體實例可包含來自大日本油墨化學工業株式會社(Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.)的麥格菲斯RS-55(Megaface RS-55)及類似物。
按著色感光性樹脂組成物之總重量計，界面活性劑之量可為0.0001重量%至0.01重量%，較佳0.001重量%至0.01重量%。在此情形下，著色感光性樹脂組成物之重量為界面活性劑的量的重量參考，其可為包含溶劑之組成物的總重量。在此範圍內，著色感光性樹脂組成物對聚醯亞胺類對準溶液可展現適合可塗佈性及親液性。
(f)環氧樹脂化合物或由此衍生之化合物
本發明之著色感光性樹脂組成物可更包括環氧樹脂化合物或由其衍生之化合物。
藉由凝膠滲透層析法量測，環氧樹脂化合物可具有400至10,000的聚苯乙烯參考重量平均分子量(Mw)。
舉例而言，環氧樹脂化合物可具有二苯并哌喃主 鏈結構，較佳如下式1表示之二苯并哌喃(9H-二苯并哌喃)主鏈結構：
Figure 104136914-A0101-12-0015-1
其中藉由*標記之各碳原子獨立地置換成
Figure 104136914-A0101-12-0015-2
、
Figure 104136914-A0101-12-0015-3
、
Figure 104136914-A0101-12-0015-4
或
Figure 104136914-A0101-12-0015-5
中所含的藉由*標記之碳原子；L1各自獨立地為C1-10伸烷基、C3-20伸環烷基或C1-10伸烷氧基；R1至R7各自獨立地為H、C1-10烷基、C1-10烷氧基、C2-10烯基或C6-14芳基；R8為H、甲基、乙基、CH3CHCl-、CH3CHOH-、CH2=CHCH2-或苯基；以及n為整數0至10。
C1-10伸烷基之具體實例可包含亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、伸丁基、伸異丁基、伸第二丁基、伸第三丁基、伸戊基、伸異戊基、伸第三戊基、伸己基、伸庚基、伸辛基、伸異辛基、伸第三辛基、2-乙基伸己基、伸壬基、伸異壬基、伸癸基、伸異癸基以及類似物。C3-20伸環烷基之具體實例可包含伸環丙基、伸環丁基、伸環戊基、伸環己基、 伸環庚基、伸十氫萘基、伸金剛烷基及類似物。C1-10伸烷基氧基之具體實例可包含亞甲基氧基、伸乙基氧基、伸丙基氧基、伸丁基氧基、伸第二丁基氧基、伸第三丁基氧基、伸戊基氧基、伸己基氧基、伸庚基氧基、伸辛基氧基、2-乙基-伸己基氧基及類似物。C1-10烷基之具體實例可包含甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、庚基、辛基、異辛基、第三辛基、2-乙基己基、壬基、異壬基、癸基、異癸基以及類似物。C1-10烷氧基之具體實例可包含甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、第二丁基、第三丁基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2-乙基-己氧基以及類似物。C2-10烯基之具體實例可包含乙烯基、烯丙基、丁烯基、丙烯基及類似物。C6-14芳基之具體實例可包含苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基及類似物。
衍生自具有式1之二苯并哌喃主鏈結構之環氧樹脂的化合物可以藉由使具有式1之二苯并哌喃主鏈結構的環氧樹脂與不飽和鹼性酸反應產生環氧樹脂加成物，接著使因此獲得之環氧樹脂加成物與多元酸酐反應獲得，或藉由使因此獲得之化合物與單官能或多官能環氧化合物進一步反應獲得。可使用此項技術中已知之任何不飽和鹼性酸，例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、肉桂酸、山梨酸以及類似物。本發明可使用此項技術中已知的任何多元酸酐，例如丁二酸酐、順丁烯二酸酐、偏苯三酸酐、苯均四酸酐、1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐、六氫鄰苯二甲酸酐以及類似物。本發明可使用此項技術中已知的任何單官能或多官能環氧化合物，例如 甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基縮水甘油醚、乙基縮水甘油醚、丙基縮水甘油醚、異丙基縮水甘油醚、丁基縮水甘油醚、異丁基縮水甘油醚、雙酚Z縮水甘油醚以及類似物。
當使用衍生自具有式1之二苯并哌喃主鏈結構之環氧樹脂的化合物時，二苯并哌喃主鏈結構可提高固化物質與基板的黏附性、耐鹼性、可加工性、強度以及類似物。另外，在顯影移除未固化部分後，圖案中可形成具有精細分辨率之圖像。
按除溶劑之外的著色感光性樹脂組成物的總量(即按固體含量)計，環氧樹脂化合物或自其衍生的化合物之量可為1重量%至70重量%，較佳5重量%至50重量%。在所述範圍內，樹脂組成物可具有改良之分辨率及耐化學性。另外，圖案之形狀良好保持，並且在具有所要界限寬度(即容許寬度)的圖案之間可有利地獲得恆定高度差。
(g)溶劑
