TWI750180B - 觸控輸入裝置之製造方法及觸控輸入裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係取得可以降低貼合之兩個基材之快軸所構成之角度的偏差，並且可以量產化之觸控輸入裝置之製造方法。

製造方法具備下述(1)~(5)。(1)準備被二軸延伸之原材薄膜(F)。原材薄膜(F)具有短邊方向之一部分的區域，且在長邊方向延伸之有效區域(F1)。有效區域(F1)具有在長邊方向之不同部分的第1部(F11)及第2部(F12)。(2)在第1部(F11)上及第2部(F12)上中之任一方形成電極群。(3)裁斷原材薄膜(F)而作成包含第1部(F11)之第1個片(P1)。(4)裁斷原材薄膜(F)而作成包含第2部(F12)之第2個片(P2)。(5)在將第1部(F11)及第2部(F12)之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合第1部(F11)和第2部(F12)。

Description

觸控輸入裝置之製造方法及觸控輸入裝置
本發明係關於觸控輸入裝置之製造方法及觸控輸入裝置。
觸控面板廠如下述般取得成為觸控輸入裝置所使用之光學薄膜疊層體之原材料的原材薄膜。首先，PET薄膜廠使用擠壓成形機而使數公尺寬之PET薄膜二軸延伸，在短邊方向(TD方向(Transverse Direction))將該PET薄膜分割成複數，該此出貨至ITO薄膜廠。接著，ITO薄膜廠在被分割的PET薄膜之表面上成膜ITO膜之後，在短邊方向將該PET薄膜進一步分割成複數。該被分割之附ITO膜之PET薄膜成為原材薄膜，被出貨至觸控面板廠。
觸控面板廠在如上述般取得之原材薄膜之表面上，形成複數電極群，裁斷形成該電極群之複數部分而形成基材，將該基材兩片貼合而作成觸控輸入裝置用之光學薄膜疊層體。
然而，從藉由偏光遮陽鏡等之偏光板提升辨識性等之目的來看，兩片基材之快軸所構成之角度以略平 行為佳。但是，以往之製造方法要將兩片基材之快軸所構成之角度設為略平行並且量產光學薄膜疊層體有困難。因原材薄膜係在短邊方向將被二軸延伸之PET薄膜分割成複數，故各原材薄膜之快軸所構成之角度完全不同。依此，因從不同之原材薄膜所取得之兩片基材，其快軸所構成之角度完全不同，不事先測量兩者之快軸，要使兩者之快軸成為略平行而予以貼合非常困難之故。
另一方面，在下述專利文獻1中記載以往之觸控輸入裝置之製造方法。在該以往之製造方法中，當加熱光學薄膜疊層體之時，以抑制發生在光學薄膜疊層體之捲曲為目的，藉由選擇在被二軸延伸之原材捲之短邊方向相鄰之兩個部分而予以裁斷，將被裁斷之兩片基材對稱貼合，使兩片基材之厚度略相等，並且將兩者之光學軸之配向角度之差設為20°以下。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-56117號公報
但是，由於兩片基材係在原材捲之短邊方向相鄰之部分，並且被對稱貼合，故構成兩者之光學軸的角度的偏差變大。
本發明係鑒於上述情形而創作出，其目的係在提供可以降低貼合之兩個基材之快軸所構成之角度的偏差，並且可以量產化之觸控輸入裝置之製造方法及觸控輸入裝置。
為了解決上述課題，本發明之一態樣的觸控輸入裝置之製造方法至少具備下述(1)~(5)。(1)準備被二軸延伸之原材薄膜。該原材薄膜具有原材薄膜之短邊方向之一部分的區域，且在該原材薄膜之長邊方向延伸的有效區域。有效區域具有在長邊方向之不同部分的第1部及第2部。(2)在第1部上及第2部上中之任一方形成電極群。(3)裁斷原材薄膜而作成包含第1部之第1個片。(4)裁斷原材薄膜而作成包含第2部之第2個片。(5)在將第1個片之第1部及第2個片之第2部的方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合第1個片之第1部和第2個片之第2部。
如此之態樣之製造方法取得以下之第1及第2技術性效果。第1可降低貼合之兩個基材之快軸所構成之角度的偏差。本發明者取得在被二軸延伸之原材薄膜中，為原材薄膜之短邊方向之一部分的有效區域之第1部及第2部，即使為該有效區域之長邊方向之哪一個部分，構成第1部及第2部之快軸之角度幾乎無偏差的見解。因此，藉由在將相同有效區域之第1部及第2部設為與裁斷前之方向略相同之狀態下貼合而成為觸控輸入裝置之兩個基材，可以 降低構成該兩個基材之快軸之角度的偏差。第2可以使觸控輸入裝置量產化。因在與裁斷前之方向略相同之狀態下，僅貼合有效區域之第1部及第2部，故無須測量構成第1部及第2部之快軸的角度等。
原材薄膜之有效區域為複數，該複數有效區域能夠設為原材薄膜之短邊方向互相不同之部分的區域。在此情況下，如同下述(2-1)、(3-1)、(4-1)、(5-1)及(6-1)。(2-1)電極群之形成即使為在複數有效區域之第1部及第2部上中之任一方分別形成電極群亦可。(3-1)第1個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數有效區域之第1部的第1個片亦可。(4-1)第2個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數有效區域之第2部的第2個片亦可。(5-1)第1部及第2部之貼合即使在將第1個片之複數有效區域之第1部及第2個片之複數有效區域之第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合第1部及第2部亦可。被貼合之第1部及第2部位於複數有效區域中相同的有效區域內為佳。上述觸控輸入裝置之製造方法即使進一步具備(6-1)裁斷第1個片及第2個片，作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體亦可。
如此之態樣之製造方法可以進一步使觸控輸入裝置量產化。可以分別貼合複數有效區域之第1部及第2部，裁斷第1個片及第2個片，一次作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。依此，可以量產具備該光學薄膜疊層體之觸控輸入裝置。
或是，有效區域之第1部即使為複數，在長邊方向排列成一列，並且有效區域之第2部係複數，在長邊方向排列成一列亦可。在此情況下，如同下述(2-2)、(3-2)、(4-2)、(5-2)及(6-2)。(2-2)電極群之形成即使為在複數第1部上及複數第2部上中之任一方分別形成電極群亦可。(3-2)第1個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數第1部的第1個片亦可。(4-2)第2個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數第2部的第2個片亦可。(5-2)第1個片及第2個片之貼合即使在將第1個片之複數第1部及第2個片之複數第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合複數第1部及複數第2部亦可。觸控輸入裝置之製造方法即使進一步具備(6-2)裁斷第1個片及第2個片，作成具有被貼合之第1部及2部各一個的複數光學薄膜疊層體亦可。
如此之態樣之製造方法可以進一步使觸控輸入裝置量產化。可以分別貼合複數第1部及第2部，裁斷第1個片及第2個片，一次作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。依此，可以量產具備該光學薄膜疊層體之觸控輸入裝置。
即使複數有效區域之各個具有在上述長邊方向排列成一列之複數第1部及第2部亦可。在此情況下，如同下述(2-2-1)、(3-2-1)、(4-2-1)、(5-2-1)及(6-2-1)般。(2-2-1)電極群之形成即使為在複數有效區域之複數第1部上及複數第2部上中之任一方分別形成電極群亦可。(3-2-1) 第1個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數有效區域之複數第1部的第1個片亦可。(4-2-1)第2個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數有效區域之複數第2部的第2個片亦可。(5-2-1)第1個片及第2個片之貼合即使在將第1個片之複數第1部之方向及第2個片之複數第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合複數第1部及複數第2部亦可。被貼合之第1部及第2部位於複數有效區域中相同的有效區域內為佳。(6-2-1)第1個片及第2個片之裁斷即使裁斷第1個片及第2個片，作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體亦可。
如此之態樣之製造方法可以進一步使光學薄膜疊層體量產化。可以分別貼合複數有效區域之複數第1部及複數第2部，裁斷第1個片及第2個片，一次作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
原材薄膜之有效區域能夠設成進一步具有與第1部及第2部在上述長邊方向不同之部分的第3部的構成。在此情況下，電極群之形成設為在複數有效區域之第1部上形成電極群為佳。上述製造方法即使進一步具備在第3部上形成電極群，裁斷原材薄膜而作成包含第3部之第3個片，並且於貼合第1部和第2部之後，在將第1個片之第1部、第2個片之第2部及第3個片之第3部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合第2個片之第2部和第3個片之第3部亦可。或是，上述一態樣之製造方法即使進一步具備在第3部形成電極群，並且貼合第1部和第2部之 後，在將第1個片之第1部及第2個片之第2部之方向設為與裁斷前之方向相同之狀態下，貼合第2個片之第2部和原材薄膜之第3部的步驟亦可。
本發明之另外態樣的觸控輸入裝置之製造方法至少具備下述(1)~(5)。(1)準備上述原材薄膜。(2)在第1部上及第2部上中之任一方形成電極群。(3)於第1電極群之形成後，裁斷原材薄膜而作成包含第1部之第1個片。(4)於第2電極群之形成及第1個片之作成之後，在將第1個片之第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，將第1個片之第1部貼合於原材薄膜之第2部。(5)裁斷第1個片及原材薄膜而作成被貼合之第1部及第2部之光學薄膜疊層體。
如此之態樣之製造方法可以取得與上述第1及第2技術效果相同之效果。而且，因不需要作成第2個片，故可以簡化工程，更適合量產化。
原材薄膜之有效區域為複數，該複數有效區域能夠設為原材薄膜之短邊方向互相不同之部分的區域。在此情況下，如同下述(2-1)、(3-1)、(4-1)及(5-1)般。(2-1)電極群之形成即使為在複數有效區域之第1部及第2部上中之任一方分別形成電極群亦可。(3-1)第1個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數有效區域之第1部的第1個片亦可。(4-1)第1個片及原材薄膜之貼合即使在將第1個片之複數有效區域之第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合第1個片之第1部和原材薄膜之第 2部亦可。被貼合之第1部及第2部位於複數有效區域中相同的有效區域內為佳。(5-1)光學薄膜疊層體之作成即使裁斷第1個片及原材薄膜而作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體亦可。