本發明之著色感光性樹脂組成物較佳可藉由混合上述組分與溶劑製備成液體組成物。此項技術中已知的任何溶劑可用於製備著色感光性樹脂組成物，所述溶劑與著色感光性樹脂組成物中之組分相容但不與其反應。
溶劑之實例可包含二醇醚，諸如乙二醇單乙醚及類似物；乙二醇烷基醚乙酸酯，諸如乙二醇乙醚乙酸酯及類似物；酯，諸如2-羥基丙酸乙酯及類似物；二乙二醇，諸如二乙二醇單甲基醚及類似物；以及丙二醇烷基醚乙酸酯，諸如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯及類似物； 乙酸烷氧基烷基酯，諸如乙酸3-甲氧基丁酯以及類似物。溶劑可單獨使用或以其兩者或更多者之組合形式使用。
針對最終獲得之著色感光性樹脂組成物的可塗佈性及穩定性，溶劑之量不受特定限制，但可以判斷使得組成物中除溶劑之外的各組分的總濃度(即按固體含量計)通常可為5重量%至70重量%，較佳10重量%至55重量%。
(h)矽烷偶合劑
本發明之著色感光性樹脂組成物在需要時可更包括具有選自由以下組成的群組的反應性取代基的矽烷偶合劑來改良與基板的黏附性：羧基、(甲基)丙烯醯基、異氰酸酯基、胺基、巰基、乙烯基、環氧基以及其組合。
矽烷偶合劑之種類不受特定限制，但較佳可選自由以下組成的群組：三甲氧基矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、β-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、苯基胺基三甲氧基矽烷以及其混合物。其中較佳為具有異氰酸酯基之γ-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷(例如來自信越有限公司(Shin-Etsu Co.)的KBE-9007)或苯基胺基三甲氧基矽烷，其具有良好耐化學性及良好的與基板之黏附性。
按除溶劑之外的著色感光性樹脂組成物之總量(即按固體含量)計，矽烷偶合劑之量可為0.01重量%至10重量%，較佳0.05重量%至5重量%。在所述範圍內，著色感 光性樹脂組成物可具有改良之黏附性。
另外，僅當不會不利影響著色感光性樹脂組成物之物理特性時才可包含諸如抗氧化劑、穩定劑以及類似物的其他添加劑。
本發明之著色感光性樹脂組成物可形成對聚醯亞胺類對準溶液親液之固化膜。具體而言，由著色感光性樹脂組成物形成之固化膜在固化膜與聚醯亞胺類對準溶液之間可具有小於10°，較佳小於8°的接觸角。因此，本發明之著色感光性樹脂組成物可不具有以下問題，諸如聚醯亞胺不均勻塗佈(在尚未施加塗佈溶液的區域中)以及當在隨後方法步驟中施加聚醯亞胺類對準溶液時的針孔。
另外，由本發明之著色感光性樹脂組成物形成的遮光隔片可展現改良之分辨率界限及光照界限，使得遮光隔片不僅滿足柱隔片的特性(諸如彈性恢復、分辨率、耐化學性以及塗佈厚度)，而且滿足黑色基質的特性(諸如透過率及光密度)。
用於製備著色感光性樹脂組成物之方法
包括上述本發明組分之著色感光性樹脂組成物可以藉由常規方法製備，下文描述其中一個實例。
首先，著色劑與溶劑混合且接著分散於珠磨機等中，直至著色劑具有所要平均直徑。在此階段，需要時可添加界面活性劑，並且可混合共聚物的一部分或全部。向分散液中添加剩餘部分之共聚物、環氧樹脂化合物或由此衍生的化合物、可聚合化合物以及光聚合引發劑。需要時，可添加 諸如矽烷偶合劑的添加劑或額外溶劑來調整混合物的濃度。隨後，充分攪拌混合物以獲得所要著色感光性樹脂組成物。
遮光隔片
本發明提供由著色感光性樹脂組成物形成之遮光隔片。
具體而言，本發明提供由著色感光性樹脂組成物形成的整合有柱隔片及黑色基質之整合型黑色柱隔片(BCS)。圖1中說明例示性BCS圖案。
可藉由塗佈層、曝露於光、顯影及熱處理的步驟形成柱隔片、黑色基質或BCS。
在層塗佈步驟中，藉由旋塗法或狹縫塗佈法、滾塗法、絲網印刷法、施料器方法及類似方法將本發明之著色感光性樹脂組成物以例如2微米至25微米的所要厚度塗佈至預處理的基板上，基板接著在70℃至100℃下預固化1分鐘至10分鐘來移除溶劑並且形成塗層。
為了在因此獲得之塗層中形成圖案，在上面安置特定形狀的遮罩之後輻射200奈米至500奈米的光化射線。在此階段，為了獲得整合型BCS，可使用圖案具有不同透光率之遮罩來同時形成柱隔片及黑色基質。可使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣激光等作為用於曝光之光源；並且需要時亦可以使用X射線、電子射線等。劑量可視組成物之組分的種類及組成比率以及乾燥層的厚度而變化。當使用高壓汞燈時，劑量可為500毫焦/平方公分或更低(在365奈米波長下)。
在曝光步驟之後，使用鹼性水溶液(諸如碳酸鈉、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化四甲基銨等)進行顯影步驟來藉由溶解不必要部分將其移除，由此使剩餘曝光部分形成圖案。使藉由顯影獲得之圖像圖案冷卻至室溫且在熱空氣循環型乾燥鍋爐中，在180℃至250℃下後烘烤10分鐘至60分鐘，由此獲得最終圖案。
因此產生之遮光隔片由於其良好物理特性而可用於製造諸如LCD、OLED顯示器等電子部件。因此，本發明提供一種包括遮光隔片之電子部件。