如此之態樣之製造方法可以進一步使光學薄膜疊層體量產化。可以分別貼合複數有效區域之第1部及第2部，裁斷第1個片及原材薄膜，一次作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
或是，有效區域之第1部即使為複數，在長邊方向排列成一列，並且有效區域之第2部係複數，在長邊方向排列成一列亦可。在此情況下，如同下述(2-2)、(3-2)、(4-2)及(5-2)般。(2-2)電極群之形成即使為在複數第1部上及複數第2部上中之任一方分別形成電極群亦可。(3-2)第1個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數第1部的第1個片亦可。(4-2)第1個片及原材薄膜之貼合即使在將第1個片之複數第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合第1個片之複數第1部和原材薄膜之複數第2部亦可。(5-2)光學薄膜疊層體之作成即使裁斷第1個片及原材薄膜而作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體亦可。
如此之態樣之製造方法可以進一步使光學薄膜疊層體量產化。可以分別貼合複數第1部及複數第2部，裁斷第1個片及原材薄膜，一次作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
即使複數有效區域分別具有在上述長邊方向排列成一列之複數第1部及第2部亦可。在此情況下，如同下述(2-2-1)、(3-2-1)、(4-2-1)及(5-2-1)般。(2-2-1)電極群之形成即使為在複數有效區域之複數第1部上及複數第2部上中之任一方分別形成電極群亦可。(3-2-1)第1個片之作成即使為裁斷原材薄膜而作成包含複數有效區域之第1部的第1個片亦可。(4-2-1)第1個片及原材薄膜之貼合即使在將第1個片之複數有效區域之複數第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合第1個片之複數第1部和原材薄膜之複數第2部亦可。被貼合之第1部及第2部位於複數有效區域中相同的有效區域內為佳。(5-2-1)光學薄膜疊層體之作成即使裁斷第1個片及原材薄膜而作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體亦可。
如此之態樣之製造方法可以進一步使光學薄膜疊層體量產化。可以分別貼合複數有效區域之複數第1部及原材薄膜之複數第2部，裁斷第1個片及原材薄膜，一次作成具有被貼合之第1部及第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
原材薄膜之有效區域即使進一步具有與第1部及第2部在上述長邊方向不同之部分的第3部亦可。在此情況下，電極群之形成即使設為在複數有效區域之第1部上形成電極群亦可。上述製造方法即使進一步具備在第3部上形成電極群，於貼合第1部和第2部之後，裁斷原材薄膜 而作成具有第2部之第2個片，並且在將第1個片之第1部及第2個片之第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合第2個片之第2部和原材薄膜之第3部亦可。
上述中之任一態樣之光學薄膜疊層體之第1及第2製造方法即使進一步具備在第1部上及第2部上之另一方形成電極群亦可。
本發明之一態樣之觸控輸入裝置具備第1基材、第2基材、複數第1電極、複數第2電極、黏接層。第1基材係由上述原材薄膜之有效區域之第1部所構成。第2基材係由原材薄膜之有效區域之第2部所構成。第1電極被形成在第1基材及第2基材中之任一方上。黏接層係以第1基材之快軸和第2基材之快軸成為略平行之方式，貼合第1基材和第2基材。
如此之態樣之觸控輸入裝置取得以下之第1及第2技術性效果。第1，因貼合相同有效區域之第1部及第2部而成為觸控輸入裝置之兩個基材，故可以降低構成該兩個基材之快軸之角度的偏差。第2可以使觸控輸入裝置量產化。因構成第1部及第2部之快軸的角度幾乎無偏差，故在與裁斷前之方向略相同之狀態下，僅貼合有效區域之第1部及第2部，無須測量第1部及第2部之快軸的角度等。
上述觸控輸入裝置即使進一步具備複數第2電極亦可。第2電極被形成在第1基材及第2基材之另一方上。第1電極和第2電極互相交差。
上述觸控輸入裝置能夠設為進一步具備第3基 材、複數第2電極及第1、第2黏接層的構成。第3基材即使由與原材薄膜之有效區域之第1部及第2部在長邊方向之不同部分的第3部所構成亦可。第2電極係以與第1電極交差之方式，被形成在第3基材上。第1黏接層係以第1基材之快軸和第2基材之快軸成為略平行之方式，貼合第1基材和第2基材。第2黏接層係以第2基材之快軸和第3基材之快軸成為略平行之方式，貼合第2基材和第3基材。
如此之態樣之觸控輸入裝置取得以下之第1及第2技術性效果。第1，因貼合相同有效區域之第1部、第2部及第3部而成為觸控輸入裝置之三個基材，故可以降低構成該三個基材之快軸之角度的偏差。第2，可以使觸控輸入裝置量產化。因構成第1部、第2部及第3部之快軸的角度幾乎無偏差，故在與裁斷前之方向略相同之狀態下，僅貼合有效區域之第1部、第2部及第3部，無須測量第1部、第2部及第3部之快軸的角度等。
T1、T2‧‧‧觸控輸入裝置
100‧‧‧基材
100a‧‧‧第1基材
100b‧‧‧第2基材
100b‧‧‧第3基材
110a‧‧‧第1電極
110b‧‧‧第2電極
200‧‧‧黏接層
300‧‧‧蓋面板
D‧‧‧畫像顯示裝置
G‧‧‧偏光板
F、F'‧‧‧原材薄膜
F1‧‧‧有效區域
F11‧‧‧第1部
F12‧‧‧第2部
F13‧‧‧第3部
P1‧‧‧第1個片
P2‧‧‧第2個片
P3‧‧‧第3個片
圖1A為與本發明之實施例1有關之觸控輸入裝置之概略性剖面圖，並且用以說明上述觸控輸入裝置、畫像顯示裝置及偏光板之位置關係的圖示。
圖1B為上述觸控輸入裝置之概略性俯視圖。
圖2為上述觸控輸入裝置之第1製造方法的流程圖。
圖3A為表示上述第1製造方法之第1電極群之形成工程 的斜視圖。
圖3B為表示上述第1製造方法之第1個片之作成工程的概略圖。
圖4為表示上述第1製造方法之上述第1個片和第2個片之貼合工程的概略圖。
圖5A為上述第1製造方法中，貼合上述第1個片和上述第2個片而取得之一個光學疊層體之概略性斜視圖。
圖5B為上述第1製造方法中，貼合上述第1個片和上述第2個片而取得之另一個光學疊層體之概略性斜視圖。
圖6為表示上述第1製造方法之設計變形例的概略圖，用以說明複數有效區域中，一個有效區域之上述第1個片及上述第2個片對另外的有效區域之上述第1個片及上述第2個片傾斜之態樣的圖示。
圖7A為上述第1製造方法之上述設計變形例中，貼合上述第1個片和上述第2個片而取得之一個光學疊層體之概略性斜視圖。
圖7B為上述第1製造方法之上述設計變形例中，貼合上述第1個片和上述第2個片而取得之另一個光學疊層體之概略性斜視圖。
圖8為上述觸控輸入裝置之第2製造方法的流程圖。
圖9為與本發明之實施例2有關之觸控輸入裝置之概略性剖面圖，並且用以說明上述觸控輸入裝置、畫像顯示裝置及偏光板之位置關係的圖示。
圖10為上述觸控輸入裝置之第3製造方法的流程圖。
圖11為表示上述第3製造方法之第1個片之作成工程的概略圖。
圖12為表示上述第3製造方法之第2個片和第3個片之貼合工程的概略圖。
圖13為上述觸控輸入裝置之第4製造方法的流程圖。
以下，針對本發明之實施例予以說明。
[實施例1]
以下，針對與本發明之實施例(包含實施例1)有關之觸控輸入裝置T1，邊參照圖1A~圖1B邊予以說明。圖1A及圖1B表示與實施例1有關之觸控輸入裝置T1。
觸控輸入裝置T1能夠配置在畫像顯示裝置D之前側(光之照射側)。再者，觸控輸入裝置T1亦能夠配置在遮陽鏡等之偏光板G和畫像顯示裝置D之間。使用者能夠透過偏光板G及觸控輸入裝置T1辨識畫像顯示裝置D之顯示，也能夠不經由偏光板G而透過觸控輸入裝置T1辨識畫像顯示裝置D之顯示。觸控輸入裝置T1之延遲值以2000~8000nm為佳，並不限定於此。另外，圖1A所示之Z-Z'方向相當於觸控輸入裝置T1之厚度方向。Z方向相當於畫像顯示裝置D之光的射出方向，Z'方向相當於射出方向之相反方向。圖1A~圖1B所示Y-Y'方向相當於觸控輸入裝置T1之長邊方向。Y-Y'方向與Z-Z'方向正交。圖1B所示X-X'方 向相當於觸控輸入裝置T1之短邊方向。X-X'方向與Z-Z'方向及Y-Y'方向正交。
畫像顯示裝置D係例如液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、有機EL顯示器(OLED)或是DLP投影機(DLP)等。畫像顯示裝置D即使具備白色LED以作為背光源亦可，但是並不限定於此。
觸控輸入裝置T1具備複數基材100，和至少一個黏接層200。複數基材100被疊層在Z-Z'方向，並且具有能夠透過該基材100而辨識畫像顯示裝置D之顯示之程度的透明性。基材100即使部分性透明亦可，即使全體性透明亦可。
至少一個黏接層200若為可以貼合在Z-Z'方向相鄰之兩個基材100者即可。例如，黏接層200能夠設為黏接劑或是OCA(Optically Clear Adhesive：註冊商標)薄膜等。
複數基材100至少包含第1基材100a及第2基材100b。第1基材100a及第2基材100b分別具有第1面和其相反側之第2面。第1基材100a之第2面及第2基材100b之第1面在Z-Z'方向以黏接層200被貼合。第1基材100a及第2基材100b被進行當作電極基材層的處理。第1基材100a及第2基材100b構成後述至少一個光學薄膜疊層體。
第1基材100a及第2基材100b係由藉由擠壓成形機而被二軸延伸之薄膜所構成。該二軸延伸薄膜能夠設為例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜、聚丙烯(PP)薄 膜、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)薄膜、聚苯硫醚(PPS)薄膜、聚醯亞胺(PI)、聚醚醚酮(PEEK)或聚醯胺薄膜等。第1基材100a及第2基材100b之快軸所構成之角度成為略平行(10°以下)。另外，複數基材100即使包含第1基材100a及第2基材100b以外之基材亦可。該基材即使由上述二軸延伸之薄膜所構成亦可，即使以具有二軸延伸薄膜以外之具有可撓性的薄膜(例如，不被二軸延伸之上述薄膜或高延遲薄膜等之光學薄膜)所構成亦可。
所有之基材100能夠由上述二軸延伸薄膜所構成，並且設為該基材100之快軸所構成之角度略平行(10°以下)。在此情況下，(1)即使成為被設置成所有之基材100之快軸相對於畫像顯示裝置D之偏光軸的角度成為略45°亦可，(2)即使成為被配置成所有之基材100之快軸相對於畫像顯示裝置D之偏光軸略平行或略正交亦可。(1)之情況下，從畫像顯示裝置D照射之直線偏光在基材100被轉換成圓偏光(包含橢圓偏光)。雖然直線偏光透過偏光板P觀看時，穿透光量因應兩者之軸關係而變化，但是因在圓偏光之情況下，不變化，故提升經由偏光板P的畫像顯示裝置D之顯示的辨識性。(2)之情況下，由於基材100當作均向性構件而發揮功能，故從畫像顯示裝置D被照射之直線偏光即使通過基材100亦保持直線偏光之狀態。一般而言，因畫像顯示裝置D之偏光軸相對於偏光板P之吸收軸位於正交或45°，故從畫像顯示裝置D被照射，通過基材100之直線偏光之光不被偏光板P遮斷。在此情況下，也提升經 由偏光板P之畫像顯示裝置D之顯示的辨識性。