LCD、OLED顯示器等可包含除本發明的隔片之外的此項技術的技術人員已知的元件。亦即，本發明中可包含可採用本發明的遮光隔片的LCD、OLED顯示器等。
下文中，藉由以下實例更具體描述本發明，但這些僅為了說明的目的提供，且本發明不限於此。
製備實例1：共聚物
將100公克如下表1中所示之單體混合物、300公克作為溶劑之PGMEA以及2公克作為自由基聚合引發劑之2,2'-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)置於500毫升圓底燒瓶中，所述燒瓶裝備有回流冷凝器及攪拌器。溫度升高至70℃，且攪拌混合物5小時供聚合，產生固體含量為31重量%之共聚物。因此產生之共聚物具有每公克100毫克KOH之酸值，以及藉由凝膠滲透層析法量測之20,000的聚苯乙烯參考重量平均分子量(Mw)。
Figure 104136914-A0101-12-0022-6
製備實例2：衍生自具有二苯并哌喃主鏈結構之環氧樹脂的化合物
將160公克作為溶劑之PGMEA置於裝備有攪拌器、溫度計、氮氣置換裝置及回流冷凝器的燒瓶中。隨後，向燒瓶中添加100公克(3,3'-(螺[茀-9,9'-二苯并哌喃]-3',6'-二基雙(伸氧基))雙((2-羥基丙-3,1-二基)二丙烯酸酯)及0.1公克六氯氫鉑，接著將混合物加熱至80℃。分別將47.6公克1,2,4,5-環己烷四甲酸二酐溶解於80公克PGMEA中，接著將其緩慢逐滴添加至上述混合物中。接著將混合物加熱至100℃，反應2小時。將混合物冷卻至室溫(25℃)且與0.3公克對甲苯磺酸吡啶鎓一起添加。因此，獲得固體含量為50重量%，酸值為每公克107毫克KOH且Mw為6,000的共聚物化合物。
製備實例3：著色分散液
將8公克上述製備實例1中獲得之共聚物、8公克聚合物分散劑(迪斯畢克-2000，畢克)、12公克碳黑、53公克作為有機黑之內醯胺黑(Black 582，巴斯夫)、16公克C.I.顏料藍15：6以及384公克作為溶劑之PGMEA置於佩因特 震盪器(painter shaker)中，且在25℃至60℃下分散混合物6小時。此分散步驟用0.3毫米氧化鋯珠粒進行。當分散步驟完成時，分離珠粒及分散液，由此製造著色分散液。
實例1至實例4及比較例1至比較例8：製備著色感光性樹脂組成物
通過常規方法，以下表3中所述之量，在44.0公克作為溶劑之PGMEA中混合製備實例1中獲得之共聚物、製備實例2中獲得的衍生自具有二苯并哌喃主鏈結構的環氧樹脂的化合物、作為可聚合化合物的二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(DPHA，日本化藥(Nippon Kayaku))、光聚合引發劑c-1(肟光引發劑，NCI831，艾迪科)以及c-2(三嗪引發劑，T-Y，醫藥合成公司(PHARMASYNTHESE))、下表2中所列的界面活性劑e-1至e-6中的任一個以及製備實例3中獲得的著色分散液。接著攪拌混合物5小時來製備各著色感光性樹脂組成物。
Figure 104136914-A0101-12-0023-7
Figure 104136914-A0101-12-0024-9
Figure 104136914-A0101-12-0025-10
實驗實例1：評估可塗佈性
藉由將3毫克樣品施加至玻璃基板(10公分×10公分)上，對各樣品進行旋塗來評估實例及比較例中獲得的著色感光性樹脂組成物之可塗佈性。
不含諸如貝納旋流窩(Benard cell)及干涉條紋的缺陷且均勻塗佈之塗層認為是令人滿意的。
實驗實例2：量測黑色柱隔片的厚度
藉由使用旋塗器將實例及比較例中製備之各著色感光性樹脂組成物塗佈至玻璃基板上且在80℃下預固化150秒形成塗層。將具有100%全色柱隔片(CS)圖案及20%半色黑色基質圖案的圖案遮罩置於因此獲得之塗層上，接著使其曝露於波長為365奈米且強度為40毫焦/平方公分之光。隨後，在23℃下藉由使用1重量%氫氧化鉀水溶液檢驗斷點(BP)時間，且此後使塗層顯影15秒。用純水洗滌1分鐘之後，因此形成之圖案在烘箱中在230℃下後烘烤30分鐘獲得 固化膜。
因此，製得黑色基質及柱隔片整合成一個模組之黑色柱隔片圖案(參看圖1)。藉由使用高度量測設備(SIS-2000，SNU精確度)來量測柱隔片部件(A)的厚度及黑色基質部件(B)的厚度。當黑色基質部件(B)的厚度在2.0±0.5微米範圍內時，遮光特性將是合需要的。
實驗實例3：評估聚醯亞胺的接觸角(PI可塗佈性)
藉由重複實驗實例2之程序，但使用尺寸為3公分×3公分之20%半色遮罩在後焙烤方法之後獲得最終厚度2.0(±0.2)微米的固化膜，從而獲得固化膜。
隨後，將6毫克純聚醯亞胺(PI)逐滴添加至曝光區域中的剩餘圖案部件上，且藉由使用接觸型接觸角量測裝置(MD300，協和公司(KYOWA))來量測此部件之接觸角。作為藉由接觸點處由液體表面的切線與固體表面的平面形成的角度來量測接觸角；在此情形下，包含液體的角度稱為PI接觸角。PI接觸角越小，PI可塗佈性越好。
上述實驗實例的結果顯示於下表4中。
Figure 104136914-A0101-12-0027-11
如表4中示出，實例1至實例4之著色感光性樹脂組成物及由此製備之固化膜(例如柱隔片及黑色基質)展現同等良好的可塗佈性、厚度以及PI接觸角。因此，本發明的著色感光性樹脂組成物可用於製造諸如OLED顯示器、LCD等電子部件。