觸控輸入裝置T1進一步具備複數第1電極110a及複數第2電極110b。第1電極110a及第2電極110b係靜電電容型之觸控輸入裝置T1之電極。第1電極110a係如圖1B所示般，Y-Y'方向延伸之透明導電膜或導體，在第1基材100a之第1面上於X-X'方向隔著間隔而被設置。第2電極110b係在X-X'方向延伸之透明導電膜或導體，在第2基材100b之第1面上於Y-Y'方向隔著間隔而被設置。第2電極110b相對於第1電極110a交差或如圖1B般正交。另外，即使在第1基材100a之第1面，以覆蓋第1電極110a之方式，設置電極保護層(抗蝕層)亦可。
上述透明導電膜能夠由例如ITO(氧化銦+氧化錫)、CNT(奈米碳管)、IZO(氧化銦+氧化鉛)、AZO(摻鋁氧化鉛)或是導電性高分子((PEDOT或PSS)等構成。上述導體能夠設為例如感光性銀、銀奈米油墨、蒸鍍銅、軋製銅或銅奈米油墨等。
觸控輸入裝置T1即使進一步具備蓋面板300亦可。蓋面板300被配置在第1基材100a之Z方向側，或如圖1A所示般，以位於第1基材100a之Z方向側之方式，以黏接層200被固定在第1基材100a。
以下，針對製造觸控輸入裝置T1之第1製造方法，邊參照圖2~圖5B邊予以說明。在該第1製造方法中，如後述般，使用藉由擠壓成形機被二軸延伸之原材薄膜F。該原材薄膜F例如為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜、 聚丙烯(PP)薄膜、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)薄膜、聚苯硫醚(PPS)薄膜、聚醯亞胺(PI)、聚醚醚酮(PEEK)或聚醯胺薄膜等，被捲繞成捲筒狀。原材薄膜F之長邊方向為原材薄膜F之MD方向(Machine Direction)，原材薄膜F之短邊方向為原材薄膜F之TD方向(Transverse Direction)。
原材薄膜F如圖3A所示般，具有至少一個有效區域F1。至少一個有效區域F1係原材薄膜F之TD方向之一部分的區域，並且在原材薄膜F之MD方向延伸。至少一個有效區域F1具有至少一個第1部F11及第2部F12。至少一個第1部F11及第2部F12係互相相同的形狀，並且為有效區域F1之MD方向之不同的部分。當貼合後述之第1部F11及第2部F12之時，以第1部F11及第2部F12互相完全重疊之方式，原材薄膜F之有效區域F1中之第1部F11及第2部F12之方向及TD方向之位置一致。在圖3A中，第1部F11及第2部F12為長方形，在各有效區域F1中，所有第1部F11及第2部F12之方向及TD方向之位置一致。
第1製造方法能夠設為下述(A)~(C)中之任一態樣。在任一態樣中，即使一面使原材薄膜F以捲對捲(Roll to Roll)方式等連續性地朝MD方向移動，一面進行亦可，即使在將原材薄膜F之MD方向之端部從原材薄膜F之捲筒朝MD方向拉出之狀態下進行亦可。另外，在圖3A~圖5B中，以虛線表示有效區域F1、第1部F11、第2部F12、第1部F11之快軸、第2部F12之快軸及原材薄膜F之快軸。在圖3B~圖5B中，省略第1電極群及第2電極群之圖 示。
(A)準備原材薄膜F(S1)。原材薄膜F具有一個有效區域F1。一個有效區域F1具有第1部F11及一個第2部F12至少各一個。有效區域F1具有複數第1部F11及複數第2部F12之情況，第1部F11在MD方向排列成一列，並且第2部F12在MD方向排列成一列。在一個有效區域F1中，複數第1部F11之MD方向之間隔，和複數第2部F12之MD方向之間隔相同。
在有效區域F1之至少一個第1部F11之第1面上形成第1電極群(S2)。具體而言，能夠以下述(1)~(3)中之任一方法，作成第1電極群。(1)在原材薄膜F之第1面上全體或第1部F11之第1面上，形成上述透明導電膜或上述導體。另外，上述透明導電膜或上述導體即使事先被形成在S1中所準備之原材薄膜F之第1面亦可。在上述透明導電膜或上述導體上塗佈抗蝕層。使用遮罩對該抗蝕層進行曝光、顯像，對抗蝕層進行圖案製作。藉由該圖案製作，蝕刻從抗蝕層露出之上述透明導電膜或上述導體，在至少一個第1部F11之第1面上形成第1電極群。之後，抗蝕層被除去。(2)在原材薄膜F之第1部F11之第1面上塗佈抗蝕層。使用遮罩對該抗蝕層進行曝光、顯像，對抗蝕層進行圖案製作。之後，對上述導體進行蒸鍍等，在至少一個第1部F11之第1面上形成第1電極群。之後，抗蝕層被除去。(3)使用眾知之印刷法(例如，網版印刷法或噴墨印刷法)印刷第1電極群。在此情況下，第1電群成為上述導體。之後， 使用無圖示之第1裁斷機裁斷原材薄膜F，作成包含至少一個第1部F11之第1個片P1(S3(參照圖3B))。
以與形成第1電極群之方法相同之方法，在第2部F12之第1面上形成第2電極群(S4)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F，作成包含至少一個第2部F12之第2個片P2(S5)。另外，即使於S2及S4之後，進行S3及S5亦可。
於第1個片P1及第2個片P2之作成後，在將第1個片P1之至少一個第1部F11及第2個片P2之至少一個第2部F12之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1及第2個片P2之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，以黏接層200貼合第1個片P1之至少一個第1部F11之第1面之背側之第2面和第2個片P2之至少一個第2部F12之第1面(S6(參照圖4))。在該S6中，即使藉由在第1個片P1及第2個片P2分別形成複數標記，分別使第1個片P1之複數標記和第2個片P2之複數標記一致，進行第1個片P1之至少一個第1部F11和第2個片P2之至少一個第2部F12之位置對準亦可。或是，即使藉由使第1個片P1之外形和第2個片P2之外形一致，進行第1個片P1之至少一個第1部F11和第2個片P2之至少一個第2部F12之位置對準亦可。在此情況下，使第1個片P1之TD方向之尺寸和第2個片P2之TD方向之尺寸一致，同時使第1個片P1之MD方向之尺寸和第2個片P2之MD方向之尺寸一致即可。
第1個片P1具有複數第1部F11，且第2個片P2具有複數第2部F12之情況下，在S6分別貼合第1部F11和第 2部F12之後，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1及第2個片P2，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體(S7)。另外，第1個片P1具有一個第1部F11，且第2個片P2具有一個第2部F12之情況下，藉由第1部F11及第2部F12之貼合，可取得具有第1部F11及第2部F12之一個光學薄膜疊層體。此情況S7被省略。
(B)準備原材薄膜F(S1)。原材薄膜F具有複數有效區域F1(參照圖3A)。複數有效區域F1係原材薄膜F之TD方向互相不同之部分的區域。各有效區域F1具有第1部F11及第2部F12各一個。複數有效區域F1中，相鄰的有效區域F1之第1部F11之MD方向之位置關係，和相鄰的有效區域F1之第2部F12之MD方向之位置關係一致。
之後，與上述(A)之第1電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之第1部F11之第1面上分別形成第1電極群(S2)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F，作成包含複數有效區域F1之第1部F11之第1個片P1(S3)。如此所取得之第1個片P1具有複數第1部F11。
再者，與上述(A)之第2電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之第2部F12之第1面上分別形成第2電極群(S4)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F，作成包含複數有效區域F1之第2部F12之第2個片P2(S5)。如此所取得之第2個片P2具有複數第2部F12。另外，即使於S2及S4之後，進行S3及S5亦可。
於第1個片P1及第2個片P2之作成後，在將第1 個片P1之複數有效區域F1之第1部F11及第2個片P2之複數有效區域F1之第2部F12之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1及第2個片P2之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，分別以黏接層200貼合複數有效區域F1之第1部F11之第2面和複數有效區域F1之第2部F12之第1面(S6)。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數有效區域F1中相同的有效區域F1內。例如，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1之情況下，與以黏接層200貼合兩個有效區域F1中之一個有效區域F1之第1部F11及第2部F12同時，以黏接層200貼合另一個有效區域F1之第1部F11及第2部F12。即使在該S6中，如同上述(A)之S6般，藉由分別使第1個片P1之複數標記和第2個片P2之複數標記一致，分別使第1部F11及第2部F12位置對準亦可，即使藉由使第1個片P1之外形和第2個片P2之外形一致，分別使第1部F11及第2部F12位置對準亦可。
之後，使用第2裁斷機裁斷第1個片P1及第2個片P2，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體(S7)。
(C)準備原材薄膜F(S1)。原材薄膜F如圖3A所示般，具有複數有效區域F1。各有效區域F1具有複數第1部F11及複數第2部F12。在各有效區域F1中，複數第1部F11在MD方向排列成一列，並且第2部F12在MD方向排列成一列。在各有效區域F1中，複數第1部F11之MD方向之間隔，和複數第2部F12之MD方向之間隔相同。
之後，與上述(A)之第1電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之複數第1部F11之第1面上分別形成第1電極群(S2)。之後，如圖3B所示般，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F，作成包含複數有效區域F1之複數第1部F11之第1個片P1(S3)。如此所取得之第1個片P1具有分別與複數有效區域F1對應之複數列，在各列中，複數第1部F11排列於MD方向。
再者，與上述(A)之第2電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之複數第2部F12之第1面上分別形成第2電極群(S4)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F，作成包含複數有效區域F1之第2部F12之第2個片P2(S5)。如此所取得之第2個片P2具有與複數有效區域F1對應之複數列，在各列中，複數第2部F12排列於MD方向。另外，即使於S2及S4之後，進行S3及S5亦可。
之後，如圖4所示般，在將第1個片P1之複數列之複數第1部F11及第2個片P2之複數列之複數第2部F12之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1及第2個片P2之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，分別以黏接層200貼合複數第1部F11之第2面和複數第2部F12之第1面(S6)。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數列(複數有效區域F1)中對應的列(相同的有效區域F1)內。另外，在圖4中，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1，在其中一個有效區域F1(圖4之上列)，第1部F11包含第1部F111、F112、F113，並且第2部F12包含第 2部F121、F122、F123，在另外的一個有效區域F1(圖4之下列)中，第1部F11包含第1部F114、F115、F116，並且第2部F12包含第2部F124、F125、F126。在S6中，與分別以黏接層200貼合上列之第1部F111、F112、F113和上列之第2部F121、F122、F123之同時，分別以黏接層200貼合下列之第1部F114、F115、F116和下列之第2部F124、F125、F126。即使在該S6中，如同上述(A)之S6般，藉由分別使第1個片P1之複數標記和第2個片P2之標記一致，分別使第1部F11及第2部F12位置對準亦可，即使藉由使第1個片P1之外形和第2個片P2之外形一致，分別使第1部F11及第2部F12位置對準亦可。
之後，如圖5A及圖5B所示般，使用第2裁斷機裁斷第1個片P1及第2個片P2，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體(S7)。另外，在圖5A中，雖然顯示被貼合之第1部F111及第2部F121之光學薄膜疊層體，但是為了便於說明，顯示被貼合之第1部F111及第2部F121互相間隔開。在圖5B中，雖然顯示被貼合之第1部F114及第2部F124之光學薄膜疊層體，但是為了便於說明，顯示被貼合之第1部F114及第2部F124互相間隔開。
如同上述般所取得之至少一個光學薄膜疊層體中，第1部F11及第2部F12成為第1基材100a及第2基材100b。第1基材100a之快軸所構成之角度和第2基材100b之快軸所構成之角度成為略平行(10°以下)。第1基材100a之 第1面上之第1電極群成為複數第1電極110a，第2基材100b之第1面上之第2電極群成為複數第2電極110b。如此之至少一個光學薄膜疊層體成為觸控輸入裝置T1。在觸控輸入裝置T1具備蓋面板300之情況下，取得至少一個光學薄膜疊層體之後(上述(A)~(C)中之任一的S7後)，以黏接層200在該光學薄膜疊層體之第1基材100a之第1面貼合蓋面板300即可。
另外，在複數有效區域F1包含第1有效區域F1和第2有效區域F1之情況下，即使以從第1有效區域F1取得之第1部F11及第2部F12之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之第1部F11及第2部F12之快軸所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F11及第2部F12分別對第2有效區域F1之第1部F11及第2部F12傾斜亦可。在圖6中，以從圖示上側之第1有效區域F1取得之第1部F111、F112、F113及第2部F121、F122、F123之快軸所構成之角度，和從圖示下側之第2有效區域F1取得之第1部F114、F115、F116及第2部F124、F125、F126所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F111、F112、F113及第2部F121、F122、F123對第2有效區域F1之第1部F114、F115、F116及第2部F124、F125、F126傾斜。在此情況下，亦能夠藉由上述中之任一態樣的第1製造方法製造光學薄膜疊層體。從第1有效區域F1取得圖7A所示之光學薄膜疊層體，從第2有效區域F1取得圖7B所示之光學薄膜疊層體。前者光學薄膜疊層體之第1部F111及 第2部F121之快軸所構成之角度，和後者光學薄膜疊層體之第1部F114及第2部F124之快軸所構成之角度成為略平行。
以下，針對製造觸控輸入裝置T1之第2製造方法，邊參照圖8邊予以說明。該第2製造方法在省略S5(不作成第2個片P2)，並且具備S5'~S6'以代替S6~S7之點，與第1製造方法不同。除該差異點之外，因第2製造方法與第1製造方法相同，故以下僅針對其差異點，分成(A)~(C)之態樣予以詳細說明，省略與第1製造方法重疊說明。第2製造方法之(A)~(C)之態樣對應於第1製造方法之(A)~(C)之態樣。另外，在第2製造方法中，能夠於S4或S3之前或後進行。
(A)於上述S3及S4之後，在將第1個片P1之至少一個第1部F11之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，以黏接層200貼合第1個片P1之至少一個第1部F11之第2面和原材薄膜F之至少一個第2部F12之第1面(S5')。在該S5'中，在第1個片P1及原材薄膜F分別形成複數標記，藉由分別使第1個片P1之複數標記和原材薄膜F之複數標記一致，能夠進行第1個片P1之至少一個第1部F11和原材薄膜F之至少一個第2部F12之位置對準。
在第1個片P1具有一個第1部F11，且原材薄膜F具有一個第2部F12之情況下，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1及原材薄膜F，作成一個具有被貼合之第1部 F11及第2部F12之光學薄膜疊層體(S6')。另外，在第1個片P1具有複數第1部F11，且原材薄膜F具有複數第2部F12之情況下，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1及原材薄膜F，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12之複數光學薄膜疊層體(S6')。
(B)於上述S3及S4之後，在將第1個片P1之複數有效區域F1之第1部F11之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，分別以黏接層200貼合第1個片P1之複數有效區域F1之第1部F11之第2面和原材薄膜F之複數有效區域F1之第2部F12之第1面(S5')。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數有效區域F1中相同的有效區域F1內。例如，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1之情況下，與以黏接層200貼合其中之一個有效區域F1中之第1部F11及第2部F12同時，以黏接層200貼合另一個有效區域F1之第1部F11及第2部F12。在該S5'中，即使如同上述(A)之S6般，使第1個片P1之複數標記和原材薄膜F之複數標記分別一致，而分別使第1部F11及第2部F12位置對準亦可。
之後，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1及原材薄膜F，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體(S6')。
(C)於上述S3及S4之後，在將第1個片P1之複數列之複數第1部F11之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1之方向設為與裁斷前之方向略相 同之狀態)下，分別以黏接層200貼合第1個片P1之複數第1部F11之第2面和原材薄膜F之複數第2部F12之第1面(S5')。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數列(複數有效區域F1)中對應的列(相同的有效區域F1)內。例如，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1之情況下，與以黏接層200分別貼合其中之一個有效區域F1中之複數第1部F11及複數第2部F12同時，以黏接層200分別貼合另一個有效區域F1之複數第1部F11及複數第2部F12。在該S5'中，即使如同上述(A)之S6般，使第1個片P1之複數標記和原材薄膜F之複數標記分別一致，而分別使第1部F11及第2部F12位置對準亦可。
之後，使用第2裁斷機裁斷第1個片P1及原材薄膜F，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體(S6')。
如同上述般所取得之至少一個光學薄膜疊層體中，第1部F11及第2部F12成為第1基材100a及第2基材100b。第1基材100a之快軸所構成之角度和第2基材100b之快軸所構成之角度成為略平行(10°以下)。第1基材100a之第1面上之第1電極群成為複數第1電極110a，第2基材100b之第1面上之第2電極群成為複數第2電極110b。如此之至少一個光學薄膜疊層體成為觸控輸入裝置T1。在觸控輸入裝置T1具備蓋面板300之情況下，取得至少一個光學薄膜疊層體之後(上述(A)~(C)中之任一的S6'後)，以黏接層200在該光學薄膜疊層體之第1基材100a之第1面貼合蓋面 板300即可。
另外，在第2製造方法中所使用之原材薄膜F之複數有效區域F1包含第1有效區域F1和第2有效區域F1之情況下，即使與第1製造方法相同，以從第1有效區域F1取得之第1部F11及第2部F12之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之第1部F11及第2部F12之快軸所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F11及第2部F12分別對第2有效區域F1之第1部F11及第2部F12傾斜亦可(參照圖6)。
上述般之觸控輸入裝置T1、第1製造方法及第2製造方法取得下述之技術特徵及效果。第1可降低貼合之兩個基材100之快軸所構成之角度的偏差。本發明者得到在被二軸延伸之原材薄膜F中，為原材薄膜F之短邊方向之一部分之區域的有效區域F1之第1部F11及第2部F12，即使為該有效區域F1之長邊方向之任何部分(例如，有距離原材薄膜F之長邊方向之一端1m之部分，也有距離100mm之部分)，構成該第1部F11及第2部F12之快軸之角度幾乎無偏差(成為大概3°以下)之見解。因此，藉由貼合相同有效區域F1之第1部F11及第2部F12而設為光學薄膜疊層體之兩個基材100，可以降低構成兩個基材100之快軸之角度的偏差。但是，在本發明中，構成至少一個有效區域F1之第1部F11及第2部F12之快軸的角度若為10°以下即可。