相比之下，比較例1至比較例8之著色感光性樹 脂組成物及由此製備的固化膜顯示上述特性中至少一種特性不符合要求。具體而言，比較例1至比較例8的PI接觸角極高，此指示這些樣品的PI可塗佈性差。
A‧‧‧柱隔片部件的厚度
B‧‧‧黑色基質部件的厚度
C‧‧‧柱隔片部件的臨界尺寸

Claims (6)

  1. 一種著色感光性樹脂組成物，包括：(a)共聚物；(b)可聚合化合物；(c)光聚合引發劑；(d)著色劑；以及(e)包括烯系不飽和基團以及氟及矽組分兩者之界面活性劑，其中由所述著色感光性樹脂組成物形成之固化膜與聚醯亞胺類對準溶液的接觸角小於10°。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的著色感光性樹脂組成物，其中所述界面活性劑之量按所述著色感光性樹脂組成物的總重量計為0.0001重量%至0.01重量%。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性樹脂組成物，更包括(f)環氧樹脂化合物或由其衍生之化合物。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的著色感光性樹脂組成物，其中所述環氧樹脂化合物具有二苯并哌喃主鏈結構。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性樹脂組成物，包括按所述著色感光性樹脂組成物之固體含量計10重量%至40重量%之量的黑色有機著色劑作為所述著色劑。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的著色感光性樹脂組成物，更包括按所述著色感光性樹脂組成物之所述固體含量計，大 於0至20重量%或更低之量的黑色無機著色劑，以及大於0至15重量%或更低之量的藍色著色劑。
TW104136914A 2014-11-14 2015-11-09 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片 TWI751966B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140159055A KR101784049B1 (ko) 2014-11-14 2014-11-14 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서
KR10-2014-0159055 2014-11-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201624130A TW201624130A (zh) 2016-07-01
TWI751966B true TWI751966B (zh) 2022-01-11

Family

ID=55987451

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104136914A TWI751966B (zh) 2014-11-14 2015-11-09 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101784049B1 (zh)
CN (1) CN105607421A (zh)
TW (1) TWI751966B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101832097B1 (ko) * 2016-10-31 2018-02-23 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서
CN110178083B (zh) * 2017-02-15 2023-03-24 三菱化学株式会社 感光性着色组合物、固化物、着色间隔物、图像显示装置
KR102361573B1 (ko) 2018-03-09 2022-02-10 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201435012A (zh) * 2012-12-18 2014-09-16 Yokohama Rubber Co Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物及積層體
TW201439293A (zh) * 2013-01-25 2014-10-16 羅門哈斯電子材料韓國公司 適用於柱狀間隔子及黑色矩陣兩者之有色光敏樹脂組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1094604C (zh) * 1993-12-27 2002-11-20 克拉瑞特金融(Bvi)有限公司 着色感光性树脂组合物
KR100439650B1 (ko) * 2002-08-14 2004-07-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 콜레스테릭 액정 컬러필터를 이용한 반사형 액정표시장치