第2，可以使觸控輸入裝置T1量產化。其理由，如同下述般。如上述般，因僅貼合為相同有效區域F1 之長邊方向不同之部分的第1部F11及第2部F12，故無須測量構成第1部F11及第2部F12之快軸的角度等。因可以在原材薄膜F具有複數有效區域F1，且各有效區域F1具有至少一個第1部F11及第2部F12之情況，或原材薄膜F之一個有效區域F1具有複數第1部F11及複數第2部F12之情況下，一次分別貼合複數第1部F11及複數第2部F12，取得具有第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體，故可以使用光學薄膜疊層體而使觸控輸入裝置T1進一步量產化。
第3，可以在複數有效區域F1包含第1有效區域F1和第2有效區域F1之情況，使從第1有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F111及第2部F121之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F114及第2部F124之快軸所構成之角度成為略平行。其理由，如同下述般。以從第1有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F11及第2部F12之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F11及第2部F12之快軸所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F11及第2部F12分別對第2有效區域F1之第1部F11及第2部F12傾斜。
第4，因在上述第2製造方法之情況下，故無須作成第2個片P2，故可以降低工程數。
[實施例2]
以下，針對與本發明之另外實施例(包含實施 例2)有關之觸控輸入裝置T2，邊參照圖9邊予以說明。圖9表示與實施例2有關之觸控輸入裝置T2。觸控輸入裝置T2成為除下述差異點之外，其他與觸控輸入裝置T1相同之構成。差異點(1)複數基材100進一步包含第3基材100c。差異點(2)黏接層200為複數。差異點(3)第2電極110b非在第2基材100b之第1面上，而係被形成在第3基材100c之第1面上。以下，僅針對該些差異點詳細說明，省略與觸控輸入裝置T1重複說明。即使在圖9中，也表示Z-Z'方向及Y-Y'方向。針對X-X'方向，借助圖1B予以參照。
第3基材100c與第1基材100a及第2基材100b相同，由上述二軸延伸薄膜構成。第3基材100c具有第1面，和其相反側之第2面。依照第1基材100a、第2基材100b及第3基材100c之順序疊層在Z-Z'方向。換言之，以黏接層200(第1黏接層)貼合第1基材100a之第2面和第2基材100b之第1面，並且以另外之黏接層200(第2黏接層)貼合第3基材100c之第1面和第2基材100b之第2面。第1基材100a、第2基材100b及第3基材100c之快軸所構成之角度成為略平行(10°以下)。
第2電極110b係在X-X'方向延伸之上述透明導電膜或上述導體，在第3基材100c之第1面上於Y-Y'方向隔著間隔而被設置。第2電極110b相對於第1電極110a交差或正交。
以下，針對製造觸控輸入裝置T2之至少一個光學薄膜疊層體之第3製造方法，邊參照圖10~圖12，邊 予以說明。在該第3製造方法中，使用藉由擠壓成形機被二軸延伸之原材薄膜F'。原材薄膜F'如圖11所示般，至少一個有效區域F1具有至少一個第1部F11、第2部F12及第3部F13之點，除與原材薄膜F不同之外，其他與原材薄膜F相同之構成。至少一個第1部F11、第2部F12及第3部F13係互相相同的形狀，並且為有效區域F1之MD方向(長邊方向)之不同的部分。以貼合後述第1部F11及第2部F12之時，第1部F11及第2部F12互相完全重疊之方式，原材薄膜F'之有效區域F1中之第1部F11'及第2部F12'之方向及TD方向(短邊方向)之位置一致，並且以貼合第2部F12及第3部F13之時，第2部F12及第3部F13完全重疊之方式，原材薄膜F'之有效區域F1中之第2部F12及第3部F13之方向及TD方向之位置一致。在圖11中，第1部F11、第2部F12及第3部F13為長方形，在各有效區域F1中，所有第1部F11、第2部F12及第3部F13之方向及TD方向之位置一致。
第3製造方法能夠設為下述(A)~(C)中之任一態樣。在任一態樣中，即使一面使原材薄膜F'以捲對捲(Roll to Roll)方式等連續性地朝MD方向移動，一面進行亦可，即使在將原材薄膜F'之MD方向之端部從原材薄膜F'之捲筒朝MD方向拉出之狀態下進行亦可。另外，在圖11及圖12中，以虛線表示有效區域F1、第1部F11、第2部F12、第3部F13、第1部F11之快軸、第2部F12之快軸、第3部F13之快軸及原材薄膜F'之快軸。在圖11及圖12中，省略第1電極群及第2電極群之圖示。
(A)準備原材薄膜F'(S10)。原材薄膜F'具有一個有效區域F1。一個有效區域F1具有第1部F11、第2部F12及第3部F13至少各一個。在有效區域F1具有複數第1部F11、複數第2部F12及複數第3部F13之情況下，第1部F11在MD方向排列成一列，第2部F12在MD方向排列成一列，並且第3部F13在MD方向排列成一列。在一個有效區域F1中，複數第1部F11之MD方向之間隔，和複數第2部F12之MD方向之間隔，和複數第3部F13之MD方向之間隔相同。
與上述第1製造方法之(A)之S2相同，在有效區域F1之至少一個第1部F11之第1面上形成第1電極群(S11)。之後，使用無圖示之第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含至少一個第1部F11之第1個片P1(S12(參照圖11))。
之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含至少一個第2部F12之第2個片P2(S13)。另外，在S10中，在所準備之原材薄膜F'之第1面，事先形成上述透明導電膜或上述導體之情況下，於S13之前，以蝕刻等除去第2部F12之第1面上之上述透明導電膜或上述導體即可。
之後，以與形成第1電極群之方法相同之方法，在第3部F13之第1面上形成第2電極群(S14)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含至少一個第3部F13之第3個片P3(S15)。另外，即使於S11及S14之後，進行S12、S13及S15亦可。
於第1個片P1及第2個片p2之作成後，如同第1 製造方法之(A)之S6般，以黏接層200貼合第1個片P1之至少一個第1部F11之第1面之背側之第2面和第2個片P2之至少一個第2部F12之第1面(S16借助圖4予以參照))。
S16後，將第1個片P1之至少一個第1部F11、第2個片P2之至少一個第2部F12及第3個片P3之至少一個第3部F13之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，以黏接層200貼合第2個片P2之至少一個第2部F12之第1面之背側之第2面和第3個片P3之至少一個第3部F13之第1面(S17(參照圖12))。在該S17中，即使與第1製造方法之(A)之S6相同，藉由分別使第2個片P2之複數標記和第3個片P3之複數標記一致，而使至少一個第2部F12及至少一個第3部F13位置對準亦可，即使藉由使第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3之外形一致，而使至少一個第2部F12及至少一個第3部F13位置對準亦可。
第1個片P1具有複數第1部F11，且第2個片P2具有複數第2部F12，並且第3個片P3具有複數第3部F13之情況下，在S17分別貼合第2部F12和第3部F13之後，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3，作成具有被貼合之第1部F11及第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體(S18)。另外，在第1個片P1具有一個第1部F11，第2個片P2具有一個第2部F12，並且第3個片P3具有一個第3部F13之情況下，藉由第2部F12及第3 部F13之貼合，可取得第1部F11、第2部F12及第3部F13之一個光學薄膜疊層體。此情況S18被省略。
(B)準備原材薄膜F'(S10)。原材薄膜F'具有複數有效區域F1(參照圖10)。複數有效區域F1係原材薄膜F'之TD方向互相不同之部分的區域。各有效區域F1具有第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個。複數有效區域F1中，相鄰的有效區域F1之第1部F11之MD方向之位置關係，和相鄰的有效區域F1之第2部F12之MD方向之位置關係一致。
之後，與上述(A)之第1電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之第1部F11之第1面上分別形成第1電極群(S11)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含複數有效區域F1之第1部F11之第1個片P1(S12)。如此所取得之第1個片P1具有複數第1部F11。
之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含複數有效區域F1之第2部F12之第2個片P2(S13)。如此所取得之第2個片P2具有複數第2部F12。另外，在S10中，在所準備之原材薄膜F'之第1面，事先形成上述透明導電膜或上述導體之情況下，於S13之前，以蝕刻等除去第2部F12之第1面上之上述透明導電膜或上述導體即可。
之後，與上述(A)之第2電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之第3部F13之第1面上分別形成第2電極群(S14)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含複數有效區域F1之第3部F13之第3個片P1(S15)。如 此所取得之第3個片P3具有複數第3部F13。另外，即使於S11及S14之後，進行S12、S13及S15亦可。
之後，如同第1製造方法之(B)之S6般，分別以黏接層200貼合複數有效區域F1之第1部F11之第2面和複數有效區域F1之第2部F12之第1面(S16)。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數有效區域F1中相同的有效區域F1內。
S16後，在將第1個片P1之複數有效區域F1之第1部F11、第2個片P2之複數有效區域F1之第2部F12及第3個片P3之複數有效區域F1之第3部F13之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，分別以接黏接層200貼合複數有效區域F1之第2部F12之第2面和複數有效區域F1之第3部F13之第1面(S17)。被貼合之第2部F12及第2部F13分別位於複數有效區域F1中相同的有效區域F1內。例如，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1之情況下，與以黏接層200貼合兩個有效區域F1中之一個有效區域F1之第2部F12及第3部F13同時，以黏接層200貼合另一個有效區域F1之第2部F12及第3部F13。在該S17中，即使與第3製造方法之(A)之S17相同，藉由分別使第2個片P2之複數標記和第3個片P3之複數標記一致，分別使第2部F12及第3部F13位置對準亦可，即使藉由使第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3之外形一致，分別使第2部F12及第3部F13位置對準亦可。