JP2004317656A (ja) 2003-04-14 2004-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
JP4245179B2 (ja) * 2006-09-29 2009-03-25 株式会社日立製作所 パターン形成用基材及びネガ型レジスト組成物、並びにパターン形成方法
JP2010164965A (ja) * 2008-12-19 2010-07-29 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルタ画素形成用組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機ｅｌディスプレイ
TWI570509B (zh) * 2010-10-05 2017-02-11 Sumitomo Chemical Co Coloring the photosensitive resin composition
TW201229667A (en) * 2010-12-01 2012-07-16 Sumitomo Chemical Co Colored photosensitive resin composition
CN102681343A (zh) * 2011-03-08 2012-09-19 住友化学株式会社 着色感光性树脂组合物
TWI624726B (zh) * 2011-05-23 2018-05-21 Sumitomo Chemical Co Colored curable resin composition
JP5785810B2 (ja) * 2011-07-28 2015-09-30 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物
JP2014137446A (ja) * 2013-01-16 2014-07-28 Konica Minolta Inc 画像形成方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201435012A (zh) * 2012-12-18 2014-09-16 Yokohama Rubber Co Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物及積層體
TW201439293A (zh) * 2013-01-25 2014-10-16 羅門哈斯電子材料韓國公司 適用於柱狀間隔子及黑色矩陣兩者之有色光敏樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
CN105607421A (zh) 2016-05-25
KR20160057877A (ko) 2016-05-24
TW201624130A (zh) 2016-07-01
KR101784049B1 (ko) 2017-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020144396A (ja) カラムスペーサーとブラックマトリックスの両方に適した着色感光性樹脂組成物
JP2022028693A (ja) カラムスペーサを調製するための方法
TWI775785B (zh) 著色感光性樹脂組合物及由其製備之遮光間隔區
TWI771330B (zh) 彩色感光性樹脂組成物及由其製備之遮光間隔物
KR20150134989A (ko) 컬럼 스페이서 및 블랙 매트릭스를 동시에 구현할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물
KR20140103372A (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광성 스페이서
TWI751966B (zh) 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片
KR20140104768A (ko) 착색 감광성 수지 조성물
KR102437844B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서
TWI723061B (zh) 著色感光性樹脂組合物及由其製備之遮光隔片
JP7079198B2 (ja) 黒色感光性樹脂組成物及びそれから調製される黒色カラムスペーサ
JP7228340B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ
KR20140143951A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 스페이서
KR101999803B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 스페이서
KR20140110372A (ko) 착색 감광성 수지 조성물