之後，使用第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3，作成具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體(S18)。
(C)準備原材薄膜F'(S10)。原材薄膜F'如圖11所示般，具有複數有效區域F1。各有效區域F1具有複數第1部F11、複數第2部F12及複數第3部F13。在各有效區域F1中，複數第1部F11在MD方向排列成一列，第2部F12在MD方向排列成一列，並且第3部F13在MD方向排列成一列。在各有效區域F1中，複數第1部F11之MD方向之間隔，和複數第2部F12之MD方向之間隔，和複數第3部F13之MD方向之間隔相同。
之後，與上述(A)之第1電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之複數第1部F11之第1面上分別形成第1電極群(S11)。之後，如圖11所示般，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含複數有效區域F1之複數第1部F11之第1個片P1(S12)。如此所取得之第1個片P1具有分別與複數有效區域F1對應之複數列，在各列中，複數第1部F11排列於MD方向。
之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含複數有效區域F1之複數第2部F12之第2個片P2(S13)。如此所取得之第2個片P2具有與複數有效區域F1對應之複數列，在各列中，複數第2部F12排列於MD方向。另外，在S10中，在所準備之原材薄膜F'之第1面，事先形成上述透明導電膜或上述導體之情況下，於S13之前，以蝕刻等 除去第2部F12之第1面上之上述透明導電膜或上述導體即可。
再者，與上述(A)之第2電極群之形成工程相同，在複數有效區域F1之複數第3部F13之第1面上分別形成第2電極群(S14)。之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含複數有效區域F1之第3部F13之第3個片P3(S15)。如此所取得之第3個片P3具有與複數有效區域F1對應之複數列，在各列中，複數第3部F13排列於MD方向。另外，即使於S11及S14之後，進行S12、S13及S15亦可。
之後，如同第1製造方法之(C)之S6般，分別以黏接層200貼合複數第1部F11之第2面和複數第2部F12之第1面(S16)。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數列(複數有效區域F1)中對應的列(相同的有效區域F1)內。
之後，在將第1個片P1之複數列之複數第1部F11、第2個片P2之複數列之複數第2部F12及第3個片P3之複數列之複數第3部F13之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，分別以黏接層200貼合複數第2部F12之第2面和複數第3部F13之第1面(S17)。被貼合之第2部F12及第3部F13分別位於複數列(複數有效區域F1)中對應的列(相同的有效區域F1)內。另外，在圖11中，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1，在其中一個有效區域F1(圖11之上列)，第2部F12包含第2部 F121、F122、F123，並且第3部F13包含第3部F131、F132、F133，在另外的一個有效區域F1(圖11之下列)中，第2部F12包含第2部F124、F125、F126，並且第3部F13包含第3部F134、F135、F136。在S17中，與分別以黏接層200貼合上列之第2部F121、F122、F123和上列之第3部F131、F132、F133之同時，分別以黏接層200貼合下列之第2部F124、F125、F126和下列之第3部F134、F135、F136。在該S17中，即使如同上述(B)之S17般，藉由分別使第2個片P2之複數標記和第3個片P3之標記一致，使第2部F12及第3部F13位置對準亦可，即使藉由使第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3之外形一致，而使第2部F12及第3部F13位置對準亦可。
之後，使用第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及第3個片P3，作成具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體(S18)。
如同上述般所取得之至少一個光學薄膜疊層體中，第1部F11、第2部F12及第3部F13成為第1基材100a、第2基材100b及第3基材100c。第1基材100a之快軸所構成之角度，和第2基材100b之快軸所構成之角度，和第3基材100c之快軸所構成之角度成為略平行(10°以下)。第1基材100a之第1面上之第1電極群成為複數第1電極110a，第3基材100c之第1面上之第2電極群成為複數第2電極110b。如此之至少一個光學薄膜疊層體成為觸控輸入裝置T2。在觸控輸入裝置T2具備蓋面板300之情況下，取得 至少一個光學薄膜疊層體之後(上述(A)~(C)中之任一的S18後)，以黏接層200在該光學薄膜疊層體之第1基材100a之第1面貼合蓋面板300即可。
另外，在第3製造方法中，能夠省略S15。在此情況下，使S17及S18如同下述般即可。在S17中，在將第1個片P1之複數列之複數第1部F11及第2個片P2之複數列之複數第2部F12之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1、第2個片P2及原材薄膜F'之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，以黏接層200貼合至少一個第2部F12之第2面和至少一個第3部F13之第1面。在S18中，使用第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及原材薄膜F'，作成具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體。
另外，在複數有效區域F1包含第1有效區域F1和第2有效區域F1之情況下，即使以從有效區域F1取得之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13分別對第2有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13傾斜亦可(借助圖6予以參照)。在此情況下，亦能夠藉由上述中之任一態樣的第3製造方法製造光學薄膜疊層體。能從第1有效區域F1取得光學薄膜疊層體，能從第2有效區域F1取得光學薄膜疊層體。前者光學薄膜疊層體之第1部F11、第2部F12及第3部 F13之快軸所構成之角度，和後者光學薄膜疊層體之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度成為略平行。
以下，針對製造觸控輸入裝置T2之第4製造方法，邊參照圖13邊予以說明。該第4製造方法具備S13'~S17'以代替第3製造方法之S13~S18之點，與第3製造方法不同。除該差異點之外，因第4製造方法與第3製造方法相同，故以下僅針對其差異點，分成(A)~(C)之態樣予以詳細說明，省略與第3製造方法重疊說明。第4製造方法之(A)~(C)之態樣對應於第3製造方法之(A)~(C)之態樣。
(A)於上述S12之後，如同第2製造方法之(A)之S5'般，以黏接層200貼合第1個片P1之至少一個第1部F11之第2面和原材薄膜F'之至少一個第2部F12之第1面(S13')。另外，在S10中，在所準備之原材薄膜F'之第1面，事先形成上述透明導電膜或上述導體之情況下，於S13'之前，以蝕刻等除去第2部F12之第1面上之上述透明導電膜或上述導體即可。
之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成包含至少一個第2部F12之第2個片P2(S14')。
之後，與第3製造方法之(A)之S14相同，在原材薄膜F'之至少一個第3部F13之第1面上分別形成第2電極群(S15')。該S15'能夠在S12之前進行。
之後，在將第1個片P1之至少一個第1部F11及第2個片P2之至少一個第2部F12之方向設為與裁斷前之方 向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1及第2個片P2之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，以黏接層200貼合第2個片P2之至少一個第2部F12之第2面和原材薄膜F'之至少一個第3部F13之第1面(S16')。在該S16'中，在第2個片P2及原材薄膜F'分別形成複數標記，藉由分別使第2個片P2之複數標記和原材薄膜F'之複數標記一致，能夠進行第2個片P2之至少一個第2部F12和原材薄膜F'之至少一個第3部F13之位置對準。
在第1個片P1具有一個第1部F11，第2個片P2具有一個第2部F12，且原材薄膜F'具有一個第3部F13之情況下，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及原材薄膜F'，作成一個具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13之光學薄膜疊層體(S17')。另外，在第1個片P1具有複數第1部F11，第2個片P2具有複數第2部F12，且原材薄膜F'具有複數第3部F13之情況下，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及原材薄膜F'，作成具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體(S17')。
(B)於上述S12之後，如同第2製造方法之(B)之S5'般，分別以黏接層200貼合第1個片P1之複數有效區域F1之第1部F11之第2面和原材薄膜F'之複數有效區域F1之第2部F12之第1面(S13')。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數有效區域F1中相同的有效區域F1內。另外，在S10中，在所準備之原材薄膜F'之第1面，事先形成上述透 明導電膜或上述導體之情況下，於S13'之前，以蝕刻等除去第2部F12之第1面上之上述透明導電膜或上述導體即可。
之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成具有複數有效區域F1之第2部F12之第2個片P2(S14')。如此所取得之第2個片P2具有複數第2部F12。
之後，與第3製造方法之(B)之S14相同，在原材薄膜F'之複數有效區域F1之第3部F13之第1面上分別形成第2電極群(S15')。該S15'能夠在S12之前進行。
之後，在將第1個片P1之複數有效區域F1之第1部F11及第2個片P2之複數有效區域F1之第2部F12之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態(換言之，將第1個片P1及第2個片P2之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態)下，分別以黏接層200貼合第2個片P2之複數有效區域F1之第2部F12之第2面和原材薄膜F'之複數有效區域F1之第3部F13之第1面(S16')。被貼合之第2部F12及第3部F13分別位於複數有效區域F1中相同的有效區域F1內。例如，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1之情況下，與以黏接層200貼合其中之一個有效區域F1中之第2部F12及第3部F13同時，以黏接層200貼合另一個有效區域F1之第2部F12及第2部F13。在該S16'中，即使與第4製造方法之(A)之S16'相同，分別使第2個片P2之複數標記和原材薄膜F'之複數標記一致而分別使第2部F12及第3部F13位置對準亦可。
之後，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片 P1、第2個片P2及原材薄膜F'，作成具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體(S17')。
(C)於上述S12之後，如同第2製造方法之(C)之S5'般，分別以黏接層200貼合第1個片P1之複數第1部F11之第2面和原材薄膜F'之複數第2部F12之第1面(S13')。被貼合之第1部F11及第2部F12分別位於複數列(複數有效區域F1)中對應的列(相同的有效區域F1)內。另外，在S10中，在所準備之原材薄膜F'之第1面，事先形成上述透明導電膜或上述導體之情況下，於S13'之前，以蝕刻等除去第2部F12之第1面上之上述透明導電膜或上述導體即可。
之後，使用第1裁斷機裁斷原材薄膜F'，作成具有複數有效區域F1之複數第2部F12之第2個片P2(S14')。如此所取得之第2個片P2具有與複數有效區域F1對應之複數列，在各列中，複數第2部F12在MD方向排列。
之後，與第3製造方法之(C)之S14相同，在原材薄膜F'之複數有效區域F1之複數第3部F13之第1面上分別形成第2電極群(S15')。該S15'能夠在S12之前進行。
之後，在將第1個片P1之複數列之複數第1部F11及第2個片P2之複數有效區域F1之複數第2部F12之方向設為與裁斷前之方向略相同狀態(換言之，將第1個片P1及第2個片P2之方向設為與裁斷前之方向略相同狀態)下，分別以黏接層200貼合第2個片P2之複數第2部F12之第2面和原材薄膜F'之複數第3部F13之第1面(S16')。被貼合之第2 部F12及第3部F13分別位於複數列(複數有效區域F1)中對應的列(相同的有效區域F1)內。例如，複數有效區域F1包含兩個有效區域F1之情況下，與以黏接層200分別貼合其中之一個有效區域F1中之複數第2部F12及複數第3部F13同時，以黏接層200分別貼合另一個有效區域F1之複數第2部F12及複數第3部F13。在該S16'中，即使與第4製造方法之(A)之S16'相同，分別使第2個片P2之複數標記和原材薄膜F'之複數標記一致而分別使第2部F12及第3部F13位置對準亦可。
之後，使用無圖示之第2裁斷機裁斷第1個片P1、第2個片P2及原材薄膜F'，作成具有被貼合之第1部F11、第2部F12及第3部F13各一個的複數光學薄膜疊層體(S17')。
如同上述般所取得之至少一個光學薄膜疊層體中，第1部F11、第2部F12及第3部F13成為第1基材100a、第2基材100b及第3基材100c。第1基材100a之快軸所構成之角度，和第2基材100b之快軸所構成之角度，和第3基材100c之快軸所構成之角度成為略平行(10°以下)。第1基材100a之第1面上之第1電極群成為複數第1電極110a，第3基材100c之第1面上之第2電極群成為複數第2電極110b。如此之至少一個光學薄膜疊層體成為觸控輸入裝置T2。在觸控輸入裝置T2具備蓋面板300之情況下，取得至少一個光學薄膜疊層體之後(上述(A)~(C)中之任一的S17'後)，以黏接層200在該光學薄膜疊層體之第1基材100a 之第1面貼合蓋面板300即可。
另外，在第4製造方法中所使用之原材薄膜F'之複數有效區域F1包含第1有效區域F1和第2有效區域F1之情況下，即使與第3製造方法相同，以從第1有效區域F1取得之第1部F11及第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13分別對第2有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13傾斜亦可(借助圖6予以參照)。
上述般之觸控輸入裝置T2、第3製造方法及第4製造方法取得下述之技術特徵及效果。第1，可降低被貼合之兩個基材100之快軸所構成之角度的偏差。本發明者得到在被二軸延伸之原材薄膜F'中，為原材薄膜F'之短邊方向之一部分之區域的有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13，即使為該有效區域F1之長邊方向之任何部分(例如，有距離原材薄膜F'之長邊方向之一端1m之部分，也有距離100mm之部分)，構成該第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸之角度幾乎無偏差(成為大概3°以下)之見解。因此，藉由貼合相同有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13而設為光學薄膜疊層體之三個基材100，可以降低構成三個基材100之快軸之角度的偏差。但是，在本發明中，構成至少一個有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸的角度若為10°以下即可。°
第2，可以使觸控輸入裝置T2量產化。其理由，如同下述般。如上述般，因僅貼合作為相同有效區域F1之長邊方向不同之部分的第1部F11、第2部F12及第3部F13，故無須測量構成第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸的角度等。因可以在原材薄膜F'具有複數有效區域F1，且各有效區域F1具有至少一個第1部F11、第2部F12及第3部F13之情況下，或原材薄膜F'之一個有效區域F1具有複數第1部F11、複數第2部F12及複數第3部F13之情況下，一次分別貼合複數第1部F11及複數第2部F12，取得具有第1部F11及第2部F12各一個的複數光學薄膜疊層體，故可以使用光學薄膜疊層體而使觸控輸入裝置T2進一步量產化。
第3，可以在複數有效區域F1包含第1有效區域F1和第2有效區域F1之情況下，使從第1有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F111、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度成為略平行。其理由，如同下述般。以從第1有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度，和從第2有效區域F1取得之光學薄膜疊層體之第1部F11、第2部F12及第3部F13之快軸所構成之角度成為略平行之方式，第1有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13分別對第2有效區域F1之第1部F11、第2部F12及第3部F13傾斜。
第4，因在上述第4製造方法之情況下，無須 作成第3個片P3，故可以降低工程數。
另外，上述觸控輸入裝置之製造方法及觸控輸入裝置並不限定於上述實施例，能夠在申請專利範圍之記載範圍內做任意設計變更。
觸控輸入裝置T1之複數第2電極110b非在第2基材100b之第1面上，而能夠設置在第1基材100a之第1面之背側之第2面上。在此情況下，本發明之觸控輸入裝置之第1或第2製造方法於上述S3之前，將成為複數第2電極之第2電極群，非在第2部F12之第1面上，而係形成在第1部F11之第1面之背側之第2面上即可。其形成方法若設為與上述S4之形成方法相同即可。
即使本發明之原材薄膜之第1部及第2部之外形(即是，第1基材及第2基材之外形)互相不同亦可。即使本發明之原材薄膜之第1部、第2部及第3部之外形(即是，第1基材、第2基材及第3基材之外形)互相不同亦可。
本發明之上述中之任一態樣之製造方法可以省略第1電極群及/和第2電極群之形成工程。在省略第1電極群/和第2電極群之形成工程之情況下，在上述中之任一態樣的製造方法中，取得至少一個以黏接層貼合第1部及第2部，並且形成第1部及第2部中之任一方之電極群的光學疊層體，或是以黏接層貼合第1部、第2部及第3部，並且在第1部及第3部中之任一方形成電極群之光學疊層體。於省略第1電極群及第2電極群之形成工程情況下，在上述中之任一態樣的製造方法中，取得至少一個以黏接層貼合 不形成電極群之第1部及第2部之光學疊層體，或是以黏接層貼合不形成電極群之第1部、第2部及第3部之光學疊層體。能夠將不具有該電極群之光學疊層體，與具有至少一個電極群之光學疊層體貼合而取得觸控輸入裝置。另外，不形成電極群之基材無須進行作為電極基材層的處理。藉由上述，本發明之觸控輸入裝置能夠省略第1電極或第2電極。
上述實施例及設計變形例中構成觸控輸入裝置之製造方法之各工程的素材、形狀、尺寸、數量及配置等係以一例做說明，在可實現相同功能之範圍內，能做任意設計變更。上述實施例及設計變形例中構成觸控輸入裝置之各構成要素的素材、形狀、尺寸、數量及配置等係以一例做說明，在可實現相同功能之範圍內，能做任意設計變更。上述實施例之各態樣及設計變更例在不互相矛盾的範圍內，能互相組合。

Claims (15)

  1. 一種觸控輸入裝置之製造方法，具備：準備被二軸延伸之原材薄膜，上述原材薄膜具有上述原材薄膜之短邊方向之一部分之區域，並且在該原材薄膜之長邊方向延伸之有效區域，上述有效區域具有作為上述長邊方向之不同部分的第1部及第2部，在上述第1部上及上述第2部上中之任一方形成電極群，裁斷上述原材薄膜而作成包含上述第1部之第1個片，裁斷上述原材薄膜而作成包含上述第2部之第2個片，並且在將上述第1個片之上述第1部及上述第2個片之上述第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合上述第1個片之上述第1部和上述第2個片之上述第2部。
  2. 如請求項1所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域為複數，該複數有效區域係上述原材薄膜之上述短邊方向互相不同之部分的區域，上述電極群之形成包含在上述複數有效區域之上述第1部上及上述第2部上中之任一方分別形成上述電極群，上述第1個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數有效區域之上述第1部的上述第1個片，上述第2個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包 含上述複數有效區域之上述第2部的上述第2個片，上述第1部及上述第2部之貼合包含在將上述第1個片之上述複數有效區域之上述第1部及上述第2個片之上述複數有效區域之上述第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合上述第1部及上述第2部，貼合之上述第1部及上述第2部位於上述複數有效區域中相同的有效區域內，上述觸控輸入裝置之製造方法進一步具備裁斷上述第1個片及上述第2個片，作成具有被貼合之上述第1部及上述第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
  3. 如請求項1所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述有效區域之上述第1部為複數，在上述長邊方向排列成一列，上述有效區域之上述第2部為複數，在上述長邊方向排列成一列，上述電極群之形成包含在上述複數第1部上及上述複數第2部上中之任一方分別形成上述電極群，上述第1個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數第1部的上述第1個片，上述第2個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數第2部的上述第2個片，上述第1個片及上述第2個片之貼合包含在將上述第1個片之上述複數第1部及上述第2個片之上述複數第2部之 方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合上述複數第1部和上述複數第2部，上述觸控輸入裝置之製造方法進一步具備裁斷上述第1個片及上述第2個片，作成具有被貼合之上述第1部及上述第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
  4. 如請求項3所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域為複數，該複數有效區域係上述原材薄膜之上述短邊方向互相不同之部分的區域，上述電極群之形成包含在上述複數有效區域之上述複數第1部上及上述複數第2部上中之任一方分別形成上述電極群，上述第1個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數有效區域之上述複數第1部的上述第1個片，上述第2個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數有效區域之上述複數第2部的上述第2個片，上述第1個片及上述第2個片之貼合包含在將上述第1個片之上述複數第1部之方向及上述第2個片之上述複數第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合上述複數第1部及上述複數第2部，貼合之上述第1部及上述第2部位於上述複數有效區域中相同的有效區域內，上述第1個片及上述第2個片之裁斷包含裁斷上述第1個片及上述第2個片而作成具有被貼合之上述第1部及上述 第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
  5. 如請求項1~4中之任一項所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域進一步具有與上述第1部及上述第2部在上述長邊方向不同之部分的第3部，上述電極群之形成包含在上述有效區域之上述第1部上形成上述電極群，上述製造方法進一步具備在上述第3部上形成電極群，裁斷上述原材薄膜而作成包含上述第3部之第3個片，並且於貼合上述第1部和上述第2部之後，在將上述第1個片之上述第1部、上述第2個片之上述第2部及上述3個片之上述第3部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合上述第2個片之上述第2部和上述第3個片之上述第3部。
  6. 如請求項1~4中之任一項所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域進一步具有與上述第1部及上述第2部在上述長邊方向不同之部分的第3部，上述電極群之形成包含在上述有效區域之上述第1部上形成上述電極群，上述製造方法進一步具備在上述第3部上形成電極群，並且 於貼合上述第1部和上述第2部之後，在將上述第1個片之上述第1部及上述第2個片之上述第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合上述第2個片之上述第2部和上述原材薄膜之上述第3部。
  7. 一種觸控輸入裝置之製造方法，具備：準備被二軸延伸之原材薄膜，上述原材薄膜具有上述原材薄膜之短邊方向之一部分之區域，並且在該原材薄膜之長邊方向延伸之有效區域，上述有效區域具有作為上述長邊方向之不同部分的第1部及第2部，在上述第1部上及上述第2部上中之任一方形成電極群，裁斷上述原材薄膜而作成包含上述第1部之第1個片，於上述第1個片之作成後，在將上述第1個片之上述第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，將上述第1個片之上述第1部貼合在上述原材薄膜之上述第2部，並且裁斷上述第1個片及上述原材薄膜而作成具有被貼合之上述第1部及上述第2部之光學薄膜疊層體。
  8. 如請求項7所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域為複數，該複數有效區域係上述原材薄膜之上述短邊方向互相不同之部分的區域，上述電極群之形成包含在上述複數有效區域之上述第 1部上及上述第2部上中之任一方分別形成上述電極群，上述第1個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數有效區域之上述第1部的上述第1個片，上述第1個片及上述原材薄膜之貼合包含在將上述第1個片之上述複數有效區域之上述第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合上述第1個片之上述第1部和原材薄膜之上述第2部，貼合之上述第1部及上述第2部位於上述複數有效區域中相同的有效區域內，上述光學薄膜疊層體之作成包含裁斷上述第1個片及上述原材薄膜而作成具有被貼合之上述第1部及上述第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
  9. 如請求項7所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述有效區域之上述第1部為複數，在上述長邊方向排列成一列，上述有效區域之上述第2部為複數，在上述長邊方向排列成一列，上述電極群之形成包含在上述複數第1部上及上述複數第2部上中之任一方分別形成上述電極群，上述第1個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數第1部的上述第1個片，上述第1個片及上述原材薄膜之貼合包含在將上述第1個片之上述複數第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合上述第1個片之上述複數第1部和上述 原材薄膜之上述複數第2部，上述光學薄膜疊層體之作成包含裁斷上述第1個片及上述原材薄膜而作成具有被貼合之上述第1部及上述第2部各一個的複數光學薄膜疊層體。
  10. 如請求項9所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域為複數，該複數有效區域係上述原材薄膜之上述短邊方向互相不同之部分的區域，上述電極群之形成包含在上述複數有效區域之上述複數第1部上及上述複數第2部上中之任一方分別形成上述電極群，上述第1個片之作成包含裁斷上述原材薄膜而作成包含上述複數有效區域之上述第1部的上述第1個片，上述第1個片及上述原材薄膜之貼合包含在將上述第1個片之上述複數有效區域之上述複數第1部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，分別貼合上述第1個片之上述複數第1部和原材薄膜之上述複數第2部，貼合之上述第1部及上述第2部位於上述複數有效區域中相同的有效區域內，上述光學薄膜疊層體之作成包含裁斷上述第1個片及上述原材薄膜而作成具有被貼合之上述第1部及上述第2部各一個之複數光學薄膜疊層體。
  11. 如請求項7~10中之任一項所記載之觸 控輸入裝置之製造方法，其中上述原材薄膜之上述有效區域進一步具有與上述第1部及上述第2部在上述長邊方向不同之部分的第3部，上述電極群之形成包含在上述複數有效區域之上述第1部上形成上述電極群，上述製造方法進一步具備在上述第3部上形成電極群，於貼合上述第1部和上述第2部之後，裁斷上述原材薄膜而作成具有上述第2部之第2個片，並且在將上述第1個片之上述第1部及上述第2個片之上述第2部之方向設為與裁斷前之方向略相同之狀態下，貼合上述第2個片之上述第2部和上述原材薄膜之上述第3部。
  12. 如請求項1~4及7~10中之任一項所記載之觸控輸入裝置之製造方法，其中進一步具備在上述第1部上及上述第2部上之另一方形成電極群。
  13. 一種藉由請求項1~12中之任一項所記載之觸控輸入裝置之製造方法所製造的觸控輸入裝置，具備：第1基材，其係以被二軸延伸之原材薄膜之短邊方向之一部分的區域，並且在該原材薄膜之長邊方向延伸之有效區域之第1部所構成；第2基材，其係以與上述有效區域之上述第1部在上述長邊方向不同之部分的第2部所構成； 複數第1電極，其係被形成在上述第1基材和上述第2基材中之任一方上；及黏接層，其係以上述第1基材之快軸和上述第2基材之快軸成為略平行之方式，貼合上述第1基材和上述第2基材。
  14. 如請求項13所記載之觸控輸入裝置，其中，進一步具備被形成在上述第1基材及上述第2基材之另一方上的複數第2電極，上述第1電極和上述第2電極互相交叉。
  15. 一種藉由請求項1~12中之任一項所記載之觸控輸入裝置之製造方法所製造的觸控輸入裝置，具備：第1基材，其係以被二軸延伸之原材薄膜之短邊方向之一方分的區域，並且在該原材薄膜之長邊方向延伸之有效區域之第1部所構成；第2基材，其係以與上述有效區域之上述第1部在上述長邊方向不同之部分的第2部所構成；第3基材，其係以與上述有效區域之上述第1部及上述第2部在上述長邊方向不同之部分的第3部所構成；複數第1電極，其係被形成在上述第1基材上；複數第2電極，其係以與上述第1電極交叉之方式，被形成在上述第3基材上；第1黏接層，其係以上述第1基材之快軸和上述第2基 材之快軸成為略平行之方式，貼合上述第1基材和上述第2基材；及第2黏接層，其係以上述第2基材之快軸及上述第3基材之快軸成為略平行之方式，貼合上述第2基材和上述第3基材。
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